JP2022507735A - 干渉コーティング及び耐摩耗性改善のための多層系を有する光学レンズ - Google Patents

Abstract

本発明は、前面主面及び背面主面を有する基材を含む光学レンズに関し、その少なくとも１つの主面は、いかなるＴａ２Ｏ５層も含まない、第１の高屈折率シート、第２の低屈折率シート、第３の高屈折率シート、１００ｎｍ以上の厚さを有する単層副層、及び少なくとも１つの高屈折率層と少なくとも１つの低屈折率層との積層体を含む多層干渉コーティングで、連続的にコーティングされている。前記後面主面上の２８０ｎｍ～３８０ｎｍの平均屈折率ＲＵＶをＩＳＯ １３６６６：１９９８規格で定義される関数Ｗ（λ）で重み付けしたものは、３５°の入射角で１０％より低い。

Description

本発明は、改善された耐摩耗性及び良好な耐熱性を有する多層透明干渉コーティング、典型的には反射防止コーティングでコーティングされた基材を含む光学物品、特には眼用レンズ、及びそのような光学物品の製造方法に関する。

完成品に追加の又は改善された光学的又は機械的特性を付与するために、光学基材の少なくとも１つの主面を複数のコーティングでコーティングすることは当該技術分野における一般的な慣行である。これらのコーティングは、一般的に機能性コーティングと呼ばれている。

複数の機械的及び／又は光学的特性を付与するために使用され得る様々なコーティングは、耐衝撃性コーティング層、耐摩耗性及び／若しくは耐擦り傷性コーティング層、反射防止及び／若しくは反射コーティング層、並びに／又は防汚層及び／若しくは防曇層とすることができる。

環境からの擦り傷を受けやすい光学物品の耐摩耗性を改善するための様々な方法を文献の中で見ることができる。例えば、反射防止コーティングの下方に比較的厚い副層を使用するか、又は特開２００３－１９５００３号公報及び特開２００３－２９４９０６号公報におけるように反射防止コーティングの総厚を増大することが提案されており、この中で、レンズがプライマーコーティング、ハードコート、並びにＳｉＯ_２及びＴｉＯ_２の交互層を含む７層の反射防止コーティングでコーティングされていることが記載されており、後者はイオン支援により堆積されており、且つ、光分解し易いことが知られていることが記載されている。特開２００３－２９４９０６号公報では、反射防止コーティングの（基材側から数えて）最初の３層の膜厚を制御し、最初の３層に対して計算された、（ＳｉＯ_２層の物理的厚さの合計）／（ＴｉＯ_２層の物理的な厚さの合計）の高い比率を使用することがアドバイスされている。

米国特許第８９８２４６６号明細書は、ハードコートと多層反射防止コーティングとを有し、ＴｉＯ_２から作られた高屈折率層が一体となり４０ｎｍ未満の厚さを有する光学レンズに関する。

欧州特許第２７７５３４１号明細書には、ハードコート層と、厚さ３６０～３９０ｎｍのＳｉＯ_２副層と、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、及び／又はＴａ_２Ｏ_５から作られた４層の干渉コーティングとを有する眼鏡用レンズが開示されており、これらの層は、特定のナノインデンテーション硬度と圧縮応力を有しており、また通常イオン支援蒸着によって堆積されたものである。この堆積技術は圧縮応力を増加させ、その結果層間剥離を引き起こす可能性がある。

特開２００２－１２２８２０号公報には、物理的厚さが８９～１７８ｎｍ（光学厚さ：５２０ｎｍで０．２５～０．５λ）のＳｉＯ_２副層と４層反射防止コーティング（ＺｒＯ_２／ＳｉＯ_２／ＺｒＯ_２／ＳｉＯ_２）とでコーティングされたハードコートされた基材について記載されている。この文献によれば、様々な材料の層間でコーティングの厚さと応力のバランスをとれることにより、高い臨界温度に到達させることができる。しかしながら、調査された唯一のパラメータは副層の厚さであった。その厚さは、比率（副層を含むＳｉＯ_２層の物理的厚さの合計）／（ＺｒＯ_２層の物理的厚さの合計）が２～３の範囲になるようにする必要がある。高い比率は、反射防止コーティングの耐久性が低下するため望ましくないとされている。

米国特許第７６９２８５５号明細書には、低屈折率層／高屈折率層の物理的厚さの比率が通常２．１よりも大きい多層反射防止コーティングでコーティングされた少なくとも１つの主面を有する基材を含む、反射防止特性及び高い耐熱性を有する光学物品が開示されている。

米国特許出願公開第２００８／２０６４７０号明細書は、副層、副層、及び多層積層体を含む、反射防止特性又は反射特性を有する光学物品を製造するための方法に関する。光学物品の耐摩耗性を高めるために、副層は、堆積工程中に追加のガスを供給しながら真空チャンバー内で堆積されなければならず、また、多層積層体を堆積する前に副層の露出面に対してイオン衝撃処理を行わなければならない。

国際公開第２０１８／１９２９９８号パンフレットでは、光学物品の耐摩耗性を高めるために、干渉コーティングの中の層の厚さを制御すること、すなわち、２以上の、外的な低屈折率層／外的な高屈折率層の物理的厚さの比率を使用することが提案されている。更に、光学物品は、干渉縞を制限するためのインピーダンスコーティングを含み得る。典型的には、この場合、インピーダンスコーティングは、任意選択的にコーティングされている基材上に、この順序で堆積された厚さ４～５０ｎｍのＳｉＯ_２層と、副層と接触している厚さ４～１５ｎｍのＺｒＯ_２又はＴａ_２Ｏ_５層とを含む。

本発明の目的は、干渉コーティング、好ましくはレンズ、より好ましくは眼鏡用の眼用レンズを有する有機又は無機ガラス基材を含み、改善された耐摩耗性と、基材への良好な付着性と、熱及び温度変化に対する良好な耐性（すなわち高い臨界温度）とを有する透明な光学物品を提供することであり、これは、既に知られている反射又は反射防止コーティングを有する光学物品の代替となるであろう。これらの特性は、反射防止又は反射性能など、前記物品の光学的性能及び他の機械的性能を低下させずに得られる必要がある。

本発明のもう１つの目的は、上で規定した物品を製造する方法を提供することであり、これは、従来の製造チェーンに容易に組み込むことができ、基材の加熱が回避されるであろう。

本発明者らは、これらの目的が干渉コーティングの厚い副層の下に堆積された層の特定の組み合わせを使用することによって達成できることを見出した。これにより、特に、干渉コーティングの付着特性を低下させることなく、光学物品の耐摩耗性を高めることが可能になる。

従来の干渉コーティングと比較して、本発明の干渉コーティングは、より高い耐摩耗性、より良好な付着性、及び同様の又は改善された臨界温度を有する。

それゆえ、本発明は前面主面と後面主面を有する基板を含み、そのうちの少なくとも一方の主面が：
－ （Ａ）１．５５より高い屈折率を有し、Ｔａ_２Ｏ_５層を一切含まない第１の高屈折率シート、
－ （Ｂ）１．５５以下の屈折率を有し、前者のシートと直接接触する第２の低屈折率シート、
－ （Ｃ）１．５５より高い屈折率を有し、前者のシートと直接接触する第３の高屈折率シート、
－ １００ｎｍ以上の厚さを有し、前者のシート（Ｃ）と直接接触する単層副層、
－ １．５５より高い屈折率を有する少なくとも１つの高屈折率層と１．５５以下の屈折率を有する少なくとも１つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティング、
により連続して被覆され、
前記背面主面上の２８０ｎｍ～３８０ｎｍの平均反射係数Ｒ_ＵＶをＩＳＯ １３６６６：１９９８規格で定義される関数Ｗ（λ）で重み付けしたものは、３５°の入射角で１０％より低い、
光学レンズに関する。

シート（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）並びに副層から構成される系は、本明細書において、機械的及び付着系として使用され、干渉コーティングは光学系として使用される。

用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅ）」（並びに「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」及び「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」などのその文法的変形形態）、「有する（ｈａｖｅ）」（並びに「有する（ｈａｓ）」及び「有する（ｈａｖｉｎｇ）」などのその文法的変形形態）、「含む（ｃｏｎｔａｉｎ）」（並びに「含む（ｃｏｎｔａｉｎｓ）」及び「含む（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」などのその文法的変形形態）、並びに「含む（ｉｎｃｌｕｄｅ）」（並びに「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」及び「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」などのその文法的変形形態）は、オープンエンドの連結動詞である。これらは、述べられる特徴、整数、工程、若しくは構成要素、又はこれらの群の存在を規定するために使用されるが、１つ以上のその他の特徴、整数、工程、若しくは構成要素、又はこれらの群の存在又は追加を排除するものではない。結果として、１つ以上の工程又は要素を「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「有する」、「含む（ｃｏｎｔａｉｎｓ）」、又は「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」方法又は方法内の工程は、それらの１つ以上の工程又は要素を有するが、それらの１つ以上の工程又は要素のみを有することに限定されない。

別段の指示がない限り、本明細書で使用される成分の量、範囲、反応条件などを指す全ての数字又は表現は、全ての場合において用語「約」によって修飾されているものとして理解される。

光学物品が１つ以上の表面コーティングを含む場合、「光学物品上にコーティング又は層を堆積する」という語句は、コーティング又は層が光学物品の最も外側のコーティング、すなわち空気に最も近いコーティング上に堆積されることを意味する。

レンズの片面の「上」にあるコーティングは、（ａ）その面の上方に配置されており、（ｂ）その面と接触する必要がなく、すなわち１つ以上の介在するコーティングがその面と対象のコーティングとの間に配置されていてもよく（ただし好ましくはその面と接触している）、（ｃ）その面を完全に被覆している必要はない、コーティングとして定義される。

「コーティング」という用語は、基材と、及び／又は別のコーティング、例えば、ゾル－ゲルコーティング若しくは有機樹脂製のコーティングと接触し得る任意の層、層積層体若しくは膜を意味することが理解される。コーティングは、湿式プロセス、ガス状プロセス及びフィルム複写を含む種々の方法によって堆積又は形成されてよい。

「シート」という用語は、単一の層（単層）又は二重層、すなわち、互いに直接接触している２つの層のセットを意味すると理解される。（１．５５より高い屈折率を有する）高屈折率シートが２層を有する場合、両方の層が高屈折率層である。同様に、（１．５５以下の屈折率を有する）低屈折率シートが２層を有する場合、両方の層が低屈折率層である。

本出願では、材料に基づく層は、少なくとも８０重量％の前記材料、より好ましくは少なくとも９０重量％の前記材料、更に好ましくは前記材料の層からなる層として定義されている。例えば、ＺｒＯ_２ベースの層は、少なくとも８０重量％のＺｒＯ_２を含む。

本発明に従って作製される光学物品は、透明な光学物品、好ましくは光学レンズ又はレンズブランク、より好ましくは眼用レンズ又はレンズブランクである。光学物品は、その凸状の主面（前面）、凹状の主面（後面／背面）、又は両方の面を、好ましくは凸状（前面）の主面を、シート（Ａ）～（Ｃ）、副層、及び本発明による多層干渉コーティングでコーティングされていてもよい。本明細書で使用される場合、基材の背面は、眼用レンズの場合、物品を使用する時に着用者の眼から最も近い面を意味するように意図されている。これは、一般的に凹面である。逆に基材の前面は、物品を使用する時に、着用者の眼から最も遠く離れている表面である。これは、一般的に凸面である。光学物品は、平面物品であることも可能である。

本明細書において、「レンズ」という用語は、様々な性質の１つ以上のコーティングでコーティングされ得るレンズ基材を含む有機又は無機ガラスレンズを意味する。

「眼用レンズ」という用語は、例えば眼を保護し、且つ／又は視力を矯正するために眼鏡フレームに合わせられたレンズを意味するために使用される。前記レンズは、無限焦点、一焦点、二焦点、三焦点、累進レンズから選択することができる。眼用の光学系が本発明の好ましい分野であるものの、本発明は、例えば、写真又は天文学における光学機器用のレンズ、光学照準レンズ、眼用バイザー、照明システムの光学系などの他のタイプの光学物品に適用できることが理解されるであろう。

本明細書では、別段の明記がない限り、光学物品／材料は、前記光学物品を介した画像の観察がコントラストの有意な損失なく知覚される場合、すなわち前記光学物品を通した画像の形成が画像の品質に悪影響を及ぼすことなく得られる場合、透明であると理解される。「透明」という用語のこの定義は、別段の明記がない限り、説明においてそのように修飾された全てのものに対して適用され得る。

基材は、本発明の意味において、未コーティングの基材を意味するものとして理解されるべきであり、且つ一般に２つの主面を有する。基材は、特に、光学物品、例えばガラスに取り付けられる眼用レンズの形状を有する光学的に透明な材料であり得る。これに関連して、「基材」という用語は、光学レンズ、特に眼用レンズのベース成分材料を意味するものとして理解される。この材料は、１つ以上の機能性コーティング又は層の積層体のための支持体として機能する。

基材は、無機ガラス製であっても有機ガラス製であってもよく、好ましくは有機ガラス製である。有機ガラスは、ポリカーボネートや熱可塑性ポリウレタンなどの熱可塑性材料、又はジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）ポリマーやコポリマー（特にはＰＰＧ ＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓのＣＲ－３９（登録商標））などの熱硬化性（架橋）材料、熱硬化性ポリウレタン、ポリチオウレタン、好ましくは、１．６０又は１．６７の屈折率を有するポリチオウレタン樹脂、ポリエポキシド、１．７４の屈折率を有するものなどのポリエピスルフィド、（メタ）アクリルポリマー及びビスフェノール－Ａ由来のコポリマーを含む基材などのポリ（メタ）アクリレート及びコポリマーに基づく基材、ポリチオ（メタ）アクリレート、並びにこれらのコポリマー及びこれらのブレンドのいずれかであってもよい。レンズ基材に適した材料は、ポリカーボネート（ＰＣ）、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）ポリマー、及び熱硬化性ポリチオウレタン樹脂から得られた基材であり、これらはＭｉｔｓｕｉ Ｔｏａｔｓｕ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ ｃｏｍｐａｎｙからＭＲシリーズ、特にＭＲ６（登録商標）、ＭＲ７（登録商標）、ＭＲ８（登録商標）樹脂として販売されている。後者の基材、並びにそれらの製造に使用されるモノマーは特に、米国特許第４，６８９，３８７号明細書、米国特許第４，７７５，７３３号明細書、米国特許第５，０５９，６７３号明細書、米国特許第５，０８７，７５８号明細書、及び米国特許第５，１９１，０５５号明細書に記載されている。

シート（Ａ）～（Ｃ）、副層、干渉コーティング、又は他の機能性コーティングを堆積する前に、堆積される層の付着性を改善するため、物品の表面に対して、国際公開第２０１３／０１３９２９号パンフレットに開示されているような物理的又は化学的な表面活性化及び洗浄前処理が通常行われる。この前処理は、通常、耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティング（ハードコート）の表面上で行われる。

この前処理は、通常真空下で行われる。これは、エネルギー種による衝撃、例えば、イオンビーム法（「イオンプレクリーニング」又は「ＩＰＣ」）若しくは電子ビーム法、コロナ処理、イオン破砕処理、紫外線処理、又は典型的には酸素若しくはアルゴンプラズマを使用する真空化下でのプラズマ処理であってもよい。これは、超音波処理あり又はなしの酸若しくは塩基による表面処理及び／又は溶媒による表面処理（水又は有機溶媒を使用）であってもよい。多くの処理方法を組み合わせることができる。これらの洗浄処理により、基材表面の清浄性が最適化される。

エネルギー種とは、１～３００ｅＶ、好ましくは１～１５０ｅＶ、より好ましくは１０～１５０ｅＶ、最も好ましくは４０～１５０ｅＶの範囲のエネルギーを有する種を意味する。エネルギー種は、イオンやラジカルなどの化学種、又は光子や電子などの種とすることができる。

干渉コーティングは、光学系、特に眼用光学系の分野で従来使用されている事実上全ての干渉コーティングであり得る。干渉コーティングは、非限定的な方法で、反射防止コーティング、赤外線ミラー又は紫外線ミラーなどの反射（ミラー）コーティング、ブルーカットフィルタ又はブルーパスフィルタなどの可視スペクトルにおけるフィルタであってもよいが、好ましくは反射防止コーティングである。

反射防止コーティングは、製品の表面上に堆積され、最終的な製品の反射防止特性を改善するコーティングである。これは、製品／空気界面における可視スペクトルの比較的広い部分にわたる光の反射を低減させる。

本発明の多層干渉コーティングは、１．５５より高い屈折率を有する少なくとも１つの高屈折率層と、１．５５以下の屈折率を有する少なくとも１つの低屈折率層との積層体を含む。

より好ましくは、これは、低屈折率（ＬＩ）を有する少なくとも２つの層と、高屈折率（ＨＩ）を有する少なくとも２つの層とを含む。干渉コーティング内の層の総数は、好ましくは３以上、より好ましくは４以上、好ましくは８又は７以下、より好ましくは６以下、更により好ましくは５以下、最も好ましくは５層に等しい。

本明細書で使用される場合、干渉コーティングの層（又はシート（Ａ）、（Ｂ）若しくは（Ｃ）からの一層）は、１ｎｍ以上の厚さを有するものとして定義される。したがって、干渉コーティングの層の数を数える際には、１ｎｍ未満の厚さを有する層は考慮されない。副層、及びシート（Ａ）～（Ｃ）の層はいずれも、干渉コーティングの層数を数える時、又はその厚さを示す時に考慮されない。

ＨＩ層及びＬＩ層は、本発明の一実施形態によれば、必ずしも積層体内で互いに交互である必要はないが、交互である場合もある。２つのＨＩ層（又はそれ以上）は互いの上に設けられてもよく、並びに２つのＬＩ層（又はそれ以上）が互いの上に設けられてもよい。

本出願において、干渉コーティングの層は、その屈折率が１．５５以上、好ましくは１．６以上、更に好ましくは１．８又は１．９以上、最も好ましくは２以上である場合に、高屈折率（ＨＩ）の層であるとされる。前記ＨＩ層は、好ましくは、２．２又は２．１以下の屈折率を有する。その屈折率が１．５５以下、好ましくは１．５２以下、より好ましくは１．４８又は１．４７以下である場合に、低屈折率層（ＬＩ）であるとされる。前記ＬＩ層は、好ましくは１．１以上の屈折率を有する。

ＨＩ層は、通常、限定するものではないが、ジルコニア（ＺｒＯ_２）、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、五酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）、ネオジム酸化物（Ｎｄ_２Ｏ_５）、プラセオジム酸化物（Ｐｒ_２Ｏ_３）、チタン酸プラセオジム（ＰｒＴｉＯ_３）、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｙ_２Ｏ_３などの１種以上の金属酸化物を含む。ただし、ＴｉＯ_２は干渉コーティングの最も外側の高屈折率層には存在しない。本発明のいくつかの態様では、干渉コーティングの最も外側の高屈折率層は、チタン酸化物を含まない。好ましい実施形態では、干渉コーティングは、ＴｉＯ_２、又はより一般的にはチタン酸化物を含むあらゆる層を含まない。本明細書において、チタン酸化物は、二酸化チタン又は準化学量論的なチタン酸化物（ＴｉＯｘ、ｘ＜２）を意味することが意図されている。チタン酸化物含有層は実際光劣化しやすい。

任意選択的には、ＨＩ層は、上で示したように、１．５５より高い屈折率を有するという条件で、低屈折率のシリカ又は他の材料を更に含んでいてもよい。好ましい材料としては、ＺｒＯ_２、ＰｒＴｉＯ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｙ_２Ｏ_３、及びこれらの混合物が挙げられる。

一実施形態では、干渉コーティングの（１．５５より高い屈折率を有する）全ての高屈折率層は、ＺｒＯ_２を含む。別の実施形態では、干渉コーティングは、少なくとも１つのＴａ_２Ｏ_５ベースの層を含む。

ＬＩ層もよく知られており、限定するものではないが、ＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２、又はシリカとアルミナとの混合物、特にアルミナでドープされたシリカが含まれ得る。後者は干渉コーティングの耐熱性の増加に寄与する。ＬＩ層は、好ましくは、層の総重量に対して、少なくとも８０重量％のシリカ、より好ましくは少なくとも９０重量％のシリカを含む層であり、更に好ましくは、シリカ層からなる。

任意選択的には、得られる層の屈折率が１．５５以下であるという条件で、ＬＩ層は、高屈折率の材料を更に含んでいてもよい。

干渉コーティングの外層、すなわち、基材から最も遠いその層は、通常、層の総重量に対して、少なくとも８０重量％のシリカ、より好ましくは少なくとも９０重量％のシリカを含むシリカベースの層（例えばアルミナでドープされたシリカ層）であり、更に好ましくはシリカ層からなる。

通常、ＨＩ層及びＬＩ層は、１０～１２０ｎｍ、好ましくは２０～１１０ｎｍの範囲の物理的厚さを有する。

一般に、干渉コーティングの総厚＋副層の厚さ＋シート（Ａ）～（Ｃ）の厚さは、１μｍ未満、好ましくは８００ｎｍ以下、より好ましくは５００ｎｍ以下、更により好ましくは４５０ｎｍ以下である。干渉コーティングの総厚は、一般に１００ｎｍより高く、好ましくは２００ｎｍより高く、好ましくは１μｍ又は５００ｎｍより低い。

更に、光学物品は、熱及び温度変動、すなわち、高い臨界温度に対して良好な耐性を有する。本特許出願では、物品の臨界温度は、基材の表面（いずれかの主面上）に存在するコーティング内にクラックが現れ始め、コーティング（一般に干渉コーティング）の劣化をもたらす、開始温度として定義される。本発明に従ってコーティングされた物品の臨界温度は、好ましくは≧７０℃、より好ましくは≧７５℃、８０℃、９０℃、１００℃、又は１１０℃である。

米国特許第７６９２８５５号明細書で定義されている以下のＲ_Ｔ比率とはわずかに異なる、以下のＲ_Ｔ１比率を定義することが可能である。

本発明では、干渉コーティングの層のみが、前記比率Ｒ_Ｔ１の計算のために考慮され、すなわち、副層の上方に位置する層のみが考慮される。

一実施形態では、Ｒ_Ｔ１は０．８以上であり、好ましくは１、１．３、１．５、１．９、２、２．１、２．２、又は２．５以上である。一実施形態では、Ｒ_Ｔ１は５未満であり、好ましくは４、３．５、３の値のうちの少なくとも１つよりも低い。別の実施形態では、Ｒ_Ｔ１は０．８～２．５の範囲にある。高耐摩耗性を呈すると同時に、より高い臨界温度を示す物品を得るために、高いＲ_Ｔ１比率を有することが好ましい。

本発明では、多層干渉コーティングは、１００ｎｍ以上の厚さを有する単層副層の上に堆積される。そのような副層は干渉コーティングに属さないことに留意する必要がある。前記副層は、好ましくは干渉コーティングと直接接触している。

本明細書において、干渉コーティングの副層又は付着層は、干渉コーティングの耐摩耗性及び／若しくは耐擦り傷性などの機械的特性を改善するために、並びに／又は基材若しくは下にあるコーティングへの付着を強化するために使用される、比較的厚いコーティングを意味することが意図されている。

副層は、一般に、６００ｎｍ、５００ｎｍ、４５０ｎｍ、４００ｎｍ、３７５ｎｍのうちのいずれかの値以下であり、一般に、１１０ｎｍ以上、より好ましくは１２０、１３０、１４０、１５０、１６０、又は１８０ｎｍ以上の厚さを有する。副層の厚さを増加させると耐摩耗性が改善される。

副層は、好ましくは、ＳｉＯ_２ベースの層であり、この層は、層の総重量に対して好ましくは少なくとも８０重量％のシリカ、より好ましくは少なくとも９０重量％のシリカを含み、更に好ましくはシリカ層からなる。別の実施形態では、このＳｉＯ_２ベースの層は、本明細書の上で規定したような量のアルミナでドープされたシリカ層であり、好ましくは、アルミナでドープされたシリカ層からなる。

本発明では、単層副層は、３つのシート（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）の系上に堆積され、任意選択的にコーティングされた基材上にこの順序で堆積される。そのようなシートは干渉コーティングに属さないことに留意する必要がある。前記副層は、シート（Ｃ）と直接接触している。この系は、副層と、その下にあるコーティング又は基材との間の付着の問題に悩まされることなく、光学物品の耐摩耗性を改善することを可能にする。

実際に、好ましくは追加のガス供給なしに、その圧縮／密度を高めるために、副層の厚さを増大させ、及び／又は低圧下で副層を堆積するなど、光学物品の耐摩耗性を改善するための何らかの手段が実施される場合、機械的応力による付着の問題が観察され得る。

１．５５より高い屈折率を有する第１の高屈折率シート（Ａ）は、Ｔａ_２Ｏ_５層を含まず、好ましくはＴａ_２Ｏ_５ベースの層を含まない。シート（Ａ）は、１つの単一の高屈折率層、又は直接接触している２つの高屈折率層を含み得る。シート（Ａ）の層は、一般に、１つ以上の金属酸化物を含み、これは干渉コーティングの高屈折率層に対して前述した金属酸化物から選択することができる。Ｔａ_２Ｏ_５は存在することができるが、好ましくは８０重量％未満、より好ましくは７５重量％、５０重量％、２５重量％、１０重量％、５重量％、又は１重量％未満の量である。一実施形態では、シート（Ａ）の層はＴａ_２Ｏ_５を含まない。

シート（Ａ）は、好ましくはＺｒＯ_２ベースの層を含み、より好ましくはＺｒＯ_２ベースの層である。一実施形態では、シート（Ａ）は、ＺｒＯ_２層を含み、より好ましくはＺｒＯ_２層である。

シート（Ａ）は、好ましくは６０ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ、４０ｎｍ、３０ｎｍ、２５ｎｍ、２０ｎｍ、又は１５ｎｍ以下の厚さを有する。シート（Ａ）は、好ましくは４ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ又は７ｎｍ以上の厚さを有する。

一実施形態では、シート（Ａ）は、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、２，４，６，８－テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、又はドデカメチルペンタシロキサンなどの、少なくとも１つの金属酸化物及び少なくとも１つの有機ケイ素化合物の、イオン源の支援による真空堆積によって得られる、国際公開第２０１７／０２１６６９号パンフレットに開示されるような高屈折率ケイ素有機層を含み、前記層は、ＺｒＯ_２などの１．８以上の屈折率を有する少なくとも１つの金属酸化物を含む。

一実施形態では、シート（Ａ）は、直接接触する２つの高屈折率層を含み、任意選択的にコーティングされた基材と直接接触するその高屈折率層は、付着層である。前記付着層は、クロム、１．５５より大きい屈折率を有するような、０．５＜ｘ＜１．５、好ましくは０．９＜ｘ＜１．１の準化学量論的酸化ケイ素ＳｉＯｘ、及びクロム、ケイ素、及び酸素、好ましくはクロム及び酸化ケイ素を含み、ここで酸化ケイ素が前記層の５０～９５重量％、好ましくは６５～９２重量％を表す混合物、から選択される金属又は金属酸化物を含み得る。クロム、シリコン、及び酸素を含む前記付着層を形成するために使用できる市販の材料の例は、Ｕｍｉｃｏｒｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＡＧ ｃｏｍｐａｎｙによって提供される、材料Ｍａｌｂｕｎｉｔ８／１（ＳｉＯ_２とＣｒとの混合物）及びＦｌｅｘｏ（ＳｉＯとＣｒとの混合物）である。この実施形態では、シート（Ａ）とその下にある任意選択的にコーティングされた基材との間の付着が改善され、層間剥離の発生（付着不良）が低減される。

１．５５以下の屈折率を有する第２の低屈折率シート（Ｂ）は、シート（Ａ）と直接接触している。シート（Ｂ）は、１つの単一の低屈折率層、又は直接接触している２つの低屈折率層を含み得る。シート（Ｂ）の層は、一般に、１つ以上の金属酸化物を含み、これは干渉コーティングの低屈折率層に関して前述した金属酸化物から選択することができる。

シート（Ｂ）は、好ましくはＳｉＯ_２ベースの層を含み、より好ましくはＳｉＯ_２ベースの層である。一実施形態では、シート（Ｂ）は、ＳｉＯ_２層を含み、より好ましくは、ＳｉＯ_２層である。

一実施形態では、シート（Ｂ）は、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、２，４，６，８－テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン又はドデカメチルペンタシロキサンなどの、少なくとも１つの有機ケイ素化合物の、イオン源の支援による真空堆積によって得られる、国際公開第２０１７／０２１６６９号パンフレットに開示されるような低屈折率ケイ素有機層を含む。

シート（Ｂ）は、好ましくは８０ｎｍ以下、より好ましくは７５ｎｍ、７０ｎｍ、６５ｎｍ、６０ｎｍ又は５５ｎｍ以下の厚さを有する。シート（Ｂ）は、好ましくは２０ｎｍ以上、より好ましくは２５ｎｍ、３０ｎｍ又は３５ｎｍ以上の厚さを有する。耐摩耗性を向上させるために、シート（Ｂ）を十分に厚くすることが重要である。

シート（Ａ）が１．５５以上の屈折率を有するコーティングされていない基材と直接接触している場合、又は１．５５以上の屈折率を有するコーティング（通常、耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティング）と直接接触している場合、シート（Ｂ）の厚さは、好ましくは６０ｎｍ又は５５ｎｍ以下である。

一実施形態では、シート（Ｂ）の層の堆積は真空チャンバー内で実行され、真空チャンバーでは前記堆積中に補助ガスは供給されず、その密度を増大させる。

１．５５より高い屈折率を有する第３の高屈折率シート（Ｃ）は、シート（Ｂ）と直接接触している。シート（Ｃ）は、１つの単一の高屈折率層、又は直接接触している２つの高屈折率層を含み得る。シート（Ｃ）の層は、一般に、１つ以上の金属酸化物を含み、これは、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＰｒＴｉＯ_３、ＺｒＯ_２、及びＹ_２Ｏ_３などの、干渉コーティングの高屈折率層に関して前述した金属酸化物から選択することができる。

一実施形態では、シート（Ｃ）は、Ｔａ_２Ｏ_５層、好ましくはＴａ_２Ｏ_５ベースの層を含まない。別の実施形態では、Ｔａ_２Ｏ_５は、シート（Ｃ）の層中に、８０重量％未満、好ましくは７５重量％、５０重量％、２５重量％、１０重量％、５重量％、又は１重量％未満の量で存在する。一実施形態では、シート（Ｃ）の層はＴａ_２Ｏ_５を含まない。

シート（Ｃ）は、好ましくはＺｒＯ_２ベースの層を含み、より好ましくはＺｒＯ_２ベースの層である。一実施形態では、シート（Ｃ）は、ＺｒＯ_２層を含み、より好ましくはＺｒＯ_２層である。

シート（Ｃ）は、好ましくは６０ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ、４０ｎｍ、３０ｎｍ、２５ｎｍ、２０ｎｍ、又は１５ｎｍ以下の厚さを有する。一実施形態では、これらの厚さ要件は、シート（Ａ）及び（Ｃ）によって同時に満たされる。シート（Ａ）は、好ましくは４ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ、７ｎｍ、又は１０ｎｍ以上の厚さを有する。

一実施形態では、シート（Ｃ）は、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、２，４，６，８－テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、又はドデカメチルペンタシロキサンなどの、少なくとも１つの金属酸化物及び少なくとも１つの有機ケイ素化合物の、イオン源の支援による真空堆積によって得られる、国際公開第２０１７／０２１６６９号パンフレットに開示されるような高屈折率ケイ素有機層を含み、前記層は、ＺｒＯ_２などの１．８以上の屈折率を有する少なくとも１つの金属酸化物を含む。

シート（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）の総厚は、好ましくは４０～１００ｎｍ、より好ましくは４５～８０ｎｍ又は５０～７５ｎｍの範囲にある。

シート（Ａ）及び（Ｃ）の屈折率は、干渉コーティングの高屈折率層に関して前述した屈折率から独立して選択することができる。シート（Ｂ）の屈折率は、干渉コーティングの低屈折率層に関して前述した屈折率から選択することができる。

シート（Ａ）～（Ｃ）の系の層の総数は、３～６の範囲であり、より好ましくは３～４又は５であり、理想的には３に等しい。換言すれば、シート（Ａ）及び／又は（Ｂ）及び／又は（Ｃ）は、好ましくは単層である。この系は、好ましくは、基材から離れる方向に、ＺｒＯ_２ベースの層、ＳｉＯ_２ベースの層、及びＺｒＯ_２ベースの層を含み、より好ましくは、ＺｒＯ_２ベースの層、ＳｉＯ_２ベースの層、及びＺｒＯ_２ベースの層からなる。この系は、好ましくは、基材から離れる方向に、ＺｒＯ_２層、ＳｉＯ_２層、及びＺｒＯ_２層を含み、より好ましくは、ＺｒＯ_２層、ＳｉＯ_２層、及びＺｒＯ_２層からなる。

任意選択的には、干渉コーティングの第１の層を堆積する前に、副層の露出面に対して物理的又は化学的活性化処理を行うことができ、この処理は、既に上述した副層を堆積する前に基材に対して行うことができる前処理から選択することができる。好ましい前処理は、例えばイオン銃によって発生したアルゴンイオンビームを使用することによるイオン衝撃である。そのような物理的又は化学的活性化処理（好ましくはイオン衝撃処理）は、前記多層干渉コーティングの後続の層を堆積する前に、多層干渉コーティングの１つ以上の層の露出面で行うこともできる。

本発明の光学物品は、物品の表面に存在する積層体の中に、好ましくは干渉コーティングの中に少なくとも１つの導電層を組み込むことによって、帯電防止に、すなわち、多量の静電荷を保持及び／又は発生させないようにすることができる。

布切れでこすったり、任意の他の手段を使用したりして静電荷（コロナによって加えられた電荷．．．）を生成した後に得られた静電荷をレンズが除去する能力は、前記電荷が散逸するために要する時間を測定することによって定量化することができる。したがって、帯電防止レンズは約数百ミリ秒、好ましくは５００ｍｓ以下の放電時間を有する一方で、静電レンズではこれは約数十秒である。本出願では、放電時間は、仏国特許第２９４３７９８号明細書に公開されている方法に従って測定される。

本明細書において、「導電層」又は「帯電防止層」は、これが基材の表面上に存在することに起因して、電荷蓄積により埃／粒子を引き付ける光学物品の能力を低下させる層を意味することが意図されている。好ましくは、非帯電防止基材（すなわち５００ｍｓより長い放電時間を有する）の上に設けられる場合、帯電防止層は、光学物品が多量の静電荷を保持及び／又は発生させないように、例えばその表面上に静電荷が加えられた後に５００ｍｓ以下の放電時間を有するようにすることができ、その結果、静電気の影響を防ぐことにより小さな埃の光学物品への付着が防止される。

導電層は、その反射特性又は反射防止特性が影響を受けないことを条件として、積層体内の様々な位置に、通常は干渉コーティング内に、又は干渉コーティングと接触して、配置することができる。これは、好ましくは干渉コーティングの２つの層の間に配置される、及び／又は好ましくはそのような干渉コーティングの高屈折率層に隣接している。一実施形態では、導電層は、干渉コーティングの低屈折率層のすぐ下に配置され、最も好ましくは、干渉コーティングのＬＩ外層のすぐ下に配置されることによる干渉コーティングの最後から２番目の層である。

一実施形態では、導電層は、１．５５以下の屈折率を有する２つの層と直接接触しており、前記導電層は、好ましくは、基材から離れる方向に干渉コーティングの最後から２番目の位置に配置されている。

導電層は、干渉コーティングの透明性を変えないように十分に薄くする必要がある。導電層は、好ましくは、導電性且つ透明性の高い材料、通常は任意選択的にドープされていてもよい金属酸化物から製造される。この場合、その厚さは、好ましくは１～１５ｎｍ、より好ましくは１～１０ｎｍ、理想的には２～８ｎｍの範囲である。好ましくは、導電層は、インジウム、スズ、亜鉛酸化物、及びこれらの混合物から選択される、任意選択的にドープされていてもよい金属酸化物を含む。スズ－インジウム酸化物（Ｉｎ_２Ｏ_３：Ｓｎ、スズでドープされたインジウム酸化物）、アルミニウムでドープされた亜鉛酸化物（ＺｎＯ：Ａｌ）、インジウム酸化物（Ｉｎ_２Ｏ_３）、及びスズ酸化物（ＳｎＯ_２）が好ましい。最も好ましい実施形態では、導電性且つ光学的に透明な層は、スズ－インジウム酸化物層であり、ＩＴＯ層又はスズ酸化物層と呼ばれる。

一般に、導電層は、積層体内で、ただしその薄い厚さのために限定的な形で、干渉特性を得ることに寄与し、典型的には、前記コーティングにおいて高屈折率を有する層を表す。これは、ＩＴＯ又はＳｎＯ_２層などの導電性且つ透明度の高い材料から製造された層の場合である。したがって、これが存在する場合には、導電層は、好ましくは、干渉コーティングの最も外側の高屈折率層、又は１つ以上の高屈折率層に隣接する場合には干渉コーティングの最も外側の高屈折率層の１つである。

導電層は、任意の適切な方法に従って、例えば真空蒸着によって、好ましくは、その透明性を高めるためにイオンビーム支援（ＩＡＤ、以下で説明）によって、又はカソードスパッタリングによって、堆積することができる。

導電層は、典型的には厚さ１ｎｍ未満、好ましくは厚さ０．５ｎｍ未満の貴金属（Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔなど）の非常に薄い層であってもよい。

干渉コーティング、副層、及びシート（Ａ）～（Ｃ）の様々な層は、好ましくは、以下の方法のいずれかに従って、真空下で、気相堆積によって堆積される。ｉ）蒸着によって、任意選択的にはイオンビーム支援下で；ｉｉ）イオンビーム噴霧によって；ｉｉｉ）カソードスパッタリングによって；ｉｖ）プラズマ支援化学蒸着によって；のいずれかの方法に従って真空下で気相堆積により堆積される。これらの様々な方法は、参考文献「Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ」及び「Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ ＩＩ」、Ｖｏｓｓｅｎ＆Ｋｅｒｎ編、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ、１９７８年及び１９９１年にそれぞれ記載されている。特に推奨される方法は、真空下での蒸着である。好ましくは、上述した各層の堆積は、真空下での蒸着によって行われる。そのようなプロセスは、基材の加熱を有利に回避し、これは、有機ガラスなどの熱の影響を受けやすい基材をコーティングするために特に興味深い。

干渉コーティング、副層、又はシート（Ａ）～（Ｃ）の様々な層のうちの１つ以上を堆積する間に、上で定義したようなエネルギー種による処理工程を行うこともできる。特に、イオン支援下で作業することで、前記層が形成されている間にこれらをパッキングすることができ、これらの圧縮率及び屈折率が増加する。層の堆積中にイオン支援を使用すると、イオン支援なしで堆積された層とは構造的に異なる層が生成される。

イオン支援堆積法又はＩＡＤは、特に、米国特許出願公開第２００６／０１７０１１号明細書及び米国特許第５，２６８，７８１号明細書に記載されている。イオン支援下での気相堆積は、それが形成されている間、好ましくはイオン銃によって得られるイオン衝撃下で、前記層にイオンビームによって同時に衝撃を与えることによって材料の層を基材上に堆積することを含む。イオン衝撃により、形成されるコーティングで原子の再配列が生じ、これによってその密度が増加する。ＩＡＤは、堆積された層の付着性を改善するだけでなく、それらの屈折率も増加させることができる。ＩＡＤの実施はイオン銃によって行うことができ、この場合のイオンはガス原子から構成される粒子であり、そこから１つ以上の電子が取り出される。これは、好ましくは、酸素イオンで処理される表面に衝撃を与えることからなる。他のイオン化ガスは、酸素と組み合わせて、又は組み合わせずに、例えばアルゴン、窒素、特に２：１～１：２の範囲の体積比率によるＯ_２とアルゴンとの混合物を使用することができる。

干渉コーティングの最も外側の低屈折率層は、好ましくは、イオン支援なしで、好ましくはエネルギー種を用いた付随処理なしで堆積される。別の実施形態では、干渉コーティング及び／又は副層の低屈折率層は、イオン支援なしで、好ましくはエネルギー種を用いた付随処理なしで堆積される。

一実施形態では、導電層を除いて（干渉コーティング中に存在する場合）、いずれの干渉コーティングの層もイオン支援下で堆積されない（好ましくは、いずれの干渉コーティングの層もエネルギー種を用いた付随処理下で堆積されない）。

別の実施形態では、干渉コーティングの少なくとも１つのＨＩ層は、導電層又はＴａ_２Ｏ_５層（干渉コーティング内に存在する場合）などのイオン支援下で堆積される。

任意選択的には、層の１つ以上の堆積は、米国特許出願公開第２００８／２０６４７０号明細書に開示されているように、真空チャンバー内での層の堆積工程中に（補助）ガスを供給することによって行われる。具体的には、希ガス、例えばアルゴン、クリプトン、キセノン、ネオンなどの追加のガス；酸素、窒素、又はこれらのうちの２つ以上のガスの混合物などのガスが、層が堆積されている間に真空蒸着チャンバーの中に導入される。この堆積工程中に使用されるガスは、イオン化ガスではなく、より好ましくは活性化ガスではない。

このガス供給により圧力の調整が可能になり、これはイオン支援などのイオン衝撃処理とは異なる。これは、通常、干渉コーティングの応力を制限し、層の付着を強化することを可能にする。ガス圧調整下での堆積と呼ばれるこのような堆積方法を使用する場合には、酸素雰囲気（いわゆる「パッシブ酸素」）下で作業することが好ましい。層の堆積中に追加のガス供給を使用すると、追加のガス供給なしで堆積された層とは構造的に異なる層が生成される。

本発明の一実施形態では、副層の堆積は、真空チャンバー内で、１．６×１０^－４ｍＢａｒ未満、好ましくは１０^－４ｍＢａｒ未満、より好ましくは８．１０^－５ｍＢａｒ未満の圧力下で行われる。

本発明の好ましい実施形態では、副層の堆積は、前記堆積中に補助ガスが供給されない真空チャンバー中で行われる。低圧下で、理想的には更に低い圧力を得るためにガス供給なしで副層を堆積すると、より低い空隙率、より高い圧縮率、及び密度を有する副層、並びに光学物品の耐摩耗性の増加が得られることが見出された。

別の実施形態では、導電層を除いて（最も外側の位置に存在する場合）、干渉コーティングの最も外側の高屈折率層は、真空チャンバーの中で堆積され、その場合少なくとも１つの補助ガスが前記堆積中に供給される。別の実施形態では、導電層（最も外側の位置に存在する場合）を除いて、干渉コーティングの高屈折率層は、真空チャンバーの中で堆積され、その場合少なくとも１つの補助ガスが前記堆積中に供給される。

特に好ましい実施形態によれば、光学物品は、プライマーコーティング及び／又はハードコートなどの１つ以上の機能性コーティングで任意選択的にコーティングされた基材の表面から開始して、３～２０ｎｍ、より好ましくは４～１４ｎｍの厚さを有する、好ましくはジルコニアの（Ｔａ_２Ｏ_５層ではない）高屈折率層（シート（Ａ））、３０～６５ｎｍ、好ましくは３５～６０ｎｍの厚さを有する、好ましくはシリカの低屈折率層（シート（Ｂ））、５～２５ｎｍ、好ましくは６～２１ｎｍの厚さを有する、好ましくはジルコニアの高屈折率層（シート（Ｃ））、１００～３００ｎｍ、より好ましくは１１０～２５０ｎｍ、更により好ましくは１２０～２００ｎｍの厚さを有する副層、好ましくはシリカベースの副層、及び干渉コーティング、好ましくは反射防止コーティングを含み、干渉コーティングは、以下の順序で、６～３５ｎｍ、好ましくは８～３０ｎｍの厚さを有する、好ましくはジルコニア又はＴａ_２Ｏ_５の高屈折率層と、１５～５０ｎｍ、好ましくは１８～４５ｎｍの厚さを有する、好ましくはシリカの低屈折率層と、２０～１００ｎｍ、好ましくは２５～９５ｎｍの厚さを有する、好ましくはジルコニア又はＴａ_２Ｏ_５の高屈折率層と、任意選択的に、５～２０ｎｍ、好ましくは８～１５ｎｍの厚さを有する、好ましくはシリカの低屈折率層と、任意選択的に、３～１５ｎｍ、好ましくは４～８ｎｍの厚さを有する、好ましくはスズ酸化物又はＩＴＯ製の導電層と、６０～１５０ｎｍ、好ましくは６５～１４０ｎｍの厚さを有する、好ましくはシリカの低屈折率層と、を含む。

干渉コーティング／副層／シート（Ａ）～（Ｃ）の系は、裸の基材上に直接堆積させることができる。いくつかの用途では、本発明の干渉コーティングを堆積する前に、基材の主面を、その光学的及び／又は機械的特性を改善する１つ以上の機能性コーティングでコーティングすることが好ましい。光学において従来使用されているこれらの機能性コーティングは、限定するものではないが、耐衝撃性プライマー層、耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティング（ハードコート）、偏向コーティング、帯電防止コーティング、フォトクロミックコーティング、着色コーティング、又はそのようなコーティングの２つ以上から作られた積層体であってもよい。

本発明で使用され得る耐衝撃性プライマーコーティングは、完成した光学物品の耐衝撃性を改善するために典型的に使用される任意のコーティングであってもよい。定義上は、耐衝撃性プライマーコーティングは、同じ光学物品であるが耐衝撃性プライマーコーティングがない物品と比較して、完成した光学物品の耐衝撃性を改善するコーティングである。

典型的な耐衝撃性プライマーコーティングは、（メタ）アクリル系コーティング及びポリウレタン系コーティングである。特に、本発明による耐衝撃性プライマーコーティングは、ポリ（メタ）アクリルラテックス、ポリウレタンラテックス、又はポリエステルラテックスなどのラテックス組成物から製造することができる。

好ましいプライマー組成物としては、特開昭６３－１４１００１号公報及び特開昭６３－８７２２３号公報に記載されているものなどの熱可塑性ポリウレタンに基づく組成物、米国特許第５，０１５，５２３号明細書及び米国特許第６，５０３，６３１号明細書に記載されているものなどのポリ（メタ）アクリルプライマー組成物、欧州特許第０４０４１１１号明細書に記載されているものなどの熱硬化性ポリウレタンに基づく組成物、並びに米国特許第５，３１６，７９１号明細書及び欧州特許第０６８０４９２号明細書に記載されているものなどのポリ（メタ）アクリルラテックス又はポリウレタンラテックスに基づく組成物が挙げられる。好ましいプライマー組成物は、ポリウレタンに基づく組成物及びラテックスに基づく組成物、特にポリウレタンラテックス、ポリ（メタ）アクリルラテックス、及びポリエステルラテックス、並びにこれらの組み合わせに基づく組成物である。一実施形態では、耐衝撃性プライマーはコロイド状フィラーを含む。

ポリ（メタ）アクリルラテックスは、例えばスチレンなどの少なくとも１種の他のコモノマーを典型的には少量で含む、例えばエチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、又はエトキシエチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリレートから本質的に製造されたコポリマーに基づくラテックスである。

本発明における使用に適した市販のプライマー組成物としては、Ｗｉｔｃｏｂｏｎｄ（登録商標）２３２、Ｗｉｔｃｏｂｏｎｄ（登録商標）２３４、Ｗｉｔｃｏｂｏｎｄ（登録商標）２４０、Ｗｉｔｃｏｂｏｎｄ（登録商標）２４２組成物（ＢＡＸＥＮＤＥＮ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳから販売）、Ｎｅｏｒｅｚ（登録商標）Ｒ－９６２、Ｎｅｏｒｅｚ（登録商標）Ｒ－９７２、Ｎｅｏｒｅｚ（登録商標）Ｒ－９８６、及びＮｅｏｒｅｚ（登録商標）Ｒ－９６０３（ＺＥＮＥＣＡ ＲＥＳＩＮＳから販売）、並びにＮｅｏｃｒｙｌ（登録商標）Ａ－６３９（ＤＳＭ ｃｏａｔｉｎｇ ｒｅｓｉｎｓから販売）が挙げられる。

硬化後の耐衝撃性プライマーコーティングの厚さは、典型的には０．０５～３０μｍ、好ましくは０．２～２０μｍ、より具体的には０．５～１０μｍ、更には０．６～５μｍ又は０．６～３μｍ、最も好ましくは０．８～１．５μｍの範囲にある。

耐衝撃性プライマーコーティングは、好ましくは、耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティングと直接接触している。一実施形態では、その屈折率は、１．４５～１．５５の範囲にある。別の実施形態では、その屈折率は、１．５５以上である。

耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティングは、眼用レンズの分野で耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティングとして従来使用されている任意の層であってもよい。

耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティングは、好ましくは、ポリ（メタ）アクリレート又はシランに基づくハードコーティングであり、通常、硬化後のコーティングの硬度及び／又は屈折率を高めることを目的とした１種以上の無機フィラーを含む。

耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性のコーティングは、好ましくは、少なくとも１種のアルコキシシラン及び／又は例えば塩酸溶液並びに任意選択的な縮合及び／又は硬化触媒を用いた加水分解によって得られるその加水分解物を含有する組成物から作製される。

本発明に推奨される適切なコーティングとしては、欧州特許第０６１４９５７号明細書、米国特許第４２１１８２３号明細書、及び米国特許第５，０１５，５２３号明細書に記載されているものなどのエポキシシラン加水分解物に基づくコーティングが挙げられる。

好ましい耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティング組成物は、出願人の名義の欧州特許第０６１４９５７号明細書に開示されているものである。これは、エポキシトリアルコキシシラン及びジアルキルジアルコキシシランの加水分解物、コロイド状シリカ、及び触媒量のアルミニウムアセチルアセトネートなどのアルミニウム系硬化触媒を含み、残部はそのような組成物を配合するために従来使用されている溶媒から本質的に構成される。好ましくは、使用される加水分解物は、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＬＹＭＯ）及びジメチルジエトキシシラン（ＤＭＤＥＳ）の加水分解物である。

耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティング組成物は、公知の方法によって堆積することができ、その後、好ましくは熱又は紫外線照射を使用して硬化される。（硬化した）耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティングの厚さは、通常２～１０μｍ、好ましくは３～５μｍで様々である。

本発明による光学物品は、疎水性及び／又は疎油性コーティング（防汚トップコート）などの、干渉コーティング上に形成されており且つその表面特性を変更することができるコーティングも含んでいてもよい。これらのコーティングは、好ましくは、干渉コーティングの外層上に堆積される。通常、それらの厚さは１０ｎｍ以下であり、好ましくは１～１０ｎｍ、より好ましくは１～５ｎｍの範囲である。汚防トップコートは、一般にフルオロシラン又はフルオロシラザン型のコーティングであり、好ましくはフルオロポリエーテル部分、より好ましくはパーフルオロポリエーテル部分を含むものである。これらのコーティングに関するより詳細な情報は、国際公開第２０１２０７６７１４号パンフレットに開示されている。

疎水性コーティングの代わりに、防曇特性を付与する親水性コーティング（防曇コーティング）、又は界面活性剤と結び付いた際に防曇特性を付与する防曇コーティング前駆体が使用されてもよい。そのような防曇前駆体コーティングの例は、国際公開第２０１１／０８０４７２号パンフレットに記載されている。

プライマー、ハードコート、及び防汚トップコートなどの追加のコーティングは、スピンコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティング、蒸着、スパッタリング、化学蒸着、及びラミネーションなどの前記技術分野で公知の方法を使用して、基材の主面に堆積させることができる。

典型的には、本発明による光学物品は、耐衝撃性プライマー層、耐摩耗性及び／若しくは耐擦り傷性層、シート（Ａ）～（Ｃ）、副層、並びに本発明による干渉コーティング、並びに疎水性及び／若しくは疎油性コーティング、又は防曇特性を付与する親水性コーティング、又は防曇前駆体コーティングで連続的にコーティングされた基材を含む。

シート（Ａ）～（Ｃ）の本発明による、副層及び干渉コーティング（一例として反射防止コーティング）の存在のため、本発明の光学物品は、以降に記載するバイエルＡＳＴＭ（バイエルサンド）操作プロトコルに従って、すなわちＡＳＴＭ Ｆ７３５－８１規格に従って測定される高い値の耐摩耗性を示す。バイエルＡＳＴＭ測定の場合、コーティングされた面は凸面である必要がある。実施例では、コーティングが凹面に堆積される場合、バイエルＡＳＴＭ値は、同じコーティング（シート（Ａ）～（Ｃ）、副層、及び干渉コーティング）で行われたが、凸面に堆積された測定値である。

本発明によれば、その主面、好ましくは前面が本発明の干渉積層体によって覆われている光学物品は、５．５より高い、好ましくは６、６．５、７、７．５、８、９、１０、１１のうちのいずれか１つよりも高い、ＡＳＴＭ Ｆ７３５－８１規格に従って測定されたバイエル値（サンドバイエル値）を呈する。したがって、本発明は、光学物品の典型的なサンドバイエル値が約５であることから、高い耐摩耗性を有する光学物品を提供する。そのような値は、副層及びシート（Ａ）～（Ｃ）、特にシート（Ｂ）の厚さ、Ｒ_Ｔ１比率、及び／又は堆積パラメータ、特に副層の堆積中の圧力を制御することによって得ることができる。

一実施形態では、光学物品はレンズであり、干渉コーティング、シート（Ａ）～（Ｃ）、及び副層は、レンズの前面主面上、及び／又はレンズの背面主面上、好ましくはレンズの前面主面上に塗布される。

別の実施形態では、光学物品はレンズであり、干渉コーティング、シート（Ａ）～（Ｃ）、及び副層が、レンズの前面主面上（又は後面主面上）に塗布されており、レンズの後面主面（又は前面主面）は、他の面の干渉コーティングと同一又は異なる干渉コーティング、好ましくは反射防止コーティングで、任意選択的に他の面の副層と同一又は異なる副層で、任意選択的に他の面のシート（Ａ）～（Ｃ）と同一又は異なるシート（Ａ）～（Ｃ）で、並びに任意選択的に他の面のそれらと同一又は異なる耐衝撃性プライマーコーティング及び／又は耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティングで、コーティングされている。明らかに、後面の層は、前面と同様の順序で積み重ねられる。

本発明の光学レンズは、後面でのＵＶＡ－及びＵＶＢ－放射範囲（それぞれ３１５～３８０ｎｍ及び２８０～３１５ｎｍ）における反射を低減させて、ＵＶ光に対する最善の健康保護を提供するように構成される。

眼鏡の着用者は、網膜に特に有害なＵＶＡ及びＵＶＢ放射範囲で背面の反射を大幅に低減する眼用レンズを、両眼のそれぞれの前に着用することが勧められている。そのようなレンズは、コントラスト感度を増大させるため、視覚性能もまた向上し得る。

ＵＶ光の反射はレンズの前面においてはそれほど問題ではなく、これは、装用者の前方から来て装用者の眼に到達し得る（直角入射、０～１５°）ＵＶ放射の大部分が、一般には眼鏡レンズの基板により吸収されるからである。一方で、紫外線領域において効果的である反射防止コーティングがレンズに施されていない場合、着用者の後ろに位置する光源から生じるＵＶ放射がレンズの背面上で反射して着用者の眼に届く場合があり、それによって着用者の健康に影響を与える可能性がある。レンズの背面上で反射して着用者の眼に到達し得る光線は、３０～４５°（斜め入射）の範囲の狭い入射角範囲を有することが観察されている。

この点に関して、基板の後（裏）主面上の２８０ｎｍ～３８０ｎｍの平均反射率Ｒ_ＵＶをＩＳＯ １３６６６：１９９８規格で定義される関数Ｗ（λ）で重み付けしたものは、３５°の入射角で好ましくは１０％又は５％未満、好ましくは４．５％未満、より好ましくは４％以下、更により良好には３％以下である。これらの性能は、レンズの後面主面に堆積された反射防止コーティングの使用を通じて得ることができる。

基板の前面主面上の２８０ｎｍ～３８０ｎｍの平均反射率Ｒ_ＵＶをＩＳＯ １３６６６：１９９８規格で定義される関数Ｗ（λ）で重み付けしたものは、１５°の入射角で好ましくは５％より高く、好ましくは１０％より高い。

前記平均反射率Ｒ_ＵＶは以下の関係を通じて定義される：

式中、Ｒ（λ）は所与の波長におけるレンズ分光反射率を表し、Ｗ（λ）は、太陽光スペクトル照射Ｅｓ（λ）と相対分光有効関数Ｓ（λ）の積と等しい重み付け関数を表す。

紫外線放射透過係数の計算を可能にするスペクトル関数Ｗ（λ）は、ＩＳＯ １３６６６：１９９８規格に従って定義されている。ＵＶＡ光線と比較してグローバルに放出されるＵＶＢ光線が少なく、スペクトル効率Ｓ（λ）であり、ＵＶＢ光線がＵＶＡ光線よりも有害である、両方の太陽スペクトルエネルギーＥｓ（λ）を同時に考慮に入れるため、ユーザが、そのような放射の相対スペクトル効率によって加減された紫外線太陽放射分布を表現することが可能になる。紫外線領域におけるこれらの３つの機能の値は、（刊行物、国際公開第２０１２／０７６７１４号パンフレットの６ページに複製されている）ＩＳＯ １３６６６：１９９８規格に開示されている表に与えられている。

Ｒｕｖは、本出願では、後面主面に対して３５°の入射角及び前面主面に対して１５°の入射角で測定される。３０°及び４５°での入射角に対するＲｕｖの計算例は、国際公開第２０１２／０７６７１４号パンフレットに与えられている。当業者は、所望の入射角（１５°、３５°）でそれぞれの面上で測定された反射値に基づいて、計算を容易に行うことができる。

「平均光反射係数」は、Ｒ_ｖと記され、「視感反射率」とも呼ばれ、ＩＳＯ １３６６６：１９９８規格の中で定義されている通りであり、ＩＳＯ ８９８０－４規格に従って（１７°未満、典型的には１５°の入射角で）測定され、すなわちこれは３８０～７８０ｎｍの可視スペクトル全体にわたる分光反射加重平均である。

本発明による反射防止コーティングにより被覆されたレンズ面の平均光反射率Ｒ_ｖは、製品の各面につき、好ましくは２．５％以下（各面）、好ましくは２％以下、より好ましくは１％以下、更により好ましくは≦０．８５％である。

これらの実施形態のそれぞれにおいて、干渉コーティング、好ましくは反射防止コーティング内の層の総数は、好ましくは３以上、好ましくは５以下、及び／又は干渉コーティング（好ましくは反射防止コーティング）＋副層の厚さ＋シート（Ａ）～（Ｃ）の厚さ、の総厚は、好ましくは１マイクロメートル未満、より好ましくは８００ｎｍ又は５００ｎｍ以下である。

国際表色ＣＩＥ Ｌ＊ａ＊ｂ＊での、本発明の光学物品の表色係数Ｃ＊及びｈは、標準光源Ｄ６５及び観察者を考慮して（入射角：１５°）、３８０～７８０ｎｍで計算される。観察者は、国際表色系ＣＩＥ Ｌ＊ａ＊ｂ＊で定義される「標準観察者」（１０°）である。

前記干渉コーティング（反射光の色）によって表示される残留色に関する、好ましくは４０°～３００°、より好ましくは５０°～２９０°の範囲の、それらの色相角（ｈ）に関して制限なしに、干渉コーティングを準備することが可能である。いくつかの実施形態では、光学物品は、２４０°～３００°、好ましくは２５０°～２９０°、より好ましくは２６０°～２８０°の範囲の色相角（ｈ）を有し、したがって知覚される残留反射色は青色から紫色、好ましくは紫色に近くなる。別の実施形態では、光学物品は、１３５°以上、より好ましくは１４０°以上、更に好ましくは１４０°～１６０°の範囲の色相角（ｈ）を有し、それによって緑色の反射を有する干渉コーティングが得られる。別の実施形態では、光学物品は、４０°～９０°、好ましくは５０°～９０°、更に好ましくは５０°～７０°の範囲の色相角（ｈ）を有し、そのため金色の反射を有する干渉コーティングが得られる。

本発明のいくつかの態様では、干渉コーティングは、１５未満（入射角１５°について）、より好ましくは１３未満の彩度（Ｃ＊）を有する。眼用レンズの場合には、着用者の快適性の観点から、低い残留色強度（彩度）の物品を得ることが好ましい。

本発明は更に、前述のような光学製品の製造方法に関し、これは：
－ 前面主面と後面主面を有する基板を含む光学レンズを提供することと、
－ 基板の少なくとも一方の主面上に、１．５５より高い屈折率を有し、Ｔａ_２Ｏ_５層を一切含まない第１の高屈折率シート（Ａ）、１．５５以下の屈折率を有し、前者のシート（Ａ）と直接接触するようにされる第２の低屈折率シート（Ｂ）、１．５５より高い屈折率を有し、前者のシート（Ｂ）と直接接触するようにされる第３の高屈折率シート（Ｃ）、露出面と１００ｎｍ以上の厚さとを有し、前者のシート（Ｃ）と直接接触するようにされる単層副層、及び１．５５より高い屈折率を有する少なくとも１つの高屈折率層と１．５５以下の屈折率を有する少なくとも１つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティングをこの順序で堆積させ、それによって被覆された光学製品を得ることと、
を含み、前記背面主面上の２８０ｎｍ～３８０ｎｍの平均反射係数Ｒ_ＵＶをＩＳＯ １３６６６：１９９８規格で定義される関数Ｗ（λ）で重み付けしたものは、３５°の入射角で１０％より低い。

好ましい実施形態では、副層の露出面は、前記多層干渉コーティングを堆積する前にイオン衝撃処理を受けたものである、及び／又は副層の堆積は、前記堆積中に補助ガスが供給されない真空チャンバー内で行われる。

別の実施形態では、多層干渉コーティングの少なくとも１つの層の露出面は、前記多層干渉コーティングの後続の層を堆積する前にイオン衝撃処理を受けたものである。

別の実施形態では、基材から最も遠い前記コーティングの層を除いた多層干渉コーティングの各層の露出面は、前記多層干渉コーティングの後続の層を堆積する前にイオン衝撃処理を受けたものである。複数の層間の衝撃を含むこの実施形態は、好ましくは、干渉積層体内の層の良好な付着性を得るために、副層が低圧下（＜１．６×１０^－４ｍＢａｒ又は更に好ましくは堆積中の追加のガスの供給なしの真空チャンバー内）で堆積される際に実施される。

シート（Ｃ）の露出面は、好ましくは、副層である後続の層を堆積する前に、イオン衝撃処理を受ける。

別の実施形態では、以下の層の露出面は、後続の層、すなわち、シート（Ｃ）、副層、及び前記コーティングの最外層を除いた多層干渉コーティングの各層、を前記層上に堆積する前にイオン衝撃処理を受ける。

一実施形態では、本光学物品は、基材上にプライマーコーティング並びに／又は耐摩耗性及び／若しくは耐擦り傷性コーティングを第１の製造場所で形成し、別のコーティングを第２の製造場所で形成することによって製造される。

以下の実施例は、より詳細であるが、非限定的な様式で本発明を例示する。別段の規定がない限り、本出願で開示される全ての厚さは、物理的な厚さに関する。表中で与えられる百分率は、重量百分率である。別段の規定がない限り、本出願で言及される屈折率は、５５０ｎｍの波長について２０～２５℃で表される。

１．基本手順
実施例で使用した物品は、高屈折率コロイドの添加により屈折率が１．６になるように変更された国際公開第２０１０／１０９１５４号パンフレットの実験項に開示されている耐衝撃性プライマーコーティングと、欧州特許第０６１４９５７号明細書の実施例３に開示されている耐摩耗性及び耐擦り傷性コーティング（ハードコート）（高屈折率コロイドの添加により１．５ではなく１．６の屈折率を有するように変更された）と、シート（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）と、副層と、反射防止コーティングと、特許出願国際公開第２０１０／１０９１５４号パンフレットの実験項に開示されている防汚コーティング、すなわちＤａｉｋｉｎ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから販売されているＯｐｔｏｏｌ ＤＳＸ（登録商標）化合物の真空下での蒸着による防汚コーティング（厚さ：２～５ｎｍ）とでその凸面がコーティングされている、球面度数－２．００ディオプトリ及び厚さ１．２ｍｍを有する直径６５ｍｍのポリチオウレタンＭＲ８（登録商標）レンズ基材（Ｍｉｔｓｕｉ Ｔｏａｔｓｕ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃ．より、屈折率＝１．５９）を含む。

基板の凹状主面は、同じ耐衝撃プライマーコーティングと耐摩耗及び耐擦り傷性コーティング（ハードコート）並びに、凹状主面が３５°の入射角で１０％より低いＲｕｖ値を示すようにするための反射防止コーティングで被覆した。

副層、シート（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）、並びに反射防止コーティングの層などの様々な層は、真空蒸着によって、任意選択的には指定されている場合には酸素ビーム及び場合によってはアルゴンイオンにより堆積中に支援された（ＩＡＤ）真空蒸着によって（蒸着源：電子銃）、及び任意選択的には指示されている場合にはチャンバー内に（パッシブ）Ｏ_２ガスを供給することによる圧力制御下での蒸着によって、基材を加熱することなく堆積した。

様々な反射防止層を堆積させることを可能にする真空蒸着装置は、材料を蒸発させるための２つのシステム、電子銃蒸着システム及び熱蒸着器（ジュール効果蒸着システム）を有するＢｕｌｈｅｒ Ｌｅｙｂｏｌｄ Ｏｐｔｉｃｓの真空コーターＳｙｒｕｓ３、並びにアルゴンイオン衝撃による基材表面の準備の予備段階（ＩＰＣ）及び層のイオン支援堆積（ＩＡＤ）において使用するためのＶｅｅｃｏのＭａｒｋ２イオン銃であった。

２．光学物品の作製
レンズは、凹面を蒸着源及びイオン銃に向けて、処理するレンズを収容することを目的とした円形の開口部を備えたカルーセル上に置いた。

光学物品を製造するための方法は、プライマー及び耐摩耗性コーティングを備えたレンズ基材を真空蒸着チャンバーの中に入れ、高真空が形成されるまでポンピング工程を行い、続いてイオン銃のコンディショニング工程（仏国特許第２９５７４５４号明細書に開示されているようなＩＧＣ、開始圧力として３．５×１０^－５ｍＢａｒ、１４０Ｖ、３．５Ａ、アルゴン、６０秒）を行い、開始圧力５．１０^－４ｍＢａｒのアルゴンイオンビームによる衝撃を使用した基材表面活性化工程（ＩＰＣ）（イオン銃を１．８Ａ、１００Ｖ、６０秒に設定）を行い、イオン照射を停止し、その後０．４～３ｎｍ／ｓの範囲の速度で必要な数の層（シート（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）、副層、反射防止コーティング層、及び防汚コーティング）を逐次的に蒸着し、最後に通気工程を行うことを含む。

本発明による反射防止積層体の形成は、７．０×１０^－５ｍＢａｒのＯ_２圧力下で１ｎｍ／ｓの速度でＺｒＯ_２層（シート（Ａ））を堆積する工程、２ｎｍ／ｓの速度でＳｉＯ_２層（シート（Ｂ））を堆積する工程、７．０×１０^－５ｍＢａｒのＯ_２圧力下で１ｎｍ／ｓの速度でＺｒＯ_２層（シート（Ｃ））を堆積する工程、アルゴンイオンビームを使用して３０秒間このＺｒＯ_２層の表面を活性化する工程（既に基材上で直接行われたＩＰＣと同じ処理）、任意選択的にＯ_２雰囲気下で、３ｎｍ／ｓの速度でＳｉＯ_２副層を堆積する工程（Ｏ_２ガスが供給された実施例６及び比較例２では１．６×１０^－４ｍＢａｒの圧力で、又は補助ガスの供給が行われなかった他の実施例では５×１０^－５ｍＢａｒの圧力で）、アルゴンイオンビームを使用して３０秒間副層の表面を活性化する工程（既に基材上で直接行われたＩＰＣと同じ処理）、２ｎｍ／ｓの速度でＨＩ層（ＺｒＯ_２又はＴａ_２Ｏ_５）を堆積する工程、２ｎｍ／ｓの速度でＬＩ層（ＳｉＯ_２）を堆積する工程、２ｎｍ／ｓの速度でＨＩ層（ＺｒＯ_２又はＴａ_２Ｏ_５）を堆積する工程、酸素イオン支援（イオン銃：２Ａ、１２０Ｖ）により１ｎｍ／ｓの速度で薄い導電層（ＨＩ、ＩＴＯ、又はＳｎＯ_２）を堆積する工程、２～３ｎｍ／ｓの速度でＬＩ層（ＳｉＯ_２）を堆積する工程、最後に０．４ｎｍ／ｓの速度でＯｐｔｏｏｌ ＤＳＸ（登録商標）層を堆積する工程、を含む。

ＺｒＯ_２のＨＩ層の堆積工程は、ガス供給（Ｏ_２、７．５×１０^－５ｍＢａｒの圧力下）で行われた。

Ｔａ_２Ｏ_５のＨＩ層の堆積工程は、酸素イオン支援（イオン銃：３Ａ、１３０Ｖ）を用いて行われ、約２×１０^－４ｍＢａｒの圧力をもたらした。

比較例１及び２では、シート（Ａ）は省略された。

比較例８では、シート（Ａ）及び（Ｂ）は省略された。

比較例９では、シート（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）は省略された。

比較例１０では、Ｔａ_２Ｏ_５材料を使用してシート（Ａ）を形成した。

３．試験方法
本発明に従って作製した光学物品を評価するために以下の試験手順を使用した。各系の複数のサンプルを測定用に作製し、報告されたデータを様々なサンプルの平均を使用して計算した。

本発明の積層体でコーティングされた面の（反射における）表色測定：国際表色ＣＩＥ（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）空間における反射係数Ｒｖ、色相角ｈ、及び彩度Ｃ＊は、標準光源Ｄ６５及び１０°の標準観察者を考慮して（ｈ及びＣ＊について）、Ｚｅｉｓｓ分光計を用いて行った。これらは１５°の入射角のために準備される。

Ｒｕｖは、同じ反射測定値から計算された。

物品の臨界温度は、特許出願国際公開第２００８／００１０１１号パンフレットに示されている方法で測定した。物品作製の１か月後に測定された。

層の厚さは、水晶振動子マイクロバランスによって制御した。

耐摩耗性は、国際公開第２０１２／１７３５９６号パンフレットに開示の通りに決定した。具体的には、耐摩耗性は、物品の製造から２４時間後に、ＡＳＴＭ Ｆ７３５－８１規格に従ってサンドバイエル試験によって測定された。

干渉コーティング全体の基材への付着特性は、国際特許出願国際公開第２０１０／１０９１５４号パンフレット及び国際公開第９９／４９０９７号パンフレットに記載されている、仏語で一般に「ｎ×１０ｃｏｕｐｓ」試験と呼ばれる試験（すなわち「ｎ×１０ブロー」試験）によってレンズの凸面で確認した。試験は、ＩＳＴＭ０２－０１１に従って行われる。簡潔に説明すると、試験するサンプルをクランプに配置し、イソプロピルアルコールを染み込ませたセルヴィットクロスで被覆する。併進移動するホルダー上に配置した消しゴムをクロスと接触させる。消しゴムを、レンズと接触して配置されているセルヴィットクロスに押し付ける（力＝６０ニュートン）。この試験は、各サンプルについて、反射防止コーティングに欠陥が生じるまでに必要とされるサイクル数を決定することからなる。したがって、ｎ×１０ブロー試験で得られた値（１０サンプルの平均）が高いほど、任意選択的にコーティングされた基材、すなわちシート（Ａ）とその下にあるコーティング又は基材の間の干渉コーティングの付着が良好になる。２０サイクル後に欠陥がない場合に、物品は試験に合格した。

４．結果
実施例で得た眼用レンズの構造的特徴、並びに光学的、機械的、及び熱機械的性能を以下に詳述する。副層は灰色である。記載されている総厚さは、反射防止コーティングと、以下の追加の層：副層、シート（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）とを含む積層体の厚さを言う。表内に表示がない場合、積層体は、眼用レンズの前面の主面上に配置されている。

シート（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）、並びに副層を有する本発明による光学物品は、比較的な物品よりも（実施例５を比較例８及び実施例９と比較して）、同様のレベルの耐熱性を維持しながら、反射防止コーティングの良好な耐摩耗性及び良好な付着性を呈する。得られたバイエル値は６を概ね超えており、非常に高レベルの耐摩耗性を示している。

第１の高屈折率シート（Ａ）の抑制により、耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティングとの界面において付着の問題が生じることが観察されている（データは示されていない）。

第１の高屈折率シート（Ａ）及び第２の低屈折率シート（Ｂ）を抑制すると、（実施例５と比較例８とを比較して）耐摩耗性が低下する。更に、耐摩耗性及び／又は耐擦り傷性コーティングとの界面における付着の問題が観察される（データは示されていない）。

第１の高屈折率シート（Ａ）、第２の低屈折率シート（Ｂ）、及び第３の高屈折率シート（Ｃ）を抑制すると、耐摩耗性が低くなり、基材への付着不良が観察される（実施例５と比較例９とを比較）。比較例１２でＲ_Ｔ１比率を増加させても、耐摩耗性は回復しなかった。

実施例３の実施例４との比較は、高いＲ_Ｔ１比率を有することの、耐摩耗性及び臨界温度に対する有益な効果を示している。バイエル値では１．２ポイントの差が得られ、これは非常に有意である。

実施例５と実施例４との比較により、干渉コーティングの中でＺｒＯ_２ではなくＴａ_２Ｏ_５を使用すると、臨界温度の若干の改善が生じることがわかる。実際に、実施例４の各種のレンズについて得られる臨界温度は平均して９５℃であり、実施例５の各種のレンズについて得られる臨界温度は平均して９８℃である。どちらの値も表中では１００℃に丸められており、これは臨界温度が通常、１０℃刻みで示されるからである。更に、実施例１３及び１５を比較しても、干渉コーティングにＺｒＯ_２ではなくＴａ_２Ｏ_５を使用すると、臨界温度の改善が得られることがわかる。

副層の堆積中にガス供給を回避することにより、耐摩耗性及び臨界温度は改善したが、本発明によるシート（Ａ）～（Ｃ）が存在しない場合に付着の問題を引き起こした（比較例１及び比較例２を参照）。これらの付着問題は、副層の堆積中のガス供給を回避する場合に、本発明によるシート（Ａ）～（Ｃ）の存在下では観察されず、耐摩耗性及び臨界温度が依然として改善された（実施例５を実施例６と比較）。

実施例５と比較例１０との比較は、第１の高屈折率シート（Ａ）及び／又は第３の高屈折率シート（Ｃ）におけるＺｒＯ_２ではなくＴａ_２Ｏ_５の使用は、この変更が耐摩耗性及び付着特性を大幅に低減させるため回避すべきであることを示している。更に、反射防止コーティングにＺｒＯ_２を使用すると、耐摩耗性の点でＴａ_２Ｏ_５を使用した場合よりもわずかに良好な結果が得られる。

実施例１３～１６は、本発明による光学製品のまた別の例であり、それぞれの凹状主面上に、ＵＶ範囲（２８０～３８０ｎｍ）において非常に低い反射である他の反射防止コーティングを有する。

実施例１４の光学製品の凹面は、凸面と同じプライマー及びハードコートで、その後次の積層体（全厚：３９８ｎｍ）で被覆した：ＳｉＯ_２（２５．７ｎｍ）／ＺｒＯ_２（４．７ｎｍ）／ＳｉＯ_２副層（１６０ｎｍ、積層中酸素供給：１．２×１０^－４ｍＢａｒ）／Ｔａ_２Ｏ_５（１６．９ｎｍ）／ＳｉＯ_２（１９．８ｎｍ）／Ｔａ_２Ｏ_５（９２．２ｎｍ）／ＳｎＯ_２（６．５ｎｍ）／ＳｉＯ_２（７１．２ｎｍ）／汚損防止コーティング。この凹（裏）主面で、Ｒｕｖ（３５°）＝２％であった。

実施例１５に関して、凹（裏）主面でＲｕｖ（３５°）＝２％であった。実施例１３に関して、凹（裏）主面でＲｕｖ（３５°）＝２．０％であった。実施例１６に関して、凹（裏）主面でＲｕｖ（３５°）＝２．２％であった。

実施例１５に関して、凹（裏）主面でＲｕｖ（３５°）＝２％であった。実施例１３に関して、凹（裏）主面でＲｕｖ（３５°）＝２．０％であった。実施例１６に関して、凹（裏）主面でＲｕｖ（３５°）＝２．２％であった。
本開示には以下に例示する実施形態も開示される。
［実施形態１］
前面主面と後面主面を有する基板を含み、そのうちの少なくとも一方の主面が：
－ （Ａ）１．５５より高い屈折率を有し、Ｔａ _２ Ｏ _５ 層を一切含まない第１の高屈折率シート、
－ （Ｂ）１．５５以下の屈折率を有し、前記前者のシートと直接接触する第２の低屈折率シート、
－ （Ｃ）１．５５より高い屈折率を有し、前記前者のシートと直接接触する第３の高屈折率シート、
－ １００ｎｍ以上の厚さを有し、前記前者のシート（Ｃ）と直接接触する単層副層、
－ １．５５より高い屈折率を有する少なくとも１つの高屈折率層と１．５５以下の屈折率を有する少なくとも１つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティング、
により連続して被覆され、
前記背面主面上の２８０ｎｍ～３８０ｎｍの平均反射率Ｒ _ＵＶ をＩＳＯ １３６６６：１９９８規格で定義される関数Ｗ（λ）で重み付けしたものは、３５°の入射角で１０％より低い、光学レンズ。
［実施形態２］
前記副層は１２０ｎｍより厚い、好ましくは１３０ｎｍより厚い厚さを有する、実施形態１に記載の光学レンズ。
［実施形態３］
前記副層の前記堆積が、前記堆積中に補助ガスが供給されない真空チャンバー内で行われる、実施形態１又は２に記載の光学レンズ。
［実施形態４］
前記副層がＳｉＯ _２ ベースの層である、実施形態１～３のいずれか一項に記載の光学レンズ。
［実施形態５］
前記干渉コーティングが、少なくとも１つのＴａ _２ Ｏ _５ ベースの層を含む、実施形態１～４のいずれか一項に記載の光学レンズ。
［実施形態６］
前記干渉コーティングは少なくとも１つの導電層、好ましくはＳｎＯ _２ に基づく層を含む、実施形態１～５のいずれか一項に記載の光学レンズ。
［実施形態７］
前記干渉コーティングは反射防止コーティングである、実施形態１～６のいずれか一項に記載の光学レンズ。
［実施形態８］
前記光学レンズが、眼用レンズである、実施形態１～７のいずれか一項に記載の光学レンズ。
［実施形態９］
１．５５より高い屈折率を有する前記第１の高屈折率シート（Ａ）が、ＺｒＯ _２ ベースの層である、実施形態１～８のいずれか一項に記載の光学レンズ。
［実施形態１０］
１．５５以下の屈折率を有する前記第２の低屈折率シート（Ｂ）が、ＳｉＯ _２ ベースの層である、実施形態１～９のいずれか一項に記載の光学レンズ。
［実施形態１１］
１．５５より高い屈折率を有する前記第３の高屈折率シート（Ｃ）が、Ｔａ _２ Ｏ _５ 、Ｎｂ _２ Ｏ _５ 、ＰｒＴｉＯ _３ 、ＺｒＯ _２ 、及びＹ _２ Ｏ _３ から選択される少なくとも１つの材料を含む、実施形態１～１０のいずれか一項に記載の光学レンズ。
［実施形態１２］
前記比率、すなわち、

が、０．８以上、好ましくは１．５以上、より好ましくは２以上である、実施形態１～１１のいずれか一項に記載の光学レンズ。
［実施形態１３］
１．５５以下の屈折率を有する前記第２の低屈折率シート（Ｂ）の前記厚さが、８０ｎｍ以下、好ましくは６０ｎｍ以下である、実施形態１～１２のいずれか一項に記載の光学レンズ。
［実施形態１４］
１．５５より高い屈折率を有する前記第１の高屈折率シート（Ａ）、及び１．５５より高い屈折率を有する前記第３の高屈折率シート（Ｃ）が、６０ｎｍ以下、好ましくは２５ｎｍ以下の厚さを有する、実施形態１～１３のいずれか一項に記載の光学レンズ。
［実施形態１５］
実施形態１～１４のいずれか一項に記載の光学レンズの製造方法において、
－ 前面主面と後面主面を有する基板を含む光学レンズを提供することと、
－ 前記基板の少なくとも一方の主面上に、１．５５より高い屈折率を有し、Ｔａ _２ Ｏ _５ 層を一切含まない第１の高屈折率シート（Ａ）、１．５５以下の屈折率を有し、前記前者のシート（Ａ）と直接接触するようにされる第２の低屈折率シート（Ｂ）、１．５５より高い屈折率を有し、前記前者のシート（Ｂ）と直接接触するようにされる第３の高屈折率シート（Ｃ）、１００ｎｍ以上の厚さを有し、前記前者のシート（Ｃ）と直接接触するようにされる単層副層、及び１．５５より高い屈折率を有する少なくとも１つの高屈折率層と１．５５以下の屈折率を有する少なくとも１つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティングをこの順序で堆積させることと、を含み、
前記背面主面上の２８０ｎｍ～３８０ｎｍの平均反射係数Ｒ _ＵＶ をＩＳＯ １３６６６：１９９８規格で定義される関数Ｗ（λ）で重み付けしたものは、３５°の入射角で１０％より低い、方法。

Claims (15)

1. 前面主面と後面主面を有する基板を含み、そのうちの少なくとも一方の主面が：
   － （Ａ）１．５５より高い屈折率を有し、Ｔａ_２Ｏ_５層を一切含まない第１の高屈折率シート、
   － （Ｂ）１．５５以下の屈折率を有し、前記前者のシートと直接接触する第２の低屈折率シート、
   － （Ｃ）１．５５より高い屈折率を有し、前記前者のシートと直接接触する第３の高屈折率シート、
   － １００ｎｍ以上の厚さを有し、前記前者のシート（Ｃ）と直接接触する単層副層、
   － １．５５より高い屈折率を有する少なくとも１つの高屈折率層と１．５５以下の屈折率を有する少なくとも１つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティング、
   により連続して被覆され、
   前記背面主面上の２８０ｎｍ～３８０ｎｍの平均反射率Ｒ_ＵＶをＩＳＯ １３６６６：１９９８規格で定義される関数Ｗ（λ）で重み付けしたものは、３５°の入射角で１０％より低い、光学レンズ。
2. 前記副層は１２０ｎｍより厚い、好ましくは１３０ｎｍより厚い厚さを有する、請求項１に記載の光学レンズ。
3. 前記副層の前記堆積が、前記堆積中に補助ガスが供給されない真空チャンバー内で行われる、請求項１又は２に記載の光学レンズ。
4. 前記副層がＳｉＯ_２ベースの層である、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学レンズ。
5. 前記干渉コーティングが、少なくとも１つのＴａ_２Ｏ_５ベースの層を含む、請求項１～４のいずれか一項に記載の光学レンズ。
6. 前記干渉コーティングは少なくとも１つの導電層、好ましくはＳｎＯ_２に基づく層を含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の光学レンズ。
7. 前記干渉コーティングは反射防止コーティングである、請求項１～６のいずれか一項に記載の光学レンズ。
8. 前記光学レンズが、眼用レンズである、請求項１～７のいずれか一項に記載の光学レンズ。
9. １．５５より高い屈折率を有する前記第１の高屈折率シート（Ａ）が、ＺｒＯ_２ベースの層である、請求項１～８のいずれか一項に記載の光学レンズ。
10. １．５５以下の屈折率を有する前記第２の低屈折率シート（Ｂ）が、ＳｉＯ_２ベースの層である、請求項１～９のいずれか一項に記載の光学レンズ。
11. １．５５より高い屈折率を有する前記第３の高屈折率シート（Ｃ）が、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＰｒＴｉＯ_３、ＺｒＯ_２、及びＹ_２Ｏ_３から選択される少なくとも１つの材料を含む、請求項１～１０のいずれか一項に記載の光学レンズ。
12. 前記比率、すなわち、
    

    

    が、０．８以上、好ましくは１．５以上、より好ましくは２以上である、請求項１～１１のいずれか一項に記載の光学レンズ。
13. １．５５以下の屈折率を有する前記第２の低屈折率シート（Ｂ）の前記厚さが、８０ｎｍ以下、好ましくは６０ｎｍ以下である、請求項１～１２のいずれか一項に記載の光学レンズ。
14. １．５５より高い屈折率を有する前記第１の高屈折率シート（Ａ）、及び１．５５より高い屈折率を有する前記第３の高屈折率シート（Ｃ）が、６０ｎｍ以下、好ましくは２５ｎｍ以下の厚さを有する、請求項１～１３のいずれか一項に記載の光学レンズ。
15. 請求項１～１４のいずれか一項に記載の光学レンズの製造方法において、
    － 前面主面と後面主面を有する基板を含む光学レンズを提供することと、
    － 前記基板の少なくとも一方の主面上に、１．５５より高い屈折率を有し、Ｔａ_２Ｏ_５層を一切含まない第１の高屈折率シート（Ａ）、１．５５以下の屈折率を有し、前記前者のシート（Ａ）と直接接触するようにされる第２の低屈折率シート（Ｂ）、１．５５より高い屈折率を有し、前記前者のシート（Ｂ）と直接接触するようにされる第３の高屈折率シート（Ｃ）、１００ｎｍ以上の厚さを有し、前記前者のシート（Ｃ）と直接接触するようにされる単層副層、及び１．５５より高い屈折率を有する少なくとも１つの高屈折率層と１．５５以下の屈折率を有する少なくとも１つの低屈折率層の積層体を含む多層干渉コーティングをこの順序で堆積させることと、を含み、
    前記背面主面上の２８０ｎｍ～３８０ｎｍの平均反射係数Ｒ_ＵＶをＩＳＯ １３６６６：１９９８規格で定義される関数Ｗ（λ）で重み付けしたものは、３５°の入射角で１０％より低い、方法。