JPH011527A - 反射防止性物品およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、耐摩耗性、可染性、耐衝撃性、耐薬品性、可
撓性、耐候性などに優れた反射防止性を有する光学物品
に関するものであり、とくに光学用素子、たとえば眼鏡
用レンズ、カメラ用レンズなどの光学用レンズなど、プ
ラスチック製反射防止性物品およびその製造方法に関す
るものである。

［従来の技術］ 透明材料を通して物を見る場合、反射光が強く反射像が
明瞭であることは煩わしく、例えば、眼鏡用レンズでは
ゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像を生じて眼に不
快感を与えたりする。また、ルッキンググラスなどでは
ガラス面上の反射した光のために内容物が判然としない
問題が生ずる。

また、眼鏡レンズなど光学物品へのゴミやホコリの付着
は、多くの場合静電気によるものであり、ただ拭くだけ
では容易に除去できないという問題もめった。

従来より反射防止に関しては、すでに多くの提案がなさ
れ、また実用化されている。特に液状組成物を透明基材
に塗布し単層膜で反射防止効果を得ているものとして、
ＵＳＰ　１，３６１，５９８号、およびその伯として、
特開昭５８−１６７４４８号公報、特開昭５８−２１１
７（１１号公報、および特開昭５８−４３６（１１号公
報、特開昭５９−４９５’（１１号公報などがある。

［発明が解決しようとする問題点］ 特開昭５８−１６７４４８号公報および特開昭５８−２
１１７（１１号公報は、基材がガラスであるため染色出
来ないものであった。また反則防止物品の軽量化、可撓
性、易加工性などの要求を満足するためには、プラスチ
ック製基材の導入が必要である。

一方、プラスチック製基材へ適用した例として、ＵＳＰ
　４，５９０，１１７号、およびその他として、特開昭
５８−４３６（１１号公報、特開昭５９−４９５（１１
号公報などがあるが、いずれも２層以上の復層膜からな
っており、生産性、再現性、面内均一性などに問題があ
った。

また、フッ素含有ポリシロキサン系薄膜を形成させて、
反射防止加工することもすでに知られている（特開昭６
１−４０８４５号公報）。

一方、ゴミやホコリの付着を防止する目的から最近、界
面活性剤などを用いた、塗イ５用帯電防止剤が市販され
ているが、−時的な効用しかない。

また、プラスチック成型品の訓電性に関しては、これま
で、各種の方法が知られており、たとえば、特公昭５５
−１５４９４号公報、特公昭６０−２１６２８号公報な
どに提案されている。

本発明は、耐摩耗性、可染性、耐衝撃性、耐薬品性、可
撓性、耐候性などに優れた反射防止性を有する光学物品
を提供するものである。

さらには、これらの特性を損なうことなく、帯電防止性
に優れ、ゴミやホコリなどの付着を防止する反射防止性
を有する光学物品を提供するものである。

さらに本発明は、高屈折率のハードコート被膜を有する
プラスチック製透明基材の表面に、低屈折率でかつフッ
素を含有する有機ポリシロキサン系化合物の薄膜を設け
ることにより、耐摩耗ｊ生、可染性、耐衝撃性などに優
れた反射防止性物品を提供する。

また塗膜表面を活性化ガス処理することにより、帯電防
止機能を付与することを目的とする。

本発明は、塗わ１の塗布により反射防止性物品を製造す
る発明を提供するもので、特にプラスチックレンズなど
に好ましい性能を付与することを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成するため本発明は下記の構成からなる。

「（１）屈折率が１．５２以上のハードコート被膜を有
するプラスチック製透明基材の表面に膜厚が１０〜５０
０ｎｍ、屈折率が該被膜より少なくとも０．０２以上低
いフッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜を有することを
特徴とする反射防止性物品。

（２）　　屈折率が１．５２以上のハードコート被膜を
有するプラスチック製透明基材の表面にフッ素含有有機
ケイ素化合物および／またはその加水分解物を含む液状
コーティング組成物を塗布し、さらに加熱によって屈折
率が該被膜よりも少なくとも０．０２以上低い硬化被膜
を形成せしめることを特徴とする反射防止性物品の製造
方法。」本発明におけるプラスチック製透明基材として
は、各種プラスチック、例えばアクリル樹脂、ポリスチ
レン、ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスア
リルカーポネ−１〜ポリマ、（ハロゲン化）ビスフェノ
ールへのジ（メタ）アクリレートポリマおよびその共重
合体、（ハロゲン化）ビスフェノールへのウレタン変性
（メタ）アクリレートポリマ、およびその共重合体など
が好ましく使用される。

さらに本発明に使用されるハードコート被膜は、屈折率
が１．５２以上であることが必要であり、これ以下では
実質的に反射防止効果の発現を期待することができない
。反射防止性をより一段と高めるためには、１．５４以
上の屈折率を有するものがさらに好ましく使用される。

また、本発明で言うところのハードコート被膜とは、Ｊ
ＩＳ　　Ｋ５４００に定められた鉛筆ｌＮ！ｌｉ度で４
日以上の硬度を有するものであり、かかる表面硬度を有
する物でおれば特に限定されるものではない。

このような屈折率が１．５２以上で鉛筆硬度が４Ｈ以上
の透明膜でおれば、何ら限定されるものではないが、に
り高い表面硬度やフッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜
との接着性向上、さらには容易に高い屈折率を付与でき
るとの観点から屈折率の高い無機酸化物微粒子を樹脂被
膜中に含有じしめてなるものが好ましく適用される。

かかる無機酸化物微粒子としては、透明性を低下させな
いという意味から平均粒子径が約１〜３ＱＱｎｍ、さら
に好ましくは約５〜２００ｎｍのものが使用される。

粒子径のあまり小さいものは作製が困難であり、コスト
が高くて実用的でなく、また余り大きなものは一般に透
明感が低下するので上記範囲内のものが主として用いら
れる。

これらの無機酸化物微粒子としては、酸化タンタル、酸
化アルミニウム、酸化チタニウム、酸化ジルコニウム、
酸化スズ、酸化アンチモンの微粒子状物から選ばれる１
種以上が好ましく用いられる。即ら、これらを含む被膜
は高い屈折率を与えるという他に透明性と表面硬度に優
れているからである。中でも酸化タンタル、酸化ジルコ
ニウム、酸化チタニウム、酸化アンチモンが安定性など
の点で好ましい。

またこれらの無機酸化物微粒子は単独のみならず、２種
以上の併用も可能である。さらには前記の酸化物にはケ
イ素などを含む混合酸化物であってもよい。

かかる無機酸化物微粒子は該ハードコート被膜中に１０
〜７５重量％の範囲内で含まれることが好ましい。即ち
、１０重足％未満ではその添加効果がほとんど認められ
ず、また７５単量％を越えるものは塗膜のクラック発生
などの問題が生ずるからである。

また、該ハードコート被膜の膜厚は適用プラスチック製
透明基材によって異なり、鉛筆硬度が４１−１以上とな
るように設計されるべきものであるが、通常０．５μｍ
以上、２０μｍ以下に設計されることが好ましい。すな
わち、０．５μｍ未満では十分な硬度が得難いばかりか
、バートコ−１・被膜自身に十分な染色性を持たせるこ
とが困難となる。

一方、２０μｍを越える場合には均一塗布が困難である
ばかりでなく、耐衝撃性を低下させるなどの問題も発生
してくる。

本発明の反則防止性とは、ゴーストおよびフレアーの除
去という観点からは反射防止効果を必要とする面におけ
る反射率が２％以下、たとえば眼鏡レンズなどのような
両面の反射防止が必要な場合には両面における反射率の
合計が５．４％以下のものを示し、全光線透過率で表わ
せば９４．６％以上のものをいう。

本発明は前記ハードコート被膜からなるプラスチック製
透明基材の表面に膜厚が１０〜５００ｎｍ、屈折率が該
ハードコート被膜より少なくとも０゜０２以上低いフッ
素含有有機ポリシロキサン系薄膜を設けてなるものであ
るが、ここでフッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜とは
、下記一般式（Ｉ）で表わされるフッ素含有有機ケイ素
化合物および／またはその加水分解物を被覆、硬化させ
て得られる透明膜である。

（ＲＱ　）　Ｓ　ｉ　Ｘａ　Ｙ３−ａ　　　　　　（Ｉ
　）（ここで、Ｒ１は炭素数１〜２０個のフッ素含有ア
ルキル基であってエーテル結合あるいはエステル結合を
１ｇ以上含んでいてもよい。Ｑは二価の有機基、Ｘは低
級アルキル基、Ｙはハロゲン、アルコキシ基、又はＲＣ
ＯＯ−Ｍ　（ただし、Ｒは水素原子又は低級アルキル基
）、ａはＯまたは１の整数を示す。） これらのフッ素含有有機化合物の具体的代表例としては
、３．３．３−　トリフロロプロピルトリアルコキシシ
ラン、３．３．３−トリフロロプロピルメチルジアルコ
キシシラン、３−トリフロロアセトキシプロピルトリア
ルコキシシランなどがその例である。

これらのフッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜において
、前記一般式（１）に由来する成分は１０ｆｆｌｆｆｉ
％以上含まれることが低屈折率化に必要で必る。さらに
前記ハードコート被膜が比較的屈折率が低い場合には、
１５重量％以以上法れることが好ましい。

また薄膜の膜厚は１０〜５００ｎｍ、好ましくは５０〜
３００ｎｍが適当であり、これより薄くシては反則防止
効果、さらには表面硬度が充分に得られない。またこれ
以上では反射防止性の効果を上げることが出来ない。

また上記フッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜およびハ
ードコート被膜からなる複合膜全体の耐摩耗性、耐すり
信性、耐衝撃性、耐薬品性、可撓性、耐光性、耐候性な
どを向上させる目的で１種または２種以上の他の有機ケ
イ素化合物を使用または併用することが好ましいもので
ある。

代表的な有機ケイ素化合物および／またはその加水分解
物を式（ＩＩ）に示す。

Ｒ３ｂＲ４ｏＳｉ　Ｚ４−（ｂ＋ｃ）　　　＜ｎ＞（こ
こで、Ｒ３、Ｒ４は各々アルキル基、アルケニル基、ア
リール基またはハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ
基、アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基ある
いはシアノ基を有する炭化水素基、Ｚは加水分解性基で
あり、ｂおよびＣはＯまたは１である。〉 これらの有機ケイ素化合物の具体的な代表例としては、
メチルシリケート、ブチルシリケート、ロープロピルシ
リケート、ｉ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケ
ート、５ｅｃ−ブチルシリケートおよびｔ−ブチルシリ
ケートなどのテトラアルコキシシラン類、およびその加
水分解物さらにはメチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン
、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエト
キシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン
、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエ１〜キシシラン、γ−メルカプトプロピル プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル
）−γーアミノプロピルトリメトキシシラン、β−シア
ノエチルトリエトキシシラン、メチルトリアセトキシシ
ラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチル
トリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシ
シラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−
グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシド
キシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチ
ルトリメトキシシラン、Ｂ−グリシドキシエチルトリエ
トキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
、β−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、β−
グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γーグリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γーグリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γーグリシドキシプロピ
ルトリプロボキシシラン、γーグリシドキシプロピルト
リブトキシシラン、γーグリシドキシプロピルトリメト
キシエトキシシラン、γーグリシドキシプロピルトリフ
エノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシ
シラン、αーグリシドキシブヂルトリエトキシシラン、
β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリ
シドキシブチルトリエトキシシラン、Ｔ−グリシドキシ
ブチルトリメトキシシラン、γーグリシドキシブチルト
リエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキ
シシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン
、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメト
キシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチ
ルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、
β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエ
トキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル
）エチルトリブトキシシラン、β−（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）エチルトリメトキシエトキシシラン、
β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）■チルトリフ
エノキシシラン、γ−（３，４−■ボキシシクロｌ＼キ
シル）プロピルトリメトキシシラン、γ−（３。

４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシ
ラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチル
トリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキ
シシラン、トリアジルオキシシランまたはトリフエノキ
シシラン類またはその加水分解物およびジメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジェトキシシラン、ジメチ
ルジメトキシシラン、フェニルメチルジェトキシシラン
、γークロロプロピルメチルジメトキシシラン、γータ
ロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセ
トキシシラン、γーメタクリルオキシプロピルメチルジ
メトキシシラン、γーメタクリルオキシプロピルメチル
ジェトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジェトキ
シシランアミノプロピルメチルジメトキシシラン、γー
アミノプロピルメチルジェトキシシラン、メチルビニル
ジメトキシシラン、メチルビニルジェトキシシラン、グ
リシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキ
シメチルメチルジェトキシシラン、α−グリシドキシエ
チルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチル
メチルジェトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチ
ルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジ
ェトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジェト
キシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジェトキシ
シラン、γーグリシドキシプロピルメチルジメ１〜キシ
シラン、γーグリシドキシプロピルメチルジェトキシシ
ラン、γーグリシドキシプロビルメチルジプ１ボキシシ
ラン、γーグリシドキシプロピルメチルジブトキシシラ
ン、γーグリシドキシプロピルメチルジメトキシエトギ
シシラン、γーグリシドキシプロビルメチルジフェノキ
シシラン、γーグリシドキシプロピルメチルジアセトキ
シシラン、γーグリシドキシプロピルエチルジメトキシ
シラン、γーグリシドキシブロピルエヂルジエトキシシ
ラン、γーグリシドキシプロピルビニルジメトキシシラ
ン、γーグリシドキシプロピルビニルジェトキシシラン
、γーグリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン
、γーグリシドキシプロピルフエニルジエトキシシラン
などジアルコキシシラン、ジフェノキシシランまたはジ
アシルオキシシラン類またはその加水分解物がその例で
ある。

とくに染色性付与の目的にはエポキシ基、グリシドキシ
基を含む有機ケイ素化合物の使用が好適である。

前記のフッ素含有有機ケイ素化合物、必るいはこれらの
有機ケイ素化合物との混合物はキュア温度を下げ、硬化
をより進行させるためには加水分解して使用することが
好ましい。

加水分解は純水または塩酸、酢酸、あるいは硫酸などの
酸性水溶液を添加、攪拌することによって製造される。

さらに純水、あるいは酸性水溶液の添加量を調節するこ
とによって加水分解の度合をコントロールすることも容
易に可能で必る。加水分解に際しては、一般式（Ｉ）の
−Ｙ基と等モル以上、３倍モル以下の純水または酸性水
溶液の添加が硬化促進の点で特に好ましい。

加水分解に際しては、アルコール等が生成してくるので
、無溶媒で加水分解することが可能であるが、加水分解
をさらに均一に行なう目的で有機ケイ素化合物と溶媒を
混合した後、加水分解を行なうことも可能である。また
目的に応じて加水分解後のアルコール等を加熱および／
または減圧下に適当母除去して使用することも可能で必
るし、その後に適当な溶媒を添加することも可能である
。

これらの溶媒としてはアルコール、エステル、エーテル
、ケトン、ハロゲン化炭化水素あるいはトルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素などの溶媒が挙げられる。ま
たこれらの溶媒は必要に応じて２種以上の混合溶媒とし
て使用することも可能である。また、目的に応じて加水
分解反応を促進し、さらに予備縮合等の反応を進めるた
めに室温以上に加熱することも可能であるし、予備縮合
を抑えるために加水分解温度を室温以下に下げて行なう
ことも可能でおることは言うまでもない。

プラスチック製透明基材へのへードコート被膜塗（５お
よび該ハードコート被膜上へのフッ素含有有機ポリシロ
キサン系薄膜の塗布にあたっては、清浄化、接着性向上
、耐水性向上などを目的として基材に各種の前処理を施
すことが可能である。

とくに本発明に有効な手段としては活性化ガス処理、薬
品処理などが挙げられる。

かかる活性化ガス処理とは、常圧もしくは減圧下におい
て生成するイオン、電子あるいは励起された気体である
。これらの活性化ガスを生成する方法としては、例えば
コロナ放電、減圧下での直流、低周波、高周波あるいは
マイクロ波による高電圧放電などによるものでおる。特
に減圧下での高周波放電によって得られる低温プラズマ
による処理あるいはコロナ放電処理が好適である。

ここで使用されるガスは特に限定されるものではないが
、具体例としては酸素、窒素、水素、炭酸ガス、二酸化
硫黄、ヘリウム、ネスン、アルゴン、フレオン、水蒸気
、アンモニア、−Ｍ化炭素、−塩素、−酸化窒素、二酸
化窒素などが挙げられる。

これらは一種のみならず、二種以上混合しても使用可能
である。前記の中で好ましいガスとしては、酸素を含ん
だものが挙げられ、空気などの自然界に存在するもので
あってもよい。さらに好ましくは、純粋な酸素カスが接
着性向上に有効である。さらには同様の目的で前記処理
に際しては被処理基材の温度を上げることも可能である
。

一方、薬品処理の具体例としては苛性ソーダなどのアル
カリ処理、塩酸、硫酸、過マンガン酸カリウム、重クロ
ム酸カリウムなどの酸処理、芳香環を有する有機溶剤処
理などが挙げられる。

以上の前処理は連続的、または段階的に併用して実施す
ることも十分可能である。

本発明のハードコート被膜およびフッ素含有有機ボリシ
ロギサン系薄膜のコーティング組成物の硬化にあたって
は、硬化促進、低温硬化などを可能とする目的で各種の
硬化剤が併用可能でおる。

硬化剤としては各種エポキシ樹脂硬化剤、あるいは各種
有無ケイ素樹脂硬化剤などが使用される。

これらの硬化剤の具体的な例としては、各種の有機酸お
よびそれらの酸無水物、窒素含有有機化合物、各種金属
鉗化合物あるいは金属アルコキシド、さらにはアルカリ
金属の有機カルボン酸塩、炭酸塩などの各種塩が挙げら
れる。これらの硬化剤は２種以上混合して使用すること
も可能である。

これら硬化剤の中でも本発明の目的には、塗料の安定性
、コーテイング後の被膜の着色の有無などの点から、特
に下記に示すアルミニウムキレート化合物が有用である
。

ここでいうアルミニウムキレート化合物とは、例えば一
般式（Ｉ［Ｉ）で示されるアルミニウムキレート化合物
である。

Ａ　Ｉ　Ｘ、　Ｙ３−ｎ　　　　　　　（ＩＩＩ）ただ
し式（ＩＩＩ）中、ＸはＯＬ　（Ｌは低級アルキル基）
であり、Ｙは一般式Ｍ　’　ＣＯＣＨ２ＣＯＭ　”（Ｍ
ｌ、Ｍ２はいずれも低級アルキル基）で示される化合物
に由来する配位子および一般式Ｍ３ＣＯＣＨ２ＣＯＯＭ
４　（Ｍ３、Ｍ４はいずれも低級アルキル基）で示され
る化合物に由来する配位子から選ばれる少なくとも１つ
であり、ｎは０，１または２である。

本発明の硬化剤として特に有用な一般式（ＩＩＩ）Ａ　
Ｉ　Ｘ、　Ｙ３−ｎで示されるアルミニウムキレート化
合物としては、各種の化合物をあげ得るが、組成物への
溶解性、安定性、硬化触媒としての効果などの観点から
特に好ましいのは、アルミニウムアセチルアセトネート
、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチ
ルアセトネート、アルミニウムージ−ｎ−ブトキシド−
モノエチルアセトアセテ−１〜、アルミニウムージー１
ｓｏ−プロポキシド−モノメチルアセトアセテートなど
である。

これらは２種以上を混合して使用することも可能である
。

本発明のそれぞれのコーティング用組成物には、塗布時
におけるフローを向上させ、塗膜の平滑性を向上させて
塗膜表面の摩擦係数を低下させる目的で各種の界面活性
剤を使用することも可能であり、とくにジメヂルシロキ
サンとアルキレンオキシドとのブロックまたはグラフト
重合体、さらにはフッ素系界面活性剤などが有効である
。また染顔料や充填材を分散させたり、有機ポリマーを
溶解させて、塗膜を着色させたり、塗布性、基材との密
着性、物性向上などコーティング剤としての実用性を数
台させることも容易に可能でおる。

さらには耐候性を向上させる目的で紫外線吸収剤、また
耐熱劣化向上法として酸化防止剤を添加することも容易
に可能でおる。

さらには表面硬度をより一層向上させ、また帯電防止性
の向上などの目的で高分子量無水ケイ酸の水および／ま
たはアルコールなどの有機溶媒中にコロイド状分散体で
あるシリカゾルが好ましく使用される。特に、フッ素含
有有機ポリシロキサン系薄膜中への添加はカーボランダ
ム状の粉末による摩耗にも耐える表面硬度、すなわち、
耐摩耗性に優れた被膜を与えるという点で好ましく使用
されるものである。また染色性向上を目的として各種エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、ナイロン樹脂などが好まし
く使用される。

被膜の塗布にあたって作業性、被膜厚さ調節などから各
種溶剤により、コーティング組成物を希釈して用いられ
るが、希釈溶剤としては、水、アルコール、エステル、
エーテル、ケトン、ハロゲン化炭化水素などが挙げられ
る。

このようにして得られた反射防止物品に帯電防止性を付
与させる目的には、反則防止物品のフッ素含有有機ポリ
シロキサン系硬化被膜中のフッ素およびケイ素の重量比
を、ケイ素に対するフッ素の重量比（Ｆ／Ｓｉ）で０．
０２以上、１０以下の範囲にすべぎものであり、０．０
２未満では反射防止効果がなく、また、１０を越えると
硬化被膜の硬度が十分高いものとならない。

さらに、上記フッ素含有有機ポリシロキサン系硬化被膜
の最表面層において上記重量比が、該薄膜全体のＦ／５
ｉ７ｆｆｉ比の８０％未満にすることが必要である。８
０％を越えると！＋１１電性は得られない。

かかる、上記の構成からなる帯電防止性を有する反射防
止物品とする方法としては、フッ素含有有機ポリシロキ
サン系硬化被膜を前述の基材処理時に使用可能な活性化
ガス処理が適用可能である。

ただし、処理条件などに関しては要求される帯電防止性
などの観点から決められるべきものである。

一方、反射防止物品のフッ素含有有機ポリシロキサン系
硬化被膜上に、あらかじめ、Ｆ／Ｓｉの重量比を該硬化
被膜の８０％未満に設計したフッ素含有有機ポリシロキ
サン系硬化極薄膜を１寸着させることも有効である。こ
の極薄膜の膜厚は、’ｌｎｍ〜３Ｑｎｍが好ましい。１
止より薄いと塗膜形成が困難であり、３Ｑｎｍより厚い
と、反射防止効果が充分ではなくなる。

この極薄膜を付着させるには、反射防止物品のフッ素含
有有機ポリシロキサン系硬化被膜の薬品処理が有効であ
る。

かかる、薬品処理の具体例としては苛性ソーダなどのア
ルカリ処理、塩酸、硫酸、過マンガン酸カリウム、重ク
ロム酸カリウムなどの酸処理、芳香環を有する有機溶剤
処理などが挙げられる。

以上の前処理は、連続的、または、段階的に併用して実
施することも一ト分可能である。

なお、本発明におけるフッ素／ケイ素の重量比分析の測
定具体例としては、Ｘ線光電子分析法（ＥＳＣＡ）など
が用いられる。

本発明によって得られる反射防止物品は、耐久性のある
高硬度表面を有し、染色性を有すること、さらには制電
性を有することからサングラス、矯正用レンズはもとよ
り、カメラ、双眼鏡等のレンズなどに好ましく使用でき
る。本発明の特徴を明瞭にするために次に実施例を挙げ
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。

［実施例］ 実施例１、比較例１ （１）プラスチック基材の調製 テトラブロムビスフェノールＡのエチレ付加率サイド２
モル付加体に１モルのアクリル酸をエステル化により結
合させた水酸基含有化合物１モルに対し、ベキ１Ｊメチ
レンジイソシアネートを０゜９モル付加させた多官能ア
クリレートモノマーを含む七ノア７０部とスチレン３０
部をジイソプロピルパーオキサイドを重合開始剤として
キャスト手合した基材を得た。得られた樹脂の屈折率は
１゜６１であった。

（２）　　コーティング組成物の調製 （ａ　）　　γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン加水分解物の調製 回転子を備えた反応器中にγ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン９５．３ｇを仕込み、液温を１０’Ｃ
に保ち、マグネチツクスターラーで滑拌しながら０．（
１１規定塩酸水溶液２１．８ＣＩを徐々に滴下する。滴
下終了後冷却をやめてγ−グリシドキシプロビルトリメ
トキシシランの加水分解物を得た。

（ｂ）　　塗料の調製 首記シラン加水分解物にメタノール２１６ｇ、ジメチル
ホルムアミド２１６ｇ、フッ素系界面活外削０．５Ｑ、
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（シェル化学社製、商
品名エピコート８２７＞６７．５０を添加混合し、さら
にコロイド状五酸化アンヂモンゾル（日産化学社製、商
品名アンチモンゾルＡ−２５５０、平均粒子径６０ｍμ
＞２７０（１１アルミニウムアセデルアセトネート１３
゜５０を添加し、さらに遷移金属化合物としてアセチル
アセトンＣｕ　（ＩＩ＞１．１ＣＩを加え、充分攪拌し
た）卦、コーティング組成物とした。

（３）　　フッ素含有コーティング組成物の調製（ａ）
　　加水分解物の調製 回転子を備えた反応器中にメチルトリメトキシシラン４
．９ｇ、３．３．３−トリフロロプロピルトリメトキシ
シラン３．５０を仕込み、液温を１０’Ｃに保ち、マグ
ネチックスターラーで攪拌しながら０．（１１規定塩酸
水溶液２．８０を徐々に滴下、滴下終了後冷却をやめて
加水分解物を得た。

（ｂ）　　塗料の調製 前記シラン加水分解物にｎ−プロピルアルコール５６．
０ｃ＋、蒸溜水２４．０ＣＩ、エチルセロソルブ７．５
ｇをあらかじめｎ−プロピルアルコールで５％に調製し
たシリコーン系界面活性剤１．ＯＣｌおよびアルミニウ
ムアセデルアセトネート０．２４０を添加し、充分攪拌
した後、コーティング組成物とした。

（４）　　反射防止性物品の作製 前記（１）によって１ｑられたプラスチック基材に、前
記（２）で調製したコーティング組成物を下記条件でデ
イツプコーティングした。コーティングしたレンズは１
１０’Ｃ／１２分の予備硬化を行ない、さらに１１０’
Ｃ／４時間加熱キュアした。得られた硬化被膜の屈折率
は１．５８であった。キュアされたレンズは前処理とし
て表面処理用プラズマ装置（ＰＲ５（１１Ａヤマト科学
Ｉｌ製）を用い、酸素流量１００ｍ！！／分、出力５０
Ｗで１分間処理を行なった。

ついで前項＜３）、（ｂ）で調製した塗料を用いて下記
条件でスピンコーティングした。コーテイング後は、８
２°Ｃ／１２分の予備硬化を行ない、さらに９３℃／４
時間加熱キュアして反射防止性物品を得た。

スピンコード条件 回転数：３５００ｒｐｍ 回転時間：３０秒 得られた反射防止性物品の全光線透過率は９６゜１％で
あった。

なお、比較例として前項（２）のハードコート被膜を設
けないものについても、伯をまったく同様にして行なっ
た。

得られた反射防止レンズの性能評価は下記（５）に示す
方法に従って行ない、次の第１表の通りであった。

第１表 即ち、ハードコート被膜を設けた反射防止レンズは反射
防止性、染色性、表面硬度のすべてにおいて満足できる
ものでめったが、該被膜を設けないものについては染色
性、表面硬度ともに不十分なもので、まったく実用性の
ないものでめった。

（５）　　試験方法 （５＞−１染色性 分散染料（赤、青、黄の３色混合）に９３℃１５分間浸
漬し、染色程度を全光線透過率で表わした。

＜５）−２染色後の外観（目視） ○：レンズ仝休体均一に染色された Ｘ：染色むらがある ＜５＞−２スヂールウール硬度 ＃００００のスヂールウールで塗膜面をこすり旧つき具
合を判定する。判定基準は Δ：強く摩家しても傷がっかない Ｂ：強＜［擦すると傷がつく Ｃ：弱い摩擦でも傷がつく なお、本実施例で用いたハードコート被膜の鉛筆硬度は
８日、膜厚は２．８μｍであった。また、フッ素含有有
機ポリシロキサン系薄膜の膜厚は１ＱＱｎｍ、屈折率は
１．３９であった。

実施例２〜４、比較例２ （１）　　実施例１でプラスデック製透明基材としてカ
セイソーダに浸漬後、洗浄した屈折率が１．５０のジエ
チレングリコールビスアリルカーボネート重合体レンズ
（直径７’１ｍｍ、厚み２．１ｍｍ、ＣＲ−３９プラル
ンズ）を用い、さらにフッ素含有有機ポリシロキサン系
薄膜用の］−ティング組成物として、メチルトリメトキ
シシランと３．３．３−トリフロロプロピルトリメトキ
シシランおよびγ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シランの比率を変えたコーティング組成物を実施例１−
（４）の方法でコーティング、加熱キュアして得た反射
防止物品の性能結果を第２表に示す。

なお、比較例としてハードコート被膜を設けないで、他
は実施例２とまったく同様に行なったところ、まったく
表面硬度の低いものしか得られなかった。

実施例５，６ 前記実施例１および２で得られた反射防止物品を以下に
示す方法でそれぞれ処理した。

（１）訓電性発現処理 表面処理用プラズマ装置（ＰＲ５（１１Ａヤマト科学■
製）を用い、酸素流ｍ　１００威／分、出力５０Ｗで３
分間処理を行なった。

得られた物品の表層にあけるフッ素／ケイ素（Ｆ／Ｓｉ
）の元素含有量は、手ｍ比で０．０４／１であった。な
お、被膜仝休のフッ素／ケイ素の重量比は、０．０８／
１であった。

全光線透過率は、９６．１％（実施例５）および９６．
４％（実施例６）でめった。また、制電性の評価におい
て、いずれも帯電圧の半減期は１秒以下であり、パンチ
屑テストでは、最初からパンチ屑は付着しなかった。

なお、それぞれの実施例における制電性発現処理を行な
わなかった物品の表層におけるフッ素／ケイ素（Ｆ／Ｓ
ｉ）の元素含有量は、重量比で０゜０８／１であった。

また、帯電圧の半減期は１２１秒（実施例５の未処理）
および３６０秒以上（実施例６の未処理〉であり、パン
チ屑テストは、２５および３０であり、制電性に乏しい
ことがわかった。

評価方法は、下記に基づくものである。

（Ａ）帯電圧の半減期 ２０℃、６５％ＲＨの条件下で、スタチックオネストメ
ータを使用し、１０ｋｖ、１１０００ｒｔ）の条件で帯
電させた時の帯電圧の半減期を測定した。

（Ｂ）パンチ屑テスト ２０℃〜２５℃、５０〜７０％ＲＨにおいて、反射防止
物品を鹿皮で拭き静電気を発生させて、机の上にばらま
いたパンチ肩上に約１〜２ｃｍまで近付けてパンチを付
着させる。そのまま３０秒間静止しておき、脱落しない
で残っているパンチ屑を数えた。

実施例７ （１〉フッ素含有コーティング組成物の調製（ａ）加水
分解物の調製 回転子を僅えた反応器中にγ−グリシドキシプロビルト
リメトキシシラン５．２ｇ、３．３．３−トリフロロプ
ロピルトリメトキシシラン３．１０を仕込み、液温を３
０℃に保ち、マグネヂックスターラーで攪拌しながら０
．（１１規定塩酸水溶液２゜８ｇを徐々に滴下、滴下終
了後室温で１０分間攪拌して加水分解物を（ｑた。

（ｂ）　　塗料の調製 前記シラン加水分解物にｎ−プロピルアルコール１４１
．６Ｃｌ、蒸溜水６０．７Ｑ、エチルセロソルブ１８．
８０を加え攪拌後メタノールシリカゾル（固形分３０％
、平均粒子径１３ｍμ）１６゜ｏｃｔ、ｉらかじめｎ−
プロピルアルコールで５％に調製したシリコーン系界面
活性剤２．２９およびアルミニウムアセチルアセトネー
ト０．６ｇを添加し、充分殴拌した俊、コーティング組
成物とした。

（２）　　反射防止物品の作製 前記実施例１−＜１）、　（２）で得られた基材および
コーティング組成物を実施例１−（／ｌ＞と同様にコー
チインク、キュアを行ない、さらにプラズマ処理を酸素
流呈２００ｄ／分、出力５０Ｗで１分間処理を行なった
。

ついで前項＜１＞、　　（ｂ）で調製した塗料を用いて
下記条件でスピンコーティングした。コーテイング後は
、８２°Ｃ／１２分の予備硬化を行ない、さらに１１０
’Ｃ／４時間加熱キュアして反射防止物品を１９だ。

スピンコード条件 回転数：３５００ｐｐｍ 回転時間＝３０秒 得られた反射防止物品の全光線透過率は９５゜２％であ
った。

１ｑられた反射防止レンズの性能は実施例１−＜４＞に
示す方法に従って行ない、次の通りであった。

染色性（％）　　　　　　３７．０ 染色後の外観　　　　　　○ スチールウール硬度　　　△ なおフッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜の屈折率は１
．４４、膜厚は１１００ｎであった。

（３）訓電性発現処理 前記（２）で得られた反射防止物品を表面処理用プラズ
マ装置（ＰＲ５（１１Ａヤマト利学■製）を用い、酸素
流量２００威／分、出力５０Ｗで０．５分間処理を行な
った。

全光線透過率は、９５．２％であった。また、制電性の
評価において、いずれも帯電圧の半減期は１０秒以下で
あり、パンチ屑テストではすべて脱落した。

得られた物品の表層におけるフッ素／ケイ素（Ｆ／Ｓｉ
）の元素含有ωは、重量比で０．０５／１であった。な
お被膜全体のフッ素／ケイ素の重量比は０．０７／１で
あった。また制電性発現処理をしない反射防止物品の表
層におけるフッ素／ケイ素の元素含有量は、重量比で０
．０７／１でめった。

実施例８ （１）　　透明基材レンズの作製 カセイソーダ水溶液に浸漬後、洗浄した屈折率が１．５
０のジエチレングリコールビスアリルカーボネート重合
体レンズ（直径７１　ｍｍ、厚み２゜１ｍｍ、ＣＲ−３
９プラルンズ）を実施例１−＜２＞で調製した塗料を用
いて実施例１−（４）と同様にコーティング・キュアを
行なった。

（２）　　反射防止物品の作製 前記実施例７−（２）と同様に行ない、反則防止物品を
得た。

全光線透過率（％）　　　９５．８ 染色性（％）　　　　　　３０ 染色後の外観　　　　　　○ スチールウール硬度　　　Ａ （３）　　制電性発現処理 前記（２）で得られた反射防止物品を表面処理用プラズ
マ装置（ＰＲ５（１１Ａヤマト科学（珠製）を用い、酸
素流量２００威／分、出力５０Ｗで０．５分間処理を行
なった。

全光線透過率は、９５．８％であった。また、制電性の
評価において、いずれも帯電圧の半減期は１０秒以下で
あり、パンチ屑テストでは、すべて脱落した。

得られた物品の表層におけるフッ素／ケイ素（Ｆ／Ｓｉ
）の元素含有量は、重量比で０．０５／１であった。な
お、被膜全体のフッ素／ケイ素の重量比は、０．０７／
１であった。また、制電性発現処理をしない反射防止物
品の表層におけるフッ素／ケイ素の元素含有量は、重量
比で０．０７／１であった。

［発明の効果］ 本発明によって１９られる反射防止物品は以下に示す特
徴がある。

〈１）高い反射防止性、および均一な反射光色を付与す
ることが出来る。

（２）　　高い表面硬度を有し、耐熱性、耐衝撃性、耐
久性に優れている。

（３）　　染色速度が速く、染色後の外観も良好である
。

（４）表面すべり性が良好であり、実質的に傷がつきに
くい。

（５）　　汚れが目立ちにくく除去し易い。

（６）　　制電性を有し、ゴミやホコリが付着しない。

１、事件の表示 昭和６２年特許願第２７２３３８号 ２、発明の名称 反射防止性物品およびその製造方法 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住所　東京都中央区日木橋室町２丁目２番１号名称　（
３１，５＞　　東し株式会社 ５、補正により増加する発明の数　　なし６、補正の対
象 明細書の「特許請求の範囲」 および「発明の詳細な説明」の欄 ７、補正の内８Ａ′δ 明細書中 （１）「特許請求の範囲」を別紙のとおり補正します。

（２）　　第１１頁第１１行目「酸化物には」を「酸化
物は」と補正します。

（３）　　第１２頁第１１行目「２％」を「２．７％」
と補正します。

（４）　　第２１頁第６行目ｒ−ｙ基と等モル」をｒ−
ｙ基および一般式（ＩＩ）の−Ｚ基と等モル」と補正し
ます。

（５）　　第２７頁第１０行目「反射防止物品」を「反
射防止性物品」と補正します。

（６）　　第２７頁第１１行目１反射防止物品」を「反
射防止性物品」と補正します。

（７）　　第２８頁第４行目「反射防止物品」を「反射
防止性物品」と補正します。

（８）　　第２８頁第９行目「反射防止物品」を「反射
防止性物品」と補正します。

（９）　　第２９頁第９行目「反射防止物品」を「反射
防止性物品」と補正します。

（１０）第３０貫第６行目「重合した」を「重合して」
と補正します。

（１１）第３４頁第１２行目ｒ（５）−２Ｊをｒ　（５
）　−３」と補正します。

（１２）第３８頁第１３行目「反射防止物品」を「反射
防止性物品」と補正します。

（１３）第３８頁第１５行目「パンチ」を「パンチ屑」
と補正します。

（１４）第３９頁第１８行目「反射防止物品」を「反射
防止性物品」と補正します。

（１５）第４０頁第７行目「反射防止物品」を「反射防
止性物品」と補正します。

（１６）第４０頁第１２行目「反射防止物品」を「反射
防止性物品」と補正します。

（１７）第４１頁第７行目「いずれも帯電圧」を「帯電
圧」と補正します。

（１８）第４２頁第４行目「ティング・キュア」を「テ
ィング、キュア」と補正します。

（１９）第４２頁第５行目「反射防止物品」を「反射防
止性物品」と補正します。

（２０）第４２頁第６行目「反射防止物品」を「反射防
止性物品」と補正します。

（２１）第４２頁第１３行目「反射防止物品」を［反射
防止性物品ｊと補正します。

（２２）第４２頁第１８行目「いずれも帯電圧」を「帯
電圧」と補正します。

（２３）第４３頁第５行目「反射防止物品」を「反射防
止性物品」と補正します。

（２４）第４３頁第９行目「反射防止物品」を「反射防
止性物品」と補正します。

別紙 特許請求の範囲 （１）屈折率が１．５２以上のハードコート被膜を有す
るプラスチック製透明基材の表面に膜厚が１０〜５０（
１１ｍ、屈折率か該被膜より少なくとも０．０２以上低
いフッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜を有することを
特徴とする反射防止性物品。

（２）フッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜が下記一般
式（Ｉ）で表わされるフッ素含有有機ケイ素化合物およ
び／またはその加水分解物の重合体であることを特徴と
する特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止性物品。

（Ｒ’　Ｑ）　Ｓ　ｉＸａ　”３−ａ　　　　　　（Ｉ
　）（ここで、Ｒ上は炭素数１〜２０個のフッ素含有ア
ルキル基であってエーテル結合あるいはエステル結合を
１個以上含んでいてもよい。Ｑは二価の有機基、Ｘは低
級アルキル基、Ｙはハロゲン、アルコキシ基、又はＲＣ
ＯＯ−基（ただし、Ｒは水素原子又は低級アルキル基）
、ａは０まなは１の整数を示す。） （３）　　フッ素含有有機ポリシロキサンが、フッ素含
有有機ポリシロキサン系薄膜中１０重量％以上含まれる
ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の反射
防止性物品。

（４）ハードコート被膜が無機酸化物微粒子を含むこと
を特徴とする特許請求の範囲第（１〉項記載の反射防止
性物品。

（５）　　無機酸化物微粒子がアンチモン、チタン、ジ
ルコニウム、タンタルから選ばれる１種以上の金属を含
む酸化物であることを特徴とする特許請求の範囲第（４
）項記載の反射防止性物品。

（６）薄膜全体のフッ素およびケイ素の元素含有率が、
ケイ素に対するフッ素の重量比が、０．０２以上、１０
以下であり、かつその最表面層においては、上記重量比
が、該薄膜全体のケイ素に対するフッ素の重量比の８０
％未満であり、かつ制電性を有することを特徴とする特
許請求の範囲第（１）項記載の反射防止性物品。

（７）　　フッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜が、前
記一般式（１）で表わされるフッ素含有有機ケイ素化合
物の加水分解物の重合体を含有することを特徴とする特
許請求の範囲第（２）項記載の反射防止物品。

〈８）屈折率が１．５２以上のハードコート被膜を有す
るプラスチック製透明基材の表面にフッ素含有有機ケイ
素化合物および／またはその加水分解物を含む液状コー
ティング組成物を塗布し、さらに加熱によって屈折率が
該被膜よりも少なくとも０．０２以上低い硬化被膜を形
成せしめることを特徴とする反射防止性物品の製造方法
。

〈９）　　硬化被膜が下記一般式（１）で表わされるフ
ッ素含有有機ケイ素化合物および／またはその加水分解
物から得られるものであることを特徴とする特許請求の
範囲第（８）項記載の反射防止性物品の製造方法。

（Ｒ１Ｑ　）　Ｓ　Ｉ　Ｘａ　”３−ａ　　　　　　（
Ｉ　）（ここで、Ｒ１は炭素数１〜２０個のフッ素含有
アルキル基であってエーテル結合あるいはエステル結合
を１個以上含んでいてもよい。Ｑは二価の有機基、χは
低級アルキル基、Ｙはハロゲン、アルコキシ基、又はＲ
ＣＯＯ−基（ただし、Ｒは水素原子又は低級アルキル基
）、ａは０または１の整数を示す。） （旧）　　前記一般式（Ｉ）で表わされるフッ素含有有
機ケイ素化合物が、フッ素含有有機ポリシロキサン系薄
膜中に１０重置火以上含まれることを特徴とする特許請
求の範囲第〈９）項記載の反射防止性物品の製造方法。

（１１）　　硬化被膜を、上記一般式、（１）で表わさ
れるフッ素含有有機ケイ素化合物の加水分解物の加熱効
果によって得ることを特徴とする特許請求の範囲第（９
）項記載の反射防止性物品の製造方法。

（１２）硬化被膜を設けたのち、該被膜を活性化ガス処
理することを特徴とする特許請求の範囲第（８）項記載
の反射防止性物品の製造方法。

（１３）　活性化ガス処理が、プラスチックおよび／ま
たはコロナ放電処理であることを特徴とする特許請求の
範囲第（１２）項記載の反射防止性物品の製造方法。

１、事件の表示 昭和６２年特許願第２７２３３８号 ２、発明の名称 反射防止性物品およびその製造方法 ３、補正をする老 事件との関係　　特許出願人 住所　東京都中央区日本橋室町２丁目２番１号名称　（
３１５＞　　東し株式会社 ５、補正により増加する発明の数　　なし（１）「特許
請求の範囲」を別紙のとおり補正します。

別紙 特許請求の範囲 〈１）屈折率が１．５２以上のハードコート被膜を有す
るプラスチック製透明阜材の表面に膜厚が１０〜５００
　ｎｍ、屈折率が該被膜より少なくとも０．０２以上低
いフッ素含有有機ポリシロキサン系簿膜を有することを
特徴とする反射防止性物品。

（２）フッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜が下記一般
式（１＞で表わされるフッ素含有有機ケイ素化合物およ
び／またはその加水分解物の重合体であることを特徴と
する特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止性物品。

（ＲＩＱ）ＳｉＸａＹ３−ａ　　　　　　（１）（ここ
で、Ｒ１は炭素数１〜２０個のフッ素含有アルキル基で
あってエーテル結合あるいはエステル結合を１個以上含
んでいてもよい。Ｑは二価の有機基、Ｘは低級アルキル
基、Ｙはハロゲン、アルコキシ基、又はＲＣＯＯ−Ｗ　
（ただし、Ｒは水素原子又は低級アルキルｇ＞、ａはＯ
または１の整数を示す。） （３）フッ素含有有機ポリシロキサンが、フッ素含有有
渫ポリシロキサン系薄膜中１０重徂％以上含まれること
を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止
性物品。

（４）ハードコート被膜が無機酸化物微粒子を含むこと
を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止
性物品。

〈５）　　無機酸化物微粒子がアンチモン、チタン、ジ
ルコニウム、タンタルから選ばれる１種以上の金属を含
む酸化物であることを特徴とする特許請求の範囲第（４
）項記載の反射防止性物品。

（６）　　Ｆｌｊｌ金膜のフッ素およびケイ素の元素含
有率が、ケイ素に対するフッ素の重量比が、０．０２以
上、１０以下であり、かつその最表面層においては、上
記重量比が、該薄膜全体のケイ素に対するフッ素の重量
比の８０％未満であり、かつ制電性を何することを特徴
とする特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止性物品
。

（７）フッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜が、首記一
般式（Ｉ）で表わされるフッ素含′Ｆｉ有機ケイ素化合
物の加水分解物の重合体を含有することを特徴とする特
許請求の範囲第（２）項記載の反射防止性物品。

（８）屈折率が１．５２以上のハードコート被膜を有す
るプラスチック製透明基材の表面にフッ素含有有機ケイ
素化合物および／またはその加水分解物を含む液状コー
ティング組成物を塗イ「シ、さらに加熱によって屈折率
が該被膜よりも少なくとも０．０２以上低い硬化被膜を
形成せしめることを特徴とする反射防止性物品の製造方
法。

（９）硬化被膜が下記一般式（Ｉ＞で表わされるフッ素
含有有機ケイ素化合物心よび／またはその加水分解物か
ら得られるものでおることを特徴とする特許請求の範囲
第〈８）項記載の反射防止性物品の製造方法。

（ＲＩ　Ｑ）　Ｓ　ｉ　Ｘａ”３−ａ　　　　　　（Ｉ
）（ここで、Ｒ１は炭素数１〜２０個のフッ素含有アル
キル基であってエーテル結合あるいはエステル結合を１
個以上含んでいてもよい。Ｑは二価の有機基、Ｘは低級
アルキル基、Ｙはハロゲン、アルコキシ基、又はＲＣＯ
Ｏ−基（ただし、Ｒは水素原子又は低級アルキルｒｌ）
、ａはＯまたは１の整数を示すａ） （１０）前記一般式（１）で表わされるフッ素含有有機
ケイ素化合物が、フッ素合有有機ポリシロキサン系薄膜
中に１０重ω％以上含まれることを特徴とする特許請求
の範囲第（９）項記載の反射防止性物品の製造方法。

（１１）　　硬化被膜を、上記一般式、（Ｉ）で表わさ
れるフッ素含有有機ケイ素化合物の加水分解物の加熱硬
化によって得ることを特徴とする特許請求の範囲第（９
）項記載の反射防止性物品の製造方法。

（ｒ？）硬化被膜を設けたのち、該被膜を活性化ガス処
理することを特徴とする特許請求の範囲第（８〉項記載
の反射防止性物品の製造方法。

０３）活性化ガス処理が、プラスマ処理および／または
コロナ放電処理であることを特徴とする特許請求の範囲
第０２）項記載の反射防止性物品の製造方法。

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. （１）屈折率が１．５２以上のハードコート被膜を有す
   るプラスチック製透明基材の表面に膜厚が１０〜５００
   ｎｍ、屈折率が該被膜より少なくとも０．０２以上低い
   フッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜を有することを特
   徴とする反射防止性物品。
2. （２）フッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜が下記一般
   式（ I ）で表わされるフッ素含有有機ケイ素化合物お
   よび／またはその加水分解物の重合体であることを特徴
   とする特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止性物品
   。 （Ｒ＾１Ｑ）ＳｉＸ＿ａＹ＿３＿−＿ａ（ I ）（ここ
   で、Ｒ１は炭素数１〜２０個のフッ素含有アルキル基で
   あってエーテル結合あるいはエステル結合を１個以上含
   んでいてもよい。Ｑは二価の有機基、Ｘは低級アルキル
   基、Ｙはハロゲン、アルコキシ基、又はＲＣＯＯ＾−基
   （ただし、Ｒは水素原子又は低級アルキル基）、ａは０
   または１の整数を示す。）
3. （３）フッ素含有有機ポリシロキサンが１０重量％以上
   含まれることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記
   載の反射防止性物品。
4. （４）ハードコート被膜が無機酸化物微粒子を含むこと
   を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止
   性物品。
5. （５）無機酸化物微粒子がアンチモン、チタン、ジルコ
   ニウム、タンタルから選ばれる１種以上の金属を含む酸
   化物であることを特徴とする特許請求の範囲第（４）項
   記載の反射防止性物品。
6. （６）薄膜全体のフッ素およびケイ素の元素含有率が、
   ケイ素に対するフッ素の重量比が、０．０２以上、１０
   以下であり、かつその最表面層においては、上記重量比
   が、該薄膜全体のケイ素に対するフッ素の重量比の８０
   ％未満であり、かつ制電性を有することを特徴とする特
   許請求の範囲第（１）項記載の反射防止性物品。
7. （７）フッ素含有有機ポリシロキサン系被膜が、前記一
   般式（ I ）で表わされるフッ素含有有機ケイ素化合物
   の加水分解物の重合体を含有することを特徴とする特許
   請求の範囲第（２）項記載の反射防止物品。
8. （８）屈折率が１．５２以上のハードコート被膜を有す
   るプラスチック製透明基材の表面にフッ素含有有機ケイ
   素化合物および／またはその加水分解物を含む液状コー
   ティング組成物を塗布し、さらに加熱によって屈折率が
   該被膜よりも少なくとも０．０２以上低い硬化被膜を形
   成せしめることを特徴とする反射防止性物品の製造方法
   。
9. （９）硬化被膜が下記一般式（ I ）で表わされるフッ
   素含有有機ケイ素化合物および／またはその加水分解物
   から得られるものであることを特徴とする特許請求の範
   囲第（８）項記載の反射防止性物品の製造方法。 （Ｒ＾１Ｑ）ＳｉＸ＿ａＹ＿３＿−＿ａ（ I ）（ここ
   で、Ｒ＾１は炭素数１〜２０個のフッ素含有アルキル基
   であってエーテル結合あるいはエステル結合を１個以上
   含んでいてもよい。Ｑは二価の有機基、Ｘは低級アルキ
   ル基、Ｙはハロゲン、アルコキシ基、又はＲＣＯＯ＾−
   基（ただし、Ｒは水素原子又は低級アルキル基）、ａは
   ０または１の整数を示す。）
10. （１０）前記一般式（ I ）で表わされるフッ素含有有
    機ケイ素化合物が、フッ素含有有機ポリシロキサン系被
    膜中に１０重量％以上含まれることを特徴とする特許請
    求の範囲第（９）項記載の反射防止性物品の製造方法。
11. （１１）硬化被膜を、上記一般式、（ I ）で表わされ
    るフッ素含有有機ケイ素化合物の加水分解物の加熱硬化
    によって得ることを特徴とする特許請求の範囲第（９）
    項記載の反射防止性物品の製造方法。
12. （１２）硬化被膜を設けたのち、該被膜を活性化ガス処
    理することを特徴とする特許請求の範囲第（８）項記載
    の反射防止性物品の製造方法。
13. （１３）活性化ガス処理が、プラズマ処理および／また
    はコロナ放電処理であることを特徴とする特許請求の範
    囲第（１２）項記載の反射防止性物品の製造方法。