JP5308640B2 - 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 15
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 30
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 14
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 78
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 11
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 5
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N Beryllium oxide Chemical compound O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001572175 Gaza Species 0.000 description 1
- VKEQBMCRQDSRET-UHFFFAOYSA-N Methylone Chemical compound CNC(C)C(=O)C1=CC=C2OCOC2=C1 VKEQBMCRQDSRET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
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Description
本発明は、反射防止膜及びそれを用いた光学部材に関し、特に、外部衝撃による傷やクラックの発生を抑制できる反射防止膜及びそれを用いた光学部材に関するものである。
従来から、プラスチック基板に、反射防止膜を設けた光学部材が知られており、一般的に、反射防止膜は異なる屈折率を有する物質を複数層に積層した構造を有する。
一般的に、反射防止膜は外側からの影響を受け易く、特に、反射防止膜の外寄りの層は外部からの作用を受けやすい。反射防止膜の外寄りの層の強度を高めないと、反射防止膜には傷やクラックが発生する。
また、異なる性質を有する物質を積層して得られる反射防止膜は、隣り合う層の界面領域に欠陥が生じやすい。特に、摩擦などの外部衝撃が加わると界面領域の欠陥が出発となり、反射防止膜には、クラックや傷が入りやすくなる。
このような課題に関連する発明として、特許文献１には、ダイヤモンド構造の非晶質炭素を反射防止膜の外層に用いることで、摩擦係数が低く滑り性が高く、傷の付きづらい眼鏡レンズを製作する技術が開示されている。
しかしながら、フッ素含有非結晶炭素質層が含まれる反射防止膜では、反射防止効果と透明性を保ちながら、レンズの色味を損なわないように成膜することが困難である。
また、特許文献２には、基板側からシリカ（下地層）、ジルコニア、シリカの順で積層してなる反射防止膜を形成することにより、反射防止特性への影響が少ない下地層の厚みを十分に確保して、反射防止膜に十分な硬さと耐擦傷性と耐久性を兼ね備えた反射防止膜を形成する技術が開示されている。
しかしながら、特許文献２の技術は、反射防止膜の下地層より下にある基材に傷が付くことを抑制する効果はあるが、反射防止膜そのものの傷を抑制することはできない。
特開２００６−１３３４２０
特開２００２−１２２８２０
一般的に、反射防止膜は外側からの影響を受け易く、特に、反射防止膜の外寄りの層は外部からの作用を受けやすい。反射防止膜の外寄りの層の強度を高めないと、反射防止膜には傷やクラックが発生する。
また、異なる性質を有する物質を積層して得られる反射防止膜は、隣り合う層の界面領域に欠陥が生じやすい。特に、摩擦などの外部衝撃が加わると界面領域の欠陥が出発となり、反射防止膜には、クラックや傷が入りやすくなる。
このような課題に関連する発明として、特許文献１には、ダイヤモンド構造の非晶質炭素を反射防止膜の外層に用いることで、摩擦係数が低く滑り性が高く、傷の付きづらい眼鏡レンズを製作する技術が開示されている。
しかしながら、フッ素含有非結晶炭素質層が含まれる反射防止膜では、反射防止効果と透明性を保ちながら、レンズの色味を損なわないように成膜することが困難である。
また、特許文献２には、基板側からシリカ（下地層）、ジルコニア、シリカの順で積層してなる反射防止膜を形成することにより、反射防止特性への影響が少ない下地層の厚みを十分に確保して、反射防止膜に十分な硬さと耐擦傷性と耐久性を兼ね備えた反射防止膜を形成する技術が開示されている。
しかしながら、特許文献２の技術は、反射防止膜の下地層より下にある基材に傷が付くことを抑制する効果はあるが、反射防止膜そのものの傷を抑制することはできない。
本発明は、前記の課題を解決するためになされたもので、外部衝撃による傷やクラックの発生を抑制できる反射防止膜及びそれを用いた光学部材を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、低屈折率層と高屈折率層が順に積層されてなる反射防止膜において、低屈折率層と高屈折率層との間に金属酸化物からなる緩衝層を設けることにより、緩衝層が、低屈折率層と高屈折率層を強固に接合する機能を果たすため、外部衝撃による傷やクラックの発生を抑制できることを見出し本発明を完成したものである。
すなわち、本発明は、プラスチック基板上に設けられる反射防止膜であって、該反射防止膜が、最外層が低屈折率層となるように、基板側から低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されてなり、低屈折率層と高屈折率層との間に、金属酸化物からなる緩衝層が少なくとも一層設けられている反射防止膜であって、前記低屈折率層がＳｉＯ2及びＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなり、前記高屈折率層がＴａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5及びＺｒＯ2から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなり、前記緩衝層がＩｎＳｎＯ、ＩｎＺｎＯ、Ｉｎ2Ｏ3及びＴｉＯ2から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなる反射防止膜、並びに、プラスチック基板上に前記反射防止膜が設けられた光学部材を提供するものである。
すなわち、本発明は、プラスチック基板上に設けられる反射防止膜であって、該反射防止膜が、最外層が低屈折率層となるように、基板側から低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されてなり、低屈折率層と高屈折率層との間に、金属酸化物からなる緩衝層が少なくとも一層設けられている反射防止膜であって、前記低屈折率層がＳｉＯ2及びＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなり、前記高屈折率層がＴａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5及びＺｒＯ2から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなり、前記緩衝層がＩｎＳｎＯ、ＩｎＺｎＯ、Ｉｎ2Ｏ3及びＴｉＯ2から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなる反射防止膜、並びに、プラスチック基板上に前記反射防止膜が設けられた光学部材を提供するものである。
本発明の反射防止膜及びそれを用いた光学部材は、反射防止膜に対する外部衝撃による傷やクラックの発生を抑制できる。
本発明の反射防止膜は、プラスチック基板上に設けられる反射防止膜であって、該反射防止膜が、最外層が低屈折率層となるように、基板側から低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されてなり、低屈折率層と高屈折率層との間に、金属酸化物からなる緩衝層が少なくとも一層設けられている反射防止膜であって、前記低屈折率層がＳｉＯ2及びＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなり、前記高屈折率層がＴａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5及びＺｒＯ2から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなり、前記緩衝層がＩｎＳｎＯ、ＩｎＺｎＯ、Ｉｎ2Ｏ3及びＴｉＯ2から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなる反射防止膜である。
本発明において、緩衝層は、低屈折率層と高屈折率層との間（界面領域）に設けられればよいが、外層側の低屈折率層と、内層側の高屈折率層との間に設けられるのが好ましく、最外層である低屈折率層とその下の高屈折率層との間に設けられるとさらに好ましい。
これは、反射防止膜の外層側は、外側からの作用が最も加わりやすいので、最外層にある界面領域を強化すると、外側からの作用で反射防止膜に傷や亀裂が入りにくくなるためである。
前記緩衝層は、ＴｉＯ2層であると好ましい。
前記緩衝層の厚みとしては３〜２０ｎｍであると好ましく、５〜２０ｎｍであるとさらに好ましく、５〜１０ｎｍであるとさらに好ましい。なお、緩衝層は、厚みが増加すると層内で酸素を補う反応の頻度が高まり、３〜２０ｎｍの範囲であれば緩衝層自体の硬さ及び反射防止膜の剛性が十分である。
前記緩衝層の屈折率は１．９〜２．３５であると好ましく、２．０５〜２．３５であるとさらに好ましい。
本発明において、緩衝層は、低屈折率層と高屈折率層との間（界面領域）に設けられればよいが、外層側の低屈折率層と、内層側の高屈折率層との間に設けられるのが好ましく、最外層である低屈折率層とその下の高屈折率層との間に設けられるとさらに好ましい。
これは、反射防止膜の外層側は、外側からの作用が最も加わりやすいので、最外層にある界面領域を強化すると、外側からの作用で反射防止膜に傷や亀裂が入りにくくなるためである。
前記緩衝層は、ＴｉＯ2層であると好ましい。
前記緩衝層の厚みとしては３〜２０ｎｍであると好ましく、５〜２０ｎｍであるとさらに好ましく、５〜１０ｎｍであるとさらに好ましい。なお、緩衝層は、厚みが増加すると層内で酸素を補う反応の頻度が高まり、３〜２０ｎｍの範囲であれば緩衝層自体の硬さ及び反射防止膜の剛性が十分である。
前記緩衝層の屈折率は１．９〜２．３５であると好ましく、２．０５〜２．３５であるとさらに好ましい。
本発明における緩衝層は、図１に示すように、反射防止膜の低屈折率層及び／又は高屈折率層全面を覆う層状であっても良く、また、不連続に形成され低屈折率層及び／又は高屈折率層を覆いつくしていないクラスター状又は島状であっても良い。
前記緩衝層の形成方法としては、通常の真空蒸着法、イオンアシスト法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法等を用いることができる。
例えば、ＴｉＯ2からなる緩衝層を高屈折率層上に形成する場合、高屈折率層上に、ＴｉＯ2の成長核を形成し、その核を成長させてクラスターを形成する。その後、さらにクラスターを面方向と積層方向に成長すると、近接するクラスターと一体化し、最終的には面全体に緩衝層が形成される。また、形成された緩衝層は、成長核毎に分かれる粒界が形成されていると考えられる。
前記緩衝層の形成方法としては、通常の真空蒸着法、イオンアシスト法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法等を用いることができる。
例えば、ＴｉＯ2からなる緩衝層を高屈折率層上に形成する場合、高屈折率層上に、ＴｉＯ2の成長核を形成し、その核を成長させてクラスターを形成する。その後、さらにクラスターを面方向と積層方向に成長すると、近接するクラスターと一体化し、最終的には面全体に緩衝層が形成される。また、形成された緩衝層は、成長核毎に分かれる粒界が形成されていると考えられる。
また、緩衝層に酸化チタン（ＴｉＯ2）又はＩｎＳｎＯ（ＩＴＯ）層を採用する場合、両者は酸素イオンをチャンバー内に送り込むイオンアシスト法で成膜されると好ましい。また、緩衝層に酸化チタンを採用して成膜する場合は、出発原料に窒化チタンを用いるとよい。ガス化した窒化チタンは、酸化されやすくなる。酸素を送り込んだチャンバー内で成膜すると、酸化チタンの出発原料から酸化チタン層を成膜することができる。その一方で、窒化チタンを出発原料とすると、酸化が不十分なチタン原子が残存する。酸化が不十分なチタン元素は、周囲の酸化チタンや高屈折率層を構成している物質の酸素に配位する。緩衝層と上層及び下層の界面は、分子レベルの結合を伴うため、強固に接合する。なお、真空蒸着法は、イオンアシスト法に限られず、チャンバー内に酸素を導入する形態であれば、同様の効果を得ることができる。
また、緩衝層の直下の層は、緩衝層との親和性をより高めるために微細な粗さを有する表面であるとよい。イオンアシスト法で成膜する場合、イオン銃のエネルギー値（電流値と電圧値）を変化させる方法が挙げられる。例えば、高屈折率層に酸化タンタルを採用する場合、緩衝層の直下の層を成膜するときには他の高屈折率層よりもエネルギー値を１０％〜２０％高めるとよい。このような条件で反射防止膜を形成すると、ベイヤー値がさらに高いレンズを得ることができる。
本発明の反射防止膜において、緩衝層を除く低屈折率層及び高屈折率層からなる積層は、特に限定されず、公知の反射防止膜の積層構造であれば良く、例えば、基板側から、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層し、最外層を低屈折率層とした、５層〜９層の奇数層の反射防止膜が挙げられる。
前記低屈折率層は、ＳｉＯ2層が好ましい。
前記低屈折率層の膜厚としては、組み合わされる他の層の層厚により適宜設定することができる。低屈折率層の屈折率としては１．４〜１．５が好ましく、１．４２〜１．４８がさらに好ましい。
前記高屈折率層は、Ｔａ2Ｏ5層が好ましい。
前記高屈折率層の膜厚としては、組み合わされる他の層の層厚により適宜設定することができる。高屈折率層の屈折率としては、２．０〜２．３５が好ましい。
また、本発明の反射防止膜は、最外層の低屈折率層がＳｉＯ2層であり、その下の高屈折率層がＴａ2Ｏ5層であると好ましい。
低屈折率層に用いる酸化ケイ素（ＳｉＯ2）や高屈折率層に用いる酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）は、緩衝層に用いる酸化チタン（ＴｉＯ2）との親和性に優れる。酸化チタンは、酸化ケイ素と酸化タンタルの両者をつなぐ糊のような役割を果たす。酸化ケイ素と酸化タンタルは、酸化チタンを介在させることで酸化ケイ素と酸化タンタルの界面が強固に接合する。その結果、反射防止膜自身の耐擦傷性を向上させることができる。
前記低屈折率層は、ＳｉＯ2層が好ましい。
前記低屈折率層の膜厚としては、組み合わされる他の層の層厚により適宜設定することができる。低屈折率層の屈折率としては１．４〜１．５が好ましく、１．４２〜１．４８がさらに好ましい。
前記高屈折率層は、Ｔａ2Ｏ5層が好ましい。
前記高屈折率層の膜厚としては、組み合わされる他の層の層厚により適宜設定することができる。高屈折率層の屈折率としては、２．０〜２．３５が好ましい。
また、本発明の反射防止膜は、最外層の低屈折率層がＳｉＯ2層であり、その下の高屈折率層がＴａ2Ｏ5層であると好ましい。
低屈折率層に用いる酸化ケイ素（ＳｉＯ2）や高屈折率層に用いる酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）は、緩衝層に用いる酸化チタン（ＴｉＯ2）との親和性に優れる。酸化チタンは、酸化ケイ素と酸化タンタルの両者をつなぐ糊のような役割を果たす。酸化ケイ素と酸化タンタルは、酸化チタンを介在させることで酸化ケイ素と酸化タンタルの界面が強固に接合する。その結果、反射防止膜自身の耐擦傷性を向上させることができる。
本発明の光学部材は、プラスチック基板上に、本発明の反射防止膜が設けられたものである。
前記プラスチック基板としては、特に限定されず、例えば、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン等が挙げられる。
プラスチック基板の屈折率は、１．５〜１．８が好ましい。
前記プラスチック基板としては、特に限定されず、例えば、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン等が挙げられる。
プラスチック基板の屈折率は、１．５〜１．８が好ましい。
本発明の光学部材は、プラスチック基板と反射防止膜との間に下地層が設けられていると好ましく、下地層の材質としては、二酸化ケイ素層が好ましい。また、下地層を成膜する前に、金属ニオブを蒸着してもよい。
また、本発明の光学部材は、前記プラスチック基板と反射防止膜あるいは前記下地層との間に、硬化被膜を有してもよい。
硬化被膜としては、通常、金属酸化物コロイド粒子と有機ケイ素化合物よりなるコ−ティング組成物を硬化したものが一般的に用いられる。
前記金属酸化物コロイド粒子としては、例えば、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ2)、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3)、酸化チタニウム（ＴｉＯ2)、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2)、酸化スズ（ＳｎＯ2)、酸化ベリリウム（ＢｅＯ）又は酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ5)等が挙げられ、単独又は２種以上を併用することができる。
さらに、前記反射防止膜の最外層の上に、必要に応じ、撥水層が設けられていても良い。
また、本発明の光学部材は、前記プラスチック基板と反射防止膜あるいは前記下地層との間に、硬化被膜を有してもよい。
硬化被膜としては、通常、金属酸化物コロイド粒子と有機ケイ素化合物よりなるコ−ティング組成物を硬化したものが一般的に用いられる。
前記金属酸化物コロイド粒子としては、例えば、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ2)、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3)、酸化チタニウム（ＴｉＯ2)、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2)、酸化スズ（ＳｎＯ2)、酸化ベリリウム（ＢｅＯ）又は酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ5)等が挙げられ、単独又は２種以上を併用することができる。
さらに、前記反射防止膜の最外層の上に、必要に応じ、撥水層が設けられていても良い。
本発明の反射防止膜は、眼鏡レンズ、カメラレンズ、ワードプロセッサーのディスプレー等に付設する光学フィルター、自動車の窓ガラス等の光学部材の製造方法に適用することができ、特に眼鏡用プラスチックレンズに適している。
次に、実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明する。
実施例及び比較例で得られたプラスチックレンズは以下に示す評価方法により諸物性を評価した。
（１）外観
目視にて干渉色の色ムラ及び干渉色変化があるかどうかを調べ、眼鏡レンズとして使用できる外観かどうか評価した。
（２）耐摩耗性
新東科学（株）製往復摩擦磨耗試験機にて、撥水膜を有するプラスチックレンズ表面に、荷重４ｋｇ、砂消しゴム（ライオン（株）製、ギャザ半砂）５０往復摩耗テストを実施し、村上色彩技術研究所製ヘーズメーターＭＨ−１５０にてヘーズ値を測定、ヘーズ値の変化を測定した。
（３）ベイヤー値（Ｂｅｙｅｒ値）
摩耗試験機BTE Abrasion Tester（商品名、米COLTS社製）及び、ヘーズ値測定装置（村上色彩技術研究所社製）を使用し、基準レンズとのヘーズ値変化の差によりベイヤー値を測定した。
（サンプル数、測定方法）
（ａ）基準レンズ（プラスチックレンズ基板ＨＯＹＡ（株）製、眼鏡用プラスチックレンズ（商品名：ＥＹＡＳ）、屈折率１．６０以下）3枚、実施例のサンプルレンズ3枚を用意。
（ｂ）摩耗テスト前ヘーズ（ｈａｚｅ）値の測定。
（ｃ）BTE Abrasion Testerにて、摩耗テスト（砂による表面摩耗600往復）。
（ｄ）摩耗テスト後ヘーズ値の測定。
（ｅ）ベイヤー値算出（3枚分の平均値とする）
（ベイヤー値＝基準レンズの透過率変化／サンプルレンズの透過率変化。）
実施例及び比較例で得られたプラスチックレンズは以下に示す評価方法により諸物性を評価した。
（１）外観
目視にて干渉色の色ムラ及び干渉色変化があるかどうかを調べ、眼鏡レンズとして使用できる外観かどうか評価した。
（２）耐摩耗性
新東科学（株）製往復摩擦磨耗試験機にて、撥水膜を有するプラスチックレンズ表面に、荷重４ｋｇ、砂消しゴム（ライオン（株）製、ギャザ半砂）５０往復摩耗テストを実施し、村上色彩技術研究所製ヘーズメーターＭＨ−１５０にてヘーズ値を測定、ヘーズ値の変化を測定した。
（３）ベイヤー値（Ｂｅｙｅｒ値）
摩耗試験機BTE Abrasion Tester（商品名、米COLTS社製）及び、ヘーズ値測定装置（村上色彩技術研究所社製）を使用し、基準レンズとのヘーズ値変化の差によりベイヤー値を測定した。
（サンプル数、測定方法）
（ａ）基準レンズ（プラスチックレンズ基板ＨＯＹＡ（株）製、眼鏡用プラスチックレンズ（商品名：ＥＹＡＳ）、屈折率１．６０以下）3枚、実施例のサンプルレンズ3枚を用意。
（ｂ）摩耗テスト前ヘーズ（ｈａｚｅ）値の測定。
（ｃ）BTE Abrasion Testerにて、摩耗テスト（砂による表面摩耗600往復）。
（ｄ）摩耗テスト後ヘーズ値の測定。
（ｅ）ベイヤー値算出（3枚分の平均値とする）
（ベイヤー値＝基準レンズの透過率変化／サンプルレンズの透過率変化。）
実施例１
予めハードコートが施されたプラスチック基材（プラスチックレンズ：ＨＯＹＡ(株)製商品名：アイアス、屈折率１．６）の表面に１層目の下地層（低屈折率層）である酸化ケイ素層を形成し、その上に２層目〜９層目の反射防止膜を形成した。１層目の下地層と反射防止膜の２層目から８層目は、イオンアシスト法により蒸着を行い形成した。また、９層目の撥水層は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物として、ＫＹ１３０（商品名：信越化学工業（株）製）を用いハロゲン加熱により蒸着を行い形成した。反射防止膜の成膜条件と構成を表１に示す。成膜時の膜厚管理は、光学膜厚測定で行った。なお、表１中の光学膜厚は、λ＝５００ｎｍの波長における光学膜厚を示しており、実膜厚は光学膜厚から算出される膜厚を示している。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
予めハードコートが施されたプラスチック基材（プラスチックレンズ：ＨＯＹＡ(株)製商品名：アイアス、屈折率１．６）の表面に１層目の下地層（低屈折率層）である酸化ケイ素層を形成し、その上に２層目〜９層目の反射防止膜を形成した。１層目の下地層と反射防止膜の２層目から８層目は、イオンアシスト法により蒸着を行い形成した。また、９層目の撥水層は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物として、ＫＹ１３０（商品名：信越化学工業（株）製）を用いハロゲン加熱により蒸着を行い形成した。反射防止膜の成膜条件と構成を表１に示す。成膜時の膜厚管理は、光学膜厚測定で行った。なお、表１中の光学膜厚は、λ＝５００ｎｍの波長における光学膜厚を示しており、実膜厚は光学膜厚から算出される膜厚を示している。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
実施例２
実施例１において、緩衝層（ＴｉＯ2）の光学膜厚を１０ｎｍとし、第６層の光学膜厚を２５ｎｍとした以外は同様にして９層構造からなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを製造した。
得られたレンズについて、上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
実施例１において、緩衝層（ＴｉＯ2）の光学膜厚を１０ｎｍとし、第６層の光学膜厚を２５ｎｍとした以外は同様にして９層構造からなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを製造した。
得られたレンズについて、上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
実施例３
実施例１において、緩衝層（ＴｉＯ2）の光学膜厚を１５ｎｍとし、第６層の光学膜厚を２０ｎｍとした以外は同様にして９層構造からなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを製造した。
得られたレンズについて、上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
実施例１において、緩衝層（ＴｉＯ2）の光学膜厚を１５ｎｍとし、第６層の光学膜厚を２０ｎｍとした以外は同様にして９層構造からなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを製造した。
得られたレンズについて、上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
実施例４
実施例１において、緩衝層（ＴｉＯ2）の光学膜厚を２０ｎｍとし、第６層の光学膜厚を１５ｎｍとした以外は同様にして９層構造からなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを製造した。
得られたレンズについて、上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
また、上記（３）の試験（砂による表面摩耗600往復）後の反射防止膜表面の光学顕微鏡写真を図２に示す。
実施例１において、緩衝層（ＴｉＯ2）の光学膜厚を２０ｎｍとし、第６層の光学膜厚を１５ｎｍとした以外は同様にして９層構造からなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを製造した。
得られたレンズについて、上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
また、上記（３）の試験（砂による表面摩耗600往復）後の反射防止膜表面の光学顕微鏡写真を図２に示す。
実施例５
本実施例４のプラスチックレンズは、実施例１〜３の反射防止膜の構成において、第４層と第５層の間にさらに第２緩衝層を加えた構成である。
すなわち、予めハードコートが施されたプラスチック基材（プラスチックレンズ：ＨＯＹＡ(株)製 商品名：アイアス、屈折率１．６）の表面に１層目の下地層である酸化ケイ素層を形成し、その上に２層目〜１０層目の反射防止膜を形成した。１層目の下地層と反射防止膜の２層目から９層目は、イオンアシスト法により蒸着を行い形成した。また、１０層目の撥水層は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物として、ＫＹ１３０（商品名：信越化学工業（株）製）を用いハロゲン加熱により蒸着を行い形成した。反射防止膜の成膜条件と構成を表２に示す。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
本実施例４のプラスチックレンズは、実施例１〜３の反射防止膜の構成において、第４層と第５層の間にさらに第２緩衝層を加えた構成である。
すなわち、予めハードコートが施されたプラスチック基材（プラスチックレンズ：ＨＯＹＡ(株)製 商品名：アイアス、屈折率１．６）の表面に１層目の下地層である酸化ケイ素層を形成し、その上に２層目〜１０層目の反射防止膜を形成した。１層目の下地層と反射防止膜の２層目から９層目は、イオンアシスト法により蒸着を行い形成した。また、１０層目の撥水層は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物として、ＫＹ１３０（商品名：信越化学工業（株）製）を用いハロゲン加熱により蒸着を行い形成した。反射防止膜の成膜条件と構成を表２に示す。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
実施例６
実施例１において、緩衝層の材質をＩｎＳｎＯ（ＩＴＯ）に代え、光学膜厚を１０ｎｍとした以外は同様にして９層構造からなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを製造した。
得られたレンズについて、上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。なお、ＩＴＯ層（第７層）は、イオン銃の設定値が３００ｍＡ、１８０Ｖであり、アシストガスが酸素でフロー量を４０ｃｃ／ｍｉｎの条件で成膜した。
実施例１において、緩衝層の材質をＩｎＳｎＯ（ＩＴＯ）に代え、光学膜厚を１０ｎｍとした以外は同様にして９層構造からなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを製造した。
得られたレンズについて、上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。なお、ＩＴＯ層（第７層）は、イオン銃の設定値が３００ｍＡ、１８０Ｖであり、アシストガスが酸素でフロー量を４０ｃｃ／ｍｉｎの条件で成膜した。
比較例１
実施例１において、緩衝層を設けずに全８層構造からなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを製造した。
得られたレンズについて、上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
また、上記（３）の試験（砂による表面摩耗600往復）後の反射防止膜表面の光学顕微鏡写真を図３に示す。図３に示すように、実施例４の光学顕微鏡写真に比べ傷が多い。
実施例１において、緩衝層を設けずに全８層構造からなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを製造した。
得られたレンズについて、上記（１）〜（３）を評価した結果を表３に示す。
また、上記（３）の試験（砂による表面摩耗600往復）後の反射防止膜表面の光学顕微鏡写真を図３に示す。図３に示すように、実施例４の光学顕微鏡写真に比べ傷が多い。
以上詳細に説明したように、本発明の反射防止膜及びそれを用いた光学部材は、反射防止膜に対する外部衝撃による傷やクラックの発生を抑制でき、特に眼鏡用プラスチックレンズに適している。
Claims (13)
- プラスチック基板上に設けられる反射防止膜であって、該反射防止膜が、最外層が低屈折率層となるように、基板側から低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されてなり、低屈折率層と高屈折率層との間に、金属酸化物からなる緩衝層が少なくとも一層設けられている反射防止膜であって、
前記低屈折率層がＳｉＯ2及びＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなり、前記高屈折率層がＴａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5及びＺｒＯ2から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなり、前記緩衝層がＩｎＳｎＯ、ＩｎＺｎＯ、Ｉｎ2Ｏ3及びＴｉＯ2から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなり、前記緩衝層の少なくとも一層が、最外層である低屈折率層とその下の高屈折率層との間に設けられ、前記最外層の低屈折率層がＳｉＯ 2 層であり、その下の高屈折率層がＴａ 2 Ｏ 5 層であり、前記最外層の低屈折率層とその下の高屈折率層との間に設けられた緩衝層がＴｉＯ 2 層又はＩｎＳｎＯ層である反射防止膜。 - 前記緩衝層が、ＴｉＯ2層である請求項１に記載の反射防止膜。
- 前記緩衝層の厚さが、３〜２０ｎｍである請求項１に記載の反射防止膜。
- 最外層の低屈折率層以外の前記低屈折率層の少なくとも一層が、ＳｉＯ2層である請求項１に記載の反射防止膜。
- 最外層の下の高屈折率層以外の前記高屈折率層の少なくとも一層が、Ｔａ2Ｏ5層である請求項１に記載の反射防止膜。
- 前記緩衝層の屈折率が１．９〜２．３５である請求項１に記載の反射防止膜。
- 前記低屈折率層の屈折率が１．４〜１．５である請求項１に記載の反射防止膜。
- 前記高屈折率層の屈折率が２．０〜２．３５である請求項１に記載の反射防止膜。
- 前記最外層の上に撥水層が設けられている請求項１に記載の反射防止膜。
- 前記緩衝層を除く低屈折率層及び高屈折率層からなる積層が、５層〜９層の奇数層の反射防止膜である請求項１に記載の反射防止膜。
- 前記緩衝層が、二層以上設けられている請求項１に記載の反射防止膜。
- プラスチック基板上に、請求項１〜１１のいずれかに記載の反射防止膜が設けられた光学部材。
- 眼鏡用プラスチックレンズである請求項１２に記載の光学部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007204102A JP5308640B2 (ja) | 2007-08-06 | 2007-08-06 | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
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|---|---|
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5308640B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2943798B1 (fr) * | 2009-03-27 | 2011-05-27 | Essilor Int | Article d'optique revetu d'un revetement antireflet ou reflechissant comprenant une couche electriquement conductrice a base d'oxyde d'etain et procede de fabrication |
| SG174652A1 (en) * | 2010-03-31 | 2011-10-28 | Heraeus Gmbh W C | Composition of sputtering target, sputtering target, and method of producing the same |
| JP2012032690A (ja) | 2010-08-02 | 2012-02-16 | Seiko Epson Corp | 光学物品およびその製造方法 |
| JP2012128135A (ja) | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Seiko Epson Corp | 光学物品およびその製造方法 |
| US10079257B2 (en) * | 2012-04-13 | 2018-09-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Anti-reflective layer for backside illuminated CMOS image sensors |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61114843A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-02 | コニカ株式会社 | 導電性積層体 |
| JP3704739B2 (ja) * | 1995-04-03 | 2005-10-12 | 住友電気工業株式会社 | ＺｎＳを基板とする耐環境性赤外線透過構造体 |
| JPH10123303A (ja) * | 1996-10-18 | 1998-05-15 | Victor Co Of Japan Ltd | 反射防止光学部品 |
| FR2817267B1 (fr) * | 2000-11-28 | 2003-08-29 | Essilor Int | Procede de depot de couche anti-reflets a froid sur substrat organique |
| JP4295588B2 (ja) * | 2003-09-22 | 2009-07-15 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止ガスバリア性基板 |
| JP4862379B2 (ja) * | 2005-12-08 | 2012-01-25 | セイコーエプソン株式会社 | プラスチックレンズ及びプラスチックレンズの製造方法 |
-
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