DE112019000737T5

DE112019000737T5 - Transparentes Substrat, das mit einem Blendschutzfilm versehen ist

Info

Publication number: DE112019000737T5
Application number: DE112019000737.8T
Authority: DE
Inventors: Masanobu Isshiki; Toru Ikeda; Yosuke Takeda; Takamichi SHIMOSAKA; Takaaki Murakami
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2018-02-08
Filing date: 2019-02-05
Publication date: 2020-10-22
Also published as: CN111684316B; JP7298071B2; JPWO2019156076A1; US20200363571A1; WO2019156076A1; CN111684316A

Abstract

Ein transparentes Substrat, das mit einem Blendschutzfilm versehen ist, das ein transparentes Substrat, das mit einer ersten Hauptoberfläche und einer zweiten Hauptoberfläche versehen ist, und einen Blendschutzfilm, der auf der ersten Hauptoberfläche ausgebildet ist, umfasst, wobei der Blendschutzfilm aus einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex und einer Schicht mit hohem Brechungsindex aufgebaut ist, die in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex ausgebildet ist und die einen Brechungsindex aufweist, der von dem Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex verschieden ist, wobei der Brechungsindex nniedrigbei einer Wellenlänge von 550 nm der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 1,4 bis 1,8 beträgt, wobei der Brechungsindex nhochbei einer Wellenlänge von 550 nm der Schicht mit hohem Brechungsindex um mindestens 0,1 höher ist als nniedrig, wobei der Flächenanteil eines Abschnitts mit einer Oberflächenneigung von 0,5° oder weniger in Bezug auf die erste Hauptoberfläche 15 % oder weniger beträgt und die durchschnittliche Länge RSm von Elementen einer Rauheitskurve der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 50 µm oder weniger beträgt.

Description

TECHNISCHES GEBIET
Die vorliegende Erfindung betrifft ein transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm.
STAND DER TECHNIK
In einer Bildanzeigevorrichtung (z.B. einer Flüssigkristallanzeige, einer organischen EL-Anzeige oder einer Plasmaanzeige), die an verschiedenen Geräten (z.B. Fernsehern, Personalcomputern, Smartphones, Mobiltelefonen und Fahrzeugen) bereitgestellt ist, wird dann, wenn eine Innenbeleuchtung, wie z.B. eine Fluoreszenzleuchte, und ein externes Licht, wie z.B. Sonnenlicht, auf einer Anzeigeoberfläche reflektiert werden, die Sichtbarkeit durch ein reflektiertes Bild verschlechtert.
Ein Verfahren zum Unterdrücken einer Reflexion von externem Licht umfasst ein Verfahren des Bereitstellens eines Blendschutzfilms auf der Seite einer Anzeigeoberfläche einer Bildanzeigevorrichtung. Der Blendschutzfilm weist eine Unebenheit auf der Oberfläche davon auf und führt dazu, dass ein reflektiertes Bild durch ein diffuses Reflektieren von externem Licht unscharf wird. Die „diffuse Reflexion“ steht für eine Reflexion, die bei einem Winkel reflektiert (gestreut) wird, der von dem Einfallswinkel verschieden ist, zu der Oberfläche in der Reflexion. Ein solcher Blendschutzfilm wird z.B. durch Aufbringen einer Beschichtungsflüssigkeit, die eine hydrolysierbare organische Siliziumverbindung enthält, wie z.B. ein hydrolysiertes Kondensat eines Alkoxysilans, als Siliziumvorstufe auf die Oberfläche eines lichtdurchlässigen Substrats und dann Brennen gebildet (vgl. z.B. das Patentdokument 1).
Das Verfahren umfasst ferner ein Verfahren des Anordnens eines Films mit geringer Reflexion auf einer Anzeigeoberfläche einer Bildanzeigevorrichtung, des Unterdrückens einer Reflexion selbst von einfallendem Licht auf ein transparentes Substrat, und des Bewirkens, dass ein reflektiertes Bild unscharf wird. Ein Einschichtfilm, der aus einem Material mit niedrigem Brechungsindex besteht, und ein Mehrschichtfilm, der eine Kombination aus einer Schicht, die aus einem Material mit niedrigem Brechungsindex besteht, und einer Schicht, die aus einem Material mit hohem Brechungsindex besteht, umfasst, sind als ein Film mit geringer Reflexion bekannt. Ferner ist ein Film, der aus einer Fluor-enthaltenden hydrolysierbaren Organosiliziumverbindung ausgebildet ist, auch als Film mit geringer Reflexion bekannt (vgl. z.B. die Patentdokumente 2 bis 5).
Es gibt ein Verfahren des Angebens von wenigen flachen Teilen bei der Bedingung von (H1 - H2)/Ra ≥ 0,25 als einer von Oberflächenprofilparametern zum Erhalten einer hohen Auflösung. H1 ist eine Höhe für 70 % des Flächenanteils in einer Lagerkurve für die Rauheitskurvenoberfläche der unebenen Oberfläche und H2 ist eine Höhe für 99 % des Flächenanteils in einer Lagerkurve für die Rauheitskurvenoberfläche der unebenen Oberfläche (vgl. das Patentdokument 6).
DOKUMENTENLISTE
PATENTDOKUMENTE

Patentdokument 1: WO 2016/021560
Patentdokument 2: JP 64-1527 A
Patentdokument 3: JP 2003-344608 A
Patentdokument 4: JP 2002-79616 A
Patentdokument 5: WO 2005/121265
Patentdokument 6: WO 2015/137196

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
TECHNISCHES PROBLEM
Die Verschlechterung der Sichtbarkeit eines Bilds durch die Reflexion von externem Licht auf einer Anzeigeoberfläche kann durch Anordnen eines Blendschutzfilms auf einer Anzeigeoberfläche einer Bildanzeigevorrichtung unterdrückt werden. Gleichzeitig erzeugt der Blendschutzfilm jedoch ein Glitzern auf der Blendschutzfilmoberfläche, da die Blendschutzeigenschaften sehr gut sind, und die Sichtbarkeit wird verschlechtert.
Ferner zeigen die Anforderungen, die im Patentdokument 6 beschrieben sind, wenige flache Teile in dem Boden der Unebenheit, jedoch sind die flachen Teile, die sich an einer hohen Stelle in einer Höhenrichtung befinden, nicht festgelegt. Auf den flachen Teilen, die sich auf der hohen Stelle in der Höhenrichtung befinden, wird jedoch eine reguläre Reflexion erzeugt. Daher ist es bei dieser Definition unzureichend, das Verhältnis bzw. den Anteil von flachen Teilen durch Erhalten der Neigung aller Teile zu bewerten.
Folglich konnten die herkömmlichen Technologien nicht gleichzeitig sehr gute Blendschutzeigenschaften, eine sehr gute Sichtbarkeit und ein geringes Glitzern erreichen.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm, der gleichzeitig sehr gute Blendschutzeigenschaften, eine sehr gute Sichtbarkeit und ein geringes Glitzern erreichen kann.
LÖSUNG DES PROBLEMS
Zum Lösen der vorstehend genannten Aufgabe stellt die vorliegende Erfindung ein transparentes Substrat (1) mit einem Blendschutzfilm bereit, das ein transparentes Substrat mit einer ersten Hauptoberfläche und einer zweiten Hauptoberfläche und einen Blendschutzfilm, der auf der ersten Hauptoberfläche ausgebildet ist, umfasst,
wobei der Blendschutzfilm eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die auf der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats ausgebildet ist, und eine Schicht mit hohem Brechungsindex umfasst, die in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex ausgebildet ist und einen Brechungsindex aufweist, der von dem Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex verschieden ist,
die Schicht mit niedrigem Brechungsindex einen n_niedrig von 1,4 bis 1,8 aufweist, wobei der Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_niedrig ist,
die Schicht mit hohem Brechungsindex einen n_hoch von mindestens 0,1 höher aufweist als der n_niedrig, wobei der Brechungsindex der Schicht mit hohem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_hoch ist,
die Schicht mit hohem Brechungsindex einen Flächenanteil von deren Abschnitt, bei dem eine Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats 0,5° oder weniger beträgt, von 15 % oder weniger aufweist, und
eine durchschnittliche Länge RSm von Elementen einer Rauheitskurve einer äußersten Oberfläche auf einer Seite der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm 50 µm oder weniger beträgt.
In dem transparenten Substrat (1) mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung weist die Schicht mit hohem Brechungsindex einen Brechungsindex n_hoch bei einer Wellenlänge von 550 nm von 1,8 oder mehr auf.
In dem transparenten Substrat (1) mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung umfasst die Schicht mit hohem Brechungsindex vorzugsweise zwei oder mehr Schichten.
In dem transparenten Substrat (1) mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung beträgt der Reflexionsgrad sichtbaren Lichts, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, wobei die zweite Hauptoberfläche des transparenten Substrats geschwärzt ist, vorzugsweise 0,2 bis 8 %.
In dem transparenten Substrat (1) mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung beträgt ein Wert, der durch Subtrahieren der Summe eines durchschnittlichen Werts des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an einer Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche und der Luft und eines durchschnittlichen Werts des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an einer Grenzfläche zwischen der ersten Hauptoberfläche und der Luft von einem durchschnittlichen Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, erhalten wird, vorzugsweise 0,2 bis 4 %. Der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, ist ein tatsächlicher Messwert, der gemäß JIS R3106 gemessen wird, und der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an der Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche und der Luft und der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an der Grenzfläche zwischen der ersten Hauptoberfläche und der Luft sind optisch berechnete Werte in einer Konfiguration des Laminierens auf einer ideal flachen Oberfläche mit der gleichen Dicke und dem gleichen Produkt nk eines Brechungsindex und eines Dämpfungskoeffizienten.
Die vorliegende Erfindung stellt ferner ein transparentes Substrat (2) mit einem Blendschutzfilm bereit, das ein transparentes Substrat mit einer ersten Hauptoberfläche und einer zweiten Hauptoberfläche und einen Blendschutzfilm, der auf der ersten Hauptoberfläche ausgebildet ist, umfasst,
wobei der Blendschutzfilm eine Schicht mit hohem Brechungsindex, die auf der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats ausgebildet ist, und eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex umfasst, die in der Schicht mit hohem Brechungsindex ausgebildet ist und einen Brechungsindex aufweist, der von dem Brechungsindex der Schicht mit hohem Brechungsindex verschieden ist,
die Schicht mit hohem Brechungsindex einen n_hoch von 1,4 bis 1,8 aufweist, wobei der Brechungsindex der Schicht mit hohem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_hoch ist,
die Schicht mit niedrigem Brechungsindex einen n_niedrig von mindestens 0,1 niedriger als n_hoch aufweist, wobei der Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_niedrig beträgt,
die Schicht mit niedrigem Brechungsindex einen Flächenanteil von deren Abschnitt, bei dem eine Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats 0,5° oder weniger beträgt, von 15 % oder weniger aufweist, und
eine durchschnittliche Länge RSm von Elementen einer Rauheitskurve einer äußersten Oberfläche auf einer Seite der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm 50 µm oder weniger beträgt.
In dem transparenten Substrat (2) mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung weist die Schicht mit niedrigem Brechungsindex vorzugsweise einen Brechungsindex n_niedrig bei einer Wellenlänge von 550 nm von 1,4 oder weniger auf.
In dem transparenten Substrat (2) mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung ist die Hauptkomponente der Schicht mit niedrigem Brechungsindex vorzugsweise Siliziumoxid.
In dem transparenten Substrat (2) mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung umfasst die Schicht mit niedrigem Brechungsindex vorzugsweise zwei oder mehr Schichten.
In dem transparenten Substrat (2) mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung beträgt der Reflexionsgrad sichtbaren Lichts, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, wobei die zweite Hauptoberfläche des transparenten Substrats geschwärzt ist, vorzugsweise 0,2 bis 8 %.
In dem transparenten Substrat (2) mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung beträgt ein Wert, der durch Subtrahieren der Summe eines durchschnittlichen Werts des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an einer Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche und der Luft und eines durchschnittlichen Werts des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an einer Grenzfläche zwischen der ersten Hauptoberfläche und der Luft von einem durchschnittlichen Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, erhalten wird, vorzugsweise 0,2 bis 4 %. Der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, ist ein tatsächlicher Messwert, der gemäß JIS R3106 gemessen wird, und der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an der Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche und der Luft und der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an der Grenzfläche zwischen der ersten Hauptoberfläche und der Luft sind optisch berechnete Werte in einer Konfiguration des Laminierens auf einer ideal flachen Oberfläche mit der gleichen Dicke und dem gleichen Produkt nk eines Brechungsindex und eines Dämpfungskoeffizienten.
Die vorliegende Erfindung stellt ferner eine Anzeigevorrichtung mit einer Struktur bereit, die das transparente Substrat (1) oder (2) mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung als Abdeckungselement und ein Anzeigefeld umfasst, das mittels einer Haftschicht an die zweite Hauptoberfläche des transparenten Substrats geklebt ist.
Die vorliegende Erfindung stellt ferner ein transparentes Substrat (3) mit einem Blendschutzfilm bereit, das ein transparentes Substrat mit einer ersten Hauptoberfläche und einer zweiten Hauptoberfläche und einen Blendschutzfilm, der auf der ersten Hauptoberfläche ausgebildet ist, umfasst,
wobei der Blendschutzfilm eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die auf der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats ausgebildet ist, und eine Schicht mit hohem Brechungsindex umfasst, die in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex ausgebildet ist und einen Brechungsindex aufweist, der von dem Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex verschieden ist,
die Schicht mit niedrigem Brechungsindex einen n_niedrig von 1,4 bis 1,8 aufweist, wobei der Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_niedrig beträgt,
die Schicht mit hohem Brechungsindex einen n_hoch von mindestens 0,1 höher als n_niedrig aufweist, wobei der Brechungsindex der Schicht mit hohem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_hoch ist, und
in einem SEM-Querschnittsbild, wenn Längen, die durch Projizieren von Abschnitten, bei denen eine Neigung zu der Hauptoberfläche 0,5° oder weniger in der Schicht mit hohem Brechungsindex beträgt, zu einer Linie parallel zu der Hauptoberfläche des transparenten Substrats erhalten werden, gemessen werden und diese Längen aufaddiert werden, ein Verhältnis der Summe der Längen zu einer Breite von 400 µm 15 % oder weniger beträgt, ein arithmetischer Mittenrauwert Ra, der aus einem zweidimensionalen Profil der Schicht mit hohem Brechungsindex erhalten wird, 0,01 µm oder mehr und 0,4 µm oder weniger beträgt, und eine durchschnittliche Länge RSm von Elementen einer Rauheitskurve einer äußersten Oberfläche auf einer Seite der ersten Hauptoberfläche 0,8 µm oder mehr und 50 µm oder weniger beträgt.
VORTEILHAFTE EFFEKTE DER ERFINDUNG
Gemäß dem transparenten Substrat mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung können gleichzeitig sehr gute Blendschutzeigenschaften, eine sehr gute Sichtbarkeit und ein geringes Glitzern erreicht werden.
Figurenliste

[1] 1 ist eine Querschnittsansicht, die eine erste Ausführungsform des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung zeigt.
[2] 2 ist eine Querschnittsansicht, die eine zweite Ausführungsform des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung zeigt.
[3] 3 ist eine Querschnittsansicht, die eine dritte Ausführungsform des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung zeigt.
[4] 4 ist eine Querschnittsansicht, die eine vierte Ausführungsform des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung zeigt.
[5] 5 ist eine Ansicht, die ein Messverfahren eines Reflexionsbild-Streuindex zeigt.
[6] 6 ist eine Ansicht, die ein Messverfahren eines Reflexionsbild-Streuindex zeigt.
[7] 7 ist eine schematische Ansicht, welche die Anordnung von invertierten und gedrehten Daten von quadratischen Daten zeigt.
[8] 8 ist eine Querschnittsansicht einer Anzeigevorrichtung, bei der das transparente Substrat mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung verwendet wird.
[9] 9 ist eine Ansicht, die ein Messverfahren eines Glitzerindexwerts S des transparenten Substrats zeigt.

BESCHREIBUNG VON AUSFÜHRUNGSFORMEN
Die Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nachstehend unter Bezugnahme auf die Zeichnungen detailliert beschrieben.
<Erste Ausführungsform>
Die 1 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch eine erste Ausführungsform des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung zeigt. Das transparente Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, umfasst ein transparentes Substrat 11 mit einer ersten Hauptoberfläche 11a und einer zweiten Hauptoberfläche 11b und einen Blendschutzfilm 14, der auf der ersten Hauptoberfläche 11a ausgebildet ist.
[Transparentes Substrat 11]
Beispiele für das Material des transparenten Substrats 11 umfassen ein Glas, ein Harz bzw. einen Kunststoff, usw. Beispiele für das Harz umfassen Polyethylenterephthalat, Polycarbonat, Triacetylcellulose und Polymethylmethacrylat. Vorzugsweise ist die transparente Platte im Hinblick auf die Sicherheit und die Festigkeit ein Glas. Die Verwendung des Glases in einem Anzeigeelement zum Anbringen in einem Fahrzeug ist im Hinblick auf eine hohe Wärmebeständigkeit und eine hohe Witterungsbeständigkeit bevorzugt.
In dem Fall, bei dem das transparente Substrat 11 das Glas ist, ist ein gehärtetes Glas, das einer Härtungsbehandlung unterzogen worden ist, bevorzugt, um beispielsweise die mechanische Festigkeit und die Kratzfestigkeit sicherzustellen, die als das transparente Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm eines Anzeigeelements zum Anbringen in einem Fahrzeug erforderlich sind. Als Härtungsbehandlung können eine physikalische Härtungsbehandlung und eine chemische Härtungsbehandlung verwendet werden, jedoch ist ein mittels einer chemischen Härtungsbehandlung chemisch gehärtetes Glas bevorzugt, da selbst relativ dünne Gläser einer Härtungsbehandlung unterzogen werden können.
Beispiele für das Glas, das in dem transparenten Substrat 11 verwendet werden kann, umfassen ein alkalifreies Glas und ein Natronkalkglas in dem Fall, bei dem eine chemische Härtungsbehandlung nicht durchgeführt wird. In dem Fall, bei dem eine chemische Härtungsbehandlung durchgeführt wird, umfassen Beispiele für das Glas ein Natronkalksilikatglas, ein Aluminosilikatglas, ein Boratglas, ein Lithiumaluminosilikatglas und ein Borosilikatglas. Ein Aluminosilikat ist bevorzugt, da eine große Spannung durch eine Härtungsbehandlung leicht bereitgestellt wird, obwohl die Dicke gering ist, ein Glas mit hoher Festigkeit erhalten wird, obwohl das Glas dünn ist, und ein solches Glas als Gegenstand geeignet ist, der an der visuellen Erkennungsstelle einer Bildanzeigevorrichtung angeordnet werden soll.
In dem transparenten Substrat 11 beträgt ein maximaler Wert der Oberflächendruckspannung (CS) vorzugsweise 400 MPa oder mehr, mehr bevorzugt 500 MPa oder mehr und noch mehr bevorzugt 600 MPa oder mehr. Die Tiefe einer Druckspannungsschicht (DOL) beträgt vorzugsweise 10 µm oder mehr. Wenn die Oberflächendruckspannung und die Tiefe einer Druckspannungsschicht in den vorstehend genannten Bereichen liegen, können der Hauptoberfläche der transparenten Platte eine hervorragende Festigkeit und Kratzfestigkeit verliehen werden.
Die Dicke des transparenten Substrats 11 beträgt vorzugsweise 0,3 mm oder mehr und mehr bevorzugt 0,5 mm oder mehr. Andererseits beträgt die Dicke des transparenten Substrats 11 vorzugsweise 5 mm oder weniger, mehr bevorzugt 3 mm oder weniger und noch mehr bevorzugt 2 mm oder weniger. Wenn die Dicke in diesem Bereich liegt, kann ein Endprodukt nur schwer brechen.
Das transparente Substrat 11 kann mindestens einen gebogenen Teil aufweisen. Beispiele für die Form des transparenten Substrats umfassen eine Form einer Kombination aus einem gebogenen Teil und einem flachen Teil und eine Form aus einem gebogenen Teil als Ganzes, jedoch ist die Form nicht speziell beschränkt, solange ein gebogener Teil vorliegt. In letzter Zeit liegt in dem Fall der Verwendung des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm mit einem gebogenen Teil für eine Anzeigevorrichtung ein Anzeigefeld mit einer gekrümmten Anzeigeoberfläche in verschiedenen Geräten (Fernsehgeräten, Personalcomputern, Smartphones, Kraftfahrzeugnavigationsgeräten und dergleichen) vor. Der gebogene Teil kann so hergestellt werden, dass er der Form eines Anzeigefelds und einer Form eines Gehäuses eines Anzeigefelds entspricht. Der „flache Teil“ steht für einen Abschnitt mit einem durchschnittlichen Krümmungsradius von mehr als 1000 mm und der „gebogene Teil“ steht für einen Abschnitt mit einem durchschnittlichen Krümmungsradius von 1000 mm oder weniger.
Wenn der Brechungsindex des transparenten Substrats 11 bei einer Wellenlänge von 550 nm n_Sub ist, beträgt n_Sub vorzugsweise 1,45 bis 1,62 und mehr bevorzugt 1,45 bis 1,55. Wenn der Brechungsindex in diesem Bereich liegt, ist das transparente Substrat leicht als Glasplatte oder Harz- bzw. Kunststoffplatte erhältlich, die in einer Massenproduktion hergestellt werden können. Der Brechungsindex n_Sub des transparenten Substrats 11 liegt vorzugsweise nahe an dem Brechungsindex einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12, die nachstehend beschrieben wird. Der Grund dafür liegt darin, dass die reguläre Reflexion an der Grenzfläche zwischen dem transparenten Substrat 11 und der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 vermindert wird, wenn die Differenz des Brechungsindex zwischen dem transparenten Substrat 11 und der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 klein ist. In dem Fall, bei dem das transparente Substrat 11 ein Glas ist, weist das Glas dann, wenn der Brechungsindex n_Sub mit der Untergrenze identisch oder höher als diese ist, eine hervorragende Festigkeit, Dauerbeständigkeit und Witterungsbeständigkeit wie ein Quarzglas mit hoher Dichte auf.
Die visuelle Empfindlichkeit ist im Wellenlängenbereich von sichtbarem Licht bei einer Wellenlänge von 550 nm am höchsten. Daher ist der verwendete Brechungsindex der Wert bei einer Wellenlänge von 550 nm.
[Blendschutzfilm 14]
In dem transparenten Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 4 gezeigt ist, besteht der Blendschutzfilm 14 aus einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12, die auf der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 ausgebildet ist, und einer Schicht mit hohem Brechungsindex 13, die in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 ausgebildet ist. Die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 ist eine kontinuierliche Schicht.
In der vorliegenden Beschreibung steht die kontinuierliche Schicht für eine Schicht in einem Zustand, bei dem die Oberfläche einer Basisschicht vollständig bedeckt ist und die Basis nach dem Bedecken der Schicht nicht freiliegt. Der Zustand, bei dem die Basis nicht vollständig freiliegt, ist bevorzugt. Selbst in dem Fall, bei dem Basis durch Risse, kleine Löcher und dergleichen des Films geringfügig freiliegt, wird der gleiche Effekt erhalten und ein solcher Fall wird als kontinuierliche Schicht betrachtet.
In dem transparenten Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, ist eine Schicht mit hohem Brechungsindex 13 als die kontinuierliche Schicht in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 in der Form einer Schicht ausgebildet. Die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 kann jedoch in der Form von zwei oder mehr Schichten ausgebildet sein. Das Brechungsvermögen kann durch den Filmaufbau durch Bilden der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 aus zwei oder mehr Schichten mit verschiedenen Brechungsindizes einfach optional gestaltet werden. Ferner wird dann, wenn die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 eine Mehrschichtstruktur aufweist, die Wellenlängenabhängigkeit des Reflexionsgrads unterdrückt und die reflektierte Farbe kann als neutrale Farbe gestaltet werden. Die neutrale Farbe wird auch als achromatische Farbe bezeichnet und bedeutet, dass die Werte von a* und b* ±5 oder weniger betragen, wenn Farbkoordinaten der reflektierten Farbe, wenn sie mit dem Leuchtmittel D65 untersucht werden, durch den CIE 1976 (L*, a* und b*) Farbraum angegeben werden.
In der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 in dem transparenten Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, ist dann, wenn der Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_niedrig ist, n_niedrig 1,4 bis 1,8. Wenn der Brechungsindex n_niedrig der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 in dem vorstehend genannten Bereich liegt, ist die Differenz zu dem Brechungsindex n_Sub bei einer Wellenlänge von 550 nm des transparenten Substrats 11, auf dem die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 ausgebildet ist, klein und das Problem, dass der Reflexionsgrad, der an der Grenzfläche zwischen der Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 und der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 erzeugt wird, zunimmt, tritt nicht auf. Da ferner die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 die Grenzfläche mit der Luft bildet, ist der Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 vorzugsweise so klein wie der vorstehend beschriebene Bereich. Der Grund dafür ist, dass die Reflexion an der Luftgrenzfläche vermindert ist.
Als Aufbaumaterial der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12, in dem der Brechungsindex n_niedrig bei einer Wellenlänge von 550 nm den vorstehend genannten Bereich erfüllt, können Siliziumoxid (SiO₂), Titanoxid (TiO₂), Niobpentoxid (Nb₂O₅), Tantalpentoxid (Ta₂O₅), Siliziumnitrid (Si₃N₄), Aluminiumoxid (Al₂O₃), Aluminiumnitrid (AlN), Zinkoxid (ZnO), Zinnoxid (SnO₂) und Gemische davon bevorzugt verwendet werden.
In der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 in dem transparenten Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, ist dann, wenn der Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_hoch ist, der Brechungsindex n_hoch mindestens 0,1 höher als der Brechungsindex n_niedrig. Der Grund dafür liegt darin, dass eine Reflexion an der Grenzfläche durch die Differenz des Brechungsindex an der Grenzfläche zwischen der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 und der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 auftritt, und als Ergebnis nimmt die interne Reflexionsstreuung zu. Andererseits weist der Blendschutzfilm einen laminierten Aufbau aus Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 (Brechungsindex n_niedrig)/Schicht mit hohem Brechungsindex 13 (Brechungsindex n_hoch)/Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 (Brechungsindex n_niedrig) auf, und einfallendes Licht, das von der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 eintritt, wird durch die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 einmal gebrochen. Wenn jedoch Licht in die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 von der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 eintritt, wird das Licht in einer zur ersten Brechung umgekehrten Richtung gebrochen und als Ergebnis wird das einfallende Licht kaum gebrochen (die Ausbreitungsrichtung ändert sich nicht). Aus diesem Grund nimmt die interne Durchlassstreuung kaum zu. Mit anderen Worten, wenn der Brechungsindex n_hoch mindestens 0,1 höher ist als der Brechungsindex n_niedrig, tritt ein Effekt des Erhöhens der Reflexionsstreuung durch die Zunahme der internen Reflexionsstreuung auf, während die Zunahme der internen Durchlassstreuung unterdrückt wird, und zwar verglichen mit dem Fall nur einer Oberflächenstreuung. Der Effekt kann durch den nachstehend beschriebenen Reflexionsbild-Streuindex R bewertet werden.
Eine Lichtstreuung wird grob in eine „Oberflächenstreuung“ und eine „interne Streuung“ eingeteilt.
In dem Fall einer Struktur, die eine Grenzfläche mit einer Differenz des Brechungsindex innerhalb eines Satzes des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, wie z.B. des transparenten Substrats 11 oder des Blendschutzfilms 14, welcher der Oberfläche eines Bildanzeigeelements hinzugefügt worden ist, aufweist, steht die „interne Streuung“ für eine Streuung, die abhängig von der Oberflächenform in der Grenzfläche und nicht der Grenzfläche mit der Luft erzeugt wird. Die interne Streuung wird in die „interne Durchlassstreuung“ und die „interne Reflexionsstreuung“ eingeteilt. Die „interne Durchlassstreuung“ steht für eine Streuung, die erzeugt wird, wenn durchgelassenes Licht durch die Grenzfläche mit enthaltenen Teilchen mit verschiedenen Brechungsindizes oder einer Schicht hindurchtritt, und die Sichtbarkeit wird verschlechtert, wenn die interne Durchlassstreuung zunimmt. Die „interne Reflexionsstreuung“ steht für eine Streuung, die erzeugt wird, wenn einfallendes Licht an der Grenzfläche zu enthaltenen Teilchen mit verschiedenen Brechungsindizes oder einer Schicht hindurchtritt, und die Blendschutzeigenschaften nehmen zu, wenn die interne Reflexionsstreuung zunimmt.
Die Differenz zwischen dem Brechungsindex n_hoch und dem Brechungsindex n_niedrig beträgt vorzugsweise 0,2 oder mehr und mehr bevorzugt 0,5 oder mehr. Der Grund dafür liegt darin, dass eine größere Differenz zwischen dem Brechungsindex n_hoch und dem Brechungsindex n_niedrig die Gestaltung von jedwedem Grenzflächenreflexionsgrad einfach macht.
Ferner beträgt die Differenz zwischen dem Brechungsindex n_hoch und dem Brechungsindex n_niedrig vorzugsweise 1 oder weniger. Der Grund dafür liegt darin, einen zu hohen Reflexionsgrad an der Grenzfläche zwischen der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 und der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 zu verhindern. Die Differenz zwischen dem Brechungsindex n_hoch und dem Brechungsindex n_niedrig beträgt mehr bevorzugt 0,5 oder weniger und noch mehr bevorzugt 0,3 oder weniger.
Beispiele für das Aufbaumaterial der Schicht mit hohem Brechungsindex 13, bei welcher der Brechungsindex n_hoch bei einer Wellenlänge von 550 nm den vorstehend genannten Bereich erfüllt, umfassen Titandioxid (TiO₂), Niobpentoxid (Nb₂O₅), Tantalpentoxid (Ta₂O₅), Siliziumnitrid (SiN), Aluminiumoxid (Al₂O₃), Aluminiumnitrid (AlN), Zinkoxid (ZnO), Zinndioxid (SnO₂) und Gemische davon. Ferner kann ein Material mit niedrigem Brechungsindex, wie z.B. Siliziumoxid (SiO₂), enthalten sein, solange der Brechungsindex n_hoch in einem Bereich liegt, der den vorstehend genannten Bereich erfüllt.
Der Brechungsindex n_hoch beträgt vorzugsweise 1,8 oder mehr. Der Brechungsindex n_hoch beträgt mehr bevorzugt 1,9 oder mehr und noch mehr bevorzugt 2,0 oder mehr.
Die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 in dem transparenten Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, weist wenige flache Bereiche auf (Bereiche, bei denen eine Oberfläche der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 parallel zu der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 ist), insbesondere die Abschnitte mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 von 0,5° oder weniger. Die vorliegenden Erfinder haben gefunden, dass dieser Aufbau sehr gute Blendschutzeigenschaften und eine sehr gute Sichtbarkeit erreichen kann. Die Blendschutzeigenschaften, wie sie hier verwendet werden, stehen für das Vermögen zum Vermindern eines Blendens aufgrund von reflektiertem Licht durch eine Reflexion der Lichtquelle vorwiegend durch Streuen von reflektiertem Licht, und bessere Blendschutzeigenschaften können das Blenden vermindern. Die Sichtbarkeit steht für das Vermögen, dass in dem Fall eines Abdeckungselements für eine Anzeigevorrichtung Buchstaben, Zahlen und dergleichen deutlich sichtbar sind, und diese deutlich sichtbar sind, da das Verhältnis von gestreutem reflektierten Licht gering ist. Mit anderen Worten, Buchstaben, Zahlen und dergleichen können visuell deutlich wahrgenommen werden, da die Sichtbarkeit sehr gut ist.
In der vorliegenden Beschreibung wird der Flächenanteil des Abschnitts der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 von 0,5° oder weniger als Index für wenige flache Bereiche verwendet. Der Flächenanteil ist ein Flächenanteil in einer zweidimensionalen Projektionsform, die durch Projizieren der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 auf die erste Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 erhalten wird. Die Verwendung des Flächenanteils ermöglicht die klare Definition der Oberflächenrauheit, die sehr gute Blendschutzeigenschaften und eine sehr gute Sichtbarkeit erzielen kann.
Das transparente Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, weist einen Flächenanteil des Abschnitts der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 von 0,5° oder weniger von 15 % oder weniger auf und kann folglich sehr gute Blendschutzeigenschaften und eine sehr gute Sichtbarkeit erzielen.
(Flächenanteil des Abschnitts mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats von 0,5° oder weniger: Berechnungsverfahren 1)
In der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 wird der Flächenanteil von deren Abschnitt mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 von 0,5 oder weniger durch die folgenden Vorgänge erhalten.
Eine Untersuchungsfläche von (111 bis 148) µm × (101 bis 135) µm auf der ersten Hauptoberfläche 11a mit dem darauf ausgebildeten Blendschutzfilm 14 des transparenten Substrats 11 wurde einer XYZ-Messung mit einer Objektivlinse mit 100-facher Vergrößerung unter Verwendung eines Lasermikroskops (Modellbezeichnung: VK-X210, hergestellt von Keyence) gemessen. Die Anzahl von Abtastdaten beträgt 2048 horizontal × 1536 vertikal, insgesamt 3145728. Die Untersuchungsfläche kann abhängig von den Bedingungen variieren, wie es vorstehend beschrieben worden ist. Hier wird der Fall von 145,0 µm × 108,8 µm beschrieben.
Die wie vorstehend erhaltenen Abtastdaten von 2048 horizontal × 1536 vertikal werden bereitgestellt und Daten von (1537 bis 2048) horizontal × 1536 vertikal werden entfernt, wodurch quadratische Daten erhalten werden. Eine genäherte Ebene der erhaltenen quadratischen Daten wird durch das Verfahren der kleinsten Fehlerquadrate erhalten. Eine Neigungskorrektur wird durch Subtrahieren der genäherten Ebene von den ursprünglichen Daten erhalten, wodurch quadratische Daten mit Neigungskorrektur X₀ erhalten werden. Die Daten X₁ , X₂ und X₃ , die durch Invertieren und Drehen der erhaltenen quadratischen Daten mit Neigungskorrektur erhalten werden, werden so angeordnet, wie es in der 7 gezeigt ist, wodurch quadratische Kompositdaten α von 3072 horizontal × 3072 vertikal erhalten werden.
Ein gleitender Durchschnitt-Filter wird auf die erhaltenen quadratischen Kompositdaten α angewandt. Es wird eine Filtermatrix bereitgestellt, die eine quadratische Matrix von 25 × 25 ist und in der alle Elemente 1/5 sind. Die quadratischen Kompositdaten α und die Filtermatrix werden einer zweidimensionalen kreisförmigen Faltungsverarbeitung unterzogen, worauf eine Filterverarbeitung durchgeführt wird, wodurch quadratische Kompositdaten 3072 × 3072 erhalten werden. Die quadratischen Kompositdaten werden nach der Filterverarbeitung in 1/4-Intervallen zwischen den jeweiligen Datenpunkten von 3072 horizontal × 3072 vertikal zweidimensional linear interpoliert, wodurch Daten nach der Interpolation von 12285 horizontal × 12285 vertikal erhalten werden. Die Interpolation nutzt die interp 2-Funktion von MATLAB R2008b, einer Software, die von MathWorks hergestellt wird. Die interp 2-Funktion umfasst ein Verfahren, das ein Interpolationsverfahren angibt, und „linear“ wird angegeben.
Anschließend werden die interpolierten Daten zu einer LCD-Pixelgröße reduziert. Die Pixel der LCD nehmen 264 ppi ein und eine Größe von 96,2 µm × 96,2 µm wird hergestellt. 10856 horizontal × 10856 vertikal werden aus den interpolierten Daten entnommen (eine Seite wird aus 96,2/108,8 × 12285 berechnet). Die entnommenen Daten werden linear zu 1024 horizontal × 1024 vertikal interpoliert und erneut aufgereiht, wie es in der 7 gezeigt ist, und invertierte und gedrehte Daten werden angeordnet, wodurch quadratische Kompositdaten β mit 2048 horizontal × 2048 vertikal als Größe von 384,8 µm × 384,8 µm erhalten werden. Die lineare Interpolation nutzt die interp 2-Funktion, die mit der Vorstehenden identisch ist, und in einem Verfahren ist „linear“ angegeben.
Die erhaltenen quadratischen Kompositdaten β mit 2048 horizontal × 2048 vertikal als Größe von 384,8 µm × 384,8 µm umfassen Daten, die eine Höhe betreffen. Ferner sind Intervalle von jeweiligen Maschen 384,8 µm/2047 = 188 nm.
Die Oberflächenneigung der erhaltenen quadratischen Kompositdaten β mit 2048 horizontal × 2048 vertikal als Größe von 384,8 µm × 384,8 µm wird berechnet. Der Normalenvektor der quadratischen Kompositdaten β wird unter Verwendung der surfnorm-Funktion von MATLAB R2008b berechnet. Insbesondere wenn die jeweiligen Matrizen der X-Koordinate, Y-Koordinate und Z-Koordinate in jedem Punkt von 2048 × 2048 Punkten der quadratischen Kompositdaten β Xa, Ya und Za sind, wird der Normalenvektor an jedem Punkt bestimmt, wenn diese surfnorm (Xa, Ya, Za) sind. Ein Winkel zwischen dem Normalenvektor an jedem Punkt und dem Normalenvektor einer vertikalen Glasoberfläche wird erhalten, der Winkel wird in der Form eines Histogramms in Einheiten von 0,1° angegeben, das Verhältnis der Gesamtheit der Winkel = 0 bis 0,5° zu der Gesamtheit in der Form eines Histogramms wird berechnet und ein Flächenanteil des Abschnitts mit 0,5° oder weniger wird erhalten.
(Flächenanteil des Abschnitts mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats von 0,5° oder weniger: Berechnungsverfahren 2)
Ein weiteres Beispiel des Erhaltens eines Verhältnisses des Abschnitts mit einer Oberflächenneigung von 0,5° oder weniger wird nachstehend beschrieben.
Ein SEM-Querschnittsbild wird mittels eines ultrahochauflösenden Rasterelektronenmikroskops des Feldemissionstyps SUS8230, das von Hitachi High-Technologies hergestellt ist, mit 10000-facher Vergrößerung aufgenommen. Die Aufnahmebedingungen sind in diesem Fall Beschleunigungsspannung: 2 kV, Sondenstrom: Normal, Emissionsstrom: 10 µA, Detektorbedingung: LA100(U). In dem SEM-Querschnittsbild wird die Breite einer 10 µm-Länge parallel zu der Hauptoberfläche eines transparenten Substrats untersucht, SEM-Bilder, in denen der Untersuchungsbereich kontinuierlich seitlich verschoben worden ist, werden aufgenommen und 40 oder mehr erhaltene Aufnahmen werden angeordnet, wodurch eine Abtastlänge von 400 µm erhalten wird. Diese SEM-Querschnittsbilder werden mittels einer Binärisierungssoftware binärisiert. Als Binärisierungssoftware wurde WinROOF 2015 (hergestellt von Mitani Corporation) verwendet. Der Abschnitt, bei dem die binärisierte Kontrastform der Schicht mit hohem Brechungsindex parallel zu der Hauptoberfläche des transparenten Substrats ist, d.h., der Abschnitt, bei dem die Oberflächenneigung zu der Hauptoberfläche 0,5° oder weniger beträgt, wird zu einer Linie parallel zu der Hauptoberfläche des transparenten Substrats projiziert und die Länge wird gemessen. Die Längen, die durch Projizieren der Abschnitte, bei denen die Neigung zu der Hauptoberfläche 0,5° oder weniger beträgt, zu einer Linie parallel zu der Hauptoberfläche des transparenten Substrats erhalten worden sind, werden aufaddiert und das Verhältnis der Längen zur Breite von 400 µm wird erhalten. Als Ergebnis wird ein Verhältnis des Abschnitts mit der Neigung von 0,5° oder weniger erhalten.
In der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, beträgt das Verhältnis von deren Abschnitt mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 von 0,5° oder weniger vorzugsweise 15 % oder weniger, mehr bevorzugt 12 % oder weniger und noch mehr bevorzugt 8 % oder weniger.
In der vorliegenden Anmeldung können die Werte des arithmetischen Mittenrauwerts: Ra und der durchschnittlichen Länge von Elementen: RSm, die aus dem zweidimensionalen Profil der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 erhalten wurden, das aus dem SEM-Querschnittsbild des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm erhalten worden ist, als Index für wenige flache Bereiche in der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 verwendet werden.
Ein SEM-Querschnittsbild wird mittels eines ultrahochauflösenden Rasterelektronenmikroskops des Feldemissionstyps SUS8230, das von Hitachi High-Technologies hergestellt ist, mit 10000-facher Vergrößerung aufgenommen. Die Aufnahmebedingungen sind in diesem Fall Beschleunigungsspannung: 2 kV, Sondenstrom: Normal, Emissionsstrom: 10 µA, Detektorbedingung: LA100(U). In dem SEM-Querschnittsbild wird die Breite einer 10 µm-Länge parallel zu der Oberfläche eines transparenten Substrats untersucht, SEM-Bilder, in denen der Untersuchungsbereich kontinuierlich seitlich verschoben worden ist, werden aufgenommen und 40 oder mehr erhaltene Aufnahmen werden kontinuierlich nebeneinander angeordnet, wodurch eine Abtastlänge von 400 µm erhalten wird. Diese SEM-Querschnittsbilder werden mittels einer Binärisierungssoftware binärisiert. Als Binärisierungssoftware wurde WinROOF 2015 (hergestellt von Mitani Corporation) verwendet. Das zweidimensionale Profil der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 wird aus dem binärisierten SEM-Querschnittsbild auf der Basis eines gleichzeitig angegebenen Längenmaßstabs digitalisiert und Ra und RSm werden erhalten. Die Ra und RSm werden als Bezugslänge: 80 µm und Bewertungslänge: 400 µm gemessen.
Der Ra, der aus dem zweidimensionalen Profil der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 erhalten worden ist, beträgt vorzugsweise 0,01 µm oder mehr und 0,4 µm oder weniger, mehr bevorzugt 0,02 µm oder mehr und 0,2 µm oder weniger und noch mehr bevorzugt 0,02 µm oder mehr und 0,1 µm oder weniger. Wenn der Ra mit der Untergrenze identisch oder größer als diese ist, wird eine reguläre Reflexion vermindert und als Ergebnis werden die Blendschutzeigenschaften verglichen mit einem transparenten Substrat mit einem Blendschutzfilm, das frei von der Schicht mit hohem Brechungsindex ist und dieselbe Oberflächenrauheitsstruktur aufweist, verbessert. Wenn der Ra mit der Obergrenze identisch oder kleiner als diese ist, wird in dem Fall, bei dem die Schicht mit niedrigem Brechungsindex auf die Schicht mit hohem Brechungsindex laminiert ist, die Rauheit der äußersten Oberfläche nicht zu groß und die Kratzfestigkeit wird verbessert.
Die RSm, die aus dem zweidimensionalen Profil der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 erhalten wird, beträgt vorzugsweise 0,8 µm oder mehr und 50 µm oder weniger, mehr bevorzugt 5 µm oder mehr und 25 µm oder weniger und noch mehr bevorzugt 8 µm oder mehr und 20 µm oder weniger. Wenn die RSm weniger als 0,8 µm beträgt, ist die RSm kleiner als die Wellenlängengrenze von sichtbarem Licht und es treten keine Blendschutzeigenschaften auf. Wenn die RSm die Obergrenze übersteigt, nähert sich der Winkel der Oberfläche der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 einer Parallelität zu der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 an und eine reguläre Reflexion nimmt zu. Als Ergebnis werden die Blendschutzeigenschaften verglichen mit einem transparenten Substrat mit einem Blendschutzfilm, das frei von einer Schicht mit hohem Brechungsindex ist und die gleiche Oberflächenrauheit aufweist, nicht verbessert.
Ein Verfahren des Bildens der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 mit wenigen flachen Bereichen in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 umfasst die folgenden Vorgänge.
Zuerst wird eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die niedriger angeordnet ist als die Schicht mit hohem Brechungsindex 13, auf der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 in der 1 gebildet. Ein Nassabscheidungsverfahren, wie z.B. ein Schleuderbeschichtungsverfahren, ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren oder ein Sprühverfahren, und ein Trockenabscheidungsverfahren, wie z.B. ein Vakuumabscheidungsverfahren, ein lonenstrahl-unterstütztes Abscheidungsverfahren, ein lonenplattierungsverfahren, ein Sputterverfahren oder ein Plasma-CVD-Verfahren, können zur Bildung der Schicht mit niedrigem Brechungsindex verwendet werden. Von diesen wird besonders bevorzugt ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren verwendet. Der Grund dafür liegt darin, dass eine Beschichtungsflüssigkeit, die feine Teilchen und ein Bindemittel enthält, verwendet wird, eine Oberflächenunebenheitsform leicht eingestellt werden kann und es einfach ist, eine raue Oberfläche mit wenigen flachen Bereichen zu bilden.
Als nächstes wird eine sogenannte Blendschutzbehandlung auf die Oberfläche der gebildeten Schicht mit niedrigem Brechungsindex angewandt und eine feine Rauheit wird auf der Oberfläche der Schicht mit niedrigem Brechungsindex gebildet. Die für diesen Zweck verwendete Blendschutzbehandlung ist nicht speziell beschränkt. Ein chemisches Behandlungsverfahren, das eine Ätzbehandlung umfasst, wie z.B. eine sogenannte Mattierungsbehandlung, kann verwendet werden, und ein physikalisches Behandlungsverfahren, wie z.B. ein Sandstrahlverfahren, kann verwendet werden.
Als nächstes wird die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 auf der Schicht mit niedrigem Brechungsindex gebildet, die eine feine Rauheit aufweist, die auf deren Oberfläche ausgebildet ist. Ein Nassabscheidungsverfahren, wie z.B. ein Schleuderbeschichtungsverfahren oder ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren, kann verwendet werden. Ein Trockenabscheidungsverfahren, wie z.B. ein Vakuumabscheidungsverfahren, ein lonenstrahl-unterstütztes Abscheidungsverfahren, ein lonenplattierungsverfahren, ein Sputterverfahren oder ein Plasma-CVD-Verfahren, wird aus den folgenden Gründen bevorzugt verwendet.
Die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 muss in einer einheitlichen Dicke auf der unebenen Form der Schicht mit niedrigem Brechungsindex abgeschieden werden. In dem Trockenabscheidungsverfahren kommen Ausgangsmaterialteilchen angeflogen und haften. Daher folgen die Ausgangsmaterialteilchen der unebenen Form und werden leicht in einer einheitlichen Dicke abgeschieden. Folglich kann das Trockenabscheidungsverfahren bevorzugt verwendet werden.
Als nächstes wird die Schicht mit niedrigem Brechungsindex auf der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 gebildet. Die Vorgänge zur Bildung der Schicht mit niedrigem Brechungsindex auf der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 können verschiedene Filmbildungsverfahren nutzen, die mit den Vorgängen zur Bildung der Schicht mit niedrigem Brechungsindex auf der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 identisch sind, jedoch können das Material der Schicht mit niedrigem Brechungsindex und das Abscheidungsverfahren verändert werden.
In dem transparenten Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, ist die Dicke der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 nicht speziell beschränkt, beträgt jedoch beispielsweise 5 bis 80 nm.
Wie es vorstehend beschrieben worden ist, können zwei oder mehr Schichten mit hohem Brechungsindex 13 als kontinuierliche Schicht in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 gebildet werden. Der Aufbau mit zwei oder mehr Schichten mit hohem Brechungsindex 13 als kontinuierliche Schicht in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 umfasst einen Aufbau mit einer TiO₂-Schicht (Dicke 11 nm), einer SiO₂-Schicht (Dicke 28 nm) und einer TiO₂-Schicht (Dicke 11 nm), die in dieser Reihenfolge in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 ausgebildet sind.
Wie es in der 1 gezeigt ist, weist die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12, die auf der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 ausgebildet ist, auch eine feine Unebenheit auf deren Oberfläche auf und die äußerste Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, d.h., eine äußerste Oberfläche 14a des Blendschutzfilms 14, weist eine Form mit einer feinen Unebenheit auf. In der vorliegenden Beschreibung wird die durchschnittliche Länge RSm von Elementen einer Rauheitskurve als Index der Oberflächenform des Blendschutzfilms 14 verwendet. Wie es vorstehend beschrieben ist, haben die vorliegenden Erfinder gefunden, dass dann, wenn die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 wenige flache Bereiche aufweist und RSm der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm klein ist, dieser Aufbau sehr gute Blendschutzeigenschaften und ein geringes Glitzern erreichen kann.
RSm der äußersten Oberfläche (d.h., der äußersten Oberfläche 14a des Blendschutzfilms 14) auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, beträgt 50 µm oder weniger. Dieser Aufbau kann sehr gute Blendschutzeigenschaften und ein geringes Glitzern erreichen. Das Glitzern, das hier verwendet wird, steht für den Grad, bei dem in dem Fall der Verwendung eines transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm in einem Abdeckmaterial für eine Anzeigevorrichtung des Pixelmatrixtyps viele Lichtteilchen mit einer Periode, die größer ist als diejenige einer Pixelmatrix, festgestellt werden und die Sichtbarkeit dadurch gestört wird. Lichtteilchen sind schwer festzustellen, wenn das Glitzern gering ist, und die Sichtbarkeit wird verbessert.
Die durchschnittliche Länge RSm von Elementen einer Rauheitskurve der äußersten Oberfläche 14a auf dem Blendschutzfilm 14 kann gemäß dem in JIS B0601-2001 festgelegten Verfahren gemessen werden.
Die RSm der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, beträgt vorzugsweise 30 µm oder weniger und mehr bevorzugt 20 µm oder weniger. Ferner beträgt die RSm der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, vorzugsweise 0,8 µm oder mehr und mehr bevorzugt 5 µm oder mehr. Wenn die RSm weniger als 0,8 µm beträgt, wobei es sich um das Wellenlängenende von sichtbarem Licht handelt, kann eine Streuung im Bereich von sichtbarem Licht nur schwer entwickelt werden und Blendschutzeigenschaften können nur schwer entwickelt werden.
Der Oberflächenmittenrauwert Ra der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 10 (d.h., der äußersten Oberfläche 14a des Blendschutzfilms 14) beträgt vorzugsweise 0,01 µm oder mehr und 0,15 µm oder weniger, mehr bevorzugt 0,02 µm oder mehr und 0,08 µm oder weniger und noch mehr bevorzugt 0,02 µm oder mehr und 0,06 µm oder weniger. Wenn Ra mit der Untergrenze identisch oder höher als diese ist, nimmt die reguläre Reflexion auf der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm nicht übermäßig zu und es werden Blendschutzeigenschaften erhalten, während ein Glitzern unterdrückt wird. Wenn Ra mit der Obergrenze identisch oder niedriger als diese ist, kann eine unebene Struktur, die von dem Blendschutzfilm stammt, auf der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm eine Abriebbeständigkeit sicherstellen.
Insbesondere weist in dem transparenten Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 einen Flächenanteil von deren Abschnitt mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 von 0,5° oder weniger von 15 % oder weniger und eine RSm der Oberfläche des Blendschutzfilms 14 von 50 µm oder weniger auf, und dadurch können sehr gute Blendschutzeigenschaften, eine sehr gute Sichtbarkeit und ein geringes Glitzern erreicht werden.
Durch die Bereitstellung der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 werden sehr gute Blendschutzeigenschaften erhalten. Wenn jedoch der Reflexionsgrad durch Bereitstellen der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 zu hoch ist, wird die Transparenz des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm beeinträchtigt. Daher ist der Reflexionsgrad sichtbaren Lichts vorzugsweise mit einem vorgegebenen Wert identisch oder geringer als dieser. Der Wert, der durch Subtrahieren der Summe eines durchschnittlichen Werts des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts II) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm in der Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche 11b des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm oder dem transparenten Substrat 11 und der Luft und eines durchschnittlichen Werts des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts III) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an der Grenzfläche zwischen der Seite der ersten Hauptoberfläche 11 des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm und der Luft von einem durchschnittlichen Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts I) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm erhalten wird, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm gemessen wird, beträgt vorzugsweise 0,2 bis 4 %. Der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts I) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a gemessen wird, ist der tatsächliche Messwert, der gemäß JIS R3106 gemessen wird. Der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts II) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an der Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche 11b und der Luft und der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts III) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an der Grenzfläche zwischen der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a und der Luft sind optisch berechnete Werte in einem Vierschichtaufbau, der durch Laminieren einer flachen Schicht, von der angenommen wird, dass sie die gleiche Filmdicke und das gleiche Produkt nk des Brechungsindex und des Dämpfungskoeffizienten wie in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 aufweist, einer flachen Schicht, von der angenommen wird, dass sie die gleiche Filmdicke und das gleiche Produkt nk des Brechungsindex und des Dämpfungskoeffizienten wie in der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 aufweist, und einer flachen Schicht, von der angenommen wird, dass sie die gleiche Filmdicke und das gleiche Produkt nk des Brechungsindex und des Dämpfungskoeffizienten wie in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 auf der Oberfläche des ideal flachen transparenten Substrats 11 aufweist, erhalten wird.
Ferner beträgt zum Beseitigen einer Reflexion an der Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche 11b des transparenten Substrats 11 und der Luft der Reflexionsgrad sichtbaren Lichts, der durch ausreichendes Schwärzen der Seite der zweiten Hauptoberfläche 11b des transparenten Substrats 11 und dann Messen von der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a (sichtbare Seite) unter Verwendung eines Spektrophotometers, das mit einer Ulbricht-Kugel ausgestattet ist, erhalten wird, vorzugsweise 0,2 bis 8 %.
<Zweite Ausführungsform>
Die 2 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch die zweite Ausführungsform des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung zeigt. Das transparente Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm, das in der 2 gezeigt ist, umfasst ein transparentes Substrat 21 mit einer ersten Hauptoberfläche 20a und einer zweiten Hauptoberfläche 20b und einen Blendschutzfilm 24, der auf der ersten Hauptoberfläche 21a ausgebildet ist. Eine Beschreibung des Aufbaus, der mit demjenigen der ersten Ausführungsform identisch ist, ist weggelassen.
In dem transparenten Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm, das in der 2 gezeigt ist, besteht der Blendschutzfilm 24 aus einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22, die auf der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 21 ausgebildet ist, und einer Schicht mit hohem Brechungsindex 23, die in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22 ausgebildet ist.
Die Schicht mit hohem Brechungsindex 23 in dem transparenten Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm, das in der 2 gezeigt ist, ist eine diskontinuierliche Schicht.
In der vorliegenden Beschreibung steht die diskontinuierliche Schicht für eine Schicht in einem Zustand, bei dem die Oberfläche einer Basisschicht nicht vollständig bedeckt ist und ein Teil der Basis nach dem Bedecken der Schicht freiliegt.
In dem transparenten Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm, das in der 2 gezeigt ist, wird die Schicht mit hohem Brechungsindex 23 als diskontinuierliche Schicht durch Dispergieren von flachen, plättchenartigen Teilchen mit hohem Brechungsindex in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22 in der Form von mehreren Schichten gebildet.
In der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22 in dem transparenten Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm, das in der 2 gezeigt ist, beträgt der Brechungsindex n_niedrig bei einer Wellenlänge von 550 nm 1,4 bis 1,8, wie dies in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 der ersten Ausführungsform der Fall ist. Das Aufbaumaterial der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22, bei welcher der Brechungsindex n_niedrig den vorstehend genannten Bereich erfüllt, ist mit demjenigen in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 identisch.
In den Teilchen mit hohem Brechungsindex in der Form eines flachen Plättchens, welche die Schicht mit hohem Brechungsindex 23 als diskontinuierliche Schicht in dem transparenten Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm bilden, das in der 2 gezeigt ist, ist der Brechungsindex n_hoch bei einer Wellenlänge von 550 nm mindestens 0,1 höher als der Brechungsindex n_niedrig der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22, wie dies bei der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 der ersten Ausführungsform der Fall ist. Das Aufbaumaterial der Teilchen mit hohem Brechungsindex in der Form eines flachen Plättchens mit einem Brechungsindex n_hoch, der den vorstehend genannten Bereich erfüllt, ist mit demjenigen in der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 identisch.
Die Teilchen mit hohem Brechungsindex in der Form eines flachen Plättchens werden als die Teilchen mit hohem Brechungsindex verwendet, welche die Schicht mit hohem Brechungsindex 23 als diskontinuierliche Schicht in dem transparenten Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm bilden, das in der 2 gezeigt ist, um Teilchen mit hohem Brechungsindex mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 21 von 0,5° oder weniger zu vermindern, und zwar durch Bilden eines Aufbaus, bei dem Teilchen mit hohem Brechungsindex eine Hauptoberfläche aufweisen, und Dispergieren der Teilchen mit hohem Brechungsindex in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22 in dem Zustand, bei dem die Hauptoberfläche zu der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 21 geneigt worden ist. Daher müssen die Teilchen mit hohem Brechungsindex lediglich eine flache Form aufweisen und umfassen sogenannte schuppenartige Teilchen, die von den flachen, plättchenförmigen Teilchen, die genauso sind, wie sie beschrieben worden sind, verschieden sind.
In dem transparenten Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm, das in der 2 gezeigt ist, beträgt von den Teilchen mit hohem Brechungsindex, welche die Schicht mit hohem Brechungsindex 2 bilden, der Flächenanteil der Teilchen mit hohem Brechungsindex mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 21 von 0,5° oder weniger 15 % oder weniger. Folglich kann das transparente Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm sehr gute Blendschutzeigenschaften und eine sehr gute Sichtbarkeit erreichen.
Der Flächenanteil ist der Flächenanteil in einer zweidimensionalen Projektionsform, die durch Projizieren der Teilchen mit hohem Brechungsindex, welche die Schicht mit hohem Brechungsindex 23 bilden, auf die erste Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 21 erhalten wird.
In dem Fall, bei dem die Schicht mit hohem Brechungsindex 23 eine diskontinuierliche Schicht ist, wird der Flächenanteil durch die folgenden Vorgänge erhalten.
Eine Probe des transparenten Substrats 20 mit einem Blendschutzfilm wird so hergestellt, dass ein Querschnitt in der Dickenrichtung untersucht werden kann. Der Querschnitt von Teilchen in der Probe wurde auf der Breite von insgesamt 100 µm mittels eines Rasterelektronenmikroskops SEM untersucht. Die Oberfläche der Probe wird mit Platin in einer Dicke von 5 nm beschichtet, um ein Aufladen zu verhindern, und wird mittels des SEM untersucht. Als SEM kann ein FE-SEM (Modellbezeichnung S4300), hergestellt von Hitachi, Ltd., verwendet werden, und die Probe wird bei den Bedingungen einer Beschleunigungsspannung: 5 kV und einer Vergrößerung: 50000 untersucht. Die Neigungswinkel zu der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 20 der gesamten Teilchen, die festgestellt werden können, werden mittels eines Untersuchungsbilds gemessen, das durch das SEM erhalten wird, und in dem Histogramm angezeigt, wodurch ein Häufigkeitsverhältnis eines Abschnitts mit einem Neigungswinkel von 0,5° oder weniger erhalten wird. Das Häufigkeitsverhältnis wird als äquivalent zu einem Flächenanteil erachtet. Daher wird das Häufigkeitsverhältnis als Flächenanteil des Abschnitts mit einer Oberflächenneigung von 0,5° oder weniger verwendet.
In dem transparenten Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm, das in der 2 gezeigt ist, beträgt von den Teilchen mit hohem Brechungsindex, welche die Schicht mit hohem Brechungsindex 23 bilden, der Flächenanteil der Teilchen mit hohem Brechungsindex mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 21 von 0,5° oder weniger vorzugsweise 15 % oder weniger, mehr bevorzugt 12 % oder weniger und noch mehr bevorzugt 8 % oder weniger.
Beispiele für die flachen, plättchenförmigen Teilchen mit hohem Brechungsindex umfassen plättchenförmiges Aluminiumoxid (Al₂O₃) und schuppenförmiges Aluminiumoxid (Al₂O₃). Das schuppenförmige Aluminiumoxid umfasst schuppenförmige Aluminiumoxid-Primärteilchen und Aluminiumoxid-Sekundärteilchen, die durch Ausrichten einer Mehrzahl von schuppenförmigen Aluminiumoxid-Primärteilchen, so dass die Flächen zueinander parallel sind und einander überlappen, gebildet werden. Beispiele für das schuppenförmige Aluminiumoxid umfassen Aluminiumoxid-Primärteilchen und Aluminiumoxid-Sekundärteilchen.
Die Dicke der Aluminiumoxid-Primärteilchen beträgt vorzugsweise 0,001 bis 0,1 µm. Wenn die Dicke der Aluminiumoxid-Primärteilchen in dem vorstehend genannten Bereich liegt, können schuppenförmige Aluminiumoxid-Sekundärteilchen gebildet werden, deren Flächen zueinander parallel sind oder bei denen eine Mehrzahl von schuppenförmigen Primärteilchen überlappt. Das Verhältnis der minimalen Länge zur Dicke der Aluminiumoxid-Primärteilchen beträgt vorzugsweise 2 oder mehr, mehr bevorzugt 5 oder mehr und noch mehr bevorzugt 10 oder mehr.
Die Dicke der Aluminiumoxid-Sekundärteilchen beträgt vorzugsweise 0,001 bis 3 µm und mehr bevorzugt 0,005 bis 2 µm. Das Verhältnis der minimalen Länge zur Dicke der Aluminiumoxid-Sekundärteilchen beträgt vorzugsweise 2 oder mehr, mehr bevorzugt 5 oder mehr und noch mehr bevorzugt 10 oder mehr. Die Aluminiumoxid-Sekundärteilchen liegen vorzugsweise voneinander unabhängig vor, ohne verschmolzen zu sein.
Das durchschnittliche Seitenverhältnis der schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen beträgt vorzugsweise 30 bis 200, mehr bevorzugt 40 bis 160 und noch mehr bevorzugt 50 bis 120. Wenn das durchschnittliche Seitenverhältnis der schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen mit der Untergrenze des Bereichs identisch oder höher als diese ist, werden ein Reißen und Ablösen des Blendschutzfilms ausreichend unterdrückt, obwohl die Dicke groß ist. Wenn das durchschnittliche Seitenverhältnis der schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen mit der Obergrenze des Bereichs identisch oder niedriger als diese ist, ist die Dispersionsstabilität in einer Beschichtungszusammensetzung beim Dispergieren der Teilchen mit hohem Brechungsindex in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 21 durch die nachstehend beschriebenen Vorgänge zufriedenstellend.
Das „Seitenverhältnis“ steht für ein Verhältnis der maximalen Länge zur Dicke von Teilchen (maximale Länge/Dicke) und das „durchschnittliche Seitenverhältnis“ ist ein durchschnittlicher Wert der Seitenverhältnisse von 50 zufällig ausgewählten Teilchen. Die Dicke des Teilchens wird durch ein Rasterkraftmikroskop (AFM) gemessen und die maximale Länge wird durch ein Transmissionselektronenmikroskop (TEM) gemessen.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser der schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen beträgt vorzugsweise 50 bis 500 nm und mehr bevorzugt 100 bis 300 nm. Wenn der durchschnittliche Teilchendurchmesser der schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen mit der Untergrenze des Bereichs identisch oder größer als diese ist, werden hervorragende Eigenschaften eines geringen Glitzerns erhalten. Ferner werden selbst dann, wenn die Dicke groß ist, ein Reißen und Ablösen des Blendschutzfilms ausreichend unterdrückt. Wenn der durchschnittliche Teilchendurchmesser der schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen mit der Obergrenze des Bereichs identisch oder kleiner als diese ist, wird die Trübung weiter vermindert. Ferner ist die Dispersionsstabilität in einer Beschichtungszusammensetzung beim Dispergieren der Teilchen mit hohem Brechungsindex in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex in den nachstehend beschriebenen Vorgängen zufriedenstellend.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser der schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen wird in der gleichen Weise wie der durchschnittliche Teilchendurchmesser von kugelförmigen Aluminiumoxidteilchen gemessen.
Nicht nur die schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen, sondern auch amorphe Aluminiumoxidteilchen, die erzeugt werden, wenn die schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen hergestellt werden, sind manchmal in einem Pulver oder einer Dispersion enthalten. Die schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen werden beispielsweise durch Brechen und Dispergieren von aggregatförmigen Aluminiumoxid-Tertiärteilchen (nachstehend manchmal als Aluminiumoxidaggregate bezeichnet) mit Hohlräumen gebildet, die so gebildet werden, dass schuppenförmige Aluminiumoxidteilchen ausflocken und unregelmäßig überlappen. Die amorphen Aluminiumoxidteilchen liegen in dem Zustand vor, bei dem Aluminiumoxidaggregate zu einem bestimmten Grad zerkleinert worden sind, liegen jedoch in einem Zustand vor, bei dem die Aluminiumoxidaggregate nicht zu einzelnen schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen zerkleinert worden sind, und weisen die Form auf, bei der eine Mehrzahl von schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen eine Masse bilden. In dem Fall, bei dem amorphe Aluminiumoxidteilchen enthalten sind, besteht die Möglichkeit, dass die Dichte des gebildeten Blendschutzfilms verschlechtert wird und ein Reißen und ein Filmablösen leicht stattfinden. Aus diesem Grund ist ein geringerer Gehalt von amorphen Aluminiumoxidteilchen in einem Pulver oder einer Dispersion bevorzugt.
Die amorphen Aluminiumoxidteilchen und Aluminiumoxidaggregate sind in einer TEM-Untersuchung schwarz sichtbar und die schuppenförmigen Aluminiumoxid-Primärteilchen oder Aluminiumoxid-Sekundärteilchen sind in einer TEM-Untersuchung grau oder halbtransparent sichtbar.
Als schuppenförmige Aluminiumoxidteilchen können handelsübliche Produkte verwendet werden und es können hergestellte Produkte verwendet werden.
Beispiele für handelsübliche Produkte der schuppenförmigen Aluminiumoxidteilchen umfassen AS-520-A, hergestellt von Nissan Chemical Industries, Ltd., und Cataloid-AS, hergestellt von JGC Catalysts and Chemicals Ltd.
Wie es in der 2 gezeigt ist, weist die Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die auf der Schicht mit hohem Brechungsindex als eine diskontinuierliche Schicht ausgebildet ist, eine feine Unebenheit auf deren Oberfläche auf und die äußerste Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 20 mit einem Blendschutzfilm, d.h., eine äußerste Oberfläche 24a des Blendschutzfilms 24, ist eine Form mit einer feinen Unebenheit. Wie es vorstehend beschrieben worden ist, haben die vorliegenden Erfinder gefunden, dass dann, wenn die Hauptoberflächen der flachen, plättchenförmigen Teilchen mit hohem Brechungsindex in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22 in dem Zustand verteilt sind, bei dem sie zu der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 20 geneigt sind, und die RSm der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 20 mit einem Blendschutzfilm gering ist, sehr gute Blendschutzeigenschaften und ein geringes Glitzern erreicht werden können.
Die RSm der äußersten Oberfläche (d.h., der äußersten Oberfläche 24a des Blendschutzfilms 24) auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 20 mit einem Blendschutzfilm, das in der 2 gezeigt ist, beträgt 50 µm oder weniger. Dadurch können sehr gute Blendschutzeigenschaften und ein geringes Glitzern erreicht werden. Die RSm der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 20 mit einem Blendschutzfilm beträgt vorzugsweise 30 µm oder weniger und mehr bevorzugt 20 µm oder weniger. Der Grund dafür liegt darin, dass das Glitzern aufgrund der Oberflächenform vermindert wird, wenn die RSm der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 20 mit einem Blendschutzfilm gering ist.
Ferner beträgt die RSm der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 20 mit einem Blendschutzfilm vorzugsweise 0,8 µm oder mehr und mehr bevorzugt 5 µm oder mehr. Der Grund dafür liegt darin, dass dann, wenn die RSm weniger als 0,8 µm beträgt, wobei es sich um die Wellenlängengrenze von sichtbarem Licht handelt, sichtbares Licht nur schwer gebeugt werden kann und Blendschutzeigenschaften nur schwer entwickelt werden können.
Die durchschnittliche Länge RSm von Elementen einer Rauheitskurve der Oberfläche des Blendschutzfilms 24 kann gemäß dem Verfahren gemessen werden, das in JIS B0601-2001 festgelegt ist.
Insbesondere beträgt bei dem transparenten Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm, das in der 2 gezeigt ist, von den Teilchen mit hohem Brechungsindex, welche die Schicht mit hohem Brechungsindex 23 bilden, der Flächenanteil der Teilchen mit hohem Brechungsindex mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 21 von 0,5° oder weniger 15 % oder weniger und die RSm der Oberfläche der Blendschutzschicht 24 beträgt 50 µm oder weniger. Folglich kann das transparente Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm sehr gute Blendschutzeigenschaften, eine sehr gute Sichtbarkeit und ein geringes Glitzern erreichen.
Der Blendschutzfilm 24 des transparenten Substrats 20 mit einem Blendschutzfilm, das in der 2 gezeigt ist, kann z.B. durch die folgenden Vorgänge gebildet werden.
Eine Beschichtungsflüssigkeit, die durch Mischen von flachen, plättchenförmigen Teilchen mit hohem Brechungsindex (beispielsweise schuppenförmigen Aluminiumoxid (Al₂O₃)-Teilchen) mit festen bzw. massiven Teilchen von Materialien mit niedrigem Brechungsindex (beispielsweise Siliziumoxid (SiO₂)) zusammen mit einem Matrixmittel aus einem Material mit niedrigem Brechungsindex (beispielsweise Siliziumoxid (SiO₂)) erhalten wird, wird auf die erste Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 21 durch ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren aufgebracht und dann bei vorgegebenen Temperaturbedingungen gebrannt. Das Zentrum der Verteilung eines Winkels, bei dem die flachen, plättchenförmigen Teilchen mit hohem Brechungsindex in der Matrix aus dem Material mit niedrigem Brechungsindex geneigt sind, kann durch geeignetes Auswählen des Massenverhältnisses zwischen den flachen, plättchenförmigen Teilchen mit hohem Brechungsindex und den festen bzw. massiven Teilchen des Materials mit niedrigem Brechungsindex, des Durchmessers der festen Teilchen aus dem Material mit niedrigem Brechungsindex und dem Massenverhältnis der flachen, plättchenförmigen Teilchen mit hohem Brechungsindex und der festen bzw. massiven Teilchen des Materials mit niedrigem Brechungsindex zu dem Matrixmittel aus dem Material mit niedrigem Brechungsindex eingestellt werden.
Der Gehalt der flachen, plättchenförmigen Teilchen mit hohem Brechungsindex in der Beschichtungsflüssigkeit beträgt vorzugsweise 5 bis 50 Vol.-%.
In der zweiten Ausführungsform ist die Schicht mit hohem Brechungsindex 23 eine diskontinuierliche Schicht. Das Material, das die diskontinuierliche Schicht mit hohem Brechungsindex 23 bildet, weist eine flache Plättchenform auf und ist vorzugsweise so angeordnet, dass es nicht parallel zu der ersten Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 21 ist. In dem Fall, bei dem die Schicht mit hohem Brechungsindex eine kontinuierliche Schicht ist, wird ein Teil der Oberseite des konvexen Teils und der Unterseite des konkaven Teils in dem unebenen Teil, der die kontinuierliche Schicht bildet, nicht an der Bildung des Teils parallel zu der Hauptoberfläche des transparenten Substrats gehindert. Aus diesem Grund werden in der zweiten Ausführungsform hervorragende optische Eigenschaften erhalten. Zum Bewirken, dass das flache, plättchenförmige Material mit hohem Brechungsindex nicht parallel zu der Hauptoberfläche 21a des transparenten Substrats 21 ist, sind feine Teilchen mit dem gleichen Brechungsindex wie die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22 und mit einem durchschnittlichen Durchmesser, der kleiner ist als der durchschnittliche Durchmesser (Umrechnung in einen perfekten Kreis) der flachen, plättchenförmigen Schicht mit hohem Brechungsindex enthalten.
<Dritte Ausführungsform>
Die 3 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch eine dritte Ausführungsform des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung zeigt. Ein transparentes Substrat 30 mit einem Blendschutzfilm, das in der 3 gezeigt ist, umfasst ein transparentes Substrat 31 mit einer ersten Hauptoberfläche 31a und einer zweiten Hauptoberfläche 31b und einen Blendschutzfilm 34, der auf der ersten Hauptoberfläche 31a ausgebildet ist. Der Blendschutzfilm 34 besteht aus einer Schicht mit hohem Brechungsindex 33, der auf der ersten Hauptoberfläche 31a des transparenten Substrats 31 ausgebildet ist, und einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex 32, die in der Schicht mit hohem Brechungsindex 33 ausgebildet ist.
Die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 32 in dem transparenten Substrat 30 mit einem Blendschutzfilm, das in der 3 gezeigt ist, ist eine kontinuierliche Schicht.
Mit anderen Worten, die Blendschutzschicht weist einen Aufbau auf, in dem die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 und die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 des Blendschutzfilms 14 in der ersten Ausführungsform gegeneinander ausgetauscht sind, und weist den gleichen Effekt wie in der ersten Ausführungsform auf.
Daher sollte abgesehen von der Beschreibung, die den Brechungsindex jeder Schicht, die Differenz zwischen den Brechungsindizes und das Aufbaumaterial jeder Schicht betrifft, die Beschreibung, welche die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 und die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 in der ersten Ausführungsform betrifft, durch die Beschreibung ersetzt werden, welche die Schicht mit hohem Brechungsindex 33 bzw. die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 32 betrifft. Die Beschreibung, die den Brechungsindex jeder Schicht, die Differenz zwischen den Brechungsindizes und das Aufbaumaterial jeder Schicht betrifft, bezieht sich darauf, dass die Beschreibung bezüglich der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 und der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 in der ersten Ausführungsform durch die Beschreibung bezüglich der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 32 bzw. der Schicht mit hohem Brechungsindex 33 ersetzt werden sollte.
In diesem Fall ist der Brechungsindex n_hoch bei einer Wellenlänge von 550 nm 1,8 oder weniger. Der Grund dafür besteht darin, dass dann, wenn der Brechungsindex n_hoch der Schicht mit hohem Brechungsindex 33 mit der Obergrenze identisch oder niedriger als diese ist, die Durchlässigkeit für sichtbares Licht erhöht wird. Der Brechungsindex n_hoch bei einer Wellenlänge von 550 nm beträgt vorzugsweise 1,6 oder weniger und mehr bevorzugt 1,5 oder weniger.
Der Brechungsindex n_hoch bei einer Wellenlänge von 550 nm beträgt 1,4 oder mehr. Der Grund dafür besteht darin, dass jedweder Reflexionsgrad einfach gestaltet werden kann, wenn die Differenz zu dem Brechungsindex n_niedrig bei einer Wellenlänge von 550 groß wird. Ein weiterer Grund besteht darin, dass in dem Fall, bei dem die Schicht mit hohem Brechungsindex 33 weniger als 1,4 aufweist, ein Material, das als die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 32 verwendet werden kann, extrem beschränkt ist, beispielsweise auf MgF₂ (Brechungsindex 1,38). Der Brechungsindex n_hoch bei einer Wellenlänge von 550 nm beträgt mehr bevorzugt 1,45 oder mehr.
Ein niedrigerer Brechungsindex n_niedrig bei einer Wellenlänge von 550 nm ist bevorzugt und 1,4 oder weniger ist bevorzugt.
Der gleiche Effekt wie in der ersten Ausführungsform zeigt sich sogar in der dritten Ausführungsform. Bei der dritten Ausführungsform ist verglichen mit der ersten Ausführungsform die Differenz des Brechungsindex an der Grenzfläche zwischen der Schicht mit hohem Brechungsindex 33 und der Luft erhöht und der Absolutwert der Oberflächenreflexionsstreuung, die eine Streuung von einfallendem Licht in der Luft und der äußersten Oberfläche auf der Seite der ersten Hauptoberfläche 31a des transparenten Substrats 30 ist, ist erhöht. In dem Fall, bei dem die Oberflächenreflexionsstreuung unterdrückt werden soll, ist die erste Ausführungsform bevorzugt.
<Vierte Ausführungsform>
Die 4 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch eine vierte Ausführungsform des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm der vorliegenden Erfindung zeigt. Das transparente Substrat 40 mit einem Blendschutzfilm, das in der 4 gezeigt ist, umfasst ein transparentes Substrat 41 mit einer ersten Hauptoberfläche 41a und einer zweiten Hauptoberfläche 41 b und einen Blendschutzfilm 44, der auf der ersten Hauptoberfläche 41a des transparenten Substrats 41 ausgebildet ist, wobei der Blendschutzfilm 44 aus einer Schicht mit hohem Brechungsindex 43, die auf der ersten Hauptoberfläche 41a des transparenten Substrats 41 ausgebildet ist, und einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex 42, die in der Schicht mit hohem Brechungsindex 43 ausgebildet ist, besteht.
Die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 42 in dem transparenten Substrat 40 mit einem Blendschutzfilm, das in der 4 gezeigt ist, ist eine diskontinuierliche Schicht.
Mit anderen Worten, die Blendschutzschicht weist einen Aufbau auf, bei dem die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22 und die Schicht mit hohem Brechungsindex 23 des Blendschutzfilms 24 in der zweiten Ausführungsform gegeneinander ausgetauscht sind. Daher sollte abgesehen von der Beschreibung, die den Brechungsindex jeder Schicht, die Differenz zwischen den Brechungsindizes und das Aufbaumaterial jeder Schicht betrifft, die Beschreibung, welche die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22 und die Schicht mit hohem Brechungsindex 23 in der zweiten Ausführungsform betrifft, durch die Beschreibung ersetzt werden, welche die Schicht mit hohem Brechungsindex 43 bzw. die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 42 betrifft. Die Beschreibung, die den Brechungsindex jeder Schicht, die Differenz zwischen den Brechungsindizes und das Aufbaumaterial jeder Schicht betrifft, bezieht sich darauf, dass die Beschreibung bezüglich der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 22 und der Schicht mit hohem Brechungsindex 23 in dem transparenten Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm, das in der 2 gezeigt ist, durch die Beschreibung bezüglich der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 42 bzw. der Schicht mit hohem Brechungsindex 43 ersetzt werden sollte.
Der gleiche Effekt wie in der zweiten Ausführungsform zeigt sich sogar in der vierten Ausführungsform. Bei der vierten Ausführungsform ist verglichen mit der zweiten Ausführungsform die Differenz des Brechungsindex an der Grenzfläche zwischen der Schicht mit hohem Brechungsindex 43 und der Luft erhöht und der Absolutwert der Oberflächenreflexionsstreuung ist erhöht. In dem Fall, bei dem die Oberflächenreflexionsstreuung unterdrückt werden soll, ist die vierte Ausführungsform bevorzugt.
In der vierten Ausführungsform ist die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 42 eine diskontinuierliche Schicht. Das Material, das die diskontinuierliche Schicht mit niedrigem Brechungsindex 42 bildet, ist flach und plättchenförmig und vorzugsweise so angeordnet, dass es nicht parallel zu der ersten Hauptoberfläche 41a des transparenten Substrats 41 ist. In dem Fall, bei dem die Schicht mit niedrigem Brechungsindex eine kontinuierliche Schicht ist, wird ein Teil der Oberseite des konvexen Teils und der Unterseite des konkaven Teils in dem unebenen Teil, der die kontinuierliche Schicht bildet, nicht an der Bildung des Teils parallel zu der Hauptoberfläche des transparenten Substrats gehindert. Aus diesem Grund werden in der vierten Ausführungsform hervorragende optische Eigenschaften erhalten. Zum Bewirken, dass das flache, plättchenförmige Material mit hohem Brechungsindex nicht parallel zu der Hauptoberfläche 41a des transparenten Substrats 41 ist, sind feine Teilchen mit dem gleichen Brechungsindex wie die Schicht mit niedrigem Brechungsindex und mit einem durchschnittlichen Durchmesser, der kleiner ist als der durchschnittliche Durchmesser (Umrechnung in einen perfekten Kreis) der flachen, plättchenförmigen Schicht mit hohem Brechungsindex enthalten.
<Anzeigevorrichtung>
Die 8 ist eine Querschnittsansicht einer Anzeigevorrichtung 100, bei der das transparente Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm der ersten Ausführungsform als Abdeckungselement 160 verwendet wird. Wie es in der 8 gezeigt ist, weist die Anzeigevorrichtung 100 ein Gehäuse 120 mit einem konkaven Teil 130 auf und ein Anzeigefeld 140, wie z.B. ein Flüssigkristallfeld, eine Hintergrundbeleuchtung 150 und dergleichen sind in dem konkaven Teil 130 angeordnet. In dem transparenten Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm ist die Seite der zweiten Hauptoberfläche 11b des transparenten Substrats 11 mittels einer Haftschicht 170 auf das Anzeigefeld 140 und das Gehäuse 120 laminiert. Eine gedruckte Schicht 180 mit einer darauf gedruckten lichtabschirmenden Druckfarbe ist auf dem Rand der zweiten Hauptoberfläche 11b des transparenten Substrats 11 ausgebildet. Die Anzeigevorrichtung 100 kann ferner mit einem Ablenkungssubstrat, einem Pixelsubstrat, einem Farbfilter und dergleichen versehen sein.
Ferner können das transparente Substrat 20 mit einem Blendschutzfilm der zweiten Ausführungsform, das transparente Substrat 30 mit einem Blendschutzfilm der dritten Ausführungsform und das transparente Substrat 40 mit einem Blendschutzfilm der vierten Ausführungsform als das Abdeckungselement 160 verwendet werden.
Wie es vorstehend beschrieben worden ist, können gemäß den transparenten Substraten 10, 20, 30 und 40 mit einem Blendschutzfilm, die in den 1, 2, 3 und 4 gezeigt sind, sehr gute Blendschutzeigenschaften, eine sehr gute Sichtbarkeit und ein geringes Glitzern erreicht werden.
(Blendschutzeigenschaften)
Die Blendschutzeigenschaften wurden unter Verwendung des Reflexionsbild-Streuindexwerts R bewertet.
(Reflexionsbild-Streuindexwert R)
Das Messverfahren für den Reflexionsbild-Streuindexwert R ist nachstehend unter Bezugnahme auf die 5 und 6 beschrieben.
Die 5 zeigt schematisch ein Beispiel für eine Messvorrichtung, die zum Messen des Reflexionsbild-Streuindexwerts R eines Abdeckungselements verwendet wird.
Wie es in der 5 gezeigt ist, weist eine Messvorrichtung 501 eine lineare Lichtquellenvorrichtung 507 und ein Oberflächenhelligkeit-Messgerät 515 auf.
Die lineare Lichtquellenvorrichtung 507 weist eine Lichtquelle 511 und eine schwarze flache Platte 512 um die Lichtquelle auf. In der 5 ist die Lichtquelle 511 eine lineare Lichtquelle, die sich in einer Richtung vertikal zu einer Papieroberfläche erstreckt und in einer schlitzförmigen Öffnung angeordnet ist, die in der Mitte der schwarzen flachen Platte 512 bereitgestellt ist.
Das Oberflächenhelligkeit-Messgerät 515 ist auf einer Ebene senkrecht zu einer Längsachse der Lichtquelle 511 angeordnet und durchläuft nahezu die Mitte der Lichtquelle 511. Daher ist das Oberflächenhelligkeit-Messgerät 515 so angeordnet, dass es auf die Lichtquelle 511 in der Nähe der Mitte der Lichtquelle 511 entlang der Längsachse gerichtet ist. Der Abstand zwischen dem Oberflächenhelligkeit-Messgerät 515 und der Lichtquelle 511 beträgt etwa 60 mm.
Das Oberflächenhelligkeit-Messgerät 515 fokussiert auf das Bild der linearen Lichtquellenvorrichtung 507, das auf einer Außenoberfläche 522 eines transparenten Substrats 520 mit einem Blendschutzfilm reflektiert wird.
Das transparente Substrat 520 mit einem Blendschutzfilm, das gemessen werden soll, wird derart in der Messvorrichtung 501 angeordnet, dass die Außenoberfläche 522 mit einem Blendschutzfilm auf die Seite der linearen Lichtquellenvorrichtung 507 und des Oberflächenhelligkeit-Messgeräts 515 gerichtet ist. In dem Fall des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm gemäß den Beispielen 1 und 2 und den Vergleichsbeispielen 1 und 2 ist die Außenoberfläche 522 eine Außenoberfläche mit einem Blendschutzfilm. Die gegenüberliegende Oberfläche, die auf die Oberfläche mit einem Blendschutzfilm gerichtet ist, wird mittels eines Mitsubishi Paint Marker PX-30 (hergestellt von Mitsubishi Pencil Co., Ltd.) ausreichend geschwärzt. Der Grund dafür ist das Beseitigen einer Reflexion von der Rückseite einer transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm/Luft-Grenzfläche, wenn die Messung durchgeführt wird.
Bei der Messung des Reflexionsbild-Streuindexwerts R des Abdeckungselements 520 mittels der Messvorrichtung 501 wird Licht von der Lichtquelle 511 der linearen Lichtquellenvorrichtung 507 in die Richtung der Außenoberfläche 522 des transparenten Substrats 520 mit einem Blendschutzfilm emittiert.
Das Licht, das von der linearen Lichtquellenvorrichtung 507 emittiert wird, tritt in die Außenoberfläche 522 des transparenten Substrats 520 mit einem Blendschutzfilm bei einem Einfallswinkel θ_i ein. Ferner wird das Licht auf der Außenoberfläche 522 des transparenten Substrats 520 mit einem Blendschutzfilm bei einem Reflexionswinkel θ_r reflektiert und/oder gestreut und tritt in das Oberflächenhelligkeit-Messgerät 515 ein.
Beispielsweise zeigt die 5 den Zustand, bei dem ein erstes einfallendes Licht 531 von der linearen Lichtquellenvorrichtung 507 auf der Außenoberfläche 522 regulär reflektiert wird, so dass es reflektiertes Licht 532 wird, und dann in das Oberflächenhelligkeit-Messgerät 515 eintritt.
In diesem Fall gilt θ_r - θ_i = 0° zwischen dem Einfallswinkel θ_i des ersten einfallenden Lichts 531 und dem Reflexionswinkel θ_r des ersten reflektierten Lichts 532.
Bei einer solchen regulären Reflexion ist insbesondere in dem Fall von Einfallswinkel θ_i = Reflexionswinkel θ_r = 5,7° die Helligkeit des ersten reflektierten Lichts 532, das mit dem Oberflächenhelligkeit-Messgerät 515 gemessen wird, als R₁ festgelegt. Da jedoch in der Praxis ein Fehler enthalten ist, ist die Helligkeit R₁ die Helligkeit des ersten reflektierten Lichts 532, das in θ_r - θ_i = 5,7° ± 0,1° gemessen wird.
Andererseits zeigt die 6 den Zustand, bei dem ein zweites einfallendes Licht 533 von der linearen Lichtquellenvorrichtung 507 auf der Außenoberfläche 522 gestreut und reflektiert wird, so dass es ein zweites reflektiertes Licht 534 wird, und in das Oberflächenhelligkeit-Messgerät 515 eintritt.
Insbesondere ist die Helligkeit des zweiten reflektierten Lichts 534, das in dem Oberflächenhelligkeit-Messgerät 515 in dem Fall gemessen wird, bei dem θ_r - θ_i = 0,5° ±0,1° zwischen dem Einfallswinkel θ_i des zweiten einfallenden Lichts 533 und dem Reflexionswinkel θ_r des zweiten reflektierten Lichts 534 gilt, als R₂ festgelegt.
Die Helligkeit des zweiten reflektierten Lichts 534, das in dem Oberflächenhelligkeit-Messgerät 515 in dem Fall gemessen wird, bei dem θ_r - θ_i = -0,5° ±0,1° zwischen dem Einfallswinkel θ_i des zweiten einfallenden Lichts 533 und dem Reflexionswinkel θ_r des zweiten reflektierten Lichts 534 gilt, ist als R₃ festgelegt.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R des Abdeckmaterials 520 wird durch die folgende Formel (1) mittels der so erhaltenen Helligkeit R₁, R₂ und R₃ berechnet. $Reflexionsbild - Streuindexwert R = (R_{2} + R_{3}) / (2 \times R_{1})$
Es wird bestätigt, dass der Reflexionsbild-Streuindexwert R eine gute Korrelation mit Beurteilungsergebnissen von Blendschutzeigenschaften durch eine visuelle Untersuchung durch einen Betrachter aufweist. Beispielsweise weist das transparente Substrat 520 mit einem Blendschutzfilm, das einen geringen Reflexionsbild-Streuindexwert R (nahe bei 0) zeigt, schlechte Blendschutzeigenschaften auf, und andererseits weist das transparente Substrat 520 mit einem Blendschutzfilm, das einen großen Reflexionsbild-Streuindexwert R (so groß, dass er nahe bei 1 liegt) zeigt, gute Blendschutzeigenschaften auf.
Die Messung kann beispielsweise durch die Vorrichtung SMS-1000, hergestellt von DM&S, durchgeführt werden. In dem Fall, bei dem diese Vorrichtung verwendet wird, wird ein C1614A-Objektiv mit einer Brennweite des Kameraobjektivs von 16 mm bei einer Blende von 5,6 verwendet. Der Abstand von der Außenoberfläche 522 zu dem Kameraobjektiv beträgt etwa 300 mm und der Bildgebungsmaßstab wird auf einen Bereich von 0,0276 bis 0,0278 eingestellt.
In dieser Vorrichtung ist die Größe einer Öffnung eines Schlitzes, der in der schwarzen flachen Platte 512 der linearen Lichtquellenvorrichtung 507 ausgebildet ist, 101 mm × 1 mm.
Die transparenten Substrate 10, 20, 30 und 40 mit einem Blendschutzfilm, die in den 1, 2, 3 und 4 gezeigt sind, weisen einen Reflexionsbild-Streuindexwert R von vorzugsweise 0,1 oder mehr und mehr bevorzugt 0,2 oder mehr auf. Wenn der Reflexionsbild-Streuindexwert R der transparenten Substrate 10 und 20 mit einem Blendschutzfilm 0,1 oder mehr beträgt, ergeben sich hervorragende Blendschutzeigenschaften, wenn sie in einer Bildanzeigevorrichtung verwendet werden.
Ferner liegt der Reflexionsbild-Streuindexwert R im Hinblick auf die Verbesserung der Blendschutzeigenschaften vorzugsweise nahe bei 1,0.
In der vorliegenden Beschreibung wird der Glitzerindexwert (Glitzerschutz): S, der durch die folgenden Vorgänge gemessen wird, als Glitzerindex verwendet.
Der Glitzerindexwert (Glitzerschutz) zeigt den Grad, zu dem die Ungleichmäßigkeit eines hellen Punkts, die durch die Streuung dieses Lichts (Bild) von einem Anzeigebild, wenn es durch eine Glasplatte hindurchtritt, und gestreutes Licht erzeugt wird, das eine wechselseitige Interferenz aufweist, erfasst wird, und es wird bestätigt, dass der Glitzerindexwert eine gute Korrelation mit Beurteilungsergebnissen eines Glitzerns durch eine visuelle Untersuchung durch einen Betrachter aufweist. Beispielsweise zeigt eine Glasplatte mit einem geringen Glitzerindexwert S ein beträchtliches Glitzern und andererseits neigt eine Glasplatte mit einem großen Glitzerindexwert S dazu, dass sie ein Glitzern unterdrückt.
(Glitzerindexwert S)
Das Messverfahren des Glitzerindexwerts (Glitzerschutz): S eines transparenten Substrats wird unter Verwendung der 9 beschrieben.
Zur Messung des Glitzerindexwerts S wird eine Anzeigevorrichtung 806 (iPad, dritte Generation (eingetragene Marke); Auflösung 264 ppi) vorbereitet. Die Anzeigevorrichtung kann mit einer Abdeckung versehen sein, so dass ein Brechen auf der Seite der Anzeigeoberfläche verhindert wird.
Eine zu messende Probe, d.h., ein transparentes Substrat 803 mit einem Blendschutzfilm (oder ein transparentes Substrat mit einer Blendschutzfunktion durch eine Blendschutzverarbeitung), wird auf der Seite der Anzeigeoberfläche der Anzeigevorrichtung angeordnet. In dem Fall, bei dem ein Blendschutzfilm auf einer ersten Hauptoberfläche 804 ausgebildet ist, die eine Hauptoberfläche des transparenten Substrats 803 mit einem Blendschutzfilm ist, wird das transparente Substrat 803 mit einem Blendschutzfilm derart auf der Seite der Anzeigeoberfläche der Anzeigevorrichtung angeordnet, dass die erste Hauptoberfläche 804 die Seite gegenüber der Anzeigevorrichtung 806 wird (Seite des Detektors 802). Mit anderen Worten, eine zweite Hauptoberfläche 805, die eine weitere Hauptoberfläche ist, ist auf der Anzeigevorrichtung 806 angeordnet.
Der Grad des Glitzerns des transparenten Substrats 803 mit einem Blendschutzfilm wird mittels eines Analysegeräts (SMS-1000; hergestellt von Display-Messtechnik & Systeme (DM&S)) in dem Zustand einer Bildanalyse unterzogen, bei dem die Anzeigevorrichtung eingeschaltet ist und ein Bild angezeigt wird. Dadurch wird das Glitzern S_a erhalten, das als Glitzerwert angegeben wird.
Bei der Messung ist es bevorzugt, dass ein grünes monochromatisches Bild, das aus RGB (0, 255, 0) aufgebaut ist, auf der gesamten Anzeigeoberfläche der Anzeigevorrichtung 806 angezeigt wird. Der Grund dafür liegt darin, einen Einfluss, wie z.B. eine Differenz des Aussehens aufgrund der Differenz bei der Anzeigefarbe, soweit wie möglich zu vermindern. Der Abstand d zwischen einem Festkörper-Bildsensor und einem transparenten Substrat mit einer Blendschutzfunktion betrug 540 mm. Der Abstand d entspricht r = 10,8 bezogen auf den Abstandsindex r.
Der hier verwendete Abstandsindex r wird durch die folgende Formel mittels der Brennweite f des Festkörper-Bildsensors und des Abstands d zwischen dem Festkörper-Bildsensor und dem transparenten Substrat dargestellt: $\begin{array}{l} Abstandsindex r = (Abstand d zwischen dem Festk \ddot{o} rper - Bildsensor und dem tranparenten \\ Substrat mit einem Blendschutzfilm) / (Brennweite f des Festk \ddot{o} per - Bildsensors) \end{array}$
Die gleiche Messung wird mit einer Referenzprobe durchgeführt. Die Referenzprobe ist ein Glassubstrat (VRD140-Glas; hergestellt von AGC Glass Europe) mit der gleichen Dicke wie das transparente Substrat 803 mit einem Blendschutzfilm.
Der erhaltene Glitzerwert wird als Glitzern S_s bezeichnet.
Der Glitzerindexwert S des transparenten Substrats 803 mit einem Blendschutzfilm wird aus den so erhaltenen S_a und S_s durch die folgende Formel (2) berechnet. $Glitzerindexwert S=1- (S_{a} / S_{s})$
Es wird bestätigt, dass der Glitzerindexwert (Glitzerschutz) S eine gute Korrelation mit den Beurteilungsergebnissen des Glitzerns durch eine visuelle Untersuchung durch einen Betrachter aufweist. Beispielsweise zeigt ein transparentes Substrat mit einem geringen Glitzerindexwert S ein beträchtliches Glitzern und andererseits neigt ein transparentes Substrat mit einem großen Glitzerindexwert S dazu, dass es ein unterdrückt.
Bei dieser Messung wird ein 23FM50SP-Objektiv mit einer Brennweite von 50 mm vorzugsweise mit einer Blende von 5,6 als Kameraobjektiv verwendet.
(Sichtbarkeitsindexwert T)
In der vorliegenden Beschreibung wird ein Sichtbarkeitsindexwert (Klarheit): T, der durch die folgenden Vorgänge gemessen wird, als Sichtbarkeitsindex verwendet.
Die Sichtbarkeit (Klarheit) zeigt den Grad des Zusammenfallens eines erhaltenen Bilds verglichen mit einem Anzeigebild, wenn das Anzeigebild visuell durch eine Glasplatte erkannt wird, und es wird bestätigt, dass die Sichtbarkeit eine gute Korrelation mit Beurteilungsergebnissen der Sichtbarkeit (Auflösung) durch eine visuelle Untersuchung durch einen Betrachter aufweist. Beispielsweise weist eine Glasplatte mit einem kleinen Wert (nahe bei 0) des Sichtbarkeitsindexwerts T eine schlechte Sichtbarkeit auf und andererseits weist eine Glasplatte mit einem großen Sichtbarkeitsindexwert T eine gute Sichtbarkeit auf. Daher kann der Sichtbarkeitsindexwert T als quantitativer Index bei der Beurteilung der Sichtbarkeit einer Glasplatte verwendet werden.
Der Sichtbarkeitsindexwert T wurde mit einem Goniophotometer GC5000L, hergestellt von Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., in den folgenden Vorgängen gemessen. Ein erstes Licht wurde von der Seite gegenüber der Hauptoberfläche, auf der ein Blendschutzfilm des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm ausgebildet ist, in der Richtung eines Winkels θ = 0° ±0,5° (nachstehend als „Richtung des Winkels 0°“ bezeichnet) emittiert, wenn eine Richtung parallel zu einer Dickenrichtung des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm der Winkel θ = 0° ist. Das erste Licht trat durch das transparente Substrat mit einem Blendschutzfilm hindurch und das von der Hauptoberfläche mit einem darauf ausgebildeten Blendschutzfilm durchgelassene Licht wird zur Messung von dessen Helligkeit empfangen. Die Helligkeit wurde als „Helligkeit von 0°-durchgelassenem Licht“ bezeichnet.
Der gleiche Vorgang wurde durch Ändern des Winkels θ des empfangenen Lichts, das von der Hauptoberfläche mit einem darauf ausgebildeten Blendschutzfilm emittiert wird, in einem Bereich von -30° bis 30° durchgeführt. Durch diesen Vorgang wurden Helligkeitsverteilungen des Lichts, das durch das transparente Substrat mit einem Blendschutzfilm hindurchgetreten und von der Hauptoberfläche mit einem darauf ausgebildeten Blendschutzfilm emittiert worden ist, gemessen und summiert. Die Summe wurde als „Helligkeit des gesamten durchgelassenen Lichts“ bezeichnet.
Der Sichtbarkeitsindexwert (Klarheit): T wurde aus der folgenden Formel (3) berechnet. $\begin{array}{l} Sichtbarkeitsindexwert (Klarheit) : T = Helligkeit des durchgelassenen Lichts / Helligkeit des \\ gesamten durchgelassenen Lichts (3) \end{array}$
Es wird bestätigt, dass der Sichtbarkeitsindexwert (Klarheit): T mit Beurteilungsergebnissen der Auflösung durch eine visuelle Untersuchung durch einen Betrachter korreliert und ein Verhalten nahe dem des menschlichen Sehvermögens zeigt. Beispielsweise weist ein transparentes Substrat mit einem kleinen Sichtbarkeitsindexwert T (nahe bei 0) eine schlechte Auflösung auf und andererseits weist ein transparentes Substrat mit einem großen Sichtbarkeitsindexwert T eine gute Auflösung auf. Daher kann der Sichtbarkeitsindexwert T als quantitativer Index bei der Beurteilung der Auflösung eines transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm verwendet werden.
BEISPIELE
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf spezifische Beispiele beschrieben, ist jedoch nicht auf diese Beispiele beschränkt, solange keine Abweichung von dem Wesen der vorliegenden Erfindung vorliegt.
(Beispiel 1)
Im Beispiel 1 wurde das transparente Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, durch die folgenden Vorgänge hergestellt. Das Aufbaumaterial der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 war Siliziumdioxid (SiO₂, n_niedrig = 1,46) und das Aufbaumaterial der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 war Titandioxid (TiO₂, n_hoch = 2,47).
Ein Glas zum chemischen Härten (ungehärtetes Dragontrail (eingetragene Marke), hergestellt von AGC Inc., Glassubstrat mit Brechungsindex: 1,51, Größe: 100 mm vertikal × 100 mm horizontal und Dicke: 1,1 mm) wurde als das transparente Substrat 11 bereitgestellt. Die Oberfläche des Glases wurde mit wässrigem Natriumhydrogencarbonat gewaschen und dann mit ionenausgetauschtem Wasser gespült, worauf getrocknet wurde.
Die Siliziumdioxid (SiO₂)-Schicht als die Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 wurde durch ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren gebildet.
Die Beschichtungsflüssigkeit zur Bildung der Siliziumdioxid (SiO₂)-Schicht wurde durch die folgenden Vorgänge hergestellt.
Tetraethoxylsilan, Bistrimethyoxysilylethan und SUNLOVELY, hergestellt von AGC Si-Tech Co., Ltd., wurden SOLMIX (eingetragene Marke) AP-11 (hergestellt von Japan Alcohol Trading Co., Ltd.) zugesetzt und mittels eines Magnetrührers gerührt, so dass diese in einem Feststoffgehaltverhältnis von 87,6:6,4:6 bezogen auf SiO₂ vorlagen und eine Feststoffgehaltkonzentration von 3,11 Massen-% bezogen auf SiO₂ aufwiesen. Anschließend wurde reines Wasser zugesetzt, so dass 10,86 % vorlagen, worauf für 30 Minuten bei 25 °C gemischt wurde. Danach wurde eine wässrige Salpetersäurelösung mit einer Konzentration von 60 Massen-% in einer Menge von 0,54 Massen-% auf der Basis der Menge einer Mischflüssigkeit aus Tetraethoxylsilan, Bistrimethyoxysilylethan und einem flüssigen Medium (AP-11 und reines Wasser) zugesetzt, worauf für 60 Minuten bei 60 °C gemischt wurde. Auf diese Weise wurde eine Vorstufenflüssigkeit einer Beschichtungsflüssigkeit zur Bildung der Siliziumoxid (SiO₂)-Schicht erhalten. Die Vorstufenflüssigkeit wurde mit AP-11 verdünnt, so dass 0,25 Massen-% vorlagen, und eine Beschichtungsflüssigkeit zur Bildung der Siliziumoxid (SiO₂)-Schicht wurde erhalten.
Die Temperatur in einer Beschichtungskabine eines elektrostatischen Beschichtungsgeräts wurde innerhalb eines Bereichs von 25 ± 3 °C eingestellt und die Feuchtigkeit darin wurde innerhalb eines Bereichs von 50 ± 5 % eingestellt. Das bereits gewaschene transparente Substrat 11, das im Vorhinein auf 25 ± 3 °C erwärmt worden ist, wurde mittels eines Blechs bzw. einer Platte aus rostfreiem Stahl auf einer Kettenfördereinrichtung des elektrostatischen Beschichtungsgeräts angeordnet. Während das transparente Substrat mit der Kettenfördereinrichtung bei einer konstanten Geschwindigkeit von 3,0 m/min gefördert wurde, wurde die Beschichtungsflüssigkeit mit einer Temperatur innerhalb eines Bereichs von 25 ± 3 °C auf die obere Oberfläche des transparenten Substrats 11 (Oberfläche gegenüber der Oberfläche, die mit geschmolzenem Zinn in Kontakt kommt, wenn es mit einem Floatverfahren hergestellt wird) durch ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren bei den Bedingungen einer Drehzahl der Kappe: 35000 U/min, angelegte Spannung: 60 kV, Menge der abgegebenen Flüssigkeit: 19 g/min und Formluftdruck: 0,7 MPa aufgebracht und dann für 60 Minuten bei 300 °C an der Luft gebrannt. Auf diese Weise wurde eine Schicht gebildet, die Siliziumdioxid (SiO₂) als Hauptkomponente umfasst. Die Hauptkomponente, wie sie hier verwendet wird, bedeutet, dass 50 % oder mehr der Komponente in der Schicht enthalten sind. Als Ergebnis der Messung des Oberflächenprofils der gebildeten Schicht mit einem SURFCOM, hergestellt von Tokyo Seimitsu Co., Ltd., betrug der arithmetische Mittenrauwert Ra 0,04 µm. Ferner betrug die gemittelte Rautiefe Rz 0,32 µm, die quadratische Rauheit Rq betrug 0,06 µm und RSm betrug 18 µm.
Eine Titandioxid (TiO₂)-Schicht (Dicke 15 nm) wurde als Schicht mit hohem Brechungsindex 13 als kontinuierliche Schicht auf der Siliziumdioxid (SiO₂)-Schicht mit einer auf deren Oberfläche gebildeten feinen Unebenheit durch ein Sputterverfahren gebildet. Die Dicke der hier verwendeten Titandioxid (TiO₂)-Schicht wurde durch Messen der Dicke eines flachen Films, der auf einem flachen Glas abgeschieden worden ist, auf dem gleichzeitig das Oberflächenprofil-Messgerät Dektak 6M, hergestellt von ULVAC, angeordnet ist, erhalten. Durch Untersuchen einer Probe nach dem Abscheiden mittels einer SEM-Querschnittuntersuchung durch ein FE-SEM (Modellbezeichnung S4300), hergestellt von Hitachi, Ltd., wurde bestätigt, dass der flache Film ein kontinuierlicher Film war.
Eine Siliziumdioxid (SiO₂)-Schicht wurde auf der Titandioxid (TiO₂)-Schicht durch ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren mit den gleichen Vorgängen wie vorstehend gebildet und das transparente Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, wurde hergestellt. Der arithmetische Mittenrauwert Ra und RSm der Oberfläche nach der Herstellung wurden mit einem SURFCOM 1500 SD3-12, hergestellt von Tokyo Seimitsu Co., Ltd., gemäß dem Verfahren gemessen, das in JIS B0601-2001 festgelegt ist. Als Ergebnis betrug Ra 0,07 µm und RSm betrug 18 µm.
Als Ergebnis der Messung durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Flächenanteil eines Abschnitts mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats von 0,5° oder weniger: Berechnungsverfahren 1) beschrieben sind, wies die Titandioxid (TiO₂)-Schicht als die Schicht mit hohem Brechungsindex 12 einen Flächenanteil von deren Abschnitt mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 von 0,5° von 2,9 % auf.
Die zweite Hauptoberfläche 11b, auf welcher der Blendschutzfilm 14 nicht ausgebildet war, des transparenten Substrats 11 wurde durch einen Paint Marker PX-30, hergestellt von Mitsubishi Pencil Co., Ltd., ausreichend geschwärzt, so dass eine Reflexion an der Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche 11b und der Luft beseitigt wurde, und dann wurde der Reflexionsgrad sichtbaren Lichts von der Seite der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm gemessen. Der gemessene Reflexionsgrad sichtbaren Lichts betrug 6,6 %.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, der durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Reflexionsbild-Streuindexwert R) beschrieben sind, gemessen wurde, betrug 0,26.
Der Glitzerindexwert S des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, der durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Glitzerindexwert S) beschrieben sind, gemessen wurde, betrug 0,84.
Der Sichtbarkeitsindexwert T des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, der durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Sichtbarkeitsindexwert T) beschrieben sind, gemessen wurde, betrug 0,97.
Der Anteil des Abschnitts von 0,5° oder weniger, der durch eine Querschnitt-SEM durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Flächenanteil eines Abschnitts mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats von 0,5° oder weniger: Berechnungsverfahren 2) beschrieben sind, gemessen wurde, betrug 2,8 %.
Ra und RSm, die mittels Querschnitt-SEM durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Flächenanteil eines Abschnitts mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats von 0,5° oder weniger:

Berechnungsverfahren 2) beschrieben sind, gemessen wurden, betrugen 0,04 µm bzw. 18 µm.

(Vergleichsbeispiel 1)
Die gleichen Vorgänge wie in dem Beispiel wurden durchgeführt, mit der Ausnahme, dass die Titandioxid (TiO₂)-Schicht als die Schicht mit hohem Brechungsindex 13 nach dem Bilden der Siliziumdioxid (SiO₂)-Schicht auf dem transparenten Substrat 11 durch ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren nicht gebildet wurde.
Ferner betrug RSm der Oberfläche des Blendschutzfilms 14, die gemäß dem Verfahren gemessen wurde, das in JIS B0601-2001 festgelegt ist, 18 µm, was mit dem Wert in dem Beispiel identisch ist.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm betrug 0,097.
Der Glitzerindexwert S des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm betrug 0,92.
Der Sichtbarkeitsindexwert T des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm betrug 0,98.
Ra und RSm des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, die mittels Querschnitt-SEM gemessen wurden, betrugen 0,04 µm bzw. 18 µm.
(Beispiel 2)
Im Beispiel 2 wurde das transparente Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, durch die folgenden Vorgänge hergestellt. Das Aufbaumaterial der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 12 war Siliziumdioxid (SiO₂, n_niedrig = 1,46) und das Aufbaumaterial der Schicht mit hohem Brechungsindex 13 als kontinuierliche Schicht war Titandioxid (TiO₂, n_hoch = 2,47).
Ein Glas zum chemischen Härten (ungehärtetes Dragontrail (eingetragene Marke), hergestellt von AGC Inc., Glassubstrat mit Brechungsindex: 1,51, Größe: 100 mm vertikal × 100 mm horizontal und Dicke: 1,1 mm) wurde als das transparente Substrat 11 bereitgestellt. Die Oberfläche des Glases wurde mit wässrigem Natriumhydrogencarbonat gewaschen und dann mit ionenausgetauschtem Wasser gespült, worauf getrocknet wurde.
Eine feine Unebenheit wurde auf einer Oberfläche des Glases durch ein Ätzverfahren gebildet. Insbesondere wurde eine Schutzfolie auf die Rückoberfläche eines Glassubstrats geklebt. Das Glassubstrat wurde für 3 Minuten in eine Mattierungsbehandlungsflüssigkeit, die 2 Gew.-% Fluorwasserstoff und 3 Gew.-% Kaliumfluorid enthielt, eingetaucht, das Glassubstrat wurde gewaschen und das Glassubstrat wurde für 7 Minuten in eine wässrige Lösung eingetaucht, die 7,5 Gew.-% Fluorwasserstoff und 7,5 Gew.-% Chlorwasserstoff enthielt. Folglich wurde eine feine Unebenheit auf der Glasoberfläche gebildet. Der arithmetische Mittenrauwert Ra der gebildeten Oberfläche und RSm wurden mit einem SURFCOM 1500SD3-12, hergestellt von Tokyo Seimitsu Co., Ltd., gemäß dem Verfahren gemessen, das in JIS B0601-2001 festgelegt ist. Als Ergebnis betrug Ra 0,064 µm und RSm betrug 14 µm.
Als nächstes wurde eine Titandioxid (TiO₂)-Schicht (Dicke 15 nm) als Schicht mit hohem Brechungsindex einer kontinuierlichen Schicht auf dem Glassubstrat mit einer feinen Unebenheit, die auf deren Oberfläche ausgebildet ist, durch ein Sputterverfahren gebildet.
Als nächstes wurde eine Siliziumoxid (SiO₂)-Schicht auf der Titandioxid (TiO₂)-Schicht durch ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren mit den gleichen Vorgängen wie im Beispiel 1 gebildet und das transparente Substrat 10 mit einem Blendschutzfilm, das in der 1 gezeigt ist, wurde hergestellt. Der arithmetische Mittenrauwert Ra der Oberfläche nach der Herstellung und RSm wurden mit einem SURFCOM 1500SD3-12, hergestellt von Tokyo Seimitsu Co., Ltd., gemäß dem Verfahren gemessen, das in JIS B0601-2001 festgelegt ist. Als Ergebnis betrug Ra 0,10 µm und RSm betrug 15 µm.
Als Ergebnis der Messung durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Flächenanteil eines Abschnitts mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats von 0,5° oder weniger: Berechnungsverfahren 1) beschrieben sind, wies die Titandioxid (TiO₂)-Schicht als die Schicht mit hohem Brechungsindex 12 einen Flächenanteil von deren Abschnitt mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche 11a des transparenten Substrats 11 von 0,5° oder weniger von 2,9 % auf.
Die zweite Hauptoberfläche 11b, auf welcher der Blendschutzfilm 14 nicht ausgebildet war, des transparenten Substrats 11 wurde durch einen Paint Marker PX-30, hergestellt von Mitsubishi Pencil Co., Ltd., ausreichend geschwärzt, so dass eine Reflexion an der Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche 11b und der Luft beseitigt wurde, und die Durchlässigkeit für sichtbares Licht wurde gemessen. Der gemessene Reflexionsgrad sichtbaren Lichts betrug 6,1 %.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, der durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Reflexionsbild-Streuindexwert R) beschrieben sind, gemessen wurde, betrug 0,42.
Der Glitzerindexwert S des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, der durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Glitzerindexwert S) beschrieben sind, gemessen wurde, betrug 0,87.
Der Sichtbarkeitsindexwert T des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, der durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Sichtbarkeitsindexwert T) beschrieben sind, gemessen wurde, betrug 0,98.
Der Anteil des Abschnitts von 0,5° oder weniger, der durch eine Querschnitt-SEM durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Flächenanteil eines Abschnitts mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats von 0,5° oder weniger: Berechnungsverfahren 2) beschrieben sind, gemessen wurde, betrug 2,9 %.
Ra und RSm, die mittels Querschnitt-SEM durch die Vorgänge, die in dem vorstehend beschriebenen Gegenstand (Flächenanteil eines Abschnitts mit einer Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats von 0,5° oder weniger: Berechnungsverfahren 2) beschrieben sind, gemessen wurden, betrugen 0,06 µm bzw. 14 µm.
(Vergleichsbeispiel 2)
Die gleichen Vorgänge wie im Beispiel 2 wurden durchgeführt, mit der Ausnahme, dass die TiO₂-Schicht nicht gebildet wurde, nachdem eine feine Unebenheit auf der Oberfläche durch Ätzen einer Oberfläche des Glases durch ein Ätzverfahren bei den gleichen Bedingungen wie im Beispiel 2 gebildet worden ist.
Der arithmetische Mittenrauwert der Oberfläche Ra nach der Herstellung und RSm wurden mit einem SURFCOM 1500SD3-12, hergestellt von Tokyo Seimitsu Co., Ltd., gemäß dem Verfahren gemessen, das in JIS B0601-2001 festgelegt ist. Als Ergebnis betrug Ra 0,101 µm und RSm betrug 15 µm.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm betrug 0,19.
Der Glitzerindexwert S des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm betrug 0,91.
Der Sichtbarkeitsindexwert T des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm betrug 0,97.
Ra und RSm des transparenten Substrats 10 mit einem Blendschutzfilm, die mittels Querschnitt-SEM gemessen worden sind, betrugen 0,10 µm bzw. 15 µm.
Obwohl die vorliegende Erfindung detailliert und unter Bezugnahme auf die spezifischen Ausführungsformen beschrieben worden ist, ist es für einen Fachmann klar, dass verschiedene Modifizierungen oder Änderungen durchgeführt werden können, ohne vom Wesen und Umfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Diese Anmeldung beruht auf der japanischen Patentanmeldung Nr. 2018-020773 , die am 8. Februar 2018 eingereicht worden ist und deren Offenbarung unter Bezugnahme hierin einbezogen ist.
Bezugszeichenliste

10, 20, 30, 40:: Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm
11, 21, 31, 41:: Transparentes Substrat
11a, 21a, 31a, 41a:: Erste Hauptoberfläche
11b, 21b, 31b, 41b:: Zweite Hauptoberfläche
12, 22, 32, 42:: Schicht mit niedrigem Brechungsindex
13, 23, 33, 43:: Schicht mit hohem Brechungsindex
14, 24, 34, 44:: Blendschutzfilm
14a, 24a, 34a, 44a:: Äußerste Oberfläche des Blendschutzfilms
100:: Anzeigevorrichtung
120:: Gehäuse
130:: Konkaver Teil
140:: Anzeigefeld
150:: Hintergrundbeleuchtung
160:: Abdeckungselement
170:: Haftschicht
180:: Gedruckte Schicht
Xo:: Quadratische Daten
X1, X2, X3:: Invertierte und gedrehte Daten
501:: Messvorrichtung
507:: Lineare Lichtquellenvorrichtung
511:: Lichtquelle
512:: Schwarze flache Platte
515:: Oberflächenhelligkeit-Messgerät
520:: Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm
522:: Außenoberfläche
531:: Erstes einfallendes Licht
532:: Erstes reflektiertes Licht
533:: Zweites einfallendes Licht
534:: Zweites reflektiertes Licht
803:: Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm
804:: Erste Hauptoberfläche
805:: Zweite Hauptoberfläche
806:: Anzeigevorrichtung

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

WO 2016/021560 [0005]
JP 64001527 A [0005]
JP 2003344608 A [0005]
JP 2002079616 A [0005]
WO 2005/121265 [0005]
WO 2015/137196 [0005]
JP 2018020773 [0210]

Claims

Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm, das ein transparentes Substrat mit einer ersten Hauptoberfläche und einer zweiten Hauptoberfläche und einen Blendschutzfilm, der auf der ersten Hauptoberfläche ausgebildet ist, umfasst, wobei der Blendschutzfilm eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die auf der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats ausgebildet ist, und eine Schicht mit hohem Brechungsindex umfasst, die in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex ausgebildet ist und einen Brechungsindex aufweist, der von einem Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex verschieden ist, die Schicht mit niedrigem Brechungsindex einen n_niedrig von 1,4 bis 1,8 aufweist, wobei der Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_niedrig ist, die Schicht mit hohem Brechungsindex einen n_hoch von mindestens 0,1 höher aufweist als der n_niedrig, wobei der Brechungsindex der Schicht mit hohem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_hoch ist, die Schicht mit hohem Brechungsindex einen Flächenanteil von deren Abschnitt, bei dem eine Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats 0,5° oder weniger beträgt, von 15 % oder weniger aufweist, und eine durchschnittliche Länge RSm von Elementen einer Rauheitskurve einer äußersten Oberfläche auf einer Seite der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm 50 µm oder weniger beträgt.
Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm nach Anspruch 1, bei dem die Schicht mit hohem Brechungsindex einen Brechungsindex n_hoch bei einer Wellenlänge von 550 nm von 1,8 oder mehr aufweist.
Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm nach Anspruch 1 oder 2, bei dem die Schicht mit hohem Brechungsindex zwei oder mehr Schichten umfasst.
Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem der Reflexionsgrad sichtbaren Lichts, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, wobei die zweite Hauptoberfläche des transparenten Substrats geschwärzt ist, 0,2 bis 8 % beträgt.
Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem ein Wert, der durch Subtrahieren der Summe eines durchschnittlichen Werts des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an einer Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche und der Luft und eines durchschnittlichen Werts des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an einer Grenzfläche zwischen der ersten Hauptoberfläche und der Luft von einem durchschnittlichen Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, erhalten wird, 0,2 bis 4 % beträgt, wobei der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, ein tatsächlicher Messwert ist, der gemäß JIS R3106 gemessen wird, und der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an der Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche und der Luft und der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an der Grenzfläche zwischen der ersten Hauptoberfläche und der Luft optisch berechnete Werte in einer Konfiguration des Laminierens auf einer ideal flachen Oberfläche mit der gleichen Dicke und dem gleichen Produkt nk eines Brechungsindex und eines Dämpfungskoeffizienten sind.
Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm, das ein transparentes Substrat mit einer ersten Hauptoberfläche und einer zweiten Hauptoberfläche und einen Blendschutzfilm, der auf der ersten Hauptoberfläche ausgebildet ist, umfasst, wobei der Blendschutzfilm eine Schicht mit hohem Brechungsindex, die auf der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats ausgebildet ist, und eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex umfasst, die in der Schicht mit hohem Brechungsindex ausgebildet ist und einen Brechungsindex aufweist, der von einem Brechungsindex der Schicht mit hohem Brechungsindex verschieden ist, die Schicht mit hohem Brechungsindex einen n_hoch von 1,4 bis 1,8 aufweist, wobei der Brechungsindex der Schicht mit hohem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_hoch ist, die Schicht mit niedrigem Brechungsindex einen n_niedrig von mindestens 0,1 niedriger als n_hoch aufweist, wobei der Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_niedrig beträgt, die Schicht mit niedrigem Brechungsindex einen Flächenanteil von deren Abschnitt, bei dem eine Oberflächenneigung zu der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats 0,5° oder weniger beträgt, von 15 % oder weniger aufweist, und eine durchschnittliche Länge RSm von Elementen einer Rauheitskurve einer äußersten Oberfläche auf einer Seite der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats mit einem Blendschutzfilm 50 µm oder weniger beträgt.
Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm nach Anspruch 6, bei dem die Schicht mit niedrigem Brechungsindex einen Brechungsindex n_niedrig bei einer Wellenlänge von 550 nm von 1,4 oder weniger aufweist.
Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm nach Anspruch 6 oder 7, bei dem eine Hauptkomponente der Schicht mit niedrigem Brechungsindex Siliziumoxid ist.
Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm nach einem der Ansprüche 6 bis 8, bei dem die Schicht mit niedrigem Brechungsindex zwei oder mehr Schichten umfasst.
Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm nach einem der Ansprüche 6 bis 9, bei dem der Reflexionsgrad sichtbaren Lichts, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, wobei die zweite Hauptoberfläche des transparenten Substrats geschwärzt ist, 0,2 bis 8 % beträgt.
Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm nach einem der Ansprüche 6 bis 10, bei dem ein Wert, der durch Subtrahieren der Summe eines durchschnittlichen Werts des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an einer Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche und der Luft und eines durchschnittlichen Werts des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an einer Grenzfläche zwischen der ersten Hauptoberfläche und der Luft von einem durchschnittlichen Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, erhalten wird, 0,2 bis 4 % beträgt, wobei der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm, der von der Seite der ersten Hauptoberfläche gemessen wird, ein tatsächlicher Messwert ist, der gemäß JIS R3106 gemessen wird, und der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an der Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche und der Luft und der durchschnittliche Wert des Reflexionsgrads (Reflexionsgrads sichtbaren Lichts) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm an der Grenzfläche zwischen der ersten Hauptoberfläche und der Luft optisch berechnete Werte in einer Konfiguration des Laminierens auf einer ideal flachen Oberfläche mit der gleichen Dicke und dem gleichen Produkt nk eines Brechungsindex und eines Dämpfungskoeffizienten sind.
Anzeigevorrichtung mit einer Struktur, die das transparente Substrat mit einem Blendschutzfilm nach einem der Ansprüche 1 bis 11 als Abdeckungselement und ein Anzeigefeld umfasst, das mittels einer Haftschicht an die zweite Hauptoberfläche des transparenten Substrats geklebt ist.
Transparentes Substrat mit einem Blendschutzfilm, das ein transparentes Substrat mit einer ersten Hauptoberfläche und einer zweiten Hauptoberfläche und einen Blendschutzfilm, der auf der ersten Hauptoberfläche ausgebildet ist, umfasst, wobei der Blendschutzfilm eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die auf der ersten Hauptoberfläche des transparenten Substrats ausgebildet ist, und eine Schicht mit hohem Brechungsindex umfasst, die in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex ausgebildet ist und einen Brechungsindex aufweist, der von einem Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex verschieden ist, die Schicht mit niedrigem Brechungsindex einen n_niedrig von 1,4 bis 1,8 aufweist, wobei der Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_niedrig beträgt, die Schicht mit hohem Brechungsindex einen n_hoch von mindestens 0,1 höher als n_niedrig aufweist, wobei der Brechungsindex der Schicht mit hohem Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 550 nm n_hoch ist, und in einem SEM-Querschnittsbild, wenn Längen, die durch Projizieren von Abschnitten, bei denen eine Neigung zu der Hauptoberfläche 0,5° oder weniger in der Schicht mit hohem Brechungsindex beträgt, zu einer Linie parallel zu der Hauptoberfläche des transparenten Substrats erhalten werden, gemessen werden und diese Längen aufaddiert werden, ein Verhältnis der Summe der Längen zu einer Breite von 400 µm 15 % oder weniger beträgt, ein arithmetischer Mittenrauwert Ra, der aus einem zweidimensionalen Profil der Schicht mit hohem Brechungsindex erhalten wird, 0,01 µm oder mehr und 0,4 µm oder weniger beträgt, und eine durchschnittliche Länge RSm von Elementen einer Rauheitskurve einer äußersten Oberfläche auf einer Seite der ersten Hauptoberfläche 0,8 µm oder mehr und 50 µm oder weniger beträgt.