CN105677097A - 一种触摸屏及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种触摸屏及其制作方法，包括衬底基板，设置于衬底基板表面的增强层，用于提高衬底基板的强度。当所述的增强层为高折射透明光阻材料层时，透明光阻材料层上设置驱动电极和感应电极，以及位于驱动电极和感应电极之间的绝缘层；当所述的增强层为普通折射率透明光阻材料层时，需要在透明光阻材料层和驱动电极之间增加消影层，或者在感应电极上设置消影层。本发明制作工艺简单，可实施性强，可以有效提高衬底基板以及贴合后触摸屏的表面强度，大大提高了产品的良率，同时很大程度上改善消影效果。

Description

一种触摸屏及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种触摸屏及其制作方法。
背景技术
触摸屏作为一种全新的人机交互设备，有着生动直观的操作接口且符合人体的使用习惯，能让娱乐办公变得更加生动和放松，并且基于电容触摸屏的高透明度、耐用性、多点触摸等优势，在消费电子领域得到广泛的应用。OGS作为触摸屏的一种，因其简单的解决方案以及非常高的灵敏度，一直在顾客体验中占据优势地位。
但现有的OGS触摸屏工艺一般为5mask(金属桥)工艺或6mask(ITO桥)工艺，但ITO镀膜后会造成衬底基板翘曲变形，衬底基板表面的受力状态遭到ITO的冲击和破坏，基板表面强度变低。Griffith微裂纹理论：Griffith认为实际材料中总存在许多细小的裂纹或缺陷，在外力作用下，这些裂纹和缺陷附近就会产生应力集中现象，当应力达到一定程度时，裂纹就开始扩展而导致断裂，根据Griffith微裂纹理论可知，断裂并不是两部分晶体同时沿整个界面拉断，而是裂纹扩展的结果。衬底基板表面存在许多特别细小的纹理，当受力状态遭到ITO的冲击和破坏，基板表面强度变低，使得触摸屏的良率大大降低。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种触摸屏及其制作方法，该触摸屏通过在衬底基板上设置一层增强层，可以有效提高衬底基板的强度，从而提高整个触摸屏的强度，提高产品的良率。
本发明的实施例提供了一种触摸屏，包括衬底基板，还包括:设置于衬底基板表面的增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度。减小了ITO镀膜后造成衬底基板翘曲变形的几率，使得衬底基板表面的受力状态遭到ITO的冲击和破坏时，增强基板表面强度，从而降低了表面微小裂纹扩展而导致断裂的可能性。
例如，所述的增强层为透明光阻材料层，所述的透明光阻材料层上设置驱动电极和感应电极，以及位于驱动电极和感应电极之间的绝缘层。
在衬底基板上设置透明光阻材料层，使得衬底基板的表面的受力状态在受到电极层的冲击和破坏时，可以有效的保护衬底基板的压缩应力层的分布状态不受变化，从而增加产品表面的强度。
例如，透明光阻材料层的厚度范围为0.4～5um。
例如，透明光阻材料层的折射率大于1.67为高折射透明光阻材料层，具有消影的作用，可以充当消影层的功能，在减少制程的同时达到客户对消影效果的需求，有效的简化了工艺流程。
例如，所述的透明光阻材料层的折射率等于1.5为普通折射率的透明光阻材料，需要在透明光阻材料层制成后增加消影层，以达到消影的效果。
例如，在所述的透明光阻材料层和驱动电极间设置消影层，所述的消影层的材料为SiO2和Nb2O5，SiO2和Nb2O5的膜厚比例为1:4，所述的消影层的厚度为450A～500A，可以使得消影效果达到3级。
例如，在所述的感应电极上设置消影层，所述的消影层的材料为SiNxOy，所述的消影层的厚度为700A～900A，折射率为1.6～1.65，这种方法可以使得消影效果达到1级。
另外需要在所述的衬底基板周边设置一圈黑矩阵，以达到遮盖边缘走线，防止边缘走线可视，同时防止边缘漏光的作用。
本发明的实施例还提供了一种触摸屏制造方法，在衬底基板表面形成一层增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度，所形成的增强层为透明光阻材料层。
例如，所形成的透明光阻材料层的厚度为0.4um～1um。在所形成的透明光阻材料层上采用高温镀膜工艺，温度范围为230℃～250℃，形成由氧化铟锡制成的驱动电极和感应电极，在驱动电极和感应电极之间形成一层绝缘层。
例如，所形成的透明光阻材料层的厚度为1um～5um。在所形成的透明光阻材料层上采用低温镀膜工艺，温度范围为30℃～80℃，退火工艺参数为230～250℃/30mins，形成由氧化铟锡制成的驱动电极和感应电极，在驱动电极和感应电极之间形成一层绝缘层。
例如，所形成的透明光阻材料层的折射率大于1.67。
例如，所形成的透明光阻材料层的折射率等于1.5，在所形成的透明光阻材料层和驱动电极层间形成一层消影层。所述的消影层的材料为SiO2和Nb2O5，SiO2和Nb2O5的膜厚比例为1:4。所形成的消影层的厚度为450A～500A。
例如，当所形成的透明光阻材料层的折射率等于1.5，在所形成的感应电极层上形成一层消影层，所形成的消影层的材料为SiNxOy，所形成的消影层的厚度为700A～900A，所形成的消影层的折射率为1.6～1.65。
例如，在衬底基板与所述增强层之间采用黄光工艺制备形成的黑矩阵，所形成的黑矩阵位于所述衬底基板的周边。
本发明制作工艺简单，可实施性强，同时可以有效提高衬底基板以及贴合后触摸屏的表面强度，大大提高了产品的良率，同时很大程度上改善消影效果。
附图说明
图1为本发明一个实施例的触摸屏示意图；
图2为本发明黑矩阵设置于玻璃基板的俯视图；
图3为本发明另一个实施例的触摸屏示意图；
图4为本发明又一个实施例的触摸屏示意图；
图5为本发明一个实施例的触摸屏制作方法流程示意图；
图6为本发明另一个实施例的触摸屏制作方法流程示意图；
图7为本发明又一个实施例的触摸屏制作方法流程示意图；
图8为本发明又一个实施例的触摸屏制作方法流程示意图。
附图标记：
1-衬底基板；
2-透明光组材料层；
3-驱动电极；
4-绝缘层；
5-感应电极；
6-黑矩阵；
7-消影层。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
本实施例提供一种触摸屏，如图1所示，包括衬底基板1，设置于衬底基板表面的增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度。减小了ITO镀膜后造成衬底基板翘曲变形的几率，使得衬底基板表面的受力状态遭到ITO的冲击和破坏时，增强基板表面强度，从而降低了表面微小裂纹扩展而导致断裂的可能性。
例如，所述的增强层为透明光阻材料层2，所述的透明光阻材料层2上设置驱动电极3和感应电极5，以及位于驱动电极和感应电极之间的绝缘层4。
在衬底基板1上设置透明光阻材料层2，使得衬底基板1的表面的受力状态在受到电极层的冲击和破坏时，可以有效的保护衬底基板1的压缩应力层的分布状态不受变化，从而增加产品表面的强度。
例如，透明光阻材料层2的厚度范围为0.4～5um。
例如，透明光阻材料层2的折射率大于1.67为高折射透明光阻材料层2，该高折射透明光祖材料层具有消影的作用，可以充当消影层的功能，在减少制程的同时达到客户对消影效果的需求，有效的简化了工艺流程。
例如，如图2所示在所述的衬底基板1周边设置一圈黑矩阵6，以达到遮盖边缘走线，防止边缘走线可视，同时防止边缘漏光的作用。
本发明提供的另一个实施例，如图3所示，包括衬底基板1，设置于衬底基板表面的增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度，所述的增强层为透明光阻材料层2，所述的透明光阻材料层2上设置驱动电极3和感应电极5，以及位于驱动电极和感应电极之间的绝缘层4。具体的，透明光阻材料层2的厚度范围为0.4～5um。所述的透明光阻材料层2的折射率等于1.5为普通折射率的透明光阻材料，需要在透明光阻材料层2制成后增加消影层，以达到消影的效果。
例如，在所述的透明光阻材料层和驱动电极间设置消影层7，所述的消影层7的材料为SiO2和Nb2O5，SiO2和Nb2O5的膜厚比例为1:4，所述的消影层7的厚度为450A～500A，可以使得消影效果达到3级。
例如，也可以在透明光阻材料层2制成后增加消影层7，以达到消影的效果，如图4所示。所述的消影层7的材料为SiNxOy，所述的消影层的厚度为700A～900A，折射率为1.6～1.65，这种方法可以使得消影效果达到1级。
在所述的衬底基板1周边设置一圈黑矩阵6，以达到遮盖边缘走线，防止边缘走线可视，同时防止边缘漏光的作用。
本发明提供了一种触摸屏制作方法的实施例，如图5所示为该方法的流程示意图，具体的：
101、在衬底基板表面周边采用黄光工艺制备一圈黑矩阵；
102、在衬底基板表面形成一层增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度，所形成的增强层为透明光阻材料层，所形成的透明光阻材料层为厚度为0.4um～1um，折射率大于1.67的高折射率透明光阻材料层；
103、在所形成的透明光阻材料层上采用高温镀膜工艺，温度范围为230℃～250℃，形成由氧化铟锡制成的驱动电极；
104、在驱动电极上形成一层绝缘层；
105、在所形成的绝缘层上采用高温镀膜工艺，温度范围为230℃～250℃，形成由氧化铟锡制成的感应电极；
例如，步骤202将步骤102中形成的透明光阻材料层为厚度改为1um～5um，折射率大于1.67，对应的步骤103中形成的驱动电极层和105中形成的感应电极层采用低温镀膜工艺。具体的，如图6所示，步骤201、204分别与步骤101、104相同，在步骤203中，在所形成的透明光阻材料层上采用低温镀膜工艺，温度范围为30℃～80℃，退火工艺参数为230～250℃/30mins，形成由氧化铟锡制成的驱动电极；在步骤205中，在所形成的绝缘层上采用低温镀膜工艺，温度范围为30℃～80℃，退火工艺参数为230～250℃/30mins，形成由氧化铟锡制成的感应电极。
本发明提供了另一种触摸屏制作方法，如图7所示为该方法的流程示意图，具体的：
301、在衬底基板表面周边采用黄光工艺制备一圈黑矩阵；
302、在衬底基板表面形成一层增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度，所形成的增强层为透明光阻材料层，所形成的透明光阻材料层为厚度为1um～5um，折射率为1.5的普通折射率透明光阻材料；
303、在所形成的透明光阻材料层上形成一层消影层，所述的消影层的材料为SiO2和Nb2O5，SiO2和Nb2O5的膜厚比例为1:4，厚度为450A～500A；
304、在所形成的消影层上采用低温镀膜工艺，温度范围为30℃～80℃，退火工艺参数为230～250℃/30mins，形成由氧化铟锡制成的驱动电极；
305、在驱动电极上形成一层绝缘层；
306、在所形成的绝缘层上采用低温镀膜工艺，温度范围为30℃～80℃，退火工艺参数为230～250℃/30mins，形成由氧化铟锡制成的感应电极；
例如，如图8所示，步骤401、402分别与步骤301、302相同，步骤403为在步骤402中在衬底基板表面形成一层增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度，所形成的增强层为透明光阻材料层，所形成的透明光阻材料层上采用低温镀膜工艺，温度范围为30℃～80℃，退火工艺参数为230～250℃/30mins，形成由氧化铟锡制成的驱动电极，步骤404为在驱动电极上形成一层绝缘层，405为在所形成的绝缘层上采用低温镀膜工艺，温度范围为30℃～80℃，退火工艺参数为230～250℃/30mins，形成由氧化铟锡制成的感应电极，406为在感应电极上形成一层消影层，所形成的消影层的材料为SiNxOy，所形成的消影层的厚度为700A～900A，所形成的消影层的折射率为1.6～1.65。
例如，如图7所示的方法，也可以将图7中的步骤302的增强层，即透明光阻材料层的厚度改为0.4um～1um，同时将步骤304和306改为采用高温镀膜工艺，温度范围为230℃～250℃，形成由氧化铟锡制成的驱动电极和感应电极。
例如，如图8所示的方法，还可以将图8中的步骤402中的透明光阻材料层的厚度改为0.4um～1um，同时将步骤403和405改为采用高温镀膜工艺，温度范围为230℃～250℃，形成由氧化铟锡制成的驱动电极和感应电极。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (26)

1.一种触摸屏，包括衬底基板，其特征在于，还包括:
设置于衬底基板表面的增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度。
2.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述的增强层为透明光阻材料层。
3.如权利要求2所述所述的触摸屏，其特征在于，所述的透明光阻材料层的折射率大于1.67。
4.如权利要求2所述所述的触摸屏，其特征在于，所述的透明光阻材料层的折射率等于1.5。
5.如权利要求3或4所述的触摸屏，其特征在于，所述的透明光阻材料层上设置驱动电极和感应电极，以及位于驱动电极和感应电极之间的绝缘层。
6.如权利要求5所述所述的触摸屏，其特征在于，当所述透明光阻材料的折射率等于1.5时，所述的透明光阻材料层上设置有消影层。
7.如权利要求6所述的触摸屏，其特征在于，所述消影层位于所属透明光阻材料层和所述驱动电极之间。
8.如权利要求7所述的触摸屏，其特征在于，所述的消影层的材料为SiO2和Nb2O5，SiO2和Nb2O5的膜厚比例为1:4。
9.如权利要求8所述的触摸屏，其特征在于，所述的消影层的厚度为450A～500A。
10.如权利要求6所述所述的触摸屏，其特征在于，所述消影层设置于所属感应电极上方。
11.如权利要求10所述的触摸屏，其特征在于，所述的消影层的材料为SiNxOy。
12.如权利要求11所述的触摸屏，其特征在于，所述的消影层的厚度为700A～900A。
13.如权利要求11所述的触摸屏，其特征在于，所述的消影层的折射率为1.6～1.65。
14.如权利要求2所述的触摸屏，其特征在于，所述透明光阻材料层的厚度为0.4～5um。
15.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，还包括位于衬底基板与所述增强层之间的黑矩阵，所述黑矩阵位于所述衬底基板的周边。
16.一种触摸屏制作方法，其特征在于，在衬底基板表面形成一层增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度。
17.如权利要求16所述的触摸屏制作方法，其特征在于，所形成的增强层为透明光阻材料层。
18.如权利要求17所述的触摸屏制作方法，其特征在于，所形成的透明光阻材料层的厚度为0.4um～1um。
19.如权利要求18所述的触摸屏制作方法，其特征在于，在所形成的透明光阻材料层上采用高温镀膜工艺，温度范围为230℃～250℃，形成由氧化铟锡制成的驱动电极和感应电极，在驱动电极和感应电极之间形成一层绝缘层。
20.如权利要求17所述的触摸屏制作方法，其特征在于，所形成的透明光阻材料层的厚度为1um～5um。
21.如权利要求20所述的触摸屏制作方法，其特征在于，在所形成的透明光阻材料层上采用低温镀膜工艺，温度范围为30℃～80℃，退火工艺参数为230～250℃/30mins，形成由氧化铟锡制成的驱动电极和感应电极，在驱动电极和感应电极之间形成一层绝缘层。
22.如权利要求19或21所述的触摸屏制作方法，其特征在于，所形成的透明光阻材料层的折射率大于1.67。
23.如权利要求19或21所述的触摸屏制作方法，其特征在于，所形成的透明光阻材料层的折射率等于1.5。
24.如权利要求23所述的触摸屏制作方法，其特征在于，在所形成的透明光阻材料层和驱动电极间形成一层消影层，所述的消影层的材料为SiO2和Nb2O5，SiO2和Nb2O5的膜厚比例为1:4，厚度为450A～500A。
25.如权利要求23所述的触摸屏制作方法，其特征在于，在所形成的感应电极上形成一层消影层，所形成的消影层的材料为SiNxOy，厚度为700A～900A，折射率为1.6～1.65。
26.如权利要求16所述的触摸屏制作方法，其特征在于，还包括在衬底基板与所述增强层之间采用黄光工艺制备形成的黑矩阵，所形成的黑矩阵位于所述衬底基板的周边。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017118083A1 (zh) * 2016-01-04 2017-07-13 京东方科技集团股份有限公司 一种触摸屏及其制作方法
CN109117525A (zh) * 2018-07-25 2019-01-01 京东方科技集团股份有限公司 一种触摸屏的消影模拟方法和消影模拟装置
CN111399692A (zh) * 2020-04-29 2020-07-10 业成科技（成都）有限公司 触控面板及其制备方法、电子设备
US12067181B2 (en) 2020-11-26 2024-08-20 Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co., Ltd. Touch panel, manufacturing method thereof, and display device

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110234507A1 (en) * 2010-03-26 2011-09-29 Applied Vacuum Coating Technologies Co., Ltd. Integrated touch panel and manufacturing method thereof
CN102438822A (zh) * 2009-03-31 2012-05-02 帝人株式会社 透明导电性层叠体和透明触摸面板
CN102467992A (zh) * 2010-11-12 2012-05-23 株式会社Bmc 透明导电层压薄膜、其制造方法以及包含该透明导电层压薄膜的触摸屏
CN104267859A (zh) * 2014-09-16 2015-01-07 合肥鑫晟光电科技有限公司 触摸屏及其制作方法、触摸显示装置
CN104461157A (zh) * 2014-12-25 2015-03-25 合肥鑫晟光电科技有限公司 触摸面板的制作方法、触摸面板、触摸屏和显示装置
CN104571721A (zh) * 2015-02-17 2015-04-29 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种透明导电氧化物图案消隐结构、触控面板及显示装置
CN204314858U (zh) * 2014-12-13 2015-05-06 合肥乐凯科技产业有限公司 一种电容式触摸屏用透明硬化膜
CN104635991A (zh) * 2015-03-11 2015-05-20 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种消影结构、触摸屏及其制备方法
CN104658640A (zh) * 2013-11-15 2015-05-27 远东新世纪股份有限公司 导电透明层合体、图案化的导电透明层合体及触控面板
CN104834425A (zh) * 2015-05-19 2015-08-12 蓝思科技（长沙）有限公司 一种优化机械强度的触控屏结构

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5964273B2 (ja) * 2013-05-27 2016-08-03 日東電工株式会社 タッチパネルセンサ
KR102117103B1 (ko) * 2013-09-17 2020-06-01 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널 일체형 표시장치
US20150123911A1 (en) * 2013-11-06 2015-05-07 Light Polymers Holding Index matching and touch panel improvements in display devices
CN105892731B (zh) 2014-10-29 2019-05-28 祥达光学（厦门）有限公司 触控屏幕
CN105677097A (zh) 2016-01-04 2016-06-15 京东方科技集团股份有限公司 一种触摸屏及其制作方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102438822A (zh) * 2009-03-31 2012-05-02 帝人株式会社 透明导电性层叠体和透明触摸面板
US20110234507A1 (en) * 2010-03-26 2011-09-29 Applied Vacuum Coating Technologies Co., Ltd. Integrated touch panel and manufacturing method thereof
CN102467992A (zh) * 2010-11-12 2012-05-23 株式会社Bmc 透明导电层压薄膜、其制造方法以及包含该透明导电层压薄膜的触摸屏
CN104658640A (zh) * 2013-11-15 2015-05-27 远东新世纪股份有限公司 导电透明层合体、图案化的导电透明层合体及触控面板
CN104267859A (zh) * 2014-09-16 2015-01-07 合肥鑫晟光电科技有限公司 触摸屏及其制作方法、触摸显示装置
CN204314858U (zh) * 2014-12-13 2015-05-06 合肥乐凯科技产业有限公司 一种电容式触摸屏用透明硬化膜
CN104461157A (zh) * 2014-12-25 2015-03-25 合肥鑫晟光电科技有限公司 触摸面板的制作方法、触摸面板、触摸屏和显示装置
CN104571721A (zh) * 2015-02-17 2015-04-29 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种透明导电氧化物图案消隐结构、触控面板及显示装置
CN104635991A (zh) * 2015-03-11 2015-05-20 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种消影结构、触摸屏及其制备方法
CN104834425A (zh) * 2015-05-19 2015-08-12 蓝思科技（长沙）有限公司 一种优化机械强度的触控屏结构

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017118083A1 (zh) * 2016-01-04 2017-07-13 京东方科技集团股份有限公司 一种触摸屏及其制作方法
US10691236B2 (en) 2016-01-04 2020-06-23 Boe Technology Group Co., Ltd. Touch screen and manufacturing method thereof
CN109117525A (zh) * 2018-07-25 2019-01-01 京东方科技集团股份有限公司 一种触摸屏的消影模拟方法和消影模拟装置
CN111399692A (zh) * 2020-04-29 2020-07-10 业成科技（成都）有限公司 触控面板及其制备方法、电子设备
US12067181B2 (en) 2020-11-26 2024-08-20 Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co., Ltd. Touch panel, manufacturing method thereof, and display device

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