JPH0798414A

JPH0798414A - 偏光板および偏光板の製造方法

Info

Publication number: JPH0798414A
Application number: JP6102080A
Authority: JP
Inventors: Satoru Miyashita; 悟宮下; Katsuma Endo; 甲午遠藤
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1993-04-15
Filing date: 1994-04-15
Publication date: 1995-04-11
Anticipated expiration: 2018-03-17
Also published as: JP3387204B2

Abstract

(57)【要約】【目的】優れた視認性を確保しながら、撥水性，汚染
防止性に優れた偏光板およびこの偏光板の製造方法を提
供する。【構成】偏光板１００は、偏光層１２およびこの偏光
層の両表面に形成された支持層１４，１６を有する偏光
基板１０と、この偏光基板１０を構成する一方の支持層
１４の表面に形成されたアンダーコート層２０と、この
アンダーコート層２０の表面に形成された反射防止層３
０と、この反射防止層３０の表面に形成され、含フッ素
シラン化合物からなる汚染防止層４０と、を含む。前記
アンダーコート層２０は、ＪＩＳＺ８７４１に基づ
く鏡面光沢度が１０〜４０であり、かつＪＩＳＫ６
９００に基づく曇度が５〜３０％であることが好まし
い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、特に液晶表示装置に好
適に用いられる偏光板およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置においては、その表面反射
を減らすことで、特に屋外での視認性を向上させること
が行われている。このような表面反射を減らすための方
法としては、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法等により偏光板の表面に無機質
コート膜からなる反射防止膜を形成する方法、あるいは
このような反射防止膜を表面に形成したアクリル樹脂フ
ィルムを偏光板に接着剤によって貼り付ける方法等があ
る。

【０００３】しかし、従来の反射防止膜付き偏光板にお
いては、指紋等の汚れが付き易く、また一旦着いた汚れ
が取れにくいこと、偏光板の表面に水滴が付着し易く、
水滴が付着した状態で放置すると、短時間でしみ状の痕
跡となるいわゆるヤケが発生すること、さらには偏光板
の表面に水滴が着いたまま高温の状態で放置すると、反
射防止膜にクラックが生じたり反射防止膜が剥離するこ
と、等の問題があった。

【０００４】このような問題を回避する技術として、特
開平３−２６６８０１号公報に、反射防止膜上にフッ素
樹脂の薄膜を設ける方法が開示されている。しかし、こ
のフッ素樹脂の薄膜は、ポリテトラフルオロエチレンや
ポリビニルフルオライドなどを抵抗加熱式の真空蒸着法
によって堆積させて形成され、密着力，強度，表面硬度
等の点で不十分であって、実用化に適しないものであ
る。また、この技術を用いて膜強度が確保できる程度の
厚みの薄膜を形成した場合には、この膜が偏光板の光学
特性に影響を与え、反射率の増加，光干渉による色付
き，膜厚の不均一に起因する視認性の低下等の新たな問
題を生じる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来技術の課題を解決するためのものであって、その目
的とするところは、表面反射が少なく優れた視認性を確
保しながら、撥水性，汚染防止性に優れた偏光板および
その製造方法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段および作用】本発明の偏光
板は、偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された支
持層を有する偏光基板と、この偏光基板を構成する一方
の支持層の表面に形成されたアンダーコート層と、この
アンダーコート層側の最も外側に位置し、含フッ素シラ
ン化合物からなる汚染防止層と、を含むことを特徴とし
ている。

【０００７】この偏光板においては、通常、前記アンダ
ーコート層と前記汚染防止層との間に反射防止層が形成
される。

【０００８】この偏光板においては、その最表面に含フ
ッ素シラン化合物からなる汚染防止層を形成することに
より、偏光板表面の撥水性および撥油性を向上させるこ
とができ、汚染防止性に優れた偏光板を構成することが
できる。

【０００９】汚染防止層の下位に位置する反射防止層
は、通常、例えばＳｉＯ₂膜等の無機質膜から構成さ
れ、その表面には極性の大きな−ＯＨ基が露出してお
り、この活性な基は汚れや水滴が付着しやすい原因とな
っている。したがって、極性の極めて小さな含フッ素シ
ラン化合物を前記反射防止層の表面に反応あるいは吸着
させることで、偏光板表面を化学的に安定した状態に改
質することができる。

【００１０】この含フッ素シラン化合物からなる汚染防
止層は、原理的には単分子層によって構成されれば十分
であり、この程度の薄膜では偏光板の光学特性や表面硬
度に問題となるような影響を与えることはない。また、
前記反射防止層と汚染防止層とは、反応性置換基を介し
て化学的に結合しているため、両者の密着力は強固であ
り、汚染防止層が剥がれるようなことはない。また、含
フッ素シラン化合物は耐薬品性、耐熱性、耐擦傷性およ
び耐候性等の化学的，物理的特性において優れている。

【００１１】前記汚染防止層は、純水の表面に対する接
触角が７０度以上、より好ましくは１００度以上あるこ
とが望ましい。汚染防止層がこの範囲の接触角を有する
ことにより、優れた撥水性を有し、良好な汚染防止性を
発揮することができる。

【００１２】本発明においては、前記アンダーコート層
は、ＪＩＳＺ８７４１に基づく鏡面光沢度が１０〜
４０、好ましくは２０〜３５であり、かつＪＩＳＫ
６９００に基づく曇度（ヘイズ）が５〜３０％、好まし
くは１０〜２５％であることが望ましい。

【００１３】この偏光板においては、前記アンダーコー
ト層の鏡面光沢度および曇度を前記範囲に特定すること
により、偏光板表面の写り込みやギラツキを低減して優
れた視認性を確保しながら、偏光板表面の汚れの拭き取
り性を高めることができる。以下、この点について詳細
に説明する。

【００１４】本発明において、鏡面光沢度（以下「光沢
度」という）とは、ＪＩＳＺ８７４１の方法３（６
０度鏡面光沢）に基づく光沢の度合いをいう。光沢度が
１０未満では、アンダーコート層の表面の凹凸の分布が
高密度となり、偏光板の表面に付着した汚れを除去しに
くくなる。一方、光沢度が４０より大きい場合には、外
光の正反射が強いため、偏光板の表面にいわゆるギラツ
キが顕著に現れ、視認性が低下する。

【００１５】本発明において、曇度とは、ＪＩＳＫ
６９００−１１３によるものをいう。具体的には、透明
体に入射した光線が拡散する度合いをいい、拡散透過光
量と全透過光量との比を百分率で示したものである。本
発明において、曇度が５未満では、偏光板の表面が鏡面
状態となっていわゆる写り込みの現象が顕著になり、視
認性が低下する。一方、曇度が３０より大きいと、偏光
板の表面が曇ガラスのような状態となって解像度が低下
し、そのため視認性が低下するだけでなく、平行透過率
の低下により暗くなる。

【００１６】また、本発明の偏光板においては、前記ア
ンダーコート層は、ＪＩＳＢ０６０１に基づく中心
線平均粗さ（Ｒａ）が１００〜５００ｎｍ、より好まし
くは１５０〜３００ｎｍであることが望ましい。この中
心線平均粗さが上記範囲にあることにより、表面の写り
込みやギラツキが低減でき、しかも汚れの拭き取り性を
高めることができる。

【００１７】前記汚染防止層を構成するフッ素シラン化
合物は、下記式（１）で示される含フッ素シラン化合
物、この化合物単位を有するオリゴマーおよびポリマー
の少なくとも一種からなる。式（１）（Ｒ¹）_a（Ｒ²）_b−Ｓｉ−（Ｘ）_c 式（１）中、Ｒ¹はフッ素を含む有機基、Ｒ²は水素ま
たは有機基、Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アル
コキシ基およびこれらの基の一部が置換された基から選
択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基、a
は１〜３の整数、b は０または１〜２の整数、c は１〜
３の整数を示す。

【００１８】前記式（１）で示される含フッ素シラン化
合物としては、反応性基Ｘはアミノ基または置換アミノ
基であることが好ましい。

【００１９】このようなアミノシラン化合物としては、
１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリアミ
ノシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシ
ルジメチルアミノシラン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフル
オロブチル）ジアミノシラン、ビス（パーフルオロノニ
ル）ジアミノシラン、パーフルオロヘキサデシルトリア
ミノシラン、パーフルオロヘプタデシルトリアミノシラ
ン、パーフルオロオクタデシルトリアミノシランおよび
ビス（パーフルオロノニル）ブチルアミノシランなどを
挙げることができる。これらのアミノシラン化合物は一
種単独で、あるいは二種以上組み合わせて用いることが
できる。

【００２０】また、前記式（１）の含フッ素シラン化合
物において、Ｒ¹はフッ素を含む、炭素数１〜２０のア
ルキル基，置換アルキル基，アルコキシ基または置換ア
ルコキシ基、Ｒ²は水素または炭素数１〜４のアルキル
基，置換アルキル基，アルコキシ基または置換アルキル
基、Ｘはハロゲン基，水酸基、アルコキシ基およびこれ
らの基の一部が置換された基から選択される少なくとも
一種の反応性基であることが望ましい。

【００２１】このような含フッ素シラン化合物として
は、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリ
クロロシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ
デシルトリブロモシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パ
ーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリヒドロキシシラン、
パーフルオロヘプタデシルトリメトキシシラン、パーフ
ルオロオクタデシルジメチルクロロシラン、パーフルオ
ロヘキサデシルメチルジクロロシランおよび３，３，３
−トリフルオロプロピルトリクロロシランなどをあげる
ことができる。これらの含フッ素シラン化合物は、一種
単独であるいは二種以上を組み合わせて使用することが
できる。

【００２２】含フッ素シラン化合物のうち、アミノシラ
ンは、他のシラン化合物に比較して、室温〜８０℃の温
度で反応するため、反応の制御や取り扱いが簡単で、か
つ反応液の管理も容易であるという利点がある。

【００２３】前記式（１）で示される含フッ素シラン化
合物は、反応の前後において化合物相互が結合してオリ
ゴマーあるいはポリマー化することもあり得るが、冷暗
所で保存することによって、その反応を本発明の目的を
阻害しない程度に管理することができる。

【００２４】前記アンダーコート層には、平均粒子径
０．１〜５μｍ、より好ましくは０．５〜２μｍの硬質
粒子が、該アンダーコート層に対して例えば１〜５０重
量％の割合で分散されていることが望ましい。硬質粒子
の平均粒子径が０．１μｍ未満であると、防眩効果の点
で劣る。一方、硬質粒子の平均粒子径が５μｍを越える
と、ギラツキが発生し、視認性の点で劣る。また、硬質
粒子の割合が１重量％未満であると、防眩効果の点で劣
る。一方、硬質粒子の割合が５０重量％を超えると、解
像度および汚れ拭き取り性の点で劣る。硬質粒子の割合
は特に限定されるものではなく、前記アンダーコート層
の特性を満足できるように適宜調整される。

【００２５】前記硬質粒子としては、通常の防眩処理に
用いられるれシリカが代表的であるが、その他にもチタ
ニア、アルミナ、ジルコニア等を用いることができる。

【００２６】前記アンダーコート層としては、アクリル
系樹脂、シロキサン系樹脂等の樹脂をあげることができ
る。前記アクリル系樹脂としては、特に限定されない
が、ウレタンアクリレート、エステルアクリレート、エ
ポキシアクリレート、エーテルアクリレートなどの重合
体等を例示することができる。前記シロキサン系樹脂と
しては、アルコキシシラン等を用いることができ、例え
ばメチル基、エチル基等のアルキル基、その他のγ−ク
ロロプロピル基、ビニル基、３，３，３−トリフロロプ
ロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリ
ルオキシプロピル基などの有機基を含むものを例示する
ことができる。

【００２７】本発明の偏光板においては、前記汚染防止
層は、屈折率ｎおよび層の厚みｄが次の関係を有するこ
とが望ましい。

【００２８】ｎｄ＜０．１μｍ１．２５＜ｎ＜１．４５前記汚染防止層を構成する含フッ素シラン化合物層は、
通常屈折率が１．２５〜１．４５と低く、したがって表
面反射を防止する効果をも有する。この場合、汚染防止
層はＡ型の干渉色（基材の屈折率より膜の屈折率が小さ
い場合）を与え、色相はｎｄの関数となる。そして、汚
染防止層の厚みｎが大きくなるにつれ、白色から黄，
赤，紫，青，緑と干渉色が変化していく。

【００２９】前記偏光基板および反射防止層の条件を考
慮してスペクトル色の三刺激値を理論式から計算する
と、ｎｄが０．１μｍ以上になると、色座標（ｘ，ｙ）
のｘ値が０．４５を超え、汚染防止層の色付きが認識さ
れるようになる。また、ｎｄが０．１μｍ以上で、かつ
汚染防止層の厚みに不均一があると、シャボン玉の着色
のように斑な模様を呈することがある。以上のことを考
慮すると、前記汚染防止層は、その厚みｄが０．１μｍ
より小さいことが望ましい。

【００３０】本発明の偏光板の製造方法は、偏光層およ
びこの偏光層の両表面に形成された支持層を有する偏光
基板の一方の支持層の表面にアンダーコート層を形成す
る工程と、このアンダーコート層の表面に反射防止層を
形成する工程と、この反射防止層の表面に含フッ素シラ
ン化合物からなる汚染防止層を形成する工程と、を含む
ことを特徴としている。

【００３１】前記アンダーコート層を形成する工程は、
樹脂溶液に平均粒子径が０．１〜５μｍの硬質粒子を分
散させた塗布液を調整し、この塗布液を前記偏光基板の
表面に塗布して硬化させ、前記硬質粒子が１〜５０重量
％の割合で含有される塗膜を形成する工程からなること
が望ましい。この工程で用いられる樹脂溶液の樹脂とし
ては、前述したアクリル系樹脂，シロキサン系樹脂等を
用いることができる。

【００３２】このように、アンダーコート層に硬質粒子
を分散させることにより、アンダーコート層に防眩性を
付与することができる。

【００３３】この工程において、塗布液を前記偏光基板
の表面に塗布する方法としては、一般的に用いられてい
るディップ法、スピンナー法、スプレー法等を用いるこ
とができ、特に量産性の点でロールコート法を好ましく
用いることができる。塗膜を硬化させる際には、必要に
応じて、加熱や、紫外線あるいは電子線などの光照射に
より樹脂の架橋反応を促進させる。

【００３４】また、前記アンダーコート層に防眩性を付
与する他の方法としては、エッチング処理された型板に
ハードコート処理によって硬質粒子を含まないアンダー
コート層を形成し、これをキャスト重合によって偏光基
板に転写する方法、あるいは必要に応じて硬質粒子を含
む塗布液をスプレー法液滴調整によって偏光基板にアン
ダーコート層を形成する方法、微細な凹凸を有するロー
ルを硬質粒子を含まないコート層表面に圧接して回転さ
せてコート層表面に凹凸を転写させる方法を用いること
ができる。

【００３５】前記汚染防止層は、前記式（１）で示され
る含フッ素シラン化合物を含む塗布液を前記反射防止層
の表面に塗布して硬化させ、さらに未反応の含フッ素シ
ラン化合物を溶媒洗浄によって除去することにより形成
できる。前記塗布液は、含フッ素シラン化合物を濃度
０．０１〜１０重量％で溶剤に溶解させて調整すること
ができる。このとき用いられる溶剤としては、パーフル
オロヘキサン、パーフルオロヘプタン、パーフルオロオ
クタン、パーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサ
ン、パーフルオロジメチルデカヒドロナフタレン等をあ
げることができる。

【００３６】前記汚染防止層は、前記式（１）で示され
る含フッ素シラン化合物を物理的気相成長法によって堆
積させることにより形成できる。この工程において、物
理的気相成長法としては、一般的に用いられる真空蒸着
法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等を用
いることができ、特に真空蒸着法を好ましく用いること
ができる。

【００３７】汚染防止層を物理的気相成長法によって形
成する場合には、前記反射防止層を汚染防止層の形成手
段と同様の堆積法を採用することにより、反射防止層お
よび汚染防止層を連続的に形成することができる。

【００３８】さらに、前記汚染防止層を真空蒸着法によ
って形成する場合には、前記式（１）で示される含フッ
素シラン化合物を含浸させたセラミックスを蒸発源とし
て用い、真空槽内において前記セラミックスを加熱し、
該化合物を蒸発させて堆積させることが望ましい。

【００３９】また、前記汚染防止層の形成に先立って、
前記反射防止層に、洗浄，脱気，薬品処理，プラズマ処
理等の前処理を施すこともできる。

【００４０】前記反射防止層は、超低屈折率の単層構
造、あるいは低屈折率層と高屈折率層との組み合わせに
よる多層構造とすることにより、有効な減反射効果を得
ることができる。前記超低屈折率層を構成する物質とし
ては、ＭｇＦ₂，ＣａＦ₂、ＬｉＦ等をあげることがで
き、前記多層構造の屈折率層を構成する材料としては、
ＳｉＯ₂，ＺｒＯ₂，ＴｉＯ₂，Ｙ₂Ｏ₃、Ｔａ
₂Ｏ₅、ＣｅＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｂ₂Ｏ₃、ＳｉＯ、Ｃ
ｅＦ₃等をあげることができる。

【００４１】また、反射防止層を構成する物質として
は、前記フッ化物あるいは酸化物の代わりに、特定の樹
脂あるいは非晶質体等を用いることができる。例えば、
超低屈折率層は、アクリル系樹脂にフッ素を含む置換基
を導入した樹脂、あるいは多孔質のシリカ系非晶質体を
ゾルゲル法を用いて形成することにより得られる。ま
た、低屈折率層と高屈折率層は、シロキサン系樹脂また
はアクリル系樹脂に適当な置換基を導入したり、あるい
は分散させる酸化物粒子の種類や混合比を調整すること
で、屈折率１．４５〜１．６５の範囲において比較的容
易に形成することができる。さらに高屈折率の膜が必要
な場合には、例えばチタニア系非晶質体等をゾルゲル法
によって形成することができる。

【００４２】後者の樹脂あるいは非晶質体を用いて反射
防止層を形成する場合には、塗布液の溶媒としてアルコ
ール系溶媒あるいはフッ素系溶媒等を用いることができ
る。このようなアルコール系溶媒としては２−エトキシ
エタノール、２−メトキシエタノールイソプロピルアル
コール等を、フッ素溶媒としてはパーフルオロヘプタン
等をあげることができる。

【００４３】

【実施例】

（実施例１）図１は、本実施例に係る偏光板の構成を模
式的に示す断面図である。この偏光板１００は、偏光基
板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０およ
び汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。

【００４４】前記偏光基板１０は、ヨウ素，染料等の二
色性を与える偏光素子がポリビニルアルコール等の偏光
基体によって固定された偏光層１２と、この偏光層１２
の両側に接着剤によって貼り合わされた第１の支持層１
４および第２の支持層１６とから構成されている。支持
層１４，１６としては、通常トリアセチルセルロース
（ＴＡＣ）等に代表されるセルロース系の膜が用いら
れ、これらの支持層１４，１６によって偏光層１２が化
学的，物理的に保護されている。前記偏光基体１０は、
通常２０〜２００μｍの厚さを有し、前記支持層１４，
１６は、通常２０〜２００μｍの厚さを有する。

【００４５】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは３μｍ）のア
クリル系樹脂にシリカ（ＳｉＯ₂）が分散され、防眩性
（アンチグレア性）が付与されている。前記シリカは、
平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは２μｍ）で
あり、その添加量はアクリル系樹脂に対し１〜５０重量
％（サンプルでは２５重量％）である。

【００４６】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は２６、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は２２０ｎｍ、および曇度は２０％であった。

【００４７】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂層がλ／４、ＺｒＯ₂層とＳｉＯ₂層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。

【００４８】この反射防止層３０は、可視領域における
反射率の平均値が０．５％以下である。

【００４９】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシランからな
る厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおい
ては１００オングストローム以下）の層から構成されて
いる。この層は少なくとも単分子層ないしは数分子層で
ある。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以
上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止
層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したが
ってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍよ
り小さいことが確認された。

【００５０】次に、本実施例の偏光板１００の製造方法
について述べる。

【００５１】まず、偏光基板１０の表面に、シリカ粒子
が分散されたアクリル樹脂塗布液（ウレタンアクリレー
トオリゴマ−をメタクリル酸モノマーで希釈し、シリカ
粒子と光開始剤としてベンゾインエーテルを添加したも
の）をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を
照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２
０を形成した。

【００５２】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＳｉＯ₂層
をλ／４、ＺｒＯ₂層とＳｉＯ₂層との積層をλ／４、
ＺｒＯ₂層をλ／４、ＳｉＯ₂層をλ／４（λ＝５２０
ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成し
た。得られた偏光板をメタノールで洗浄し、十分に乾燥
させた。

【００５３】ついで、アミン系パーフルオロ溶媒である
「フロリナートＦＣ−４０」（住友スリーエム社製）に
含フッ素シラン化合物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−
パーフルオロデシルトリクロロシランを５重量％溶解さ
せた溶液に上述した偏光板を２０℃において１分間浸漬
させた。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上
げた後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１０分
間放置した。その後、「フロリナ−トＦＣ−４０」によ
って偏光板の洗浄を行い未反応の含フッ素シラン化合物
を除去した。

【００５４】前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１
０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の
支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物
をフッ素系溶剤によって除去することができる。したが
って、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物
層が残存していない。

【００５５】また、このようにして得られた偏光板は汚
染防止層４０の形成によって外観ならびに反射防止特性
において特に変化は見られなかった。

【００５６】次に、偏光板およびこれを用いた液晶表示
装置の特性試験の結果について述べる。

【００５７】（１）偏光板の特性特性試験のサンプルとしては、本実施例の偏光板１００
のうち膜厚等の各条件が（）内に示されたものを用い
た。ａ．密着性汚染防止層４０の密着性を碁盤目試験によって判定し
た。碁盤目試験は偏光板の表面にナイフで切れ目を入れ
た１ｍｍ角の微少領域１００箇所について、粘着テープ
剥離をした後、反射顕微鏡観察ならびに純水とエタノー
ルを滴下して濡れ性を評価した。

【００５８】碁盤目試験の結果、本実施例の偏光板はま
ったく表面層の剥がれがなく、汚染防止層４０の密着が
良好であることが確認された。ｂ．耐擦傷性この特性は、＃００００のスチールウールを汚染防止層
４０の表面に置き、１Ｋｇ／ｃｍ²の荷重をかけてスチ
ールウールを１０往復させたときの傷の発生を目視によ
って確認した。

【００５９】その結果、本実施例の偏光板においては傷
がほとんど認められず、優れた耐擦傷性を有することが
確認された。ｃ．耐薬品性薬品としては、アルコール，酸，アルカリおよび洗剤を
選択した。

【００６０】耐アルコール性に関しては、メチルアルコ
ールを偏光板表面に滴下し、３０分間放置した後の変化
を目視によって観察した。耐酸性については、５重量％
の塩酸水溶液を偏光板表面に滴下した後、３０分間放置
し、その変化を目視によって観察した。耐アルカリ性に
ついては、５重量％の水酸化ナトリウム水溶液を偏光板
表面に滴下し、３０分間放置した後目視によって観察し
た。耐洗剤性については、５重量％の中性洗剤水溶液を
滴下し、２４時間放置した後の状態を目視によって観察
した。

【００６１】本実施例の偏光板については、各薬品の滴
下試験において変形、変色、シミ残りなどの異常は認め
られず、耐薬品性に優れていることが確認された。ｄ．汚染防止性この試験においては、偏光板の表面を指で触れ、指紋の
付き易さ、ならびに付着した指紋の拭き取り性を調べ
た。

【００６２】その結果、本実施例の偏光板においては、
指紋が付きにくく、また、付いた指紋も布等によって容
易に拭き取ることができることを確認した。さらに、偏
光板を中性洗剤や市販のメガネクリーナー等でクリーニ
ングすることにより、初期の状態に容易に回復させるこ
とができた。

【００６３】（２）液晶表示装置の特性以下の特性試験において用いられたサンプルは、上記特
性試験に用いられたサンプルと同様の偏光板をＭＩＭ
（メタル−インシュレータ−メタル）素子を用いたアク
ティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて構
成されたものである。サンプルは、カラーフィルタを形
成したガラス基板と、ＭＩＭ素子を形成したガラス基板
とでＴＮ（ツイストネマチック）液晶を挟持し、カラー
フィルタ側に本実施例の偏光板を、素子基板側に通常の
偏光板を貼り付けて構成されたものである。ａ．高温高湿試験液晶表示パネルのサンプルを温度５０℃，相対湿度９０
％の雰囲気に１，０００時間放置し、外観および特性等
の変化を調べた。

【００６４】この試験の結果、サンプルの偏光板におい
て、剥がれ，クラック等が発生せず、ヤケの発生も認め
られなかった。ｂ．熱衝撃試験 −２０℃（３０分）、２５℃（５分）および６０℃（３
０分）のヒートサイクルを１０回繰り返し、外観および
特性等の変化を調べた。

【００６５】この試験の結果、サンプルの液晶表示パネ
ルにおいては、電気的特性、光学的特性などの点で特に
異常は認められなかった。ｃ．日光暴露試験サンプルを屋外に２０，０００時間にわたって放置した
後、外観および特性等の変化について調べた。

【００６６】この試験の結果、本実施例のサンプルにお
いては、電気的特性、光学的特性などの点で特に異常は
認められなかった。ｄ．視認性上記サンプルの液晶パネルの背面にさらにバックライト
ユニットを配し、バックライト方式の液晶表示装置を製
造した。この液晶表示装置について外部からの影像入力
をＭＩＭ素子を用いて駆動したところ、表面反射の少な
い、視認性に優れた表示を行うことができた。

【００６７】（実施例２）図２は、本実施例に係る偏光
板の構成を模式的に示す断面図である。

【００６８】この偏光板２００は、偏光基板１０上に接
着層５２を介して樹脂フィルム５０、アンダーコート層
２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層
された構造となっている。本実施例が、前記実施例１と
異なるのは、アンダーコート層２０、反射防止層３０お
よび汚染防止層４０があらかじめ樹脂フィルム５０上に
形成され、この積層体が偏光基板１０に接着された点に
ある。

【００６９】なお、偏光基板１０の構成は、前記実施例
１の偏光基板と同様の構成を有するため、その詳細な説
明を省略する。

【００７０】前記樹脂フィルム５０は、厚さ０．０３〜
１ｍｍ（後述する試験のサンプルでは０．２ｍｍ）のア
クリル樹脂から構成されている。アクリル樹脂として
は、ポリメチルメタクリレート、およびその他のアクリ
ル酸エステル共重合体などの変成品が好適に用いられ
る。

【００７１】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のシ
ロキサン系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与され
ている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ
（サンプルでは４μｍ）である。

【００７２】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は４８、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は９８０ｎｍ、および曇度は１５％であった。

【００７３】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、３層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂層がλ／４、ＴｉＯ₂層がλ／２、最上層
であるＳｉＯ₂層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）で
ある。

【００７４】前記汚染防止層４０は、ビス（１Ｈ，１Ｈ
−パーフルオロブチル）ジアミノシランからなる厚さ２
０〜８００オングストローム（サンプルにおいては３０
０オングストローム）の層から構成されている。この汚
染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優
れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折
率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ
（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さい
ことが確認された。

【００７５】次に、本実施例の偏光板２００の製造方法
について述べる。

【００７６】まず、前記樹脂フィルム５０の表面に、シ
リカ粒子が分散されたシロキサン樹脂塗布液（γ−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシランを２−エトキ
シエタノールで希釈し、塩酸で加水分解した後、シリカ
粒子とシリコーン系界面活性剤と過塩素酸マグネシウム
を添加したもの）をディップ法によって塗布し、その後
７０℃に加熱してシロキサン樹脂を熱硬化させ、アンダ
ーコート層２０を形成した。

【００７７】ついで、この樹脂フィルムを真空槽内にセ
ットし、真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＳｉＯ
₂層をλ／４、ＴｉＯ₂層をλ／２、ＳｉＯ₂層をλ／
４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層
３０を形成した。得られた偏光板をメタノールで洗浄
し、十分に乾燥させた。

【００７８】ついで、前記真空槽内の真空を保持したま
ま、アルゴンとビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブチ
ル）ジアミノシランを９：１の割合で混合した気体を真
空度が１〜０．０００１Ｔｏｒｒ（サンプルでは０．０
１Ｔｏｒｒ）になるように真空槽内に導入し、例えば１
３．５６ＭＨｚの高周波磁場で雰囲気をプラズマ化し、
前記含フッ素シラン化合物を反射防止層３０上に堆積さ
せ、汚染防止層４０を形成した。

【００７９】汚染防止層の形成によって偏光板の外観な
らびに反射防止特性において特に変化は見られなかっ
た。

【００８０】以上のようにして得られた樹脂フィルムの
積層体を、アクリル系接着剤を介して偏光基板１０に貼
り付けることにより本実施例の偏光板が形成される。前
記アクリル系接着剤以外にも、エポキシ系接着剤、ウレ
タン系接着剤等も用いることができる。

【００８１】この偏光板２００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において、実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板２００を
ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子を用いたアクティブマ
トリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パ
ネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例
１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．
日光暴露試験およびｄ．視認性の各特性試験を行ったと
ころ、視認性においてギラツキ感があったものの、他の
特性は実施例１と同様に良好な結果が得られた。

【００８２】（実施例３）本実施例の偏光板は、その基
本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参照
しながら説明する。

【００８３】この偏光板３００は、偏光基板１０上にア
ンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層
４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０
は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、
その詳細な説明を省略する。

【００８４】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては７μ
ｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付
与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５
μｍ（サンプルでは４μｍ）である。

【００８５】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は７６、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は２３０ｎｍ、および曇度は４％であった。

【００８６】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、単層構造を成
している。この膜構成は、ＭｇＦ₂層がλ／４（ここで
λ＝５２０ｎｍ）である。

【００８７】前記汚染防止層４０は、２−（パーフルオ
ロオクチル）−エチルトリアミノシランからなる厚さ２
０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１０
０オングストローム以下）の層から構成されている。こ
の汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であ
り、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０
は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎ
ｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さ
いことが確認された。

【００８８】次に、本実施例の偏光板３００の製造方法
について述べる。

【００８９】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１と
同様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗布液をバ
ーコート法によって塗布し、その後紫外線を照射してア
クリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成し
た。

【００９０】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＭｇＦ₂層
をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で形成し、反射防止
層３０を形成した。得られた偏光板をアルカリ洗浄後純
水ですすぎ、十分に乾燥させた。

【００９１】ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含
フッ素シラン化合物として２−（パーフルオロオクチ
ル）−エチルトリアミノシランを１重量％溶解させた溶
液に上述した偏光板を２０℃において５分間浸漬させ
た。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた
後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１０分間放
置した。その後、「フロリナートＦＣ−４０」によって
偏光板の洗浄を行い未反応の含フッ素シラン化合物を除
去し、汚染防止層４０を形成した。この汚染防止層４０
の形成によって偏光板の外観ならびに反射防止特性にお
いて、特に変化は見られなかった。

【００９２】この偏光板３００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好
な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板を単純マト
リクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネ
ルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１
と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日
光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったとこ
ろ、視認性においては、若干の写り込みとギラツキ感が
あったものの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果
が得られた。なお、視認性の試験においては、前記液晶
表示パネルの背面に反射板を配設したサンプルを用い
た。

【００９３】（実施例４）本実施例に係る偏光板は、前
記実施例１の偏光板１００と基本的な構造が同一なた
め、図１を参照しながら説明する。

【００９４】この偏光板４００は、偏光基板１０上にア
ンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層
４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０
は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、
その詳細な説明を省略する。

【００９５】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは１５μｍ）の
アクリル系樹脂から構成されている。

【００９６】このアンダーコート層２０は、前記実施例
１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されて
いない。その代わり、後に詳述するように、その表面に
は転写法により微細な凹凸が形成されて、防眩性が付与
されている。

【００９７】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１００ｎｍ、および曇度は３％であった。

【００９８】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂層がλ／４、ＺｒＯ₂層とＳｉＯ₂層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。

【００９９】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシランか
らなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルに
おいては１００オングストローム以下）の層から構成さ
れている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００
度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染
防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、し
たがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μ
ｍより小さいことが確認された。

【０１００】次に、本実施例の偏光板４００の製造方法
について述べる。

【０１０１】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１と
同様のアクリル樹脂塗布液（シリカを含まない）をロー
ルコート法によって塗布し、乾燥後その表面に微細な凹
凸を有するロールを押し付けながら回転させることによ
り、塗膜の表面に微細な凹凸を転写した。その後、紫外
線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート
層２０を形成した。

【０１０２】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、真
空槽の基板温度５０℃で、ＳｉＯ₂層をλ／４、ＺｒＯ
₂層とＳｉＯ₂層との積層をλ／４、ＺｒＯ₂層をλ／
４、ＳｉＯ₂層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順
次形成し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板
をメタノールで洗浄し、十分に乾燥させた。

【０１０３】ついで、上記の工程で得られた偏光板を１
〜０．００１Ｔｏｒｒの酸素分圧下、外部入力５０〜５
００ＷでＲＦ放電させ、発生したプラズマに曝した後ス
ピンナーにセットした。そして、フッ素系溶剤「フロリ
ナートＦＣ−７０」（住友スリーエム社製）に含フッ素
シラン化合物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフル
オロオクチルトリエトキシシランを３重量％溶解させた
溶液を上述した偏光板に滴下してスピンナーを約３，０
００ｒｐｍの回転速度で回転させ、溶液を塗布した。そ
の後、偏光板を相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で
１０分間放置し、さらに、「フロリナ−トＦＣ−７０」
によって偏光板の洗浄を行い未反応の含フッ素シラン化
合物を除去し、汚染防止層４０を形成した。この汚染防
止層４０の形成によって、偏光板の外観ならびに反射防
止特性において、特に変化は見られなかった。

【０１０４】この偏光板４００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好
な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板４００をＭ
ＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネ
ル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液
晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高
湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．
視認性の特性試験を行ったところ、視認性において写り
込みがあったものの、他の特性は実施例１と同様に良好
な結果が得られた。

【０１０５】（実施例５）本実施例および後述する実施
例６〜８においては、汚染防止層４０を蒸着法により形
成し、その際に含フッ素シラン化合物をセラミック製タ
ブレットに含浸させた点に特徴を有する。

【０１０６】本実施例の偏光板は、その基本的構造が前
記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明
する。

【０１０７】偏光板５００は、偏光基板１０上にアンダ
ーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０
が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前
記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その
詳細な説明を省略する。

【０１０８】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては３μ
ｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付
与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５
μｍ（サンプルでは１μｍ）である。

【０１０９】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は３５、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１８０ｎｍ、および曇度は１３％であった。

【０１１０】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂層がλ／４、ＺｒＯ₂層とＳｉＯ₂層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。

【０１１１】前記汚染防止層４０は、パーフルオロヘキ
サデシルトリアミノシランからなる厚さ２０〜８００オ
ングストローム（サンプルにおいては２００オングスト
ローム）の層から構成されている。この汚染防止層４０
は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を
示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２
５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層
４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認され
た。

【０１１２】次に、本実施例の偏光板５００の製造方法
について述べる。

【０１１３】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１で
用いたと同様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗
布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を
照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２
０を形成した。

【０１１４】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基板温度
５０℃で、前記反射防止層３０および汚染防止層４０を
形成した。

【０１１５】以下に、蒸着装置および蒸着方法について
具体的に述べる。

【０１１６】図３は、本実施例に用いた蒸着装置の一例
を模式的に示した断面図である。

【０１１７】この蒸着装置は、排気口１を有する真空槽
２内の一端側に、円盤状のタブレット設置台４が設けら
れている。このタブレット設置台４は、軸４ａを介して
図示しない回転手段に接続されており、所定の回転速度
で間欠的に回転駆動される。このタブレット設置台４上
には蒸着すべき材料（蒸着源）からなるタブレットある
いは蒸着源を含むタブレットが該設置台４の周に沿って
配置されている。

【０１１８】本実施例においては、反射防止層３０を構
成するための二酸化ケイ素のタブレット６、酸化ジルコ
ニウムのタブレット７、および汚染防止層４０を形成す
るための含フッ素シラン化合物を含むタブレット８が載
置されている。

【０１１９】汚染防止層４０を形成するためのタブレッ
ト８は、例えば次のようにして形成される。すなわち、
ＳｉＯ₂７０重量％およびＡｌ₂Ｏ₃３０重量％を混合
し、これを焼結して多孔質のタブレットを形成する。こ
のタブレットを密閉容器に入れてロータリーポンプによ
って１０^-3Ｔｏｒｒの状態まで排気する。なお、このと
き、タブレットは１００℃に加熱されている。次いで、
タブレットを冷却した後、前記密閉容器にパーフルオロ
ヘキサデシルトリアミノシランを導入して密閉容器を大
気圧に戻し、タブレットにこの含フッ素シラン化合物を
含浸させる。

【０１２０】タブレット設置台４の上方には、少なくと
も前記タブレット６〜８の前方を覆う状態で、遮蔽部材
５が設置されている。そして、この遮蔽部材５の一部に
は開閉制御されるシャッタ部５ａが設けられている。こ
のシャッタ部５ａの開放時間を制御することによって堆
積層の膜厚を規定することができる。また、前記タブレ
ット設置台４の近傍には、単一のタブレット（ソース）
に電子ビームを照射するための電子ビーム銃３が設置さ
れている。

【０１２１】一方、真空槽２内の他方側には、アンダー
コート層２０が積層された偏光基板１０が配置される。
このとき、アンダーコート層２０が蒸着源であるタブレ
ット側に向くように配置される。

【０１２２】この蒸着装置においては、まず、図示しな
い排気手段を用いて排気口１より真空槽２内の空気を吸
引して、圧力１０^-5Ｔｏｒｒ以下まで排気した状態で、
前記タブレット６および７に交互に電子ビームを照射
し、反射防止層３０を形成する。この反射防止層３０の
膜構成は、アンダーコート層２０側からＳｉＯ₂層がλ
／４で、ＺｒＯ₂層とＳｉＯ₂層の積層がλ／４、Ｚｒ
Ｏ₂層がλ／４、最上層のＳｉＯ₂層がλ／４の膜厚で
堆積される。

【０１２３】次いで、真空状態を保持したまま、タブレ
ット８に電子ビームを照射してタブレットを構成するセ
ラミックスが蒸発しない程度に加熱し、含フッ素シラン
化合物だけを所定時間（２０秒間程度）蒸発させ、汚染
防止層４０を形成した。

【０１２４】このようにして形成された偏光板５００
は、反射防止層３０および汚染防止層４０を形成するこ
とによって、偏光板の外観，反射防止特性に特に変化は
見られなかった。

【０１２５】この製造方法によれば、反射防止層３０お
よび汚染防止層４０を同一真空槽内で連続的に形成する
ことができる。

【０１２６】この偏光板５００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行なった。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板をＭＩＭ
素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前
面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表
示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試
験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認
性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様に良好な
結果が得られた。

【０１２７】（実施例６）本実施例の偏光板は、その基
本的な構造が前記実施例２と同様であるため、図２を参
照しながら説明する。

【０１２８】この偏光板６００は、偏光基板１０上に接
着層５２を介して樹脂フィルム５０、アンダーコート層
２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層
された構造となっている。なお、偏光基板１０の構成
は、前記実施例１の偏光基板と同様の構成を有するた
め、その詳細な説明を省略する。

【０１２９】前記樹脂フィルム５０は、厚さ０．０３〜
１ｍｍ（後述する試験のサンプルでは０．２ｍｍ）のア
クリル樹脂から構成されている。

【０１３０】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のア
クリル系樹脂層からなる。このアンダーコート層２０
は、防眩性を高めるためのシリカが分散されていない。
その代わり、後述するエアスプレー法によって防眩性が
付与される。

【０１３１】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は４８、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１００ｎｍ、および曇度は１０％であった。

【０１３２】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、３層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂層がλ／４、ＴｉＯ₂層がλ／２、最上層
であるＳｉＯ₂層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）で
ある。

【０１３３】前記汚染防止層４０は、３，３，３−トリ
フルオロプロピルトリクロロシランからなる厚さ２０〜
８００オングストローム（サンプルにおいては１００オ
ングストローム以下）の層から構成されている。この汚
染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優
れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折
率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ
（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さい
ことが確認された。

【０１３４】次に、本実施例の偏光板６００の製造方法
について述べる。

【０１３５】まず、前記樹脂フィルム５０の表面に、エ
アスプレー法を用いてアクリル樹脂塗布液を、液滴の平
均粒子径が５〜１００μｍになるように吐出量と空気使
用量を調整し、さらに樹脂フィルムの移動速度を適度に
調整しながら塗布し、アンダーコート層２０を形成し
た。

【０１３６】ついで、この樹脂フィルムを真空槽内にセ
ットし、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法によ
り、基板温度５０℃で、ＳｉＯ₂層をλ／４、ＴｉＯ₂
層をλ／２、ＳｉＯ₂層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の
膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。

【０１３７】次いで、この樹脂フィルムを真空槽内にセ
ットし、例えば抵抗加熱による真空蒸着法により汚染防
止層４０を形成した。真空蒸着装置にセットされるタブ
レットは、実施例５と同様にして調整され、例えば多孔
質アルミナのタブレットに３，３，３−トリフルオロプ
ロピルトリクロロシランが含有されたものである。

【０１３８】真空蒸着を行う際には、真空槽内を１０^-6
Ｔｏｒｒまで排気し、被蒸着基板を酸素プラズマに曝し
た後に、前記タブレットを電気抵抗で約２００℃に加熱
し、含フッ素シラン化合物（３，３，３−トリフルオロ
プロピルトリクロロシラン）を含むタブレットを３０秒
間蒸発させ、汚染防止層４０を形成した。汚染防止層４
０の形成によって偏光板の外観ならびに反射防止特性に
おいて特に変化は見られなかった。

【０１３９】以上のようにして得られた樹脂フィルムの
積層体を、実施例２と同様にアクリル系接着剤を介して
偏光基板１０に貼り付けることにより本実施例の偏光板
が形成される。

【０１４０】この偏光板６００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において、汚れの拭き取り性が
若干悪かったものの、実施例１と同様に良好な結果が得
られた。さらに、本施例の偏光板６００をＴＦＴ素子を
用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼
り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネ
ルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，
ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の
各特性試験を行ったところ、若干のギラツキ感はあった
ものの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得ら
れた。

【０１４１】（実施例７）本実施例の偏光板は、その基
本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参照
しながら説明する。

【０１４２】この偏光板７００は、偏光基板１０上にア
ンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層
４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０
は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、
その詳細な説明を省略する。

【０１４３】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては３μ
ｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付
与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５
μｍ（サンプルでは２μｍ）である。

【０１４４】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は２６、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は２２０ｎｍ、および曇度は２０％であった。

【０１４５】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、単層構造を成
している。この膜構成は、ＭｇＦ₂層がλ／４（ここで
λ＝５２０ｎｍ）である。

【０１４６】前記汚染防止層４０は、ビス（パーフルオ
ロノニル）ブチルアミノシランからなる厚さ２０〜８０
０オングストローム（サンプルにおいては４００オング
ストローム）の層から構成されている。この汚染防止層
４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水
性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが
１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染
防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認
された。

【０１４７】次に、本実施例の偏光板７００の製造方法
について述べる。

【０１４８】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１で
用いたと同様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗
布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を
照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２
０を形成した。

【０１４９】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基
板温度５０℃で、ＭｇＦ₂層をλ／４（λ＝５２０ｎ
ｍ）の膜厚で形成し、反射防止層３０を形成した。

【０１５０】一方、実施例５と同様な方法で、多孔質窒
化ケイ素のタブレットにビス（パーフルオロノニル）ブ
チルアミノシランを含浸させた。このタブレットをラン
プ加熱が可能な真空槽内にセットし、さらに、真空槽内
を１０^-6Ｔｏｒｒまで排気した。次いで、偏光基板を酸
素プラズマに曝した後、ランプの輻射熱で前記タブレッ
トを約３０秒間加熱させ、汚染防止層４０を形成した。

【０１５１】この偏光板７００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好
な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板を単純マト
リクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネ
ルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１
と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日
光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったとこ
ろ、実施例１と同様に良好な結果が得られた。なお、視
認性の試験においては、前記液晶表示パネルの背面に反
射板を配設したサンプルを用いた。

【０１５２】（実施例８）本実施例に係る偏光板は、前
記実施例１の偏光板１００と基本的な構造が同一なた
め、図１を参照しながら説明する。

【０１５３】この偏光板８００は、偏光基板１０上にア
ンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層
４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０
は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、
その詳細な説明を省略する。

【０１５４】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは４μｍ）のア
クリル系樹脂から構成されている。

【０１５５】このアンダーコート層２０は、前記実施例
１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されて
いない。その代わり、その表面には転写法により微細な
凹凸が形成されて、防眩性が付与されている。

【０１５６】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１００ｎｍ、および曇度は３％であった。

【０１５７】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂層がλ／４、ＺｒＯ₂層とＳｉＯ₂層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。

【０１５８】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリブロモシランから
なる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにお
いては３００オングストローム）の層から構成されてい
る。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上
であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層
４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがっ
てｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより
小さいことが確認された。

【０１５９】次に、本実施例の偏光板８００の製造方法
について述べる。

【０１６０】まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で
用いたと同様のアクリル樹脂塗布液を用い、実施例４と
同様の転写法によってアンダーコート層２０の表面に微
細な凹凸を形成した。

【０１６１】次いで、実施例５と同様の蒸着装置を用い
て反射防止層３０および汚染防止層４０を連続的に形成
した。また、含フッ素シラン化合物は、実施例５と同様
に多孔質アルミナのタブレットに１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２
Ｈ，−パーフルオロオクチルトリブロモシランを含浸さ
せたものを用いた。真空蒸着においては、まず、アンダ
ーコート層２０が積層された偏光基板１０を真空槽内に
セットし、基板温度５０℃で、ＳｉＯ₂層をλ／４、Ｚ
ｒＯ₂層とＳｉＯ₂層との積層をλ／４、ＺｒＯ₂層を
λ／４、ＳｉＯ₂層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚
で順次形成し、反射防止層３０を形成した。

【０１６２】次いで、真空状態を保持したまま、含フッ
素シラン化合物を含有させたタブレットを電子ビームで
照射して含フッ素シラン化合物のみを所定時間（例えば
２０秒間）蒸発させ、汚染防止層４０を形成した。この
汚染防止層４０の形成によって、偏光板の外観ならびに
反射防止特性において、特に変化は見られなかった。

【０１６３】この偏光板８００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好
な結果が得られた。さらに、本実施例の偏光板８００を
ＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パ
ネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この
液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温
高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験および
ｄ．視認性の特性試験を行ったところ、視認性において
写り込みがあったものの、他の特性は実施例１と同様に
良好な結果が得られた。

【０１６４】（実施例９）本実施例と後述する実施例１
０〜１２においては、前記実施例３と同様に、含フッ素
シラン化合物としてアミン系化合物を用い、かつ汚染防
止層４０をディップ法によって形成している点に特徴を
有している。本実施例の偏光板は、その基本的構造が前
記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明
する。

【０１６５】この偏光板９００は、偏光基板１０上にア
ンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層
４０が順次積層された構造となっている。なお、前記偏
光基板１０の構成は、前記実施例１の偏光基板と同様の
構成を有するため、その詳細な説明を省略する。

【０１６６】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては３μ
ｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付
与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５
μｍ（サンプルでは２μｍ）である。

【０１６７】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は１８、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は３１０ｎｍ、および曇度は３２％であった。

【０１６８】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂層がλ／４、ＺｒＯ₂層とＳｉＯ₂層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。

【０１６９】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリアミノシランからな
る厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおい
ては１００オングストローム以下）の層から構成されて
いる。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以
上であり、優れた撥水性を示した。また、撥油性も有し
ていた。前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜
１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０
の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。

【０１７０】次に、本実施例の偏光板９００の製造方法
について述べる。

【０１７１】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１で
用いたと同様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗
布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を
照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２
０を形成した。

【０１７２】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基
板温度５０℃で、ＳｉＯ₂層をλ／４、ＺｒＯ₂層とＳ
ｉＯ₂層との積層をλ／４、ＺｒＯ₂層をλ／４、Ｓｉ
Ｏ₂層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成
し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をメタ
ノールで洗浄し、十分に乾燥させた。

【０１７３】ついで、１，１，２−トリクロロ−１，
２，２−トリフルオロエタンに含フッ素シラン化合物と
して１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリ
アミノシランを１重量％溶解させた溶液に上述した偏光
板を２０℃において１分間浸漬させた。ついで、１０ｃ
ｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた後、相対湿度５０
％、温度６０℃の雰囲気で１０分間放置した。この状態
では、偏光板の両面に１０μｍ程度のかなり厚い塗布層
が形成され、塗布面は若干不均一であり、かつ外観上は
白濁していた。

【０１７４】その後、１，１，２−トリクロロ−１，
２，２−トリフルオロエタンに偏光板を１分間浸漬する
ことによって偏光板の洗浄を行い、未反応の含フッ素シ
ラン化合物を除去し、汚染防止層４０を形成した。

【０１７５】前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１
０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の
支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物
をフッ素系溶剤によって除去することができる。したが
って、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物
層が残存していない。また、このようにして得られた偏
光板は、汚染防止層の形成によって外観ならびに反射防
止特性において特に変化は見られなかった。

【０１７６】この偏光板９００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において、汚れの拭き取り性が
悪かったものの、実施例１と同様に良好な結果が得られ
た。なお、付着した汚れはクリーナーを用いれば除去す
ることができた。さらに、本施例の偏光板９００をＭＩ
Ｍ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル
前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶
表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿
試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視
認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様に良好
な結果が得られた。

【０１７７】（実施例１０）本実施例の偏光板は、その
基本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参
照しながら説明する。

【０１７８】この偏光板１０００は、偏光基板１０上に
アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止
層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１
０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるの
で、その詳細な説明を省略する。

【０１７９】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは３μｍ）のア
クリル系樹脂から形成されている。このアンダーコート
層２０には、防眩性を高めるためのシリカが分散されて
いない。

【０１８０】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は５０ｎｍ、および曇度は０．５％であった。

【０１８１】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、単層構造を成
している。この膜構成は、ＭｇＦ₂層がλ／４（ここで
λ＝５２０ｎｍ）である。

【０１８２】前記汚染防止層４０は、ビス−（１Ｈ，１
Ｈ−パーフルオロノニル）−ブチル−アミノシランから
なる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにお
いては１００オングストローム以下）の層から構成され
ている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度
以上であり、優れた撥水性を示した。また、撥油性も有
していた。前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜
１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０
の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。

【０１８３】次に、本実施例の偏光板１０００の製造方
法について述べる。

【０１８４】まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で
用いたと同様なシリカ粒子が分散されていないアクリル
樹脂塗布液をロールコート法によって塗布し、その後紫
外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコー
ト層２０を形成した。

【０１８５】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基
板温度５０℃で、ＭｇＦ₂層をλ／４（λ＝５２０ｎ
ｍ）の膜厚で形成し、反射防止層３０を形成した。得ら
れた偏光板をアルカリ洗浄後純水ですすぎ、十分に乾燥
させた。

【０１８６】ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含
フッ素シラン化合物としてビス−（１Ｈ，１Ｈ−パーフ
ルオロノニル）−ブチルアミノシランを５重量％溶解さ
せた溶液に上述した偏光板を２０℃において５分間浸漬
させた。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上
げた後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１時間
放置した。この状態では、偏光板の両面に１０μｍ程度
のかなり厚い塗布層が形成され、塗布面は若干不均一で
あり、かつ外観上は白濁していた。

【０１８７】その後、「フロリナートＦＣ−４０」に偏
光板を１分間浸漬することによって偏光板の洗浄を行
い、未反応の含フッ素シラン化合物を除去し、汚染防止
層４０を形成した。

【０１８８】前記含フッ素シラン化合物は、偏光板１０
の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の支
持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物を
フッ素系溶剤によって除去することができる。したがっ
て、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物層
が残存していない。この汚染防止層４０の形成によって
偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化
は見られなかった。

【０１８９】この偏光板１０００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１０００
を単純マトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液
晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについ
て、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃
試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を
行ったところ、視認性の点では写り込みが顕著であるも
のの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得られ
た。なお、視認性の試験においては、前記液晶表示パネ
ルの背面に反射板を配設したサンプルを用いた。

【０１９０】（実施例１１）本実施例の偏光板は、その
基本的構造が前記第１実施例と同様であるため、図１を
参照しながら説明する。

【０１９１】この偏光板１１００は、偏光基板１０上に
アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止
層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１
０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるの
で、その詳細な説明を省略する。

【０１９２】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のア
クリル系樹脂から構成されている。

【０１９３】このアンダーコート層２０は、前記実施例
１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されて
いない。その代わり、その表面には転写法により微細な
凹凸が形成されて、防眩性が付与されている。

【０１９４】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は３７、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１０００ｎｍ、および曇度は３５％であった。

【０１９５】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、３層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂層がλ／４、ＴｉＯ₂層がλ／２、最上層
であるＳｉＯ₂層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）で
ある。

【０１９６】前記汚染防止層４０は、ビス（ＩＨ，ＩＨ
−パーフルオロブチル）ジアミノシランからなる厚さ２
０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１０
０オングストローム以下）の層から構成されている。こ
の汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であ
り、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０
は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎ
ｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さ
いことが確認された。

【０１９７】次に、本実施例の偏光板１１００の製造方
法について述べる。

【０１９８】まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で
用いたと同様のアクリル樹脂塗布液をロ−ルコート法に
よって塗布し、次いで、実施例４で述べたと同様の転写
法によって、乾燥させた塗膜の表面に微細な凹凸を形成
した。その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化さ
せ、アンダーコート層２０を形成した。

【０１９９】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、真
空槽の基板温度５０℃で、ＳｉＯ₂層をλ／２、ＴｉＯ
₂層をλ／２、ＳｉＯ₂層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）
の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。得ら
れた偏光板をメタノールで洗浄し、十分に乾燥させた。

【０２００】ついで、上記の工程で得られた偏光板を
「フロリナートＦＣ−４０」に含フッ素シラン化合物と
してビス（ＩＨ，ＩＨ−パーフルオロブチル）ジアミノ
シランを３重量％溶解させた溶液に、２０℃において２
分間浸漬させた。その後、５ｃｍ／秒の速度で偏光板を
引き上げた後、常温の大気中で一日間放置した。さら
に、「フロリナ−トＦＣ−４０」に得られた偏光板を１
分間浸漬し、さらに「フロリナートＦＣ−４０」の蒸気
浴において引上げ洗浄を行うことによって偏光板の洗浄
を行い未反応の含フッ素シラン化合物を除去し、汚染防
止層４０を形成した。

【０２０１】前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１
０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の
支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物
をフッ素系溶剤によって除去することができる。したが
って、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物
層が残存していない。この汚染防止層の形成によって、
偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化
は見られなかった。

【０２０２】この偏光板１１００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１１００
をＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶
パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。こ
の液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高
温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験および
ｄ．視認性の特性試験を行ったところ、視認性にいて解
像度が若干低下したものの、他の特性は実施例１と同様
に良好な結果が得られた。

【０２０３】（実施例１２）この偏光板１２００は、偏
光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０
および汚染防止層４０が順次積層された構造となってい
る。なお、前記偏光基板１０の構成は、前記実施例１の
偏光基板と同様の構成を有するため、その詳細な説明を
省略する。

【０２０４】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは１μｍ）のシ
ロキサン系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与され
ている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ
（サンプルでは０．３μｍ）である。

【０２０５】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は３５、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は８０ｎｍ、および曇度は７％であった。

【０２０６】前記反射防止層３０は、膜厚０．０８〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂層がλ／４、ＺｒＯ₂層とＳｉＯ₂層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。

【０２０７】前記汚染防止層４０は、２−（パーフルオ
ロノニル）−エチルブチルージアミノシランからなる厚
さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては
１００オングストローム以下）の層から構成されてい
る。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上
であり、優れた撥水性を示した。また、撥油性も有して
いた。前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．
４５であり、したがってｎｄが０．１μｍより小さいこ
とが確認された。

【０２０８】次に、本実施例の偏光板１２００の製造方
法について述べる。

【０２０９】まず、偏光基板１０の表面に、実施例２で
用いたと同様のシリカ粒子が分散されたシロキサン系樹
脂塗布液をロールコート法によって塗布し、その後８０
℃に加熱してシロキサン系樹脂を硬化させ、アンダーコ
ート層２０を形成した。

【０２１０】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基
板温度５０℃で、ＳｉＯ₂層をλ／４、ＺｒＯ₂層とＳ
ｉＯ₂層との積層をλ／４、ＺｒＯ₂層をλ／４、Ｓｉ
Ｏ₂層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成
し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をメタ
ノールで洗浄し、十分に乾燥させた。

【０２１１】ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含
フッ素シラン化合物として２−（パーフルオロノニル）
−エチルブチルージアミノシランを１０重量％溶解させ
た溶液に上述した偏光板を２０℃において５分間浸漬さ
せた。ついで、３ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた
後、相対湿度５０％、温度４０℃の雰囲気で１時間放置
した。この状態では、偏光板の両面に１μｍ程度のかな
り厚い塗布層が形成され、塗布面は若干不均一であり、
かつ外観上は白濁していた。

【０２１２】その後、「フロリナートＦＣ−４０」に偏
光板を１分間浸漬することによって偏光板の洗浄を行い
未反応の含フッ素シラン化合物を除去した。

【０２１３】前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１
０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の
支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物
をフッ素系溶剤によって除去することができる。したが
って、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物
層が残存していない。また、このようにして得られた偏
光板は、汚染防止層の形成によって外観ならびに反射防
止特性において特に変化は見られなかった。

【０２１４】この偏光板１２００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において、汚れの拭き取り性
が悪かったものの、その他の特性は実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１２００
をＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶
パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。こ
の液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高
温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験および
ｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様
に良好な結果が得られた。

【０２１５】（実施例１３）本実施例および後述する実
施例１４〜１６においては、反射防止層３０が前記実施
例のように蒸着法ではなく、ディップコーティングなど
の塗布法によって形成されている点に特徴を有してい
る。

【０２１６】本実施例の偏光板は、その基本的構造が前
記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明
する。

【０２１７】この偏光板１３００は、偏光基板１０上に
アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止
層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１
０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるの
で、その詳細な説明を省略する。前記アンダーコート
層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサン
プルでは３μｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散さ
れ、防眩性が付与されている。前記シリカは、平均粒子
径が０．１〜５μｍ（サンプルでは１２μｍ）である。

【０２１８】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は２５、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は２５０ｎｍ、および曇度は１５％であった。

【０２１９】前記反射防止層３０は、約８５０オングス
トロームのシロキサン系樹脂からなる高屈折率層と、膜
厚約９５０オングストロームのアクリル系樹脂からなる
低屈折率層から形成されている。前記高屈折率層は、シ
ロキサン系樹脂に平均粒子径が約５０オングストローム
のチタニア粒子と平均粒子径が約８０オングストローム
のシリカ粒子が分散されている。

【０２２０】前記高屈折率層は、その屈折率がこの実施
例では、１．６４であった。また、前記低屈折率層は、
その屈折率がこの実施例では１．４２であった。この反
射防止層３０は、空気中の反射率が５５０ｎｍで０．５
％であり、高い反射防止効果が確認された。

【０２２１】前記汚染防止層４０は、２−（パーフルオ
ロオクチル）−エチルトリアミノシランからなる厚さ２
０〜８００オングストローム（サンプルにおいては２０
０オングストローム）の層から構成されている。この汚
染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優
れた撥水性を示し、さらに一般の有機溶剤に濡れず、優
れた撥油性も示した。また、前記汚染防止層４０は屈折
率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ
（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さい
ことが確認された。

【０２２２】次に、本実施例の偏光板１３００の製造方
法について述べる。

【０２２３】まず、偏光基板１０の表面に、シリカ粒子
が分散されたアクリル樹脂塗布液をロールコート法によ
って塗布し、その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬
化させ、アンダーコート層２０を形成した。

【０２２４】ついで、メチルセロソロブに５０重量％の
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを溶解し
触媒量（塗布液の０．０１重量％程度）の塩酸を加え、
室温で撹拌して溶液を調整した。この溶液にさらに前記
チタニア粒子とシリカ粒子とを混合し、さらに過塩素酸
マグネシウムを触媒量（塗布液に対して０．０５重量％
程度）添加し、十分に撹拌し、塗布液を調整した。この
塗布液は均質なゾルであり、長期間にわたって良好な保
存安定性を有し、沈澱等が生じなかった。この塗布液に
偏光板を浸漬し、ディップコーティングにより塗膜を形
成し、さらに４０〜１００℃（サンプルでは６０℃）に
加熱して高屈折率層を形成した。

【０２２５】次いで、５重量％のパーフルオロアルキル
アクリレートのオリゴマーをフッ素系溶媒（トリフルオ
ロメチルベンゼン）に溶解させ、塗布液を調整した。こ
の塗布液を用いてディップコーティングにより偏光板上
に塗布層を形成し、３０〜１００℃（サンプルでは５０
℃）で５〜１８０分間（サンプルでは３０分間）加熱し
た後、紫外線を例えば１ジュールの強さで照射し、アク
リル系樹脂の低屈折率層を形成した。

【０２２６】このようにして形成された２層構造の反射
防止層３０は、非常に緻密かつ均質で、クラック等が発
生していないことが確認された。また、この実施例にお
いては、塗布層の膜厚を５０オングストローム程度の範
囲で十分に制御できることがわかった。

【０２２７】次いで、実施例５と同様にして、多孔質ア
ルミナのタブレットに２−（パーフルオロオクチル）−
エチルトリアミノシランを含浸させた。このタブレット
を蒸発源として真空蒸着により汚染防止層４０を形成し
た。真空蒸着においては、例えば真空槽内を１０^-6Ｔｏ
ｒｒまで排気し、前記偏光板を酸素プラズマに曝した
後、タブレットを電気抵抗で加熱し、前記フッ素シラン
化合物のみを所定時間（サンプルでは３０秒間）蒸発さ
せ、反射防止層３０上に含フッ素シラン化合物層を堆積
させた。この汚染防止層４０の形成によって偏光板の外
観ならびに反射防止特性において、特に変化は見られな
かった。

【０２２８】この偏光板１３００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１３００
をＭＩＭ素子によるアクティブマトリクス駆動の液晶パ
ネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この
液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温
高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験および
ｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様
に良好な結果が得られた。

【０２２９】（実施例１４）本実施例の偏光板は、前記
実施例２の偏光板２００と基本的な構造が同様であるた
め、図２を参照しながら説明する。

【０２３０】この偏光板１４００は、偏光基板１０上に
接着層５２を介して樹脂フィルム５０、アンダーコート
層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積
層された構造となっている。なお、偏光基板１０の構成
は、前記実施例１の偏光基板と同様の構成を有するた
め、その詳細な説明を省略する。

【０２３１】前記樹脂フィルム５０は、厚さ０．０３〜
１ｍｍ（後述する試験のサンプルでは０．２ｍｍ）のア
クリル樹脂から構成されている。

【０２３２】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のシ
ロキサン系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与され
ている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ
（サンプルでは４μｍ）である。

【０２３３】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は４８、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は９８０ｎｍ、および曇度は１５％であった。

【０２３４】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、多孔質のシリ
カ系非晶質体の超低屈折率層からなる。この反射防止層
３０は、その屈折率が１．２５〜１．４５（サンプルで
は１．３２）である。また、反射防止層３０の空気中の
反射率は可視波長領域全体にわたって０．５％程度であ
り、高い反射防止効果があることが確認された。

【０２３５】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシランからな
る厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおい
ては１００オングストローム以下）の層から構成されて
いる。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以
上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止
層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したが
ってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍよ
り小さいことが確認された。

【０２３６】次に、本実施例の偏光板１４００の製造方
法について述べる。

【０２３７】まず、前記樹脂フィルム５０の表面に、実
施例６で用いたと同様のシリカ粒子が分散されたシロキ
サン系樹脂塗布液をディップ法によって塗布し、その後
７０℃に加熱してシロキサン系樹脂を熱硬化させ、アン
ダーコート層２０を形成した。

【０２３８】次いで、エチルセロソロブとエタノールと
の混合溶媒（両者の組成比１：１）にテトラエトキシシ
ランを溶解し、さらに純水および触媒量の塩酸を加え、
室温で撹拌して加水分解を行った。この溶液に、平均粒
子径５０〜１０００オングストローム（サンプルでは２
００オングストローム）のシリカ微粒子の分散液を混合
し、十分に撹拌して塗布液を調整した。この塗布液は均
質なゾルであり、長期間にわたって良好な保存安定性を
有し、沈澱などが見られなかった。

【０２３９】この塗布液を前記アンダーコート層２０の
表面にロールコーティングによって塗布し、さらに５０
〜１００℃（サンプルでは８０℃）に加熱した後、紫外
線を例えば１０ジュールの強度で照射して、反射防止層
３０を形成した。この反射防止層３０は、非常に緻密か
つ均質で、クラック等が発生していないことが確認され
た。また、この実施例においては、塗布層の膜厚を１０
０オングストローム程度の範囲で十分に制御できること
がわかった。

【０２４０】ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含
フッ素シラン化合物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パ
ーフルオロデシルトリクロロシランを５重量％溶解させ
た溶液に上述した偏光板を２０℃において１分間浸漬さ
せた。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げ
た後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１０分間
放置した。その後、「フロリナ−トＦＣ−４０」によっ
て偏光板の洗浄を行い、未反応の含フッ素シラン化合物
を除去した。

【０２４１】汚染防止層４０の形成によって偏光板の外
観ならびに反射防止特性において特に変化は見られなか
った。

【０２４２】以上のようにして得られた樹脂フィルムの
積層体を、実施例２と同様のアクリル系接着剤を介して
偏光基板１０に貼り付けることにより本実施例の偏光板
が形成される。

【０２４３】この偏光板１４００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において、実施例１と同様に
良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１４０
０をＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子を用いたアクティ
ブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表
示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実
施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，
ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の各特性試験を行っ
たところ、視認性においてギラツキ感があったものの、
実施例１と同様に良好な結果が得られた。

【０２４４】（実施例１５）本実施例の偏光板は、その
基本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参
照しながら説明する。

【０２４５】この偏光板１５００は、偏光基板１０上に
アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止
層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１
０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるの
で、その詳細な説明を省略する。

【０２４６】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは３μｍ）のア
クリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与されて
いる。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サ
ンプルでは１μｍ）であり、その添加量はアクリル系樹
脂に対し１〜５０重量％（サンプルでは２０重量％）で
ある。

【０２４７】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は３５、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１８０ｎｍ、および曇度は１３％であった。

【０２４８】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．０９５μｍ）であり、アクリル
系樹脂の超低屈折率層から構成されている。この反射防
止層３０は、その屈折率が１．２５〜１．４５（サンプ
ルでは１．３８）である。前記アクリル系樹脂として
は、アクリル酸エステルのエステル残基にフルオロアル
キル基を導入したモノマーの重合体、またはフルオロ基
を有する２種以上のモノマーの重合体等を好適に用いる
ことができる。

【０２４９】前記汚染防止層４０は、ビス（１Ｈ，１Ｈ
−パーフルオロブチル）ジアミノシランからなる厚さ２
０〜８００オングストローム（サンプルにおいては２０
０オングストローム）の層から構成されている。この汚
染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優
れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折
率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ
（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さい
ことが確認された。

【０２５０】次に、本実施例の偏光板１５００の製造方
法の一例について述べる。

【０２５１】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１と
同様なシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗布液をロ
ールコート法によって塗布し、その後紫外線を照射して
アクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成
した。

【０２５２】次いで、フッ素系溶媒（ビス（トリフルオ
ロメチル）ベンゼン）にフルオロアルキルアクリレート
を３重量％の濃度で溶解させ、塗布液を調整した。この
塗布液をディップコーティングにより前記偏光板の表面
に塗布し、３０〜１００℃（サンプルでは５０℃）で５
〜１８０分間（サンプルでは３０分間）加熱した後、電
子線を例えば１００ＫＶの加速電圧で照射し、アクリル
系樹脂からなる反射防止層３０を形成した。この反射防
止層３０は、非常に緻密かつ均質で、クラック等が発生
していないことが確認された。また、この方法により膜
厚は５０オングストローム程度の範囲で十分に制御でき
ることが確認された。

【０２５３】ついで、アルゴンとビス（１Ｈ，１Ｈ−パ
ーフルオロブチル）ジアミノシランを９：１の割合で混
合した気体を真空度が１〜０．０００１Ｔｏｒｒ（サン
プルでは０．０１Ｔｏｒｒ）になるように真空槽内に導
入し、例えば１３．５６ＭＨｚの高周波磁場で雰囲気を
プラズマ化し、前記含フッ素シラン化合物を反射防止層
３０上に堆積させ、汚染防止層４０を形成した。この汚
染防止層４０の形成によって偏光板の外観ならびに反射
防止特性において、特に変化は見られなかった。

【０２５４】この偏光板１５００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１５００
を単純マトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液
晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについ
て、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃
試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を
行ったところ、実施例１と同様に良好な結果が得られ
た。なお、視認性の試験においては、前記液晶表示パネ
ルの背面に反射板を配設したサンプルを用いた。

【０２５５】（実施例１６）本実施例に係る偏光板は、
前記実施例１の偏光板１００と基本的な構造が同一なた
め、図１を参照しながら説明する。

【０２５６】この偏光板１６００は、偏光基板１０上に
アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止
層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１
０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるの
で、その詳細な説明を省略する。

【０２５７】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは１０μｍ）の
アクリル系樹脂から構成されている。

【０２５８】このアンダーコート層２０は、前記実施例
１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されて
いない。その代わり、その表面には転写法により微細な
凹凸が形成されて、防眩性が付与されている。

【０２５９】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１００ｎｍ、および曇度は３％であった。

【０２６０】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．２１μｍ）であり、チタニア系
非晶質体の高屈折率層とシロキサン系樹脂の低屈折率層
とから構成されている。前記高屈折率層は、屈折率が
１．５〜２．０（サンプルでは１．７５）であり、前記
低屈折率層はその屈折率が１．３〜１．５（サンプルで
は１．４８）である。また、前記高屈折率層には、平均
粒子径が５０〜１０００オングストローム（サンプルで
は５０オングストローム）のチタニア粒子が分散されて
いる。前記低屈折率層には、平均粒子径５０〜１０００
オングストローム（サンプルでは８０オングストロー
ム）のシリカ粒子が分散されている。

【０２６１】この反射防止層３０は、非常に緻密かつ均
質で、クラック等が発生していないことが確認された。
また、反射防止層３０の空気中における反射率は、５５
０ｎｍで０．５％であり、高い反射防止効果が確認され
た。

【０２６２】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシランか
らなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルに
おいては１００オングストローム以下）の層から構成さ
れている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００
度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染
防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、し
たがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μ
ｍより小さいことが確認された。

【０２６３】次に、本実施例の偏光板１６００の製造方
法について述べる。

【０２６４】まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で
用いたと同様のアクリル樹脂塗布液を用い、実施例４と
同様な転写法によってアンダーコート層２０の表面に微
細な凹凸を形成した。

【０２６５】ついで、エチルセロソロブとエタノールと
の混合溶媒（セロソロブ：エタノール＝４：１）にテト
ラブトキシチタンを濃度２０重量％で溶解し、触媒量
（塗布液に対し０．３重量％程度）の酢酸を加え、室温
で撹拌した。この溶液に前記チタニア粒子を分散させ、
十分に撹拌して塗布液を調整した。この塗布液は均質な
ゾルであり、長期間良好な保存安定性が得られ、沈澱は
見られなかった。この塗布液をスピンコーティングによ
り偏光板上に塗布し、５０〜１００℃（サンプルでは６
０℃）に加熱してチタニア系非晶質体の高屈折率層を形
成した。

【０２６６】次いで、メチルセロソロブにγ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシランを濃度２０重量％で溶
解し、触媒量（塗布液に対し０．０１重量％程度）の塩
酸を加え、室温で撹拌した。この溶液に前記シリカ粒子
を分散させて混合し、さらに、過塩素酸マグネシウムを
触媒量（塗布液に対し０．０５重量％程度）添加し、十
分に撹拌して塗布液を調整した。この塗布液は均質なゾ
ルであり、長期間にわたって良好な保存安定性を有し、
沈澱も見られなかった。この塗布液をディップコーティ
ングにより偏光板に塗布し、５０〜１００℃（サンプル
では６０℃）で加熱して、シロキサン系樹脂の低屈折率
層を形成した。このようにして２層構造の反射防止層３
０が形成された。

【０２６７】ついで、上記の工程で得られた偏光板を酸
素プラズマに曝した後スピンナーにセットした。そし
て、「フロリナートＦＣ−７０」に含フッ素シラン化合
物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチ
ルトリエトキシシランを３重量％溶解させた溶液を上述
した偏光板に滴下してスピンナーを約３，０００ｒｐｍ
の回転速度で回転させ、溶液を塗布した。その後、偏光
板を相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１時間放置
し、さらに、「フロリナ−トＦＣ−７０」によって偏光
板の洗浄を行い、未反応の含フッ素シラン化合物を除去
し、汚染防止層４０を形成した。この汚染防止層４０の
形成によって、偏光板の外観ならびに反射防止特性にお
いて、特に変化は見られなかった。

【０２６８】この偏光板１６００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１６００
をＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶
パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。こ
の液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高
温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験および
ｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様
に良好な結果が得られた。

【０２６９】

【発明の効果】本発明によれば、特定のシラン化合物か
らなる汚染防止層を有することにより、優れた視認性を
確保しながら、撥水性，汚染防止性に優れた偏光板、お
よびこの偏光板を効率よく製造することができる製造方
法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１（実施例３，４，５，７〜１
３，１５，１６）の偏光板を模式的に示す断面図であ
る。

【図２】本発明の実施例２（実施例６，１４）の偏光板
を模式的に示す断面図である。

【図３】本発明の偏光板を形成するのに用いられる真空
蒸着装置の一例を示す模式図である。

【符号の説明】

１０偏光基板１２偏光層１４第１の支持層１６第２の支持層２０アンダーコート層３０反射防止層４０汚染防止層５０樹脂フィルム５２接着層１００〜１６００偏光板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号特願平5−121707 (32)優先日平５(1993)５月24日 (33)優先権主張国日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号特願平5−140945 (32)優先日平５(1993)６月11日 (33)優先権主張国日本（ＪＰ）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】偏光層およびこの偏光層の両表面に形成
された支持層を有する偏光基板と、この偏光基板を構成する一方の支持層の表面に形成され
たアンダーコート層と、このアンダーコート層側の最も外側に位置し、含フッ素
シラン化合物からなる汚染防止層と、を含むことを特徴とする偏光板。
【請求項２】請求項１において、前記アンダーコート層は、ＪＩＳＺ８７４１に基づ
く鏡面光沢度が１０〜４０であり、かつＪＩＳＫ６
９００に基づく曇度が５〜３０％であることを特徴とす
る偏光板。
【請求項３】請求項１または２において、前記アンダーコート層と前記汚染防止層との間に反射防
止層が形成されたことを特徴とする偏光板。
【請求項４】請求項１〜３のいずれかにおいて、前記偏光板の代わりに、偏光基板およびこの偏光基板に
接着された樹脂フィルムからなる積層体が用いられたこ
とを特徴とする偏光板。
【請求項５】請求項２〜４のいずれかにおいて、前記アンダーコート層は、ＪＩＳＢ０６０１に基づ
く中心線平均粗さが１００〜５００ｎｍであることを特
徴とする偏光板。
【請求項６】請求項１〜５のいずれかにおいて、前記アンダーコート層には、平均粒子径が０．１〜５μ
ｍの硬質粒子が分散されていることを特徴とする偏光
板。
【請求項７】請求項６において、前記アンダーコート層に分散される硬質粒子は、シリ
カ、チタニア、アルミナおよびジルコニアから選択され
る少なくとも一種であることを特徴とする偏光板。
【請求項８】請求項１〜７のいずれかにおいて、前記アンダーコート層は、アクリル系樹脂およびシロキ
サン系樹脂から選択される少なくとも一種であることを
特徴とする偏光板。
【請求項９】請求項１〜８のいずれかにおいて、前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）で示される
含フッ素シラン化合物、この化合物単位を有するオリゴ
マーおよびポリマーの少なくとも一種からなることを特
徴とする偏光板。式（１）（Ｒ¹）_a（Ｒ²）_b−Ｓｉ−（Ｘ）_c 式（１）中、Ｒ¹はフッ素を含む有機基、Ｒ²は水素または有機基、Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アルコキシ基およ
びこれらの基の一部が置換された基から選択される少な
くとも一種の加水分解可能な反応性基、 a は１〜３の整数、 b は０または１〜２の整数、 c は１〜３の整数を示す。
【請求項１０】請求項９において、前記式（１）における反応性基Ｘはアミノ基または置換
アミノ基であることを特徴とする偏光板。
【請求項１１】請求項１０において、前記含フッ素シラン化合物は、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ
−パーフルオロデシルトリアミノシラン、１Ｈ，１Ｈ，
２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルジメチルアミノシラ
ン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブチル）ジアミノ
シラン、ビス（パーフルオロノニル）ジアミノシラン、
パーフルオロヘキサデシルトリアミノシラン、パーフル
オロヘプタデシルトリアミノシラン、パーフルオロオク
タデシルトリアミノシランおよびビス（パーフルオロノ
ニル）ブチルアミノシランから選択される少なくとも一
種であることを特徴とする偏光板。
【請求項１２】請求項９において、前記式（１）中、Ｒ¹はフッ素を含む、炭素数１〜２０のアルキル基，置
換アルキル基，アルコキシ基および置換アルコキシ基か
ら選択される少なくとも一種、Ｒ²は水素または炭素数１〜４のアルキル基，置換アル
キル基，アルコキシ基および置換アルキル基から選択さ
れる少なくとも一種、Ｘはハロゲン基，水酸基，アルコキシ基およびこれらの
基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種
の反応性基であることを特徴とする偏光板。
【請求項１３】請求項１２において、前記含フッ素シラン化合物としては、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシラン、１
Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリブロモ
シラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシル
トリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフ
ルオロデシルトリヒドロキシシラン、パーフルオロヘプ
タデシルトリメトキシシラン、パーフルオロオクタデシ
ルジメチルクロロシラン、パーフルオロヘキサデシルメ
チルジクロロシランおよび３，３，３−トリフルオロプ
ロピルトリクロロシランから選択される少なくとも一種
であることを特徴とする偏光板。
【請求項１４】請求項１〜１３のいずれかにおいて、前記汚染防止層は、屈折率ｎおよび層の厚みｄが次の関
係を有することを特徴とする偏光板。ｎｄ＜０．１μｍ１．２５＜ｎ＜１．４５
【請求項１５】偏光層およびこの偏光層の両表面に形
成された支持層を有する偏光基板の一方の支持層の表面
にアンダーコート層を形成する工程と、このアンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工
程と、この反射防止層の表面に含フッ素シラン化合物からなる
汚染防止層を形成する工程と、を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項１６】請求項１５において、前記アンダーコート層を形成する工程は、樹脂溶液に平
均粒子径が０．１〜５μｍの硬質粒子を分散させた塗布
液を調整し、この塗布液を前記偏光基板の表面に塗布し
て硬化させ、前記硬質粒子が１〜５０重量％の割合で含
有される塗膜を形成する工程からなることを特徴とする
偏光板の製造方法。
【請求項１７】請求項１５において、前記アンダーコート層を形成する工程は、樹脂溶液を含
む塗布液を前記偏光基板の表面に塗布して硬化させ、こ
の塗膜の表面に微細な凹凸を形成する工程からなること
を特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項１８】請求項１５〜１７のいずれかにおい
て、前記汚染防止層は、下記式（１）で示される含フッ素シ
ラン化合物を含む塗布液を前記反射防止層の表面に塗布
して硬化させ、さらに未反応の含フッ素シラン化合物を
溶媒洗浄によって除去することにより形成されることを
特徴とする偏光板の製造方法。式（１）（Ｒ¹）_a（Ｒ²）_b−Ｓｉ−（Ｘ）_c 式（１）中、Ｒ¹はフッ素を含む有機基、Ｒ²は水素または有機基、Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アルコキシ基およ
びこれらの基の一部が置換された基から選択される少な
くとも一種の加水分解可能な反応性基、 a は１〜３の整数、 b は０または１〜２の整数、 c は１〜３の整数を示す。
【請求項１９】請求項１５〜１７のいずれかにおい
て、前記汚染防止層は、前記式（１）で示される含フッ素シ
ラン化合物を物理的気相成長法によって堆積させること
により形成されることを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項２０】請求項１９において、前記汚染防止層は、前記式（１）で示される含フッ素シ
ラン化合物を含浸させたセラミックスを蒸発源として用
い、真空槽内において前記セラミックスを加熱し、該化
合物を蒸発させて堆積させることによって形成されるこ
とを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項２１】請求項１５〜２０のいずれかにおい
て、前記反射防止層は、物理的気相成長法によって形成され
ることを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項２２】請求項１５〜２０のいずれかにおい
て、前記反射防止層は、シロキサン系樹脂，アクリル系樹脂
および酸化物系非晶質体の少なくとも一種を含む塗膜を
形成後、これを硬化させることによって形成されること
を特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項２３】請求項２２において、前記反射防止層には、平均粒子径が０．０５〜０．１μ
ｍの硬質粒子が分散されていることを特徴とする偏光板
の製造方法。