CN102438822B - 透明导电性层叠体和透明触摸面板 - Google Patents

透明导电性层叠体和透明触摸面板 Download PDF

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Abstract

本发明提供适合与液晶显示器等显示元件组合使用的透明导电性层叠体和具有这种透明导电性层叠体的透明触摸面板。该透明导电性层叠体是在透明有机高分子基板(33)至少一侧的面上顺次层叠硬涂层(HC)(33h)、光学干涉层(32)、透明导电层(31)而成，并且满足以下条件：透明有机高分子基板和HC层的折射率n3和n3h满足下述式、即|n3-n3h|≤0.02；HC层的厚度是1μm～10μm；光学干涉层的厚度是5nm～500nm；透明导电性层的厚度是5nm～200nm；总光线透射率在85％以上；且b*值是-1.0以上且小于1.5。另外，形成具有这种透明导电性层叠体的透明触摸面板。

Description

透明导电性层叠体和透明触摸面板
技术领域
本发明涉及用于透明触摸面板的电极基板的透明导电性层叠体。另外，本发明涉及具有这种透明导电性层叠体的透明触摸面板。
背景技术
已较多使用了实现对话型输入方式作为人机界面(manmachineinterface)之一的透明触摸面板。透明触摸面板根据位置检测方式包括光学方式、超声波方式、电容方式、电阻膜方式等。
这些透明触摸面板使用了在透明有机高分子基板的至少一侧的面上层叠透明导电层等而成的透明导电性层叠体。
其中，作为透明有机高分子基板，通常已使用三乙酰基纤维素(TAC)之类的纤维素系膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜之类的聚酯系膜、聚碳酸酯系膜、非晶性聚烯烃系膜等的具有高透明性的有机高分子基板。
这些透明有机高分子基板由于表面硬度低、易损伤，所以在透明有机高分子基板的表面涂覆被称作硬涂层的树脂层。已知该硬涂层不仅对用于保护透明有机高分子基板的表面有效，而且也对用于填埋存在于透明有机高分子基板表面的微细损伤而使其平坦化有效。对于该硬涂层，已知通过使硬涂层的折射率配合透明有机高分子基板的折射率，从而抑制在硬涂层与透明有机高分子基板的界面处的因反射而产生的干涉斑(专利文献1)。
另外，作为透明导电层，通常使用ITO(氧化铟-锡)之类的透明金属氧化物层。在将这种透明导电性层直接层叠在透明有机高分子基板上时，有时由于因基板与透明导电层的界面以及透明导电层与空气的界面上的反射而产生的光干涉、透明导电层自身的光吸收等，导致透过透明导电性层叠体的光发生着色。例如，对于通常使用的20～30nm左右的膜厚的透明导电性层，有时透射光着色成带有若干茶色的颜色。这样的着色带来显示器显示画面的色调的变化，因而不适合。
为了解决该问题，已采取在透明导电性层与透明有机高分子基板之间插入光学干涉层、利用干涉效果抑制透明导电性层所导致的反射等(专利文献2等)。
在透明触摸面板的位置检测方式中，电阻膜方式结构简单、价格/性能比也良好，所以是最普及的方式。电阻膜方式的透明触摸面板是使在相对的一侧具有透明导电层的2张透明基板保持一定间隔而构成的电子部件，通过用笔或手指按压可动电极基板(视认侧的电极基板)、使其弯曲，与固定电极基板(相对侧的电极基板)接触、接通，从而检测电路检测出位置，形成规定的输入。
另外，在透明触摸面板的位置检测方式中，电容方式由于能够多点检测，所以是未来大有前途的技术。电容方式的透明触摸面板基于在赋予图案的透明导电层与手指等之间的电容变化来检测位置，形成规定的输入。
另外，在电阻膜方式中，以往作为一点式的检测方式，通常是不进行图案赋予的所谓模拟式触摸面板，但为了使多点检测成为可能，也逐渐开发出赋予图案的类型。
像这些与多点检测对应的透明触摸面板那样，在透明触摸面板中使用赋予图案的透明导电性层时，存在以下问题：在具有透明导电性层的部分与没有的部分，显示光的透射率、色调不同，由此可看到透明导电性层的图案而难以看到显示光(以下称为“见骨(骨見え)”)。
为了抑制该见骨，已知有可使用较薄的透明导电性层(专利文献7)；在透明导电性层与其下的硬涂层之间提供具有这些层的折射率的中间折射率的层(专利文献8)等。
应予说明，用于透明导电性层叠体的透明有机高分子基板，由于在操作时如果直接使用则滑动性不足，所以通常导入表面形成了凹凸的易滑动层来提高易滑动性。但是，在表面形成凹凸来改善易滑动性时，表面上的光发生漫反射，引起透明性下降和雾度增大。因此，提供既维持高透明性、低雾度又具有优异易滑动性的有机高分子基板是非常重要的。
作为在透明有机高分子基板上形成易滑动层的一般方法，已知有使树脂中含有具有亚微米程度粒径的微粒，例如二氧化硅、碳酸钙、高岭土等无机粒子和/或有机硅、交联聚苯乙烯等有机粒子，用含有这样的微粒的树脂形成易滑动层(专利文献3和4)。
但是，在使用由含有具有亚微米程度粒径的微粒的树脂形成的易滑动层时，存在由于树脂中所含有的这些微粒而导致光散射，得到的透明有机高分子基板的透明性或雾度特性受损的问题。
对此，可以通过减少树脂所含有的微粒量，从而实现一定程度的透明度和低雾度，但此时有时难以得到充分的易滑动性。
另外，在使用由含有具有亚微米程度粒径的微粒的树脂形成的易滑动层时，当进行书写耐久试验时，有时形成电极基板的透明导电层形成面的突起的粒子发生剥落，在触摸面板内飞散。有时像这样飞散的微粒妨碍可动电极基板和固定电极基板间的导通，使触摸面板的电特性劣化。另外这些飞散的微粒有时会损伤可动电极基板和固定电极基板的透明导电层，使触摸面板的电特性劣化。
为了解决这些问题，例如在专利文献5和6中，提出了在作为透明有机高分子基板的透明基材膜上形成由含有平均粒径1～30nm的超微粒的树脂形成的具有凹凸表面的增粘涂层，在其上设置透明导电层，从而得到透明导电性膜。
其中，通过将具有凹凸表面的增粘涂层配置在透明基材膜上，从而可防止由电阻膜方式触摸面板的膜之间的贴附而引起的粘连。但是，在这里，可以理解的是为了利用平均粒径1～30nm的超微粒而使增粘涂层具有凹凸表面，需要使增粘涂层含有较多量的超微粒，因而增粘涂层具有较大的雾度值。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2003-291274号公报
专利文献2：日本特开2000-301648号公报
专利文献3：日本特开2001-109388号公报
专利文献4：日本特开平06-99559号公报
专利文献5：日本特开2001-283644号公报
专利文献6：日本特开2002-117724号公报
专利文献7：日本特昭64-10507号公报
专利文献8：日本特开平8-240800号公报
发明内容
本发明的目的在于提供适合于与液晶显示器(LCD)、有机EL显示器等显示元件组合使用的透明导电性层叠体。另外，本发明的目的在于提供具有这种透明导电性层叠体的透明触摸面板。
本申请发明人等为了解决上述课题进行了认真研究，结果发现，在透明有机高分子基板的至少一侧的面上顺次层叠硬涂层、光学干涉层、透明导电层而成的透明导电性层叠体，通过减小透明有机高分子基板的折射率与硬涂层的折射率n的差等，从而得到适合于与显示元件组合使用的透明导电性层叠体，进而完成下述<A1>～<A12>的第1方式的本发明。
<A1>一种透明导电性层叠体，在透明有机高分子基板的至少一侧的面上顺次层叠硬涂层、光学干涉层、透明导电层而成，且满足以下(A-a)～(A-f)：
(A-a)上述透明有机高分子基板的折射率n3和上述硬涂层的折射率n3h满足下述式：|n3-n3h|≤0.02，
(A-b)上述硬涂层的厚度是1μm～10μm，
(A-c)上述光学干涉层的厚度是5nm～500nm，
(A-d)上述透明导电性层的厚度是5nm～200nm，
(A-e)总光线透射率在85％以上，并且
(A-f)L＊a＊b＊表色系的色度指数b＊值是-1.0以上且小于1.5。
<A2>如上述<A1>项所述的透明导电性层叠体，其中，进一步满足(A-g)对于从上述透明导电性层叠体的透明导电层侧投射波长450nm～700nm的光时的反射光谱而言，上述透明导电性层叠体上的反射光谱与从上述透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱的差光谱满足以下(A-g1)和(A-g2)：
(A-g1)上述差光谱的绝对值的最大值是3.0％以下，并且
(A-g2)上述差光谱的累计值是-200nm·％～200nm·％。
<A3>如上述<A1>或<A2>项所述的透明导电性层叠体，其中，进一步满足(A-h)上述透明导电性层仅配置于上述光学干涉层上的一部分而形成图案。
<A4>如上述<A1>～<A3>项中任一项所述的透明导电性层叠体，其中，进一步满足(A-i)上述光学干涉层直接层叠在上述硬涂层上。
<A5>如上述<A1>～<A4>项中任一项所述的透明导电性层叠体，其中，光学干涉层含有固化树脂成分和平均一次粒径100nm以下的第1超微粒。
<A6>如上述<A1>～<A5>项中任一项所述的透明导电性层叠体，其中，进一步满足以下(A-p)～(A-r)：
(A-p)上述光学干涉层含有树脂成分和平均一次粒径1nm～100nm的第1超微粒，
(A-q)上述树脂成分和上述第1超微粒含有相同的金属和/或半金属元素，并且
(A-r)在上述光学干涉层中，含有与上述树脂成分相同的金属和/或半金属元素的上述第1超微粒的含量相对于上述树脂成分100质量份是0.01质量份～3质量份。
<A7>如上述<A6>所述的透明导电性层叠体，其中，每50μm见方的上述透明导电层具有10个～300个高度为30nm～200nm的突起。
<A8>如上述<A6>或<A7>项所述的透明导电性层叠体，其中，上述透明导电层的表面粗糙度Ra是20nm以下。
<A9>如上述<A6>～<A8>项中任一项所述的透明导电性层叠体，其中，雾度是2％以下。
<A10>如上述<A6>～<A9>项中任一项所述的透明导电性层叠体，其中，上述金属和/或半金属元素是选自Al、Bi、Ca、Hf、In、Mg、Sb、Si、Sn、Ti、Y、Zn和Zr中的一个或多个元素。
<A11>一种电阻膜方式的透明触摸面板，是至少在单面设有透明导电层的2张透明电极基板按照各自的透明导电层彼此相对的方式配置而构成的透明触摸面板，具有上述<A1>～<A10>项中任一项所述的透明导电性层叠体作为至少一方的透明电极基板。
<A12>一种电容方式的透明触摸面板，具有上述透明导电性层仅配置于上述光学干涉层上的一部分而形成图案的上述<A1>～<A10>项中任一项所述的透明导电性层叠体。
<A13>如<A11>或<A12>所述的透明触摸面板，其中，在上述透明触摸面板的观察侧，偏振片直接或介由其它基材层叠在上述透明导电性层叠体上。
另外，本申请发明人等为了解决上述课题进行了研究，结果发现，在透明有机高分子基板的至少一侧的面上顺次层叠固化树脂层、透明导电层而成的透明导电性层叠体中，通过使从透明导电层侧投射光时的反射光谱满足特定条件，从而能够抑制在透明触摸面板中可看到透明导电性层的图案而难以看到显示光的问题、即见骨，进而完成了下述<B1>～<B14>的第2方式的本发明。
<B1>一种透明导电性层叠体，是在透明有机高分子基板的至少一侧的面上顺次层叠固化树脂层、透明导电层而成的透明导电性层叠体，
对于从上述透明导电性层叠体的透明导电层侧投射波长450nm～700nm的光时的反射光谱而言，上述透明导电性层叠体上的反射光谱与从上述透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱的差光谱满足以下(B-a1)和(B-a2)：
(B-a1)上述差光谱的绝对值的最大值是3.0％以下，并且
(B-a2)上述差光谱是累计值是-200nm·％～200nm·％。
<B2>如上述<B1>项所述的透明导电性层叠体，其中，在将上述透明有机高分子基板的折射率设为n3，将上述固化树脂层的厚度和折射率分别设为d2(nm)和n2，且将上述透明导电层的厚度和折射率分别设为d1(nm)和n1时，进一步满足以下(B-b1)～(B-b3)：
(B-b1)n1＞n2＞n3，
(B-b2)0.44＜n2/(n1+n3)＜0.49，并且
(B-b3)245＜n2d2/(n1d1)-0.12＜275。
<B3>如上述<B1>或<B2>项所述的透明导电性层叠体，其中，进一步满足以下(B-c)～(B-f)：
(B-c)上述固化树脂层含有树脂成分和平均一次粒径1nm～100nm的第1超微粒，
(B-d)上述树脂成分和上述第1超微粒含有相同的金属和/或半金属元素，
(B-e)在上述固化树脂层中，上述第1超微粒的含量相对于上述树脂成分100质量份是0.01质量份～3质量份，并且
(B-f)上述固化树脂层的厚度是0.01μm～0.5μm。
<B4>如上述<B3>项所述的透明导电性层叠体，其中，(B-g)上述固化树脂层进一步含有平均一次粒径1nm～100nm且折射率比上述树脂成分大的第2超微粒。
<B5>如上述<B4>项所述的透明导电性层叠体，其中，上述固化树脂层通过含有上述第2超微粒，从而与上述固化树脂层不含第2超微粒的情况相比，上述固化树脂层的折射率增加0.01以上。
<B6>如上述<B3>～<B5>项中任一项所述的透明导电性层叠体，其中，每50μm见方的上述透明导电层具有10个～300个高度为30nm～200nm的突起。
<B7>如上述<B3>～<B6>项中任一项所述的透明导电性层叠体，其中，上述透明导电层的表面粗糙度Ra是20nm以下。
<B8>如上述<B1>～<B7>项中任一项所述的透明导电性层叠体，其中，总光线透射率在85％以上，且雾度在2％以下。
<B9>如上述<B3>～<B8>项中任一项所述的透明导电性层叠体，其中，上述金属和/或半金属元素是选自Al、Bi、Ca、Hf、In、Mg、Sb、Si、Sn、Ti、Y、Zn和Zr中的一个或多个元素。
<B10>如上述<B1>～<B9>中任一项所述的透明导电性层叠体，其中，在上述透明有机高分子基板与上述固化树脂层之间含有追加的固化树脂层。
<B11>如上述<B10>的透明导电性层叠体，其中，上述追加的固化树脂层的表面粗糙度Ra是20nm以上且小于500nm。
<B12>如上述<B3>～<B11>项中任一项所述的透明导电性层叠体，其中，在上述透明导电层与上述固化树脂层之间具有粘接层，且上述粘接层、固化树脂层的树脂成分、以及固化树脂层的超微粒均含有相同的金属和/或半金属元素。
<B13>一种透明触摸面板，其特征在于，是配置有1张以上透明电极基板的电容方式的透明触摸面板，所述透明电极基板至少在单面设有透明导电层；使用上述<B1>～<B10>和<B12>项中任一项所述的透明导电性层叠体作为至少一个透明电极基板。
<B14>一种透明触摸面板，其特征在于，是至少在单面设有透明导电层的2张透明电极基板按照各自的透明导电层彼此相对的方式配置而构成的电阻膜方式的透明触摸面板，使用上述<B1>～<B12>项中任一项所述的透明导电性层叠体作为至少一方的透明电极基板。
<B15>如<B13>或<B14>所述的透明触摸面板，其中，在上述透明触摸面板的观察侧，偏振片直接或介由其它基材层叠在上述透明导电性层叠体上。
依照本发明，可提供适合于与显示元件组合使用的透明导电性层叠体。另外，依照本发明，可提供使用了这种透明导电性层叠体的透明触摸面板，尤其是电阻膜方式或电容方式的透明触摸面板。
更具体而言，第1方式的本发明透明导电性层叠体是在透明有机高分子基板的至少一侧的面上顺次层叠硬涂层、光学干涉层、透明导电层而成，其中由于透明有机高分子基板的折射率与硬涂层的折射率的差小等，所以可以具有适合于与显示元件组合使用的色调。
另外，第2方式的本发明透明导电性层叠体，在使用该透明导电性层叠体的透明触摸面板中，能够抑制可看到透明导电性层的图案而难以看到显示光的问题、即见骨。
附图说明
[图1]是用于说明第1方式的本发明透明导电性层叠体的图。
[图2]是用于说明图1的第1方式的本发明透明导电性层叠体中的干涉的图。
[图3]是用于说明以往的透明导电性层叠体的图。
[图4]是用于说明图3的以往的透明导电性层叠体中的干涉的图。
[图5]是用于说明以往的透明导电性层叠体的图。
[图6]是用于说明图5的以往的透明导电性层叠体中的干涉的图。
[图7]是表示具有第1方式的本发明透明导电性层叠体的透明触摸面板的例子的图。
[图8]是用于说明第1方式的本发明透明导电性层叠体的图。
[图9]是用于说明图8的第1方式的本发明透明导电性层叠体中的干涉的图。
[图10]是用于说明以往的透明导电性层叠体的图。
[图11]是用于说明图10的以往的透明导电性层叠体中的干涉的图。
[图12]是表示第2方式的本发明透明导电性层叠体的例子的图。
[图13]是实施例A3的透明导电性层叠体、以及从该透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱。
[图14]是比较例A5的透明导电性层叠体、以及从该透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱。
[图15]是图13和图14所示的各反射光谱的差光谱。
[图16]是实施例B1的透明导电性层叠体、以及从透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱。
[图17]是比较例B1的透明导电性层叠体、以及从透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱。
[图18]是图16和图17所示的各反射光谱的差光谱。
[图19]是表示实施例B16中得到的触摸面板的结构的图。
[图20]是关于式(B-b1)，表示实施例和比较例的透明导电性层叠体的各层的厚度和折射率的关系的图。
[图21]是关于式(B-b2)，表示实施例和比较例的透明导电性层叠体的各层的厚度和折射率的关系的图。
[图22]是表示用AFM观察参考例1的透明导电性层叠体表面形态的结果的图。
具体实施方式
以下，说明本发明的实施方式，但本发明不限定于以下的说明。
《第1方式的本发明》
如上所述，以往，在透明有机高分子基板的表面提供被称为硬涂层的树脂层。即如图3所示，在透明有机高分子基板33的至少一侧的面上顺次层叠硬涂层33h和透明导电层31来提供透明导电性层叠体30a。
但是，如专利文献1所述，已知该硬涂层33h由于透明有机高分子基板33表面的反射33R与透明导电性层31表面的反射31R的干涉而产生干涉斑。该干涉的效果例如如图4所示。
另外，如上所述，以往，为了达成对透明导电层所导致的反射和透射光着色的抑制，已采取在透明导电性层与透明有机高分子基板之间插入光学干涉层。因此，在使用硬涂层的方式中，当进一步使用光学干涉层来抑制透明导电层所导致的反射和透射光的着色时，如图5所示，可想到在透明有机高分子基板33的至少一侧的面上顺次层叠硬涂层33h、光学干涉层32、透明导电层31来提供透明导电性层叠体30b。
对于该方式，例如如图6所示，由光学干涉层抑制反射，由此可以提高整体的透射率。但是，关于对透明导电层导致的透射光着色的抑制、即对透射光的色调的调节，则因硬涂层导致的干涉而难以调节各个波长的透射率，由此有时无法充分地抑制透明导电层所导致的透射光着色。应予说明，在图6表示的状态中，为了抑制由透明导电层导致的透射光着色而得到优选的色调，需要设计光学干涉层以提高470nm左右波长的光的透射率。
对此，在第1方式的本发明透明导电性层叠体中，如图1所示，在透明有机高分子基板33的至少一侧的面上顺次层叠硬涂层33h、光学干涉层32、透明导电层31而成，进而通过使硬涂层33h的折射率与透明有机高分子基板33的折射率的差充分小，从而可抑制硬涂层与透明有机高分子基板的界面处的反射。根据该本发明透明导电性层叠体，可以达成基于光学干涉层的透射光色调的调节和透射率的提高。将该第1方式的本发明透明导电性层叠体的干涉效果示于图2。
<硬涂层>
第1方式的本发明透明导电性层叠体在透明有机高分子基板的至少一侧的面上具有硬涂层、尤其是固化树脂系硬涂层。该硬涂层的厚度是1μm～10μm，也可以是1μm～5μm或1μm～3μm。
其中，该硬涂层的折射率n3h相对于透明有机高分子基板的折射率n3满足下述式，即|n3-n3h|≤0.02、尤其是|n3-n3h|≤0.01。
在波长是550nm时折射率满足上述式。另外，优选在波长是500nm～600nm的范围时满足上述式。特别优选在400nm～700nm的范围时满足上述式。
如上所述，该硬涂层通过满足上述条件，从而抑制了硬涂层与透明有机高分子基板的界面处的反射，由此，可以达成基于光学干涉层的透射光色调的调节和透射率的提高。
只要该硬涂层满足上述条件，则可以用材料、尤其是热固化树脂、活性能量射线固化树脂等来形成。其中，使用紫外线作为活性能量射线的紫外线固化型树脂的生产率、经济性优异，因而优选。
作为用于硬涂层的紫外线固化型树脂，例如可举出1，6-己二醇二丙烯酸酯、1，4-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、二丙烯酸新戊二醇酯、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、聚(丁二醇)二丙烯酸酯、四甘醇二甲基丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、三异丙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯以及双酚A二甲基丙烯酸酯之类的二丙烯酸酯类；三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇单羟基三丙烯酸酯以及三羟甲基丙烷三乙氧基三丙烯酸酯之类的三丙烯酸酯类；季戊四醇四丙烯酸酯以及二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯之类的四丙烯酸酯类；以及二季戊四醇(单羟基)五丙烯酸酯之类的五丙烯酸酯类。作为用于硬涂层的紫外线固化型树脂，除此之外，也可以使用5官能以上的多官能丙烯酸酯。这些多官能丙烯酸酯可以单独使用1种，或混合2种以上同时使用。另外，在这些丙烯酸酯类中，可以添加使用1种或2种以上的光引发剂、光敏化剂、流平剂、金属氧化物或丙烯酸成分等形成的微粒或超微粒等第三成分。
另外，特别地，硬涂层所含的固化树脂成分也可以是使用专利文献1所示的化合物而得到的成分。
即，硬涂层所含的固化树脂成分可以是利用活性能量照射和/或热使含有分子结构中具有芴骨架的单体的涂覆组合物固化从而形成的成分。另外，具有芴骨架的该单体可以是下述式(b)表示的化合物、且可以通过活性能量射线照射硬涂层发生固化的单体。
(在上述式(b)中，R1～R2各自独立地是碳原子数2～6的二价烃基，R3～R10各自独立地是选自氢原子、卤原子和碳原子数1～6的一价烃基中的至少一种基团)。
<光学干涉层>
第1方式的本发明透明导电性层叠体中使用的光学干涉层可以按照以下的方式进行选择：通过与其下的层、尤其是硬涂层之间的界面上的反射来得到光学性干涉，由此在透明导电性层叠体中可得到期望的总光线透射率和L＊a＊b＊表色系的色度指数b＊值。该光学干涉层的厚度是5nm～500nm、优选是5～300nm、更优选是5～200nm、进一步优选是5～100nm。另外，该光学干涉层特别是由树脂构成的树脂系光学干涉层。
光学干涉层可以按照以下的方式进行选择：为了通过与其下的层、尤其是硬涂层之间的界面上的反射来得到光学性干涉，优选光学干涉层与其下的层的折射率差是0.05以上，更优选是0.10以上，进一步优选是0.15以上。另外，特别地，光学干涉层直接层叠在硬涂层上。
<光学干涉层-光程长>
如上所述，光学干涉层与硬涂层界面上的反射可以用于得到消除透明导电层所导致的反射和着色的干涉效果。
其中，当空气的折射率n0、透明导电性层的折射率n1、光学干涉层的折射率n2、硬涂层的折射率n3h满足n1＞n3h＞n2＞n0的关系时，对于透明导电性层表面上的反射和硬涂层表面上的反射，相位均偏移半波长。因此，对于从透明导电层侧入射的光而言，优选透明导电层表面上的反射与硬涂层表面上的反射的光程差是打算利用干涉来消除的光的波长的约n+1/2倍(n是0或正整数)。
即，例如如果要得到消除透明导电层表面上对波长470nm的光的反射的干涉效果，硬涂层表面上反射的路径的光程长可以是470nm×(n+1/2)-70nm～470nm×(n+1/2)+70nm的正范围、即例如165nm～345nm或635nm～775nm，优选是470nm×(n+1/2)-50nm～470nm×(n+1/2)+50nm的正范围、即例如185nm～285nm或655nm～755nm，更优选是470nm×(n+1/2)-20nm～470nm×(n+1/2)+20nm的正范围、即例如215nm～255nm或685nm～725nm。
另外，例如如果要得到消除透明导电层表面上对波长550nm的光的反射的干涉效果，硬涂层表面上反射的路径中的光程差可以是550nm×(n+1/2)-80nm～550nm×(n+1/2)+80nm的正范围，优选是550nm×(n+1/2)-50nm～550nm×(n+1/2)+50nm的正范围，更优选是550nm×(n+1/2)-20nm～550nm×(n+1/2)+20nm的正范围。
另外，当空气的折射率n0、透明导电性层的折射率n1、光学干涉层的折射率n2、硬涂层的折射率n3h满足n1＞n2＞n3h＞n0的关系时，对于透明导电性层表面上的反射，相位偏移半波长，且对于硬涂层表面上的反射，相位不偏移。因此，对于从透明导电层侧入射的光而言，优选透明导电层表面上的反射与硬涂层表面上的反射的光程差是打算利用干涉来消除的光的波长的约n倍(n是0或正整数)。
即，例如如果要得到消除透明导电层表面上对波长470nm的光的反射的干涉效果，光学干涉层表面上反射的路径中的光程差可以是470nm×n-70nm～470nm×n+70nm的正范围、即例如0nm～70nm或400nm～540nm，优选是470nm×n-50nm～470nm×n+50nm的正范围、即例如0nm～50nm或420nm～520nm，更优选是470nm×n-20nm～470nm×n+20nm的正范围、即例如0nm～20nm或450nm～490nm的范围。
另外，例如如果要得到消除透明导电层表面上对波长550nm的光的反射的干涉效果，光学干涉层表面上反射的路径中的光程差可以是550nm×n-80nm～550nm×n+80nm的正范围，优选是550nm×n-50nm～550nm×n+50nm的正范围，更优选是550nm×n-20nm～550nm×n+20nm的正范围。
依照上述干涉效果，可以调整透明导电性层叠体的色调。例如如上述计算例所示，通过利用干涉效果来消除470nm左右的波长的光(蓝色光)的反射，可以调节L＊a＊b＊表色系的色度指数b＊值，将其控制在优选-1.0～1.5、更优选-0.5～1.5、进一步优选0～1.5的范围。另外，通过利用干涉效果来消除作为可见光中心波长的550nm左右的波长的光的反射，可以改善透明导电性层叠体的透射率。
其中，针对本发明，b＊值是JISZ8729所定义的L＊a＊b＊表色系的色度指数b＊值，是根据JISZ8722号、以透射模式测量的值。应予说明，在b＊值的测定中，采用日本工业标准Z8720所规定的标准光D65作为光源，在2度视野的条件下进行测定。
作为参考，透明导电性层叠体的各层表面上的反射率、以及这些反射时的光程长可以用图5并如下所示进行计算。应予说明，在该图5中，以往的透明导电性层叠体30b是在透明有机高分子基板33(厚度：d3、折射率：n3)的至少一侧的面上顺次层叠硬涂层33h(厚度：d3h、折射率：n3h)、光学干涉层32(厚度：d2、折射率：n2)、透明导电层31(厚度：d1、折射率：n1)而成。
透明导电层31表面上的反射31R的反射率R1、光学干涉层32表面上的反射32R的反射率R2、硬涂层33h表面上的反射33hR的反射率R3h以及透明有机高分子基板33表面上的反射33R的反射率R3各自通常可由下述式来计算(n0：空气的折射率)。
R1＝(n0-n1)2/(n0+n1)2(式1)
R2＝(n1-n2)2/(n1+n2)2(式2)
R3h＝(n2-n3h)2/(n2+n3h)2(式3h)
R3＝(n3h-n3)2/(n3h+n3)2(式3)
另外，透明导电层31表面上的反射31R与硬涂层33h表面上的反射33hR的光程差D33hR-31R、以及透明导电层31表面上的反射31R与透明有机高分子基板33表面上的反射33R的光程差D33R-31R各自可由下述式来计算。
D33hR-31R＝(d1×n1+d2×n2)×2(式4)
D33R-31R＝(d1×n1+d2×n2+d3h×n3h)×2(式5)
<用途>
第1方式的本发明透明导电性层叠体可用作透明触摸面板的透明电极基板。特别地，本发明的透明导电性层叠体，是至少在单面设有透明导电层的2张透明电极基板按照各自的透明导电层彼此相对的方式配置而构成的电阻膜方式透明触摸面板，可用作可动和/或固定电极基板用透明电极基板。
如图7所示，该第1方式的本发明透明导电性层叠体的一种方式是在透明有机高分子基板(16)的至少一侧的面上顺次层叠光学干涉层(15)和透明导电层(14)而形成的透明导电性层叠体(14、15、16)。在该图1表示的本发明透明导电性层叠体的一种方式中，本发明透明导电性层叠体(14、15、16)可以与具有透明导电层(12)的玻璃板这样的其它基板(11)按照各自的透明导电层(12、14)彼此相对的方式配置，在它们之间配置间隔件(13)，从而形成电阻膜方式的透明触摸面板(20)。
另外特别地，第1方式的本发明透明导电性层叠体也适合用作电容方式的触摸面板的透明电极基板。此时，透明导电性层叠体的透明导电性层仅配置于光学干涉层上的一部分而形成图案。如上所述，对于该用途，在以往的透明导电性层中，存在以下问题：有透明导电性层的部分和没有的部分的显示光的透射率不同，由此可看到透明导电性层的图案而很难看到显示光(“见骨”)。
对此，在第1方式的本发明透明导电性层叠体中，通过透明有机高分子基板的折射率与硬涂层的折射率的差小，且存在光学干涉层，从而可抑制该见骨，特别对于从透明导电性层叠体的透明导电层侧投射波长450nm～700nm的光时的反射光谱而言，通过透明导电性层叠体的反射光谱与从透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱的差光谱满足(A-g1)和(A-g2)，从而可以抑制见骨的问题：
(A-g1)上述差光谱的绝对值的最大值在3.0％以下、优选是在2.0以下，并且
(A-g2)上述差光谱的累计值是-200nm·％～200nm·％，优选是-170nm·％～170nm·％，更优选是-150nm·％～150nm·％。
以上，例如可用图8～11进行说明。
即，以往的结构中希望利用光学干涉层来消除该见骨时，导电性层叠体可以具有如图10所示的结构。其中，在该导电性层叠体30c中，在透明有机高分子基板33的至少一侧的面上顺次层叠硬涂层33h、光学干涉层32，透明导电层31仅配置于光学干涉层32上的一部分而形成图案。
此时，不存在透明导电性层31的部分中的透明有机高分子基板33表面上的反射33R’和硬涂层33h表面上的反射33hR’与存在透明导电性层31的部分中的对应的反射33R和反射33hR相比，均是仅不存在透明导电性层31的部分的光程长度变短。
将该图10所示结构中不存在透明导电性层31的部分、和存在透明导电性层31的部分的干涉效果示于图11。另外，将此时的干涉效果之差也示于图11。从该图11可知，在图10表示的结构中，干涉效果之差随着波长而变化，因此以颜色或亮度不同的形式观察到不存在透明导电性层31的部分和存在透明导电性层31的部分，因而发生见骨。
对此，如图8所示，在本发明结构的导电性层叠体中，在透明有机高分子基板33的至少一侧的面上顺次层叠硬涂层33h、光学干涉层32，透明导电层31仅配置于光学干涉层上的一部分而形成图案。另外，在本发明结构的导电性层叠体中，透明有机高分子基板33的折射率与硬涂层33h的折射率的差小，因此实质上不发生透明有机高分子基板33和硬涂层33h的界面上的反射。
此时，不存在透明导电性层31的部分中的透明有机高分子基板33表面上的反射33R’和硬涂层33h表面上的反射33hR’与存在透明导电性层31的部分中的对应的反射33R和反射33hR相比，均是仅不存在透明导电性层31的部分的光程长度变短。
将该图8表示的结构中的不存在透明导电性层31的部分、以及存在透明导电性层31的部分的干涉效果示于图9。另外，将此时的干涉效果之差也示于图9。从该图9中可知，在图8表示的结构中，随着波长的变化，干涉效果之差的变化平稳，因此通过减小该干涉效果之差的绝对值，且减小可见光区域中的干涉效果的累计值，从而能够抑制见骨。
另外，第1方式的本发明透明导电性层叠体适合用作在透明触摸面板的观察侧直接或介由其它基材层叠偏振片来控制透明电极基板的相位差、从而降低触摸面板内的反射率的所谓内置型触摸面板用透明电极基板，例如内置型电阻膜方式或电容方式的触摸面板用透明电极基板。
<层叠顺序>
在第1方式的本发明透明导电性层叠体中，透明导电层、任意的金属化合物层、光学干涉层、硬涂层、以及任意追加的硬涂层的层叠顺序只要是在透明有机高分子基板的至少一侧的面上顺次层叠硬涂层、光学干涉层、透明导电层，由此根据用途完成期待实现的功能，则没有特别地限定。例如，将本发明的透明导电性层叠体用作触摸面板用基板时，如果将透明导电层设为A、将金属化合物层设为B、将光学干涉层设为C、将硬涂层设为Dh、将透明有机高分子基板设为D、将追加的硬涂层设为E，则可以按照A/C/Dh/D、A/C/Dh/D/E、A/C/Dh/D/C、A/C/Dh/D/C、A/C/Dh/D/E、A/C/Dh/D/E/C、A/B/C/Dh/D、A/B/C/Dh/D/E、A/B/C/Dh/D/C、A/B/C/Dh/D/C、A/B/C/Dh/D/E、A/B/C/Dh/D/E/C的方式进行层叠。
《第2方式的本发明》
第2方式的本发明透明导电性层叠体是在透明有机高分子基板的至少一侧的面上顺次层叠固化树脂层、透明导电层而成的透明导电性层叠体。如图12所示，该本发明的透明导电性层叠体的一种方式是在透明有机高分子基板133的至少一侧的面上顺次层叠固化树脂层132和透明导电层131而成的透明导电性层叠体130。
另外，在第2方式的本发明透明导电性层叠体中，对于从透明导电性层叠体的透明导电层侧投射波长450nm～700nm的光时的反射光谱而言，透明导电性层叠体上的反射光谱与从透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱的差光谱满足以下(B-a1)和(B-a2)：
(B-a1)上述差光谱的绝对值的最大值是3.0％以下，优选是2.0以下，并且
(B-a2)上述差光谱是累计值是-200nm·％～200nm·％，优选是-170nm·％～170nm·％，更优选是-150nm·％～150nm·％。
在第2方式的本发明透明导电性层叠体中，通过透明导电性层叠体上的反射光谱与从透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱的差光谱满足(B-a1)和(B-a2)，从而能够抑制见骨问题。
例如通过在将透明有机高分子基板的折射率设为n3，将上述固化树脂层的厚度和折射率分别设为d2(nm)和n2，且将上述透明导电层的厚度和折射率分别设为d1(nm)和n1时，该差光谱进一步满足以下(B-b1)～(B-b3)，从而能够达成：
(B-b1)n1＞n2＞n3，
(B-b2)0.44＜n2/(n1+n3)＜0.49、优选0.45＜n2/(n1+n3)＜0.48，并且
(B-b3)245＜n2d2/(n1d1)-0.12＜275、优选255＜n2d2/(n1d1)-0.12＜265。
<追加的固化树脂层>
本发明的透明导电性层叠体根据用途可以进一步具有单独或多个追加的固化树脂层。该追加的固化树脂层可以配置在本发明的透明导电性层叠体的任意位置，即可以配置在构成本发明透明导电性层叠体的透明有机高分子基板、固化树脂层、以及透明导电层的任意层之间或之上。因此，该追加的固化树脂层可以是构成透明有机高分子基板表面的所谓的硬涂层、尤其可以是不含有微粒等的透明硬涂层。
追加的固化树脂层可以用热固化树脂、活性能量射线固化树脂等形成。其中，使用紫外线作为活性能量射线的紫外线固化型树脂的生产率、经济性优异，因而优选。
作为用于追加的固化树脂层的紫外线固化型树脂，例如可举出1，6-己二醇二丙烯酸酯、1，4-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、聚(丁二醇)二丙烯酸酯、四甘醇二甲基丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、三异丙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯以及双酚A二甲基丙烯酸酯之类的二丙烯酸酯类；三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇单羟基三丙烯酸酯以及三羟甲基丙烷三乙氧基三丙烯酸酯之类的三丙烯酸酯类；季戊四醇四丙烯酸酯以及二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯之类的四丙烯酸酯类；以及二季戊四醇(单羟基)五丙烯酸酯之类的五丙烯酸酯类。作为用于追加的固化树脂层的紫外线固化型树脂，除此之外，也可以使用5官能以上的多官能丙烯酸酯。这些多官能丙烯酸酯可以单独使用1种、或混合2种以上同时使用。另外，在这些丙烯酸酯类中，可以添加使用1种或2种以上的光引发剂、光敏化剂、流平剂、金属氧化物或丙烯酸成分等形成的微粒或超微粒等第三成分。
为了对本发明的透明导电性层叠体赋予抗牛顿环功能，追加的固化树脂层可以形成凹凸。作为形成凹凸的方法，可以使用已提出的各种方法。即，例如可举出在追加的固化树脂层内添加具有与膜厚同程度的粒子系的填充物的方法(特开平10-323931号公报)、利用纳米粒子形成凹凸的方法(特开2004-351744号公报)、利用多种固化成分所产生的相分离来形成凹凸的方法(特开2009-123685号公报)等。其中，添加填充物的方法，在用作电阻膜式的触摸面板时，可能在使用中发生填充物从透明导电性层叠体的脱落，结果损伤透明电极，从而导致触摸面板的寿命下降，所以优选利用纳米粒子的凝聚来形成凹凸的方法、利用基于多种固化成分的相分离来形成凹凸的方法。
<用途>
第2方式的本发明透明导电性层叠体也特别适合用作电容方式的触摸面板用透明电极基板。因此，本发明的透明导电性层叠体，特别在配置1张以上的至少在单面设有透明导电层的透明电极基板的电容方式透明触摸面板中，可用作至少一个透明电极基板。此时，透明导电性层叠体的透明导电性层可以仅配置于固化树脂层上的一部分而形成图案。
另外，第2方式的本发明透明导电性层叠体也特别适合用作电阻膜方式的触摸面板用透明电极基板。因此，第2方式的本发明透明导电性层叠体，特别在至少在单面设有透明导电层的2张透明电极基板按照各自的透明导电层彼此相对的方式配置而构成的电阻膜方式透明触摸面板中，可用作至少一个透明电极基板。此时，透明导电性层叠体的透明导电性层可以仅配置于固化树脂层上的一部分而形成图案。
另外，第2方式的本发明透明导电性层叠体可适合用作在透明触摸面板的观察侧直接或介由其它基材层叠偏振片来控制透明电极基板的相位差、从而降低触摸面板内的反射率的所谓内置型触摸面板用透明电极基板，例如内置型电阻膜方式或电容方式触摸面板用透明电极基板。
<层叠顺序>
在第2方式的本发明透明导电性层叠体中，透明导电层、任意的金属化合物层、固化树脂层、以及任意的追加的固化树脂层的层叠顺序只要是在透明有机高分子基板的至少一侧的面上顺次层叠固化树脂层、透明导电层，由此根据用途完成期待实现的功能，则没有特别地限定。例如将本发明的透明导电性层叠体用作触摸面板用基板时，当将透明导电层设为A、金属化合物层设为B、固化树脂层设为C、透明有机高分子基板设为D、追加的固化树脂层设为E时，可以按照A/C/D、A/C/D/E、A/C/D/C、A/C/E/D/C、A/C/E/D/E、A/C/E/D/E/C、A/B/C/D、A/B/C/D/E、A/B/C/D/C、A/B/C/E/D/C、A/B/C/E/D/E、A/B/C/E/D/E/C的方式进行层叠。
《透明有机高分子基板》
第1和第2方式的本发明透明导电性层叠体中用到的透明有机高分子基板可以是任意的透明有机高分子基板，尤其是光学领域中使用的耐热性、透明性等优异的透明有机高分子基板。
作为第1和第2方式的本发明透明导电性层叠体中用到的透明有机高分子基板，例如可举出由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物；聚碳酸酯系聚合物；二乙酰基纤维素、三乙酰基纤维素等纤维素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物等的透明聚合物形成的基板。另外，作为用于本发明透明导电性层叠体的透明有机高分子基板，也可举出由聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物；聚乙烯、聚丙烯、具有环状或冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物等烯烃系聚合物；氯乙烯系聚合物；以尼龙或芳香族聚酰胺为代表的酰胺系聚合物等的透明聚合物形成的基板。另外，作为用于本发明透明导电性层叠体的透明有机高分子基板，也可举出由酰亚胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯基醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯醇缩丁醛系聚合物、烯丙酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、环氧系聚合物、以及上述聚合物的混合物等的透明聚合物形成的基板等。
对于第1和第2方式的本发明透明导电性层叠体的用途而言，在这些透明有机高分子基板中，可以根据用途适当选择光学性双折射少的基板，或将作为双折射与膜厚度的积的相位差控制在可见光的波长的1/4或1/2左右的基板(称为“λ/4膜”或“λ/2膜”)，以及完全不控制双折射的基板。作为这里所说根据用途进行适当选择的情况，可举出如下情况，例如使用本发明的透明导电性层叠体作为具备用于液晶显示器的偏振片或相位差膜、有机EL显示器的防反射用偏振片或相位差膜等功能的所谓内置型触摸面板之类的利用直线偏光、椭圆偏光、圆偏光等偏光实现功能的显示器部件。
可适当决定透明高分子基板的膜厚，但通常从强度、操作性等作业性等方面考虑，是10～500μm左右，特别是优选20～300μm、更优选30～200μm。
《光学干涉层/固化树脂层》
<光学干涉层/固化树脂层-材料以及制造方法>
作为第1方式的本发明光学干涉层、尤其是树脂系光学干涉层，以及第2方式的固化树脂层的形成方法，特别优选使用湿式法的形成，例如可以使用刮胶刀(doctorknife)、棒涂机、凹版辊涂机、帘式涂布机、刮刀(knife)涂布机、旋涂法、喷涂法、浸渍法等公知的所有方法。对于具体的树脂系光学干涉层/固化树脂层，例如可参照专利文献2的记载。
即，这些树脂系光学干涉层/固化树脂层可以由以微型凹版法、迈尔棒涂布法、直接凹版涂布法等为代表的各种辊涂覆法、刮刀涂布法、帘式涂布法、旋涂法、喷涂法等湿式涂覆法，以及它们的并用来制造。
作为该树脂系光学干涉层/固化树脂层，从得到高的生产率的观点看，特别优选使用尤其是利用湿式涂覆法的树脂系光学干涉层/固化树脂层，另外，在利用湿式涂覆的树脂系光学干涉层/固化树脂层中，从层的机械强度、稳定性、与透明导电层和基板等的密合性等优异的观点出发，最优选使用由金属醇盐尤其是钛、锆或硅的醇盐形成的树脂系光学干涉层/固化树脂层。其中，钛和锆的醇盐的树脂系光学干涉层/固化树脂层发挥作为折射率达到约1.6以上、有时达到约1.7以上的高折射率层的功能，硅醇盐的树脂系光学干涉层/固化树脂层发挥作为折射率约为1.5以下的低折射率层的功能。
作为钛醇盐，例如可例示四异丙氧基钛、原钛酸四正丙酯等。另外，作为硅醇盐，例如可例示四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷等。
应予说明，树脂系光学干涉层/固化树脂层不仅可含有固化树脂成分，而且可进一步以能够配合的任意量含有平均一次粒径100nm以下的超微粒来调节折射率。作为该超微粒的材料，涉及表面具有细微突起的树脂系光学干涉层/固化树脂层，可举出如下所述的材料。
<表面具有细微突起的光学干涉层/固化树脂层>
在第1方式的本发明的透明导电性层叠体的一种方式中，(A-p)光学干涉层含有树脂成分和平均一次粒径1nm～100nm以下的第1超微粒，(A-q)树脂成分和第1超微粒含有相同的金属和/或半金属元素，并且满足(A-r)在光学干涉层中，含有与树脂成分相同的金属和/或半金属元素的第1超微粒的含量相对于树脂成分100质量份是0.01质量份～3质量份。
在第2方式的本发明透明导电性层叠体的一种方式中，满足：(B-c)固化树脂层含有树脂成分和平均一次粒径1nm～100nm的第1超微粒，(B-d)树脂成分和第1超微粒含有相同的金属和/或半金属元素，(B-e)在固化树脂层中，第1超微粒的含量相对于树脂成分100质量份是0.01质量份～3质量份，以及(B-f)固化树脂层的厚度是0.01～0.5μm。
在这些方式中，在透明导电层表面形成微小的突起，由此可提供高透明性、低雾度和充分的易滑动性的组合。虽然具体机理尚不明确，但可认为，透明导电层表面的微小突起是如下形成的：通过树脂系光学干涉层/固化树脂层的树脂成分和第1超微粒含有相同的金属和/或半金属元素，从而在树脂成分的固化期间，树脂成分与第1超微粒发生某种相互作用，在树脂系光学干涉层/固化树脂层表面形成微小的突起，该突起被反映在树脂系光学干涉层/固化树脂层上的透明导电性层的表面，从而形成透明导电层表面的微小突起。
如果透明导电层是平滑的，则膜之间发生粘附，因而操作性、弯曲性变差。另外，由于发生由电阻膜方式触摸面板的膜之间的贴附所引起的粘连，所以书写耐久性下降，但对于本发明的透明导电性层叠体而言，由于表面形成了微小的突起，所以具有良好的操作性、弯曲性，且具有高的书写耐久性。
另外，在使用由含有具有亚微米程度粒径的微粒的树脂制造的易滑动层时，如上所述该微粒是使触摸面板的书写耐久性下降的原因，但本发明的透明导电性层叠体由于含有非常小的粒径的第1超微粒，通过该第1超微粒和树脂成分的相互作用形成突起，所以不会使书写耐久性下降。
其中，树脂成分和第1超微粒两者所含的“金属和/或半金属元素”没有特别地限定，优选是选自Al、Bi、Ca、Hf、In、Mg、Sb、Si、Sn、Ti、Y、Zn和Zr中的一个或多个元素，更优选是选自Al、Si和Ti中的一个或多个元素，进一步优选是Si和/或Ti。
<表面有细微突起的光学干涉层/固化树脂层-固化树脂成分>
作为固化性树脂成分，只要是能够使超微粒分散、在树脂系光学干涉层/固化树脂层形成后作为皮膜具有充分的强度、具有透明性、且含有与超微粒相同的金属和/或半金属元素的成分，则可以没有特别限制地使用。因此，例如作为固化性树脂成分，可使用聚合性的有机金属化合物，尤其是含金属丙烯酸酯、金属醇盐等。
作为固化性树脂成分，例如可举出电离放射线固化型树脂、热固化型等。
作为形成电离放射线固化型树脂的单体，例如可举出多元醇丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯，上述以外的形成硬化层的聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、改性苯乙烯丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯、含硅丙烯酸酯等的单官能和多官能丙烯酸酯。
作为形成含Si的电离放射线固化型树脂的单体，例如可举出甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、三(三甲基硅氧基)甲硅烷基丙基甲基丙烯酸酯、烯丙基三甲基硅烷、二烯丙基二苯基硅烷、甲基苯基乙烯基硅烷、甲基三烯丙基硅烷、苯基三烯丙基硅烷、四烯丙基硅烷、四乙烯基硅烷、三烯丙基硅烷、三乙基乙烯基硅烷、乙烯基三甲基硅烷、1，3-二甲基-1，1，3，3-四乙烯基二硅氧烷、二乙烯基四甲基二硅氧烷、乙烯基三(三甲基硅氧基)硅烷、乙烯基甲基双(三甲基硅氧基)硅烷、N-(三甲基甲硅烷基)烯丙基胺、两末端具有双键的聚二甲基硅氧烷、含硅丙烯酸酯。
应予说明，在利用电离放射线进行树脂层的聚合时，通常适量添加光聚合引发剂，另外根据需要也可以适量添加光敏化剂。作为该光聚合引发剂，可举出苯乙酮、二苯甲酮、二苯乙醇酮、苯甲酸酐、硫杂蒽酮类等，作为光敏化剂，可举出三乙胺、三正丁基膦等。
作为热固化型树脂，例如可举出烷氧基硅烷系化合物等有机硅烷系热固化型树脂、烷氧基钛系热固化型树脂、以醚化羟甲基三聚氰胺等为单体的三聚氰胺系热固化型树脂、异氰酸酯系热固化型树脂、酚醛系热固化型树脂、环氧固化型树脂等。可以单独使用这些热固化型树脂或者组合多种使用。另外根据需要，也可以在热固化型树脂中混合热塑性树脂。
作为有机硅烷系热固化型树脂，优选使用乙烯基三氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基三乙氧基硅烷、3-三乙氧基甲硅烷基-N-(1，3-二甲基丁叉基)丙基胺、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(乙烯基苄基)-2-氨基乙基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷盐酸盐、3-脲基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、双(三乙氧基甲硅烷基丙基)四硫化物、3-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、六甲基二硅氮烷、己基三甲氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷等。其中，从得到与基板的密合性的稳定化的观点出发，优选使用发挥稳定性能的甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷等。
作为烷氧基钛系热固化型树脂，优选使用四异丙基钛酸酯、四正丁基钛酸酯、丁基钛酸酯二聚物、四(2-乙基己基)钛酸酯、四甲基钛酸酯、乙酰丙酮根合钛、四乙酰丙酮根合钛、乙酰乙酸乙酯合钛、辛二醇根合钛、乳酸根合钛、三乙醇胺根合钛、多羟基硬脂酸根合钛等。其中，从作为涂料的稳定性、得到与基板的密合性的稳定化的观点出发，优选使用发挥稳定性能的四异丙基钛酸酯、四正丁基钛酸酯、乳酸根合钛等。
应予说明，在利用热进行树脂层的交联时，可以适量配合反应促进剂和/或固化剂。作为反应促进剂，例如可举出三亚乙基二胺、二月桂酸二丁基锡、苄基甲基胺、吡啶等。另外，作为固化剂，例如可举出甲基六氢邻苯二甲酸酐、4，4′-二氨基二苯基甲烷、4，4′-二氨基-3，3′-二乙基二苯基甲烷、二氨基二苯基砜等。
在形成树脂系光学干涉层/固化树脂层的单体含有与超微粒相同的金属和/或半金属元素时，这些单体可以单独使用，或和其它单体组合、例如和不含有与超微粒相同的金属和/或半金属元素的单体组合使用。
应予说明，树脂系光学干涉层/固化树脂层也可以含有流平剂、光敏化剂等其它成分。
<表面具有细微突起的光学干涉层/固化树脂层-超微粒/第1超微粒>
树脂系光学干涉层/固化树脂层所含的平均一次粒径1nm～100nm的第1超微粒只要含有与树脂成分相同的金属和/或半金属元素则没有本质上的限定，但优选使用金属氧化物或金属氟化物。作为金属氧化物和金属氟化物，可以优选使用选自Al2O3、Bi2O3、CaF2、In2O3、In2O3·SnO2、HfO2、La2O3、MgF2、Sb2O5、Sb2O5·SnO2、SiO2、SnO2、TiO2、Y2O3、ZnO和ZrO2中的至少一种，可特别优选使用Al2O3、SiO2、TiO2。
因而，例如在树脂系光学干涉层/固化树脂层的树脂成分是由烷氧基硅烷形成的树脂成分时，可以使用SiO2的第1超微粒。另外例如，在树脂系光学干涉层/固化树脂层的树脂成分是由烷氧基钛形成的树脂成分时，可以使用TiO2的第1超微粒。
树脂系光学干涉层/固化树脂层所含的第1超微粒的粒径是1nm～100nm，优选是1nm～70nm，更优选是1nm～50nm，进一步优选是5nm～40nm。第1超微粒的粒径过大时，容易发生光散射，因而不优选。第1超微粒的粒径过小时，由于粒子的比表面积增大，所以促进粒子表面的活性化，粒子之间的凝聚性显著提高，由此溶液的制备、保存变得困难，因而不优选。
树脂系光学干涉层/固化树脂层所含的第1超微粒只要满足本发明的特性，则可以用偶联剂等进行表面修饰。另外，第1超微粒的制造法可采用液相法、气相法等作为方法，但对这些制造方法也没有特别限制。
在固化树脂中使上述第1超微粒分散的配合比有必要是相对于固化后的树脂成分100质量份、第1超微粒为0.01质量份～3质量份，优选为0.01质量份～2.5质量份，更优选为0.05质量份～2质量份，进一步优选为0.1质量份～1质量份。第1超微粒过少时，很难形成对本发明用途必要的表面具有突起的树脂层。另一方面，该比例过大时，表面的突起变大，在表面发生光的散射，由此雾度增大，因而不优选。
另外，本发明的树脂系光学干涉层/固化树脂层的表面的突起也依赖于所使用的第1超微粒的触变性。因此，出于发现或控制触变性的目的，在形成光学干涉层时，可对溶剂、分散剂进行适当选择后使用。作为溶剂，例如可使用醇系、芳香族系、酮系、乳酸酯(lactate)系、溶纤剂系、二元醇系等各种。作为分散剂，例如可使脂肪酸胺系、磺酰胺系、ε-己内酯系、氢化硬脂酸系、多羧酸系、聚酯胺等各种。这些溶剂、分散剂各自可单独使用或组合2种以上使用。
<固化树脂层-第2超微粒>
在第2方式的本发明透明导电性层叠体中，固化树脂层所含有的平均一次粒径1nm～100nm的第2超微粒可以具有比固化树脂层所含有的树脂成分大的折射率。另外特别地，与固化树脂层不含有第2超微粒的情况相比，该第2超微粒可以使固化树脂层的折射率增加。关于第2超微粒的具体材料、粒径、表面修饰、制造法等，可参照第1超微粒中的上述记载。
例如，在固化树脂层含有有机硅化合物作为树脂成分且含有二氧化硅(SiO2)作为第1超微粒的一种方式中，固化树脂层的折射率约为1.50。此时，可选择氧化钛(折射率：2.4)等折射率大的超微粒作为第2超微粒。
在固化树脂中使上述第2超微粒分散的配合比可以在能够配合的范围任意确定。因此，该配合比例如可以是相对于固化后的树脂成分100质量份，第2超微粒为1质量份以上、10质量份以上或30质量份以上且500质量份以下、400质量份以下、300质量份以下、200质量份以下或150质量份以下。第2超微粒过少时，固化树脂层的折射率变化变小。另一方面，该比例过大时，膜形成有时变难、且雾度有时增大。
例如，在固化树脂中使上述第2超微粒分散的配合比可如下进行选择：通过固化树脂层含有第2超微粒，与固化树脂层不含第2超微粒的情况相比，固化树脂层的折射率增加0.01以上、0.02以上、0.03以上、0.04以上、0.05以上、0.06以上、0.07以上、0.08以上或0.10以上。
由此，固化树脂层的折射率可以是1.55以上、1.60以上或1.65以上且1.85以下、1.80以下或1.75以下。
<表面具有细微突起的光学干涉层/固化树脂层-膜厚>
在使用表面具有细微突起的树脂系光学干涉层/固化树脂层时，如果树脂系光学干涉层/固化树脂层的膜厚过小，则有时难以在层表面形成有效的突起，因而不优选。
《透明导电层》
在第1和第2方式的本发明透明导电性层叠体中，透明导电层没有特别限制，例如可举出结晶质金属层或结晶质金属化合物层。作为构成透明导电层的成分，例如可举出氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化镁、氧化锌、氧化铟、氧化锡等金属氧化物层。在它们之中，优选以氧化铟为主成分的结晶质层，特别优选使用以结晶质ITO(IndiumTinOxide)形成的层。
另外，透明导电层是结晶质时，结晶粒径不需要特别设定上限，但优选是3000nm以下。结晶粒径大于3000nm时，书写耐久性变差，因而不优选。其中，所谓结晶粒径的定义是在透射型电子显微镜(TEM)下观察到的多边形或椭圆形的各区域的对角线或直径中最大值。
在透明导电层不是结晶质膜时，触摸面板所要求的滑动耐久性(或书写耐久性)、环境可靠性有时下降。
透明导电层可以用公知方法形成，例如可以使用DC磁控溅射法、RF磁控溅射法、离子镀法、真空蒸镀法、脉冲激光沉积法等物理形成法(PhysicalVaporDeposition(以下，记为“PVD”))等，当着眼于大面积地形成均匀膜厚的金属化合物层的工业生产率时，优选DC磁控溅射法。应予说明，除了上述物理形成法(PVD)以外，也可以使用化学气相沉积法(ChemicalVaporDeposition(以下，记为“CVD”))、溶胶凝胶法等化学形成法，当从膜厚控制的观点出发，仍然优选溅射法。
从透明性与导电性方面考虑，透明导电层的膜厚是5～200nm，优选是5～150nm。进一步优选是5～80nm，特别优选是10～50nm。如果透明导电层的膜厚小于5nm，则电阻值的经时稳定性有变差的趋势，另外如果大于200nm，则有时表面电阻值下降，因而不优选作为触摸面板。
在将本发明的透明导电性层叠体用于触摸面板时，从触摸面板的耗电的降低和电路处理上的需要等出发，优选使用在膜厚10～30nm时透明导电层的表面电阻值显示出100～2000Ω/□(Ω/sq)、更优选是140～1000Ω/□(Ω/sq)的范围的透明导电层。
《金属化合物层》
第1和第2方式的本发明透明导电性层叠体，在光学干涉层/固化树脂层与透明导电层之间可以进一步具有金属化合物层、尤其是膜厚为0.5nm以上且小于5.0nm的金属化合物层。
通过顺次层叠透明有机高分子基板、光学干涉层/固化树脂层、膜厚得到控制的金属化合物层、透明导电层，从而大幅改善各层间的密合性。另外，通过使光学干涉层中的金属氧化物超微粒和/或金属氟化物超微粒等超微粒的金属与上述金属化合物层的金属相同，从而可进一步改善光学干涉层/固化树脂层与透明导电层的层间密合性。
对于具有这种金属化合物层的透明导电性层叠体的透明触摸面板而言，与没有金属化合物层的情况相比，可提高透明触摸面板所要求的书写耐久性。金属化合物层的膜厚过厚时，由于金属化合物层开始显示作为连接体的机械物性，所以无法期望透明触摸面板所要求的端押耐久性的提高。另一方面，金属化合物层的膜厚过薄时，有时膜厚控制困难，而且很难充分实现表面具有细微突起的光学干涉层/固化树脂层与透明导电层的密合性，透明触摸面板所要求的书写耐久性的提高变得不充分。
作为构成金属化合物层的成分，例如可举出氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化镁、氧化锌、氧化铟、氧化锡等金属氧化物的层。特别优选含有与光学干涉层所含有的树脂成分和超微粒相同的元素。
这些金属化合物层可以用公知方法形成，例如可以使用DC磁控溅射法、RF磁控溅射法、离子镀法、真空蒸镀法、脉冲激光沉积法等物理形成法(PVD)等，当着眼于大面积地形成均匀膜厚的金属化合物层的工业生产率时，优选DC磁控溅射法。应予说明，除了上述物理形成法(PVD)以外，也可以使用化学气相沉积法(CVD)、溶胶凝胶法等化学形成法，从控制膜厚的观点出发，仍然优选溅射法。
溅射所用到的靶优选使用金属靶，已广泛采用反应性溅射法。这是因为，金属化合物层用到的元素的氧化物多数是绝缘体，对于金属化合物靶的情况，DC磁控溅射法多数不适合。另外，近年来，已开发出使2个阴极同时放电、抑制靶上的绝缘体的形成的电源，变得能够适合近似RF磁控溅射法。
《表面的突起数》
在使用表面具有细微突起的光学干涉层/固化树脂层的本发明透明导电性层叠体中，由该微小的突起，可提供高透明性、低雾度以及充分的易滑动性的组合。尤其是在第2方式的本发明透明导电性层叠体中，通过满足条件(B-c)～(B-f)来在固化树脂层的表面上形成微小突起，由此可提供高透明性、低雾度以及充分的易滑动性的组合。
此时，具体而言，每50μm见方的透明导电层具有优选10个～300个、更优选20个～200个、进一步优选30个～150个高度为30nm～200nm的突起。
其中，对于突起高度为小于30nm的突起，对层叠体易滑动性产生的效果小，因而不考虑。另一方面，对于突起高度大于200nm的突起，尽管为层叠体带来易滑动性，但具有产生光散射、使雾度增加的趋势。
透明导电层上的30nm～200nm高度的突起的数目过少时，则有时透明导电性层叠体得不到充分的滑动性，另一方面，该突起的数目过多时，有时层叠体表面的光散射变大、因而雾度增加。
电阻膜方式的触摸面板是使相对侧具有透明导电层的2张膜或片材保持一定间隔而构成的电气部件，通过固定一个电极，并且从视认侧用笔或手指按压另一个电极，使其弯曲、接触、导通，从而检测电路测得位置，形成规定的输入。此时，在进行按压的笔或手指等的接触部周围，有时出现所谓被称为牛顿环的干涉色，使显示器的视认性下降。为了抑制该牛顿环，可利用后述追加的固化树脂层在表面形成凹凸形状，使电极间的光反射扩散，由此防止干涉(抗牛顿环)。
出于保持这种抗牛顿环功能的目的，在追加的固化树脂层上形成凹凸形状时，有时透明导电层上的30nm～200nm高度的突起的数目大于500个。
应予说明，对于本发明，透明导电性层上的表面突起数如下测定：使用SIINanoTechnology株式会社制的原子力显微镜(AFM)SPA400，采用动态力模式，使用测定范围150μm的扫描仪，使用背面带有Al的Si悬臂(SIINanoTechnology株式会社制SI-DF40)作为悬臂，以扫描范围50×50μm进行测定。数据数以X方向512个、Y方向512个进行测定。将得到的形状图像数据作三维变换，由得到的表面数据估计各个突起部分的高度，统计30nm～200nm的突起数。对各样品进行5次测定，算出突起数的平均值。
《平均算术粗糙度(Ra)》
像电容方式的透明触摸面板、低雾度的电阻膜方式的透明触摸面板等一样，对于需要低雾度的透明导电性层叠体的情况，优选透明导电性层的表面凹凸的平均算术粗糙度(Ra)是20nm以下，更优选是10nm以下，特别优选是8nm以下。如果平均算术粗糙度(Ra)过大，则雾度变大，在用于高画质的液晶显示器时，因损失鲜明度等原因而不特别优选。
应予说明，出于保持抗牛顿环功能的目的，在追加的固化树脂层上形成凹凸形状时，优选表面凹凸的Ra是20nm以上且小于500nm，更优选是25nm～400nm，特别优选是30nm～350nm。如果平均算术粗糙度(Ra)过小，则在使玻璃或膜基板用力接触本发明的凹凸面时，产生牛顿环。另外，如果平均算术粗糙度(Ra)大于500nm，则雾度变大，在用于液晶显示器时，因发生像素的色分离、引起闪烁等原因而不特别优选作为显示器用途的基板。
应予说明，对于本发明，平均算术粗糙度(中心线平均粗糙度)(Ra)是根据JISB0601-1994标准进行。具体而言，在从粗糙度曲线中沿其中心线方向截取基准长度l的部分，以该截取部分的中心线为X轴、以纵倍率方向为Y轴、用y＝f(x)表示粗糙度曲线时，算术平均粗糙度(Ra)可用下述式表示：
R a = 1 l &Integral; 0 l | f ( x ) | dx
《总光线透射率》
从视认性的观点出发，本发明的透明导电性层叠体的总光线透射率是85％以上、优选是88％以上、更优选是89％以上、特别优选是90％以上。
对于本发明，以JISK7361-1为基准测定总光线透射率。具体而言，总光线透射率τt(％)是用下述式表示的值：
τt＝τ2/τ1×100
(τ1：入射光
τ2：透过试样片的总光线)
《雾度》
像电容方式的透明触摸面板、低雾度的电阻膜方式的透明触摸面板等一样，对于需要低雾度的透明导电性层叠体的情况，从视认性的观点出发，优选本发明的透明导电性层叠体的雾度是2％以下，更优选是1.5％以下，进一步优选是1％以下，特别优选是0.5％以下。
另一方面，对于保持抗牛顿环功能的透明导电性层叠体的情况，从视认性和抗牛顿环特性的平衡的观点出发，本发明的透明导电性层叠体的雾度可允许是2％以上或2.5％以上，优选是15％以下，更优选是12％以下，进一步优选是10％以下。
应予说明，对于本发明，雾度根据JISK7136标准进行定义。具体而言，雾度是定义成扩散透射率τd与总光线透射率τt的比的值，更具体而言，可由下述式求出：
雾度(％)＝[(τ4/τ2)-τ3(τ2/τ1)]×100
τ1：入射光的光束
τ2：透过试验片的全部光束
τ3：在装置中扩散的光束
τ4：在装置和试验片中扩散的光束
实施例
以下，列举参考例，进一步具体说明本发明，但本发明不受该参考例限定。应予说明，参考例中，如无特别说明，“份”和“％”均是质量基准。另外，参考例中的各种测定如下进行。
<Ra(算术平均粗糙度)>
使用Sloan公司制探针式高低差仪DEKTAK3进行测定。根据JISB0601-1994年版进行测定。
<表面突起数(AFM)>
使用SIINanoTechnology株式会社制的原子力显微镜SPA400，采用动态力模式，使用测定范围150μm的扫描仪，使用背面带有Al的Si悬臂(SIINanoTechnology株式会社制SI-DF40)作为悬臂，以扫描范围50×50μm进行测定。数据数目是以X方向512个、Y方向512个进行测定。将得到的形状图像数据作三维变换，由得到的表面数据估计各个突起部分的高度，统计30nm～200nm的突起数。对各样品进行5次测定，算出突起数的平均值。
<厚度和折射率>
对于光学干涉层/固化树脂、透明导电层和硬涂层的厚度以及折射率，在折射率与这些层不同的适当的热塑性膜基板上以同样的涂覆条件单层层叠，使用在上述层叠面的光反射光谱上基于光干涉效果而体现的反射率的极大峰或极小峰的波长及其峰反射率的值，通过光学模拟而算出。应予说明，对于本发明，如无特别说明，折射率是550nm波长的光的折射率。
<反射光谱>
采用日立制分光光度计U3500的积分球测定模式来进行各光谱的测定。应予说明，测定光对样品的入射角度是5度，背面侧用市售的黑色喷料形成遮光层，在几乎没有样品的背面反射、来自背面侧的光的入射的状态下进行测定。差光谱是从透明导电层形成前的层叠体的反射光谱中减去透明导电层形成后的层叠体的反射光谱从而得到的。应予说明，从透明导电性层叠体除掉透明导电层的层叠体的反射光谱是用蚀刻液除去制作的透明导电性层叠体来进行测定。
<雾度>
以JISK7136号为基准，使用日本电色(株)制雾度计(MDH2000)进行测定。
<总光线透射率>
使用日本电色(株)制雾度计(MDH2000)，以JISK7361-1为基准进行测定。
<b＊值>
以JISZ8722为基准，采用透射模式测量以JISZ8729定义的L＊a＊b＊表色系的色度指数b＊值。应予说明，采用日本工业标准Z8720所规定的标准光D65作为光源，以2度视野条件进行测定。
<易滑动性>
光学干涉层的易滑动性是感官试验，评价膜为良好(○)，或为不良(×)。
<耐擦伤性>
用钢丝棉轻轻摩擦制作的透明导电性层叠体的透明导电层，评价为表面损伤(×)，或不损伤(○)。
<见骨性>
将制作的透明导电性层叠体切出5cm见方，在透明导电层上并排粘贴8条3mm宽的聚酰亚胺带，使之形成3mm间隔。接着，将该粘贴有聚酰亚胺带的层叠体在ITO蚀刻液(关东化学公司制，商品名“ITO-06N”)中浸渍1分钟，除去没有粘贴聚酰亚胺带的部分的ITO，得到以3mm间隔形成了形成3mm宽的ITO膜的图案的层叠体。目视观察该膜，基本看不到ITO的图案评价为(○)、稍稍看到评价为(△)、看到评价为(×)。
<书写耐久试验>
在制造的透明触摸面板的可动电极侧、使用笔尖是0.8R的聚缩醛制笔、以450g荷重来进行直线往复50万往复的书写耐久性试验。每10万次更换为新笔。书写耐久性前后的透明触摸面板的50万次往复后的线性度变化量小于0.5％为合格(◎)、小于1.0％为合格(○)、小于1.5％为合格(△)、1.5％以上为不合格(×)。
<线性度>
在可动电极基板上或固定电极基板上的平行电极间施加5V直流电压。在与平行电极垂直的方向以5mm间隔测定电压。当设测定起始位置A的电压为EA、测定结束位置的电压B的电压为EB、在与A的距离X处的电压实测值为EX、理论值为ET时，线性度L如下所示：
ET＝(EB-EA)·X/(B-A)+EA
L(％)＝(|ET-EX|)/(EB-EA)100
[实施例A1]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制、C110-100、表中是“PC”)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上，用迈尔棒涂布下述涂布液H1，在60℃干燥30秒后，用强度160W的高压水银灯照射累积光量700mJ/cm2的紫外线，形成膜厚约3μm的硬涂层(H1层)。
(涂布液H1)
使用如下制成的涂布液：使用1-甲氧基-2-丙醇作为稀释溶剂对双苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯(大阪瓦斯公司制)59质量份、聚氨酯丙烯酸酯(新中村化学制，商品名“NKoligoU-15HA”)41质量份进行稀释，进而加入Irgacure184(CibaGeigy公司制)3质量份作为光引发剂并搅拌至均匀。
接着，在形成的硬涂层上，用迈尔棒涂布下述涂布液R1，在130℃热处理5分钟，形成膜厚约50nm的固化树脂层。
(涂布液R1)
混合水720质量份、2-丙醇1080质量份和乙酸46质量份后，顺次混合3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM403”)480质量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM13”)240质量份和N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM603”)120质量份，生成烷氧基硅烷混合液，将该烷氧基硅烷混合液搅拌3小时进行水解、部分缩合，进而用异丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的质量比1∶1的混合溶剂进行稀释。在该溶液中加入MgF2超微粒(表中，“MgF2”)的20质量％异丙醇分散液(CI化成株式会社制，超微粒的平均一次粒径：50nm)4200质量份(固体成分换算840质量份、即相对于投入的树脂单体量100质量份是100质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂成分100质量份是145质量份超微粒)，进一步搅拌10分钟，制成涂布液R1。应予说明，本发明中，对于固化后的树脂成分的质量份而言，是假定单体的缩合反应100％进行。
接着，在形成了固化树脂层的面上，使用氧化铟和氧化锡的质量比为95∶5的组成且填充密度为98％的氧化铟-氧化锡靶，采用溅射法形成非晶质透明导电层(ITO层)。ITO层的厚度约为20nm，表面电阻值约为370Ω/□(Ω/sq)。
接着，通过进行130℃90分钟的热处理，使透明导电层(ITO层)结晶化从而制成透明导电性层叠体。ITO层结晶化后的透明导电层的厚度约为20nm，折射率是2.10，表面电阻值约为450Ω/□(Ω/sq)。应予说明，利用TEM观察到的透明导电层的结晶粒径在50nm～200nm的范围。
将制成的透明导电性层叠体的特性示于表A1。
[实施例A2]
使用聚酯膜(DuPontTeijinFilms株式会社制“TEIJINTETORONFILM”、OFW-188)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上用迈尔棒涂布涂布液H2，在60℃干燥30秒后，用强度160W的高压水银灯照射累积光量700mJ/cm2的紫外线，形成膜厚约3μm的硬涂层(H2层)。
(涂布液H2)
使用制成的涂布液：使用甲苯作为稀释溶剂对双苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯(大阪瓦斯公司制)85质量份、聚氨酯丙烯酸酯(新中村化学制的商品名“NKoligoU-15HA”)15质量份进行稀释，进而加入Irgacure184(CibaGeigy公司制)3质量份作为光引发剂并搅拌至均匀。
接着，在形成的H2层上，与实施例A1同样地，形成膜厚约50nm的固化树脂层。
接着，与实施例A1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例A1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表A1。
[实施例A3]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制、C110-100、表中“PC”)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上与实施例A1同样地使用涂布液H1，形成膜厚约3μm的硬涂层。
接着，在形成的硬涂层上，用迈尔棒涂布下述涂布液R2，在130℃热处理5分钟，形成膜厚约100nm的固化树脂层。
(涂布液R2)
混合水720质量份、2-丙醇1080质量份和乙酸46质量份后，顺次混合3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM403”)480质量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM13”)240质量份和N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM603”)120质量份，生成烷氧基硅烷混合液，将该烷氧基硅烷混合液搅拌3小时进行水解、部分缩合，另外用异丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的质量比1∶1的混合溶剂进行稀释。在该溶液中加入氧化钛超微粒(表中，“TiO2”)的15质量％异丙醇分散液(CI化成株式会社制，超微粒的平均一次粒径：30nm)3024质量份(固体成分换算453质量份，即相对于投入的树脂单体量100质量份是54质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂100质量份是78质量份超微粒)，进一步搅拌10分钟，制成涂布液R2。
接着，与实施例A1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例A1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表A1。
将制成的透明导电性层叠体、以及从透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱示于图13。另外，将图13表示的二个反射光谱的差光谱示于图15。
[实施例A4]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制、C110-100、表中“PC”)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上用迈尔棒涂布涂布液H1，在60℃干燥30秒后，用强度160W的高压水银灯照射累积光量700mJ/cm2的紫外线，形成膜厚约3μm的硬涂层。
接着，在形成的硬涂层上，用迈尔棒涂布下述的涂布液R3，在130℃热处理5分钟，形成膜厚约50nm的固化树脂层。
(涂布液R3)
混合水720质量份、2-丙醇1080质量份和乙酸46质量份后，顺次混合3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM403”)480质量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM13”)240质量份和N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM603”)120质量份，生成烷氧基硅烷混合液，将该烷氧基硅烷混合液搅拌3小时进行水解、部分缩合，进而用异丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的质量比1∶1的混合溶剂进行稀释。在该溶液中加入MgF2超微粒(表中，“MgF2”)的20质量％异丙醇分散液(CI化成株式会社制，超微粒的平均一次粒径：50nm)4200质量份(固体成分换算840质量份，即相对于投入的树脂单体量100质量份是100质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂100质量份是145质量份超微粒)，进而搅拌10分钟。之后，在该溶液中进一步加入含有未实施表面修饰的平均一次粒径为20nm的二氧化硅超微粒(表中，“SiO2-1”)4质量份(相对于投入的树脂单体量100质量份是0.5质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂100质量份是0.7质量份超微粒)的异丙醇溶液，进而搅拌10分钟，制成涂布液R3。
接着，与实施例A1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例A1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表A1。
[实施例A5]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100，表中“PC”)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上用迈尔棒涂布涂布液H1，在60℃干燥30秒后，用强度160W的高压水银灯照射累积光量700mJ/cm2的紫外线，形成膜厚约3μm的硬涂层。
接着，在形成的硬涂层上，用迈尔棒涂布下述涂布液R4，在130℃热处理5分钟，形成膜厚约100nm的固化树脂层。
(涂布液R4)
混合水720质量份、2-丙醇1080质量份和乙酸46质量份后，顺次混合3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM403”)480质量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM13”)240质量份和N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM603”)120质量份，生成烷氧基硅烷混合液，将该烷氧基硅烷混合液搅拌3小时进行水解、部分缩合，进而用异丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的质量比1∶1的混合溶剂进行稀释。在该溶液中加入氧化钛超微粒(表中，“TiO2”)的15质量％异丙醇分散液(CI化成株式会社制，超微粒的平均一次粒径：30nm)3024质量份(固体成分换算453质量份、即相对于投入的树脂单体量100质量份是54质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂100质量份是78质量份超微粒)，进一步搅拌10分钟。之后，在该溶液中进一步加入含有未实施表面修饰的平均一次粒径为20nm的二氧化硅超微粒(表中，“SiO2-1”)4质量份(相对于投入的树脂单体量100质量份是0.5质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂100质量份是0.7质量份超微粒)的异丙醇溶液，进一步搅拌10分钟，制成涂布液R4。
接着，与实施例A1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例A1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制造的透明导电性层叠体的特性示于表A1。
[比较例A1]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上直接与实施例A1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例A1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表A2。
[比较例A2]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上，使用紫外线固化型多官能丙烯酸酯树脂涂料形成膜厚为3μm的硬涂层。
接着，与实施例A1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例A1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表A2。
[比较例A3]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上，使用紫外线固化型多官能丙烯酸酯树脂涂料形成膜厚为3μm的硬涂层。接着，在硬涂层上，与实施例A1同样地使用涂布液R1形成膜厚约50nm的光学干涉层。
接着，与实施例A1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例A1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表A2。
[比较例A4]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上不设硬涂层，与实施例A1同样地形成膜厚约50nm的光学干涉层。
接着，与实施例A1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例A1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表A2。
[比较例A5]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制、C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上，使用紫外线固化型多官能丙烯酸酯树脂涂料形成膜厚为3μm的硬涂层。接着，在硬涂层上，与实施例A3同样地使用涂布液R2形成膜厚约50nm的光学干涉层。
接着，与实施例A1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例A1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表A2。
将制成的透明导电性层叠体、以及从透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱示于图14。另外，将图14表示的二个反射光谱的差光谱与实施例A3的差光谱一并示于图15。
[表1]
[表2]
从表A1可知，使用了实施例的透明导电性层叠体的触摸面板具有由与基板的折射率差小的硬涂层而产生的良好耐擦伤性与良好色调(b＊值)的组合。另外特别地，在对于450nm～700nm的波长具有所期望的差光谱的实施例A3和5中，见骨性良好。进而，在光学干涉层的表面具有凹凸的实施例A4和5中，书写耐久性非常优异。
与此相对，从表A2可知，使用了没有硬涂层和光学干涉层两者的比较例A1、具有硬涂层而没有光学干涉层的比较例A2、以及具有硬涂层和光学干涉层两者但硬涂层与基材的折射率差大的比较例A3的透明导电性层叠体的触摸面板，虽然耐擦伤性优异，但对于色调(b＊值)不优选。另外，使用了没有硬涂层而具有光学干涉层的比较例A4的透明导电性层叠体的触摸面板，虽然对于色调(b＊值)来说良好，但耐擦伤性差。另外，使用了具有硬涂层和光学干涉层两者，且如专利文献8所示、光学干涉层的折射率是透明导电性层的折射率和硬涂层的折射率的中间值、但硬涂层与基材的折射率差大的比较例A5的透明导电性层叠体的触摸面板，对于色调(b＊值)和耐擦伤性来说良好，但见骨性不是良好的程度。
[实施例B1]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100、表中“PC”)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上用迈尔棒涂布下述涂布液P1，在130℃热处理5分钟，形成膜厚约100nm的固化树脂层。
(涂布液P1)
混合水720质量份、2-丙醇1080质量份和乙酸46质量份后，顺次混合3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM403”)480质量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM13”)240质量份和N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM603”)120质量份，生成烷氧基硅烷混合液，将该烷氧基硅烷混合液搅拌3小时进行水解、部分缩合，进而用异丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的质量比1∶1的混合溶剂进行稀释。在该溶液中加入氧化钛超微粒(表中，“TiO2”)的15质量％异丙醇分散液(CI化成株式会社制，超微粒的平均一次粒径：30nm)3024质量份(固体成分换算453质量份，即相对于投入的树脂单体量100质量份是54质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂100质量份是78质量份超微粒)，进一步搅拌10分钟，制成涂布液P1。应予说明，在本发明中，对于固化后的树脂成分的质量份而言，是假定单体的缩合反应100％进行。
接着，在形成固化树脂层的面上，使用氧化铟和氧化锡的质量比为95∶5的组成且充填密度为98％的氧化铟-氧化锡靶，采用溅射法，形成非晶质的透明导电层(ITO层)。ITO层的厚度约为20nm，表面电阻值约为370Ω/□(Ω/sq)。
接着，通过进行130℃90分的热处理，使透明导电层(ITO层)结晶化从而制成透明导电性层叠体。ITO层结晶化后的透明导电层的厚度约为20nm，折射率为2.10，表面电阻值约为450Ω/□(Ω/sq)。应予说明，利用TEM观察的透明导电层的结晶粒径在50nm～200nm的范围。
将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。另外，将制成的透明导电性层叠体、以及从透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱示于图16。另外，将图5表示的二个反射光谱的差光谱示于图18。
[实施例B2]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100，表中“PC”)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上用迈尔棒涂布下述涂布液P2，在130℃热处理5分钟，形成膜厚约100nm的固化树脂层。
(涂布液P2)
混合水720质量份、2-丙醇1080质量份和乙酸46质量份后，顺次混合3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM403”)480质量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM13”)240质量份和N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM603”)120质量份，生成烷氧基硅烷混合液，将该烷氧基硅烷混合液搅拌3小时进行水解、部分缩合，进而用异丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的质量比1∶1的混合溶剂进行稀释。在该溶液中加入氧化钛超微粒(表中，“TiO2”)的15质量％异丙醇分散液(CI化成株式会社制，超微粒的平均一次粒径：30nm)3024质量份(固体成分换算453质量份，即相对于投入的树脂单体量100质量份是54质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂100质量份是78质量份超微粒)，进一步搅拌10分钟。之后，在该溶液中进一步加入含有未实施表面修饰的平均一次粒径为20nm的二氧化硅超微粒(表中，“SiO2-1”)4质量份(相对于投入的树脂单体量100质量份是0.5质量份，相对于固化后的固化树脂成分100质量份是0.7质量份超微粒成分)的异丙醇溶液，进一步搅拌10分钟，制成涂布液P2。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。
[实施例B3～5]
在涂布液P2的制造中，改变二氧化硅超微粒的添加量，除此以外，与实施例B2同样地制造涂布液P2，另外与实施例B2同样地形成膜厚约100nm的固化树脂层。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。
[实施例B6]
在涂布液P2的制造中，改变氧化钛超微粒分散液的添加量，除此以外，与实施例B2同样地制造涂布液P2。另外，除改变膜厚以外，与实施例B2同样地形成固化树脂层。
接着，除改变膜厚以外，与实施例B1同样地形成ITO层。ITO层的厚度约为15nm，表面电阻值约为450Ω/□(Ω/sq)。
接着，通过进行130℃90分的热处理，使透明导电层(ITO层)结晶化从而制成透明导电性层叠体。ITO层结晶化后的透明导电层的表面电阻值约为540Ω/□(Ω/sq)。应予说明，利用TEM观察的透明导电层的结晶粒径在50nm～200nm的范围。
[实施例B7]
在涂布液P2的制造中，改变氧化钛超微粒分散液的添加量，除此以外，与实施例B2同样地制成涂布液P2。另外，除改变膜厚以外，与实施例B2同样地制成固化树脂层。
接着，除改变膜厚以外，与实施例B1同样地形成ITO层。ITO层的厚度约为50nm，表面电阻值约为150Ω/□(Ω/sq)。
接着，通过进行130℃90分的热处理，使透明导电层(ITO层)结晶化从而制成透明导电性层叠体。ITO层结晶化后的透明导电层的表面电阻值约为180Ω/□(Ω/sq)。应予说明，利用TEM观察的透明导电层的结晶粒径在50nm～200nm的范围。
[实施例B8和9]
除改变膜厚以外，与实施例B2同样地形成固化树脂层。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。
[实施例B10]
在涂布液P1的制造中，使用二氧化硅超微粒的平均一次粒径为50nm的超微粒(表中“SiO2-2”)，除此以外，与实施例B2同样地制成涂布液P2，另外与实施例B2同样地制成膜厚约100nm的固化树脂层。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。
[实施例B11]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100、表中“PC”)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上用迈尔棒涂布下述涂布液P3，在130℃热处理5分钟，形成膜厚约100nm的固化树脂层。
(涂布液P3)
混合水720质量份、2-丙醇1080质量份和乙酸46质量份后，顺次混合3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM403”)480质量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM13”)240质量份和N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM603”)120质量份，生成烷氧基硅烷混合液，将该烷氧基硅烷混合液搅拌3小时进行水解、部分缩合，进而用异丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的质量比1∶1的混合溶剂进行稀释。在该溶液中加入氧化铈超微粒(表中，“CeO2”)的15质量％异丙醇分散液(CI化成株式会社制，超微粒的平均一次粒径：30nm)7860质量份(固体成分换算1179质量份，即相对于投入的树脂单体量100质量份是141质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂100质量份是203质量份超微粒)，进一步搅拌10分钟。之后，在该溶液中进一步加入含有未实施表面修饰的平均一次粒径为20nm的二氧化硅超微粒(表中，“SiO2-1”)4质量份(相对于投入的树脂单体量100质量份是0.5质量份，相对于固化后的固化树脂成分100质量份是0.7质量份超微粒成分)的异丙醇溶液，进一步搅拌10分钟，制成涂布液P3。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。
[实施例B12]
在涂布液P1的制造中，改变氧化钛超微粒分散液的添加量，除此以外，与实施例B1同样地制成涂布液P1。另外，除改变膜厚以外，与实施例B1同样地形成膜厚约76nm的固化树脂层。
接着，在形成固化树脂层的面上，使用氧化铟和氧化锌的质量比为90∶10的组成的氧化铟-氧化锌靶，采用溅射法，形成非晶质的透明导电层(IZO层)。IZO层的厚度约为130nm，折射率是2.02，表面电阻值约为30Ω/□(Ω/sq)。
将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。
[实施例B13]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上，使用紫外线固化型多官能丙烯酸酯树脂涂料形成膜厚为4μm的透明硬涂层1。接着，在涂布液P2的制造中，改变二氧化硅超微粒的添加量，除此以外，与实施例B2同样地在透明硬涂层上制成涂布液P2，另外与实施例B2同样地形成膜厚约104nm的固化树脂层。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。
[实施例B14]
使用聚酯膜(DuPontTeijinFilms株式会社制“TEIJINTETORONFILM”，OFW-188)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上，使用紫外线固化型多官能丙烯酸酯树脂涂料形成膜厚为4μm的透明硬涂层1。接着，在涂布液P2的制造中，改变二氧化硅超微粒的添加量，除此以外，与实施例B2同样地制成涂布液P2，另外与实施例B2同样地在透明硬涂层上形成膜厚约104nm的固化树脂层。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。
[实施例B15]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100，表中“PC”)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上用迈尔棒涂布下述涂布液P4，在60℃干燥30秒后，用强度160W的高压水银灯照射累积光量700mJ/cm2的紫外线，形成膜厚约100nm的固化树脂层。
(涂布液P4)
在紫外线固化型的聚氨酯丙烯酸酯(新中村化学制的商品名“NKoligoU-15HA”)200质量份(树脂成分50％)中，加入氧化钛超微粒(表中，“TiO2”)的15质量％异丙醇分散液(CI化成株式会社制，超微粒的平均一次粒径：30nm)480质量份(固体成分换算72质量份，即相对于固化后的固化树脂100质量份是72质量份超微粒)，进一步用异丙醇稀释，搅拌至均匀，制成涂布液P4。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。
[实施例B16]
使用聚酯膜(DuPontTeijinFilms株式会社制“TEIJINTETORONFILM”，OFW-188)作为透明有机高分子基板。
<追加的树脂层的形成>
将特开2009-123685号公报的实施例B1作为参考，制成具有抗牛顿环功能的追加的树脂层。即，如下所述制成追加的树脂层。
(追加的树脂层(Q1))
在基材的单面，用下述涂布液Q1采用棒涂法进行涂覆，在70℃干燥1分钟后，照射紫外线使其固化，由此形成厚度3.5μm的追加的固化树脂层Q1。
(涂布液Q1)
涂布液Q1如下制造：将含有不饱和双键的丙烯酸共聚物(SP值：10.0、Tg：92℃)4重量份、季戊四醇三丙烯酸酯(SP值：12.7)100重量份、光聚合引发剂Irgacure184(CibaSpecialtyChemicals公司制)7重量份溶解在异丁醇溶剂中，使固体成分为40重量％。应予说明，含有不饱和双键的丙烯酸共聚物(SP值：10.0，Tg：92℃)如下进行制备。
混合由甲基丙烯酸异冰片酯171.6g、甲基丙烯酸甲酯2.6g、甲基丙烯酸9.2g构成的混合物。将该混合液与含有过氧化(2-乙基己酸)叔丁酯1.8g的丙二醇单甲基醚80.0g溶液同时用3小时匀速滴加到具备搅拌桨叶、氮气导入管、冷却管和滴液漏斗的1000ml反应容器中的在氮气环境下加温至110℃的丙二醇单甲醚330.0g中，之后，在110℃反应30分钟。然后，滴加含有过氧化(2-乙基己酸)叔丁酯0.2g的丙二醇单甲醚17.0g的溶液并加入含有四丁基溴化铵1.4g和对苯二酚0.1g的5.0g丙二醇单甲醚溶液，一边空气鼓泡，一边用2小时滴加4-羟基丁基丙烯酸酯缩水甘油醚22.4g和丙二醇单甲醚5.0g的溶液，之后，进一步反应5小时。得到数均分子量5500、重均分子量18000的含有不饱和双键的丙烯酸共聚物。该树脂，SP值：10.0、Tg：92℃、表面张力：31dyn/cm。
(追加的树脂层(Q2))
在形成了追加固化树脂层Q1的面的相反面，使用下述涂布液Q2、采用棒涂法进行涂覆，在70℃干燥1分钟后，照射紫外线使其固化，由此形成厚度3.5μm的固化树脂层Q2。
(涂布液Q2)
涂布液Q2如下制造：将上述含有不饱和双键的丙烯酸共聚物(SP值：10.0、Tg：92℃)4重量份、季戊四醇三丙烯酸酯(SP值：12.7)90重量份、三羟甲基丙烷三乙二醇三丙烯酸酯(SP值：11.6)10重量份、光聚合引发剂Irgacure184(CibaSpecialtyChemicals公司制)7重量份溶解到异丁醇溶剂中，使固体成分为40重量％。
<固化树脂层的形成>
接着，在涂布液P1的制造中，改变氧化钛超微粒分散液的添加量，除此以外，与实施例B1同样地制成涂布液P1。另外，除改变膜厚以外，与实施例B1同样地，在追加固化树脂层Q1上形成膜厚约90nm的固化树脂层。
<透明导电层的形成>
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。
将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B1。
<触摸面板的形成>
在对厚度1.1mm的玻璃板的两面进行SiO2浸涂后，采用溅射法形成厚度18nm的ITO层。接着，通过在ITO层上形成高7μm、直径70μm、间距1.5mm的点间隔件，从而制成固定电极基板。
使用固定电极基板和可动电极基板，制成具有图19所示的层结构的触摸面板。使用了本例的透明导电性层叠体的触摸面板，抗牛顿环性良好，观测不到牛顿环。应予说明，在3波长荧光灯下，从相对于触摸面板的表面(垂直方向0度)倾斜60度的方向、以目视观察在使可动电极基板与固定电极基板接触的区域有无牛顿环来评价抗牛顿环性。
[比较例B1]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上直接地、与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。
将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B2。另外，将制成的透明导电性层叠体、以及从透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱示于图17。另外，将图17表示的二个反射光谱的差光谱与实施例B1的差光谱一并示于图18。
[比较例B2]
在涂布液P1的制造中，不添加氧化钛超微粒，除此以外，与实施例B1同样地制成涂布液P1，另外，与实施例B1同样地形成膜厚约100nm的固化树脂层。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B2。
[比较例B3]
在涂布液P2的制造中，不添加氧化钛超微粒，除此以外，与实施例B2同样地制成涂布液P2，另外与实施例B2同样地形成膜厚约100nm的固化树脂层。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B2。
[比较例B4和5]
在涂布液P2的制造中，改变氧化钛超微粒的添加量，除此以外，与实施例B2同样地制成涂布液P2，另外与实施例B2同样地形成膜厚约100nm的固化树脂层。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B2。
[比较例B6和7]
除改变膜厚以外，与实施例B2同样地形成固化树脂层。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B2。
[比较例B8]
除不形成涂布液P1的固化树脂层以外，与实施例B16同样地形成追加的固化树脂层。
接着，与实施例B1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与实施例B1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表B2。
[表3]
[表4]
从表B1可知，使用了实施例的透明导电性层叠体的触摸面板的见骨性均良好。应予说明，使用了表面具有微细突起的固化树脂层的实施例B2～11、13和14，低雾度并且书写(滑动)耐久性优异。与此相对，从表B2可知，使用了比较例的透明导电性层叠体的触摸面板的见骨性均不良。
应予说明，图20和21分别是对下述式(B-b2)和(B-b3)绘制曲线的图，可以明确的是，满足这些式子对于得到所期望的差光谱是重要的：
(B-b2)0.44＜n2/(n1+n3)＜0.49
(B-b3)245＜n2d2/(n1d1)-0.12＜275
[参考例1]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100，表中“PC”)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上用迈尔棒涂布涂布液X2，在130℃热处理5分钟，形成膜厚约50nm层的光学干涉层。
(涂布液X2)
混合水720质量份、2-丙醇1080质量份和乙酸46质量份后，顺次混合3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM403”)480质量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM13”)240质量份和N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM603”)120质量份，生成烷氧基硅烷混合液，将该烷氧基硅烷混合液搅拌3小时进行水解、部分缩合，进而用异丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的质量比1∶1的混合溶剂进行稀释。在该溶液中进一步加入含有未实施表面修饰的平均一次粒径为20nm的二氧化硅超微粒(表中“SiO2-1”)4质量份(相对于投入的树脂单体量100质量份是0.5质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂成分100质量份是0.7质量份超微粒)的异丙醇溶液，进一步搅拌10分钟，制成涂布液X2。
接着，在形成光学干涉层的面上，使用氧化铟和氧化锡的质量比为95∶5的组成且充填密度为98％的氧化铟-氧化锡靶，采用溅射法形成非晶质透明导电层(ITO层)。ITO层的厚度约为20nm，表面电阻值约为370Ω/□(Ω/sq)。
接着，通过进行130℃90分的热处理，使透明导电层(ITO层)结晶化，从而制成透明导电性层叠体。ITO层结晶化后的透明导电层的厚度约为20nm，折射率是2.10，表面电阻值约为450Ω/□(Ω/sq)。应予说明，利用TEM观察的透明导电层的结晶粒径在50nm～200nm的范围。
将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C1。另外，将用AFM观察本例透明导电性层叠体表面形态的结果示于图22。
[参考例2～4]
在涂布液X2的制造中，改变二氧化硅超微粒的添加量，除此以外，与参考例1同样地制成涂布液X2，另外与参考例1同样地形成膜厚约50nm的光学干涉层。
接着，与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C1。
[参考例5和6]
除将膜厚变为约30nm和1000nm以外，采用与参考例1同样的方法，将涂布液X2涂布在聚碳酸酯膜上，形成光学干涉层。
接着，与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C1。
[参考例7]
在涂布液X2的制造中，使用二氧化硅超微粒的平均一次粒径为50nm的超微粒(表中“SiO2-2”)，除此以外，与参考例1同样地制成涂布液X2，另外与参考例1同样地形成膜厚约50nm的光学干涉层。
接着，与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C1。
[参考例8]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上用迈尔棒涂布下述涂布液Y2，在130℃热处理5分钟，形成膜厚约50nm的光学干涉层。
(涂布液Y1)
用石油醚(和光纯药工业公司制的等级为一级品)和丁醇(和光纯药工业公司制的等级为特级品)的1∶4混合溶剂稀释四丁氧基钛酸酯(日本曹达公司制的商品名“B-4”)200质量份。在该溶液中进一步加入含有未实施表面修饰的平均一次粒径为20nm的氧化钛超微粒(表中“TiO2”)0.33质量份(相对于投入的树脂单体量100质量份是0.17质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂成分100质量份是0.7质量份超微粒)的异丙醇溶液，进一步搅拌10分钟，制成涂布液Y1。
接着，与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C1。
[参考例9]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上，使用紫外线固化型多官能丙烯酸酯树脂涂料形成膜厚为4μm的透明硬涂层。接着，在透明硬涂层上，与参考例1同样地形成膜厚约50nm的光学干涉层。
接着，与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C1。
[参考例10]
使用聚酯膜(DuPontIeijinFilms株式会社制“TEIJINTETORONFILM”，OFW-188)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上，使用紫外线固化型多官能丙烯酸酯树脂涂料形成膜厚为4μm的透明硬涂层。接着，在透明硬涂层上，与参考例1同样地形成膜厚约50nm的光学干涉层。
接着，与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C1。
[参考比较例1]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制、C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上直接地、与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C2。
[参考比较例2]
在涂布液X2的制造中，不添加超微粒，除此以外，与参考例1同样地制成涂布液X2，另外与参考例1同样地形成膜厚约50nm的光学干涉层。
接着，与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C2。
[参考比较例3～5]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上，使用紫外线固化型多官能丙烯酸酯树脂涂料200质量份(树脂成分50％)中分别含有平均一次粒径为20nm的二氧化硅超微粒0.7质量份、20质量份和40质量份的异丙醇溶液，形成膜厚约为50nm的光学干涉层。
接着，与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C2。
[参考比较例6]
使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式会社制，C110-100)作为透明有机高分子基板，在其一侧的面上用迈尔棒涂布下述涂布液Z2，在130℃热处理5分钟，形成膜厚约50nm的光学干涉层。
(涂布液Z2)
混合水720质量份、2-丙醇1080质量份和乙酸46质量份后，顺次混合3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM403”)480质量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM13”)240质量份和N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的商品名“KBM603”)120质量份，生成烷氧基硅烷混合液，将该烷氧基硅烷混合液搅拌3小时进行水解、部分缩合，进而用异丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的质量比1∶1的混合溶剂进行稀释。在该溶液中进一步加入含有未实施表面修饰的平均一次粒径为20nm的氧化钛超微粒4质量份(相对于投入的树脂单体量100质量份是0.5质量份超微粒，相对于固化后的固化树脂成分100质量份是0.7质量份超微粒)的异丙醇溶液，进一步搅拌10分钟，制成涂布液Z2。
接着，与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C2。
[参考比较例7～10]
在涂布液X2的制造中，改变二氧化硅超微粒的添加量，除此以外，与参考例1同样地制成涂布液X2，另外与参考例1同样地形成膜厚约50nm的光学干涉层。
接着，与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C2。
[参考比较例11]
在涂布液X2的制造中，添加4质量份的平均粒径为0.5μm的二氧化硅微粒(表中“SiO2-3”)，除此以外，与参考例1同样地制成涂布液X2，另外，与参考例1同样地形成膜厚约50nm的光学干涉层。
接着，与参考例1同样地形成ITO层，使其结晶化。得到的ITO膜具有与参考例1的ITO膜同样的表面电阻值和结晶粒径。将制成的透明导电性层叠体的特性示于表C2。本例的透明导电性层叠体具有稀疏地存在大于300nm高度的突起的表面形状。
[表5]
[表6]
从表C1可知，使用了参考例的透明导电性层叠体的触摸面板，低雾度且书写(滑动)耐久性优异。与此相对，从表C2可知，使用了参考比较例1～7的透明导电性层叠体的触摸面板，结果虽然是低雾度，但滑动性差，另外书写耐久性也低。另外，从表C2可知，使用了参考比较例8～10的透明导电性层叠体的触摸面板，虽然书写(滑动)耐久性优异，但雾度高、光学特性差。另外，从表C2可知，使用了参考比较例11的透明导电性层叠体的触摸面板，虽然是较低雾度，但书写耐久性差。
符号说明
11基板(玻璃板)
12、14透明导电层
13间隔件
15光学干涉层
16透明有机高分子基板
20透明触摸面板
30、130本发明的透明导电性层叠体
30a、b以往的透明导电性层叠体
31、131透明导电层
32、132光学干涉层
33h硬涂层
33、133透明有机高分子基板

Claims (28)

1.一种透明触摸面板用透明导电性层叠体，是在透明有机高分子基板至少一侧的面上顺次层叠固化树脂层、透明导电层而成的透明导电性层叠体，
对于从所述透明导电性层叠体的透明导电层侧投射波长为450nm～700nm的光时的反射光谱而言，所述透明导电性层叠体上的反射光谱与从所述透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱的差光谱满足以下(B-a1)和(B-a2)，且所述透明导电性层仅配置于所述光学干涉层上的一部分而形成图案，
(B-a1)所述差光谱的绝对值的最大值是3.0％以下，并且
(B-a2)所述差光谱的累计值是-200nm·％～200nm·％，
所述差光谱是从所述透明导电性层叠体除去所述透明导电性层时的反射光谱减去所述透明导电性层叠体的反射光谱而得到的，且以nm·％的单位表示的所述差光谱的累计值是将以％的单位表示的所述差光谱在波长450nm～700nm的范围进行累计而得的值。
2.如权利要求1所述的透明导电性层叠体，其是在透明有机高分子基板至少一侧的面上顺次层叠硬涂层、所述固化树脂层、所述透明导电层而成，且满足以下(A-a)～(A-f)：
(A-a)对于550nm波长的光，所述透明有机高分子基板的折射率n3和所述硬涂层的折射率n3h满足下述式：|n3-n3h|≤0.02，
(A-b)所述硬涂层的厚度是1μm～10μm，
(A-c)所述固化树脂层的厚度是5nm～500nm，
(A-d)所述透明导电性层的厚度是5nm～200nm，
(A-e)总光线透射率在85％以上，并且
(A-f)L＊a＊b＊表色系的色度指数b＊值是-1.0以上且小于1.5。
3.如权利要求1或2所述的透明导电性层叠体，其中，将所述透明有机高分子基板的折射率设为n3，将所述固化树脂层的厚度和折射率分别设为d2和n2，且将所述透明导电层的厚度和折射率分别设为d1和n1时，进一步满足以下(B-b1)～(B-b3)：
(B-b1)n1＞n2＞n3，
(B-b2)0.44＜n2/(n1+n3)＜0.49，并且
(B-b3)245＜n2d2/(n1d1)-0.12＜275
d1和d2的单位为nm。
4.如权利要求1或2所述的透明导电性层叠体，其中，进一步满足以下(B-c)～(B-f)：
(B-c)所述固化树脂层含有树脂成分和平均一次粒径1nm～100nm的第1超微粒，
(B-d)所述树脂成分和所述第1超微粒含有相同的金属和/或半金属元素，
(B-e)在所述固化树脂层中，所述第1超微粒的含量相对于所述树脂成分100质量份是0.01质量份～3质量份，并且
(B-f)所述固化树脂层的厚度是0.01μm～0.5μm。
5.如权利要求4所述的透明导电性层叠体，其中，(B-g)所述固化树脂层进一步含有平均一次粒径1nm～100nm且折射率比所述树脂成分大的第2超微粒。
6.如权利要求5所述的透明导电性层叠体，其中，所述固化树脂层通过含有所述第2超微粒，与所述固化树脂层不含第2超微粒的情况相比，所述固化树脂层的折射率增加0.01以上。
7.如权利要求4所述的透明导电性层叠体，其中，每50μm见方的所述透明导电层具有10个～300个高度为30nm～200nm的突起。
8.如权利要求4所述的透明导电性层叠体，其中，所述透明导电层的表面粗糙度Ra是20nm以下。
9.如权利要求1或2所述的透明导电性层叠体，其中，总光线透射率是85％以上，且雾度是2％以下。
10.如权利要求4所述的透明导电性层叠体，其中，所述金属和/或半金属元素是选自Al、Bi、Ca、Hf、In、Mg、Sb、Si、Sn、Ti、Y、Zn和Zr中的1个或多个元素。
11.如权利要求1或2所述的透明导电性层叠体，其中，在所述透明有机高分子基板与所述固化树脂层之间含有追加的固化树脂层。
12.如权利要求11所述的透明导电性层叠体，其中，所述追加的固化树脂层的表面粗糙度Ra是20nm以上且小于500nm。
13.如权利要求4所述的透明导电性层叠体，其中，在所述透明导电层与所述固化树脂层之间具有粘接层，且所述粘接层、固化树脂层的树脂成分、以及固化树脂层的超微粒均含有相同的金属和/或半金属元素。
14.一种透明触摸面板，其特征在于，是配置有1张以上透明电极基板的电容方式的透明触摸面板，所述透明电极基板至少在单面设有透明导电层；使用权利要求1～13中任一项所述的透明导电性层叠体作为至少1个透明电极基板。
15.一种透明触摸面板，其特征在于，是至少在单面设有透明导电层的2张透明电极基板按照各自的透明导电层彼此相对的方式配置而构成的电阻膜方式的透明触摸面板，使用权利要求1～13中任一项所述的透明导电性层叠体作为至少一方的透明电极基板。
16.如权利要求14或15所述的透明触摸面板，其中，在所述透明触摸面板的观察侧，偏振片直接或介由其它基材层叠在所述透明导电性层叠体上。
17.一种透明触摸面板用透明导电性层叠体，是在透明有机高分子基板至少一侧的面上顺次层叠硬涂层、光学干涉层、透明导电层而成，且满足以下(A-a)～(A-f)：
(A-a)对于550nm波长的光，所述透明有机高分子基板的折射率n3和所述硬涂层的折射率n3h满足下述式：|n3-n3h|≤0.02，
(A-b)所述硬涂层的厚度是1μm～10μm，
(A-c)所述光学干涉层的厚度是5nm～500nm，
(A-d)所述透明导电性层的厚度是5nm～200nm，
(A-e)总光线透射率在85％以上，
(A-f)L＊a＊b＊表色系的色度指数b＊值是-1.0以上且小于1.5，并且
(A-h)所述透明导电性层仅配置于所述光学干涉层上的一部分而形成图案。
18.如权利要求17所述的透明导电性层叠体，其中，进一步满足(A-g)对于从所述透明导电性层叠体的透明导电层侧投射波长为450nm～700nm的光时的反射光谱而言，所述透明导电性层叠体上的反射光谱与从所述透明导电性层叠体除去透明导电性层时的反射光谱的差光谱满足以下(A-g1)和(A-g2)：
(A-g1)所述差光谱的绝对值的最大值在3.0％以下，并且
(A-g2)所述差光谱的累计值是-200nm·％～200nm·％。
19.如权利要求17或18所述的透明导电性层叠体，其中，进一步满足(A-i)所述光学干涉层直接层叠在所述硬涂层上。
20.如权利要求17或18所述的透明导电性层叠体，其中，光学干涉层含有固化树脂成分和平均一次粒径100nm以下的第1超微粒。
21.如权利要求17或18所述的透明导电性层叠体，其中，进一步满足以下(A-p)～(A-r)：
(A-p)所述光学干涉层含有树脂成分和平均一次粒径1nm～100nm的第1超微粒，
(A-q)所述树脂成分和所述第1超微粒含有相同的金属和/或半金属元素，并且
(A-r)在所述光学干涉层中，含有与所述树脂成分相同的金属和/或半金属元素的所述第1超微粒的含量相对于所述树脂成分100质量份是0.01质量份～3质量份。
22.如权利要求21所述的透明导电性层叠体，其中，每50μm见方的所述透明导电层具有10个～300个高度为30nm～200nm的突起。
23.如权利要求21所述的透明导电性层叠体，其中，所述透明导电层的表面粗糙度Ra是20nm以下。
24.如权利要求21所述的透明导电性层叠体，其中，雾度是2％以下。
25.如权利要求21所述的透明导电性层叠体，其中，所述金属和/或半金属元素是选自Al、Bi、Ca、Hf、In、Mg、Sb、Si、Sn、Ti、Y、Zn和Zr中的1个或多个元素。
26.一种电阻膜方式的透明触摸面板，是至少在单面设有透明导电层的2张透明电极基板按照各自的透明导电层彼此相对的方式配置而构成的透明触摸面板，具有权利要求17～25中任一项所述的透明导电性层叠体作为至少一方的透明电极基板。
27.一种电容方式的透明触摸面板，具有所述透明导电性层仅配置于所述光学干涉层上的一部分而形成图案的权利要求17～25中任一项所述的透明导电性层叠体。
28.如权利要求26或27所述的透明触摸面板，其中，在所述透明触摸面板的观察侧，偏振片直接或介由其它基材层叠在所述透明导电性层叠体上。
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