JP7389259B2 - 防汚層付き光学フィルム - Google Patents
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Description
本発明は、防汚層付き光学フィルムに関する。
液晶ディスプレイなどのディスプレイにおける画像表示側の外表面には、例えば、所定の光学的機能を有する層（光学機能層）を備える透明な光学フィルムが設けられる。光学フィルムとしては、例えば、反射防止フィルム、透明導電性フィルム、および電磁波遮蔽フィルムが挙げられる。光学フィルムは、例えば、透明基材と、その一方面側に配置されている光学機能層と、透明基材の他方面上に配置されている粘着剤層とを備える。このような光学フィルムに関する技術については、例えば下記の特許文献１に記載されている。
光学機能層が最表層として配置されている光学フィルムでは、手脂などの汚染物質が光学機能層に付着しやすく、また、付着した汚染物質が光学機能層から除去されにくい。光学フィルムにおける汚染物質の付着は、光学フィルムの透明性の確保の観点から好ましくない。そのため、光学フィルムには、例えば、防汚層が最表層として設けられる。そのような防汚層付き光学フィルムでは、防汚層において高い防汚性が求められる。
本発明は、防汚層において高い防汚性を実現するのに適した防汚層付き光学フィルムを提供する。
本発明［１］は、透明基材と、光学機能層と、防汚層とをこの順で備え、防汚層における光学機能層とは反対側の外表面が、１１０°以上の水接触角を有する、防汚層付き光学フィルムを含む。
本発明［２］は、前記外表面が、２ｎｍを超える表面粗さＲａを有する、上記［１］に記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
本発明［３］は、光学機能層が反射防止層である、上記［１］または［２］に記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
本発明［４］は、反射防止層が、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを交互に含む、上記［３］に記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
本発明［５］は、透明基材が、光学機能層側にハードコート層を有する、上記［１］から［４］いずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
本発明［６］は、ハードコート層が金属酸化物微粒子を含有する、上記［５］に記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
本発明［７］は、金属酸化物微粒子がナノシリカ粒子である、上記［６］に記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
本発明［８］は、ハードコート層における光学機能層側の表面が、０.５ｎｍ以上２０ｎｍ以下の表面粗Ｒａさを有する、上記［５］から［７］のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
本発明の防汚層付き光学フィルムは、防汚層における光学機能層とは反対側の外表面が１１０°以上の水接触角を有することから、防汚層において高い防汚性を実現するのに適する。
本発明の防汚層付き光学フィルムの一実施形態としての光学フィルムＦは、図１に示すように、透明基材１０と、光学機能層２０と、防汚層３０とを、厚さ方向Ｄの一方側に向かってこの順で備える。光学フィルムＦは、本実施形態では、透明基材１０と、密着層４０と、光学機能層２０と、防汚層３０とを、厚さ方向Ｄの一方側に向かってこの順で備え、好ましくは、透明基材１０と、密着層４０と、光学機能層２０と、防汚層３０とからなる。また、光学フィルムＦは、厚さ方向Ｄに直交する方向（面方向）に広がる形状を有する。
透明基材１０は、本実施形態では、樹脂フィルム１１と、ハードコート層１２とを厚さ方向Ｄの一方側に向かってこの順で備える。
樹脂フィルム１１は、可撓性を有する透明な樹脂フィルムである。樹脂フィルム１１の材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアリレート樹脂、およびポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、およびポリエチレンナフタレートが挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびシクロオレフィンポリマーが挙げられる。セルロース樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロースが挙げられる。これら材料は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。透明性および強度の観点から、樹脂フィルム１１の材料としては、好ましくはセルロース樹脂が用いられ、より好ましくはトリアセチルセルロースが用いられる。
樹脂フィルム１１におけるハードコート層１２側表面は、表面改質処理されていてもよい。表面改質処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、およびカップリング剤処理が挙げられる。
樹脂フィルム１１の厚さは、強度の観点から、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、さらに好ましくは２０μｍ以上である。樹脂フィルム１１の厚さは、取扱い性の観点から、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。
樹脂フィルム１１の可視光透過率は、透明性の観点から、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。樹脂フィルム１１の可視光透過率は、例えば１００％以下である。
ハードコート層１２は、樹脂フィルム１１の厚さ方向Ｄ一方面上に配置されている。ハードコート層１２は、光学フィルムＦの露出表面（図１では上面）に擦り傷が形成されにくくするための層である。
ハードコート層１２は、硬化性樹脂組成物の硬化物である。硬化性樹脂組成物が含有する硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、アミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、およびメラミン樹脂が挙げられる。これら硬化性樹脂は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。ハードコート層１２の高硬度の確保の観点からは、硬化性樹脂としては、好ましくは、アクリル樹脂および／またはアクリルウレタン樹脂が用いられる。
また、硬化性樹脂組成物としては、例えば、紫外線硬化型の樹脂組成物、および、熱硬化型の樹脂組成物が挙げられる。高温加熱せずに硬化可能であるために光学フィルムＦの製造効率向上に役立つ観点から、硬化性樹脂組成物としては、好ましくは、紫外線硬化型の樹脂組成物が用いられる。紫外線硬化型の樹脂組成物には、紫外線硬化型モノマー、紫外線硬化型オリゴマー、および紫外線硬化型ポリマーからなる群より選択される少なくとも一種類が含まれる。紫外線硬化型の樹脂組成物としては、例えば、特開２０１６－１７９６８６号公報に記載のハードコート層形成用組成物が挙げられる。
ハードコート層１２は、防眩性を有するハードコート層（防眩性ハードコート層）であってもよい。防眩性ハードコート層としてのハードコート層１２は、硬化性樹脂（マトリックス樹脂）と、防眩性を発現させるための微粒子（防眩性微粒子）と、を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物である。防眩性微粒子としては、例えば、金属酸化物微粒子および有機系微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウ、および酸化アンチモンが挙げられる。有機系微粒子の材料としては、ポリメチルメタクリレート、シリコーン、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル－スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、およびポリカーボネートが挙げられる。これら微粒子は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。ハードコート層１２において良好な防眩性を発現させる観点からは、防眩性微粒子としては、好ましくは、ナノシリカ粒子、ポリメチルメタクリレート粒子、およびシリコーン粒子からなる群より選択される少なくとも一種類が用いられる。
微粒子の平均粒子径は、例えば１０μｍ以下、好ましくは８μｍ以下であり、また、例えば１ｎｍ以上である。微粒子としてナノ粒子を用いる場合、当該微粒子の平均粒子径は、例えば１００ｎｍ以下であり、好ましくは７０ｎｍ以下であり、また、例えば１ｎｍ以上である。微粒子の平均粒子径は、例えば、レーザー散乱法における粒度分布測定法によって求められた粒度分布に基づいて、Ｄ５０値（累積５０％メジアン径）として求められる。
マトリックス樹脂（硬化後）の屈折率は、例えば１.４６以上であり、好ましくは１.４９以上、より好ましくは１.５０以上、さらに好ましくは１.５１以上である。同屈折率は、例えば１.６０以下であり、好ましくは１.５９以下、より好ましくは１.５８以下、さらに好ましくは１.５７以下である。
微粒子の屈折率は、マトリックス樹脂の上記屈折率よりも高くてもよいし、低くてもよい。微粒子の屈折率がマトリックス樹脂の屈折率よりも高い場合、微粒子の屈折率は、例えば１.６２以下であり、好ましくは１.６０以下、より好ましくは１.５９以下、さらに好ましくは１.５０以下である。微粒子の屈折率がマトリックス樹脂の屈折率よりも低い場合、微粒子の屈折率は、例えば１.４０以上であり、好ましくは１.４２以上、より好ましくは１.４４以上である。
ハードコート層１２における微粒子の含有量は、マトリックス樹脂１００質量部に対し、好ましくは１質量部以上であり、より好ましくは３質量部以上である。ハードコート層１２における微粒子の含有量は、マトリックス樹脂１００質量部に対し、好ましくは３０質量部以下であり、より好ましくは２０質量部以下である。
ハードコート層１２の厚さは、同層の硬度確保の観点からは、好ましくは０.５μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上である。ハードコート層１２の厚さは、例えば１０μｍ以下である。
ハードコート層１２における密着層４０側表面は、表面改質処理されていてもよい。表面改質処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、およびカップリング剤処理が挙げられる。ハードコート層１２と密着層４０との間において高い密着力を確保する観点からは、ハードコート層１２における密着層４０側表面は、好ましくはグロー処理されている。
透明基材１０の厚さは、強度の観点から、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、さらに好ましくは２０μｍ以上である。透明基材１０の厚さは、取扱い性の観点から、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。
透明基材１０の可視光透過率は、透明性の観点から、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。透明基材１０の可視光透過率は、例えば１００％以下である。
透明基材１０における光学機能層２０側の表面（本実施形態では、ハードコート層１２における光学機能層２０側の表面）の表面粗さＲａ（算術平均表面粗さ）は、好ましくは０.５ｎｍ以上、より好ましくは０.８ｎｍ以上である。同表面粗さＲａは、好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは１５ｎｍ以下である。表面粗さＲａは、例えば、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）による１μｍ四方の観察像から求められる。
密着層４０は、透明基材１０と、光学機能層２０との、密着力を確保するための層である。密着層４０は、透明基材１０（本実施形態において具体的には、透明基材１０のハードコート層１２）の厚さ方向Ｄ一方面上に配置されている。密着層４０の材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、アルミニウム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、ジルコニウム、パラジウム等の金属、これら金属の２種類以上の合金、および、これら金属の酸化物が挙げられる。有機層（具体的にはハードコート層１２）および酸化物層（具体的には、後記の第１高屈折率層２１）の両方に対する密着性と、密着層４０の透明性との両立の観点からは、密着層４０の材料としては、好ましくは酸化シリコン（ＳｉＯｘ）またはインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）が用いられる。密着層４０の材料として酸化シリコンが用いられる場合、好ましくは、化学量論組成よりも酸素量の少ないＳｉＯｘが用いられ、より好ましくは、ｘが１.２以上１.９以下のＳｉＯｘが用いられる。
密着層４０の厚さは、透明基材１０と光学機能層２０との間の密着力の確保と、密着層４０の透明性との両立の観点から、例えば１ｎｍ以上であり、また、例えば１０ｎｍ以下である。
光学機能層２０は、密着層４０の厚さ方向Ｄ一方面上に配置されている。本実施形態では、光学機能層２０は、外光の反射強度を抑制するための反射防止層である。すなわち、光学フィルムＦは、本実施形態では反射防止フィルムである。
光学機能層２０（反射防止層）は、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを、厚さ方向に交互に有する。反射防止層では、それに含まれる複数の薄層（高屈折率層，低屈折率層）における複数の界面での反射光間の干渉作用により、正味の反射光強度が減衰される。また、反射防止層では、各薄層の光学膜厚（屈折率と厚さとの積）の調整により、反射光強度を減衰させる干渉作用を発現させることができる。このような反射防止層としての光学機能層２０は、本実施形態において具体的には、第１高屈折率層２１と、第１低屈折率層２２と、第２高屈折率層２３と、第２低屈折率層２４とを、厚さ方向Ｄの一方側に向かってこの順で有する。
第１高屈折率層２１および第２高屈折率層２３は、それぞれ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が好ましくは１.９以上の高屈折率材料からなる。高屈折率と可視光の低吸収性との両立の観点から、高屈折率材料としては、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン、酸化ジルコニウム、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、およびアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）が挙げられ、好ましくは酸化ニオブが用いられる。
第１高屈折率層２１の光学膜厚（屈折率と厚さとの積）は、例えば２０ｎｍ以上であり、また、例えば５５ｎｍ以下である。第２高屈折率層２３の光学膜厚は、例えば６０ｎｍ以上であり、また、例えば３３０ｎｍ以下である。
第１低屈折率層２２および第２低屈折率層２４は、それぞれ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が好ましくは１.６以下の低屈折率材料からなる。低屈折率と可視光の低吸収性との両立の観点から、低屈折率材料としては、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）およびフッ化マグネシウムが挙げられ、好ましくは二酸化ケイ素が用いられる。第２低屈折率層２４の材料としては、第２低屈折率層２４と防汚層３０との密着性確保の観点からも、好ましくは二酸化ケイ素が用いられる。
第１低屈折率層２２の光学膜厚は、例えば１５ｎｍ以上であり、また、例えば７０ｎｍ以下である。第２低屈折率層２４の光学膜厚は、例えば１００ｎｍ以上であり、また、例えば１６０ｎｍ以下である。
また、光学機能層２０において、第１高屈折率層２１の厚さは、例えば１ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上であり、また、例えば３０ｎｍ以下、好ましくは２０ｎｍ以下である。第１低屈折率層２２の厚さは、例えば１０ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ以上であり、また、例えば５０ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ以下である。第２高屈折率層２３の厚さは、例えば５０ｎｍ以上、好ましくは８０ｎｍ以上であり、また、例えば２００ｎｍ以下、好ましくは１５０ｎｍ以下である。第２低屈折率層２４の厚さは、例えば６０ｎｍ以上、好ましくは８０ｎｍ以上であり、また、例えば１５０ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下である。
防汚層３０は、光学フィルムＦにおける防汚機能を有する層であり、光学機能層２０の厚さ方向Ｄ一方面上に配置されている。防汚層３０は、厚さ方向Ｄ一方側に外表面３１を有する。防汚層３０の防汚機能には、光学フィルムＦの使用時のフィルム露出面に対する手脂などの汚染物質の付着の抑制機能、および、付着した汚染物質を除去しやすくする機能が含まれる。
防汚層３０の材料としては、例えば、フッ素基含有の有機化合物が挙げられる。フッ素基含有の有機化合物としては、好ましくは、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物が用いられる。パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物としては、例えば、下記の一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ１－Ｒ２－Ｘ－(ＣＨ２)ｍ－Ｓｉ(ＯＲ３)３ （１）
一般式（１）において、Ｒ１は、アルキル基における一つ以上の水素原子がフッ素原子に置換された、直鎖状または分岐状のフッ化アルキル基（炭素数は例えば１以上２０以下）を表し、好ましくは、アルキル基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換されたパーフルオロアルキル基を表す。
Ｒ２は、パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）基の繰り返し構造を少なくとも一つ含む構造を表し、好ましくは、ＰＦＰＥ基の繰り返し構造を二つ含む構造を表す。ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造、および、分岐状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造が挙げられる。直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、－(ＯＣｎＦ２ｎ)ｐ－で表される構造（ｎは、１以上２０以下の整数を表し、ｐは、１以上５０以下の整数を表す。以下同じ）が挙げられる。分岐状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、－(ＯＣ(ＣＦ３)２)ｐ－で表される構造、および、－(ＯＣＦ２ＣＦ(ＣＦ３)ＣＦ２)ｐ－で表される構造が挙げられる。ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、好ましくは、直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造が挙げられ、より好ましくは、－(ＯＣＦ２)ｐ－および－(ＯＣ２Ｆ４)ｐ－が挙げられる。
Ｒ３は、炭素数１以上４以下アルキル基を表し、好ましくはメチル基を表す。
Ｘは、エーテル基、カルボニル基、アミノ基、またはアミド基を表し、好ましくはエーテル基を表す。
ｍは、１以上の整数を表す。また、ｍは、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは５以下の整数を表す。
このようなパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物のうち、好ましくは、下記の一般式（２）に示される化合物が用いられる。
ＣＦ３－(ＯＣＦ２)ｑ－(ＯＣ２Ｆ４)ｒ－Ｏ－(ＣＨ２)３－Ｓｉ(ＯＣＨ３)３ (２)
一般式（２）において、ｑは、１以上５０以下の整数を表し、ｒは、１以上５０以下の整数を表す。
また、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。
防汚層３０は、本実施形態では、ドライコーティング法で形成された膜（ドライコーティング膜）である。ドライコーティング法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、およびＣＶＤが挙げられる。防汚層３０は、好ましくはドライコーティング膜であり、より好ましくは真空蒸着膜である。
防汚層３０の材料が、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有し、且つ、防汚層３０が、ドライコーティング膜（好ましくは真空蒸着膜）である構成は、光学機能層２０に対する防汚層３０の高い接合力の確保に適し、従って、防汚層３０の耐剥離性の確保に適する。防汚層３０の耐剥離性が高いことは、防汚層３０の防汚性能の維持に役立つ。
防汚層３０の厚さは、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは２ｎｍ以上、さらに好ましくは３ｎｍ以上である。防汚層３０の厚さは、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以下である。
防汚層３０の外表面３１の水接触角（純水接触角）は、１１０°以上であり、好ましくは１１１°以上、より好ましくは１１２°以上、さらに好ましくは１１３°以上、特に好ましくは１１４°以上である。外表面３１における水接触角がこの程度に高い構成は、防汚層３０において高い防汚性を実現するのに適する。同水接触角は、例えば１３０°以下である。水接触角は、防汚層３０の外表面３１（露出表面）に直径２ｍｍ以下の水滴（純水の液滴）を形成して、防汚層３０表面に対する当該水滴の接触角を測定することにより、求められる。外表面３１の水接触角は、例えば、防汚層３０の組成、外表面３１の粗さ、ハードコート層１２の組成、および、ハードコート層１２の光学機能層２０側の表面の粗さの調整によって、調整できる。
防汚層３０の外表面３１の表面粗さＲａ（算術平均表面粗さ）は、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは１.３ｎｍ以上、さらに好ましくは２ｎｍ以上である。このような構成は、防汚層３０の外表面３１の光沢感が強くなりすぎるのを回避するのに適する。同表面粗さＲａは、好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは１８ｎｍ以下、さらに好ましくは１７ｎｍ以下である。このような構成は、光学フィルムＦにおける光学特性とヘイズの観点から好ましく、例えば、光学フィルムＦがディスプレイ表面に設けられる場合に、当該光学フィルムＦを介して視認される画像の白ボケ（white blurring）を抑制するのに適する。
防汚層３０の全反射Ｙ値は、好ましくは１以下、より好ましくは０.９以下である。防汚層３０の正反射Ｙ値は、好ましくは０.９以下、より好ましくは０.８以下である。これら構成は、光学フィルムＦがディスプレイ表面に設けられる場合に、当該でスプレイ表面での背景の映り込みを抑制するのに適する。
全反射Ｙ値（Ｙ１）と正反射Ｙ値（Ｙ２）との差ΔＹ（Ｙ１－Ｙ２）は、好ましくは０.１３を超え、より好ましくは０.１５以上、さらに好ましくは０.１７以上である。このような構成は、防汚層３０ないし光学フィルムＦの防眩性を確保するのに適する。差ΔＹは、好ましくは０.８以下、より好ましくは０.７以下である。このような構成は、光学フィルムＦがディスプレイ表面に設けられる場合に、当該光学フィルムＦを介して視認される画像の白ボケを抑制するのに適する。
全反射Ｙ値（Ｙ１）に対する正反射Ｙ値（Ｙ２）の比率（Ｙ２／Ｙ１）は、好ましくは０.１５以上、より好ましくは０.１８以上である。このような構成は、光学フィルムＦがディスプレイ表面に設けられる場合に、当該光学フィルムＦを介して視認される画像の白ボケを抑制するのに適する。同比率（Ｙ２／Ｙ１）は、好ましくは０.６以下、より好ましくは０.５８以下である。このような構成は、防汚層３０ないし光学フィルムＦの防眩性を確保するのに適する。
防汚層３０の表面ヘイズ（外部ヘイズ）は、好ましくは２０％以下、より好ましくは１０％以下である。このような構成は、光学フィルムＦの透明性を確保するのに適する。防汚層３０の表面ヘイズは、例えば０.０１％以上である。
光学フィルムＦは、透明基材１０を用意した後、例えばロールトゥロール方式において、透明基材１０上に密着層４０、光学機能層２０、および防汚層３０を順次に積層することによって、作製できる。光学機能層２０は、密着層４０上に第１高屈折率層２１、第１低屈折率層２２、第２高屈折率層２３、および第２低屈折率層２４を順次に積層することによって形成できる。
透明基材１０は、樹脂フィルム１１上にハードコート層１２を形成することによって作製できる。ハードコート層１２は、例えば、樹脂フィルム１１上に、硬化性樹脂と必要に応じて防眩性微粒子とを含有する硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成した後、この塗膜を硬化させることによって形成できる。硬化性樹脂組成物が紫外線化型樹脂を含有する場合には、紫外線照射によって前記塗膜を硬化させる。硬化性樹脂組成物が熱硬化型樹脂を含有する場合には、加熱によって前記塗膜を硬化させる。
透明基材１０上に形成されたハードコート層１２の露出表面は、必要に応じて、表面改質処理される。表面改質処理としてプラズマ処理する場合、不活性ガスとして例えばアルゴンガスを用いる。また、プラズマ処理における放電電力は、例えば１０Ｗ以上であり、また、例えば１００００Ｗ以下である。
密着層４０、第１高屈折率層２１、第１低屈折率層２２、第２高屈折率層２３、および第２低屈折率層２４は、それぞれ、ドライコーティング法で材料を成膜することによって形成できる。ドライコーティング法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、およびＣＶＤが挙げられ、好ましくはスパッタリング法が用いられる。
スパッタリング法では、スパッタ室内に真空条件下でガスを導入しつつ、カソード上に配置されたターゲットにマイナスの電圧を印加する。これにより、グロー放電を発生させてガス原子をイオン化し、当該ガスイオンを高速でターゲット表面に衝突させ、ターゲット表面からターゲット材料を弾き出し、弾き出たターゲット材料を所定面上に堆積させる。金属酸化物層を形成するには、成膜速度の観点から、反応性スパッタリングが好ましい。反応性スパッタリングでは、ターゲットとして金属ターゲットを用い、上述のガスとして、アルゴンなどの不活性ガスと酸素（反応性ガス）との混合ガスを用いる。不活性ガスと酸素との流量比（ｓｃｃｍ）の調整により、成膜される金属酸化物層に含まれる酸素の割合を調整できる。
スパッタリング法を実施するための電源としては、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＲＦ電源、および、ＭＦＡＣ電源（周波数帯が数十～数百ＭＨｚのＡＣ電源）が挙げられる。スパッタリング法における放電電圧は、例えば２００Ｖ以上であり、また、例えば１０００Ｖ以下である。また、スパッタリング法が実施されるスパッタ室内の成膜気圧は、例えば０.０１Ｐａ以上であり、また、例えば２Ｐａ以下である。
防汚層３０は、光学機能層２０上に例えばフッ素基含有の有機化合物を成膜することによって形成できる。防汚層３０の形成手法としては、ドライコーティング法が挙げられる。ドライコーティング法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、およびＣＶＤが挙げられ、好ましくは真空蒸着法が用いられる。
例えば以上のようにして、光学フィルムＦを製造できる。光学フィルムＦは、透明基材１０側が例えば粘着剤を介して被着体に貼り合わされて、使用される。
光学フィルムＦは、反射防止フィルム以外の他の光学フィルムであってもよい。他の光学フィルムとしては、例えば、透明導電性フィルムおよび電磁波遮蔽フィルムが挙げられる。
光学フィルムＦが透明導電性フィルムである場合、当該光学フィルムＦの光学機能層２０は、例えば、第１誘電体薄膜と、ＩＴＯ膜などの透明電極膜と、第２誘電体膜とを厚さ方向Ｄの一方側に向かってこの順で備える。このような積層構成を有する光学機能層２０において、可視光透過性と導電性とが両立される。
光学フィルムＦが電磁波遮蔽フィルムである場合、当該光学フィルムＦの光学機能層２０は、例えば、電磁波反射能を有する金属薄膜と、金属酸化物膜とを厚さ方向Ｄに交互に備える。このような積層構成を有する光学機能層２０において、特定波長の電磁波に対する遮蔽性と可視光透過性とが両立される。
光学フィルムＦは、図２に示すように、透明基材１０における厚さ方向Ｄの他方面に配置された粘着剤層５０を備えてもよい。
粘着剤層５０は、粘着性組成物から形成された層であり、且つ光透過性を有する。粘着性組成物は、少なくとも、粘着剤層５０において粘着性を発現させるベースポリマーを含有する。ベースポリマーとしては、例えば、アクリルポリマー、ゴム系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ウレタン系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、およびポリアミド系ポリマーが挙げられる。光学フィルムＦの粘着剤層５０に求められる粘着力と高い透明性とを併せて実現するという観点からは、好ましくは、ベースポリマーとしてはアクリルポリマーが用いられる。
粘着剤層５０の厚さは、光学フィルムＦにおいて、被着体に対する充分な粘着力を実現するという観点からは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１５μｍ以上である。また、透明性の確保の観点からは、粘着剤層５０の厚さは、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下である。
図２に示す光学フィルムＦは、例えば、次のようにして製造できる。まず、剥離ライナー上に、粘着性組成物を塗布して塗膜を形成する。次に、剥離ライナー上の塗膜を必要に応じて乾燥させる。これにより、剥離ライナー上に粘着剤層５０が形成される。次に、粘着剤層５０の露出面と、図１に示す光学フィルムＦの透明基材１０の厚さ方向Ｄ他方面（図１では下面）と貼り合わせる。例えばこのようにして、図２に示す光学フィルムＦを製造できる。
光学フィルムＦが粘着剤層５０を備える場合、被着体に対する貼り合わせ時に、別途接着剤を必要としない。
本発明について、以下に実施例を示して具体的に説明する。本発明は実施例に限定されない。また、以下に記載されている配合量（含有量）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上述の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合量（含有量）、物性値、パラメータなど該当記載の上限（「以下」または「未満」として定義されている数値）または下限（「以上」または「超える」として定義されている数値）に代替できる。
〔実施例１〕
まず、透明な樹脂フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ８０μｍ）の片面に、防眩性のハードコート層を形成した（ハードコート層形成工程）。本工程では、まず、紫外線硬化型のウレタンアクリレート（商品名「ＵＶ１７００ＴＬ」，日本合成化学工業社製）５０質量部と、紫外線硬化型の多官能アクリレート（商品名「ビスコート＃３００」，主成分はペンタエリストールトリアクリレート，大阪有機化学工業社製）５０質量部と、防眩性微粒子としてのポリメチルメタクリレート粒子（商品名「テクポリマー」，平均粒子径３μｍ，屈折率１.５２５，積水化成品工業社製）３質量部と、防眩性微粒子としてのシリコーン粒子（商品名「トスパール１３０」，平均粒子径３μｍ，屈折率１.４２，モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）１.５質量部と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」，有機粘土である合成スメクタイト，コープケミカル社製）１.５質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」，ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」，共栄社化学社製）０.１５質量部と、トルエン・酢酸エチル・シクロペンタノン混合溶媒（質量比３５：４１：２４）とを混合し、固形分濃度５５質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。次に、上記ＴＡＣフィルムの片面に組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた後、加熱により乾燥させた。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を３００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、加熱の温度は８０℃とし、加熱の時間は６０秒間とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚さ８μｍの防眩性のハードコート層（第１のＨＣ層）を形成した。
まず、透明な樹脂フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ８０μｍ）の片面に、防眩性のハードコート層を形成した（ハードコート層形成工程）。本工程では、まず、紫外線硬化型のウレタンアクリレート（商品名「ＵＶ１７００ＴＬ」，日本合成化学工業社製）５０質量部と、紫外線硬化型の多官能アクリレート（商品名「ビスコート＃３００」，主成分はペンタエリストールトリアクリレート，大阪有機化学工業社製）５０質量部と、防眩性微粒子としてのポリメチルメタクリレート粒子（商品名「テクポリマー」，平均粒子径３μｍ，屈折率１.５２５，積水化成品工業社製）３質量部と、防眩性微粒子としてのシリコーン粒子（商品名「トスパール１３０」，平均粒子径３μｍ，屈折率１.４２，モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）１.５質量部と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」，有機粘土である合成スメクタイト，コープケミカル社製）１.５質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」，ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」，共栄社化学社製）０.１５質量部と、トルエン・酢酸エチル・シクロペンタノン混合溶媒（質量比３５：４１：２４）とを混合し、固形分濃度５５質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。次に、上記ＴＡＣフィルムの片面に組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた後、加熱により乾燥させた。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を３００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、加熱の温度は８０℃とし、加熱の時間は６０秒間とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚さ８μｍの防眩性のハードコート層（第１のＨＣ層）を形成した。
次に、ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、ＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層表面を、１.０Ｐａの真空雰囲気下でプラズマ処理した。このプラズマ処理では、不活性ガスとしてアルゴンガスを用い、放電電力を２４００Ｗとした。
次に、プラズマ処理後のＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層上に、密着層と反射防止層とを順次に形成した（スパッタ成膜工程）。具体的には、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置により、プラズマ処理後のＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層上に、密着層としての厚さ３.５ｎｍのＳｉＯｘ層（ｘ＜２）と、第１高屈折率層としての厚さ１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第１低屈折率層としての厚さ２８ｎｍのＳｉＯ２層と、第２高屈折率層としての厚さ１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第２低屈折率層としての厚さ８５ｎｍのＳｉＯ２層とを、順次に形成した。密着層の形成では、Ｓｉターゲットを用い、不活性ガスとしてのアルゴンガスと、アルゴンガス１００体積部に対して３体積部の反応性ガスとしての酸素ガスとを用い、放電電圧を５２０Ｖとし、成膜室内の気圧（成膜気圧）を０.２７Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＳｉＯｘ層（ｘ＜２）を成膜した。第１高屈折率層の形成では、Ｎｂターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび５体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を４１５Ｖとし、成膜気圧を０.４２Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＮｂ２Ｏ５層を成膜した。第１低屈折率層の形成では、Ｓｉターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび３０体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を３５０Ｖとし、成膜気圧を０.３Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＳｉＯ２層を成膜した。第２高屈折率層の形成では、Ｎｂターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび１３体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を４６０Ｖとし、成膜気圧を０.５Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＮｂ２Ｏ５層を成膜した。第２低屈折率層の形成では、Ｓｉターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび３０体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を３４０Ｖとし、成膜気圧を０.２５Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＳｉＯ２層を成膜した。以上のようにして、ＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層上に、密着層を介して反射防止層（第１高屈折率層，第１低屈折率層，第２高屈折率層，第２低屈折率層）を積層形成した。
次に、形成された反射防止層上に防汚層を形成した（防汚層形成工程）。具体的には、パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物を蒸着源として用いた真空蒸着法により、厚さ７ｎｍの防汚層を反射防止層上に形成した。蒸着源は、ダイキン工業社製の「オプツール ＵＤ５０９」（上記一般式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アルコキシシラン化合物，固形分濃度２０質量％）を乾燥して得た固形分である。また、真空蒸着法における蒸着源の加熱温度は２６０℃とした。
以上のようにして、実施例１の光学フィルムを作製した。実施例１の光学フィルムは、透明基材（樹脂フィルム，ハードコート層）と、密着層と、反射防止層と、防汚層とを、厚さ方向一方側に向かってこの順で備える。
〔実施例２〕
防汚層形成工程での蒸着源として、ダイキン工業社製の「オプツール ＵＤ１２０」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いたこと以外は、実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例２の光学フィルムを作製した。
防汚層形成工程での蒸着源として、ダイキン工業社製の「オプツール ＵＤ１２０」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いたこと以外は、実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例２の光学フィルムを作製した。
〔実施例３〕
まず、透明な樹脂フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ８０μｍ）の片面に、防眩性のハードコート層を形成した（ハードコート層形成工程）。本工程では、まず、紫外線硬化型のアクリルモノマー（商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ－１０７０」，ＤＩＣ社製）１００質量部と、防眩性微粒子としてのナノシリカ粒子を含有するオルガノシリカゾル（商品名「ＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ」，ナノシリカ粒子の平均一次粒子径は５０ｎｍ，固形分濃度３０質量％，日産化学社製）２５質量部（ナノシリカ粒子換算量）と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」，有機粘土である合成スメクタイト，コープケミカル社製）１.５質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」，ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」，共栄社化学社製）０.１５質量部とを混合して、固形分濃度５５質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。次に、上記ＴＡＣフィルムの片面に組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた後、加熱により乾燥させた。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を２００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、加熱の時間は８０℃とし、加熱の温度は３分間とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚さ６μｍの防眩性のハードコート層（第２のＨＣ層）を形成した。
まず、透明な樹脂フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ８０μｍ）の片面に、防眩性のハードコート層を形成した（ハードコート層形成工程）。本工程では、まず、紫外線硬化型のアクリルモノマー（商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ－１０７０」，ＤＩＣ社製）１００質量部と、防眩性微粒子としてのナノシリカ粒子を含有するオルガノシリカゾル（商品名「ＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ」，ナノシリカ粒子の平均一次粒子径は５０ｎｍ，固形分濃度３０質量％，日産化学社製）２５質量部（ナノシリカ粒子換算量）と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」，有機粘土である合成スメクタイト，コープケミカル社製）１.５質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」，ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」，共栄社化学社製）０.１５質量部とを混合して、固形分濃度５５質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。次に、上記ＴＡＣフィルムの片面に組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた後、加熱により乾燥させた。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を２００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、加熱の時間は８０℃とし、加熱の温度は３分間とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚さ６μｍの防眩性のハードコート層（第２のＨＣ層）を形成した。
次に、ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、ＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層表面を、１.０Ｐａの真空雰囲気下でプラズマ処理した。このプラズマ処理では、不活性ガスとしてアルゴンガスを用い、放電電力を１５０Ｗとした。
次に、プラズマ処理後のＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層上に、密着層と反射防止層とを順次に形成した（スパッタ成膜工程）。具体的には、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置により、プラズマ処理後のＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層上に、密着層としての厚さ１.５ｎｍのインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層と、第１高屈折率層としての厚さ１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第１低屈折率層としての厚さ２８ｎｍのＳｉＯ２層と、第２高屈折率層としての厚さ１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第２低屈折率層としての厚さ８５ｎｍのＳｉＯ２層とを、順次に形成した。密着層の形成では、ＩＴＯターゲットを用い、不活性ガスとしてのアルゴンガスと、アルゴンガス１００体積部に対して１０体積部の反応性ガスとしての酸素ガスとを用い、放電電圧を４００Ｖとし、成膜室内の気圧（成膜気圧）を０.２Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＩＴＯ層を成膜した。本実施例における第１高屈折率層、第１低屈折率層、第２高屈折率層、および第２低屈折率層の形成条件は、実施例１における第１高屈折率層、第１低屈折率層、第２高屈折率層、および第２低屈折率層の上記の形成条件と同じである。
次に、形成された反射防止層上に防汚層を形成した（防汚層形成工程）。具体的には、実施例１における防汚層形成工程と同じである（蒸着源としては、ダイキン工業社製の「オプツール ＵＤ５０９」を乾燥して得た固形分を用いた）。
以上のようにして、実施例３の光学フィルムを作製した。実施例３の光学フィルムは、透明基材（樹脂フィルム，ハードコート層）と、密着層と、反射防止層と、防汚層とを、厚さ方向一方側に向かってこの順で備える。
〔実施例４〕
防汚層形成工程での蒸着源として、ダイキン工業社製の「オプツールＵＤ１２０」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いたこと以外は、実施例３の光学フィルムと同様にして、実施例４の光学フィルムを作製した。
防汚層形成工程での蒸着源として、ダイキン工業社製の「オプツールＵＤ１２０」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いたこと以外は、実施例３の光学フィルムと同様にして、実施例４の光学フィルムを作製した。
〔実施例５〕
防汚層形成工程での蒸着源として、信越化学工業社製の「ＫＹ－１９０１」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いたこと以外は、実施例３の光学フィルムと同様にして、実施例５の光学フィルムを作製した。
防汚層形成工程での蒸着源として、信越化学工業社製の「ＫＹ－１９０１」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いたこと以外は、実施例３の光学フィルムと同様にして、実施例５の光学フィルムを作製した。
〔実施例６〕
ハードコート層形成工程および防汚層形成工程以外は、実施例３の光学フィルムと同様にして、実施例６の光学フィルムを作製した。
ハードコート層形成工程および防汚層形成工程以外は、実施例３の光学フィルムと同様にして、実施例６の光学フィルムを作製した。
実施例６におけるハードコート層形成工程では、まず、ナノシリカ粒子含有のアクリルモノマー組成物（商品名「ＮＣ０３５」，ナノシリカ粒子の平均一次粒子径は４０ｎｍ，固形分濃度５０質量％，固形分中のナノシリカ粒子の割合は６０質量％，荒川化学工業社製）６７質量部と、紫外線硬化型の多官能アクリレート（商品名「バインダーＡ」，固形分濃度１００質量％，荒川化学工業社製）３３質量部と、防眩性微粒子としてのポリメチルメタクリレート粒子（商品名「テクポリマー」，平均粒子径３μｍ，屈折率１.５２５，積水化成品工業社製）３質量部と、防眩性微粒子としてのシリコーン粒子（商品名「トスパール１３０」，平均粒子径３μｍ，屈折率１.４２，モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）１.５質量部と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」，有機粘土である合成スメクタイト，コープケミカル社製）１.５質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」，ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」，共栄社化学社製）０.１５質量部と、トルエンとを混合し、固形分濃度４５質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。次に、上記ＴＡＣフィルムの片面に組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた後、加熱により乾燥させた。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を２００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、加熱の時間は６０℃とし、加熱の温度は６０秒間とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚さ７μｍの防眩性のハードコート層（第３のＨＣ層）を形成した。
実施例６における防汚層形成工程では、蒸着源として、ダイキン工業社製の「オプツールＵＤ１２０」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いた。
〔実施例７〕
防汚層形成工程での蒸着源として、信越化学工業社製の「ＫＹ－１９０１」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いたこと以外は、実施例６の光学フィルムと同様にして、実施例７の光学フィルムを作製した。
防汚層形成工程での蒸着源として、信越化学工業社製の「ＫＹ－１９０１」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いたこと以外は、実施例６の光学フィルムと同様にして、実施例７の光学フィルムを作製した。
〔実施例８〕
ハードコート層形成工程および防汚層形成工程以外は、実施例３の光学フィルムと同様にして、実施例８の光学フィルムを作製した。
ハードコート層形成工程および防汚層形成工程以外は、実施例３の光学フィルムと同様にして、実施例８の光学フィルムを作製した。
実施例８におけるハードコート層形成工程では、まず、ナノシリカ粒子含有のアクリルモノマー組成物（商品名「ＮＣ０３５ＨＳ」，ナノシリカ粒子の平均一次粒子径は４０ｎｍ，固形分濃度５０質量％，固形分中のナノシリカ粒子の割合は６０質量％，荒川化学工業社製）８３質量部と、紫外線硬化型の多官能ウレタンアクリレート（商品名「ビームセット５８０」，固形分濃度７０質量％，荒川化学工業社製）１７質量部と、防眩性微粒子としてのポリメチルメタクリレート粒子（商品名「テクポリマー」，平均粒子径３μｍ，屈折率１.４９５，積水化成品工業社製）４質量部と、防眩性微粒子としてのシリコーン粒子（商品名「トスパール１３０」，平均粒子径３μｍ，屈折率１.４２，モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）０.１質量部と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」，有機粘土である合成スメクタイト，コープケミカル社製）２.０質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」，ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」，共栄社化学社製）０.１５質量部と、酢酸ブチルとを混合し、固形分濃度４２質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。次に、上記ＴＡＣフィルムの片面に組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた後、加熱により乾燥させた。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を２００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、加熱の時間は６０℃とし、加熱の温度は６０秒間とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚さ８μｍの防眩性のハードコート層（第４のＨＣ層）を形成した。
実施例８における防汚層形成工程では、蒸着源として、信越化学工業社製の「ＫＹ－１９０３－１」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いた。
〔比較例１〕
防汚層形成工程以外は、実施例１の光学フィルムと同様にして、比較例１の光学フィルムを作製した。
防汚層形成工程以外は、実施例１の光学フィルムと同様にして、比較例１の光学フィルムを作製した。
比較例１における防汚層形成工程では、まず、コーティング剤としての「オプツール ＵＤ５０９」（ダイキン工業社製）を、希釈溶媒（商品名「フロリナート」，３Ｍ社製）で希釈して、固形分濃度０.１質量％のコーティング液を調製した。次に、スパッタ成膜工程で形成された反射防止層の上に、コーティング液をグラビアコーティングによって塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、６０℃で２分間の加熱によって乾燥させた。これにより、反射防止層上に厚さ７ｎｍの防汚層を形成した。
〈水接触角〉
実施例１～８および比較例１の各光学フィルムについて、防汚層表面の水接触角を調べた。まず、光学フィルムの防汚層表面に、約１μＬの純水の滴下によって水滴を形成した。次に、防汚層表面上の水滴の表面と防汚層表面とがなす角度を測定した。測定には、接触角計（商品名「ＤＭｏ－５０１」，協和界面科学社製）を使用した。その測定結果を表１に示す。
実施例１～８および比較例１の各光学フィルムについて、防汚層表面の水接触角を調べた。まず、光学フィルムの防汚層表面に、約１μＬの純水の滴下によって水滴を形成した。次に、防汚層表面上の水滴の表面と防汚層表面とがなす角度を測定した。測定には、接触角計（商品名「ＤＭｏ－５０１」，協和界面科学社製）を使用した。その測定結果を表１に示す。
〈表面粗さＲａ〉
実施例１～８および比較例１の各光学フィルムについて、防汚層の表面粗さＲａを調べた。具体的には、各光学フィルムの防汚層表面を、原子間力顕微鏡（商品名「ＳＰＩ３８００」，セイコーインスツルメンツ社製）によって観察し、１μｍ四方の観察像において、表面粗さＲａ（算術平均粗さ）を求めた。その結果を表１に示す。
実施例１～８および比較例１の各光学フィルムについて、防汚層の表面粗さＲａを調べた。具体的には、各光学フィルムの防汚層表面を、原子間力顕微鏡（商品名「ＳＰＩ３８００」，セイコーインスツルメンツ社製）によって観察し、１μｍ四方の観察像において、表面粗さＲａ（算術平均粗さ）を求めた。その結果を表１に示す。
〈全反射および正反射〉
実施例１～８および比較例１の各光学フィルムについて、以下のようにして、全反射Ｙ値および正反射Ｙ値を測定した。
実施例１～８および比較例１の各光学フィルムについて、以下のようにして、全反射Ｙ値および正反射Ｙ値を測定した。
まず、光学フィルムから切り出されたサンプルフィルム（５０ｍｍ×５０ｍｍ）の透明基材側を、粘着剤を介して、黒アクリル板に貼り合わせた。次に、黒アクリル板に貼り合せたサンプルについて、分光光度計（商品名「Ｕ－４１００」，日立ハイテクノロジーズ社製）を使用して全反射測定を実施した。この測定によって得られた、波長３８０～７８０ｎｍでの分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布とに基づき、ＪＩＳ Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の三刺激値Ｙを計算し、全反射Ｙ値を求めた。
また、黒アクリル板に貼り合せた上記サンプルについて、分光光度計（商品名「Ｕ－４１００」）を使用して、Ｕ－４１００付属の治具を用いて散乱光を除去した状態で、光の入射角５°の条件での正反射測定を実施した。この測定によって得られた、波長３８０～７８０ｎｍでの分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布とに基づき、ＪＩＳ Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の三刺激値Ｙを計算し、正反射Ｙ値を求めた。
全反射Ｙ値（Ｙ１）、正反射Ｙ値（Ｙ２）、全反射Ｙ値と正反射Ｙ値との差ΔＹ（Ｙ１－Ｙ２）、および、全反射Ｙ値に対する正反射Ｙ値の比率（Ｙ２／Ｙ１）を、表１に示す。
〈表面ヘイズ〉
実施例１～８および比較例１の各光学フィルムについて、表面ヘイズを調べた。具体的には、まず、光学フィルムから切り出したサンプルフィルムについて、村上色彩技術研究所社製の「ヘイズメーターＨＭ１５０」を使用して、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）に基づき、ヘイズ測定を実施した（これにより、サンプルフィルムのトータルヘイズの値が測定される）。次に、サンプルフィルムにおける防汚層側表面に粘着剤を介してシクロオレフィンポリマーフィルムを貼り合わせてサンプルフィルムの表面ヘイズを無くした状態で、村上色彩技術研究所社製の「ヘイズメーターＨＭ１５０」を使用して、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）に基づき、ヘイズ測定を実施した（これにより、サンプルフィルムの内部ヘイズの値が測定される）。そして、トータルヘイズの値から内部ヘイズの値を引き、外部ヘイズ（表面ヘイズ）の値を求めた。その値を表１に示す。
実施例１～８および比較例１の各光学フィルムについて、表面ヘイズを調べた。具体的には、まず、光学フィルムから切り出したサンプルフィルムについて、村上色彩技術研究所社製の「ヘイズメーターＨＭ１５０」を使用して、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）に基づき、ヘイズ測定を実施した（これにより、サンプルフィルムのトータルヘイズの値が測定される）。次に、サンプルフィルムにおける防汚層側表面に粘着剤を介してシクロオレフィンポリマーフィルムを貼り合わせてサンプルフィルムの表面ヘイズを無くした状態で、村上色彩技術研究所社製の「ヘイズメーターＨＭ１５０」を使用して、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）に基づき、ヘイズ測定を実施した（これにより、サンプルフィルムの内部ヘイズの値が測定される）。そして、トータルヘイズの値から内部ヘイズの値を引き、外部ヘイズ（表面ヘイズ）の値を求めた。その値を表１に示す。
〈防汚性の評価〉
実施例１～８および比較例１の各光学フィルムについて、防汚層の防汚性を調べた。具体的には、まず、光学フィルムの防汚層表面に、指で触れて指紋を付けた。次に、指紋に対し、木綿製のウエスによる拭い取り作業（防汚層表面における指紋付着箇所を含む領域にウエスを接触させつつ当該ウエスを一方向に掃引する作業）を３回実施した。そして、防汚層の防汚性について、３回の拭き取り作業によって指紋を拭き取れた場合を“良”と評価し、３回の拭き取り作業によっても指紋が拭き取れなかった場合（即ち、指紋の一部が残存した場合）を“不良”と評価した。その結果を表１に示す。
実施例１～８および比較例１の各光学フィルムについて、防汚層の防汚性を調べた。具体的には、まず、光学フィルムの防汚層表面に、指で触れて指紋を付けた。次に、指紋に対し、木綿製のウエスによる拭い取り作業（防汚層表面における指紋付着箇所を含む領域にウエスを接触させつつ当該ウエスを一方向に掃引する作業）を３回実施した。そして、防汚層の防汚性について、３回の拭き取り作業によって指紋を拭き取れた場合を“良”と評価し、３回の拭き取り作業によっても指紋が拭き取れなかった場合（即ち、指紋の一部が残存した場合）を“不良”と評価した。その結果を表１に示す。
上述の実施形態は本発明の例示であり、当該実施形態によって本発明を限定的に解釈してはならない。当該技術分野の当業者によって明らかな本発明の変形例は、後記の請求の範囲に含まれる。
本発明の防汚層付き光学フィルムは、例えば、防汚層付き反射防止フィルム、防汚層付き透明導電性フィルム、および、防汚層付き電磁波遮蔽フィルムに適用できる。
Ｆ 光学フィルム（防汚層付き光学フィルム）
１０ 透明基材
１１ 樹脂フィルム
１２ ハードコート層
２０ 光学機能層
２１ 第１高屈折率層
２２ 第１低屈折率層
２３ 第２高屈折率層
２４ 第２低屈折率層
３０ 防汚層
３１ 外表面
４０ 密着層
５０ 粘着剤層
１０ 透明基材
１１ 樹脂フィルム
１２ ハードコート層
２０ 光学機能層
２１ 第１高屈折率層
２２ 第１低屈折率層
２３ 第２高屈折率層
２４ 第２低屈折率層
３０ 防汚層
３１ 外表面
４０ 密着層
５０ 粘着剤層
Claims (7)
- 透明基材と、光学機能層と、防汚層とをこの順で備え、
前記防汚層における前記光学機能層とは反対側の外表面が、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の表面粗さＲａを有し、且つ１１０°以上の水接触角を有し、
前記防汚層が、下記の一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基含有アルコキシシラン化合物の膜であり、
Ｒ１－Ｒ２－Ｘ－(ＣＨ２)ｍ－Ｓｉ(ＯＲ３)３ （１）
一般式（１）において、Ｒ１はパーフルオロアルキル基を表し、Ｒ２は、－(ＯＣＦ２)ｐ－と－(ＯＣ２Ｆ４)ｐ－とを含むパーフルオロポリエーテル基繰り返し構造を表し、ｐは１以上５０以下の整数を表し、Ｒ３は炭素数１以上４以下アルキル基を表し、Ｘは、エーテル基、カルボニル基、アミノ基、またはアミド基を表し、ｍは１以上の整数を表す、防汚層付き光学フィルム。 - 前記光学機能層が反射防止層である、請求項１に記載の防汚層付き光学フィルム。
- 前記反射防止層が、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを交互に含む、請求項２に記載の防汚層付き光学フィルム。
- 前記透明基材が、前記光学機能層側にハードコート層を有する、請求項１から３のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルム。
- 前記ハードコート層が金属酸化物微粒子を含有する、請求項４に記載の防汚層付き光学フィルム。
- 前記金属酸化物微粒子がナノシリカ粒子である、請求項５に記載の防汚層付き光学フィルム。
- 前記ハードコート層における前記光学機能層側の表面が、０.５ｎｍ以上２０ｎｍ以下の表面粗さＲａを有する、請求項４から６のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルム。
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