JPS62178903A - 無機コ−ト膜の表面改質法 - Google Patents
無機コ−ト膜の表面改質法Info
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用〕
本発明は、無機コート膜の表面状態の改質法に関する。
[従来の技術]
真空蒸層法、イオンブレーティング法、スパッタリング
法などによって得られる無機コート膜はレンズ、ディス
プレー装置のパネルや種々の光学材料の反射防止膜、ハ
ードコート喚、各種機能性膜などに広く用いられている
。特1csio、膜は。
法などによって得られる無機コート膜はレンズ、ディス
プレー装置のパネルや種々の光学材料の反射防止膜、ハ
ードコート喚、各種機能性膜などに広く用いられている
。特1csio、膜は。
その基板との付層力、硬度、取扱い易さなどの点で幅広
く使用されている。
く使用されている。
しかし、Sin、等の無機コート膜は、81.Na。
Oa等の不純物を含む水滴等か付層した場合、乾燥する
過程に於いて不純物が無機コート漢表面に残シ、いわゆ
るヤケ現象を起こす。
過程に於いて不純物が無機コート漢表面に残シ、いわゆ
るヤケ現象を起こす。
また、蒸着による膜はバルクに比べ一般に密匿が小さく
、膜内での水分子、気体分子等の移動も容易であると考
えられている。その為、水分子等が膜の表面に吸着、そ
の後拡散により膜と基材の界面に達し、膜の密層性に悲
影響を及ぼすなど。
、膜内での水分子、気体分子等の移動も容易であると考
えられている。その為、水分子等が膜の表面に吸着、そ
の後拡散により膜と基材の界面に達し、膜の密層性に悲
影響を及ぼすなど。
耐久性金招いていた。さらに環境の温度差により光学材
料上のコート膜表面に水l商か細かく付層して生ずる遺
りによシ、材料の透過率が低下するという問題もあった
。その他1表面の帯電によりホコリかつきやすいなど表
面状態から生じる種々の間vyl dlある。そこで本
発明は、このような問題点を解決するもので、その目的
とするところは、無慎コート嘆の表兜状、彌會改貞シフ
、上記にあげ之様なイ・−々の間、I!q金1つまたに
t2つ以上解消できうる機i巳を表面に持たせるところ
にある、E問題全解決するための手段〕 すなわち、本発明は、無機コート膜に、Si−H。
料上のコート膜表面に水l商か細かく付層して生ずる遺
りによシ、材料の透過率が低下するという問題もあった
。その他1表面の帯電によりホコリかつきやすいなど表
面状態から生じる種々の間vyl dlある。そこで本
発明は、このような問題点を解決するもので、その目的
とするところは、無慎コート嘆の表兜状、彌會改貞シフ
、上記にあげ之様なイ・−々の間、I!q金1つまたに
t2つ以上解消できうる機i巳を表面に持たせるところ
にある、E問題全解決するための手段〕 すなわち、本発明は、無機コート膜に、Si−H。
8l−OH、Si−OR、Si−SR(Rは有機基)か
ら選ばれる結合を少くとも1種以上騎する構造のシラン
化合′吻を反16させたことを特徴とする無機コート膜
の表面改頁法。
ら選ばれる結合を少くとも1種以上騎する構造のシラン
化合′吻を反16させたことを特徴とする無機コート膜
の表面改頁法。
無機コート膜に処理を行なうには、すでに基材上に存在
しているコート膜の性質、賢4件、耐久性を低下させず
に処理を行う必要がある、その為には、@層性、耐久性
を低下させない温度及び環境で、かつ反射防止膜等と処
理する場合、分光特性に#/411を与えないなど、処
理前の緒特性に影響を与えない程度の表面付近で反応を
行なう処理が望ましい。本発明で用いるシラン化合物は
、水酸n2所有する無機コート膜と脱水反応、脱アルコ
ール反応、脱水素等が起こシ、水酸基の存在する表面の
反応に非常に有効である。
しているコート膜の性質、賢4件、耐久性を低下させず
に処理を行う必要がある、その為には、@層性、耐久性
を低下させない温度及び環境で、かつ反射防止膜等と処
理する場合、分光特性に#/411を与えないなど、処
理前の緒特性に影響を与えない程度の表面付近で反応を
行なう処理が望ましい。本発明で用いるシラン化合物は
、水酸n2所有する無機コート膜と脱水反応、脱アルコ
ール反応、脱水素等が起こシ、水酸基の存在する表面の
反応に非常に有効である。
例えば、S10.膜表面付近では、下に示すような反F
a+51起こると考えられる。
a+51起こると考えられる。
0−8i−
式
(R,R’は任意のlt侠基)
シラン化合物の無機コート膜との反応に関与する基以外
の置換基に種々の愼能を持たせることか可能である。無
機コート膜に付与する機能としては、疎水性、親水性、
導電性、ぬれ性など用途に応じて多彩に選択できる。本
発明では、用途に応じた機能を持つ基t−有するシラン
化合物を用いることによって表面の改質を行う。
の置換基に種々の愼能を持たせることか可能である。無
機コート膜に付与する機能としては、疎水性、親水性、
導電性、ぬれ性など用途に応じて多彩に選択できる。本
発明では、用途に応じた機能を持つ基t−有するシラン
化合物を用いることによって表面の改質を行う。
本発明で用いうるシラン化合物としては、トリメチルシ
ラノール、ジメトキシメチルシラン、トリメトキシシラ
ン、クロロメチルメトキシジメチルシラン、クロロメチ
ルトリメトキシシラン、ジエチルシラン、ジメチルエト
キシシラン、メトキシトリメチルシラン、ジメトキシジ
メチルシラン。
ラノール、ジメトキシメチルシラン、トリメトキシシラ
ン、クロロメチルメトキシジメチルシラン、クロロメチ
ルトリメトキシシラン、ジエチルシラン、ジメチルエト
キシシラン、メトキシトリメチルシラン、ジメトキシジ
メチルシラン。
ジェトキシシラン、メチルトリメトキシシラン。
メルカプトメチルトリメトキシシラン、テトラメトキシ
シラン、メチルチオトリメチルシラン、ジメチルジメチ
ルアミノシラン、トリフルアセトキシメチルシラン、ジ
アセトキシメチルシラン、アリルジメチルシラン、2−
クロロエトキシクロロメチルジメチルシラン、ビス(2
−クロロエトキシ)メチルシラン、トリメチルビニルオ
キシシラン、メトキシジメチルビニルシラン、アセトキ
シメチルシラン、2−クロロエトジメチルシラン。
シラン、メチルチオトリメチルシラン、ジメチルジメチ
ルアミノシラン、トリフルアセトキシメチルシラン、ジ
アセトキシメチルシラン、アリルジメチルシラン、2−
クロロエトキシクロロメチルジメチルシラン、ビス(2
−クロロエトキシ)メチルシラン、トリメチルビニルオ
キシシラン、メトキシジメチルビニルシラン、アセトキ
シメチルシラン、2−クロロエトジメチルシラン。
クロロメチルジメチルエトキシシラン、ジエチルメチル
シラン、エトキシトリメチルシラン、ジェトキシメチル
シラン、エチルトリメトキシシラン。
シラン、エトキシトリメチルシラン、ジェトキシメチル
シラン、エチルトリメトキシシラン。
ビス(ジメチルアミノ)メチルシラン、フェニルシラン
、2−プロピニルオキシトリメチルシラン。
、2−プロピニルオキシトリメチルシラン。
ジメチルエトキシエチニルシラン、ジアセトキシメチル
シラン、アリルオキシクロロメチルシラン。
シラン、アリルオキシクロロメチルシラン。
トリス(2−クロロエトキシ)シラン、ジメトキシメチ
ル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、3.3
.5−)リフルオログロビルトリメトキシシラン、2−
シアノエチルトリメトキシシラン、アリルトリメチルシ
ラン、1−クロロメチル−2−クロロエトキシトリメチ
ルシラン、アリルオキシトリメチルシラン、エトキシメ
チルビニル7ラン、インプロペンオキシトリメチルシラ
ン。
ル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、3.3
.5−)リフルオログロビルトリメトキシシラン、2−
シアノエチルトリメトキシシラン、アリルトリメチルシ
ラン、1−クロロメチル−2−クロロエトキシトリメチ
ルシラン、アリルオキシトリメチルシラン、エトキシメ
チルビニル7ラン、インプロペンオキシトリメチルシラ
ン。
1−クロロメチルエトキシトリメチルシラン、3−クロ
ロプロホキトリメチルシラン、3−°クロロプロピルジ
メトキシメチルシラン、クロロメチルジェトキシメチル
シラン、3−クロロプロピルトジメトキシシラン。ジメ
チルケトオキシイミントリメチルシラン、トリエチルシ
ラン、ブチルジメチルシラン、トリメチルイソプロポキ
シシラン。
ロプロホキトリメチルシラン、3−°クロロプロピルジ
メトキシメチルシラン、クロロメチルジェトキシメチル
シラン、3−クロロプロピルトジメトキシシラン。ジメ
チルケトオキシイミントリメチルシラン、トリエチルシ
ラン、ブチルジメチルシラン、トリメチルイソプロポキ
シシラン。
トリエチルシラノール、ジェトキシジメチルシラン、ジ
メトキシ−5−メルカプトプロピルメチルシラン、トリ
エトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、ジエチルアミノジメチルシラン、3−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、2−アミノエチルアミノメ
チルトリメトキシシラン、トリス(ジメチルアミノ)シ
ラン、メチルフェニルシラン、ジアセトキシメチルとニ
ルシラン、メチルトリアセトキシシラン、アリルオキシ
ジメチルビニルシラン、1−クロロメチルエトキシジメ
チルビニルシラン、ジメチルケトオキシメムジメチルピ
ニルシラン、メチルシラトラン。
メトキシ−5−メルカプトプロピルメチルシラン、トリ
エトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、ジエチルアミノジメチルシラン、3−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、2−アミノエチルアミノメ
チルトリメトキシシラン、トリス(ジメチルアミノ)シ
ラン、メチルフェニルシラン、ジアセトキシメチルとニ
ルシラン、メチルトリアセトキシシラン、アリルオキシ
ジメチルビニルシラン、1−クロロメチルエトキシジメ
チルビニルシラン、ジメチルケトオキシメムジメチルピ
ニルシラン、メチルシラトラン。
ジェトキシメチルビニルシラン、クロロメチルトリエト
キシシラン、エチルメチルケトオキシムトリメチルシラ
ン、ジメトキエチルメチルケトオキシムメチルシラ7.
tert−ブトキシトリメチルシラン、1−メチルプロ
ポキシトリメチルシラン。
キシシラン、エチルメチルケトオキシムトリメチルシラ
ン、ジメトキエチルメチルケトオキシムメチルシラ7.
tert−ブトキシトリメチルシラン、1−メチルプロ
ポキシトリメチルシラン。
ブトキシトリメチルシラノ、ブチルトリメトキシシラン
、メチルトリエトキシシラン、ジエチルアミノキシトリ
メチルシラン、3−アミノプロピルジメチルエトキシシ
ラン、メチルトリス(2−アミンエトキシ)シラン、ジ
メチルフェニルシラン。
、メチルトリエトキシシラン、ジエチルアミノキシトリ
メチルシラン、3−アミノプロピルジメチルエトキシシ
ラン、メチルトリス(2−アミンエトキシ)シラン、ジ
メチルフェニルシラン。
トリアセトキシビニルシラン、テトラアセトキシシラン
、フルフリルトリメチルシラン、エチルトリアセトキシ
シラン、3−トリフルオロアセトキシプロピルトリメト
キシシラン、エチニルジメチル−2−二トロブトキシシ
ラン、1.1−ジメチルプロピニルオキシトリメチルシ
ラノ、ジェトキシジビニルシラン、ジメチルエチルメチ
ルケトオキシムビニルシラン、ジメチル−2−ニトロブ
トキシビニルシラン、ジメチルインブトキシビニルシラ
ン、アセトキシトリエチルシラン、テトラヒドロフルフ
リルオキシトリメチルシラン、トリエトキシビニルシラ
ン、オクチルシラン、アリルオキシ−2−アミノエチル
アミノメチルジメチルシラ/、トリメチルペンチルオキ
シシラン、イノペンチルオキシトリッチルシラン、ジェ
トキシジエチルシラン、ジメチルジプロポキシシラン、
エチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン。
、フルフリルトリメチルシラン、エチルトリアセトキシ
シラン、3−トリフルオロアセトキシプロピルトリメト
キシシラン、エチニルジメチル−2−二トロブトキシシ
ラン、1.1−ジメチルプロピニルオキシトリメチルシ
ラノ、ジェトキシジビニルシラン、ジメチルエチルメチ
ルケトオキシムビニルシラン、ジメチル−2−ニトロブ
トキシビニルシラン、ジメチルインブトキシビニルシラ
ン、アセトキシトリエチルシラン、テトラヒドロフルフ
リルオキシトリメチルシラン、トリエトキシビニルシラ
ン、オクチルシラン、アリルオキシ−2−アミノエチル
アミノメチルジメチルシラ/、トリメチルペンチルオキ
シシラン、イノペンチルオキシトリッチルシラン、ジェ
トキシジエチルシラン、ジメチルジプロポキシシラン、
エチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン。
3−アミノプロピルジェトキシメチルシラン、3−(2
−アミノエチルアミノプロピル)ジメトキシメチルシラ
ン、3−(2−アミノエチルアミノプロピル)トリメト
キシシラン、2.A、5−トリクロロフェノキシトリメ
チルシラン、メチルフェニルビニルシラン、クロロメチ
ルジメチル−の−二トロフェニルシラン、クロロメチル
ジメチル−P−ニトロフェニルシラン、2.4−’))
ロロフエノキシトリメチルシラン、4−ブロモフェノキ
シトリメチルシラン、クロロメチルジメチルフェノキシ
シラン、2−クロロフェノキシトリメチルシラン、2−
クロロフェノキシトリメチルシラ7.4−クロロフェニ
ルトリメトキシシラン、4−二トロフエノキシトリメチ
ルシラン、フェノキシトリッチルシラン、5−ヒドロキ
シフェノキシトリメチルシラン、ジメトキシメチルフェ
ニルシラン、ジメチルフルフリルビニルシラン、2−ヒ
ドロキフエノキシトリメチルシラン、フェニルトリメト
キシシラン、1−シクロヘキシニルトリメトキシシラン
、クロロメチルシクロヘキシルオキシジメチルシラン、
2−シアノエチルトリエトキシシラン、シクロヘキシル
オキシトリメチルシラン、ジメチルインペンチルオキシ
ビニルシラン。
−アミノエチルアミノプロピル)ジメトキシメチルシラ
ン、3−(2−アミノエチルアミノプロピル)トリメト
キシシラン、2.A、5−トリクロロフェノキシトリメ
チルシラン、メチルフェニルビニルシラン、クロロメチ
ルジメチル−の−二トロフェニルシラン、クロロメチル
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ロロフエノキシトリメチルシラン、4−ブロモフェノキ
シトリメチルシラン、クロロメチルジメチルフェノキシ
シラン、2−クロロフェノキシトリメチルシラン、2−
クロロフェノキシトリメチルシラ7.4−クロロフェニ
ルトリメトキシシラン、4−二トロフエノキシトリメチ
ルシラン、フェノキシトリッチルシラン、5−ヒドロキ
シフェノキシトリメチルシラン、ジメトキシメチルフェ
ニルシラン、ジメチルフルフリルビニルシラン、2−ヒ
ドロキフエノキシトリメチルシラン、フェニルトリメト
キシシラン、1−シクロヘキシニルトリメトキシシラン
、クロロメチルシクロヘキシルオキシジメチルシラン、
2−シアノエチルトリエトキシシラン、シクロヘキシル
オキシトリメチルシラン、ジメチルインペンチルオキシ
ビニルシラン。
アリルエトキシシラン、3−アリルチオプロピルトリメ
トキシシラン、3−グリシドキシプロピリトリメトキシ
シラン、3−ブロモプロピルトリエトキシシラン、クロ
ロメチルジメチル−2−[(2−エトキシエトキン)エ
トキシコシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラ
ン、3−71Jルアミノプロピルトリメトキシシラン、
ジェトキシエチルメチルケトオキシムメチルシラン、ト
リプロピルシラン、ヘキシルオキシドリッチルシラン。
トキシシラン、3−グリシドキシプロピリトリメトキシ
シラン、3−ブロモプロピルトリエトキシシラン、クロ
ロメチルジメチル−2−[(2−エトキシエトキン)エ
トキシコシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラ
ン、3−71Jルアミノプロピルトリメトキシシラン、
ジェトキシエチルメチルケトオキシムメチルシラン、ト
リプロピルシラン、ヘキシルオキシドリッチルシラン。
2−(2−エトキシエトキシンエトキシトリフチルシラ
ン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキ
シシラン、2−(2−アミノエチルチオエチルクジエト
キシメチルシラン、3°−アミノプロピルトリエトキシ
シラノ、0.0′−ジエチル−5−(2−トリメトキシ
シリルエチル〕ジチオフオスフェート、2.4−ジクロ
ロフェノキシエチニルジメチルシラン、トリメチルシリ
ルベンゾエート、ベンゾイルオキシクロロメチルジメチ
ルシラン、3−もしくは4−アミノフェノキシジメチル
ビニルシラン、ジメチルエ゛トキシフェニルシラン、ベ
ンゾイルオキシトリメチルシラン、メチルトリスインプ
ロペンオキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメ
チルオキシメチルシラン。
ン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキ
シシラン、2−(2−アミノエチルチオエチルクジエト
キシメチルシラン、3°−アミノプロピルトリエトキシ
シラノ、0.0′−ジエチル−5−(2−トリメトキシ
シリルエチル〕ジチオフオスフェート、2.4−ジクロ
ロフェノキシエチニルジメチルシラン、トリメチルシリ
ルベンゾエート、ベンゾイルオキシクロロメチルジメチ
ルシラン、3−もしくは4−アミノフェノキシジメチル
ビニルシラン、ジメチルエ゛トキシフェニルシラン、ベ
ンゾイルオキシトリメチルシラン、メチルトリスインプ
ロペンオキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメ
チルオキシメチルシラン。
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン。
5−(3−シアノプロピルチオプロビル)ジメトキシメ
チルシラン、ビス(エチルメチルケトオキシム)メトキ
シメチルシラノ、ジメチルエトキシ−5−グリシドキシ
グロビルシラン、ジメチル−2−[(2−エトキシエト
キシンエトキシ〕ビニルシラン、ジメトキシメチル−2
−ピペリジノエチルシラン、3−モルフォリノプロピル
トリメトキシシラン、ジメトキシメチル−5−ピペラジ
ノプロピルシラン、6−ピペラジノプロピルトリメトキ
シシラン、N −(5−)リエトキシシリルプロピル)
ウレア、メトキシトリプロピルシラン。
チルシラン、ビス(エチルメチルケトオキシム)メトキ
シメチルシラノ、ジメチルエトキシ−5−グリシドキシ
グロビルシラン、ジメチル−2−[(2−エトキシエト
キシンエトキシ〕ビニルシラン、ジメトキシメチル−2
−ピペリジノエチルシラン、3−モルフォリノプロピル
トリメトキシシラン、ジメトキシメチル−5−ピペラジ
ノプロピルシラン、6−ピペラジノプロピルトリメトキ
シシラン、N −(5−)リエトキシシリルプロピル)
ウレア、メトキシトリプロピルシラン。
ジブトキシジメチルシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリインプロポキシシラン、ジメトキシ−3
−(2−エトキシエチルチオプロピル)メチルシラン、
メチルトリス(2−メトキシエトキシフシラン。5−ジ
メチルアミンプロピルジェトキシメチルシラン、2−(
2−アミノエチルチオエチル)トリエトキシシラン、3
−(2−(2−アミノエチルアミノエチルアミノ)プロ
ビルコトリメトキシシラン、ジメチルエチニル−2−二
トロー4−メチルフェノキシシラン、ジアセトキシメチ
ルフェニルシラン、ジメチル−3−メチル−4−クロロ
フェノキシビニルシラン、ジメチル−2−メチル−4−
クロロフェノキシビニルシラン、クロロメチルジメチル
−2−フェニルエトキシシラン、ベンジルジメチルエト
キシシラン。
ン、メチルトリインプロポキシシラン、ジメトキシ−3
−(2−エトキシエチルチオプロピル)メチルシラン、
メチルトリス(2−メトキシエトキシフシラン。5−ジ
メチルアミンプロピルジェトキシメチルシラン、2−(
2−アミノエチルチオエチル)トリエトキシシラン、3
−(2−(2−アミノエチルアミノエチルアミノ)プロ
ビルコトリメトキシシラン、ジメチルエチニル−2−二
トロー4−メチルフェノキシシラン、ジアセトキシメチ
ルフェニルシラン、ジメチル−3−メチル−4−クロロ
フェノキシビニルシラン、ジメチル−2−メチル−4−
クロロフェノキシビニルシラン、クロロメチルジメチル
−2−フェニルエトキシシラン、ベンジルジメチルエト
キシシラン。
シェド中メチルフェニルシラン、トリス(1−メチルビ
ニルオキシ)ビニルシラン、2−(5,4−エポキシシ
クロヘキシルエチル)トリメトキシシラン、ジメチル−
2−ピペリジノエトキシビニルシラン、ビス(エチルメ
チルケトオキシム)エトキシメチルシラン、トリスイン
グロボキシピニルシラン、ジェトキシ−3−f IJシ
ドキシグロビルメチルシラン、3−(3−アセトキシプ
ロピルチオンプロビルジメトキシメチルシラン、トリス
(2−メトキンエトキシ)ビニルシラン、ジメトキシメ
チル−3−ピペリジノプロピルシラノ、ジプロポキシエ
チルメチルケトオキシムメチルシラン、ジインプロポキ
シエチルメチルケトオキシムメチルシラン、3−ピペリ
ジノプロピルトリメトキシシラン、2−エチルへキシル
オキシメチルシラン、オクチルオキシトリメチルシラン
、ペンチルトリエトキシシラン、ジエチル−2(2−)
リメチルシリルエチルチオエチル)フォスファイト。
ニルオキシ)ビニルシラン、2−(5,4−エポキシシ
クロヘキシルエチル)トリメトキシシラン、ジメチル−
2−ピペリジノエトキシビニルシラン、ビス(エチルメ
チルケトオキシム)エトキシメチルシラン、トリスイン
グロボキシピニルシラン、ジェトキシ−3−f IJシ
ドキシグロビルメチルシラン、3−(3−アセトキシプ
ロピルチオンプロビルジメトキシメチルシラン、トリス
(2−メトキンエトキシ)ビニルシラン、ジメトキシメ
チル−3−ピペリジノプロピルシラノ、ジプロポキシエ
チルメチルケトオキシムメチルシラン、ジインプロポキ
シエチルメチルケトオキシムメチルシラン、3−ピペリ
ジノプロピルトリメトキシシラン、2−エチルへキシル
オキシメチルシラン、オクチルオキシトリメチルシラン
、ペンチルトリエトキシシラン、ジエチル−2(2−)
リメチルシリルエチルチオエチル)フォスファイト。
ジフェニルシランジオール、フェニルシラトラン。
4−クロロフェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ
エトキシシラノ、テトラアリルオキシシラン、3−フェ
ニルアミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノエ
チルアミノメチルベンジルオキシジメチルシラン、N−
(3−ジェトキシメチルシリルプロビル)サクシンイミ
ド、ビス(エチルメチルケトオキシムンメチルグロボキ
シシラン。
エトキシシラノ、テトラアリルオキシシラン、3−フェ
ニルアミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノエ
チルアミノメチルベンジルオキシジメチルシラン、N−
(3−ジェトキシメチルシリルプロビル)サクシンイミ
ド、ビス(エチルメチルケトオキシムンメチルグロボキ
シシラン。
ビス(エチルメチルケトオキシム)メチルトリプロポキ
シシラ/、ビス(エチルケトオキシム)−2−メトキシ
エトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−3−(4−
メチルピペリジノプロビル)シラン、3−(2−メチル
ピペリジノプロビル)トリメトキシシラン、3−シクロ
ヘキシルアミノプロビルトリメトキシシラン、テトラグ
ロボキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ
キス(2−メトキシエトキシ)シラン、n、o’−ジエ
チル8−(2−トリエトキシシリルエチル)ジチオフォ
スフェート、ジフェニルメチルシラン。
シシラ/、ビス(エチルケトオキシム)−2−メトキシ
エトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−3−(4−
メチルピペリジノプロビル)シラン、3−(2−メチル
ピペリジノプロビル)トリメトキシシラン、3−シクロ
ヘキシルアミノプロビルトリメトキシシラン、テトラグ
ロボキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ
キス(2−メトキシエトキシ)シラン、n、o’−ジエ
チル8−(2−トリエトキシシリルエチル)ジチオフォ
スフェート、ジフェニルメチルシラン。
トリエチルシリルベンゾエート、ベンジルトリエトキシ
シラン、6−ドリエトキシシリルー2−ノルボルネン、
ジェトキシ−2−ピペリジノエトキシビニルシラン、3
−ベンジルアミノプロビルトリメトキシシラン、メチル
トリス(エチルケトオキシムフシラン。ビス(エチルメ
チルケトオキシムンプトキシメチルシラン、ジブトキシ
メチルエチルメチルケトオキシムシラン、メチルトリス
(N、N−ジメチルアミノキシ)シラン、ジメトキシジ
フェニルシラン、ベンジリデン−3−エトキシジメチル
シリルプロピルアミン、オクチルトリエトキシシラン、
ジフェニルエトキシメチルシラン、ジメトキシフェニル
−2−ピペリジノエトキシシラン、フェニルトリス(2
−メトキシクシラン、3−(ビニルベンジルアミノプロ
ビル)トリメトキシシラン、ドデシルオキシトリメチル
シラン、トリフェニルオキシシラン、ジアセトキシジフ
ェニルシラン、ジフェニルエトキシビニルシラン、ジェ
トキシジフェニルシラン、l?−(S−トリエトキシシ
リルプロビル)−P−ニトロベンズアミド、テトラブト
キシシラン、ビス(1,1−ジメチル−2−プロピルオ
キシ)メチル7エ二ルシラン、シェドキトデシルメチル
シラン、トリフェニルシラン、トリフェニルシラノール
、3−(ピニルベンジルアミノプロピルノトリエトキシ
シラン、トリへキシルシラン、ドデシルトリエトキシシ
ラン、アセトキシトリフェニルシラン、エトキシトリフ
ェニルシラン、ジフェニルメチル−2−ピペリジノエト
キシシラン、ジフェニルメトキシ−2−ピペリジノエト
キシシラン、ジェトキシメチルオクタデシルシラン、テ
トラフェノキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラ
ン、テトラキス(2−エチルブトキシ)シラン、ジメチ
ルオクタデシル−3−トリメトキシシリルプロピルアン
モニウムクロリド、テトラキス(2−エチルへキシルオ
キシノシラン、1,1,3.3−テトラメチルジシロキ
サン、1,1,3.5−テトラメチルジシラザン、ペン
タメチルジシロキサン。
シラン、6−ドリエトキシシリルー2−ノルボルネン、
ジェトキシ−2−ピペリジノエトキシビニルシラン、3
−ベンジルアミノプロビルトリメトキシシラン、メチル
トリス(エチルケトオキシムフシラン。ビス(エチルメ
チルケトオキシムンプトキシメチルシラン、ジブトキシ
メチルエチルメチルケトオキシムシラン、メチルトリス
(N、N−ジメチルアミノキシ)シラン、ジメトキシジ
フェニルシラン、ベンジリデン−3−エトキシジメチル
シリルプロピルアミン、オクチルトリエトキシシラン、
ジフェニルエトキシメチルシラン、ジメトキシフェニル
−2−ピペリジノエトキシシラン、フェニルトリス(2
−メトキシクシラン、3−(ビニルベンジルアミノプロ
ビル)トリメトキシシラン、ドデシルオキシトリメチル
シラン、トリフェニルオキシシラン、ジアセトキシジフ
ェニルシラン、ジフェニルエトキシビニルシラン、ジェ
トキシジフェニルシラン、l?−(S−トリエトキシシ
リルプロビル)−P−ニトロベンズアミド、テトラブト
キシシラン、ビス(1,1−ジメチル−2−プロピルオ
キシ)メチル7エ二ルシラン、シェドキトデシルメチル
シラン、トリフェニルシラン、トリフェニルシラノール
、3−(ピニルベンジルアミノプロピルノトリエトキシ
シラン、トリへキシルシラン、ドデシルトリエトキシシ
ラン、アセトキシトリフェニルシラン、エトキシトリフ
ェニルシラン、ジフェニルメチル−2−ピペリジノエト
キシシラン、ジフェニルメトキシ−2−ピペリジノエト
キシシラン、ジェトキシメチルオクタデシルシラン、テ
トラフェノキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラ
ン、テトラキス(2−エチルブトキシ)シラン、ジメチ
ルオクタデシル−3−トリメトキシシリルプロピルアン
モニウムクロリド、テトラキス(2−エチルへキシルオ
キシノシラン、1,1,3.3−テトラメチルジシロキ
サン、1,1,3.5−テトラメチルジシラザン、ペン
タメチルジシロキサン。
1.5−ジメトキシメチルジシロキサン、N、0−ビス
(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド、N、
0−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、1.3−
ジエトキテトラメチルジシロキサン、ビス(トリメチル
シリルツー6−アザウレアシル、1.4−ビス(ジメチ
ルシリル)ベンゼン、1.4−(ヒドロキシジメチルシ
リル〕ベンゼン、ビス(トリメチルシリル)ウラシル、
ビス(トリメチルシリル)シトシン、11.0′−ビス
(トリメチルシリル)ジアセチルジオキシム。
(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド、N、
0−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、1.3−
ジエトキテトラメチルジシロキサン、ビス(トリメチル
シリルツー6−アザウレアシル、1.4−ビス(ジメチ
ルシリル)ベンゼン、1.4−(ヒドロキシジメチルシ
リル〕ベンゼン、ビス(トリメチルシリル)ウラシル、
ビス(トリメチルシリル)シトシン、11.0′−ビス
(トリメチルシリル)ジアセチルジオキシム。
N、O−ビス(トリメチルシリル)ヒボキサンチン、f
l、0′−ビス(トリメチルシリル)チミン。
l、0′−ビス(トリメチルシリル)チミン。
4− ) IJ メチルシロキシフェニルトリメチルシ
ラン、1.2もしくは1.3もしくは1.4−ビス(ト
リメチルシロキシベンゼン、ビス(トリメチルシリル)
アジペート、トリメチルシリル−2−トリメチルシリル
チオベンゾエート、 1 、1 、3゜3.5.5−へ
キサメチルトリスシロキサン、1゜1.1,3.5.5
.5−へブタメチルトリスシロキサン、オクタメチルト
リスシロキサン、3−エトキシヘプタメチルシロキサン
、オクタメチルトリスシロキサン、3−エトキシへブタ
メチルトリスシロキサン、1.3,5.7−チトラメチ
ルシクロテトラシロキサン、1,1,1.!1,5゜7
.7.7−オクタメチルテトラシロキサン、トリス(ト
リメチルシロキン)シラン、1.7−ジアセドキシオク
タメチルテトラシロキサン、1゜3.5.7−テトラエ
トキシ−1,3,5,フーチトラメチルシクロテトラシ
ロキサン、1,3゜5.7−チトラメチルー1.5,5
.7−テトラメチル−1,5,5,フーチトラプロボキ
シシクロテトラシロキサン、1,3.5.7−チトライ
ンプロボキシー1.!5.5.7−チトラメチルシクロ
テトラシロキサン、2−ピペリジノエトキシトリス(l
メチルシロキシ)シラン、 1 、5−ビスC5−ト9
メチルシロキシプロピル)−1゜5.3−テトラメチル
ジシロキサン、 1 、3 、5゜7−チトラプトキシ
ー1.3,5.7−チトラメチルシクロテトラシロキサ
ン、1,3,5.7−テトライソブトキシー1.3,5
.7−チトラメチルシクロテトラシロキサン、テトラキ
ス(ジメチルビニルシロキシメチル)メタン、1.3,
5゜7.9−ペンタメチルシクロペンタシロキサン。
ラン、1.2もしくは1.3もしくは1.4−ビス(ト
リメチルシロキシベンゼン、ビス(トリメチルシリル)
アジペート、トリメチルシリル−2−トリメチルシリル
チオベンゾエート、 1 、1 、3゜3.5.5−へ
キサメチルトリスシロキサン、1゜1.1,3.5.5
.5−へブタメチルトリスシロキサン、オクタメチルト
リスシロキサン、3−エトキシヘプタメチルシロキサン
、オクタメチルトリスシロキサン、3−エトキシへブタ
メチルトリスシロキサン、1.3,5.7−チトラメチ
ルシクロテトラシロキサン、1,1,1.!1,5゜7
.7.7−オクタメチルテトラシロキサン、トリス(ト
リメチルシロキン)シラン、1.7−ジアセドキシオク
タメチルテトラシロキサン、1゜3.5.7−テトラエ
トキシ−1,3,5,フーチトラメチルシクロテトラシ
ロキサン、1,3゜5.7−チトラメチルー1.5,5
.7−テトラメチル−1,5,5,フーチトラプロボキ
シシクロテトラシロキサン、1,3.5.7−チトライ
ンプロボキシー1.!5.5.7−チトラメチルシクロ
テトラシロキサン、2−ピペリジノエトキシトリス(l
メチルシロキシ)シラン、 1 、5−ビスC5−ト9
メチルシロキシプロピル)−1゜5.3−テトラメチル
ジシロキサン、 1 、3 、5゜7−チトラプトキシ
ー1.3,5.7−チトラメチルシクロテトラシロキサ
ン、1,3,5.7−テトライソブトキシー1.3,5
.7−チトラメチルシクロテトラシロキサン、テトラキ
ス(ジメチルビニルシロキシメチル)メタン、1.3,
5゜7.9−ペンタメチルシクロペンタシロキサン。
1.3,5,7.9−ペンタメトキシ−1,3゜5.7
.9−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、1,3,
5.7.9−ペンタインブトキシ−1,3,5,7,9
−ペンタメチルシクロペンタシロキサン等があげられる
。本発明では、これらに限足されるのではな(、−8i
H,−81−OH,−8i−SH、Si−OR、Si−
SRの結合を有する構造ならば、本発明の目的を達成出
来ることは言うまでもない。ま・た、本発明において、
使用するシラン化合物同志が無機コート膜との反厄前も
しくは反応後結合し、ポリマー化すること力1有り得る
か、本発明の目的と干るところの重合度を得るように調
整すればなんら問題はない。また、目的に応じて1a1
以上のシラン化合物を混合して用いても良い。
.9−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、1,3,
5.7.9−ペンタインブトキシ−1,3,5,7,9
−ペンタメチルシクロペンタシロキサン等があげられる
。本発明では、これらに限足されるのではな(、−8i
H,−81−OH,−8i−SH、Si−OR、Si−
SRの結合を有する構造ならば、本発明の目的を達成出
来ることは言うまでもない。ま・た、本発明において、
使用するシラン化合物同志が無機コート膜との反厄前も
しくは反応後結合し、ポリマー化すること力1有り得る
か、本発明の目的と干るところの重合度を得るように調
整すればなんら問題はない。また、目的に応じて1a1
以上のシラン化合物を混合して用いても良い。
本発明において、疎水性の基を有するシラン化合物を用
いることにより、水によるヤケの防止、膜の耐久性の向
上、水による密着性の低下防止及びm擦係数の低下によ
り耐摩耗性の向上などのメリットか得られる。
いることにより、水によるヤケの防止、膜の耐久性の向
上、水による密着性の低下防止及びm擦係数の低下によ
り耐摩耗性の向上などのメリットか得られる。
さらに、後処理によって親水性の基に変換されるような
置換基を有するシラン化合物、あるいは後処理により親
水性の基に変換されるような置換基と疎水基を合わせ持
ったシラン化合物全無機コート膜に反応させたのち、後
処理で親水性処理を行なえば、コート膜表面に親水性あ
るいは親水性と疎水性を合わせもつ様な機能を持たせる
ことも可能である。後処理として、別の吻51ヲ無機コ
ート膜と反応したシラン化合物に反応させてもよい。
置換基を有するシラン化合物、あるいは後処理により親
水性の基に変換されるような置換基と疎水基を合わせ持
ったシラン化合物全無機コート膜に反応させたのち、後
処理で親水性処理を行なえば、コート膜表面に親水性あ
るいは親水性と疎水性を合わせもつ様な機能を持たせる
ことも可能である。後処理として、別の吻51ヲ無機コ
ート膜と反応したシラン化合物に反応させてもよい。
後処理により親水性を最表面に持たせ、疎水性の基力3
コート膜と親水性基の間に配置していれば、ぬれ性はよ
くても水分子を透過させないなどの複会機能をコート膜
に持たせること力1できる。このように後処理により相
反する機能を同時にコート嗅に持之せることか可能であ
る。
コート膜と親水性基の間に配置していれば、ぬれ性はよ
くても水分子を透過させないなどの複会機能をコート膜
に持たせること力1できる。このように後処理により相
反する機能を同時にコート嗅に持之せることか可能であ
る。
シラン化合物を無機コート膜に反応させるにはDip法
、スピンナー法、スプレー法等によ膜表面にシラン化合
物を塗布し反応させる方法、または、真空雰囲気中ある
いは大気中でシラン化合物のガスを無機コート膜と反応
させる方法など用いることができる。前者の場合、塗布
中の雰囲気、例えば、湿度、温度をコートロールするこ
とにより反応速度が制御出来、また浸漬時間、液温、シ
ラン化合物の濃度を調節することにより所望の処理膜を
得ることが出来る。さらに、塗布後、コート膜の特性に
影響を与えない程度の刀り熱や光照射を行うことにより
反応を促進すればより効果的である。後者の場合、真空
槽内で無機コート膜を形成後、シラン化合物のガスを導
入し1反応させてもよい。また、無機コート膜形成後、
アルゴンや酸素等のプラズマは雰囲気中にシラン化合物
のガスを導入し、反応性蒸着1反応性イオンブレーティ
ング等を行うことも可能である。
、スピンナー法、スプレー法等によ膜表面にシラン化合
物を塗布し反応させる方法、または、真空雰囲気中ある
いは大気中でシラン化合物のガスを無機コート膜と反応
させる方法など用いることができる。前者の場合、塗布
中の雰囲気、例えば、湿度、温度をコートロールするこ
とにより反応速度が制御出来、また浸漬時間、液温、シ
ラン化合物の濃度を調節することにより所望の処理膜を
得ることが出来る。さらに、塗布後、コート膜の特性に
影響を与えない程度の刀り熱や光照射を行うことにより
反応を促進すればより効果的である。後者の場合、真空
槽内で無機コート膜を形成後、シラン化合物のガスを導
入し1反応させてもよい。また、無機コート膜形成後、
アルゴンや酸素等のプラズマは雰囲気中にシラン化合物
のガスを導入し、反応性蒸着1反応性イオンブレーティ
ング等を行うことも可能である。
シラン化合物との反応性を高める為に前処理として、無
機コート膜表面を、洗浄、薬品処理、プラズマ処理を行
うことによシ効果的である。
機コート膜表面を、洗浄、薬品処理、プラズマ処理を行
うことによシ効果的である。
反応に用いるシラン化合物は、単体もしくは混合で用い
てもよく、溶媒で希釈したシ、酸や塩基で前処理して使
用することも可能である。
てもよく、溶媒で希釈したシ、酸や塩基で前処理して使
用することも可能である。
反応が終了後、大気中の水分 と反応したシラン化合物
、コート膜表面との反応に寄与できなかったシラン化合
物を洗浄によシ洗い流すことにより、処理前の反射防止
特性などの外観が変わらない処理を行うことかできる。
、コート膜表面との反応に寄与できなかったシラン化合
物を洗浄によシ洗い流すことにより、処理前の反射防止
特性などの外観が変わらない処理を行うことかできる。
今tで述べた処理は、8102 、 Atto、 、
ZrO,。
ZrO,。
Ta、○s e ’rio、 @ OeO@ 等の無
機コート膜表面へ有効である。
機コート膜表面へ有効である。
以下、実施1例に基づき本発明の詳細な説明する。。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例1〕
ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)製樹
脂からなる合成樹脂製レンズをアセトンで洗浄し、その
後真空蒸着法によシ基板温度50℃で、樹脂表面に反射
防止処理を行なった。膜構成はレンズ側からSin、層
かλ” * Zr19.層と810、層の合計膜厚がλ
/a 、Zr01層がλ/4.最上層の8101層かλ
/4とした(ここでλ=520nm)。次にこのレンズ
をイソプロピルアルコールで洗浄し、十分乾燥させた後
、ジメチルジェトキシシラン50?とインプロピルアル
コール450を及びα05N塩酸209を混合した液温
10℃の溶液に3分間浸漬した。浸漬後、湿度75%。
脂からなる合成樹脂製レンズをアセトンで洗浄し、その
後真空蒸着法によシ基板温度50℃で、樹脂表面に反射
防止処理を行なった。膜構成はレンズ側からSin、層
かλ” * Zr19.層と810、層の合計膜厚がλ
/a 、Zr01層がλ/4.最上層の8101層かλ
/4とした(ここでλ=520nm)。次にこのレンズ
をイソプロピルアルコールで洗浄し、十分乾燥させた後
、ジメチルジェトキシシラン50?とインプロピルアル
コール450を及びα05N塩酸209を混合した液温
10℃の溶液に3分間浸漬した。浸漬後、湿度75%。
1111層度50℃の雰囲気中で15分間放置し、その
後アセトンによシ洗浄金行なった。
後アセトンによシ洗浄金行なった。
洗浄後のレンズの外観、反射防止の特性に大きな変化は
みられなかった。
みられなかった。
得られたコート膜の評価方法は以下に示す方法を用いた
。
。
■ ヤケ性:水道水をコート膜表面にたらし、乾燥させ
た後、布で残留物を払き取った。
た後、布で残留物を払き取った。
A:完全に払きとれる
Bニ一部残留物が残る
C:残留物にほとんど残る
■ 耐摩耗性:コート膜表面を布(木綿)で1麺の荷重
をかけ1000回摩擦し念。傷のついた度合を以下の3
段階に分けて評価した。
をかけ1000回摩擦し念。傷のついた度合を以下の3
段階に分けて評価した。
A:全く傷かつかない
B:1〜10本、細かい偏力1つく
C:細かく無数に傷がつく
■ 密着性:!17℃の純水に1週間浸漬した後コート
膜の密着性ft調べた。J工El−D−0202に臨じ
てクロスカットテープ試験によって行った。即ち、ナイ
フを用い、基板表面に1目間隔に切フ目を入れ、1cl
iのマス目を形成させる。次にその上にセロファン粘着
テープ(日東化学1rセロテープ”)を強くおしつけた
後、表面から90°方向へ、急に引つばシ剥離したのち
、コート被膜の残っているマス目をもって密着性の指標
とした。
膜の密着性ft調べた。J工El−D−0202に臨じ
てクロスカットテープ試験によって行った。即ち、ナイ
フを用い、基板表面に1目間隔に切フ目を入れ、1cl
iのマス目を形成させる。次にその上にセロファン粘着
テープ(日東化学1rセロテープ”)を強くおしつけた
後、表面から90°方向へ、急に引つばシ剥離したのち
、コート被膜の残っているマス目をもって密着性の指標
とした。
■ 接触角:接触角計(協和科学■製0A−D型)を用
いて液滴法により測定した。
いて液滴法により測定した。
■ 防曇性:試料を湿度20幅、@度5℃の雰囲気中に
30分間放置後、湿度80%、温度30℃の雰囲気に取
り出し、曇シの消失する時間を測定した。
30分間放置後、湿度80%、温度30℃の雰囲気に取
り出し、曇シの消失する時間を測定した。
■ 防塵性:スタティックオ不ストメーター(宍戸商会
製〕による帯電圧の半減期を測定した。(測定条件:温
度25℃、相対湿度60%) 〔実施例2〕 実施例1で、シラン化合物による処理をする前のレンズ
を用い、以下に示す方法で処理を行った〇ジフェニルシ
ラノ100fとテトラヒドロフラン300tとを混合し
た液温20℃の溶液に30秒浸漬した後、ジエチルアミ
ン蒸気中に1分間放置し、水洗した。得られたコート膜
の評価方法は実施例1に示した評価方法に従って行った
。
製〕による帯電圧の半減期を測定した。(測定条件:温
度25℃、相対湿度60%) 〔実施例2〕 実施例1で、シラン化合物による処理をする前のレンズ
を用い、以下に示す方法で処理を行った〇ジフェニルシ
ラノ100fとテトラヒドロフラン300tとを混合し
た液温20℃の溶液に30秒浸漬した後、ジエチルアミ
ン蒸気中に1分間放置し、水洗した。得られたコート膜
の評価方法は実施例1に示した評価方法に従って行った
。
〔実施例−3〕
クラウンガラスの表面に、屈折率1.60の酸化アルミ
ニウムを1μ常の厚さにアルコンプラズマ中、イオンブ
レーティングで設けた。このガラスを、1,1,3,3
,5.5−へキサメチルトリスシロキサン10f、エチ
ルアルコール5f、ジメチルホルムアミド2002を混
合した液温10℃の溶液に1分間浸漬し、その後、湿度
80%。
ニウムを1μ常の厚さにアルコンプラズマ中、イオンブ
レーティングで設けた。このガラスを、1,1,3,3
,5.5−へキサメチルトリスシロキサン10f、エチ
ルアルコール5f、ジメチルホルムアミド2002を混
合した液温10℃の溶液に1分間浸漬し、その後、湿度
80%。
温度60℃の雰囲気中に5分間放置した。その後、アセ
トンによる洗浄を行った。得られたコート膜の評価方法
は実施例1に従って行った。
トンによる洗浄を行った。得られたコート膜の評価方法
は実施例1に従って行った。
〔実施例4]
実施例1で最上層に8103層を形成後、Sin。
表面をアルコンプラズマで1分間処理を行なった後に、
トリメチルシラノールをS CC/―の割合で真空槽内
へ2分間導入した。その時の表面温度は60℃であった
。その後レンズを大気中に取シ出した。外観は、処理前
とほとんど変化がなかつfC−。
トリメチルシラノールをS CC/―の割合で真空槽内
へ2分間導入した。その時の表面温度は60℃であった
。その後レンズを大気中に取シ出した。外観は、処理前
とほとんど変化がなかつfC−。
得られたコート膜の評価方法は実施例1に従って行った
◇ 〔実施例5〕 イングロビルアルコール板で洗浄されたアクリル板を、
以下に述べるコーテイング液で、ディッピング法によシ
、液温5℃、引き上げ速度20m/―の条件で塗布した
後、熱風乾燥炉中で70℃で5時間加熱硬化し、さらに
、殺菌ランプ(■東芝製GL−10)とアクリル板との
距離を10譚にし、50秒間光照射を行った。
◇ 〔実施例5〕 イングロビルアルコール板で洗浄されたアクリル板を、
以下に述べるコーテイング液で、ディッピング法によシ
、液温5℃、引き上げ速度20m/―の条件で塗布した
後、熱風乾燥炉中で70℃で5時間加熱硬化し、さらに
、殺菌ランプ(■東芝製GL−10)とアクリル板との
距離を10譚にし、50秒間光照射を行った。
コーテイング液は次の様にして作成した。
攪拌装置を備えた反応容器中にエタノール200f、エ
タノール分散コロイダルシリカ180t(触媒化成工業
■製”オスカル1232’″)、γ−メタクリロオキシ
ブロビルトリメトキシシラノ45?、γ−グリシドキシ
プロビルトリメトキシシラノ302.フローコントロー
ル剤159.フルミニウムアセチルアセト不−トst及
び[105N硝酸402を加え、室温で2時間攪拌をし
、コーテイング液とした。
タノール分散コロイダルシリカ180t(触媒化成工業
■製”オスカル1232’″)、γ−メタクリロオキシ
ブロビルトリメトキシシラノ45?、γ−グリシドキシ
プロビルトリメトキシシラノ302.フローコントロー
ル剤159.フルミニウムアセチルアセト不−トst及
び[105N硝酸402を加え、室温で2時間攪拌をし
、コーテイング液とした。
上記の様にして得られたアクリル板に、実施例1と同様
に反射防止処理を行ない、その後、ジメトキシメチルー
5.5.5−トリフルオロプロピルシラン15r、3.
!+、3−hリフルオログロビルトリメトキシシラン5
t、メチルセロンルプ2401及び(105規定塩酸1
01を混合した液温10℃の溶液に、2分間浸漬し、そ
の後、湿度7n%、@要40℃の雰囲気中に10分間放
置した。その後、水洗及びアセトンによる洗浄を行つ之
。洗浄上シの外観に特に変化はみられなかった。
に反射防止処理を行ない、その後、ジメトキシメチルー
5.5.5−トリフルオロプロピルシラン15r、3.
!+、3−hリフルオログロビルトリメトキシシラン5
t、メチルセロンルプ2401及び(105規定塩酸1
01を混合した液温10℃の溶液に、2分間浸漬し、そ
の後、湿度7n%、@要40℃の雰囲気中に10分間放
置した。その後、水洗及びアセトンによる洗浄を行つ之
。洗浄上シの外観に特に変化はみられなかった。
得られたコート膜の評価方法は実施例1に従って行った
。
。
〔実施例6〕
実施例5で得られたシラン化合物の処理前のレンズ(反
射防止膜有り〕を塩化メチレンで洗浄し、ジェトキシメ
チルとニルシラ750t、エタノール5(1’、cL1
規定酢酸8fを混合した溶液を。
射防止膜有り〕を塩化メチレンで洗浄し、ジェトキシメ
チルとニルシラ750t、エタノール5(1’、cL1
規定酢酸8fを混合した溶液を。
スプレーでアクリル板に吹き付け、その後、湿度70%
0m度6Ω19℃の雰囲気中で2分間放置し。
0m度6Ω19℃の雰囲気中で2分間放置し。
水洗を行った。さらに、液温50℃の5規定硫酸に2時
間浸漬し、その後、水洗し、アセトンで洗浄を行った。
間浸漬し、その後、水洗し、アセトンで洗浄を行った。
洗浄上夛の外観に特に変化はみられなかった。得られた
コート膜の評価方法は、実施例1に従って行った。
コート膜の評価方法は、実施例1に従って行った。
〔比較例1〕
実施例1で得られたシラン化合物による処理をする前の
反射防止膜つきの合成樹脂製レンズを比較例1とした。
反射防止膜つきの合成樹脂製レンズを比較例1とした。
〔比較例2〕
実施例3で得られたシラン化合物による処理をする前の
酸化アルミニウム膜つきのガラスを比較例2とした。
酸化アルミニウム膜つきのガラスを比較例2とした。
〔比較例5〕
実施11/I15で得られたシラン化合物による処理を
する前の反射防止膜つきのアクリル板を比較例3とした
@ 上記、実施例1〜6.比較例1〜3の評価結果は1とめ
て表1に示した。
する前の反射防止膜つきのアクリル板を比較例3とした
@ 上記、実施例1〜6.比較例1〜3の評価結果は1とめ
て表1に示した。
無機コート膜に目的に応じた機能を有するシラン化合物
を灰石させたことにより、無機コート膜表面の物性か変
化し、コート膜の特性を著しく変化させることができる
。疎水性を表面に持たせれば、水やその中に含まれる不
純物とコート膜表面の結合性が弱まり、ヤケ現象の防止
につながる。
を灰石させたことにより、無機コート膜表面の物性か変
化し、コート膜の特性を著しく変化させることができる
。疎水性を表面に持たせれば、水やその中に含まれる不
純物とコート膜表面の結合性が弱まり、ヤケ現象の防止
につながる。
また、疎水性である為に、水に対し表面がフィルターの
役目をはたし、水分によるコート膜全体の耐久性劣化を
防ぐことかできる。さらに表面の摩擦係数が低下するこ
とにより、付着したゴミなどのすべりがよくな夛耐摩耗
性か白土する。さらに水滴か、容易に膜から落ちるため
、雨の日などに便利である。
役目をはたし、水分によるコート膜全体の耐久性劣化を
防ぐことかできる。さらに表面の摩擦係数が低下するこ
とにより、付着したゴミなどのすべりがよくな夛耐摩耗
性か白土する。さらに水滴か、容易に膜から落ちるため
、雨の日などに便利である。
また、親水性を表面に持たした場会、水の接触角が低下
することにより、細かい水(ff+ii発生しにくくな
りう1の乱反射による曇シの現象か防げる。
することにより、細かい水(ff+ii発生しにくくな
りう1の乱反射による曇シの現象か防げる。
さらに、表面のTIL気伝導伝導度ることにより、表面
の帯電防止となり、コート膜表面にホコリやゴミ等か付
着しにくくなる。
の帯電防止となり、コート膜表面にホコリやゴミ等か付
着しにくくなる。
本発明は、このような効果を有するため1合成樹脂製及
びガラス製眼鏡レンズ、カメラレンズ。
びガラス製眼鏡レンズ、カメラレンズ。
表示用パネル、時計用ガラス、窓ガラス等、無機コート
膜を使用し友製造に適用することか可能である。
膜を使用し友製造に適用することか可能である。
表1
a)、b)は共に時間示し、単位は秒
以 上
Claims (1)
- 無機コート膜に、Si−H、Si−OH、Si−SH、
Si−OR、Si−SR(Rは有機基)から選ばれる結
合を少くとも1種以上有する構造のシラン化合物を反応
させたことを特徴とする無機コート膜の表面改質法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61021382A JP2590310B2 (ja) | 1986-02-03 | 1986-02-03 | 無機コ−ト膜を有する光学物品の製造方法 |
FR8700257A FR2598520B1 (fr) | 1986-01-21 | 1987-01-13 | Pellicule protectrice minerale |
DE19873701654 DE3701654A1 (de) | 1986-01-21 | 1987-01-21 | Verfahren zur behandlung anorganischer ueberzuege |
US08/183,105 US5622784A (en) | 1986-01-21 | 1994-01-18 | Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating |
US08/324,066 US5783299A (en) | 1986-01-21 | 1994-10-14 | Polarizer plate with anti-stain layer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61021382A JP2590310B2 (ja) | 1986-02-03 | 1986-02-03 | 無機コ−ト膜を有する光学物品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62178903A true JPS62178903A (ja) | 1987-08-06 |
JP2590310B2 JP2590310B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=12053537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61021382A Expired - Lifetime JP2590310B2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-02-03 | 無機コ−ト膜を有する光学物品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2590310B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6486101A (en) * | 1987-06-18 | 1989-03-30 | Toray Industries | Production of antireflecting article |
JPH0688902A (ja) * | 1993-02-03 | 1994-03-29 | Seiko Epson Corp | 無機コート膜を有する光学物品及びその表面改質方法 |
JPH0798414A (ja) * | 1993-04-15 | 1995-04-11 | Seiko Epson Corp | 偏光板および偏光板の製造方法 |
US5759643A (en) * | 1987-01-16 | 1998-06-02 | Seiko Epson Corporation | Polarizing plate and method of production |
US5783299A (en) * | 1986-01-21 | 1998-07-21 | Seiko Epson Corporation | Polarizer plate with anti-stain layer |
JP2006111740A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Jsr Corp | 表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、半導体装置およびその製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS511387A (ja) * | 1974-05-23 | 1976-01-08 | Canon Kk | |
JPS58172245A (ja) * | 1982-04-02 | 1983-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスの表面処理剤 |
JPS61130902A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-18 | Asahi Glass Co Ltd | 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ |
-
1986
- 1986-02-03 JP JP61021382A patent/JP2590310B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS511387A (ja) * | 1974-05-23 | 1976-01-08 | Canon Kk | |
JPS58172245A (ja) * | 1982-04-02 | 1983-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスの表面処理剤 |
JPS61130902A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-18 | Asahi Glass Co Ltd | 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5783299A (en) * | 1986-01-21 | 1998-07-21 | Seiko Epson Corporation | Polarizer plate with anti-stain layer |
US5759643A (en) * | 1987-01-16 | 1998-06-02 | Seiko Epson Corporation | Polarizing plate and method of production |
JPS6486101A (en) * | 1987-06-18 | 1989-03-30 | Toray Industries | Production of antireflecting article |
JPH0461325B2 (ja) * | 1987-06-18 | 1992-09-30 | Toray Industries | |
JPH0688902A (ja) * | 1993-02-03 | 1994-03-29 | Seiko Epson Corp | 無機コート膜を有する光学物品及びその表面改質方法 |
JPH0798414A (ja) * | 1993-04-15 | 1995-04-11 | Seiko Epson Corp | 偏光板および偏光板の製造方法 |
JP2006111740A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Jsr Corp | 表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、半導体装置およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2590310B2 (ja) | 1997-03-12 |
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