JPH10232301A - 反射防止膜及び光学素材 - Google Patents
反射防止膜及び光学素材Info
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- JPH10232301A JPH10232301A JP9338156A JP33815697A JPH10232301A JP H10232301 A JPH10232301 A JP H10232301A JP 9338156 A JP9338156 A JP 9338156A JP 33815697 A JP33815697 A JP 33815697A JP H10232301 A JPH10232301 A JP H10232301A
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- antireflection film
- antireflection
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 汚染が付着しにくく、かつ汚染が付着した場
合にもその汚染が目立ちにくいと共に、手垢や指紋等の
人体的汚染も含めて付着した汚染をティッシュペーパ等
で容易に拭取り除去でき、その拭取り操作で傷付きにく
くて、水滴等の付着は容易に振り落すことができ、しか
もかかる汚染防止性や易拭取り除去性、耐擦傷性や撥水
性等の性能を長期に持続する反射防止膜及び光学素材の
開発。 【解決手段】 表面層として二酸化ケイ素系無機層（１
３）を有する単層構造又は複層構造の無機系反射防止層
（１）の表面に、粘着テープの接着力が１．０Ｎ／20mm
以下であるフッ素含有のシラン系硬化層からなる汚染防
止層（２）を有する反射防止膜、及びその反射防止膜を
支持基材上に有する光学素材。
合にもその汚染が目立ちにくいと共に、手垢や指紋等の
人体的汚染も含めて付着した汚染をティッシュペーパ等
で容易に拭取り除去でき、その拭取り操作で傷付きにく
くて、水滴等の付着は容易に振り落すことができ、しか
もかかる汚染防止性や易拭取り除去性、耐擦傷性や撥水
性等の性能を長期に持続する反射防止膜及び光学素材の
開発。 【解決手段】 表面層として二酸化ケイ素系無機層（１
３）を有する単層構造又は複層構造の無機系反射防止層
（１）の表面に、粘着テープの接着力が１．０Ｎ／20mm
以下であるフッ素含有のシラン系硬化層からなる汚染防
止層（２）を有する反射防止膜、及びその反射防止膜を
支持基材上に有する光学素材。
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、ＬＣＤやＣＲＴやプラズ
マ表示装置等の種々の視認装置、眼鏡用やカメラ用等の
各種レンズ、あるいは鏡などに好適な、指紋等の汚染の
除去性に優れる反射防止膜及びそれを付設した光学素材
に関する。
マ表示装置等の種々の視認装置、眼鏡用やカメラ用等の
各種レンズ、あるいは鏡などに好適な、指紋等の汚染の
除去性に優れる反射防止膜及びそれを付設した光学素材
に関する。
【０００２】
【発明の背景】視認装置等の表面に設けられることが一
般的な反射防止膜にあっては、手垢や指紋、汗や唾液や
整髪料等の汚染が付着しやすく、その付着で表面反射率
が変化したり、付着物が白く浮きでて見えて表示内容が
不鮮明になるなど、単なる透明板等の場合に比べて汚染
が目立ちやすい難点があるため、かかる汚染物の付着防
止性や付着汚染の除去性に優れる反射防止膜の提供が久
しい課題となっている。
般的な反射防止膜にあっては、手垢や指紋、汗や唾液や
整髪料等の汚染が付着しやすく、その付着で表面反射率
が変化したり、付着物が白く浮きでて見えて表示内容が
不鮮明になるなど、単なる透明板等の場合に比べて汚染
が目立ちやすい難点があるため、かかる汚染物の付着防
止性や付着汚染の除去性に優れる反射防止膜の提供が久
しい課題となっている。
【０００３】従来、汚染防止性の向上等を目的とした反
射防止膜としては、ＰＶＤ法により形成した二酸化ケイ
素を主成分とする表面層を有する単層又は多層の無機物
層からなる反射防止層の表面に、有機ポリシロキサン系
重合物又はパーフルオロアルキル基含有重合物からなる
硬化層を有するものが知られていた（特公平６−５３２
４号公報）。
射防止膜としては、ＰＶＤ法により形成した二酸化ケイ
素を主成分とする表面層を有する単層又は多層の無機物
層からなる反射防止層の表面に、有機ポリシロキサン系
重合物又はパーフルオロアルキル基含有重合物からなる
硬化層を有するものが知られていた（特公平６−５３２
４号公報）。
【０００４】しかしながら、手垢や指紋等の人体的ない
し油系汚染が付着した場合に、通例のティッシュペーパ
などで拭取ることが困難で汚染が薄膜に押し拡げられ、
強く擦ると反射防止膜が傷つくため満足できる除去を達
成できない問題点があった。
し油系汚染が付着した場合に、通例のティッシュペーパ
などで拭取ることが困難で汚染が薄膜に押し拡げられ、
強く擦ると反射防止膜が傷つくため満足できる除去を達
成できない問題点があった。
【０００５】
【発明の技術的課題】本発明は、汚染が付着しにくく、
かつ汚染が付着した場合にもその汚染が目立ちにくいと
共に、手垢や指紋等の人体的汚染も含めて付着した汚染
をティッシュペーパ等で容易に拭取り除去でき、その拭
取り操作で傷付きにくくて、水滴等の付着は容易に振り
落すことができ、しかもかかる汚染防止性や易拭取り除
去性、耐擦傷性や撥水性等の性能を長期に持続する反射
防止膜及び光学素材の開発を課題とする。
かつ汚染が付着した場合にもその汚染が目立ちにくいと
共に、手垢や指紋等の人体的汚染も含めて付着した汚染
をティッシュペーパ等で容易に拭取り除去でき、その拭
取り操作で傷付きにくくて、水滴等の付着は容易に振り
落すことができ、しかもかかる汚染防止性や易拭取り除
去性、耐擦傷性や撥水性等の性能を長期に持続する反射
防止膜及び光学素材の開発を課題とする。
【０００６】
【課題の解決手段】本発明は、表面層として二酸化ケイ
素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機系反射
防止層の表面に、粘着テープの接着力が１．０Ｎ／20mm
以下であるフッ素含有のシラン系硬化層からなる汚染防
止層を有することを特徴とする反射防止膜、及びその反
射防止膜を支持基材上に有することを特徴とする光学素
材を提供するものである。
素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機系反射
防止層の表面に、粘着テープの接着力が１．０Ｎ／20mm
以下であるフッ素含有のシラン系硬化層からなる汚染防
止層を有することを特徴とする反射防止膜、及びその反
射防止膜を支持基材上に有することを特徴とする光学素
材を提供するものである。
【０００７】
【発明の効果】本発明によれば、汚染防止性や付着汚染
の易拭取り除去性、耐擦傷性や撥水性等の性能に優れ
る、特に一般式（３）によるフルオロアミノシラン化合
物等の場合にはフッ素変性基が表面に効率よく配向して
優れた撥水撥油性や汚染防止性、耐薬品性や潤滑性、離
型性や耐擦傷性等の性能を示すと共に、二酸化ケイ素系
無機層と強固に密着した汚染防止層を形成でき、手垢や
指紋等の油系や水系等の汚染が付着しにくい上に、仮に
汚染が付着しても目立ちにくくてティッシュペーパ等で
容易に拭取り除去でき、その拭取り操作で傷付きにくく
て、水滴等の付着は容易に振り落すことができ、しかも
かかる性能を長期に持続する反射防止膜ないしその光学
素材を得ることができる。
の易拭取り除去性、耐擦傷性や撥水性等の性能に優れ
る、特に一般式（３）によるフルオロアミノシラン化合
物等の場合にはフッ素変性基が表面に効率よく配向して
優れた撥水撥油性や汚染防止性、耐薬品性や潤滑性、離
型性や耐擦傷性等の性能を示すと共に、二酸化ケイ素系
無機層と強固に密着した汚染防止層を形成でき、手垢や
指紋等の油系や水系等の汚染が付着しにくい上に、仮に
汚染が付着しても目立ちにくくてティッシュペーパ等で
容易に拭取り除去でき、その拭取り操作で傷付きにくく
て、水滴等の付着は容易に振り落すことができ、しかも
かかる性能を長期に持続する反射防止膜ないしその光学
素材を得ることができる。
【０００８】
【発明の実施形態】本発明の反射防止膜は、表面層とし
て二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造
の無機系反射防止層の表面に、粘着テープの接着力が
１．０Ｎ／20mm以下であるフッ素含有のシラン系硬化層
からなる汚染防止層を有してなる。また本発明の光学素
材は、前記反射防止膜を支持基材上に有してなる。
て二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造
の無機系反射防止層の表面に、粘着テープの接着力が
１．０Ｎ／20mm以下であるフッ素含有のシラン系硬化層
からなる汚染防止層を有してなる。また本発明の光学素
材は、前記反射防止膜を支持基材上に有してなる。
【０００９】図１、図２に本発明による反射防止膜を例
示した。また図３、図４に本発明による光学素材を例示
した。３が無機系反射防止層１と汚染防止層２からなる
反射防止膜、４が支持基材であり、１１，１２，１３
は、無機系反射防止層１を形成する無機層である。なお
５は、必要に応じて設けられるハードコート層である。
示した。また図３、図４に本発明による光学素材を例示
した。３が無機系反射防止層１と汚染防止層２からなる
反射防止膜、４が支持基材であり、１１，１２，１３
は、無機系反射防止層１を形成する無機層である。なお
５は、必要に応じて設けられるハードコート層である。
【００１０】反射防止膜における無機系反射防止層は、
実質的な反射防止機能を担う部分であり、本発明におい
ては二酸化ケイ素系無機層を表面に有するものとする点
を除いて、すなわち単層構造の場合には、図１に例示の
如く二酸化ケイ素系無機層１３からなる無機系反射防止
層１とする点を除いて、単層構造又は複層構造の適宜な
構造とすることができる。
実質的な反射防止機能を担う部分であり、本発明におい
ては二酸化ケイ素系無機層を表面に有するものとする点
を除いて、すなわち単層構造の場合には、図１に例示の
如く二酸化ケイ素系無機層１３からなる無機系反射防止
層１とする点を除いて、単層構造又は複層構造の適宜な
構造とすることができる。
【００１１】従って、例えばＡ．ＶＡＳＩＣＥＫ著、
「OPUTICS OF THIN FILMS」Ｐ１５９〜２８３［北オラ
ンダパブリッシングカンパニ、アムステルダム（１９６
０）：NORTH-HOLLAND PUBLISHING COMPANY, AMSTERDAM
(1960)］や特開昭５８−４６３０１号公報、特開昭５９
−４９５０１号公報や特開昭５９−５０４０１号公報、
特開平１−２９４７０９号公報や特公平６−５３２４号
公報などに基づく従来技術の如く、従来に準じた構造の
反射防止層として形成することもできる。
「OPUTICS OF THIN FILMS」Ｐ１５９〜２８３［北オラ
ンダパブリッシングカンパニ、アムステルダム（１９６
０）：NORTH-HOLLAND PUBLISHING COMPANY, AMSTERDAM
(1960)］や特開昭５８−４６３０１号公報、特開昭５９
−４９５０１号公報や特開昭５９−５０４０１号公報、
特開平１−２９４７０９号公報や特公平６−５３２４号
公報などに基づく従来技術の如く、従来に準じた構造の
反射防止層として形成することもできる。
【００１２】無機系反射防止層の形成には、無機酸化物
や無機ハロゲン化物やそれらの複合物等よりなる無機物
を用いうる。その無機物の具体例としては、ＳiＯ2やＺ
rＯ2、Ａl2Ｏ3やＹ2Ｏ3、ＴiＯ2の如き無機酸化物、Ｍg
Ｆ2やＢaＦ2、ＣaＦ2やＬaＦ2、ＬiＦやＮaＦ、ＳrＦ2
の如き無機ハロゲン化物などを代表例としてあげられ
る。
や無機ハロゲン化物やそれらの複合物等よりなる無機物
を用いうる。その無機物の具体例としては、ＳiＯ2やＺ
rＯ2、Ａl2Ｏ3やＹ2Ｏ3、ＴiＯ2の如き無機酸化物、Ｍg
Ｆ2やＢaＦ2、ＣaＦ2やＬaＦ2、ＬiＦやＮaＦ、ＳrＦ2
の如き無機ハロゲン化物などを代表例としてあげられ
る。
【００１３】反射防止層を形成する無機物は、下記の形
成方法などに応じてその１種又は２種以上が固体物、あ
るいはバインダ用ポリマー等と混合した分散液などの適
宜な状態で用いられるが、その場合、無機物を３０重量
％以上含有する組成で用いることが硬度や汚染防止性な
どの点より好ましい。なお前記のバインダ用ポリマーと
しては、適宜なポリマーを用いることがでて特に限定は
ないが、硬度等の点よりはポリオルガノシロキサンを形
成しうる各種の有機ケイ素化合物やその加水分解物など
が好ましく用いうる。
成方法などに応じてその１種又は２種以上が固体物、あ
るいはバインダ用ポリマー等と混合した分散液などの適
宜な状態で用いられるが、その場合、無機物を３０重量
％以上含有する組成で用いることが硬度や汚染防止性な
どの点より好ましい。なお前記のバインダ用ポリマーと
しては、適宜なポリマーを用いることがでて特に限定は
ないが、硬度等の点よりはポリオルガノシロキサンを形
成しうる各種の有機ケイ素化合物やその加水分解物など
が好ましく用いうる。
【００１４】無機系反射防止層の形成は、例えば真空蒸
着法やスパッタリング法やイオンプレーティング法等で
代表される各種のＰＶＤ（Phisical Vapor Depositio
n）法、あるいはスピンコート法や浸漬コート法、カー
テンフローコート法やロールコート法、スプレーコート
法や流し塗り法等で代表される流体塗布法などの適宜な
薄膜形成法にて行うことができる。
着法やスパッタリング法やイオンプレーティング法等で
代表される各種のＰＶＤ（Phisical Vapor Depositio
n）法、あるいはスピンコート法や浸漬コート法、カー
テンフローコート法やロールコート法、スプレーコート
法や流し塗り法等で代表される流体塗布法などの適宜な
薄膜形成法にて行うことができる。
【００１５】前記したＰＶＤ法には、上記に例示したＳ
iＯ2等の無機酸化物やＭgＦ2等の無機ハロゲン化物など
が好ましく用いられ、特に表面層となる二酸化ケイ素系
無機層は、表面硬度の高さや汚染防止層の密着性などの
点より、ＰＶＤ法により二酸化ケイ素を主成分として含
有する層に形成したものが好ましい。
iＯ2等の無機酸化物やＭgＦ2等の無機ハロゲン化物など
が好ましく用いられ、特に表面層となる二酸化ケイ素系
無機層は、表面硬度の高さや汚染防止層の密着性などの
点より、ＰＶＤ法により二酸化ケイ素を主成分として含
有する層に形成したものが好ましい。
【００１６】反射防止層は、反射防止効果等の点より複
層構造とすることが好ましく、就中、表面層の二酸化ケ
イ素系無機層よりも高い屈折率の層を１層又は２層以上
内在させた複層構造とすることが好ましい。その場合、
各層の厚さや屈折率の設定等については、上記したＡ．
ＶＡＳＩＣＥＫ著、「OPUTICS OF THIN FILMS」などの
公知技術の如く、従来に準じることができる。
層構造とすることが好ましく、就中、表面層の二酸化ケ
イ素系無機層よりも高い屈折率の層を１層又は２層以上
内在させた複層構造とすることが好ましい。その場合、
各層の厚さや屈折率の設定等については、上記したＡ．
ＶＡＳＩＣＥＫ著、「OPUTICS OF THIN FILMS」などの
公知技術の如く、従来に準じることができる。
【００１７】また反射防止層には、帯電によるゴミ等の
付着を防止するために静電気の除去効果や電磁波のシー
ルド効果も発揮する導電層を含ませてもよい。かかる導
電層は、例えば金や銀やアルミニウム等の金属薄膜、酸
化スズや酸化インジウムやそれらの混合物（ＩＴＯ）等
の無機酸化物薄膜などからなる透明導電膜として形成さ
れる。可視領域では、光の吸収が極めて少ない無機酸化
物系の透明導電膜が特に好ましい。
付着を防止するために静電気の除去効果や電磁波のシー
ルド効果も発揮する導電層を含ませてもよい。かかる導
電層は、例えば金や銀やアルミニウム等の金属薄膜、酸
化スズや酸化インジウムやそれらの混合物（ＩＴＯ）等
の無機酸化物薄膜などからなる透明導電膜として形成さ
れる。可視領域では、光の吸収が極めて少ない無機酸化
物系の透明導電膜が特に好ましい。
【００１８】無機系反射防止層表面の二酸化ケイ素系無
機層に付設される汚染防止層は、粘着テープの接着力が
１．０Ｎ／20mm以下であるフッ素含有のシラン系硬化層
にて形成される。粘着テープの接着力が１．０Ｎ／20mm
を超えるシラン系硬化層では、汚染防止性に乏しくて、
特に手垢や指紋等の人体的汚染が付着しやすく、また汚
染の拭取り除去性に乏しくなる。
機層に付設される汚染防止層は、粘着テープの接着力が
１．０Ｎ／20mm以下であるフッ素含有のシラン系硬化層
にて形成される。粘着テープの接着力が１．０Ｎ／20mm
を超えるシラン系硬化層では、汚染防止性に乏しくて、
特に手垢や指紋等の人体的汚染が付着しやすく、また汚
染の拭取り除去性に乏しくなる。
【００１９】なお前記の接着力は、ＪＩＳ Ｃ ２３３
８（電気絶縁用ポリエステル粘着テープ）又はＣＥＳ
Ｍ ５０２３−６（ポリエステルフィルム粘着テープ）
で品質が規定された、ポリエステルフィルムにアクリル
系粘着層を設けた粘着力２．０Ｎ／10mm以上の粘着テー
プを、常温で汚染防止層（シラン系硬化層）に圧着し、
それを剥離速度３００mm／分の条件で１８０度ピールし
た場合の値に基づく。
８（電気絶縁用ポリエステル粘着テープ）又はＣＥＳ
Ｍ ５０２３−６（ポリエステルフィルム粘着テープ）
で品質が規定された、ポリエステルフィルムにアクリル
系粘着層を設けた粘着力２．０Ｎ／10mm以上の粘着テー
プを、常温で汚染防止層（シラン系硬化層）に圧着し、
それを剥離速度３００mm／分の条件で１８０度ピールし
た場合の値に基づく。
【００２０】汚染防止性や汚染の拭取り除去性などの点
より好ましい汚染防止層は、前記した粘着テープの接着
力が０．５Ｎ／20mm以下であり、かつ水に対する静止接
触角が８０度以上、就中１００度以上のものである。当
該静止接触角８０度以上を満足しない場合、従って８０
度未満の場合には、汚染防止性に乏しい場合があり、ま
た拭取り作業に関係する表面での滑り性に乏しい場合が
ある。なお前記の水に対する静止接触角は、汚染防止層
の表面に直径２mm以下の水滴を形成してその接触角を測
定する液滴法に基づく。
より好ましい汚染防止層は、前記した粘着テープの接着
力が０．５Ｎ／20mm以下であり、かつ水に対する静止接
触角が８０度以上、就中１００度以上のものである。当
該静止接触角８０度以上を満足しない場合、従って８０
度未満の場合には、汚染防止性に乏しい場合があり、ま
た拭取り作業に関係する表面での滑り性に乏しい場合が
ある。なお前記の水に対する静止接触角は、汚染防止層
の表面に直径２mm以下の水滴を形成してその接触角を測
定する液滴法に基づく。
【００２１】汚染防止層を形成するためのシラン系化合
物としては、前記した粘着テープの接着力を満足するフ
ッ素含有シラン系硬化層を形成する適宜なものを用いう
る。就中、前記の静止接触角等も踏まえて好ましく用い
うるシラン系化合物としては例えば、一般式（１）：−
（ＣＦ2Ｏ）x−（Ｃ2Ｆ4Ｏ）y−（Ｃ3Ｆ6Ｏ）z−Ｒｆ
（ただし、ｘ，ｙ，ｚは、それぞれ０〜３００の整数で
あって、１０≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦３００を満足し、Ｒｆは炭
素数が１〜３のフルオロアルキル基である。）で表され
るパーフルオロポリエーテル基を含有するものや、その
加水分解物ないし縮合物などがあげられる。
物としては、前記した粘着テープの接着力を満足するフ
ッ素含有シラン系硬化層を形成する適宜なものを用いう
る。就中、前記の静止接触角等も踏まえて好ましく用い
うるシラン系化合物としては例えば、一般式（１）：−
（ＣＦ2Ｏ）x−（Ｃ2Ｆ4Ｏ）y−（Ｃ3Ｆ6Ｏ）z−Ｒｆ
（ただし、ｘ，ｙ，ｚは、それぞれ０〜３００の整数で
あって、１０≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦３００を満足し、Ｒｆは炭
素数が１〜３のフルオロアルキル基である。）で表され
るパーフルオロポリエーテル基を含有するものや、その
加水分解物ないし縮合物などがあげられる。
【００２２】粘着テープの低い接着力、ひいては汚染防
止性や汚染の拭取り除去性などの点より、特に好ましく
用いうるシラン系化合物は、数平均分子量が５００以
上、就中１０００以上のパーフルオロポリエーテル基を
含有するものである。パーフルオロポリエーテル基に代
えて、パーフルオロアルキル基を含むシラン系化合物で
は、粘着テープの接着力が高いものとなり、手垢や指紋
等の拭取り除去性に乏しくなって本発明の目的を達成で
きず、また分子量を上げると常温で固体化して塗布等の
加工操作性等にも乏しくなる。
止性や汚染の拭取り除去性などの点より、特に好ましく
用いうるシラン系化合物は、数平均分子量が５００以
上、就中１０００以上のパーフルオロポリエーテル基を
含有するものである。パーフルオロポリエーテル基に代
えて、パーフルオロアルキル基を含むシラン系化合物で
は、粘着テープの接着力が高いものとなり、手垢や指紋
等の拭取り除去性に乏しくなって本発明の目的を達成で
きず、また分子量を上げると常温で固体化して塗布等の
加工操作性等にも乏しくなる。
【００２３】また耐脱落性や耐久性などの点より好まし
く用いうるシラン系化合物は、例えばアルコキシシラン
構造、ハロゲン化シラン構造、シラザン構造などの、水
分の存在下に加水分解して硬化しうる適宜な構造を有す
るもの、ないしその縮合物などである。かかる加水分解
可能な構造を有することで、適切な水分の存在下に放置
又は加熱することによりシラン系化合物が加水分解して
硬化し、その硬化過程で無機系反射防止層表面の二酸化
ケイ素系無機層と化学結合し、その結合で洗浄や各種薬
品との接触等で脱落しにくく、耐久性に優れて効果を長
期に持続する汚染防止層とすることができる。
く用いうるシラン系化合物は、例えばアルコキシシラン
構造、ハロゲン化シラン構造、シラザン構造などの、水
分の存在下に加水分解して硬化しうる適宜な構造を有す
るもの、ないしその縮合物などである。かかる加水分解
可能な構造を有することで、適切な水分の存在下に放置
又は加熱することによりシラン系化合物が加水分解して
硬化し、その硬化過程で無機系反射防止層表面の二酸化
ケイ素系無機層と化学結合し、その結合で洗浄や各種薬
品との接触等で脱落しにくく、耐久性に優れて効果を長
期に持続する汚染防止層とすることができる。
【００２４】従って前記のシラン系化合物としては、加
水分解が可能な適宜な構造を有するものであってよい。
ちなみに加水分解可能なアルコキシシラン構造型のシラ
ン系化合物の例としては、一般式（２）：Ｒ1 1Ｒ2 aＳｉ
（ＯＲ3）3-aで表されるものなどがあげられる。
水分解が可能な適宜な構造を有するものであってよい。
ちなみに加水分解可能なアルコキシシラン構造型のシラ
ン系化合物の例としては、一般式（２）：Ｒ1 1Ｒ2 aＳｉ
（ＯＲ3）3-aで表されるものなどがあげられる。
【００２５】前記一般式（２）において、Ｒ1はパーフ
ルオロポリエーテル基を有するアルキル基であり、Ｒ2
はパーフルオロポリエーテル基を有するアルキル基、フ
ルオロアルキル基、アルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、又はハロゲン基やエポキシ基、グリシドキシ基や
アミノ基、メルカプト基やメタクリルオキシ基、シアノ
基等を有する炭化水素基である。またＲ3は炭素数が１
〜８のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、
又はアリール基であり、ａは０又は１である。
ルオロポリエーテル基を有するアルキル基であり、Ｒ2
はパーフルオロポリエーテル基を有するアルキル基、フ
ルオロアルキル基、アルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、又はハロゲン基やエポキシ基、グリシドキシ基や
アミノ基、メルカプト基やメタクリルオキシ基、シアノ
基等を有する炭化水素基である。またＲ3は炭素数が１
〜８のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、
又はアリール基であり、ａは０又は１である。
【００２６】なお前記において、Ｒ1、Ｒ2におけるパー
フルオロポリエーテル基と、Ｓｉを結ぶ部分の構造につ
いては、特に限定はなく特開平１−２９４７０９号公報
におけるものなどに準じうるが、パーフルオロポリエー
テル基の安定保持等の点よりは例えばメチレン鎖結合や
エステル結合、アミド結合やエーテル結合などの容易に
加水分解しない結合構造であることが好ましく、就中ア
ミド結合が反射防止表面との結合性や配向性等にも優れ
て特に好ましい。
フルオロポリエーテル基と、Ｓｉを結ぶ部分の構造につ
いては、特に限定はなく特開平１−２９４７０９号公報
におけるものなどに準じうるが、パーフルオロポリエー
テル基の安定保持等の点よりは例えばメチレン鎖結合や
エステル結合、アミド結合やエーテル結合などの容易に
加水分解しない結合構造であることが好ましく、就中ア
ミド結合が反射防止表面との結合性や配向性等にも優れ
て特に好ましい。
【００２７】フッ素変性基が表面に効率よく配向し、優
れた撥水撥油性や汚染防止性、耐薬品性や潤滑性、離型
性や耐擦傷性等を発揮して二酸化ケイ素系無機層と強固
に密着した汚染防止層の安定した形成性などの点より好
ましく用いうるシラン系化合物としては、下記の一般式
（３）で表されるフルオロアミノシラン化合物又は／及
びその部分加水分解縮合物があげられる。
れた撥水撥油性や汚染防止性、耐薬品性や潤滑性、離型
性や耐擦傷性等を発揮して二酸化ケイ素系無機層と強固
に密着した汚染防止層の安定した形成性などの点より好
ましく用いうるシラン系化合物としては、下記の一般式
（３）で表されるフルオロアミノシラン化合物又は／及
びその部分加水分解縮合物があげられる。
【００２８】前記したフルオロアミノシラン化合物又は
／及びその部分加水分解縮合物によれば、水分の存在下
に加水分解して硬化し、従って上記した適切な水分の存
在下に放置又は加熱することにより硬化層を形成するこ
とができる。
／及びその部分加水分解縮合物によれば、水分の存在下
に加水分解して硬化し、従って上記した適切な水分の存
在下に放置又は加熱することにより硬化層を形成するこ
とができる。
【００２９】なお一般式（３）中の低級アルキル基又は
アリール基Ｒ4，Ｒ5は、例えばメチル基やエチル基、プ
ロピル基やフェニル基などの適宜なものであってよい
が、前記性能等の点よりＲ4は水素原子又はメチル基で
あることが、Ｒ5はメチル基であることが好ましい。
アリール基Ｒ4，Ｒ5は、例えばメチル基やエチル基、プ
ロピル基やフェニル基などの適宜なものであってよい
が、前記性能等の点よりＲ4は水素原子又はメチル基で
あることが、Ｒ5はメチル基であることが好ましい。
【００３０】また炭素数１〜４の有機基Ｒ6は、例えば
メチル基やエチル基、プロピル基やブチル基の如きアル
キル基、メトキシメチル基やメトキシエチル基の如きオ
キシアルキル基、アセチル基の如きアシル基、イソプロ
ペニル基の如きアルケニル基などの適宜なものであって
いよい。前記性能等の点よりはメチル基やエチル基やイ
ソプロペニル基などであることが好ましい。
メチル基やエチル基、プロピル基やブチル基の如きアル
キル基、メトキシメチル基やメトキシエチル基の如きオ
キシアルキル基、アセチル基の如きアシル基、イソプロ
ペニル基の如きアルケニル基などの適宜なものであって
いよい。前記性能等の点よりはメチル基やエチル基やイ
ソプロペニル基などであることが好ましい。
【００３１】さらにＱは、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2又はＣＨ2Ｃ
Ｈ2ＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2であるが、汚染防止層の形成に
際しては、それらのＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2とＣＨ2ＣＨ2ＮＨ
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2が混在したものとして用いることもで
きる。従って汚染防止層の形成には、２種以上のフルオ
ロアミノシラン化合物又は／及びその部分加水分解縮合
物を適宜な組合せで併用してもよい。
Ｈ2ＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2であるが、汚染防止層の形成に
際しては、それらのＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2とＣＨ2ＣＨ2ＮＨ
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2が混在したものとして用いることもで
きる。従って汚染防止層の形成には、２種以上のフルオ
ロアミノシラン化合物又は／及びその部分加水分解縮合
物を適宜な組合せで併用してもよい。
【００３２】またさらにｍは、１０〜５０の整数である
が、９以下では上記したパーフルオロポリエーテル基と
しての特長が充分に発揮されにくく、５１以上では分子
中のアルコキシシリル基の含有割合が相対的に小さくな
り縮合反応の進行が遅延して硬化皮膜の形成速度に乏し
くなる。前記の特長や硬化皮膜の形成速度などの点より
好ましいｍ数は、１２〜４０、就中１５〜３５である。
なおｎは、２又は３であるが、ｎが２のものと３のもの
との併用は許容される。
が、９以下では上記したパーフルオロポリエーテル基と
しての特長が充分に発揮されにくく、５１以上では分子
中のアルコキシシリル基の含有割合が相対的に小さくな
り縮合反応の進行が遅延して硬化皮膜の形成速度に乏し
くなる。前記の特長や硬化皮膜の形成速度などの点より
好ましいｍ数は、１２〜４０、就中１５〜３５である。
なおｎは、２又は３であるが、ｎが２のものと３のもの
との併用は許容される。
【００３３】前記したフルオロアミノシラン化合物の調
製は、例えば相当するヘキサフルオロプロピレンオキシ
ド（ＨＦＰＯ）オリゴマー又はそのエステル誘導体とア
ミノアルキルアルコキシシランを縮合反応させる方式な
どにより行うことができる。
製は、例えば相当するヘキサフルオロプロピレンオキシ
ド（ＨＦＰＯ）オリゴマー又はそのエステル誘導体とア
ミノアルキルアルコキシシランを縮合反応させる方式な
どにより行うことができる。
【００３４】汚染防止層の形成は、上記した反射防止層
の場合に準じて適宜な方法を採りうるが、反射防止効果
の均一性や反射干渉色の制御などの点より、スピンコー
ト法、浸漬コート法、カーテンフローコート法などの適
宜な薄膜塗布方法や真空蒸着法等の１種又は２種以上を
適用した形成方法が好ましい。また作業性等の点より
は、塗布液を紙や布等に含浸させて塗布流延する形成方
法が好ましい。
の場合に準じて適宜な方法を採りうるが、反射防止効果
の均一性や反射干渉色の制御などの点より、スピンコー
ト法、浸漬コート法、カーテンフローコート法などの適
宜な薄膜塗布方法や真空蒸着法等の１種又は２種以上を
適用した形成方法が好ましい。また作業性等の点より
は、塗布液を紙や布等に含浸させて塗布流延する形成方
法が好ましい。
【００３５】なお塗布液は、例えば１種又は２種以上の
シラン系化合物を揮発性溶媒に溶解又は分散させる方法
などの適宜な方法で調製することができる。その場合、
揮発性溶媒についは、組成物の安定性や溶解性、無機系
反射防止層表面の二酸化ケイ素系無機層に対する濡れ性
や揮発速度などを考慮して適宜に決定してよく、２種以
上の混溶媒とすることもできる。
シラン系化合物を揮発性溶媒に溶解又は分散させる方法
などの適宜な方法で調製することができる。その場合、
揮発性溶媒についは、組成物の安定性や溶解性、無機系
反射防止層表面の二酸化ケイ素系無機層に対する濡れ性
や揮発速度などを考慮して適宜に決定してよく、２種以
上の混溶媒とすることもできる。
【００３６】ちなみに前記の揮発性溶媒としては、例え
ばパーフルオロヘプタンやパーフルオロオクタンの如き
フッ素変性脂肪族炭化水素類、ｍ−キシレンヘキサフロ
ライドやベンゾトリフロライドの如きフッ素変性芳香族
炭化水素類、メチルパーフルオロブチルエーテルやパー
フルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）の如きフッ
素変性エーテル類、石油ベンジンやミネラルスピリッ
ツ、トルエンやキシレンの如き炭化水素類、アセトンや
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの如きケ
トン類などがあげられる。就中、溶解性などの点よりｍ
−キシレンヘキサフロライドやパーフルオロ（２−ブチ
ルテトラヒドロフラン）の如きフッ素変性物が好ましく
用いうる。
ばパーフルオロヘプタンやパーフルオロオクタンの如き
フッ素変性脂肪族炭化水素類、ｍ−キシレンヘキサフロ
ライドやベンゾトリフロライドの如きフッ素変性芳香族
炭化水素類、メチルパーフルオロブチルエーテルやパー
フルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）の如きフッ
素変性エーテル類、石油ベンジンやミネラルスピリッ
ツ、トルエンやキシレンの如き炭化水素類、アセトンや
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの如きケ
トン類などがあげられる。就中、溶解性などの点よりｍ
−キシレンヘキサフロライドやパーフルオロ（２−ブチ
ルテトラヒドロフラン）の如きフッ素変性物が好ましく
用いうる。
【００３７】なお塗布液の調製に際しては、シラン系化
合物、就中フルオロアミノシラン化合物やその部分加水
分解縮合物の加水分解縮合反応の促進を目的に必要に応
じて、例えばジブチル錫ジメトキシドやジラウリル酸ジ
ブチル錫の如き有機錫化合物、テトラｎ−ブチルチタネ
ートの如き有機チタン化合物、酢酸やメタンスルホン酸
の如き有機酸、塩酸や硫酸の如き無機酸などのアルコキ
シシラン加水分解縮合触媒を添加することもできる。か
かる触媒としては、酢酸やテトラｎ−ブチルチタネート
やジラウリル酸ジブチル錫などが特に好ましく用いう
る。
合物、就中フルオロアミノシラン化合物やその部分加水
分解縮合物の加水分解縮合反応の促進を目的に必要に応
じて、例えばジブチル錫ジメトキシドやジラウリル酸ジ
ブチル錫の如き有機錫化合物、テトラｎ−ブチルチタネ
ートの如き有機チタン化合物、酢酸やメタンスルホン酸
の如き有機酸、塩酸や硫酸の如き無機酸などのアルコキ
シシラン加水分解縮合触媒を添加することもできる。か
かる触媒としては、酢酸やテトラｎ−ブチルチタネート
やジラウリル酸ジブチル錫などが特に好ましく用いう
る。
【００３８】形成する汚染防止層の厚さは、適宜に決定
しうるが、一般には反射防止性や汚染防止性、水に対す
る静止接触角や粘着テープの接着力、表面硬度との調和
性などの点より、０．００１〜０．５μm、就中０．０
１〜０．１μmとされる。なお汚染防止層の形成に際し
ては、反射防止層の表面を清浄に処理しておくことが好
ましい。その処理は、例えば界面活性剤による汚れ除
去、有機溶剤による脱脂、フッ素系溶剤による蒸気洗浄
などの適宜な方式で行うことができる。また密着性や耐
久性の向上などを目的とした適宜な前処理を施すことも
でき、特に活性化ガスによる処理や酸、アルカリ等によ
る薬品処理などが好ましい。
しうるが、一般には反射防止性や汚染防止性、水に対す
る静止接触角や粘着テープの接着力、表面硬度との調和
性などの点より、０．００１〜０．５μm、就中０．０
１〜０．１μmとされる。なお汚染防止層の形成に際し
ては、反射防止層の表面を清浄に処理しておくことが好
ましい。その処理は、例えば界面活性剤による汚れ除
去、有機溶剤による脱脂、フッ素系溶剤による蒸気洗浄
などの適宜な方式で行うことができる。また密着性や耐
久性の向上などを目的とした適宜な前処理を施すことも
でき、特に活性化ガスによる処理や酸、アルカリ等によ
る薬品処理などが好ましい。
【００３９】本発明による反射防止膜は、反射防止効果
等の点より最外面の汚染防止層表面における全光線の反
射率に基づいて、その表面反射率が３％以下であること
が好ましい。従って、後述の光学素材として支持基材の
表裏に反射防止膜を設けた場合には、その表裏における
合計の表面反射率が６％以下であることが好ましい。な
お表裏に反射防止膜を設けた無色透明の光学素材におい
ては、１００％から光学素材の全光線透過率を引いて、
得られた値の半分を片面における表面反射率と定義する
こともできる。
等の点より最外面の汚染防止層表面における全光線の反
射率に基づいて、その表面反射率が３％以下であること
が好ましい。従って、後述の光学素材として支持基材の
表裏に反射防止膜を設けた場合には、その表裏における
合計の表面反射率が６％以下であることが好ましい。な
お表裏に反射防止膜を設けた無色透明の光学素材におい
ては、１００％から光学素材の全光線透過率を引いて、
得られた値の半分を片面における表面反射率と定義する
こともできる。
【００４０】前記において、汚染防止層表面での表面反
射率が高いと、反射防止効果に乏しくて眼鏡レンズ等で
はゴーストやフレアなどの反射像を生じ、不快感発生の
原因となりやすい。またルッキンググラスやＣＲＴ用フ
ィルタなどでは、面状の反射光で内容物や表示内容が判
然としない状態となりやすい。
射率が高いと、反射防止効果に乏しくて眼鏡レンズ等で
はゴーストやフレアなどの反射像を生じ、不快感発生の
原因となりやすい。またルッキンググラスやＣＲＴ用フ
ィルタなどでは、面状の反射光で内容物や表示内容が判
然としない状態となりやすい。
【００４１】なお汚染防止層については、ＴＯＦ−ＳＩ
ＭＳ（飛行時間型二次イオン質量スペクトル法）にて表
面分析を行うことができる。この方法は、高真空中にお
いた試料表面に弱いエネルギをもつイオンを照射し、表
面からでた分子フラグメントを時間分解によりその質量
数を検出することにより行うものである。
ＭＳ（飛行時間型二次イオン質量スペクトル法）にて表
面分析を行うことができる。この方法は、高真空中にお
いた試料表面に弱いエネルギをもつイオンを照射し、表
面からでた分子フラグメントを時間分解によりその質量
数を検出することにより行うものである。
【００４２】なお前記の代表的な測定条件を下記する。 測定装置；米国 Phisical Electronics（PHI EVANS）社 ＴＦＳ−２０００ 測定条件；一次イオン種 ：Ｇａ（＋）イオン 一次イオンエネルギ ：２５ｋＶ 一次イオン電流（ＤＣ） ：〜１５０ｐＡ 試料電位 ：＋３．２ｋＶ パルス周波数 ：７．２ｋＨｚ パルス幅 ：〜１０ｎｓ バンチング ：無し 帯電中和 ：有り 時間分解能 ：１．１ｎｓ／ｃｈ 二次イオン極性 ：正、負 質量範囲（Ｍ／ｚ） ：０〜１００００ ラスターサイズ ：１２０μｍ□ 測定時間 ：２０分 エネルギーフィルタ ：無し コントラストダイアフラム：＃０ 位置検出器， ：Ｒａｓｔｅｒ 後段加速 ：５ｋＶ 測定真空度 ：〜４×１／１０8Ｔｏｒｒ
【００４３】本発明による反射防止膜は、例えばＬＣＤ
やＣＲＴやプラズマディスプレイの如き表示装置ないし
視認装置等の内部や前面板、偏光板等の光学素子、眼鏡
用やカメラ用や双眼鏡用等のレンズ、防眩ミラー等の
鏡、重量計等の計器類などの、従来に準じた適宜な物品
に適用することができる。その場合、反射防止膜は、前
記物品等からなる被処理体に直接付設することもできる
し、ガラス板やプラスチック板、あるいは偏光板や拡散
板等の光学素子などからなる適宜な支持基材に付設した
光学素材として適用することもできる。
やＣＲＴやプラズマディスプレイの如き表示装置ないし
視認装置等の内部や前面板、偏光板等の光学素子、眼鏡
用やカメラ用や双眼鏡用等のレンズ、防眩ミラー等の
鏡、重量計等の計器類などの、従来に準じた適宜な物品
に適用することができる。その場合、反射防止膜は、前
記物品等からなる被処理体に直接付設することもできる
し、ガラス板やプラスチック板、あるいは偏光板や拡散
板等の光学素子などからなる適宜な支持基材に付設した
光学素材として適用することもできる。
【００４４】上記のように図３、図４に本発明による、
支持基材４の片面又は両面に反射防止膜３を設けてなる
光学素材を例示したが、その支持基材としては適宜なも
のを用いてよく、特に限定はない。液状コーティング法
等で反射防止膜を形成する場合などには、ガラスやプラ
スチックからなる支持基材が好ましく用いうる。
支持基材４の片面又は両面に反射防止膜３を設けてなる
光学素材を例示したが、その支持基材としては適宜なも
のを用いてよく、特に限定はない。液状コーティング法
等で反射防止膜を形成する場合などには、ガラスやプラ
スチックからなる支持基材が好ましく用いうる。
【００４５】また前記においてガラス基材の場合には、
反射防止層にＭgＦ2やＣaＦ2の如き低屈折率を示すもの
を含ませることが、高い反射効果を得る点などより好ま
しい。またプラスチック基材の場合には、反射防止層に
ＳiＯ2の如き屈折率が比較的低くて硬度の高いものを含
ませることが耐久性などの点より好ましい。
反射防止層にＭgＦ2やＣaＦ2の如き低屈折率を示すもの
を含ませることが、高い反射効果を得る点などより好ま
しい。またプラスチック基材の場合には、反射防止層に
ＳiＯ2の如き屈折率が比較的低くて硬度の高いものを含
ませることが耐久性などの点より好ましい。
【００４６】なお前記の支持基材を形成するプラスチッ
クは、適宜なものであってよい。ちなみにそのプラスチ
ックの例としては、ポリメチルメタクリレートやメチル
メタクリレート共重合体の如きアクリル系樹脂、ポリカ
ーボネートやジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート（ＣＲ−３９）の如きポリカーボネート系樹脂、ポ
リエチレンテレフタレートや不飽和ポリエスチルの如き
ポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロースの如きア
セテート系樹脂、その他、アクリロニトリル−スチレン
共重合体、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテルサル
ホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポ
リオレフィン系樹脂などがあげられる。
クは、適宜なものであってよい。ちなみにそのプラスチ
ックの例としては、ポリメチルメタクリレートやメチル
メタクリレート共重合体の如きアクリル系樹脂、ポリカ
ーボネートやジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート（ＣＲ−３９）の如きポリカーボネート系樹脂、ポ
リエチレンテレフタレートや不飽和ポリエスチルの如き
ポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロースの如きア
セテート系樹脂、その他、アクリロニトリル−スチレン
共重合体、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテルサル
ホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポ
リオレフィン系樹脂などがあげられる。
【００４７】支持基材は、フィルムやシートや板等の適
宜な形態を有するものであってよく、その厚さは任意で
ある。また支持基材は、ハードーコート層を有するもの
であってもよい。この場合には、図４に例示の如く、反
射防止膜３と支持基材４の間にハードコート層５を有す
る形態の光学素材となる。さらに支持基材は、ハードー
コート層に代えて、あるいはハードーコート層と共に、
例えば反射防止膜の密着性、硬度や耐薬品性、耐久性や
染色性等の向上などを目的に、適宜なコート層を有した
り、表面処理されたものなどであってもよい。
宜な形態を有するものであってよく、その厚さは任意で
ある。また支持基材は、ハードーコート層を有するもの
であってもよい。この場合には、図４に例示の如く、反
射防止膜３と支持基材４の間にハードコート層５を有す
る形態の光学素材となる。さらに支持基材は、ハードー
コート層に代えて、あるいはハードーコート層と共に、
例えば反射防止膜の密着性、硬度や耐薬品性、耐久性や
染色性等の向上などを目的に、適宜なコート層を有した
り、表面処理されたものなどであってもよい。
【００４８】ちなみに硬度の向上には、特公昭５０−２
８０９２号公報や特公昭５０−２８４４６号公報、特公
昭５０−３９４４９号公報や特公昭５１−２４３６８号
公報、特公昭５７−２７３５号公報や特開昭５２−１１
２６９８号公報などに記載された高硬度化用の適宜な材
料を用いうる。またチタンやアルミニウムやスズ等の金
属又はケイ素からなる酸化物をコーティングする方式
や、（メタ）アクリル酸のペンタエリスリトール等によ
る架橋体などからなるアクリル系架橋体の付設なども硬
度の向上に有効である。
８０９２号公報や特公昭５０−２８４４６号公報、特公
昭５０−３９４４９号公報や特公昭５１−２４３６８号
公報、特公昭５７−２７３５号公報や特開昭５２−１１
２６９８号公報などに記載された高硬度化用の適宜な材
料を用いうる。またチタンやアルミニウムやスズ等の金
属又はケイ素からなる酸化物をコーティングする方式
や、（メタ）アクリル酸のペンタエリスリトール等によ
る架橋体などからなるアクリル系架橋体の付設なども硬
度の向上に有効である。
【００４９】ハードーコート層も従来に準じて形成する
ことができる。就中、有機ケイ素化合物、特に一般式：
Ｒ4 cＲ5 dＳｉ（ＯＲ6）4-c-dで表される有機ケイ素化合
物やその加水分解物などの硬化物からなるハードーコー
ト層が好ましい。なお式中のＲ4、Ｒ5はアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、又はハロゲン基やエポキシ
基、グリシドキシ基やアミノ基、メルカプト基やメタク
リルオキシ基、シアノ基等を有する炭化水素基などであ
り、Ｒ6は炭素数が１〜８のアルキル基、アルコキシア
ルキル基、アシル基、又はアリール基などである。また
ｃ，ｄは０又は１であり、従ってｃ＋ｄは、０，１又は
２である。
ことができる。就中、有機ケイ素化合物、特に一般式：
Ｒ4 cＲ5 dＳｉ（ＯＲ6）4-c-dで表される有機ケイ素化合
物やその加水分解物などの硬化物からなるハードーコー
ト層が好ましい。なお式中のＲ4、Ｒ5はアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、又はハロゲン基やエポキシ
基、グリシドキシ基やアミノ基、メルカプト基やメタク
リルオキシ基、シアノ基等を有する炭化水素基などであ
り、Ｒ6は炭素数が１〜８のアルキル基、アルコキシア
ルキル基、アシル基、又はアリール基などである。また
ｃ，ｄは０又は１であり、従ってｃ＋ｄは、０，１又は
２である。
【００５０】ハードーコート層は、例えばゾル−ゲル法
などにより平均粒径が０．５〜５μmのシリカや金属酸
化物などからなる微粒子を含有させる方式、あるいはバ
フやコロナ放電やイオンエッチングの如き適宜な方法で
中心線平均粗さが０．０１〜０．５μmのエッチング表
面とする方式などにより、きらめき防止機能を有するも
のとして付設することもできる。
などにより平均粒径が０．５〜５μmのシリカや金属酸
化物などからなる微粒子を含有させる方式、あるいはバ
フやコロナ放電やイオンエッチングの如き適宜な方法で
中心線平均粗さが０．０１〜０．５μmのエッチング表
面とする方式などにより、きらめき防止機能を有するも
のとして付設することもできる。
【００５１】本発明による反射防止膜及び光学素材は、
汚れにくく、汚れが目立ちにくくてその汚れをとりやす
く、表面の滑り性が良好で傷付きにくく、それらの性能
を長期に持続するなどの特長を有して、例えばＬＣＤ等
の各種の視認装置類や偏光板等の各種の光学素子類、眼
鏡用等の各種のレンズ類や防眩ミラー等の各種の鏡類、
重量計等の各種の計器類などの種々の物品における表面
や内部などに配置する反射防止フィルタなどとして好ま
しく用いることができる。
汚れにくく、汚れが目立ちにくくてその汚れをとりやす
く、表面の滑り性が良好で傷付きにくく、それらの性能
を長期に持続するなどの特長を有して、例えばＬＣＤ等
の各種の視認装置類や偏光板等の各種の光学素子類、眼
鏡用等の各種のレンズ類や防眩ミラー等の各種の鏡類、
重量計等の各種の計器類などの種々の物品における表面
や内部などに配置する反射防止フィルタなどとして好ま
しく用いることができる。
【００５２】
実施例１ 粘着偏光フィルタ（日東電工社製、ＥＧ１４２５ＤＵＡ
Ｇ３０）に付設したきらめき防止機能付のハードコート
層の上にスパッタリング方式で、ＳiＯ2層、ＴiＯ2層、
ＳiＯ2層、ＴiＯ2層、ＳiＯ2層の５層をそれぞれλ／４
光学膜厚で順次積層して反射防止層を付設した。
Ｇ３０）に付設したきらめき防止機能付のハードコート
層の上にスパッタリング方式で、ＳiＯ2層、ＴiＯ2層、
ＳiＯ2層、ＴiＯ2層、ＳiＯ2層の５層をそれぞれλ／４
光学膜厚で順次積層して反射防止層を付設した。
【００５３】次に、数平均分子量５０００のパーフルオ
ロポリエーテル基を有するポリエーテル鎖の末端にトリ
メトキシシリル基を結合したシラン系化合物３重量部
を、ヘキサフルオロメタキシレンとパーフルオロヘプタ
ンの混合溶媒１００部に溶解させたコーティング溶液に
前記の反射防止層を浸漬し、２０ｃｍ／分の速度で引き
上げてコーティング処理し、室温下に一昼夜（２４時
間）放置してコーティング層を硬化させて汚染防止層を
形成し、反射防止膜を有する光学素材を得た。
ロポリエーテル基を有するポリエーテル鎖の末端にトリ
メトキシシリル基を結合したシラン系化合物３重量部
を、ヘキサフルオロメタキシレンとパーフルオロヘプタ
ンの混合溶媒１００部に溶解させたコーティング溶液に
前記の反射防止層を浸漬し、２０ｃｍ／分の速度で引き
上げてコーティング処理し、室温下に一昼夜（２４時
間）放置してコーティング層を硬化させて汚染防止層を
形成し、反射防止膜を有する光学素材を得た。
【００５４】実施例２ コーティング層の硬化処理を、６０℃、９５％ＲＨの湿
熱条件下に１０分間放置する方式で行ったほかは、実施
例１に準じて光学素材を得た。
熱条件下に１０分間放置する方式で行ったほかは、実施
例１に準じて光学素材を得た。
【００５５】実施例３ コーティング溶液を蒸着源として、汚染防止層を真空蒸
着方式で形成したほかは実施例１に準じて光学素材を得
た。
着方式で形成したほかは実施例１に準じて光学素材を得
た。
【００５６】実施例４ シラン系化合物として、下記式で表されるフルオロアミ
ノシラン化合物を用いたほかは実施例１に準じて光学素
材を得た。
ノシラン化合物を用いたほかは実施例１に準じて光学素
材を得た。
【００５７】実施例５ シラン系化合物として、下記式で表されるフルオロアミ
ノシラン化合物を用いたほかは実施例１に準じて光学素
材を得た。
ノシラン化合物を用いたほかは実施例１に準じて光学素
材を得た。
【００５８】実施例６ シラン系化合物として、下記式で表されるフルオロアミ
ノシラン化合物を用いたほかは実施例１に準じて光学素
材を得た。
ノシラン化合物を用いたほかは実施例１に準じて光学素
材を得た。
【００５９】実施例７ シラン系化合物として、実施例４のフルオロアミノシラ
ン化合物を用いたほかは実施例２に準じて光学素材を得
た。
ン化合物を用いたほかは実施例２に準じて光学素材を得
た。
【００６０】実施例８ シラン系化合物として、実施例４のフルオロアミノシラ
ン化合物を用いたほかは実施例３に準じて光学素材を得
た。
ン化合物を用いたほかは実施例３に準じて光学素材を得
た。
【００６１】比較例１ 汚染防止層を付設しないほかは実施例１に準じて光学素
材を得た。
材を得た。
【００６２】比較例２ パーフルオロポリエーテル基の数平均分子量が１００の
シラン系化合物を用いて汚染防止層を形成したほかは実
施例２に準じて光学素材を得た。
シラン系化合物を用いて汚染防止層を形成したほかは実
施例２に準じて光学素材を得た。
【００６３】比較例３ パーフルオロポリエーテル基に代えて、数平均分子量が
１０００以上のパーフルオロアルキル基を有するポリシ
ロキサン系化合物を用いて汚染防止層を形成したほかは
実施例２に準じて光学素材を得た。
１０００以上のパーフルオロアルキル基を有するポリシ
ロキサン系化合物を用いて汚染防止層を形成したほかは
実施例２に準じて光学素材を得た。
【００６４】比較例４ シラン系化合物として、下記式で表されるフルオロアミ
ノシラン化合物を用いたほかは実施例１に準じて光学素
材を得た。
ノシラン化合物を用いたほかは実施例１に準じて光学素
材を得た。
【００６５】比較例５ シラン系化合物として、Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4Ｓi（ＯＣＨ3）3
からなるパーフルオロアルキルシランを用いたほかは実
施例１に準じて光学素材を得た。
からなるパーフルオロアルキルシランを用いたほかは実
施例１に準じて光学素材を得た。
【００６６】評価方法 実施例、比較例で得た光学素材について、下記の特性を
調べた。 静止接触角 直径１．５mmの水滴を針先に形成し、それを汚染防止層
の表面に接触させて汚染防止層上に水滴を移し、水滴と
面の静止接触角を接触角計（協和界面化学社製、ＣＡ−
Ｄ型）にて測定した。
調べた。 静止接触角 直径１．５mmの水滴を針先に形成し、それを汚染防止層
の表面に接触させて汚染防止層上に水滴を移し、水滴と
面の静止接触角を接触角計（協和界面化学社製、ＣＡ−
Ｄ型）にて測定した。
【００６７】外観 目視にて、反射干渉色及びその均一性、濁りなどを調べ
た。
た。
【００６８】反射防止性 波長５５０nmの光を１５度の入射角で入射させ、分光光
度計（島津製作所製、ＭＰＳ−２０００）にて絶対鏡面
反射率を測定した。
度計（島津製作所製、ＭＰＳ−２０００）にて絶対鏡面
反射率を測定した。
【００６９】接着力 ポリエステル粘着テープ（日東電工社製、Ｎｏ．３１
Ｂ）を常温で、２ｋｇのローラを一往復させる方式で汚
染防止層に圧着し、２０分間放置後、１８０度ピール値
（剥離速度３００mm／分）を測定した。
Ｂ）を常温で、２ｋｇのローラを一往復させる方式で汚
染防止層に圧着し、２０分間放置後、１８０度ピール値
（剥離速度３００mm／分）を測定した。
【００７０】汚染防止性 額に指を２秒間押し当てて、その指を汚染防止層の表面
に５秒間押し当てることにより指紋を付着させ、目視に
て指紋の付き具合を評価し、かつ付着した指紋をティッ
シュペーパにて拭取り、その除去性を評価した。その評
価基準は下記による。なお実施例４〜８、比較例４，５
については、５人のテスターがそれぞれ試験を行って、
その評価結果を平均した。 良好：指紋が目立たず、かつ容易に拭取れた場合 不良：指紋が目立ち、かつ拭取りにくい場合 不可：指紋が著しく目立ち、かつ拭取れない場合
に５秒間押し当てることにより指紋を付着させ、目視に
て指紋の付き具合を評価し、かつ付着した指紋をティッ
シュペーパにて拭取り、その除去性を評価した。その評
価基準は下記による。なお実施例４〜８、比較例４，５
については、５人のテスターがそれぞれ試験を行って、
その評価結果を平均した。 良好：指紋が目立たず、かつ容易に拭取れた場合 不良：指紋が目立ち、かつ拭取りにくい場合 不可：指紋が著しく目立ち、かつ拭取れない場合
【００７１】耐久性 イソプロピルアルコールを含浸させたペーパで汚染防止
層の表面を２０回擦った後（実施例１〜３、比較例１〜
３）、又はイソプロピルアルコールを含浸させたセルロ
ース製不織布で汚染防止層の表面を３０回擦った後（実
施例４〜８、比較例４，５）、前記汚染防止性試験と同
様に指紋を付着させ、それをティッシュペーパにて拭取
り、その除去性を評価した。なお評価基準は下記によ
る。 良好：拭取れた場合 不良：拭取れない場合
層の表面を２０回擦った後（実施例１〜３、比較例１〜
３）、又はイソプロピルアルコールを含浸させたセルロ
ース製不織布で汚染防止層の表面を３０回擦った後（実
施例４〜８、比較例４，５）、前記汚染防止性試験と同
様に指紋を付着させ、それをティッシュペーパにて拭取
り、その除去性を評価した。なお評価基準は下記によ
る。 良好：拭取れた場合 不良：拭取れない場合
【００７２】前記の結果を表１、表２に示した。
【表１】
【００７３】
【表２】
【００７４】表１，２より、実施例では、指紋等の汚れ
が付着しにくく、付着した汚染が目立ちにくくて、その
汚染をティッシュペーパ等で容易に拭取ることができ、
その効果を長期に持続して、撥水性にも優れていること
がわかる。なお実施例では、耐久性試験の場合にも汚染
防止性に準じた評価で、指紋が目立たずかつ容易に拭取
れる良好の評価であったが、比較例４，５では指紋が著
しく目立ち、かつ拭取れない不可の評価であった。
が付着しにくく、付着した汚染が目立ちにくくて、その
汚染をティッシュペーパ等で容易に拭取ることができ、
その効果を長期に持続して、撥水性にも優れていること
がわかる。なお実施例では、耐久性試験の場合にも汚染
防止性に準じた評価で、指紋が目立たずかつ容易に拭取
れる良好の評価であったが、比較例４，５では指紋が著
しく目立ち、かつ拭取れない不可の評価であった。
【図１】反射防止膜例の断面図
【図２】他の反射防止膜例の断面図
【図３】光学素材例の断面図
【図４】他の光学素材例の断面図
３：反射防止膜 １：反射防止層 ２：汚染防止層 ４：支持基材 ５：ハードコート層
Claims (11)
- 【請求項１】 表面層として二酸化ケイ素系無機層を有
する単層構造又は複層構造の無機系反射防止層の表面
に、粘着テープの接着力が１．０Ｎ／20mm以下であるフ
ッ素含有のシラン系硬化層からなる汚染防止層を有する
ことを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 請求項１において、汚染防止層が厚さ
０．００１〜０．５μm、粘着テープの接着力０．５Ｎ
／20mm以下、水に対する静止接触角８０度以上である反
射防止膜。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、無機系反射防
止層が導電層を有し、表面反射率が３％以下である反射
防止膜。 - 【請求項４】 請求項１〜３において、汚染防止層が数
平均分子量５００以上のパーフルオロポリエーテル基を
含有するシラン系化合物からなる反射防止膜。 - 【請求項５】 請求項１〜３において、汚染防止層が下
記の一般式（３）で表されるフルオロアミノシラン化合
物又はその部分加水分解縮合物の一方又は両方よりなる
硬化層からなる反射防止膜。 （ただし、Ｒ4は水素原子又は低級アルキル基若しくは
アリール基、Ｒ5は低級アルキル基又はアリール基、Ｒ6
は炭素数１〜４の有機基、ＱはＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2又はＣ
Ｈ2ＣＨ2ＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2、ｍは１０〜５０の整
数、ｎは２又は３である。） - 【請求項６】 請求項１〜５において、汚染防止層がシ
ラン系化合物の加水分解により硬化した層からなる反射
防止膜。 - 【請求項７】 請求項１〜６において、二酸化ケイ素系
無機層がＰＶＤ法により形成したものであり、汚染防止
層がスピンコート法、浸漬コート法、カーテンフローコ
ート法又は真空蒸着法の１種又は２種以上の方法で形成
したものである反射防止膜。 - 【請求項８】 請求項１〜７に記載の反射防止膜を支持
基材上に有することを特徴とする光学素材。 - 【請求項９】 請求項８において、反射防止膜と支持基
材の間にハードコート層を有する光学素材。 - 【請求項１０】 請求項９において、ハードコート層が
平均粒径０．５〜５μmのシリカ粒子の含有、又は中心
線平均粗さ０．０１〜０．５μmのエッチング表面によ
りきらめき防止機能を有するものである光学素材。 - 【請求項１１】 請求項８〜１０において、視認装置用
の反射防止フィルタとして用いる光学素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33815697A JP3874513B2 (ja) | 1996-12-19 | 1997-11-20 | 反射防止膜及び光学素材 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35509196 | 1996-12-19 | ||
| JP8-355091 | 1996-12-19 | ||
| JP33815697A JP3874513B2 (ja) | 1996-12-19 | 1997-11-20 | 反射防止膜及び光学素材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10232301A true JPH10232301A (ja) | 1998-09-02 |
| JP3874513B2 JP3874513B2 (ja) | 2007-01-31 |
Family
ID=26576020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33815697A Expired - Lifetime JP3874513B2 (ja) | 1996-12-19 | 1997-11-20 | 反射防止膜及び光学素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3874513B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7261931B2 (en) | 2001-06-29 | 2007-08-28 | Jsr Corporation | Reflection preventing film laminated body and method of manufacturing the laminated body |
| WO2008059844A1 (fr) * | 2006-11-14 | 2008-05-22 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Liquide de revêtement destiné à former un film d'indice de réfraction faible, son procédé de fabrication et élément antiréfléchisseur |
| EP2070967A1 (en) | 2007-12-13 | 2009-06-17 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Per-fluoro polyether compound, antifouling coating composition and film containing same |
| JP2010025066A (ja) * | 2008-07-23 | 2010-02-04 | Aisan Ind Co Ltd | 燃料噴射弁及びその製造方法 |
| JP2013144726A (ja) * | 2012-01-13 | 2013-07-25 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シラン及び該シランを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
| JPWO2019066080A1 (ja) * | 2017-09-29 | 2020-11-26 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルムおよび画像表示装置 |
| WO2022014572A1 (ja) * | 2020-07-13 | 2022-01-20 | 日東電工株式会社 | 防汚層付き光学フィルム |
-
1997
- 1997-11-20 JP JP33815697A patent/JP3874513B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP5262722B2 (ja) * | 2006-11-14 | 2013-08-14 | 日産化学工業株式会社 | 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材 |
| KR100940086B1 (ko) * | 2007-12-13 | 2010-02-02 | 한국화학연구원 | 과불소 폴리에테르 변성 실란 화합물과 이를 함유한 방오성 코팅제 조성물 및 이를 적용한 막 |
| US8147954B2 (en) | 2007-12-13 | 2012-04-03 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Per-fluoro polyether compound, antifouling coating composition and film containing same |
| JP2009144133A (ja) * | 2007-12-13 | 2009-07-02 | Korea Inst Of Chemical Technology | パーフルオロポリエーテル変性シラン化合物、これを含有する防汚性コーティング剤組成物およびこれを適用した膜 |
| EP2070967A1 (en) | 2007-12-13 | 2009-06-17 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Per-fluoro polyether compound, antifouling coating composition and film containing same |
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| JP2013144726A (ja) * | 2012-01-13 | 2013-07-25 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シラン及び該シランを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
| JPWO2019066080A1 (ja) * | 2017-09-29 | 2020-11-26 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルムおよび画像表示装置 |
| JP2023022162A (ja) * | 2017-09-29 | 2023-02-14 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルムおよび画像表示装置 |
| US11968855B2 (en) | 2017-09-29 | 2024-04-23 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical film and image display device |
| WO2022014572A1 (ja) * | 2020-07-13 | 2022-01-20 | 日東電工株式会社 | 防汚層付き光学フィルム |
| JPWO2022014572A1 (ja) * | 2020-07-13 | 2022-01-20 | ||
| KR20230007543A (ko) * | 2020-07-13 | 2023-01-12 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 방오층이 형성된 광학 필름 |
| JP2023010726A (ja) * | 2020-07-13 | 2023-01-20 | 日東電工株式会社 | 防汚層付き光学フィルム |
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| JP3874513B2 (ja) | 2007-01-31 |
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