JP5440747B2 - 静電容量式タッチパネル付き表示装置、静電容量式タッチパネル - Google Patents

Description

本発明は静電容量式タッチパネル付き表示装置及び静電容量式タッチパネルに関する。
本願は２０１１年１１月７日に日本に出願された、特願２０１１−２４３７９６号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

タッチパネルは、位置入力装置として機能する電子部品であり、液晶ディスプレイ等の表示装置と組み合わされ、携帯電話や携帯ゲーム機等において幅広く利用されている。タッチパネルは、操作者が画面表示に基づき、手や入力ペンでタッチパネルの特定位置を指し示すと、装置がその特定位置の情報を感知することで、操作者が望む適切な動作を行なわせることができるインターフェースである。タッチパネルとしては、指し示す位置を検出する動作原理によって種々の方式のものがあるが、抵抗膜式や静電容量式が汎用されている。特に静電容量式は、携帯電話などのモバイル機器を中心として急速に拡大してきた。静電容量式の代表的な検出方式としては、アナログ検出の表面型と、パターニングされた電極を用いた積算検出方式による投影型の２つが挙げられる。

静電容量式タッチパネルとしては、片面又は両面に導電層を設けたガラス板（以下、センサガラスということがある）を備えるものが用いられており、通常、センサガラスの前面側（タッチ面側）に、粘着剤層を介してガラス板（以下、カバーガラスということがある）が積層されている。また、カバーガラスの破損や破片の飛散を防止するために、カバーガラスの前面側にさらに保護シートが貼付される。
かかる用途に用いられる保護シートとしては、耐擦傷性に優れることから、ハードコート層を有するものが多い。また、所望により、他の機能、たとえば防汚機能、又は反射防止機能等を有する層を設けたり、ハードコート層にこれらの機能を持たせたりすることが行われている（たとえば特許文献１〜３）。

タッチパネルは、通常、粘着剤を用いて表示装置の前面に取り付けられるが、特に表示装置が大型の場合、コストの点から、タッチパネルの外縁部のみを液晶ディスプレイ等の他の部材に粘着剤で固定することがある。
図９に、従来の静電容量式タッチパネルを外縁部のみ粘着剤で表示装置の前面に固定した静電容量式タッチパネル付き表示装置２００の構成を説明する概略断面図を示す。静電容量式タッチパネル付き表示装置２００は、最前面に偏光板２１１が配置された液晶ディスプレイ２１０と、静電容量式タッチパネル２２０を備える。静電容量式タッチパネル２２０は、ガラス基板２２１と、ガラス基板２２１の前面側に設けられた導電層２２２と、導電層２２２の前面側に粘着剤層２２３を介して積層されたカバーガラス２２４と、カバーガラス２２４の前面側に粘着剤層２２６を介して積層された保護シート２２７とを備え、カバーガラス２２４の裏面の外縁部には印刷層２２５が形成されている。静電容量式タッチパネル２２０は、液晶ディスプレイ２１０の前面に、液晶ディスプレイ２１０との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層２３０で液晶ディスプレイ２１０に固定され、これにより、液晶ディスプレイ２１０の前面と静電容量式タッチパネル２２０の裏面との間に空間が形成されている。

一方、光学フィルムの分野では、フィルム同士、あるいはフィルムと他の部材（たとえばガラス板）が接触した際に、グレアやニュートンリング、又はブロッキングが生じることがある。これらを防止するために、フィルム表面に微細な凹凸形状を設けることが行われている。形成する凹凸の大きさは、要求される性能（アンチグレア、アンチニュートンリング、又はアンチブロッキング）に応じて設定され、アンチグレアの場合が最も大きく、アンチブロッキングの場合が最も小さい。このような凹凸形状の形成方法としては、ハードコート層に粒子を含有させる方法が一般的に用いられている（たとえば特許文献４〜６）。

特開２００７−７７１８８号公報 特開２００９−２６３６００号公報 国際公開第２００８／１０８１５３号パンフレット 特開２０１０−４２６７１号公報 特開２０１０−６０６４３号公報 特開２０１１−３３９４８号公報

近年、タッチパネルの軽量化、又は薄型化の要求が高まっている。そのようななか、上述した静電容量式タッチパネルとして、カバーガラスを設けない１枚透明基板タイプのものが用いられるようになっている。１枚透明基板タイプの静電容量式タッチパネルとしては、透明基板の裏面に導電層を設け、前記導電層上に保護シートを積層した構成のものや、ガラス板の前面に導電層を設け、前記導電層上に保護シートを積層した構成のものがある。
しかし、本発明者らの検討によれば、１枚透明基板タイプの静電容量式タッチパネルを、図９に示すように表示装置に取り付けた場合、ニュートンリングが生じる問題がある。この問題は、表示装置が大型化するほど顕著になる。かかる問題が生じる原因としては、前記タッチパネルが備える透明基板が１枚であるため、たわみや歪みが生じやすく、中央付近で表示装置の前面の偏光板に接触したまま戻りにくくなることが考えられる。そこで、アンチニュートンリング性能を有するフィルム（アンチニュートンリングフィルム）をタッチパネルの裏面又は表示装置の前面に配置することが考えられる。しかし、従来用いられているアンチニュートンリングフィルムは、ヘイズが高く透明性が不充分で、タッチ面の明るさを低下させることから、表示装置やタッチパネルに適用するのは好ましくない。一方、クリアタイプのフィルムをタッチパネルの裏面又は表示装置の前面に使用すると対向する面に接触したまま戻りにくくなることがある。付着したまま戻らないと表示装置の画像が歪んで見えるため実用上、問題となる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、ニュートンリングが発生しにくく、かつタッチ面の明るさも良好な静電容量式タッチパネル付き表示装置及び静電容量式タッチパネルを提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討の結果、１枚透明基板タイプの静電容量式タッチパネルの裏面と、表示装置の前面とが空間を介して対向した構成において、前記タッチパネルの裏面（前記表示装置の前面と対向する面）、又は表示装置の前面（前記静電容量式タッチパネルの裏面と対向する面）を、所定の表面粗さを有するものとすることにより上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成させた。
本発明は、以下の態様を有する。
［１］ 表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、
前記静電容量式タッチパネルは、１枚のガラス基板と、前記ガラス基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
前記保護シートは、前記表示装置と対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることを特徴とする静電容量式タッチパネル付き表示装置。
［２］ 表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルとを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、
前記静電容量式タッチパネルは、１枚のガラス基板と、前記ガラス基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
前記表示装置は、前記静電容量式タッチパネルと対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることを特徴とする静電容量式タッチパネル付き表示装置。
［３］ 表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルとを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、
前記静電容量式タッチパネルは、１枚のガラス基板と、前記ガラス基板の前記表示装置側とは反対側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
前記表示装置は、前記静電容量式タッチパネルと対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることを特徴とする静電容量式タッチパネル付き表示装置。
［４］ 表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定される静電容量式タッチパネルであって、
１枚のガラス基板と、前記ガラス基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
前記保護シートは、前記表示装置と対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることを特徴とする静電容量式タッチパネル。
［５］ さらに、前記ガラス基板の前記表示装置側とは反対側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備える、［４］に記載の静電容量式タッチパネル。

ただし、本明細書及び特許請求の範囲において、表面粗さは、下記測定方法により測定される値である。
（表面粗さの測定方法）
走査プローブ顕微鏡を用い、プローブとしてＳｉ単結晶プローブを使用し、測定エリアを１０μｍ×１０μｍとして画像の取り込みを行い、得られた画像について加増処理を行い算出される。
前記加増処理は、前記走査プローブ顕微鏡に接続された加増処理手段によって実現されてもよい。前記加増処理手段はメモリ及び中央演算装置（ＣＰＵ）を備えるものであってもよい。
具体的には、走査プローブ顕微鏡（Ｖｅｅｃｏ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅｌ ＩＶ及びＮａｎｏｓｃｏｐｅ ＩＩＩａ）を用い、プローブとしてＳｉ単結晶プローブを使用し、測定モードをＴａｐｐｉｎｇモードとし、測定エリアを１０μｍ×１０μｍとして画像の取り込みを行う。得られた画像について、前記走査プローブ顕微鏡に付属の解析ソフトウェアを用いて、うねりを除去するための加増処理としてＦｌａｔｔｅｎ処理（０次）を１回、及びＰｌａｎｅｆｉｔ処理（ＸＹ）を１回行った後、表面粗さを算出することが好ましい。

すなわち、本発明は以下に関する。
（１）表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルとを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、前記保護シートは、前記表示装置と対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネル付き表示装置、
（２）表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルとを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、前記表示装置は、前記静電容量式タッチパネルと対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネル付き表示装置、
（３）表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルとを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側とは反対側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、前記表示装置は、前記静電容量式タッチパネルと対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネル付き表示装置、
（４）表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定される静電容量式タッチパネルであって、前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、前記保護シートは、前記表示装置と対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネル、及び
（５）さらに、前記透明基板の前記表示装置側とは反対側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備える、（４）に記載の静電容量式タッチパネル。

本発明によれば、ニュートンリングが発生しにくく、かつタッチ面の明るさも良好な静電容量式タッチパネル付き表示装置及び静電容量式タッチパネルを提供できる。

本発明の第一の実施形態に係る静電容量式タッチパネル付き表示装置の構成を説明する概略断面図である。 本発明に用いられる保護シートの一例を示す概略断面図である。 図２に示す保護シートの変形例を示す概略断面図である。 図２に示す保護シートの変形例を示す概略断面図である。 図２に示す保護シートの変形例を示す概略断面図である。 本発明の第二の実施形態に係る静電容量式タッチパネル付き表示装置の構成を説明する概略断面図である。 本発明の第三の実施形態に係る静電容量式タッチパネル付き表示装置の構成を説明する概略断面図である。 本発明の第四の実施形態に係る静電容量式タッチパネル付き表示装置の構成を説明する概略断面図である。 従来の静電容量式タッチパネル付き表示装置の構成を説明する概略断面図である。

以下、本発明について、添付の図面を参照し、実施形態例を示して説明する。

＜第一の実施形態＞
図１は、本実施形態の静電容量式タッチパネル付き表示装置１０１の構成を説明する概略断面図である。
静電容量式タッチパネル付き表示装置１０１は、最前面に偏光板１２が配置された液晶ディスプレイ１１と、静電容量式タッチパネル（以下、単に「タッチパネル」という。）２１を備え、タッチパネル２１は、液晶ディスプレイ１１の前面に、偏光板１２との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層３１で液晶ディスプレイ１１に固定されている。これにより、液晶ディスプレイ１１の前面とタッチパネル２１の裏面との間に空間が形成されている。
前記外縁部とは主に静電容量式タッチパネル付き表示装置として組み立てられた時に枠印刷が施された部分を指す。
タッチパネル２１は、透明基板１と、透明基板１の裏面（液晶ディスプレイ１１側）に設けられた導電層２と、導電層２上に粘着剤層３を介して積層された保護シート４とを備え、導電層２の裏面の外縁部には印刷層５が形成されている。
保護シート４は、液晶ディスプレイ１１と対向する面が、微細な凹凸を有する凹凸面となっており、前記凹凸面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である。
本明細書及び特許請求の範囲において、「前面」は、静電容量式タッチパネル又はこれを取り付けた表示装置を使用する際に、使用者が視認、又は操作する側の面を意味し、「裏面」は、使用者が視認、又は操作する側とは反対側の面を意味する。タッチパネルの前面をタッチ面ということがある。

本明細書及び特許請求の範囲において、「表面粗さ」は算術平均粗さを指す。

［液晶ディスプレイ１１］
液晶ディスプレイ１１としては、特に限定されず、公知の液晶ディスプレイを用いることができる。

［タッチパネル２１］
（透明基板１）
透明基板１としては、タッチパネル等に用いられている公知の透明基板が利用できる。
透明基板１は所定強度以上を有する材質であれば特に限定されるものではないが、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィン高分子（ＣＯＣ、ＣＯＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、２軸配向ポリスチレン（Ｋレジン含有、ｂｉａｘｉａｌｌｙ ｏｒｉｅｎｔｅｄ ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラス又は強化ガラスなどで形成することが好ましい。また、透明基板１の一面には導電層２が形成されるので、透明基板１と導電層２間の接着力を向上させるために、透明基板１の一面に高周波処理又はプライマー（ｐｒｉｍｅｒ）処理などを行って表面処理層を形成することができる。
透明基板１の厚さは、０．１ｍｍ以上が好ましく、０．２ｍｍ以上がより好ましい。０．１ｍｍ以上であると、タッチパネル１１の強度も充分なものとなる。上限は特に限定されないが、３ｍｍを超えるとたわみや歪みがあまり生じず、ニュートンリングが生じにくくなることから、本発明の有用性の点で、また透明性にも優れることから、３ｍｍ以下が好ましく、２ｍｍ以下がより好ましい。
透明基板１の厚さの範囲は、０．１ｍｍ以上３ｍｍ以下が好ましく、０．２ｍｍ以上２ｍｍ以下がより好ましい。

（導電層２）
導電層２は、絶縁性の透明基板１上に形成された導電性の膜である。
導電層２は、表面型静電容量式タッチパネルなどに用いられる、透明基板１上で面内方向で実質的に均一な導電性能を有する均一層でもよいし、投影型静電容量方式のタッチパネルなどに用いられる、位置検知のために面内に一部絶縁性部を設け、導電性能が規則的にパターン化された導電層であってもよい。
導電層の上に、さらに導電膜の酸化を防ぐための保護膜が形成されていてもよい。
導電層の導電性能は、例えばＪＩＳ-Ｋ７１９４に記載の方法にて測定される表面抵抗で示すことが出来、タッチパネル用の電極板とするため、前記表面抵抗は１×１０^５Ω／ｓｑ以下が好ましく、１×１０^３Ω／ｓｑ以下がより好ましい。また前記表面抵抗は１Ω／ｓｑ以上が好ましく、１×１０^２Ω／ｓｑ以上がより好ましい。前記導電層の表面抵抗の範囲は、１〜１×１０^５Ω／ｓｑが好ましく、１×１０^２〜１×１０^３Ω／ｓｑがより好ましい。
一方、絶縁性部は、タッチパネルがより正確な位置検知を行うために、例えばＪＩＳ-Ｋ６９１１に記載の方法にて測定される表面抵抗を１×１０^９Ω／ｓｑ以上、より好ましくは１×１０^１１Ω／ｓｑ以上として、１×１０^１３Ω／ｓｑ以下、より好ましくは１×１０^１２Ω／ｓｑ以下として、明確に絶縁化すると良い。前記絶縁性部の表面抵抗の範囲は、１×１０^９〜１×１０^１３Ω／ｓｑが好ましく、１×１０^１１〜１×１０^１２Ω／ｓｑがより好ましい。
実質的に均一な導電層を適用する場合でも、タッチパネルの構成などに応じて、引き出し電極等形成のため、導電層２の外周近傍の一部をパターン化する場合もある。

導電層２の材質としては、公知の導電性物質を適用できる。前記導電性物質としては、無機系材料を用いてもよく、前記無機系材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、若しくはコバルトなどの金属、又はインジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ））、インジウム−亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ（ＩＺＯ））、酸化亜鉛（Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ（ＺｎＯ））、若しくは亜鉛−スズ酸化物（Ｚｉｎｃ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ（ＺＴＯ））、若しくはアンチモン−スズ酸化物（ＡＴＯ）などの金属酸化物が例示できる。前記導電性物質としては有機導電体を用いてもよく、前記有機導電体としては、導電性カーボンナノチューブやグラフェンなどの導電性炭素材料、又はポリチオフェン、若しくはポリアニリンなどの導電性高分子などが例示できるが、これらに限定するものではない。
中でも無機系材料としては信頼性の高さと、透明性と導電性に優れるという点で、ＩＴＯが最も好適に利用される。また、屈曲性に優れるという特徴と、透明性と導電性にも優れるという特徴を有する点で有機導電性高分子のポリチオフェンの一種であるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳも好適に利用される。ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳとは、ＰＥＤＯＴ（３，４−エチレンジオキシチオフェンのポリマー）とＰＳＳ（スチレンスルホン酸のポリマー）を共存させたポリマーコンプレックスを示す。
ＩＴＯやＰＥＤＯＴ／ＰＳＳのように比較的透明性に優れる導電体に比べ、金属や導電性炭素材料は透明性に劣るため、導電層２の材質として金属や導電性炭素材料を用いる場合は、使用する金属や導電性炭素材料をナノワイヤー化して塗工したり、メッシュ状に加工したりすることで透明性を確保するとよい。中でも、銀は、最も導電性に優れる導電体であることから、好適に利用される。
導電層２の厚みは、適用する導電体の導電性や透明性等を考慮して設定する必要があるが、例えば、金属系の場合で３０〜６００Å、金属酸化物系や有機系の場合で８０〜５０００Åの厚さが好ましい。

導電層２は公知の方法により形成できる。
例えば導電層２が均一層である場合、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、スプレー熱分解法、化学メッキ法、電気メッキ法、塗布法、あるいはこれらの組合せ法などの薄膜形成法が挙げられる。膜の形成速度や大面積膜の形成性、又は生産性などの点より、真空蒸着法やスパッタリング法が好ましい。
規則的なパターンは、各種印刷方式などにより、透明基板１上に予め部分的に導電層２を設ける方法で形成してもよいし、又は、上記のように均一層を形成した後、その一部をエッチングなどにより除去して形成してもよい。
導電層２の形成に先立ち、透明基板１の表面に、密着性を高めるために、コロナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、スパッタエッチング処理、又はアンダーコート処理等の適宜な前処理を施してもよい。

（粘着剤層３、３１）
粘着剤層３、３１を構成する粘着剤としては、それぞれ、タッチパネル等の光学用途に用いられている公知の粘着剤が利用でき、例えば、天然ゴム系粘着剤、合成ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、又はシリコーン系粘着剤などが挙げられる。粘着剤は、溶剤系、無溶剤系、エマルジョン系、又は水系のいずれであってもよい。なかでも、透明度、耐候性、耐久性、又はコスト等の観点から、アクリル系粘着剤、特に溶剤系のものが好ましい。
粘着剤には、所望により他の助剤が添加されてもよい。他の助剤としては、酸化防止剤、粘着付与剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系化合物等の光安定剤、増粘剤、ｐＨ調整剤、バインダー、架橋剤、粘着性粒子、消泡剤、防腐防黴剤、顔料、無機充填剤、安定剤、濡れ剤、又は湿潤剤などが挙げられる。
粘着剤層３、３１の厚みは、それぞれ、１〜１００μｍであることが好ましく、２０〜８０μｍであることがより好ましい。１μｍ以上であれば、充分な粘着性が得られる。また、印刷層５がある場合に、その段差を埋めることができる。粘着剤層３の厚みが１００μｍを超えると、薄型化、又はコストの面から不利である。
前記粘着剤層３、３１の厚みは、ＪＩＳ-Ｋ７１３０に準拠した方法で測定できる。

（保護シート４）
保護シート４は、液晶ディスプレイ１１と対向する面が、微細な凹凸を有する凹凸面となっており、前記凹凸面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である。
液晶ディスプレイ１１と対向する面が、１．５ｎｍ以上の表面粗さを有する凹凸面であることで、凹凸がない又は凹凸が小さい場合に比べて、透明基板１が液晶ディスプレイ１１方向にたわんで対向する偏光板１２前面に接触したときの接触面積が小さく、離れやすいため、優れたアンチニュートンリング効果が発揮されることに加え、偏光板１２への付着を防止若しくは軽減することができる。前記表面粗さは、２ｎｍ以上が好ましく、３ｎｍ以上がより好ましい。
一方、前記表面粗さが４００ｎｍ以下であれば、保護シート４のヘイズが小さく、透明性が高いため、タッチ面の明るさを損ないにくい。前記表面粗さは、２００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましい。
前記保護シート４の表面粗さの範囲は、２ｎｍ以上３８０ｎｍ以下が好ましく、３ｎｍ以上３５０ｎｍ以下がより好ましい。
１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下という表面粗さは、従来のアンチニュートンリングフィルムに比べて小さく、アンチニュートンリング効果が得られないと考えられていたが、本発明においては充分なアンチニュートンリング効果が得られる。これは、タッチパネルの基材が透明基板であり、ある程度の強度があることから、対向面に強く付着しない限りはたわみや歪みが元に戻りやすいためと考えられる。

図２に、本実施形態で用いられる保護シート４の構成を示す概略断面図を示す。
保護シート４は、基材４１と、基材４１の片面の設けられたハードコート層４２から構成される。ハードコート層４２は、基材４１側とは反対側の表面が凹凸を有する凹凸面４２ａとなっており、前記凹凸面４２ａの表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である。保護シート４は、基材４１側を透明基板１側に向けて配置される。
前記凹凸面４２ａの表面粗さの範囲は、２ｎｍ以上３８０ｎｍ以下が好ましく、３ｎｍ以上３５０ｎｍ以下がより好ましい。

基材４１としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリプロピレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンナフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、シクロオレフィンコポリマーフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、又はアクリル樹脂フィルム等が挙げられる。
特に、透明性、耐候性、耐溶剤性、剛度、又はコスト等の観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。

基材４１には、各種添加剤が含まれてもよい。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、有機粒子、無機粒子、顔料、染料、帯電防止剤、核剤、又はカップリング剤等が挙げられる。
基材４１には、ハードコート層４２との密着性を向上させるために、表面処理が施されていてもよい。表面処理としては、例えば、サンドブラスト処理や溶剤処理等の凹凸化処理、コロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、又はオゾン若しくは紫外線照射処理等の表面酸化処理などが挙げられる。
基材４１の厚みは、強度の確保、又はカール防止等の観点から、１０〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましく、３５〜１３０μｍであることが特に好ましい。
基材４１の厚みは、ＪＩＳ-Ｋ７１３０に準拠した方法で測定できる。

ハードコート層４２は、耐擦傷性を付与するために設けられる。また、本実施形態においては、基材４１側とは反対側の面４２ａが所定の表面粗さを有する凹凸面であることで、アンチニュートンリング性能も発揮する。
かかる凹凸面を有するハードコート層の形成方法としては、従来、ブロッキング防止のためにフィルム表面に微細な凹凸を形成するために用いられている公知の方法が利用できる。通常、ハードコート層は、熱硬化性又は活性エネルギー線硬化性の樹脂成分を含有するハードコート層形成用の塗工液を基材上に塗工して塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させることにより形成されている。凹凸を形成する方法として具体的には、ハードコート層形成用材料に粒子を配合する方法、又はハードコート層形成用材料に溶解性パラメーター（ＳＰ）値の異なる２つ以上の樹脂成分を含有させ、塗工後、一方の樹脂成分を相分離により析出させる方法等が挙げられる。
ハードコート層形成用材料に粒子を配合する方法は、粒子の粒子径や添加量によって表面粗さを容易に調整できる。ＳＰ値の異なる２つ以上の樹脂成分を含有させ、相分離により凹凸を形成する方法は、粒子を使用しないため粒子の分散安定性に左右されることがなく、長時間塗工した場合の品質安定性に優れる。粒子を配合する方法と相分離により凹凸を形成する方法は用途や目的によって使い分けがなされており、場合によっては併用することも可能である。
熱硬化性の樹脂成分としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、又はポリシロキサン樹脂等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性の樹脂成分としては、活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性不飽和基（たとえばエチレン性二重結合等の重合性不飽和結合を含む基）を有するモノマーを含有するものが挙げられる。活性エネルギー線硬化性の樹脂成分には、所望により、光重合開始剤等が配合される。

ハードコート層４２は、特に、多官能（メタ）アクリルモノマー及び粒子を含有するハードコート層形成用組成物（以下、ハードコート層形成用組成物（Ａ）という。）を活性エネルギー線で硬化した硬化物であることが好ましい。また、必要に応じて単官能（メタ）アクリルモノマーを使用することができる。かかる硬化物は、母材（粒子以外の部分）が、架橋構造を有する硬質のアクリル系重合体を含有することから、表面硬度、透明性、又は擦傷性等に優れる。また、粒子を含有することで、形成されるハードコート層４２の基材４１側とは反対側の面が凹凸面となるほか、硬化時の収縮が抑制される。

「多官能」は、重合性不飽和基を２つ以上有することを意味し、「（メタ）アクリルモノマー」は、重合性不飽和基として少なくとも（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基又はメタクリロイル基であることを示す。
多官能（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（好ましくは質量平均分子量４００〜６００）ジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、若しくはイソシアヌレートジ（メタ）アクリレート等の２官能（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジベンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ポリエーテルトリ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、若しくはトリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等の３官能（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、若しくはペンタエリスリトールトリアクリレート等の４官能（メタ）アクリレート；又はジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の５官能以上の（メタ）アクリレート；等が挙げられる。
これらの多官能（メタ）アクリルモノマーは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。

「単官能」は、重合性不飽和基を１つ有することを意味する。単官能（メタ）アクリルモノマーとしては、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−メトキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、又はポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単官能（メタ）アクリルモノマーは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。

前記多官能（メタ）アクリルモノマーは、４官能以上（好ましくは５官能以上）の（メタ）アクリルモノマーと、２〜３官能（メタ）アクリルモノマーとを含有することが好ましい。４官能以上の（メタ）アクリルモノマーは硬度の向上に寄与し、２〜３官能（メタ）アクリルモノマーは柔軟性の向上に寄与する。そのため、これらを併用することで、得られるハードコート層が、高い硬度と適度な柔軟性を有する。単官能（メタ）アクリルモノマーは柔軟性の向上に寄与する。また、粘度が低いため塗剤の粘度調整に使用することもできる。
全多官能（メタ）アクリルモノマー中、４官能以上の（メタ）アクリルモノマーの割合は、全（メタ）アクリルモノマーの全ての質量に対して５０質量％以上９５質量％未満が好ましく、６０質量％以上９０質量％未満がより好ましい。また、２〜３官能（メタ）アクリルモノマーの割合は、全（メタ）アクリルモノマーの全ての質量に対して５質量％以上５０質量％未満が好ましく、１０質量％以上４０質量％未満以下がより好ましい。単官能（メタ）アクリルモノマーの割合は、全（メタ）アクリルモノマーの全ての質量に対して１質量％以上５０質量％未満が好ましく、５質量％以上３０質量％未満以下がより好ましい。

２〜３官能（メタ）アクリルモノマーとしてはジエチレングリコールジアクリレートなどが挙げられる。
４官能以上の（メタ）アクリルモノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。

前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）は、少なくとも２つの異なる組成物の混合物であってもよい。前記混合物は、多官能（メタ）アクリルモノマー（ａ１）又は単官能（メタ）アクリルモノマー（ａ２）を含む組成物（Ａ１）と、多官能（メタ）アクリルモノマー（ｂ１）又は単官能（メタ）アクリルモノマー（ｂ２）を含む組成物（Ｂ１）の混合物が好ましい。多官能（メタ）アクリルモノマー又は単官能（メタ）アクリルモノマーは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。また、２つ以上の異なる組成物を混合する前に、多官能（メタ）アクリルモノマー又は単官能（メタ）アクリルモノマーを重合してもよい。多官能（メタ）アクリルモノマーとしてはペンタエリスリトールトリアクリレート、又はジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが好ましく、単官能モノマーとしてシクロヘキシルメタアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、メチルメタアクリレート、又はイソボルニルメタアクリレートが好ましい。

ハードコート層形成用組成物（Ａ）は必要に応じてオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリシラン樹脂、ポリイミド樹脂又はフッ素樹脂を骨格構造に含む樹脂などを用いることができる。これらの樹脂は、低分子量であるいわゆるオリゴマーであってもよい。多官能性モノマーとして、例えば、オレフィン樹脂を骨格構造に含む樹脂として、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン・ビニルアルコール共重合体、又はエチレン・塩化ビニル共重合体などが挙げられる。ポリエーテル樹脂を骨格構造に含む樹脂は、分子鎖中にエーテル結合を含む樹脂であり、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、又はポリテトラメチレングリコールなどが挙げられる。ポリエステル樹脂を骨格構造に含む樹脂は、分子鎖中にエステル結合を含む樹脂であり、例えば不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、又はポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。ポリウレタン樹脂を骨格構造に含む樹脂は、分子鎖中にウレタン結合を含む樹脂である。ポリシロキサン樹脂を骨格構造に含む樹脂は、分子鎖中にシロキサン結合を含む樹脂である。ポリシラン樹脂を骨格構造に含む樹脂は、分子鎖中にシラン結合を含む樹脂である。ポリイミド樹脂を骨格構造に含む樹脂は、分子鎖中にイミド結合を含む樹脂である。フッ素樹脂を骨格構造に含む樹脂は、ポリエチレンの水素の一部又は全部がフッ素で置きかえられた構造を含む樹脂である。

ハードコート層形成用組成物（Ａ）が含有する粒子は無機粒子でも有機粒子でもよい。
無機粒子としては、硬度が高いものが好ましく、例えば、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、二酸化スズ粒子、五酸化アンチモン粒子、又は三酸化アンチモン粒子などの無機酸化物粒子を用いることができる。
無機粒子は、前記無機酸化物粒子をカップリング剤により処理した反応性無機酸化物粒子であってもよい。カップリング剤により処理することにより、アクリル系重合体との間の結合力を高めることができる。その結果、表面硬度や耐擦傷性を向上させることができ、さらに無機酸化物粒子の分散性を向上させることができる。
カップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、又はγ−アミノプロピルトリエトキシアルミニウム等が挙げられる。これらは１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
カップリング剤の処理量は、無機酸化物粒子１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましい。

有機粒子としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリシロキサン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリカーボネート、又はポリアミドなどの樹脂粒子などを用いることができる。
有機粒子は、前記樹脂粒子をカップリング剤により処理した反応性樹脂粒子であってもよい。カップリング剤により処理することにより、アクリル系重合体との間の結合力を高めることができる。その結果、表面硬度や耐擦傷性を向上させることができ、さらに樹脂粒子の分散性を向上させることができる。
カップリング剤及びその処理量は、前記反応性無機酸化物粒子で挙げたカップリング剤及びその処理量と同様である。

粒子の粒子径は、所望の表面粗さ、又は形成しようとするハードコート層の厚み等を考慮して設定すればよく、特に限定されないが、通常、１０ｎｍ〜１０μｍの範囲内、好ましくは３０ｎｍ〜５μｍの範囲内のものが用いられる。前記粒子径が大きいほど、表面粗さが大きくなる。
前記粒子径は、透過型電子顕微鏡を用いて、粒子画像の最大長（Ｄｍａｘ：粒子画像の輪郭上の２点における最大長さ）と、最大長垂直長（ＤＶ−ｍａｘ：最大長に平行な２本の直線で粒子画像を挟んだときの、この２本の直線間の最短長さ）を測長し、その相乗平均値（Ｄｍａｘ×ＤＶ−ｍａｘ）^１／２を粒子径とする。この方法で１００個の粒子について粒子径を測定し、その算術平均値を平均粒子径とする。
粒子の配合量は、ハードコート層形成用組成物（Ａ）の固形分中、溶剤を含まない場合はハードコート層形成用組成物（Ａ）を構成する全成分の質量に対して、溶剤を含む場合は溶剤を除いた全成分の質量に対して、１〜３０質量％が好ましく、２〜１０質量％がより好ましい。前記粒子の配合量が多いほど、表面粗さが大きくなる傾向があり、前記範囲内とすると所望の表面粗さを得やすい。また、１質量％以上であると、アンチニュートンリング性が向上し、３０質量％以下であると、充分な量の多官能（メタ）アクリルモノマーを配合できるため、ハードコート性能が良好となる。
固形分とは、溶剤を含まない場合はハードコート層形成用組成物（Ａ）を構成する全成分の合計を示し、溶剤を含む場合は溶剤を除いた全成分の合計を示す。

ハードコート層形成用組成物（Ａ）は、硬化を促進させるために、前記多官能（メタ）アクリルモノマー及び粒子とともに、光重合開始剤を含有することが好ましい。
光重合開始剤としては、公知のものが使用でき、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２（ヒドロキシ−２−プロプル）ケトン、ベンゾフェノン、又はｐ−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、プロピオフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリーブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。これら光重合開始剤は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
光重合開始剤の配合量は、ハードコート層形成用組成物（Ａ）の固形分中、溶剤を含まない場合はハードコート層形成用組成物（Ａ）を構成する全成分の質量に対して、溶剤を含む場合は溶剤を除いた全成分の質量に対して、０．５〜１０質量％が好ましく、２〜８質量％がより好ましい。０．５質量％以上であると硬化不良が生じにくい。１０質量％を超えて配合しても、配合量に見合った硬化促進効果は得られず、コストも高くなる。また、硬化物中に残留して黄変やブリードアウトなどの原因となるおそれがある。

光重合開始剤に加えて、光増感剤をさらに含有することもできる。光増感剤としては、たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、又はトリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。

ハードコート層形成用組成物（Ａ）は、所望により、本発明の効果を損なわない範囲で、上記以外の他の成分を含有してもよい。たとえばハードコート層に耐擦傷性以外の他の機能（撥水性、撥油性、防汚性、帯電防止性、又は紫外線遮蔽性等）を付与するために用いられている公知の添加剤を含有させることができる。このような添加剤として、たとえば、フッ素系化合物、ポリシロキサン系化合物、金属酸化物微粒子、帯電防止樹脂、導電性高分子、又は紫外線吸収剤等が挙げられる。フッ素系化合物を添加することで、撥水又は撥油性や、汚れが付着し難く且つ付着した汚れを拭き取りやすい防汚効果を付与することができる。また、ポリシロキサン系化合物を添加することで、撥水性や、汚れが付着し難く且つ付着した汚れを拭き取りやすい防汚効果を付与することができる。また、金属酸化物微粒子や帯電防止樹脂、又は導電性高分子を添加することで、帯電防止性を付与できる。また、金属酸化物微粒子や紫外線吸収剤を添加することで、紫外線遮蔽性を付与できる。

ハードコート層形成用組成物（Ａ）は、溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ブチルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、エチルブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、又はＮ−メチル−２−ピロリドンなどが使用される。これらは１種以上を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
特に、塗工ムラを軽減できることから、蒸発速度の異なる２種以上の溶剤を併用することが好ましい。例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも２種の溶剤を混合して使用することが好ましい。

ハードコート層４２は、前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）等のハードコート層形成用材料を基材４１上に塗工して塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させることにより形成することができる。
ハードコート層形成用材料の塗工方法としては、例えば、ブレードコーター、エアナイフコーター、ロールコーター、バーコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ロッドブレードコーター、リップコーター、ダイコーター、カーテンコーター、又は印刷機等を用いた方法が挙げられる。
ハードコート層形成用材料の塗工量は、形成するハードコート層４２の厚みに応じて設定される。
ハードコート層４２の厚みは、１〜１０μｍであることが好ましく、２〜８μｍであることがより好ましい。前記厚みが１μｍ以上であると充分なハードコート性能が得られる。１０μｍ以下であると、透明性、基材密着性、又は耐カール性等に優れる。
ハードコート層４２の最も薄い部分の厚み（凹凸面４２ａに存在する凹部の底から、基材４１側の表面までの距離）をハードコート層４２の厚みとする。
ハードコート層４２の厚みは、ＪＩＳ-Ｋ７１３０に準拠した方法で測定できる。

塗膜は、ハードコート層形成用材料が、前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）のように活性エネルギー線硬化性である場合は、活性エネルギー線の照射によって硬化させることができる。ハードコート層形成用材料が熱硬化性である場合は、加熱炉や赤外線ランプ等を用いて加熱することによって硬化させることができる。
活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、可視光線、又はγ線等の電離性放射線などが挙げられ、中でも、汎用性の点から、紫外線が好ましい。紫外線の光源としては、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、又は無電極紫外線ランプ等を使用できる。
電子線としては、例えば、コックロフトワルト型、バンデクラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、又は高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線を使用できる。
活性エネルギー線の照射による硬化は、窒素等の不活性ガス存在下で行うことが好ましい。
硬化は、１段階で行ってもよく、予備硬化工程と本硬化工程の２段階に分けて行ってもよい。

保護シート４は、全光線透過率が９０％を超え、ヘイズが１％未満であることが好ましい。これらの要件を満たすと、タッチパネルや表示装置用の保護シートとして有用である。
全光線透過率及びヘイズはそれぞれ、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１及びＪＩＳ Ｋ７１３６に準拠した方法で測定できる。

保護シート４は、ハードコート層４２側（基材４１側とは反対側）の表面４２ａの水接触角が１０５°以下であることが好ましく、９０°以下であることがより好ましく、８５°以下であることがさらに好ましい。これにより、保護シート４のハードコート層４２側の表面４２ａに粘着剤層３１を介して偏光板１２を貼り合わせた際、優れた密着強度が得られる。
表面４２ａの水接触角は、制御が容易な点から、５°以上が好ましく、印刷やリコート性等の加工適性の観点から、５０°以上がより好ましい。
表面４２ａの水接触角の範囲は、５°以上１０５°以下であることが好ましく、５０°以上９０°以下であることがより好ましく、５５°以上８５°以下であることがさらに好ましい。
水接触角は、接触角測定装置を用い、保護シート４におけるハードコート層４２側の表面４２ａに２μＬの純水を一滴滴下し、滴下から１０秒間経過後の水滴形状をＣＣＤカメラによって撮影し、画像処理することで測定できる。
表面４２ａの水接触角は、ハードコート層４２を構成する材料、又は製造方法等により調整できる。たとえば、レベリング剤の配合量が少ないほど、水接触角が小さくなる。

本発明に用いられる保護シートは、上記保護シート４には限定されない。たとえば、基材４１の、ハードコート層４２を設けた側とは反対側の面に、第二のハードコート層を設けてもよい。この場合、第二のハードコート層の基材側とは反対側の面は、凹凸を有していても有さなくてもよい。
また、保護シートは、所望により、ハードコート層以外の機能層を有していてもよい。ハードコート層以外の機能層としては、たとえば、反射防止層、導電層、ハードコート保護層、防眩層、屈折率調整層（中屈折率層）、易接着層、帯電防止層、又は紫外線遮蔽層等の機能層等が挙げられる。これらの機能層は、公知の方法により形成できる。
これらの機能層は、ハードコート層の基材側とは反対側に設けてもよく、基材とハードコート層の間に設けてもよい。
ただし基材側とは反対側に設ける場合、前記機能層の基材側とは反対側の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である必要がある。

図３〜５に、保護シート４の変形例を示す。
図３に示す保護シート（以下、保護シート４−２）は、保護シート４のハードコート層４２上に、さらに、反射防止層４３を設けたものである。
ハードコート層４２の凹凸面上に形成されることから、前記凹凸面の形状が反射防止層４３に反映され、反射防止層４３の基材７側とは反対側の表面も凹凸を有するもの（凹凸面４３ａ）となっている。反射防止層４３の凹凸面４３ａの表面粗さは１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である。
反射防止層４３の凹凸面４３ａの表面粗さは２ｎｍ以上３８０ｎｍ以下が好ましく、３ｎｍ以上３５０ｎｍ以下がより好ましい。
反射防止層４３は、屈折率が低い層であり、保護シート４−２の反射防止層４３側からの光の反射を抑制し、光透過性を高める役割を果たす。ガラスや結晶材、プラスティック等では、その表面において、入射光に対して数％程度の反射光が生じるが、保護シート４−２は反射防止層４３によって表面反射を軽減し、透過率を増加させる。
反射防止層４３の厚みは、５０〜１５０ｎｍであることが好ましく、６０〜１４０ｎｍであることがより好ましい。反射防止層４３の厚さが５０ｎｍ以上であれば、光の干渉による反射防止効果が得られやすい。反射防止層４３の厚さが１５０ｎｍ以下であれば、ハードコート層４２に対する密着性が良好である。
反射防止層４３の厚みは、分光干渉式膜厚計によって測定できる。
反射防止層４３の屈折率は、光の反射を抑制しやすいことから、１．２５〜１．４５が好ましく、１．３０〜１．４０がより好ましい。反射防止層４３の屈折率は、反射防止層４３を構成する材料によって調整できる。

反射防止層４３は、屈折率を低下させるために添加される無機系ケイ素含有化合物、及びバインダー樹脂を含有する層であることが好ましい。
無機系ケイ素含有化合物としては、シリカが好ましく、反射防止層１６の屈折率を低くしやすいことから、中空シリカが特に好ましい。
中空シリカの平均粒子径は、５〜１８０ｎｍが好ましく、３０〜１００ｎｍがより好ましい。中空シリカの平均粒子径が５ｎｍ以上であれば、屈折率を低くしやすい。中空シリカの平均粒子径が１８０ｎｍ以下であれば、反射防止層に密に充填することができる。前記平均粒子径は、透過型電子顕微鏡を用いて、粒子画像の最大長（Ｄｍａｘ：粒子画像の輪郭上の２点における最大長さ）と、最大長垂直長（ＤＶ−ｍａｘ：最大長に平行な２本の直線で粒子画像を挟んだときの、この２本の直線間の最短長さ）を測長し、その相乗平均値（Ｄｍａｘ×ＤＶ−ｍａｘ）^１／２を粒子径とする。この方法で１００個の粒子について粒子径を測定し、その算術平均値を平均粒子径とする。
また、中空シリカは、中空部分が多いほど屈折率を低下させやすいことから、粒子径に比べて外殻の厚みが薄いものが好ましい。

バインダー樹脂としては、例えば、ハードコート層４２の説明で挙げた熱硬化性又は活性エネルギー線硬化性の樹脂成分が挙げられる。なかでも、表面硬度、透明性、又は擦傷性等に優れることから、活性エネルギー線硬化性の樹脂成分が好ましく、多官能（メタ）アクリルモノマーを重合させて得られる重合体がより好ましい。
また、バインダー樹脂としては、反射防止層４３の屈折率を低くしやすいことから、シリコーン化合物を用いることも好ましい。シリコーン化合物としては、例えば、アルキレン基（エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、若しくはオクチレン基等。）、シクロアルキレン基（シクロヘキシレン基等。）、アリーレン基（フェニレン基等。）、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、若しくはデシル基等。）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基等。）、アルケニル基（ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、若しくはヘキセニル基等。）、又はアラルキル基（フェニル基、若しくはトリル基等のアリール基、ベンジル基、若しくはフェニルエチル基等。）等を有するオルガノポリシロキサンが挙げられる。
また、バインダー樹脂としては、含フッ素樹脂を用いてもよい。

反射防止層４３中の無機系ケイ素含有化合物の含有量は、反射防止層４３の固形分を１００質量％としたとき、その固形分に対して２０〜８０質量％が好ましく、３０〜７０質量％がより好ましい。無機系ケイ素含有化合物の含有量が２０質量％以上であれば、反射防止層４３の屈折率が充分に低くなり、高い光透過率が得られやすい。無機系ケイ素含有化合物の含有量が８０質量％以下であれば、反射防止層４３中のバインダー樹脂が不足することを抑制しやすい。
反射防止層４３中のバインダー樹脂の含有量は、反射防止層４３の固形分を１００質量％としたとき、その固形分に対して２０〜８０質量％が好ましく、３０〜７０質量％がより好ましい。バインダー樹脂の含有量が２０質量％以上であれば、下層との密着性が向上する。無機系ケイ素含有化合物の含有量が８０質量％以下であれば、反射防止層４３中の無機系ケイ素含有化合物が不足することを抑制しやすく、反射防止層４３の屈折率を低くしやすい。

無機系ケイ素含有化合物、及びバインダー樹脂を含有する層は、前記無機系ケイ素含有化合物及びバインダー樹脂を必須成分として含み、所望により他の成分を含有する反射防止層形成用組成物をハードコート層４２上に塗工し、硬化させることにより形成できる。
反射防止層形成用組成物には、ハードコート層形成用組成物（Ａ）と同様に、硬化を促進させるために、光重合開始剤を含有させることが好ましい。また、光増感剤をさらに含有させてもよい。また、反射防止層形成用組成物は、ハードコート層形成用組成物（Ａ）と同様に溶剤を含有してもよい。反射防止層形成用組成物に使用する溶剤としては、例えば、ハードコート層形成用組成物（Ａ）で挙げた溶剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。

反射防止層形成用組成物中の無機系ケイ素含有化合物の配合量は、反射防止層形成用組成物の固形分を１００質量％としたとき、その固形分に対して、２０〜８０質量％が好ましく、３０〜７０質量％がより好ましい。無機系ケイ素含有化合物の配合量が２０質量％以上であれば、屈折率が充分に低い反射防止層１６が得られやすい。無機系ケイ素含有化合物の配合量が８０質量％以下であれば、バインダー樹脂を充分に配合でき、下層との密着性に優れる反射防止体を得ることが容易になる。
反射防止層形成用組成物中のバインダー樹脂の配合量は、反射防止層形成用組成物の固形分を１００質量％としたとき、その固形分に対して、２０〜８０質量％が好ましく、３０〜７０質量％がより好ましい。バインダー樹脂の配合量が２０質量％以上であれば、下層との密着性が向上する。バインダー樹脂の配合量が８０質量％以下であれば、無機系ケイ素含有化合物を充分に配合できるため反射率の低い反射防止体を得ることが容易になる。
反射防止層形成用組成物中の光重合開始剤の配合量は、反射防止層形成用組成物の固形分を１００質量％としたとき、その固形分に対して、０．５〜１０質量％が好ましく、２〜８質量％がより好ましい。光重合開始剤の配合量が０．５質量％以上であれば、硬化不良が生じにくい。また、光重合開始剤を１０質量％を超えて配合しても、配合量に見合った硬化促進効果は得られず、コストも高くなる。また、硬化物中に光重合開始剤が残留して黄変やブリードアウト等の原因となるおそれがある。

ハードコート層４２上に反射防止層形成用組成物を塗工する方法としては、例えば、ハードコート層形成用組成物（Ａ）の塗工方法と同じ方法が挙げられる。
反射防止層形成用組成物の塗工量は、形成する反射防止層４３の厚みに応じて設定される。
反射防止層形成用組成物よってハードコート層４２上に形成した塗膜は、バインダー樹脂が活性エネルギー線硬化性である場合、活性エネルギー線の照射によって硬化させることができる。活性エネルギー線の照射による硬化は、前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）により形成した塗膜の硬化と同じ方法で実施できる。バインダー樹脂が熱硬化性である場合、加熱炉や赤外線ランプ等を用いて加熱することによって硬化させることができる。
硬化は、１段階で行ってもよく、予備硬化工程と本硬化工程の２段階に分けて行ってもよい。

保護シート４−２は、前記保護シート４と同様、全光線透過率が９０％を超え、ヘイズが１％未満であることが好ましい。これらの要件を満たすと、タッチパネルや表示装置用の保護シートとして有用である。
また、保護シート４−２は、反射防止層４３側（基材４１側とは反対側）の表面４３ａの水接触角が１０５°以下であることが好ましく、９０°以下であることがより好ましく、８５°以下であることがさらに好ましい。これにより、保護シート４の反射防止層４３の表面４３ａに粘着剤層３１を介して偏光板１２を貼り合わせた際、優れた密着強度が得られる。
表面４３ａの水接触角は、制御が容易な点から、５°以上が好ましく、印刷やリコート性等の加工適性の観点から、５０°以上がより好ましい。
表面４３ａの水接触角の範囲は、５°以上１０５°以下が好ましく、５０°以上９０°以下がより好ましく、５５°以上８５°以下がさらに好ましい。
水接触角は、接触角測定装置を用い、保護シート４におけるハードコート層４３側の表面４３ａに２μＬの純水を一滴滴下し、滴下から１０秒間経過後の水滴形状をＣＣＤカメラによって撮影し、画像処理することで測定できる。
表面４３ａの水接触角は、反射防止層４３を構成する材料、又は製造方法等により調整できる。たとえば、樹脂バインダーに用いる含フッ素樹脂や、シリコーン化合物等の有機系ケイ素含有化合物の使用量を低減することで小さくできる。

ここでは、基材４１側とは反対側の表面４２ａが凹凸面であるハードコート層４２上に、表面４２ａの形状を反映するように反射防止層４３を設けた例を示したが、本発明はこれに限定されず、たとえばハードコート層４２の代わりに、表面４２ａが平坦なハードコート層を設け、その上に、表面が凹凸面である反射防止層を形成してもよい。この場合、表面が凹凸面である反射防止層の形成は、表面が凹凸面であるハードコート層４２を形成するのと同様に行うことができ、反射防止層形成用材料に粒子を配合する方法、又は溶解性パラメーター（ＳＰ）値の異なる２つの樹脂成分を用いて反射防止層を形成し、一方の樹脂成分を相分離により析出させる方法等が挙げられる。

図４に示す保護シート（以下、保護シート４−３）は、基材４１の、ハードコート層４２が設けられた側とは反対側の面に、さらに、第二のハードコート層４４及び導電層４５がこの順に積層している以外は、保護シート４と同様である。
かかる保護シート４−３を保護シート４の代わりに用いた場合、タッチパネル２１においては、導電層２と導電層４５とが粘着剤層３を介して対向する。
第二のハードコート層４４は、公知の方法により形成でき、たとえばハードコート層４２と同様にして形成できる。ただし第二のハードコート層４４の基材側とは反対側の面は、凹凸を有していても有さなくてもよく、前記面上に導電層４５を設ける点では、平滑であることが好ましい。基材側とは反対側の面が平滑なハードコート層は、ハードコート層形成用材料として、粒子を含まないか、又は形成するハードコート層の厚みよりも粒子径の小さい粒子を含有するものを用いる方法等により形成できる。
導電層４５についての説明は、導電層２と同様である。ただしそれらの材質や厚みは同じでも異なってもよい。

図５に示す保護シート（以下、保護シート４−４）は、基材４１の、ハードコート層４２及び反射防止層４３が設けられた側とは反対側の面に、さらに、第二のハードコート層４４及び導電層４５がこの順に積層している以外は、保護シート４−２と同様である。
第二のハードコート層４４、及び導電層４５は、それぞれ、保護シート４−３における第二のハードコート層４４、及び導電層４５と同様である。

（印刷層５）
印刷層５は、内部回路の隠蔽、又は装飾等のために施される。
印刷層５は、たとえば、着色剤（顔料、又は染料）とバインダー（ポリビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、又はアルキッド樹脂）とを含む着色インキを印刷することによって形成できる。金属発色させる場合には、アルミニウム、チタン、若しくはブロンズ等の金属の粒子、又はマイカに酸化チタンをコーティングしたパール顔料を用いることができる。
印刷層５の厚みは、５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜３０μｍであることがより好ましい。
印刷層５の厚みは、ＪＩＳ-Ｋ７１３０に準拠した方法で測定できる。
印刷層５の形成方法（印刷方法）としては、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、熱転写印刷法、又はインクジェット印刷法などが適用され、スクリーン印刷法が好ましい。

＜第二の実施形態＞
図６は、本発明の第二の実施形態の静電容量式タッチパネル付き表示装置１０２の構成を説明する概略断面図である。以下に記載する実施形態において、第一実施形態に対応する構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
静電容量式タッチパネル付き表示装置１０２は、タッチパネル２１の代わりにタッチパネル２２を備える以外は、第一の実施形態の静電容量式タッチパネル付き表示装置１０１と同様の構成である。
タッチパネル２２は、透明基板１の前面側に設けられた導電層６と、導電層６上に粘着剤層７を介して積層された保護シート８をさらに備える以外は、タッチパネル２１と同様の構成である。
導電層６についての説明は、導電層２と同様である。ただしそれらの材質や厚みは同じでも異なってもよい。
粘着剤層７についての説明は、粘着剤層３、３１と同様である。ただしそれらの材質や厚みは同じでも異なってもよい。
保護シート８についての説明は、保護シート４と同様である。ただしそれらの材質や厚みは同じでも異なってもよい。また、保護シート８は、前面又は裏面に凹凸形状が形成されている必要はなく、前面及び裏面の両面ともに凹凸形状が形成されていない平坦な面であることが好ましい。

＜第三の実施形態＞
図７は、本発明の第三の実施形態の静電容量式タッチパネル付き表示装置１０３の構成を説明する概略断面図である。
静電容量式タッチパネル付き表示装置１０３は、タッチパネルの裏面ではなく、液晶ディスプレイの前面を、１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下の表面粗さとしたものである。
静電容量式タッチパネル付き表示装置１０３は、液晶ディスプレイ１３と、タッチパネル２３を備え、タッチパネル２３は、液晶ディスプレイ１３の前面に、液晶ディスプレイ１３との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層３１で液晶ディスプレイ１３に固定されている。これにより、液晶ディスプレイ１３の前面とタッチパネル２３の裏面との間に空間が形成されている。
タッチパネル２３は、透明基板１と、透明基板１の前面側に設けられた導電層６と、導電層６上に粘着剤層７を介して積層された保護シート８とを備え、保護シート８の裏面の外縁部には印刷層９が形成されている。
液晶ディスプレイ１３においては、偏光板１２の前面に粘着剤層１４を介して保護シート１５が積層されている。保護シート１５は、片面が微細な凹凸を有する凹凸面となっており、前記凹凸面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である。この保護シート１５が、凹凸面がタッチパネル２３と対向するように配置されていることで、液晶ディスプレイ１３のタッチパネル２３と対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下となっている。
前記凹凸面の表面粗さの範囲は、２ｎｍ以上３８０ｎｍ以下が好ましく、３ｎｍ以上３５０ｎｍ以下がより好ましい。
印刷層９についての説明は、印刷層５と同様である。
粘着剤層１４についての説明は、粘着剤層３、３１と同様である。ただしそれらの材質や厚みは同じでも異なってもよい。
保護シート１５についての説明は、保護シート４と同様である。

＜第四の実施形態＞
図８は、本発明の第四の実施形態の静電容量式タッチパネル付き表示装置１０４の構成を説明する概略断面図である。
静電容量式タッチパネル付き表示装置１０４は、タッチパネル２３の代わりにタッチパネル２４を備える以外は、第三の実施形態の静電容量式タッチパネル付き表示装置１０３と同様の構成である。
タッチパネル２４は、保護シート４の代わりに保護シート４’を備える以外は、第一の実施形態のタッチパネル２１と同様の構成である。
保護シート４’についての説明は、保護シート４と同様である。ただしそれらの材質や厚みは同じでも異なってもよい。また、保護シート４’は、裏面（液晶ディスプレイ側）に凹凸形状が形成されている必要はなく、保護シート４’の透明性の点では、平坦な面であることが好ましい。

以上、第一〜第四の実施形態を説明したが本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。
たとえば、第一〜第四の実施形態では、表示装置として液晶ディスプレイを用いた例を示したが、本発明はこれに限定されない。たとえば、陰極線管（ＣＲＴ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ、又はエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等の各種表示装置を用いることができる。
第三〜第四の実施形態では、基材上にハードコート層を設けた保護シートを、粘着剤層を介して偏光板上に積層した例を示したが、所定の表面粗さのハードコート層を偏光板上に直接形成してもよい。

本発明の別の側面は、表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルとを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、
前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
前記保護シートは、基材とハードコート層とを備え、
前記ハードコート層は、多官能（メタ）アクリルモノマーを含有するハードコート層形成用組成物を活性エネルギー線で硬化した硬化物であり、
前記保護シートは、前記表示装置と対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネル付き表示装置に関する。

本発明のまた別の側面は、表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルとを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、
前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
前記保護シートは、基材とハードコート層とを備え、
前記ハードコート層は、多官能（メタ）アクリルモノマーを含有するハードコート層形成用組成物を活性エネルギー線で硬化した硬化物であり、
前記表示装置は、前記静電容量式タッチパネルと対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネル付き表示装置に関する。

本発明のまた別の側面は、表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルとを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、
前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側とは反対側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
前記保護シートは、基材とハードコート層とを備え、
前記ハードコート層は、多官能（メタ）アクリルモノマーを含有するハードコート層形成用組成物を活性エネルギー線で硬化した硬化物であり、
前記表示装置は、前記静電容量式タッチパネルと対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネル付き表示装置に関する。

本発明のまた別の側面は、表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定される静電容量式タッチパネルであって、
前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
前記保護シートは、基材とハードコート層とを備え、
前記ハードコート層は、多官能（メタ）アクリルモノマーを含有するハードコート層形成用組成物を活性エネルギー線で硬化した硬化物であり、
前記保護シートは、前記表示装置と対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネルに関する。

本発明のまた別の側面は、表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定される静電容量式タッチパネルであって、
前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートと、前記透明基板の前記表示装置側とは反対側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
前記保護シートは、基材とハードコート層とを備え、
前記ハードコート層は、多官能（メタ）アクリルモノマーを含有するハードコート層形成用組成物を活性エネルギー線で硬化した硬化物であり、
前記保護シートは、前記表示装置と対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネルに関する。

以下、実施例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これらの例に限定されるものではない。
以下の各例で使用したコロイダルシリカ分散液に含まれるシリカ粒子の粒子径は平均粒子径であって、粉体状、又はスラリー状のいずれであるかにかかわらず、まず３質量％の水分散液としたものを２００ｇ調製し、続いて市販のホモミキサーで１０００ｒｐｍ、１０分間撹拌分散させた後、直ちに電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、５ｃｍ四方中に約５０個の粒子が観察されるように、１万〜５０万倍で電子顕微鏡写真を撮り、５ｃｍ四方中のマーチン径を測定して平均したものである（「微粒子ハンドブック」、朝倉書店、ｐ５２、１９９１年参照）。

＜実施例１＞
（ハードコート層形成用組成物の調製）
多官能（メタ）アクリレートとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（６官能アクリレート、商品名ＤＰＨＡ、ダイセル・サイテック（株）製）を３５質量部、ジエチレングリコールジアクリレート（２官能アクリレート、商品名ＳＲ２３０、サートマー社製）を６５質量部、アンチブロッキング剤として粒子径１００ｎｍのコロイダルシリカ分散液（商品名ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６５、ＣＩＫナノテック（株）製）を２．５質量部、光重合開始剤（商品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦ社製）を４質量部、光安定化剤（商品名ＴＩＮＵＶＩＮ１５２、ＢＡＳＦ社製）を４質量部、希釈溶剤としてメチルエチルケトンとシクロヘキサノンとを１：１（質量比）で混合した混合溶剤を、固形分が５０質量％となるように混合してハードコート層形成用組成物（Ａ１）を調製した。
上記のうち、溶剤以外の各成分の配合量は固形分としての配合量を示した。以下においても同様である。

（保護シートの作製）
基材として、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（商品名Ａ４３００、東洋紡績（株）製）を用い、この基材上に、ハードコート層形成用組成物（Ａ１）をバー塗工した。その後、８０℃６０秒間加熱乾燥し、高圧水銀ランプ紫外線照射機（アイグラフィックス社製）を用いて、１６０Ｗ／ｃｍ、ランプ高さ１３ｃｍ、ベルトスピード１０ｍ／ｍｉｎ、２ｐａｓｓ、窒素雰囲気下で紫外線照射して厚さ３μｍのハードコート層を硬化形成することによって、ハードコートフィルムを得た。

（評価）
得られたハードコートフィルムについて、以下の評価を行った。結果を表１に示した。

［スチールウール擦傷性］
得られたハードコートフィルムの基材側に、ノンキャリア両面粘着フィルム（商品名ＣＣＬ／Ｄ１／Ｔ３Ｔ３、新タック化成（株）製）のセパレートフィルムを剥がして粘着層を転写し、前記粘着層を介してハードコートフィルムを、鏡面光沢を持つ黒アクリル板に貼付した。このハードコートフィルムのハードコート層上に＃００００番のスチールウールをのせ、荷重２００ｇ／ｃｍ^２で、距離９ｃｍを５０回往復して擦った。擦った後に傷が入っていないかを目視観察した。傷がない場合をＡ、傷がある場合をＢとした。

［水接触角］
協和界面科学株式会社製の接触角測定装置（型番ＤＭ−５０１）を用いて、測定対象であるハードコートフィルムのハードコート層側の表面に、２μＬの純水を一滴滴下させ、１０秒間経過後にＣＣＤカメラによって得られた水滴形状の画像処理により、接触角を求めた。
水接触角が小さいほど撥水性が低いことを示す。水接触角が小さいほど、粘着剤層（３１）との粘着力が強く好ましい。水接触角は、１０５°以下が好ましく、９０°以下がより好ましく、８５°以下がさらに好ましい。

［テープ粘着力］
ハードコートフィルムのハードコート層側の表面（凹凸面）へのテープ粘着力を以下の手順で評価した。
テープとして、両面テープ（商品名＃４９７２、テサ製）を用い、その一方の面に厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（商品名Ａ４３００、東洋紡績（株）製）を貼合したものを準備した。
一方、得られたハードコートフィルムの基材側に、ノンキャリア両面粘着フィルム（商品名ＣＣＬ／Ｄ１／Ｔ３Ｔ３、新タック化成（株）製）のセパレートフィルムを剥がして粘着層を転写し、前記粘着層を介してハードコートフィルムをガラス板に貼付し、これを被着体とした。
上記被着体のハードコートフィルム面に上記テープを貼合し、２ｋｇローラーで１往復した後、オートグラフ（島津製作所製）を用いて２４時間後の粘着力（Ｎ／２５ｍｍ）を測定した。

［光学物性］
アクリル系接着剤（商品名ＳＫダイン１８１１Ｌ、綜研化学（株）製）を１００質量部、イソシアネート系架橋剤（商品名Ｌ−４５、綜研化学（株）製）を１質量部、希釈溶剤としての酢酸エチルを６７．４質量部混合して粘着剤を調製した。
この粘着剤を、得られたハードコートフィルムのハードコート層と反対側の基材面に、乾燥後の膜厚が２５μｍとなるようにアプリケータ塗工した。その後、１００℃１２０秒間加熱乾燥し、セパレートフィルム（商品名３８ＲＬ−０７（２）、王子特殊紙（株）製）と貼り合わせ、２３℃、相対湿度５０％の環境下で１週間の架橋反応エージングを行って粘着フィルムを得た。
得られた粘着フィルムのセパレートフィルムをはがして粘着層を露出させ、前記粘着層を介してハードコートフィルムを検査用ガラス板に、空気やゴミが入らないように貼付した。
検査用ガラス板に貼付されたハードコートフィルムの全光線透過率及びヘイズをそれぞれＪＩＳ Ｋ７３６１−１及びＪＩＳ Ｋ７１３６に準拠した方法で、日本電色社製のＮＤＨ５０００を用いて測定した。全光線透過率が９０％を超え、ヘイズが１％未満であれば、光学用途に適用できる。

［凹凸面の表面粗さ］
前記光学物性の評価と同様にして得られた粘着フィルムのセパレートフィルムをはがして粘着層を露出させ、前記粘着層側から、ハードコートフィルムのハードコート層側の表面（凹凸面）の表面粗さを以下の手順で測定した。
（表面粗さの測定方法）
走査プローブ顕微鏡（Ｖｅｅｃｏ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅｌ ＩＶ及びＮａｎｏｓｃｏｐｅ ＩＩＩａ）を用い、プローブとしてＳｉ単結晶プローブを使用し、測定モードをＴａｐｐｉｎｇモードとし、測定エリアを１０μｍ×１０μｍとして画像の取り込みを行った。得られた画像について、前記走査プローブ顕微鏡に付属の解析ソフトウェアを用いて、うねりを除去するための加増処理としてＦｌａｔｔｅｎ処理（０次）を１回、及びＰｌａｎｅｆｉｔ処理（ＸＹ）を１回行った後、表面粗さを算出した。

［ニュートンリングの有無］
ハードコート面を有する偏光板を準備した。前記ハードコート面の表面粗さを前記の手順に従って測定したところ、４ｎｍであった。
別途、厚さ１ｍｍのガラス板の片面に、得られたハードコートフィルムの基材側の面を貼り合わせて評価サンプルとした。
上記偏光板表面のハードコート面から３００μｍ離れた位置に、上記評価サンプルを、前記ハードコート面に対して平行に、ハードコートフィルム側の面を偏光板に向けて固定した。その後、偏光板表面のハードコート面に評価サンプルを指で押し付け、指を離した時のニュートンリングの有無を目視で確認した。このとき、ニュートンリングが全く無い場合をＡ、僅かに有る場合をＢ、明確に有る場合をＣとした。

［偏光板との付着性］
前記［ニュートンリングの有無］の評価で、偏光板に評価サンプルを押し付けた指を離した時の、評価サンプルのハードコートフィルムの偏光板表面への付着性を官能評価した。全く付着しない場合を５点、僅かに付着するが、直ぐに離れる場合を３点、付着がひどく、離れない場合を１点とした。この点数が大きいほど、偏光板への付着が少ないことを示す。

＜実施例２＞
アンチブロッキング剤であるコロイダルシリカ分散液（商品名ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６５、ＣＩＫナノテック（株）製）の配合量を２．５質量部から５．５質量部に変更した以外は実施例１の（ハードコート層形成用組成物の調製）と同様にして、ハードコート層形成用組成物（Ａ２）を調製した。このハードコート層形成用組成物（Ａ２）をハードコート層形成用組成物（Ａ１）の代わりに使用した以外は、実施例１と同様にしてハードコートフィルムを作製し、評価を行った。結果を表１に示した。

＜実施例３＞
実施例１で得られたハードコートフィルムのハードコート層上に、反射防止層形成用材料（商品名ＴＵ２２０５、ＪＳＲ（株）製、屈折率：１．３５、溶媒：メチルイソブチルケトン）を、乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるようにバーコーターを用いて塗工した。その後、８０℃６０秒間乾燥し、高圧水銀ランプ紫外線照射機（フュージョン社製）を用いて、２４０Ｗ／ｃｍ、ランプ高さ１０ｃｍ、ベルトスピード１０ｍ／ｍｉｎ、２ｐａｓｓ、窒素雰囲気下で紫外線照射して硬化形成することによって、低反射フィルムを得た。
得られた低反射フィルムについて、実施例１と同様の評価（ただし、反射防止層側の表面をハードコート層側の表面（凹凸面）とした）を行った。結果を表１に示した。

＜実施例４＞
単官能アクリレートとして、シクロヘキシルメタクリレート（商品名ライトエステルＣＨ、共栄社化学（株）製）９０．０質量部、ｎ−ブチルメタクリレート（商品名ライトエステルＮＢ、共栄社化学（株）製）１．３質量部、メタクリル酸（商品名ライトエステルＡ、共栄社化学（株）製）４．７質量部及び分子量調整剤としてｎ−ドデシルメルカプタン（商品名チオカルコール２０花王（株）製）３．７質量部、重合開始剤として２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（東京化成工業（株）製）０．３部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル２８６質量部を窒素ガス導入缶と攪拌装置と温度計とを備えた反応容器に仕込み、窒素ガスを流通させながら、反応混合物を攪拌して８０℃に加温し、重量平均分子量７２００のアクリル系ポリマー（Ｃ１）を得た。このアクリル系ポリマー（Ｃ１）のＳＰ値は１０．０、Ｔｇ：６５℃であった。
得られたアクリル系ポリマーＣ１を０．５質量部と４官能アクリレートとしてペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名Ｍ−３０５、東亞合成（株）製 ＳＰ値１２．７、Ｔｇ２５０℃）９１．５質量部、光重合開始剤（商品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦ社製）を４質量部、光安定剤（商品名ＴＩＮＵＶＩＮ１５２、ＢＡＳＦ社製）を４質量部、希釈溶剤としてイソプロピルアルコールとイソブチルアルコールとを１：１（質量比）で混合した混合溶剤を、固形分が４０質量％となるように混合してハードコート層形成用組成物（Ａ３）を調製した。このハードコート層形成用組成物（Ａ３）をハードコート層形成用組成物（Ａ１）の代わりに使用した以外は、実施例１と同様にしてハードコートフィルムを作成し、評価を行った。結果を表１に示した。

＜比較例１＞
アンチブロッキング剤を添加しなかった以外は実施例１の（ハードコート層形成用組成物の調製）と同様にして、ハードコート層形成用組成物（Ｂ１）を調製した。このハードコート層形成用組成物（Ｂ１）をハードコート層形成用組成物（Ａ１）の代わりに使用した以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを作製し、評価を行った。結果を表１に示した。

＜比較例２＞
アンチブロッキング剤の代わりに粒子径１．４μｍのシリカ粒子（商品名サイリシア３１０、富士シリシア化学（株）製）３質量部を添加した以外は実施例１の（ハードコート層形成用組成物の調製）と同様にして、ハードコート層形成用組成物（Ｂ２）を調製した。このハードコート層形成用組成物（Ｂ２）をハードコート層形成用組成物（Ａ１）の代わりに使用した以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを作製し、評価を行った。結果を表１に示した。

上記結果に示すとおり、実施例１〜２のハードコートフィルムは、従来のアンチニュートンリングフィルムに比べて表面粗さが小さいが、偏光板への付着が充分に抑制され、優れたアンチニュートンリング性能を有していた。また、アンチニュートンリング性能とトレードオフの関係にある光学物性も良好で、表示装置の前面側に配置される保護シートとして充分な透明性を有していた。さらに、テープ粘着力、及び擦傷性等も良好であった。
実施例１のハードコートフィルムのハードコート層上に反射防止層を設けた実施例３の低反射フィルムは、実施例１に比べて、テープ粘着力は劣っていたが、全光線透過率が向上していた。これは、反射防止層を設けたことで、保護シートと偏光板との間の空気層の反射が抑えられたためと考えられる。
実施例４のハードコートフィルムは、実施例１に比べて、ヘイズ値が高く光学物性がやや劣っていたが、偏光板との付着性が良好で、優れたアンチニュートンリング性能を有していた。これは表面粗さを粗くしたことで、偏光板との接触が妨げられたためと考えられる。
一方、凹凸面の表面粗さが１ｎｍの比較例１のハードコートフィルムは、アンチニュートンリング性能が悪かった。
また、凹凸面の表面粗さが５００ｎｍの比較例２のハードコートフィルムは、透明性が低かった。

本発明の静電容量式タッチパネル付き表示装置及び静電容量式タッチパネルは、ニュートンリングが発生しにくく、かつタッチ面の明るさも良好であるため、携帯電話や携帯ゲーム機等に利用可能性がある。

１…透明基板、２…導電層、３…粘着剤層、４…保護シート、４’…保護シート、５…印刷層、６…導電層、７…粘着剤層、８…保護シート、９…印刷層、１１…液晶ディスプレイ、１２…偏光板、１３…液晶ディスプレイ、１４…粘着剤層、１５…保護シート、２１〜２４…静電容量式タッチパネル、３１…粘着剤層、４１…基材、４２…ハードコート層、４３…反射防止層、１０１〜１０４…静電容量式タッチパネル付き表示装置

Claims (5)

1. 表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルとを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、
   前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
   前記保護シートは、前記表示装置と対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネル付き表示装置。
2. 表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルとを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、
   前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
   前記表示装置は、前記静電容量式タッチパネルと対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネル付き表示装置。
3. 表示装置と、前記表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定された静電容量式タッチパネルとを備える静電容量式タッチパネル付き表示装置であって、
   前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側とは反対側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
   前記表示装置は、前記静電容量式タッチパネルと対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネル付き表示装置。
4. 表示装置の前面側に、前記表示装置との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着剤層で前記表示装置に固定される静電容量式タッチパネルであって、
   前記静電容量式タッチパネルは、１枚の透明基板と、前記透明基板の前記表示装置側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備え、
   前記保護シートは、前記表示装置と対向する面の表面粗さが１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、静電容量式タッチパネル。
5. さらに、前記透明基板の前記表示装置側とは反対側に設けられた導電層と、前記導電層上に粘着剤層を介して積層された保護シートとを備える、請求項４に記載の静電容量式タッチパネル。

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