JP2020052221A - 保護フィルム付き光学フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】防汚性に優れ、かつ使用前における表面保護フィルムの剥離や貼り合わせ界面への気泡の混入が抑制された保護フィルム付き光学フィルムを提供する。【解決手段】保護フィルム付き光学フィルム（１００）は、最表面に防汚層（４）を備える光学フィルム（１０）と、光学フィルムの防汚層に仮着された表面保護フィルム（７０）とを含む。防汚層の水接触角は１００°以上である。保護フィルムはフィルム基材（７）上に粘着剤層（８）を備える。光学フィルムの防汚層と、表面保護フィルムの粘着剤層との接着力は、０．０７Ｎ／５０ｍｍ未満である。粘着剤層の厚みは１６μｍ以上が好ましい。【選択図】図１

Description

本発明は、表面保護フィルムが仮着された光学フィルムに関する。

画像表示装置の最表面に配置される反射防止フィルム、タッチパネルの位置検出用フィルム、窓ガラスやショーウィンドウに貼り合わせられるウインドウフィルム等は、外部から接触可能な状態で使用されるため、指紋、手垢、埃等による汚染の影響を受けやすい。そのため、外部環境からの汚染防止や、付着した汚染物質の除去を容易とする目的で、防汚層が設けられている（例えば特許文献１および特許文献２）。

これらの光学フィルムは、加工や輸送等の使用前の状態での傷付きや汚染等を防止するために表面保護フィルムが仮着される（例えば特許文献３）。表面保護フィルムは、フィルム基材の主面に粘着剤層を備え、この粘着剤層を介して、保護対象の表面に貼り合わせられる。表面保護フィルムは工程材であるため、低粘着性で被着体から容易に剥離可能であり、被着体への糊残りが生じないことが求められる。

特開２０１５−６９００８号公報 特開２０１７−１１７６６６号公報 特開２００８−１５１９９６号公報

防汚層は、水分や油分を撥きやすいため、防汚層の表面に表面保護フィルムを貼り合わせると、防汚層と粘着剤層との密着性が低く、輸送や加工等の光学フィルムの使用前の状態において、光学フィルムの表面から表面保護フィルムが剥離したり、貼り合わせ界面に気泡が混入する等の不具合が生じやすい。特に、防汚層の防汚特性が高い場合にはその傾向が顕著である。一方、表面保護フィルムの密着性を高めるために、粘着剤層の接着力を高めると、光学フィルムから表面保護フィルムを剥離した際に、防汚層の表面への糊残り等に起因する汚染が生じやすい。

本発明者らは、所定の粘着剤層を備える表面保護フィルムを用いることにより、防汚特性が高い防汚層に対して十分な密着性を有し、かつ表面保護フィルムの剥離時の糊残りが生じ難いことを見出した。

本発明は、最表面層として防汚層を備える光学フィルムと、光学フィルムの防汚層に仮着された表面保護フィルムとを含む保護フィルム付き光学フィルムに関する。表面保護イルムは、フィルム基材上に粘着剤層を備え、光学フィルムの防汚層と表面保護フィルムの粘着剤層とが接している。

光学フィルムの防汚層は、水接触角が１００°以上である。表面保護フィルムの粘着剤層は厚みが１６μｍ以上であることが好ましい。本発明の保護フィルム付き光学フィルムにおいて、光学フィルムの前記防汚層と表面保護フィルムの粘着剤層との接着力は、０．０７Ｎ／５０ｍｍ未満である。

粘着剤層の表面硬度は６００ｋＰａ以下が好ましい。防汚層の動摩擦係数は０．１５以下が好ましい。防汚層の材料の例として、パーフルオロポリエーテル骨格を有するフッ素系樹脂等が挙げられる。

光学フィルムは、フィルム基材と防汚層との間に、少なくとも１層の無機薄膜を備えていてもよい。無機薄膜は、屈折率の異なる複数の無機薄膜からなる反射防止層であってもよい。

光学フィルムは、フィルム基材上にハードコート層を備えていてもよい。フィルム基材上のハードコート層は、微粒子を含有する防眩性ハードコート層であってもよい。光学フィルムは、防汚層の表面の算術平均粗さが０．１〜２．５μｍであってもよい。

本発明の保護フィルム付き光学フィルムでは、光学フィルムの最表面に設けられた防汚層の水接触角が１００°以上であるため、防汚性に優れる。また、光学フィルムと表面保護フィルムとの接着力が所定範囲であるため、貼り合わせ界面への気泡の混入や、光学フィルムの使用前における表面保護フィルムの剥離を防止できる。

保護フィルム付き反射防止フィルムの積層構成を示す断面図である。

本発明の保護フィルム付き光学フィルムは、光学フィルムと表面保護フィルムとの積層体である。光学フィルムは、フィルム基材の一主面上に少なくとも防汚層を備え、表面保護フィルムは、フィルム基材上に粘着剤層を備える。防汚層は光学フィルムの最表面に設けられている。保護フィルム付き光学フィルムにおいては、光学フィルムの防汚層に表面保護フィルムの粘着剤層が貼り合わせられる。

図１は、光学フィルムの一実施形態である反射防止フィルム１０の表面に表面保護フィルム７０が仮着された保護フィルム付き反射防止フィルム１００の構成を示す断面図である。反射防止フィルム１０は、フィルム基材１上に反射防止層３を備え、反射防止層３上に防汚層４を備える。表面保護フィルム７０は、フィルム基材７上に粘着剤層８を備える。防汚層４は反射防止フィルム１０の最表面層であり、この防汚層４に表面保護フィルム７０の粘着剤層８が貼り合わせられている。

以下では、図１に示す保護フィルム付き反射防止フィルムの好ましい形態に沿って、各層の材料や特性等ついて順に説明する。

［反射防止フィルム］
反射防止フィルム１０は、フィルム基材１の第一主面上に、最表面層として防汚層４を備え、フィルム基材１と防汚層４の間に反射防止層３を備える。フィルム基材１の第一主面上にはハードコート層２が設けられていてもよい。

＜フィルム基材＞
フィルム基材１としては、例えば、透明フィルムが用いられる。透明フィルムの可視光透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。透明フィルムを構成する樹脂材料としては、例えば、透明性、機械強度、および熱安定性に樹脂材料が好ましい。樹脂材料の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂）、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、およびこれらの混合物が挙げられる。

フィルム基材１には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、造核剤、充填剤、顔料、界面活性剤、帯電防止剤等が含まれていてもよい。フィルム基材の表面には、易接着層、易滑層、ブロッキング防止層、帯電防止層、反射防止層、オリゴマー防止層等が設けられていてもよい。

フィルム基材の厚みは特に限定されないが、強度や取扱性等の作業性、薄層性等の観点から、５〜３００μｍ程度が好ましく、１０〜２５０μｍがより好ましく、２０〜２００μｍがさらに好ましい。

（ハードコート層）
フィルム基材１の表面には、ハードコート層２が設けられていることが好ましい。フィルム基材１の反射防止層３形成面側にハードコート層２が設けられることにより、反射防止フィルムの表面硬度や耐擦傷性等の機械特性を向上できる。

ハードコート層２を構成する硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられる。硬化性樹脂の種類としてはポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、アミド系、シリコーン系、シリケート系、エポキシ系、メラミン系、オキセタン系、アクリルウレタン系等の各種の樹脂が挙げられる。これら硬化性樹脂は、一種または二種以上を、適宜に選択して使用できる。

これらの中でも、硬度が高く、紫外線硬化が可能で生産性に優れることから、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、およびエポキシ系樹脂が好ましく、中でもアクリルウレタン系樹脂が好ましい。紫外線硬化型樹脂には、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、例えば紫外線重合性の官能基を有するもの、中でも当該官能基を２個以上、特に３〜６個有するアクリル系のモノマーやオリゴマーを成分として含むものが挙げられる。

反射防止フィルムに、防眩性およびギラツキ防止性を持たせるために、ハードコート層２に防眩性を持たせてもよい。防眩性ハードコート層としては、例えば、上記の硬化性樹脂マトリクス中に、微粒子を分散させたものが挙げられる。樹脂マトリクス中に分散させる微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等の各種金属酸化物微粒子、ガラス微粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル−スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種透明ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子、シリコーン系微粒子等の透明性を有するものを特に制限なく使用できる。微粒子の平均粒子径は２０〜５０００ｎｍが好ましく、２０００〜４０００ｎｍがさらに好ましい。微粒子の割合は特に制限されないが、マトリックス樹脂１００重量部に対し２〜４０重量部が好ましく、３〜２０重量部がより好ましい。微粒子の平均粒子径および含有量が上記範囲であれば、ハードコート層２の表面に光散乱に適した凹凸が形成され、良好な防眩性を付与できる。

ハードコート層２上に形成される反射防止層３および防汚層４は厚みが小さいため、防汚層４の表面形状は、ハードコート層２の表面形状に依存する。後述のように、防汚層４の表面の算術平均粗さは、０．１〜２．５μｍが好ましい。防汚層４の表面の算術平均粗さを上記範囲とするためには、ハードコート層２の算術平均粗さが０．１〜２．５μｍであることが好ましい。算術平均粗さＲａは、レーザー顕微鏡を用いた１００μｍ×１００μｍの観察像から、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて算出される。ハードコート層に含まれる微粒子の粒子径や含有量を調整することにより、ハードコート層２の表面の凹凸形状を調整できる。

ハードコート層は、例えば、フィルム１上に、硬化性樹脂を含有する溶液を塗布することにより形成できる。ハードコート層を形成するための溶液には、紫外線重合開始剤が配合されていることが好ましい。微粒子を含む防眩性ハードコート層を形成するためには、硬化性樹脂に加えて上記の微粒子を含有する溶液を透明フィルム上に塗布することが好ましい。溶液中には、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤等の添加剤を含有させてもよい。防眩性ハードコート層の形成においては、溶液中にチクソトロピー剤（例えば、粒子径０．１μｍ以下のシリカ、マイカ等の粒子）を含有させることにより、ハードコート層の表面において、突出粒子により微細凹凸構造を容易に形成できる。

ハードコート層２の厚みは特に限定されないが、高い硬度を実現するためには、０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。塗布による形成の容易性を考慮すると、ハードコート層の厚みは１５μｍ以下が好ましく、１２μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましい。

ハードコート層２上に反射防止層３を形成する前に、ハードコート層２と反射防止層３との密着性のさらなる向上等を目的として、ハードコート層２の表面処理が行われてもよい。表面処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、アルカリ処理、酸処理、カップリング剤による処理等の表面改質処理が挙げられる。表面処理として真空プラズマ処理を行ってもよい。真空プラズマ処理により、ハードコート層の表面粗さを調整することもできる。例えば、高放電電力で真空プラズマ処理を行えば、ハードコート層表面のＲａが大きくなる傾向がある。真空プラズマ処理（例えば、アルゴンプラズマ処理）の放電電力は、０．５〜１０ｋＷ程度であり、好ましくは１〜５ｋＷ程度である。

＜反射防止層＞
一般に、反射防止層は、入射光と反射光の逆転した位相が互いに打ち消し合うように、薄膜の光学膜厚（屈折率と厚みの積）が調整される。屈折率の異なる複数の薄膜の多層積層体により、可視光の広帯域の波長範囲において、反射率を小さくできる。反射防止層３を構成する薄膜の材料としては、金属の酸化物、窒化物、フッ化物等が挙げられる。反射防止層３は、好ましくは、高屈折率層と低屈折率層の交互積層体である。防汚層との界面での反射を低減するために、反射防止層３の最外層として設けられる薄膜３４は、低屈折率層であることが好ましい。

高屈折率層３１，３３は、例えば屈折率が１．９以上、好ましくは２．０以上である。高屈折率材料としては、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等が挙げられる。中でも、酸化チタンまたは酸化ニオブが好ましい。低屈折率層３２，３４は、例えば屈折率が１．６以下、好ましくは１．５以下である。低屈折率材料としては、酸化シリコン、窒化チタン、フッ化マグネシウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化ハフニウム、フッ化ランタン等が挙げられる。中でも酸化シリコンが好ましい。特に、高屈折率層としての酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）薄膜３１，３３と、低屈折率層としての酸化シリコン（ＳｉＯ_２）薄膜３２，３４とを交互に積層することが好ましい。低屈折率層と高屈折率層に加えて、屈折率１．６〜１．９程度の中屈折率層が設けられてもよい。

高屈折率層および低屈折率層の膜厚は、それぞれ、５〜２００ｎｍ程度であり、１５〜１５０ｎｍ程度が好ましい。屈折率や積層構成等に応じて、可視光の反射率が小さくなるように、各層の膜厚を設計すればよい。例えば、高屈折率層と低屈折率層の積層構成としては、フィルム基材側から、光学膜厚２５ｎｍ〜５５ｎｍ程度の高屈折率層３１、光学膜厚３５ｎｍ〜５５ｎｍ程度の低屈折率層３２、光学膜厚８０ｎｍ〜２４０ｎｍ程度の高屈折率層３３、および光学膜厚１２０ｎｍ〜１５０ｎｍ程度の低屈折率層３４の４層構成が挙げられる。

反射防止層３は、好ましくは、ハードコート層２と接する面にプライマー層３０を備え、その上に、高屈折率層および低屈折率層を備える。

プライマー層３０を構成する材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、スズ、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム等の金属；これらの金属の合金；これらの金属の酸化物、フッ化物、硫化物または窒化物；等が挙げられる。中でも、プライマー層の材料は酸化物が好ましく、酸化シリコンが特に好ましい。酸化シリコンは屈折率が小さいため、ハードコート層２とプライマー層３０との界面での可視光の反射を低減できる。

プライマー層３０は、好ましくは、化学量論組成よりも酸素量が少ない無機酸化物層である。非化学量論組成の無機酸化物の中でも、組成式ＳｉＯｘ（０．５≦ｘ＜２）で表される酸化シリコンが好ましい。

プライマー層３０の厚みは、例えば、１〜２０ｎｍ程度であり、好ましくは３〜１５ｎｍである。プライマー層の膜厚が上記範囲であれば、ハードコート層２との密着性と高い光透過性とを両立できる。

反射防止層３を構成する薄膜の成膜方法は特に限定されず、ウェットコーティング法、ドライコーティング法のいずれでもよい。膜厚が均一な薄膜を形成できることから、真空蒸着、ＣＶＤ，スパッタ、電子線蒸等のドライコーティング法が好ましい。中でも、膜厚の均一性に優れ、緻密な膜を形成しやすいことから、スパッタ法が好ましい。

スパッタ法では、ロールトゥーロール方式により、長尺のフィルム基材を一方向（長手方向）に搬送しながら、薄膜を連続成膜できる。スパッタ法では、アルゴン等の不活性ガス、および必要に応じて酸素等の反応性ガスをチャンバー内に導入しながら成膜が行われる。スパッタ法による酸化物層の成膜は、酸化物ターゲットを用いる方法、および金属ターゲットを用いた反応性スパッタのいずれでも実施できる。高レートで金属酸化物を成膜するためには、金属ターゲットを用いた反応性スパッタが好ましい。

＜防汚層＞
反射防止フィルム１０は、フィルム基材１の第一主面上の最表面層として防汚層４を備える。最表面に防汚層が設けられることにより、外部環境からの汚染（指紋、手垢、埃等）の影響を低減できるとともに、表面に付着した汚染物質の除去が容易となる。汚染防止性および汚染物質の除去性を高めるために、防汚層４の水接触角は１００°以上が好ましく、１０２°以上がより好ましく、１０５°以上がさらに好ましい。水接触角が大きいほど撥水性が高く、汚染物質の付着防止効果や汚染物質除去性が向上する傾向がある。

一方、水接触角度が過度に大きいと、濡れ性が低いために、防汚層表面に表面保護フィルムを貼り合わせた際に、粘着剤層との密着性が低く、搬送・加工時の保護フィルムの剥離や、貼り合わせ界面への気泡の混入等の不具合が生じる場合がある。そのため、防汚層４の水接触角は１３０°以下が好ましく、１２５°以下がより好ましく、１２０°以下がさらに好ましい。

防汚層４の動摩擦係数は、０．１５以下が好ましく、０．１３以下がより好ましく、０．１１以下がさらに好ましい。動摩擦係数が小さいほど、滑り性が良好であり、表面への傷が生じ難く耐擦傷性が向上する傾向がある。一方、動摩擦係数が過度に小さいと、フィルムの搬送やハンドリングに支障をきたす場合があるため、防汚層４の動摩擦係数は０．０１以上が好ましく、０．０３以上がより好ましく、０．０５以上がさらに好ましい。

動摩擦係数は、防汚層を形成する材料、および防汚層の表面形状に依存する。動摩擦係数を上記範囲とするために、防汚層４の算術平均粗さは、０．１〜２．５μｍが好ましく、０．５〜２．２μｍがより好ましく、０．８〜１．８μｍがさらに好ましい。

反射防止層３および防汚層４は厚みが小さいため、防汚層４の表面には、ハードコート層２の表面形状を反映した凹凸形状が形成されやすい。そのため、防汚層４の表面の算術平均粗さを上記範囲とするためには、ハードコート層２に粒子を含有させて表面凹凸を形成することが好ましい。また、ハードコート層２に真空プラズマ処理等の表面処理を施すことにより表面形状を調整してもよい。

反射防止層３の反射防止特性を維持するために、防汚層４は、反射防止層３の最表面の低屈折率層３４との屈折率差が小さいことが好ましい。防汚層４の屈折率は、１．６以下が好ましく、１．５５以下がより好ましい。

防汚層４の材料としては、フッ素含有化合物が好ましい。フッ素含有化合物は、防汚性を付与するとともに、低屈折率化にも寄与し得る。中でも、撥水性に優れ、高い防汚性を発揮できることから、パーフルオロポリエーテル骨格を含有するフッ素系ポリマーが好ましい。防汚性を高める観点から、剛直に並列可能な主鎖構造を有するパーフルオロポリエーテルが特に好ましい。パーフルオロポリエーテルの主鎖骨格の構造単位としては、炭素数１〜４の分枝を有していてもよいパーフルオロアルキレンオキシドが好ましく、例えば、パーフルオロメチレンオキシド、（−ＣＦ_２Ｏ−）、パーフルオロエチレンオキシド（−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−）、パーフルオロプロピレンオキシド（−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−）、パーフルオロイソプロピレンオキシド（−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−）等が挙げられる。

防汚層は、リバースコート法、ダイコート法、グラビアコート法等のウエット法や、ＣＶＤ法等のドライ法等により形成できる。防汚層の厚みは、通常、２〜５０ｎｍ程度である。防汚層４の厚みが大きいほど、水接触角度が大きくなる傾向がある。防汚層４の水接触角を１００°以上とするためには、防汚層４の厚みは７ｎｍ以上が好ましい。

［表面保護フィルム］
表面保護フィルム７０は、フィルム基材７の一主面上に粘着剤層８を備える。表面保護フィルム７０を反射防止フィルム１０の表面に貼り合わせることにより、輸送や加工等のプロセスにおいて、反射防止フィルム１０の表面を保護して、防汚層４の傷付きや汚染を防止できる。

＜フィルム基材＞
保護フィルム７０は、反射防止フィルム１０の表面を保護する工程材であり、反射防止フィルム１０の使用時には剥離除去される。そのため、保護フィルム７０のフィルム基材７は、表面を保護するための機械強度を有していれば、その材料や厚みは特に限定されない。フィルム基材７としては、反射防止フィルム１０のフィルム基材１に関して先に例示した樹脂材料や厚みを有するものが好ましく用いられる。

＜粘着剤層＞
水接触角の大きい防汚層に対する接着力を高め、表面保護フィルムの剥離や貼り合わせ界面への気泡の混入等を抑制する観点から、粘着剤層８の厚みは１６μｍ以上が好ましく、１８μｍ以上がより好ましく、２０μｍ以上がさらに好ましい。粘着剤層の硬度を高め、糊残りを低減する観点から、粘着剤層８の厚みは５０μｍ以下が好ましく、４０μｍ以下がより好ましく、３５μｍ以下がさらに好ましい。

粘着剤層８を構成する粘着剤の組成は特に限定されず、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系等のポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、接着性および光学的透明性に優れることから、アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤が好ましく用いられる。

アクリル系粘着剤のアクリル系ベースポリマーとしては、（メタ）アクリル酸アルキルエステルのモノマー単位を主骨格とするものが好適に用いられる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル」とは、アクリルおよび／またはメタクリルを意味する。

（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル基の炭素数が１〜２０である（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好適に用いられる。例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸イソペンチル、（メタ）アクリル酸ネオペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸イソトリドデシル、（メタ）アクリル酸テトラデシル、（メタ）アクリル酸イソテトラデシル、（メタ）アクリル酸ペンタデシル、（メタ）アクリル酸セチル、（メタ）アクリル酸ヘプタデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸イソオクタデシル、（メタ）アクリル酸ノナデシル、（メタ）アクリル酸アラルキル等が挙げられる。

（メタ）アクリル酸アルキルエステルの含有量は、アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対して４０重量％以上が好ましく、５０重量％以上がより好ましく、６０重量％以上がさらに好ましい。アクリル系ポリマーは、複数の（メタ）アクリル酸アルキルエステルの共重合体であってもよい。構成モノマー単位の並びはランダムであっても、ブロックであってもよい。

アクリル系ポリマーは、共重合成分として、架橋可能な官能基を有するモノマー成分を含有することが好ましい。架橋可能な官能基を有するモノマーとしてはヒドロキシ基含有モノマーや、カルボキシ基含有モノマーが挙げられる。中でも、共重合成分として、ヒドロキシ基含有モノマーを含有することが好ましい。ヒロドキシ基やカルボキシ基は、後述の架橋剤との反応点となる。ベースポリマーに架橋構造が導入されることにより、粘着剤の凝集力が向上し、被着体に対する適度の接着力を示すとともに、被着体から表面保護フィルムの再剥離が容易となり、糊残り等に起因する汚染を抑制できる傾向がある。

ヒドロキシ基含有モノマーとしては、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシラウリルや（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）−メチルアクリレート等が挙げられる。カルボキシ基含有モノマーとしては、（メタ）アクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸等が挙げられる。

アクリル系ポリマーは、上記以外に、共重合モノマー成分として、酸無水物基含有モノマー、アクリル酸のカプロラクトン付加物、スルホン酸基含有モノマー、燐酸基含有モノマー等を用いることもできる。また、改質モノマーとして、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、Ｎ−ビニルカルボン酸アミド類、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のビニル系モノマー；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアノアクリレート系モノマー；（メタ）アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有アクリル系モノマー；（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系アクリルエステルモノマー；（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレートや２−メトキシエチルアクリレート等のアクリル酸エステル系モノマー等も使用することができる。

アクリル系ポリマー中の共重合モノマー成分の比率は特に制限されないが、例えば架橋点を導入する目的で共重合モノマー成分としてヒロドキシ基含有モノマーやカルボキシ基含有モノマーを用いる場合、ヒロドキシ基含有モノマーとカルボキシ基含有モノマーの含有量の合計は、アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対して、１〜２０％程度が好ましく、２〜１５％程度がより好ましい。

上記モノマー成分を、溶液重合、乳化重合、塊状重合、懸濁重合等の各種公知の方法により重合することにより、アクリル系ポリマーが得られる。粘着剤の接着力、保持力等の特性のバランスや、コスト等の観点から、溶液重合法が好ましい。溶液重合の溶媒としては、酢酸エチル、トルエン等が用いられる。溶液濃度は通常２０〜８０重量％程度である。重合開始剤としては、アゾ系、過酸化物系等の各種公知のものを使用できる。分子量を調整するために、連鎖移動剤が用いられていてもよい。反応温度は通常５０〜８０℃程度、反応時間は通常１〜８時間程度である。

アクリル系ポリマーの分子量は、粘着剤層８が所期の接着力を有するように適宜に調整されるが、例えば、ポリスチレン換算の重量平均分子量が５万〜２００万程度、好ましくは７万〜１８０万程度、より好ましくは１０万〜１５０万程度、さらに好ましくは２０万〜１００万程度である。なお、アクリル系ベースポリマーに架橋構造が導入される場合、架橋構造導入前のポリマーの分子量が上記範囲であることが好ましい。

粘着剤層８の接着力の調整等を目的として、ベースポリマーに架橋構造を導入してもよい。例えば、アクリル系ポリマーを重合後の溶液に架橋剤を添加し、必要に応じて加熱を行うことにより、架橋構造が導入される。架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、金属キレート系架橋剤等が挙げられる。中でも、アクリル系ポリマーのヒドロキシ基やカルボキシ基との反応性が高く、架橋構造の導入が容易であることから、イソシアネート系架橋剤およびエポキシ系架橋剤が好ましい。これらの架橋剤は、ポリマー中に導入されたヒドロキシ基やカルボキシ基等の官能基と反応して架橋構造を形成する。

イソシアネート系架橋剤としては、１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートが用いられる。イソシアネート系架橋剤としては、例えば、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類；シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類；２，４−トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート類；トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート３量体付加物（例えば、東ソー製「コロネートＬ」）、トリメチロールプロパン／へキサメチレンジイソシアネート３量体付加物（例えば、東ソー製「コロネートＨＬ」）、キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物（例えば、三井化学製「タケネートＤ１１０Ｎ」、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体（例えば、東ソー製「コロネートＨＸ」）等のイソシアネート付加物等が挙げられる。

エポキシ系架橋剤としては、１分子中に２個以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物が用いられる。エポキシ系架橋剤のエポキシ基はグリシジル基であってもよい。エポキシ系架橋剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、ジグリシジルアニリン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、ｏ−フタル酸ジグリシジルエステル、トリグリシジル−トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、レゾルシンジグリシジルエーテル、ビスフェノール−Ｓ−ジグリシジルエーテル等が挙げられる。エポキシ系架橋剤として、ナガセケムテックス製の「デナコール」、三菱ガス化学製の「テトラッドＸ」「テトラッドＣ」等の市販品を用いてもよい。

重合後のアクリル系ポリマーに架橋剤を添加することにより、架橋構造が導入される。架橋剤の使用量は、ポリマーの組成や分子量、目的とする接着特性等に応じて適宜に調整すればよい。粘着剤に適度の凝集力を持たせ、被着体から保護フィルムを剥離する際の剥離力を適切な範囲に調整するためには、架橋剤の使用量は、アクリル系ポリマー１００重量部に対して、１．５重量部以上が好ましく、２重量部以上がより好ましく、２．５重量部以上がさらに好ましい。被着体に対する適度の接着性を持たせるためには、架橋剤の使用量は、アクリル系ポリマー１００重量部に対して、１２重量部以下が好ましく、１０重量部以下がより好ましく、８重量部以下がさらに好ましい。

架橋剤の使用量の増加に伴って粘着剤層の硬度が高くなり粘性が低下する傾向がある。そのため、架橋剤の使用量の増加に伴って、反射防止フィルム１０から保護フィルム７０を剥離した際の防汚層４表面への糊残りが抑制される傾向がある。一方、架橋剤の使用量が増加すると、粘着剤層の硬度が過度に上昇し、接着性が低下するため、搬送・加工時の保護フィルムの剥離や、貼り合わせ界面への気泡の混入等の不具合が生じる場合がある。特に、防汚層４の水接触角が１００°以上である場合には、粘着剤が防汚層に濡れ広がり難いため、架橋剤の使用量が過度に大きい場合は、密着性が低下しやすい。また、架橋剤の使用量が増加すると、未反応の架橋剤が粘着剤層８の表面にブリードして、防汚層４の表面を汚染する原因となる場合がある。

粘着剤層の硬さを適切な範囲とし、かつ架橋剤に起因する防汚層の汚染を抑制する観点から、アクリル系ポリマーの架橋可能な官能基と、架橋剤の反応性官能基の比率を調整することが好ましい。架橋剤の添加量は、架橋剤の反応性官能基のモル当量が、アクリル系ポリマーの架橋可能な官能基のモル当量の０．３〜１．２倍の範囲内となるように調整することが好ましい。例えば、イソシアネート系架橋剤を用いる場合は、イソシアネート基のモル当量が、ポリマーの水酸基のモル当量の０．３〜１．２倍となるように、架橋剤の量を調整することが好ましい。エポキシ系架橋剤を用いる場合は、エポキシ基のモル当量が、ポリマーのカルボキシ基のモル当量の０．３〜１．２倍となるように、架橋剤の量を調整することが好ましい。架橋剤の反応性官能基のモル当量は、ポリマーの架橋可能な官能基のモル当量の０．４〜１．０倍がより好ましく、０．５〜０．９倍がさらに好ましい。

粘着剤層を形成するための粘着剤組成物は、ベースポリマー、および必要に応じて架橋剤および溶媒を含有する。粘着剤組成物は、重合触媒、架橋触媒、シランカップリング剤、粘着性付与剤、可塑剤、軟化剤、劣化防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、界面活性剤、帯電防止剤等の添加剤を、本発明の特性を損なわない範囲で含有していてもよい。

粘着剤組成物を、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコート等により、基材上に塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去することにより粘着剤層が形成される。乾燥方法としては、適宜、適切な方法が採用され得る。加熱乾燥温度は、好ましくは４０℃〜２００℃、より好ましくは５０℃〜１８０℃、さらに好ましくは７０℃〜１７０℃である。乾燥時間は、好ましくは５秒〜２０分、より好ましくは５秒〜１５分、さらに好ましくは１０秒〜１０分、特に好ましくは１０秒〜５分である。

粘着剤組成物が架橋剤を含有する場合は、溶媒の乾燥と同時、または溶媒の乾燥後に、加熱またはエージングにより架橋を進行させることが好ましい。粘着剤組成物がベースポリマーの構成モノマー成分を含む場合には、加熱またはエージングにより重合を行うことが好ましい。加熱温度や加熱時間は、使用するモノマーや架橋剤の種類によって適宜設定され、通常、２０℃〜１６０℃の範囲で、１分から７日程度である。溶媒を乾燥除去するための加熱が、重合または架橋のための加熱を兼ねていてもよい。

フィルム基材７上に粘着剤層８を積層することにより、表面保護フィルムが得られる。粘着剤層８は、フィルム基材７上に直接形成してもよく、他の基材上でシート状に形成された粘着剤層をフィルム基材７上に転写してもよい。表面保護フィルムは、反射防止フィルム等の被着体と貼り合わせるまでの間、粘着剤層８の表面を保護するために、セパレータを付設することが好ましい。

前述のように、水接触角の大きい防汚層に対する接着性を確保する観点から、フィルム基材７上に設けられた粘着剤層８の厚みは１８μｍ以上が好ましい。また、防汚層に対する接着性をより高める観点から、粘着剤層８の表面硬度は、６００ｋＰａ以下が好ましく、４００ｋＰａ以下がより好ましく、３００ｋＰａ以下がさらに好ましく、２００ｋＰａ以下が特に好ましい。一方、防汚層への糊残りを抑制する観点から、フィルム基材７上に設けられた粘着剤層８の表面硬度は、２０ｋＰａ以上が好ましく、３０ｋＰａ以上がより好ましく、４０ｋＰａ以上がさらに好ましく、５０ｋＰａ以上が特に好ましい。粘着剤層の表面硬度はナノインテンデーションにより測定される。

水接触角の大きい防汚層に対する適度の接着性を確保し、かつ適度な硬さを持たせて粘着剤の移着等に起因する防汚層の汚染を抑制する観点から、粘着剤層８のゲル分率は、８５〜９５％が好ましい。粘着剤層８のゲル分率が過度に大きいと、被着体に対する濡れ性が低下し、接着力が不十分となる場合がある。一方、ゲル分率が過度に小さいと、粘着剤の硬度が低下し、防汚層の汚染の原因となる場合がある。ゲル分率は、酢酸エチル等の溶媒に対する不溶分として求めることができ、具体的には、粘着剤層を酢酸エチル中に２３℃で７日間浸漬した後の不溶成分の、浸漬前の試料に対する重量分率（単位：重量％）として求められる。一般に、ポリマーのゲル分率は架橋度に等しく、ポリマー中の架橋された部分が多いほど、ゲル分率が大きくなる。

粘着剤層８に適度な硬さを持たせて、反射防止フィルム１０から保護フィルム７０を剥離する際の剥離力を小さくする観点から、粘着剤層２の２３℃における貯蔵弾性率Ｇ’は、５．０×１０^４Ｐａ以上が好ましく、７．５×１０^４Ｐａ以上がより好ましく、１．０×１０^５Ｐａ以上がさらに好ましい。粘着剤層８の貯蔵弾性率が過度に大きいと、防汚層に対する濡れ性が低下し、接着力が不十分となる場合がある。そのため、粘着剤層２の２３℃における貯蔵弾性率Ｇ’は、５．０×１０^６Ｐａ以下が好ましく、２．５×１０^６Ｐａ以下がより好ましく、１．０×１０^６Ｐａ以下がさらに好ましい。貯蔵弾性率Ｇ’は、動的粘弾性測定装置（例えばレオメトリックス社製「ＡＲＥＳ」）を用い、周波数１Ｈｚ，温度範囲−７０℃〜１５０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎの条件でせん断モードにて粘弾性測定を行うことにより求められる。

［反射防止フィルムと表面保護フィルムの積層］
反射防止フィルム１０の防汚層４上に、表面保護フィルム７０の粘着剤層８を貼り合わせることにより、保護フィルム付き反射防止フィルム１００が得られる。貼り合わせ方法は特に限定されず、例えばロールラミネータ等を用いた一般的な貼り合わせ法を採用できる。

反射防止フィルム１０と表面保護フィルム７０の接着力は、０．０７Ｎ／５０ｍｍ未満が好ましい。両者の接着力が０．０７Ｎ／５０ｍｍ未満であれば、表面保護フィルムを剥離後の防汚層４の表面への糊残り等に起因する汚染を防止できる。糊残り等に起因する汚染をより確実に防止する観点から、反射防止フィルム１０と表面保護フィルム７０の接着力は、０．０６Ｎ／５０ｍｍ以下がより好ましく、０．０５Ｎ／５０ｍｍ以下がさらに好ましい。接着力は、引張速度０．３ｍ／分で１８０°剥離試験を行った際の剥離力である。

貼り合わせ界面への気泡の混入や反射防止フィルムの使用前の表面保護フィルムの剥離を防止する観点から、反射防止フィルム１０と表面保護フィルム７０の接着力は、０．０１Ｎ／５０ｍｍ以上が好ましく、０．０２Ｎ／５０ｍｍ以上がより好ましい。前述のように、粘着剤層８の形成に用いられる粘着剤組成物における架橋剤の使用量を調整し、粘着剤層８の硬度を適切な範囲とすることにより、接着力を上記範囲内に調整できる。

［反射防止フィルム以外への適用］
最表面に防汚層４を備える反射防止フィルム１０の表面に表面保護フィルム７０を貼り合わせる例について説明したが、表面保護フィルム７０による保護対象である光学フィルムは、フィルム基材の最表面に、水接触角が１００°以上の防汚層を備えるものであれば、反射防止フィルムに限定されない。

光学フィルムは、フィルム基材上に防汚層のみを備える防汚フィルムでもよい。また、光学フィルムは、フィルム基材と防汚層の間に各種の機能層を有する機能性光学フィルムでもよい。防汚フィルムや機能性光学フィルムは、フィルム基材上にハードコート層や防眩層等を備えていてもよい。

機能性光学フィルムとしては、タッチパネルの位置検出等に用いられる導電性フィルム、窓ガラスやショーウィンドウに貼り合わせられる日射遮蔽フィルムや遮熱・断熱フィルム等が挙げられる。このような機能性光学フィルムの機能層としては、金属や金属化合物（金属または半金属の酸化物、窒化物、炭化物、硫化物、フッ化物等）等の無機薄膜が挙げられる。機能層は、導電性でも絶縁性でもよく、半導体でもよい。

以下に、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［反射防止フィルムの作製］
＜反射防止フィルムＡ＞
バインダー樹脂としてのペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学製「ビスコート♯３００」）５０重量部およびウレタンアクリレートプレポリマー（新中村化学工業製「ＵＡ−５３Ｈ−８０ＢＫ」）５０重量部；シリコーン粒子（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製「トスパール１３０」、重量平均粒径：３μｍ）３．５重量部；有機粘土である合成スメクタイト（コープケミカル製「ルーセンタイトＳＡＮ」）２重量部；光重合開始剤（ＢＡＳＦ製「イルガキュア９０７」）３重量部；ならびにレベリング剤（ＤＩＣ製「ＰＣ４１００」、固形分１０％）０．２を混合し、トルエン／シクロペンタノン混合溶媒（重量比７０／３０）で希釈して、固形分濃度３３重量％のハードコート層形成用組成物を調製した。なお、有機粘土は、トルエンで固形分が６重量％になるよう希釈して用いた。この組成物を、厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ製「ＫＣ４ＵＡ」）に、コンマコーター（登録商標）を用いて塗布し、８０℃で１分間加熱した。その後、高圧水銀ランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、塗布層を硬化させて厚み：６．３μｍの防眩性ハードコート層を形成した。

（反射防止層の形成）
ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムを、ロールトゥートール方式のスパッタ成膜装置に導入し、フィルムを走行させながら、防眩性ハードコート層形成面にボンバード処理（Ａｒガスによるプラズマ処理）を行った後、密着性向上層として、３．５ｎｍのＳｉＯ_ｘ層（ｘ＜２）を成膜し、その上に、１０．１ｎｍのＮｂ_２Ｏ_５層、２７．５ｎｍのＳｉＯ_２層、１０５．０ｎｍのＮｂ_２Ｏ_５層および８３．５ｎｍのＳｉＯ_２層を順に成膜した。密着性向上層およびＳｉＯ_２層の成膜にはＳｉターゲット、Ｎｂ_２Ｏ_５層の成膜にはＮｂターゲットを用いた。ＳｉＯ_２層の成膜およびＮｂ_２Ｏ_５層の成膜においては、プラズマ発光モニタリング（ＰＥＭ）制御により、成膜モードが遷移領域を維持するように導入する酸素量を調整した。

（防汚層の形成）
主鎖骨格に−（ＣＦ_２−ＣＦ_２−Ｏ）−および−（ＣＦ_２−Ｏ）−を含むパーフルオロエーテルを含有するフッ素系樹脂溶液（防汚材料１）を、反射防止層の表面ＳｉＯ_２層上に、乾燥後厚みが９ｎｍとなるように塗布し、トップコート層としての防汚層を形成した。

＜反射防止フィルムＢ，Ｃ＞
反射防止フィルムＢおよび反射防止フィルムＣは、防汚層の構成が異なること以外は反射防止フィルムＡと同様に作製した。反射防止フィルムＢでは、防汚層の材料を、主鎖骨格に−（Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）−ＣＦ_２）−を含むパーフルオロエーテルを含有するフッ素系樹脂溶液（防汚材料２）に変更し、防汚層の厚みを６ｎｍとした。反射防止フィルムＣでは防汚層の厚みを４ｎｍに変更した。

［粘着剤組成物の調製］
＜粘着剤組成物Ａの調製＞
温度計、攪拌機、冷却器および窒素ガス導入管を備える反応容器内に、モノマー成分として、２−エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）９６重量部、およびヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）４重量部、ならびに重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２重量部を酢酸エチル１５０重量部とともに仕込み、２３℃で緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換を行った。その後、液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリルポリマーの溶液（濃度４０重量％）を得た。

アクリルポリマーの溶液２５０重量部（ポリマー１００重量部）に、トルエン７３重量部およびアセチルアセトン１０重量部を加え、濃度３０重量％に希釈した。この溶液に、架橋剤としてトリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート三量体付加物の７５％酢酸エチル溶液（東ソー製「コロネートＬ」）５．３重量部（固形分４．０重量部）、および架橋触媒としてジオクチルスズラウレートの０．５％溶液(東京ファインケミカル製「エンビライザー ＯＬ−１)４重量部 (固形分０．０２重量部）を加えて攪拌し、アクリル系粘着剤溶液Ａを調製した。この組成物における架橋剤のイソシアネート当量は、ポリマーの水酸基当量の０．６９倍であった。

＜粘着剤組成物Ｂの調製＞
架橋剤をヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体（東ソー製「コロネートＨＸ」）４．０重量部に変更したこと以外は、粘着剤組成物Ａの調製と同様にして、アクリル系粘着剤溶液Ｂを調製したこの組成物における架橋剤のイソシアネート当量は、ポリマーの水酸基当量の０．７３倍であった。

＜粘着剤組成物Ｃの調製＞
温度計、攪拌機、冷却器および窒素ガス導入管を備える反応容器内に、モノマー成分として、２−エチルヘキシルアクリレート５４重量部、酢酸ビニル（ＶＡＣ）４３重量部、およびアクリル酸（ＡＡ）３重量部、ならびに重合開始剤としてベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）０．２重量部を酢酸エチル２３３重量部とともに仕込み、２３℃で緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換を行った。その後、液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリルポリマーの溶液（濃度３０重量％）を調製した。

アクリルポリマーの溶液３３３重量部（ポリマー１００重量部）に、メチルエチルケトン６７重量部を加え、濃度２５重量％に希釈した。この溶液に、架橋剤として４官能エポキシ系化合物（三菱ガス化学製「テトラッドＣ」）１０重量部を加えて撹拌し、アクリル系粘着剤溶液Ｃを調製した。この組成物における架橋剤のエポキシ当量は、ポリマーのカルボキシ基当量の１．４６倍であった。

［表面保護フィルムの作製］
＜表面保護フィルム１＞
片面に帯電防止層が設けられた厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム(三菱ケミカル製「ダイアホイルＴ１００Ｇ３８」の帯電防止層が設けられていない面に、上記の粘着剤組成物Ａを塗布し、１３０℃で２分間乾燥して、厚さ２１μｍの粘着剤層を形成した。粘着剤層の表面に、セパレータ（片面がシリコーン離型処理された厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム）の離型処理面を貼り合わせた。

＜表面保護フィルム２＞
粘着剤組成物Ａに代えて粘着剤組成物Ｂを用いたこと以外は、表面保護フィルム１の作製と同様にして、表面保護フィルム２を作製した。

＜表面保護フィルム３＞
粘着剤組成物Ａに代えて粘着剤組成物Ｃを用い、粘着剤層の厚みを２３μｍに変更したこと以外は、表面保護フィルム１の作製と同様にして、表面保護フィルム３を作製した。

＜表面保護フィルム４＞
表面保護フィルム４として、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に厚み１５μｍのアクリル系粘着剤層を備え、粘着剤層の表面にセパレータが仮着された市販の粘着フィルム（サンエー化研製「ＳＡＴ−２０３８Ｔ１０−ＪＳＬ」）を用いた。

［保護フィルム付き反射防止フィルムの作製］
表面保護フィルム１〜４のセパレータを剥離し、ロールラミネータを用いて、反射防止フィルムＡ〜Ｃの防汚層の表面に表面保護フィルムの粘着剤層を貼り合わせて、表１に示す実施例１，２および比較例１〜４の保護フィルム付き反射防止フィルムを作製した。

［評価方法］
以下の測定および評価は、いずれも、２３℃、相対湿度５０％の環境（以下「標準環境」）下で実施した。

＜反射防止フィルムの水接触角＞
接触角測定装置（協和界面化学社製「ＤＭｏ-７０１」）を用いて、表面保護フィルムを貼り合わせる前の反射防止フィルムの防汚層表面に、約５．０μＬの水を滴下した。滴下から２秒後に、防汚層の表面と液滴端部の接線との角度を測定した。実施例１および実施例２については、反射防止フィルムの表面に保護フィルムを貼り合わせて、温度６０℃、相対湿度９０％の恒温恒湿槽で２５０時間静置した後、表面保護フィルムを剥離し、再度、標準環境下で反射防止フィルムの水接触角（湿熱試験後の水接触角）を測定した。

＜反射防止フィルムの動摩擦係数＞
表面性測定基 (新東科学製「トライボギア ＴＹＰＥ：１４)を用いて、滑り片として１０ｍｍφのフェルトを使用し、荷重５００ｇ、速度３００ｍｍ／分、長さ５０ｍｍの条件で防汚層の表面を一方向に擦過し、摩擦係数（摩擦力／荷重）の平均値を反射防止フィルム（防汚層）の動摩擦係数とした。

＜反射防止フィルムの表面粗さ＞
レーザー顕微鏡（キーエンス製「ＶＫ−Ｘ２００」）を用い、倍率１０倍での観察像（１００μｍ×１００μｍ）から、算術平均粗さＲａを求めた。

＜粘着剤の表面硬度＞
表面保護フィルムの粘着剤層付設面を上向きにして、ナノインデンテーションシステム（Ｈｙｓｉｔｒｏｎ製「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」）のステージ上に固定した。バーコピッチ（三角錐）型のダイヤモンド製圧子（先端の曲率半径：０．１μｍ）を用いて、徐々に荷重を印加し、深さ１５００ｎｍまで押し込んだ際の押込硬度（押込荷重／圧子と試料の投影接触面積）を算出した。なお、圧子と試料の投影接触面積は、特開２００５−１９５３５７号公報に記載の方法により算出した。

＜表面保護フィルムの接着力＞
保護フィルム付き反射防止フィルムを幅５０ｍｍ×長さ１００ｍｍに切り出し、標準環境下で３０分間静置した後、反射防止フィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム側の面を両面粘着テープを用いてアクリル板に固定した。試料の長さ方向の端部の表面保護フィルムを剥離し、剥離角度１８０°、引張速度０．３ｍ／分でピール試験を行った。

＜保護フィルムの密着性＞
反射防止フィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム側の面にガラス板を貼り合せ、５０℃、０．５ＭＰａのオートクレーブで１５分間処理を実施した。その後、標準環境下で３０分間静置した後、保護フィルムと反射防止フィルムとの界面での気泡の有無を目視にて確認した。気泡が確認されたものを「接着不良（×）」、気泡がみられなかったものを「接着性良好（〇）」とした。

＜汚染性＞
反射防止フィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム側の面に黒色アクリル板を貼り合せ、温度６０℃、相対湿度９０％の恒温恒湿槽で２５０時間した後、表面保護フィルムを剥離した。反射防止フィルムの一部の領域の表面に粘着テープを貼り合わせた後剥離して、表面の付着物質を除去した。その後、三波長蛍光灯を設置した暗室下で、反射防止フィルムからの反射光を目視にて観察し、テープにより付着物質を除去した領域と他の領域との差の有無を確認した。目視による反射光の差がみられたものを「汚染あり（×）」、反射光の差がみられなかったものを「汚染なし（〇）」とした。

上記の実施例および比較例における反射防止フィルムの防汚層の構成、および表面保護フィルムにおける粘着剤層の構成、ならびに評価結果を表１に示す。

実施例１および実施例２では、反射防止フィルムの防汚層と表面保護フィルムとの貼り合わせ界面に気泡が見られず良好な密着性を示し、かつ表面保護フィルムを剥離後の防汚層の表面に汚染がみられなかった。また、反射防止フィルムに表面保護フィルムを貼り合わせた状態で湿熱試験を行った後も、防汚層の水接触角に大きな変化はみられず、表面保護フィルムの粘着剤による汚染が生じていないことが分かる。

実施例１と同一の表面保護フィルムを用いた比較例４では、実施例１と同様に良好な密着性および耐汚染性を示したが、防汚層の水接触角が小さく、防汚性に劣っていた。表面硬度の高い粘着剤層を備える表面保護フィルムを用いた比較例１および比較例３では、表面保護フィルムを剥離する際の剥離力が大きく、表面保護フィルムを剥離後の防汚層に汚染がみられた。表面保護フィルムとして市販の粘着剤付きフィルムを用いた比較例２では、表面保護フィルムの剥離力は実施例１と同等であったが、粘着剤層の厚みが小さいために、防汚層と表面保護フィルムとの密着性が劣っていた。また、比較例２では、表面保護フィルムを剥離後の防汚層に汚染がみられた。

以上の結果から、所定の粘着剤層を備える表面保護フィルムを用いることにより、水接触角が大きく防汚性の高い防汚層を備える光学フィルムに対しても、十分な密着性を示し、かつ粘着剤に起因する汚染を防止できることが分かる。

１０ 光学フィルム（反射防止フィルム）
１ フィルム基材
２ ハードコート層
３ 反射防止層
３０ プライマー層
３１，３３ 低屈折率層
３２，３４ 高屈折率層
４ 防汚層
７０ 表面保護フィルム
７ フィルム基材
８ 粘着剤層

Claims (9)

1. 第一フィルム基材の第一主面上に最表面層として防汚層が設けられた光学フィルムと、前記光学フィルムの前記防汚層に仮着された表面保護フィルムとを含み、
   前記表面保護フィルムは第二フィルム基材上に粘着剤層を備え、
   前記粘着剤層の厚みが１６μｍ以上であり、
   前記防汚層の水接触角が１００°以上であり、
   前記防汚層と前記粘着剤層とが接しており、
   前記光学フィルムの前記防汚層と、前記表面保護フィルムの前記粘着剤層との接着力が、０．０７Ｎ／５０ｍｍ未満である、保護フィルム付き光学フィルム。
2. 前記粘着剤層の表面硬度が６００ｋＰａ以下である、請求項１に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
3. 前記防汚層の動摩擦係数が０．１５以下である、請求項１または２に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
4. 前記防汚層がパーフルオロポリエーテル骨格を有するフッ素系樹脂を含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
5. 前記光学フィルムは、前記第一フィルム基材と前記防汚層との間に、少なくとも１層の無機薄膜を備える、請求項１〜４のいずれか１項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
6. 前記無機薄膜は、屈折率の異なる複数の無機薄膜からなる反射防止層である、請求項５に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
7. 前記光学フィルムは、前記第一フィルム基材の第一主面上にハードコート層を備える、請求項１〜６のいずれか１項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
8. 前記ハードコート層が、微粒子を含有する防眩性ハードコート層である、請求項７に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
9. 前記防汚層の表面の算術平均粗さが０．１〜２．５μｍである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
   
   

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