WO2022014574A1 - 積層体 - Google Patents

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翔 橋本
幸大 宮本
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Definitions

  • the present invention relates to a laminated body, and more particularly to a laminated body provided with an antifouling layer.
  • the base material layer 2 includes the base material 3 and the hard coat layer 4 in order toward one side in the thickness direction.
  • the base material 3 has a film shape.
  • the base material 3 has flexibility.
  • the base material 3 is arranged on the entire lower surface of the hard coat layer 4 so as to come into contact with the lower surface of the hard coat layer 4.
  • the maximum cross-sectional height Pt is the difference between the maximum height in the evaluation region and the minimum height in the evaluation region when the average value of the heights in the evaluation region is set to zero.
  • the maximum cross-sectional height Pt is the sum of the height of the convex portion 21 of the antifouling layer 5 and the depth of the concave portion 22, as shown in FIG. 3A.
  • the antifouling property of the antifouling layer 5 can be improved.
  • the antifouling layer 5 is preferably formed of the above-mentioned alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group (preferably, the above-mentioned alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (2)). ..
  • the antifouling layer 5 contains an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group, preferably an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group.
  • a diluted solution of the hard coat composition is applied to one side of the base material 3 in the thickness direction and dried. After drying, the hardcourt composition is cured by irradiation with ultraviolet rays. As a result, the hard coat layer 4 is formed on one surface of the base material 3 in the thickness direction.
  • Comparative Example 1 The same treatment as in Example 1 was carried out to produce a laminated body.

Abstract

積層体は基材層と、防汚層とを厚み方向一方側に向かって順に備える。防汚層の、最大断面高さＰｔは、２．０μｍ以下である。

Description

積層体
　本発明は、積層体に関し、詳しくは、防汚層を備える積層体に関する。
　従来、フィルム基材の表面、および、光学部品の表面に、汚れ（手垢および指紋）の付着を防止する観点から、防汚層を形成することが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
　具体的には、被処理基材と、フルオロアルキルシラザンを含む防汚性薄膜（防汚層）とを含む積層体が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
特開平１１－７１６６５号公報
　一方、防汚層に、紫外線が照射されると、防汚層の防汚性が低下するという不具合がある。
　本発明は、防汚層に紫外線が照射されても、防汚層の防汚性の低下を抑制できる積層体を提供することにある。
　本発明［１］は、基材層と、防汚層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記防汚層の、最大断面高さＰｔが、２．０μｍ以下である、積層体である。
　本発明［２］は、前記防汚層の水接触角が、１００°以上である、上記［１］に記載の積層体を含んでいる。
　本発明［３］は、前記防汚層が、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含む、上記［１］または［２］に記載の積層体を含んでいる。
　本発明［４］は、前記防汚層の厚みが、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下である、上記［１］～［３］のいずれか一項に記載の積層体を含んでいる。
　本発明［５］は、前記基材層および前記防汚層の間に、さらに、反射防止層を備える、上記［１］～［４］のいずれか一項に記載の積層体を含んでいる。
　本発明［６］は、前記基材層が、基材と、ハードコート層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記ハードコート層は、樹脂および粒子を含み、前記粒子の配合割合は、樹脂および粒子の総量１００質量部に対して、４０質量部以下である、上記［１］～［５］のいずれか一項に記載の積層体を含んでいる。
　本発明の積層体における防汚層の、最大断面高さＰｔが、２．０μｍ以下である。そのため、防汚層に紫外線が照射されても、防汚層の防汚性の低下を抑制できる。
図１は、本発明の積層体の第１実施形態を示す。 図２Ａおよび図２Ｂは、防汚層の表面状態を示す。図２Ａは、防汚層の最大断面高さＰｔが、２．０μｍを超過する場合の、防汚層の表面状態を示す。図２Ｂは、防汚層の最大断面高さＰｔが、２．０μｍ以下である場合の、防汚層の表面状態を示す。 図３Ａおよび図３Ｂは、最大断面高さＰｔおよび算術平均粗さＲａの説明図である。図３Ａは、最大断面高さＰｔの説明図である。図３Ｂは、算術平均粗さＲａの説明図である。 図４Ａ～図４Ｃは、本発明の積層体の第１実施形態の製造方法の一実施形態を示す。図４Ａは、第１工程において、基材を準備する工程を示す。図４Ｂは、第１工程において、基材に、ハードコート層を配置する工程を示す。図４Ｃは、基材層に、防汚層を配置する第２工程を示す。 図５は、本発明の積層体の第２実施形態を示す。 図６Ａ～図６Ｄは、本発明の積層体の第２実施形態の製造方法の一実施形態を示す。図６Ａは、第３工程において、基材を準備する工程を示す。図６Ｂは、第３工程において、基材に、ハードコート層を配置する工程を示す。図６Ｃは、基材層に、反射防止層を配置する第４工程を示す。図６Ｄは、反射防止層に、防汚層を配置する第５工程を示す。
　１．第１実施形態
　図１を参照して、本発明の積層体の第１実施形態を説明する。
　図１において、紙面上下方向は、上下方向（厚み方向）である。また、紙面上側が、上側（厚み方向一方側）である。また、紙面下側が、下側（厚み方向他方側）である。また、紙面左右方向および奥行き方向は、上下方向に直交する面方向である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。
　１－１．積層体
　積層体１は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む。）を有する。積層体１は、厚み方向と直交する面方向に延びる。積層体１は、平坦な上面および平坦な下面を有する。
　図１に示すように、積層体１は、基材層２と、防汚層５とを厚み方向一方側に向かって順に備える。積層体１は、より具体的には、基材層２と、基材層２の上面（厚み方向一方面）に直接配置される防汚層５とを備える。
　積層体１の厚みは、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下、また、例えば、１μｍ以上、好ましくは、５μｍ以上である。
　１－２．基材層
　基材層２は、防汚層５によって、防汚性を付与される被処理体である。
　基材層２の全光線透過率（ＪＩＳ　Ｋ　７３７５－２００８）は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上である。
　基材層２は、基材３と、ハードコート層４とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
　基材３は、フィルム形状を有する。基材３は、可撓性を有する。基材３は、ハードコート層４の下面に接触するように、ハードコート層４の下面全面に、配置されている。
　基材３としては、例えば、高分子フィルムが挙げられる。
　高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、オレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、および、ポリスチレン樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、および、ポリエチレンナフタレートが挙げられる。（メタ）アクリル樹脂としては、例えば、ポリメタクリレートが挙げられる。オレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、および、シクロオレフィンポリマーが挙げられる。セルロース樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロースが挙げられる。
　高分子フィルムの材料としては、好ましくは、セルロース樹脂、より好ましくは、トリアセチルセルロースが挙げられる。
　基材３の厚みは、例えば、１μｍ以上、好ましくは、５μｍ以上、より好ましくは、１０μｍ以上、また、例えば、２００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下、より好ましくは、１００μｍ以下である。
　基材３の厚みは、ダイヤルゲージ（ＰＥＡＣＯＣＫ社製、「ＤＧ－２０５」）を用いて測定できる。
　ハードコート層４は、基材３に傷が発生することを抑制するための保護層である。また、ハードコート層４は、目的および用途に応じて、基材３に防眩性を付与するできる層である。
　ハードコート層４は、例えば、ハードコート組成物から形成される。
　ハードコート組成物は、樹脂および粒子を含む。つまり、ハードコート層４は、樹脂および粒子を含む。
　樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、および、硬化性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂が挙げられる。
　硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線（例えば、紫外線、および、電子線）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、および、加熱により硬化する熱硬化性樹脂が挙げられる。硬化性樹脂としては、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。
　活性エネルギー線硬化性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系紫外線硬化性樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、および、有機シラン縮合物が挙げられる。活性エネルギー線硬化性樹脂としては、好ましくは、（メタ）アクリル系紫外線硬化性樹脂が挙げられる。
　また、樹脂は、例えば、特開２００８－８８３０９号公報に記載の反応性希釈剤を含むことができる。具体的には、樹脂は、多官能（メタ）アクリレートを含むことができる。
　粒子としては、例えば、有機粒子、および、無機粒子が挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル系粒子が挙げられる。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子が挙げられる。粒子としては、好ましくは、無機粒子、より好ましくは、シリカ粒子が挙げられる。
　そして、粒子の配合割合および／または粒子の平均粒子径を所定の割合に調整することによって、後述する防汚層５の最大断面高さＰｔを、後述する所定の範囲に調整できる。
　具体的には、粒子の配合割合は、樹脂および粒子の総量１００質量部に対して、例えば、５質量部以上、好ましくは、１０質量部以上、より好ましくは、２０質量部以上、さらに好ましくは、３５質量部以上、また、例えば、４０質量部以下である。
　粒子の配合割合が、上記上限以下であれば、後述する防汚層５の最大断面高さＰｔを、後述する所定の範囲に調整できる。その結果、防汚層５に紫外線が照射されても、防汚層５の防汚性の低下を抑制できる。
　粒子の平均粒子径は、例えば、０．０１μｍ以上、好ましくは、０．０３μｍ以上、また、０．３μｍ以下、好ましくは、０．１μｍ以下である。
　粒子の平均粒子径が、上記範囲内であれば、後述する防汚層５の最大断面高さＰｔを、後述する所定の範囲に調整できる。その結果、防汚層５に紫外線が照射されても、防汚層５の防汚性の低下を抑制できる。
　なお、粒子の平均粒子径は、断面ＴＥＭにより求めることができる。
　また、ハードコート層４を形成するには、詳しくは後述するが、ハードコート組成物の希釈液を基材３の厚み方向一方面に塗布し、乾燥させる。乾燥後、紫外線照射により、ハードコート組成物を硬化させる。
　これにより、ハードコート層４を形成する。
　ハードコート層４の厚みは、耐擦傷性の観点から、例えば、０．１μｍ以上、好ましくは、０．５μｍ以上、また、例えば、５０μｍ以下、好ましくは、３０μｍ以下である。ハードコート層４の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて、断面観察により測定できる。
　１－３．防汚層
　防汚層５は、基材層２の厚み方向一方側に対して、汚れ（例えば、垢および指紋）の付着を防止するための層である。
　防汚層５は、薄膜形状を有する。防汚層５は、基材層２（ハードコート層４）の上面全面に、基材層２（ハードコート層４）の上面に接触するように、配置されている。
　防汚層５は、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物から形成されている。換言すれば、防汚層５は、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含む。防汚層５は、好ましくは、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物からなる。
　防汚層５がパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含むと、防汚層５の防汚性が向上する。
　パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物としては、例えば、下記一般式（１）に示される化合物が挙げられる。
Ｒ１－Ｒ２－Ｘ－（ＣＨ２）ｌ－Ｓｉ（ＯＲ３）３　　（１）
　（上記式（１）において、Ｒ１は、１つ以上の水素原子がフッ素原子によって置換されたフッ化アルキル基を示す。Ｒ２は、パーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造を少なくとも１つ含む構造を示す。Ｒ３は、炭素数１以上４以下アルキル基を示す。ｌは、１以上の整数を示す。）
　Ｒ１は、１つ以上の水素がフッ素原子によって置換された、直鎖状又は分岐状のフッ化アルキル基（炭素数１以上２０以下）を示す。Ｒ１は、好ましくは、アルキル基の水素原子のすべてをフッ素原子に置換したパーフルオロアルキル基を示す。
　Ｒ２は、パーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造を少なくとも１つ含む構造を示す。Ｒ２は、好ましくは、パーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造を２つ含む構造を示す。
　パーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造としては、例えば、直鎖状のパーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造、および、分岐状のパーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造が挙げられる。直鎖状のパーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造としては、例えば、－（ＯＣｎＦ２ｎ）ｍ－（ｍは１以上５０以下の整数を示す。ｎは、１以上２０以下の整数を示す。以下同様。）が挙げられる。分岐状のパーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造としては、例えば、－（ＯＣ（ＣＦ３）２）ｍ－、および、－(ＯＣＦ２ＣＦ(ＣＦ３)ＣＦ２)ｍ－が挙げられる。
　パーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造としては、好ましくは、直鎖状のパーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造、より好ましくは、－（ＯＣＦ２）ｍ－、および、－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ－が挙げられる。
　Ｒ３は、炭素数１以上４以下アルキル基を示す。Ｒ３は、好ましくは、メチル基を示す。
　Ｘは、エーテル基、カルボニル基、アミノ基、またはアミド基を表し、好ましくはエーテル基を表す。
　ｌは、１以上、また、２０以下、好ましくは、１０以下、より好ましくは、５以下の整数を示す。ｌは、さらに好ましくは、３を示す。
　このようなパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物のうち、好ましくは、下記一般式（２）に示される化合物が挙げられる。
ＣＦ３－（ＯＣＦ２）Ｐ－（ＯＣ２Ｆ４）Ｑ－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３　（２）
　（上記式（２）において、Ｐは、１以上５０以下の整数を示す。Ｑは、１以上５０以下の整数を示す。）
　パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物は、市販品を用いることもできる。市販品として、具体的には、オプツールＵＤ５０９（上記一般式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物、ダイキン工業社製）、および、ＫＹ１９０３－１（上記一般式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物、信越化学製）が挙げられる。
　パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物は、単独使用または２種以上併用できる。
　防汚層５は、後述する方法により形成される。
　防汚層５の厚みは、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上、また、例えば、３０ｎｍ以下、好ましくは、２０ｎｍ以下、より好ましくは、１５ｎｍ以下、さらに好ましくは、１０ｎｍ以下である。
　防汚層５の厚みが、上記下限以上であれば、防汚層５の防汚性を向上できる。
　防汚層５の厚みが、上記上限以下であれば、防汚層５を製造する際に、ムラを抑制できる。その結果、防汚層５の意匠性が向上する。
　なお、防汚層５の厚みは、蛍光Ｘ線（リガク製　ＺＸＳ　ＰｒｉｍｕｓＩＩ）で測定できる。
　そして、防汚層５の最大断面高さＰｔは、２．０μｍ以下、好ましくは、１．５μｍ以下、また、例えば、０．１μｍ以上である。
　防汚層５の最大断面高さＰｔが、上記上限以下であれば、防汚層５に紫外線が照射されても、防汚層５の防汚性の低下を抑制できる。
　一方、防汚層５の最大断面高さＰｔが、上記上限を超過すると、防汚層５に紫外線が照射されることにより、防汚層５の防汚性が著しく低下する。
　詳しくは、防汚層５の最大断面高さＰｔが、２．０μｍを超過する場合には、図２Ａに示すように、防汚層５の表面に、高さの高い凸部２１が形成されている。このような凸部２１は、高さが高いため、紫外線による防汚性の低下の影響を受けやすい。その結果、防汚層５の防汚性の低下を抑制できない。
　一方、防汚層５の最大断面高さＰｔが、２．０μｍ以下であれば、図２Ｂに示すように、防汚層５の表面に形成される凸部２１の高さは低くなる。詳しくは、防汚層５の最大断面高さＰｔが２．０以下の場合の凸部２１の高さは、防汚層５の最大断面高さＰｔが、２．０を超過する場合の防汚層５の凸部２１の高さよりも相対的に低くなる。そのため、紫外線による防汚性の低下の影響を受けにくくなる。その結果、防汚層５の防汚性の低下を抑制できる。
　また、最大断面高さＰｔは、評価領域内の高さの平均値をゼロとしたときの、評価領域内の高さ最大値と評価領域内の高さ最小値との差である。換言すれば、最大断面高さＰｔは、図３Ａが参照されるように、防汚層５の凸部２１の高さ、および、凹部２２の深さの和である。
　一方、表面の凹凸を表す一般的な指標として、算術平均粗さＲａが挙げられる。算術平均粗さＲａは、評価領域内の高さの平均値である。換言すれば、算術平均粗さＲａは、図３Ｂが参照されるように、凸部２１および凹部２２の表面の凹凸部２３の高さを考慮して算出される平均値である。
　そのため、最大断面高さＰｔは、算術平均粗さＲａとは異なるパラメータである。また、最大断面高さＰｔは、算術平均粗さＲａと相関しないパラメータである。
　なお、防汚層５の最大断面高さＰｔの測定方法については、後述する実施例で詳述する。
　防汚層５の水接触角は、例えば、１００°以上、好ましくは、１０５°以上、また、例えば、１２０°以下である。
　防汚層５の水接触角が、上記下限以上であれば、防汚層５の防汚性を向上できる。
　なお、防汚層５の水接触角の測定方法については、後述する実施例で詳述する。
　１－４．積層体の製造方法
　図４Ａ～図４Ｃを参照して、積層体１の製造方法を説明する。
　積層体１の製造方法の製造方法は、基材層２を準備する第１工程と、基材層２に、防汚層５を配置する第２工程とを備える。
　第１工程では、基材層２を準備する。
　基材層２を準備するには、まず、図４Ａに示すように、基材３を準備する。
　次いで、図４Ｂに示すように、基材３に、ハードコート層４を配置する。具体的には、基材３の厚み方向一方面に、ハードコート層４を配置する。
　具体的には、基材３の厚み方向一方面に、ハードコート組成物の希釈液を塗布し、乾燥させる。乾燥後、紫外線照射により、ハードコート組成物を硬化させる。これにより、基材３の厚み方向一方面に、ハードコート層４を形成する。
　第２工程では、図４Ｃに示すように、基材層２（ハードコート層４）に、防汚層５を配置する。具体的には、基材層２（ハードコート層４）の厚み方向一方面に、防汚層５を配置する。
　基材層２に防汚層５を配置するには、基材層２および防汚層５の密着性の向上の観点から、まず、基材層２の表面に、表面処理を施す。
　表面処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理（好ましくは、ボンバード処理（Ａｒガスによるプラズマ処理））、フレーム処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、および、ケン化処理が挙げられる。表面処理としては、好ましくは、プラズマ処理が挙げられる。
　そして、基材層２に防汚層５を配置する方法としては、例えば、真空蒸着法、および、ウェットコーティング法が挙げられる。基材層２に防汚層５を配置する方法として、好ましくは、ウェットコーティング法が挙げられる。
　これにより、基材層２の厚み方向一方面に防汚層５を配置する。そして、基材層２と、防汚層５とを厚み方向一方側に向かって順に備える積層体１が製造される。
　そして、この積層体１において、防汚層５の最大断面高さＰｔは、２．０μｍ以下である。そのため、防汚層５に紫外線が照射されても、防汚層５の防汚性の低下を抑制できる。
　２．第２実施形態
　図５を参照して、本発明の積層体の第２実施形態を説明する。
　なお、第２実施形態において、第１実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、第２実施形態は、特記する以外、第１実施形態と同様の作用効果を奏することができる。さらに、第１実施形態および第２実施形態を適宜組み合わせることができる。
　２－１．積層体
　図５に示すように、積層体１は、基材層２と、反射防止層６と、防汚層５とを厚み方向一方側に向かって順に備える。積層体１は、より具体的には、基材層２と、基材層２の上面（厚み方向一方面）に直接配置される反射防止層６と、反射防止層６の上面（厚み方向一方面）に直接配置される防汚層５とを備える。換言すれば、積層体１は、基材層２および防汚層５の間に、反射防止層６を備える。
　積層体１の厚みは、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下、また、例えば、１μｍ以上、好ましくは、５μｍ以上である。
　２－２．基材層
　基材層２は、反射防止層６の下面に接触するように、反射防止層６の下面全面に、配置されている。
　基材層２は、基材３と、ハードコート層４とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
　基材３としては、第１実施形態における基材３と同様の基材が挙げられる。基材３として、好ましくは、セルロース樹脂、より好ましくは、トリアセチルセルロースが挙げられる。
　基材３の厚みは、第１実施形態における基材３の厚みと同様である。
　ハードコート層４としては、第１実施形態におけるハードコート組成物と同様のハードコート組成物から形成される。
　つまり、第２実施形態におけるハードコート組成物は、第１実施形態における樹脂、および、第１実施形態における粒子を含む。
　また、ハードコート層４を形成するには、第１実施形態と同様に、ハードコート組成物の希釈液を基材３の厚み方向一方面に塗布し乾燥させる。乾燥後、紫外線照射により、ハードコート組成物を硬化させる。
　ハードコート層４の厚みは、第１実施形態におけるハードコート層４の厚みと同様である。
　２－３．反射防止層
　反射防止層６は、外光の反射を抑制するための層である。
　反射防止層６は、フィルム形状を有する。反射防止層６は、防汚層５の下面に接触するように、防汚層５の下面全面に、配置されている。
　反射防止層６は、密着層７と、互いに異なる屈折率を有する２以上の層とを備える。
　以下の説明では、反射防止層６が、密着層７と、第１高屈折率層８と、第１低屈折率層９と、第２高屈折率層１０と、第２低屈折率層１１とを厚み方向一方側に向かって順に備える場合について説明する。
　密着層７は、基材層２（ハードコート層４）の上面に接触するように、基材層２の上面全面に、配置されている。
　密着層７の材料としては、基材層２と密着性の図れる材料が選択される。
　具体的には、密着層７の材料としては、例えば、金属が挙げられる。金属としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、アルミニウム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、ジルコニウム、パラジウム、および、インジウムが挙げられる。また、密着層７の材料としては、上記の金属の合金、上記の金属の金属酸化物、上記の金属の金属窒化物、および、上記の金属の金属フッ化物が含まれる。
　密着層７の材料としては、密着性の観点から、インジウム系酸化物が好ましく、酸化インジウムを６０重量％以上含むものがより好ましい。インジウム系酸化物の具体例としては、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、および酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）が挙げられる。中でも、高透明であり、ハードコート層との密着性に優れることから、ＩＴＯが好ましい。ＩＴＯにおける酸化インジウムの量は、８０％～９８％程度が好ましい。
　密着層７の材料は、単独使用または２種以上併用できる。
　密着層７の厚みは、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、２ｎｍ以上、また、例えば、５０ｎｍ以下、好ましくは、１０ｎｍ以下である。
　互いに異なる屈折率を有する２以上の層は、密着層７の上面に接触するように、密着層７の上面全面に、配置されている。
　反射防止層６が、互いに異なる屈折率を有する２以上の層を有すれば、外光の反射を抑制できる。
　好ましくは、反射防止層６は、相対的に屈折率の高い高屈折率層と、相対的に屈折率の低い低屈折率層とを厚み方向一方側に向かって交互に備える。
　高屈折率層（第１高屈折率層８および第２高屈折率層１０）の材料としては、例えば、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９以上の高屈折材料が挙げられる。
　具体的には、第１高屈折率層８および第２高屈折率層１０の材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化ジルコニウム、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、および、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）が挙げられる。
　第１高屈折率層８および第２高屈折率層１０の材料としては、好ましくは、酸化ニオブが挙げられる。つまり、好ましくは、第１高屈折率層８の材料および第２高屈折率層１０の材料が、ともに酸化ニオブである。
　第１高屈折率層８の厚みは、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上、また、例えば、３０ｎｍ以下、好ましくは、２０ｎｍ以下である。
　第２高屈折率層１０の厚みは、例えば、５０ｎｍ以上、好ましくは、８０ｎｍ以上、また、例えば、２００ｎｍ以下、好ましくは、１５０ｎｍ以下である。
　低屈折率層（第１低屈折率層９および第２低屈折率層１１）の材料としては、例えば、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６以下の低屈折率材料が挙げられる。
　また、第１低屈折率層９および第２低屈折率層１１の材料としては、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、および、フッ化マグネシウムが挙げられる。第１低屈折率層９および第２低屈折率層１１の材料としては、好ましくは、二酸化ケイ素が挙げられる。つまり、好ましくは、第１低屈折率層９の材料および第２低屈折率層１１の材料が、ともに二酸化ケイ素である。
　第１低屈折率層９の厚みは、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上、また、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、３０ｎｍ以下である。
　第２低屈折率層１１の厚みは、例えば、２０ｎｍ以上、好ましくは、６０ｎｍ以上、また、例えば、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下である。
　反射防止層６は、後述する方法により形成される。
　反射防止層６の厚みは、例えば、１００ｎｍ以上、好ましくは、１５０ｎｍ以上、また、例えば、３００ｎｍ以下、好ましくは、２５０ｎｍ以下である。
　反射防止層６の厚みは、断面ＴＥＭ観察により測定する事ができる。
　２－４．防汚層
　防汚層５は、薄膜形状を有する。防汚層５は、反射防止層６の上面全面に、反射防止層６の上面に接触するように、配置されている。
　防汚層５は、好ましくは、上記したパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物（好ましくは、上記一般式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物）から形成されている。換言すれば、防汚層５は、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含み、好ましくは、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物からなる。
　防汚層５は、後述する方法により形成される。
　防汚層５の厚みは、第１実施形態における防汚層５の厚みと同様である。
　２－５．積層体の製造方法
　図６Ａ～図６Ｄを参照して、積層体１の製造方法を説明する。
　積層体１の製造方法の製造方法は、基材層２を準備する第３工程と、基材層２に、反射防止層６を配置する第４工程と、反射防止層６に、防汚層５を配置する第５工程とを備える。
　第３工程では、基材層２を準備する。
　基材層２を準備するには、まず、図６Ａに示すように、基材３を準備する。
　次いで、図６Ｂに示すように、基材３に、ハードコート層４を配置する。具体的には、基材３の厚み方向一方面に、ハードコート層４を配置する。
　具体的には、基材３の厚み方向一方面に、ハードコート組成物の希釈液を塗布し、乾燥する。乾燥後、紫外線照射により、ハードコート組成物を硬化させる。これにより、基材３の厚み方向一方面に、ハードコート層４を形成する。
　第４工程では、図６Ｃに示すように、基材層２に、反射防止層６を配置する。具体的には、基材層２の厚み方向一方面に、反射防止層６を配置する。
　より具体的には、基材層２に、密着層７と、第１高屈折率層８と、第１低屈折率層９と、第２高屈折率層１０と、第２低屈折率層１１とを厚み方向一方側に向かって順に配置する。
　つまり、この方法では、第４工程は、基材層２に密着層７を配置する密着層配置工程と、密着層７に第１高屈折率層８を配置する第１高屈折率層配置工程と、第１高屈折率層８に第１低屈折率層９を配置する第１低屈折率層配置工程と、第１低屈折率層９に第２高屈折率層１０を配置する第２高屈折率層配置工程と、第２高屈折率層１０に第２低屈折率層１１を配置する第２低屈折率層配置工程とを備える。また、この製造方法において、各層を順に配置する方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ラミネート法、めっき法、および、イオンプレーティング法が挙げられる。各層を順に配置する方法として、好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。
　以下、スパッタリング法で各層を順に配置する方法について詳述する。
　基材層２に反射防止層６を配置するには、基材層２および反射防止層６（密着層７）の密着性の観点から、まず、基材層２に表面処理を施す。
　表面処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、および、ケン化処理が挙げられる。表面処理としては、好ましくは、プラズマ処理が挙げられる。
　そして、スパッタリング法では、真空チャンバー内にターゲット（各層（密着層７、第１高屈折率層８、第１低屈折率層９、第２高屈折率層１０および第２低屈折率層１１）の材料）および基材層２を対向配置する。次いで、ガスを供給するとともに電源から電圧を印加することによりガスイオンを加速しターゲットに照射させて、ターゲット表面からターゲット材料をはじき出す。そして、そのターゲット材料を基材層２の表面に各層を順に堆積させる。
　ガスとしては、例えば、不活性ガスが挙げられる。不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガスが挙げられる。また、必要に応じて、例えば、反応性ガス（例えば、酸素ガス）を併用できる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比（ｓｃｃｍ）は特に限定しない。具体的には、反応性ガスの流量比は、スパッタガスおよび反応性ガスの合計流量比に対して、例えば、０．１流量％以上１００流量％以下である。
　スパッタリング時の気圧は、例えば、０．１Ｐａ以上、また、例えば、１．０Ｐａ以下、好ましくは、０．７Ｐａ以下である。
　電源は、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＭＦ電源、および、ＲＦ電源のいずれであってもよい。また、これらの組み合わせであってもよい。
　これにより、基材層２の厚み方向一方面に、反射防止層６を配置する。
　第５工程では、図６Ｄに示すように、反射防止層６に、防汚層５を配置する。具体的には、反射防止層６の厚み方向一方面に、防汚層５を配置する。
　反射防止層６に防汚層５を配置する方法としては、例えば、真空蒸着法、および、ウェットコーティング法が挙げられる。反射防止層６に防汚層５を配置する方法としては、好ましくは、ウェットコーティング法が挙げられる。
　これにより、反射防止層６の厚み方向一方面に防汚層５を配置する。これにより、基材層２と、反射防止層６と、防汚層５とを厚み方向一方側に向かって順に備える積層体１が製造される。
　この積層体１は、基材層２および防汚層５の間に、反射防止層６を備える。そのため、外光の反射を抑制できる。
　４．変形例
　変形例において、第１実施形態および第２実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、変形例は、特記する以外、第１実施形態および第２実施形態と同様の作用効果を奏することができる。さらに、第１実施形態、第２実施形態およびその変形例を適宜組み合わせることができる。
　第１実施形態および第２実施形態では、基材層２は、基材３と、ハードコート層４とを厚み方向一方側に向かって順に備える。しかし、基材層２は、ハードコート層４を備えず、基材３からなることもできる。
　基材層２が基材３からなる場合には、基材３に表面処理（好ましくは、ボンバード処理）を施すことによって、防汚層５の最大断面高さＰｔを、所定の範囲に調整できる。
　第２実施形態では、反射防止層６は、相対的に屈折率の高い高屈折率層を２層備えるとともに、相対的に屈折率の低い低屈折率層を３層備える。しかし、高屈折率層および低屈折率層の数は、特に限定されない。
　以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替できる。
１．積層体の製造
　　実施例１
　基材として、トリアセチルセルロースフィルム（厚み６０μｍ）を準備した。
　次いで、以下の成分を含むハードコート組成物を調製した。
樹脂：ビスコート＃３００（大阪有機化学工業株式会社製）、７０質量部
粒子：ＳＩＲＭＩＢＫ３０ＷＴ％－Ｓ１９１（平均粒子径０．０４μｍ、ＣＩＫナノテック株式会社）、３０質量部
　次いで、トリアセチルセルロースフィルムの厚み方向一方面に、ハードコート組成物の希釈液を塗布し、乾燥させた。乾燥後、紫外線照射により、ハードコート組成物を硬化させた。これにより、トリアセチルセルロースフィルムの厚み方向一方面に、防眩性ハードコート層（厚み５μｍ）を形成した。これにより、基材層を得た。また、ハードコート層の表面（厚み方向一方面）の最大断面高さＰｔは、２．０μｍ以下であった。
　次いで、この基材層を、ロールトゥートール方式のスパッタ成膜装置に導入した。そして、基材層を走行させながら、基材層（ハードコート層）の表面にボンバード処理（Ａｒガスによるプラズマ処理）を施した。次いで、スパッタリング法により基材層（ハードコート層）の厚み方向一方面に、厚み４ｎｍのＩＴＯ層（密着層）、厚み１０ｎｍのＮｂ２Ｏ５層（第１高屈折率層）、厚み３０ｎｍのＳｉＯ２層（第１低屈折率層）、厚み１０７ｎｍのＮｂ２Ｏ５層（第２高屈折率層）および厚み８６ｎｍのＳｉＯ２（第２低屈折率層）を順に配置した。これにより、基材層の厚み方向一方面に、密着層と、第１高屈折率層と、第１低屈折率層と、第２高屈折率層と、第２低屈折率層とを厚み方向一方側に向かって順に備える反射防止層を配置した。
　次いで、反射防止層の表面に、オプツールＵＤ５０９（上記一般式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物、ダイキン工業社製）を、グラビアコーターで、乾燥後の厚みが８ｎｍになるように塗工した。その後、乾燥温度６０℃で６０秒加熱処理した。これにより、厚み８ｎｍの防汚層を形成した。これにより、積層体を製造した。
　実施例２
　実施例１と同様に処理して、積層体を製造した。
　但し、ハードコート組成物の組成を以下のとおりに変更した。
樹脂：ビスコート＃３００（大阪有機化学工業株式会社製）、９０質量部
粒子：ＳＩＲＭＩＢＫ３０ＷＴ％－Ｓ１９１（シリカ粒子、平均粒子径０．０４μｍ、ＣＩＫナノテック株式会社）、１０質量部
　実施例３
　実施例１と同様に処理して、積層体を製造した。
　但し、ハードコート組成物の組成を以下のとおりに変更した。
樹脂：アクリル樹脂（荒川化学工業株式会社製）、６０質量部
粒子：ＮＣ０３５（シリカ粒子、平均粒子径０．０８３μｍ、荒川化学工業株式会社製）、４０質量部
　実施例４
　実施例１と同様に処理して、積層体を製造した。
　但し、ハードコート組成物の組成を以下のとおりに変更した。
樹脂：アクリル樹脂（荒川化学工業株式会社製）、６０質量部
粒子：ＮＣ０３４（シリカ粒子、平均粒子径０．０８３μｍ、荒川化学工業株式会社製）、４０質量部
　実施例５
　実施例４と同様に処理して、積層体を製造した。
　但し、防汚層の配置方法を、変更した。具体的には、パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物を蒸着源として用いた真空蒸着法により、厚さ７ｎｍの防汚層を反射防止層の厚み方向一方面に配置した。
　蒸着源は、ＫＹ１９０３－１（上記一般式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アルコキシシラン化合物、固形分濃度２０質量％、信越化学製）を乾燥して得た固形分を用いた。また、真空蒸着法における蒸着源（るつぼ）の加熱温度は２６０℃とした。
　比較例１
　実施例１と同様に処理して、積層体を製造した。
　但し、ハードコート組成物の組成を以下のとおりに変更した。
樹脂：ビスコート＃３００（大阪有機化学工業株式会社製）、４０質量部
粒子：ＳＩＲＭＩＢＫ３０ＷＴ％－Ｓ１９１（シリカ粒子、平均粒子径０．０４μｍ、ＣＩＫナノテック株式会社）、６０質量部
　比較例２
　実施例１と同様に処理して、積層体を製造した。
　但し、ハードコート組成物の組成を以下のとおりに変更した。
樹脂：ビスコート＃３００（大阪有機化学工業株式会社製）、５０質量部
粒子：ＳＩＲＭＩＢＫ３０ＷＴ％－Ｓ１９１（シリカ粒子、平均粒子径０．０４μｍ、ＣＩＫナノテック株式会社）、５０質量部
２．評価
（紫外線照射前の水接触角）
　各実施例および各比較例の積層体について、下記の条件に基づき、防汚層の、純水に対する接触角を測定した。その結果を表１に示す。
＜測定条件＞
装置：ＤＭｏ―５０１（協和界面科学社製）
液滴量：２μｌ
温度：２５℃
湿度：４０％
（紫外線照射後の水接触角）
　各実施例および各比較例の積層体について、防汚層の表面に紫外線を照射した。なお、紫外線の照射は、メタルハライドランプを用いて照射量１５０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間３２．５時間，温度８５℃、湿度４５％の条件下で実施した。
　その後、上記の条件に基づき、防汚層の、純水に対する接触角を測定した。その結果を表１に示す。
（防汚層の最大断面高さＰｔ）
　各実施例および各比較例の積層体について、ＪＩＳ　Ｂ０６３３：２００１に準拠し、下記の条件に基づき、防汚層の最大断面高さＰｔを測定した。具体的には、積層体を５ｃｍ×５ｃｍにカットし、松波硝子に貼り合わせることで評価サンプルを作製した。この評価サンプルに対して、最大断面高さＰｔを測定した。また、測定は異なる場所で３回測定し、その平均値を求めた。その結果を表１に示す。
＜測定条件＞
装置：三次元表面形状測定器（ＥＴ４０００Ａ）
評価長さ：１２ｍｍ
縦倍率：２００００
横倍率：１０
カットオフ値：０．８ｍｍ
送り速さ：１ｍｍ／秒
フィルタ特性：ガウス
レベリング：直線（全域）
３．考察
　下記式（１）に基づき、紫外線照射後の防汚層の水接触角の低下量を算出した。その結果を表１に示す。
水接触角の低下量（°）＝紫外線照射前の水接触角（°）－紫外線照射後の水接触角（°）　　　（１）
　水接触角の低下量が小さいほど、紫外線照射後に、防汚層の防汚性の低下を抑制できたとわかる。
　防汚層の最大断面高さＰｔが、２．０μｍ以下である実施例１～実施例５は、防汚層の最大断面高さＰｔが、２．０μｍを超過する比較例１および比較例２に比べて、水接触角の低下量が小さい。
　このことから、防汚層の最大断面高さＰｔが、２．０μｍ以下であれば、紫外線照射後に、防汚層の防汚性の低下を抑制できるとわかる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　なお、上記発明は、本発明の例示の実施形態として提供したが、これは単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。当該技術分野の当業者によって明らかな本発明の変形例は、後記請求の範囲に含まれるものである。
　本発明の積層体は、例えば、例えば、防汚層付き反射防止フィルム、防汚層付き透明導電性フィルム、および、防汚層付き電磁波遮蔽フィルムにおいて、好適に用いられる。
　１　　　積層体
　２　　　基材層
　３　　　基材
　４　　　ハードコート層
　５　　　防汚層
　６　　　反射防止層

Claims (6)

  1. 　基材層と、防汚層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
    　前記防汚層の、最大断面高さＰｔが、２．０μｍ以下であることを特徴とする、積層体。
  2. 　前記防汚層の水接触角が、１００°以上であることを特徴とする、請求項１に記載の積層体。
  3. 　前記防汚層が、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含むことを特徴とする、請求項１または２に記載の積層体。
  4. 　前記防汚層の厚みが、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１～３のいずれか一項に記載の積層体。
  5. 　前記基材層および前記防汚層の間に、さらに、反射防止層を備えることを特徴とする、請求項１～４のいずれか一項に記載の積層体。
  6. 　前記基材層が、基材と、ハードコート層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
    　前記ハードコート層は、樹脂および粒子を含み、
    　前記粒子の配合割合は、樹脂および粒子の総量１００質量部に対して、４０質量部以下であることを特徴とする、請求項１～５のいずれか一項に記載の積層体。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015076409A1 (ja) * 2013-11-25 2015-05-28 住友化学株式会社 光学部材および表示装置
JP2015108733A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 樹脂膜及び樹脂膜の製造方法
JP2015210308A (ja) * 2014-04-24 2015-11-24 日本製紙株式会社 反射防止フィルム
JP2017161893A (ja) * 2016-03-03 2017-09-14 日東電工株式会社 光学積層体
JP2017227898A (ja) * 2016-06-17 2017-12-28 日東電工株式会社 反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびに反射防止層付き偏光板
JP2019200354A (ja) * 2018-05-17 2019-11-21 日東電工株式会社 映り込み防止層付偏光板
WO2021106797A1 (ja) * 2019-11-25 2021-06-03 日東電工株式会社 反射防止フィルムおよび画像表示装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015076409A1 (ja) * 2013-11-25 2015-05-28 住友化学株式会社 光学部材および表示装置
JP2015108733A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 樹脂膜及び樹脂膜の製造方法
JP2015210308A (ja) * 2014-04-24 2015-11-24 日本製紙株式会社 反射防止フィルム
JP2017161893A (ja) * 2016-03-03 2017-09-14 日東電工株式会社 光学積層体
JP2017227898A (ja) * 2016-06-17 2017-12-28 日東電工株式会社 反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびに反射防止層付き偏光板
JP2019200354A (ja) * 2018-05-17 2019-11-21 日東電工株式会社 映り込み防止層付偏光板
WO2021106797A1 (ja) * 2019-11-25 2021-06-03 日東電工株式会社 反射防止フィルムおよび画像表示装置

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