JP2020060657A - 反射防止ガラス - Google Patents
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Abstract
Description
図1を参照して、本発明の反射防止ガラスの一実施形態である反射防止ガラス1を説明する。
ガラス基材2は、反射防止ガラス1の最下層であって、反射防止ガラス1の機械的強度を確保し、反射防止層3および防汚層4を支持する支持材である。
反射防止層3は、太陽光や室内光などの外光の映り込みを防止するための層である。
防汚層4は、指紋や埃などの汚染物質が反射防止ガラス1の上面に付着することを抑制するための層である。
次いで、反射防止ガラス1を製造する方法を説明する。反射防止ガラス1の製造では、例えば、ロールトゥロール工程において、ガラス基材2に、反射防止層3および防汚層4を順に設ける。具体的には、長手方向に長尺なガラス基材2を送出ロールから送出して搬送方向下流側に搬送しながら、ガラス基材2の上面に反射防止層3を設け、次いで、反射防止層3の上面に防汚層4を設け、巻取ロールにて反射防止ガラス1を巻き取る。以下、詳述する。
反射防止ガラス1は、例えば、画像表示装置などの光学装置に用いられる。反射防止ガラス1を画像表示装置(具体的には、LCDモジュール、有機ELモジュールなどの画像表示素子を有する画像表示装置)に備える場合には、反射防止ガラス1は、例えば、最表面用の保護基材として用いられる。
以下に、図1に示す一実施形態の変形例について説明する。なお、これら変形例についても、上記した一実施形態と同様の作用効果を奏する。
一方向に長尺なガラス基材(無アルカリガラス、厚み100μm、日本電気硝子社製、「G−Leaf」)をロールトゥロール方式のスパッタ製膜装置に導入し、ガラス基材を走行させながら、スパッタリング法により、表1に示すようにNb2O5層とSiO2層とを交互に成膜して、反射防止層(4層積層体)を作製した。これらの層の形成において、Arの導入量および排気量を調整し、スパッタ成膜装置の成膜チャンバー内の気圧を0.25Paに一定に保ち、プラズマ発光モニタリング制御によって、導入する酸素量を調整した。
成膜チャンバー内の気圧を1.0Paに保って反射防止層を形成した以外は、実施例1と同様にして、反射防止ガラスを製造した。
ハードコート層(HC層、厚み6μm)付きトリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム、厚み80μm)を用意した。このTACフィルムをロールトゥロール方式のスパッタ製膜装置に導入し、TACフィルムを走行させながら、ハードコート層にボンバード処理(Arガスによるプラズマ処理)を実施した。その後、密着層として3.5nmのSi層をハードコート層の上面に形成し、続いて、表1に示すようにNb2O5層とSiO2層とを交互に形成した。次いで、実施例1と同様にして、反射防止層の上面に防汚層を形成した。これにより、比較例2の反射防止フィルムを製造した。
成膜チャンバー内の気圧を1.0Paに保って反射防止層を形成した以外は、比較例2と同様にして、比較例3の反射防止フィルムを製造した。
実施例1および各比較例の反射防止層および防汚層の厚みを、走査型蛍光X線分析装置(リガク社製、「ZSX PrimusII」)を用いて測定した。また、ガラス基材およびTACフィルムの厚みは、「ダイヤルゲージ(PEACOCK社製、「DG−205」)」を用いて測定した。結果を表1に示す。
実施例1および各比較例の反射防止部材(反射防止ガラスまたは反射防止フィルム)の上面(防汚層の表面)の表面粗さRaを、原子間力顕微鏡(Veeco社製、「Nanoscope4」)を用いて測定した。結果を表1に示す。
JIS K 5600−5−4に準拠して、各実施例および各比較例の反射防止部材の上面に対する引っかき硬度を測定した。結果を表1に示す。
実施例1および各比較例の反射防止部材の上面に対して、#0000のスチールウール(SW)を用いて、300g/cm2荷重で10往復擦った。この際、反射防止部材に傷および層間剥離が発生したか否かを、反射防止層の透過光および反射光を観察することにより確認した。次いで、荷重を大きくなるように変更して、上記と同様に傷の発生を確認した。この作業を傷の発生が確認できるまで繰り返し、傷または層間剥離が発生した時点の荷重を表1に示す。なお、荷重を100g単位で3kg/cm2まで変更し、3kg/cm2においても傷または層間剥離の発生が確認されなかった場合は、「3kg/cm2以上」と記載した。結果を表1に示す。
比較例1の反射防止フィルムでは、表面粗さが2.0nm以上であるため、鉛筆硬度が6B、かつ、耐SW試験が300g/cm2である。すなわち、非常に硬度が低い鉛筆や低荷重のスチールウールに対しても、傷や層間剥離が発生する。すなわち、耐擦傷性が非常に低い。
2 ガラス基材
3 反射防止層
4 防汚層
Claims (3)
- ガラス基材と、
前記ガラス基材の厚み方向一方側に配置される反射防止層と
を備える反射防止ガラスであって、
前記反射防止ガラスの前記厚み方向一方側の表面における表面粗さRaが、2.0nm未満であることを特徴とする、反射防止ガラス。 - 前記ガラス基材の厚みが、150μm以下であることを特徴とする、請求項1に記載の反射防止ガラス。
- 前記反射防止層の厚み方向一方側に配置される防汚層をさらに備えることを特徴とする、請求項1または2に記載の反射防止ガラス。
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