JP5204706B2 - ニュートンリング防止フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ニュートンリング防止フィルムの製造方法に関し、特に、ニュートンリングの発生を抑制しつつ、透過鮮明度にも優れたニュートンリング防止フィルムの製造方法に関する。

従来、タッチパネル等の光学機器分野において、プラスチックフィルムやガラス板の部材同士の密着によって発生するニュートンリングが問題となっていた。
すなわち、タッチパネル等において、透明導電性フィルムの透明導電層と、対向する透明導電層との間で、接触状態および非接触状態が繰り返されるため、透明導電性フィルム等に歪を生じ、それが原因となって、層間距離が微妙に変化し、いわゆるニュートンリングが発生しやすくなって、タッチパネル等の視認性を低下させる原因となっていた。

そこで、タッチパネルの技術分野において、このような使用による光学的性能の低下に対する耐久性に優れるとともに、ニュートンリングの発生が抑制された透明導電性フィルムが提案されている（特許文献１参照。）。
より具体的には、（Ａ）透明基材フィルムの少なくとも一面に、直接もしくは（Ｍ）樹脂層を介して、少なくとも樹脂と、平均粒径０．６〜２０μｍの粒子と、平均粒径１〜５００ｎｍの微粒子と、を含み、該粒子が該樹脂分に対して０．０５〜３０重量％、該微粒子が該樹脂分に対して０．００１〜９０重量％含有されてなる（Ｂ）樹脂層（第１のハードコート層）を形成し、樹脂層（Ｂ）上に、直接もしくは（Ｍ）樹脂層を介して、（Ｃ）透明導電層を形成してなることを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムである。
また、好適態様として、透明基材フィルム（Ａ）において、（Ｂ）樹脂層（第１のハードコート層）が形成されていない側に、（Ｄ）樹脂層（第２のハードコート層）を形成してなるタッチパネル用透明導電性フィルムである。

また、高精細化されたカラーディスプレイ等の用途において、優れたニュートンリング防止性やスパークル防止性を有するニュートンリング防止シートが提案されている（特許文献２〜４参照。）。
より具体的には、図４に示すように、透明支持体１０２の一方の面に、エネルギー線硬化型有機無機ハイブリッド樹脂１３２と、微粒子１３１とから形成されてなるニュートンリング防止層１０３を有し、含有量が０．１重量％〜１．０重量％、その平均粒子径が０．５μｍ〜３．０μｍ、その粒子径分布の変動係数が２０％〜８０％である微粒子１３１から形成されてなるニュートンリング防止層１０３を有することを特徴とする１０１である（特許文献２参照。）。

また、透明支持体の一方の面に、エネルギー線硬化型樹脂組成物と他の樹脂成分とからなるバインダー成分、および微粒子から形成されてなるニュートンリング防止層を有し、他の樹脂成分の含有量は、バインダー成分における全固形分中の０．１重量％〜１５重量％であることを特徴とするニュートンリング防止シートである（特許文献３参照。）。

さらには、透明支持体の一方の面に、エネルギー線硬化型樹脂組成物、および平均粒子径が０．５μｍ〜３．０μｍ、粒子径分布の変動係数が２０％〜８０％である微粒子から形成されてなるニュートンリング防止層を有することを特徴とするニュートンリング防止シートである（特許文献４参照。）。

特許第３６８８１３６号公報（特許請求の範囲） 特開２００５−２６２４４２号公報（特許請求の範囲） 特開２００５−２６５８６３号公報（特許請求の範囲） 特開２００５−２６５８６４号公報（特許請求の範囲）

しかしながら、特許文献１に開示された透明導電性フィルムは、ニュートンリングの発生を抑制することが不十分であるばかりか、微粒子の存在や画素のぎらつきによって、透過鮮明度（視覚性）が低下しやすいという問題が見られた。
また、特許文献２に開示されたフィルムでは、有機無機ハイブリッドを用いたことを特徴として、無機成分の拡散効果がスパークル（ギラツキ）の防止に有効としているが、実際には該無機成分が非常に微小であるため、無機成分でニュートンリングの発生を抑制するためにはハードコート層を非常に薄くする必要があり、耐久性不足等の問題が懸念される。

さらに、特許文献２〜４には粒子分布の変動係数が記載されているが、変動係数は粒子自体の数値であり、樹脂と混合した場合には２次凝集などの形態を取ることが知られており、変動係数と樹脂中の分散状態に相関関係は見られず、これによりニュートンリングの発生の抑制を管理することには困難な面がある。加えて、いずれも単一の粒子を用いているため、面状態、すなわち見た目が粗くなり、近年の精細度が高い表示体では適用するのは困難といった問題が考えられる。

そこで、本発明者らは鋭意検討した結果、ニュートンリング防止層の表面粗さや膜厚、さらには、ニュートンリング防止層における突起の分布を制御することによって、ニュートンリングの発生を効果的に抑制しつつ、透過鮮明度等にも優れたニュートンリング防止フィルムが得られることを見出した。
すなわち、本発明は、ニュートンリングの発生を抑制しつつ、透過鮮明度等にも優れたニュートンリング防止フィルムを効率的に製造する方法を提供することを目的とする。

本発明によれば、透明基材フィルムの少なくとも一方の表面に、ニュートンリング防止層を有するニュートンリング防止フィルムの製造方法であって、透明基材フィルムを準備する工程と、ニュートンリング防止層を、透明基材フィルムの少なくとも一方の表面に形成する工程と、を含み、ニュートンリング防止層の表面粗さ（Ｒａ）を０．０５〜０．１５μｍの範囲内の値とし、かつ、膜厚を２．５〜１０μｍの範囲内の値とするとともに、ニュートンリング防止層の単位面積（例えば、２００μｍ×２００μｍ）における、コンフォーカル顕微鏡を用いて測定されるニュートンリング防止層の正反射面からの高さが０．３〜０．８μｍ未満の突起数をａ１とし、
同高さが０．８〜１．３μｍ未満の突起数をａ２とし、
同高さが１．３〜２．１μｍ未満の突起数をａ３とし、
同高さが２．１μｍ以上の突起数をａ４としたときに、
ａ１／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を２５〜６０％の範囲内の値とし、
ａ２／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を３７〜７２％の範囲内の値とし、
ａ３／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を３〜１３％の範囲内の値とし、
かつ、ａ４／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を０または０〜１％の範囲内の値（但し、０は含まない。）として、
ニュートンリング防止層における突起の分布を制御することを特徴とするニュートンリング防止フィルムの製造方法である。

すなわち、ニュートンリング防止層の表面粗さや膜厚、さらには、ニュートンリング防止層における所定高さを有する突起数の割合を制御することによって、ニュートンリングの発生を抑制しつつ、透過鮮明度等にも優れたニュートンリング防止フィルムを得ることができる。
なお、本発明における突起ａ１〜ａ４の割合（％）は、言うまでもなく、ａ１〜ａ４の合計数を１００とした場合の存在割合（％）を意味する。
また、ニュートンリング防止層の正反射面とは、ニュートンリング防止層表面において、最も水平な面であって、正反射する箇所を意味する。但し、コンフォーカル顕微鏡を用いた場合、かかる正反射面は、装置構成上、自動的に定まる基準面である。

また、本発明のニュートンリング防止フィルムの製造方法を実施するにあたり、ニュートンリング防止層を、ハードコート材料を用いて形成することが好ましい。
このように形成することにより、ニュートンリング防止フィルムの耐久性を著しく向上させることができる。
また、ニュートンリング防止層が設けてある側とは反対の透明基材フィルムの表面に、第２のハードコート層を設けた場合であっても、ニュートンリング防止層が、ハードコート材料より形成してあることから、透明基材フィルムの変形や歪み等の発生を有効に防止することができる。
なお、ニュートンリング防止層が、ハードコート材料を用いて形成してある場合、かかるニュートンリング防止層を、第１のハードコート層と称する場合がある。

また、本発明のニュートンリング防止フィルムの製造方法を実施するにあたり、ニュートンリング防止層が、所定粒径を有する複数の無機微粒子と、エネルギー線硬化性化合物と、から構成し、かつ、エネルギー線を照射することによって、形成することが好ましい。
このように形成することにより、ニュートンリング防止層の表面粗さ（Ｒａ）や膜厚の制御が容易になるばかりか、突起高さと、突起割合の調整についても容易になり、さらには、ハードコート層の形成が容易となり、極めて高強度で、耐久性に優れたニュートンリング防止フィルムを効率的に製造できる。

また、本発明のニュートンリング防止フィルムの製造方法を実施するにあたり、ニュートンリング防止層が設けてある側とは反対の透明基材フィルムの表面に、ハードコート層（第１のハードコート層と区別するために、第２のハードコート層と称する場合がある。）を形成することが好ましい。
このようにハードコート層（第２のハードコート層）を形成することにより、ニュートンリング防止フィルムの耐久性をさらに著しく向上させることができる。

また、本発明のニュートンリング防止フィルムの製造方法を実施するにあたり、ハードコート層（第２のハードコート層）の表面粗さ（Ｒａ）を０．０５〜０．３０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
このように形成することにより、ハードコート層（第２のハードコート層）を設けた場合であっても、透過鮮明度等の低下を抑制することができる。また、このような表面粗さ（Ｒａ）を有するハードコート層（第２のハードコート層）であれば、比較的容易に形成することができる。

また、本発明のニュートンリング防止フィルムの製造方法を実施するにあたり、ニュートンリング防止層の上に、透明導電層を形成することが好ましい。
このように形成することにより、電極の一部として使用することができ、タッチパネル等の電子光学機器への応用が容易となる。

図１（ａ）〜（ｄ）は、本発明のニュートンリング防止フィルムの構造例を説明するために供する図である。 図２（ａ）〜（ｄ）は、本願発明のニュートンリング防止フィルムの製造方法の概略を説明するために供する図である。 図３は、実施例１におけるニュートンリング防止フィルムの表面データである。 図４は、従来のニュートンリング防止フィルムの概略を示す断面図である。

[第１の参考実施形態]
本発明の第１の参考実施形態は、図１（ａ）に例示するように、透明基材フィルム１０の少なくとも一方の表面１０´に、ニュートンリング防止層１２を有するニュートンリング防止フィルム２０であって、ニュートンリング防止層１２の表面粗さ（Ｒａ）を０．０５〜０．１５μｍの範囲内の値とし、かつ、膜厚を２．５〜１０μｍの範囲内の値としたニュートンリング防止フィルム２０である。
そして、ニュートンリング防止層１２の単位面積（例えば、２００μｍ×２００μｍ）における、ニュートンリング防止層の単位面積における、コンフォーカル顕微鏡を用いて測定されるニュートンリング防止層の正反射面からの高さが０．３〜０．８μｍ未満の突起数をａ１とし、同高さが０．８〜１．３μｍ未満の突起数をａ２とし、同高さが１．３〜２．１μｍ未満の突起数をａ３とし、同高さが２．１μｍ以上の突起数をａ４としたときに、
ａ１／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を２５〜６０％の範囲内の値とし、
ａ２／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を３７〜７２％の範囲内の値とし、
ａ３／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を３〜１３％の範囲内の値とし、
かつ、ａ４／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を０または０〜１％の範囲内の値（但し、０は含まない。）とすることを特徴とするニュートンリング防止フィルム２０である。
以下、第１の参考実施形態に係るニュートンリング防止フィルムの態様について、具体的に説明する。

１．透明基材フィルム
（１）種類
透明基材フィルムの種類は特に制限されるものではないが、透明性や機械的特性に優れるともに、比較的安価であることから、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、フッ素樹脂等を主成分としたプラスチックフィルムが好適である。
より具体的には、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、フッ素樹脂フィルム等を挙げることができる。

なお、透明基材フィルムの透明性としては、可視光に対する透過率が５０〜１００％であれば、実用上問題ないことが確認されている。
よって、本願発明において、透明基材フィルムといった場合、特に言及されない限り、通常、可視光に対する透過率が５０〜１００％である基材フィルムを意味する。

（２）厚さ
また、透明基材フィルムの厚さを１０μｍ〜１ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、透明基材フィルムの厚さが１０μｍ未満の値となると、機械的強度が著しく低下する場合があるためであり、一方、透明基材フィルムの厚さが１ｍｍを超えると、剛性が高くなりすぎ、ニュートンリング防止フィルムの取り扱いが困難になる場合があるためである。
したがって、かかる透明基材フィルムの厚さを２０μｍ〜５００μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、２５〜２００μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

（３）表面改質層
また、透明基材フィルムの表面に、プライマー層、微細凹凸層、および酸化物層等の表面改質層を設けることが好ましい。
この理由は、これらのプライマー層、微細凹凸層、および酸化物層等を設けることにより、透明基材フィルムと、その上に積層されるニュートンリング防止層との間の密着力を向上させることができるためである。

ここで、プライマー層の構成材料としては、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。なお、上記樹脂には、密着力を向上させるためにシランカップリング剤などの各種添加剤を添加することができる。
また、微細凹凸層としては、例えば、０．０１〜１μｍ程度の凹凸層が挙げられる。
さらに、酸化物層としては、コロナ放電処理層、クロム酸処理層、酸化炎処理層、プラズマ処理層、オゾン・紫外線照射処理層等が挙げられる。

２．ニュートンリング防止層
（１）表面粗さ（Ｒａ）
ニュートンリング防止層の表面粗さ（Ｒａ）を０．０５〜０．１５μｍの範囲内の値とすることを特徴とする。
すなわち、ニュートンリング防止層の表面粗さ（Ｒａ）を所定範囲内の値とすることによって、ニュートンリングの防止性能を低下させることなく、高い透過鮮明度を維持することができる。
より具体的には、表面粗さ（Ｒａ）が、０．０５μｍより低くなると、凹凸が減少し、ニュートンリング防止性能が著しく低下するためである。
一方、表面粗さ（Ｒａ）が、０．１５μｍよりも大きくなると、マット感が強くなり、透過鮮明度が著しく低下するためである。
したがって、ニュートンリング防止層の表面粗さ（Ｒａ）を０．０６〜０．１３μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．０７〜０．１２μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

（２）膜厚
また、ニュートンリング防止層の膜厚を２．５〜１０μｍの範囲内の値とすることを特徴とする。
この理由は、かかるニュートンリング防止層の膜厚が２．５μｍ未満の値になると、ニュートンリングの発生を抑制する効果が著しく低下するとともに、耐久性が低下する場合があるためである。
一方、かかるニュートンリング防止層の膜厚が１０μｍを超えると、透過鮮明度が低下したり、安定的に形成することが困難となったりする場合があるためである。
したがって、ニュートンリング防止層の膜厚を２．７〜８μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、３〜５μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

（３）突起数の割合
また、ニュートンリング防止層の単位面積における、コンフォーカル顕微鏡を用いて測定されるニュートンリング防止層の正反射面からの高さが０．３〜０．８μｍ未満の突起数をａ１とし、同高さが０．８〜１．３μｍ未満の突起数をａ２とし、同高さが１．３〜２．１μｍ未満の突起数をａ３とし、同高さが２．１μｍ以上の突起数をａ４としたときに、以下の要件を満足することを特徴とする。
なお、突起の高さが０．３μｍ未満の突起数に関しては、突起が微小であり過ぎるために測定上問題があるとともに、本発明の効果に与える影響が極めて小さいと考えられることから考慮しないこととした。
１）ａ１／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を２５〜６０％の範囲内の値である。
２）ａ２／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を３７〜７２％の範囲内の値である。
３）ａ３／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を３〜１３％の範囲内の値である。
４）ａ４／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００が０または０〜１％の範囲内の値（但し、０は含まない。）の範囲内の値である。
すなわち、ニュートンリング層における突起高さおよびその存在割合（単位面積当たりの突起数）を制御することによって、ニュートンリングの防止性能を低下させることなく、高い透過鮮明度を維持することができる。

より具体的には、高さが０．３μｍ〜０．８μｍ未満の突起の割合が、所定範囲より少ないと面状態が粗くなり、スパークル（ギラツキ）が発生する場合があり、所定範囲より多すぎるとニュートンリングの発生を抑制する効果が不十分となる場合があるためである。
また、高さが０．８μｍ以上〜１．３μｍ未満の突起の割合が、所定範囲より少ないとニュートンリングの発生を抑制する効果が不十分となる場合があり、所定範囲より多すぎると面状態が粗くなり、スパークル（ギラツキ）が発生する場合があるためである。
また、高さが１．３μｍ以上〜２．１μｍ未満の突起の割合が、所定範囲より少ないとニュートンリングの発生を抑制する効果が極端に低下する場合があり、所定範囲より多いとマット感が強くなり透過鮮明度が低下する場合があるためである。
さらに、高さが２．１μｍ以上の突起の割合が、所定範囲外となると、ニュートンリング防止層の上に透明導電層を設けて、例えば、タッチパネル等の光学部材として使用する場合に、当該突起部分に電荷が溜まり、放電することにより該フィルムを損傷したり、また、被接触側の導電層との誤接触の確率も大幅に増大する場合があるためである。

したがって、ａ１／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を３２〜５５％の範囲内の値とし、
ａ２／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を４１〜６４％の範囲内の値とし、
ａ３／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を４〜１２％の範囲内の値とし、
かつ、ａ４／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を０または０〜０．５％の範囲内の値（但し、０は含まない。）とすることが好ましい。
さらに、ａ１／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を４５〜５２％の範囲内の値とし、
ａ２／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を４３〜５０％の範囲内の値とし、
ａ３／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を５〜１１％の範囲内の値とし、
かつ、ａ４／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を０または０〜０．２５％の範囲内の値（但し、０は含まない。）とすることがさらに好ましい。

（４）構成材料
また、ニュートンリング防止層が、ハードコート材料より構成してあるハードコート層（第一のハードコート層）として機能するものであることが好ましい。
この理由は、ニュートンリング防止層が、ハードコート材料から構成してあることにより、ニュートンリング防止層の耐久性や硬度を向上させることができ、ひいては、ニュートンリング防止フィルムの耐久性を向上させることができるためである。
また、ニュートンリング防止層が設けてある側とは反対の基材フィルムの表面に、第２のハードコート層を設けた場合であっても、ニュートンリング防止層が、ハードコート材料より構成してあることから、基材フィルムの両面で機械的なバランスがとれ、基材フィルムの変形や歪み等の発生を有効に防止することができる。

ここで、ハードコート材料の種類に関して、特に制限されるものではないが、例えば、エネルギー線硬化性化合物と、光重合開始剤と、無機微粒子と、レベリング剤と、から構成することができる。
より具体的には、エネルギー線硬化性化合物としては、ポリエステルアクリレート系光重合性モノマー、エポキシアクリレート系光重合性モノマー、ウレタンアクリレート系光重合性モノマー、ポリオールアクリレート系光重合性モノマー、ポリエステルアクリレート系光重合性オリゴマー、エポキシアクリレート系光重合性オリゴマー、ウレタンアクリレート系光重合性オリゴマー、ポリオールアクリレート系光重合性オリゴマー等が挙げられる。

また、光重合開始剤として、ラジカル重合型の光重合性プレポリマーや光重合性モノマーに対しては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２（ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−タ−シャリ−ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。

また、カチオン重合型の光重合性モノマーやオリゴマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。
これらの光重合開始剤は１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
さらに、その配合量を、光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマー１００重量部に対して、通常、０．２〜１０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。

また、無機微粒子として、通常、シリカ粒子、酸化チタン粒子、酸化ジルコニア粒子等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。その場合、無機微粒子の配合量を、光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマー１００重量部に対して、通常、０．２〜１０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。

さらに、レベリング剤として、シリコーン化合物やフッ素化合物が挙げられ、その配合量を、光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマー１００重量部に対して、通常、０．０１〜１０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。

その他、ハードコート材料の添加剤として、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。
この際用いる溶剤としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが挙げられる。

また、ニュートンリング防止層が、所定粒径を有する複数の無機微粒子と、上述したエネルギー線硬化性化合物と、から構成してあることが好ましい。
この理由は、ニュートンリング防止層を所定材料から構成することにより、ニュートンリング防止層の表面粗さ（Ｒａ）や膜厚の制御が容易になるばかりか、突起高さと、突起割合の調整についても容易になり、さらには、極めて高強度で、耐久性に優れたニュートンリング防止フィルムとすることができるためである。

ここで、所定粒径を有する複数の無機微粒子に関して、例えば、平均粒径が１〜１０μｍの第１のシリカ粒子と、平均粒径が０．０１〜１μｍ未満の第２のシリカ粒子と、を併用することが好ましい。
その場合、第１のシリカ粒子の添加量を、エネルギー線硬化性化合物１００重量部に対して、１０〜８０重量部の範囲内の値とすることが好ましく、第２のシリカ粒子の添加量を、エネルギー線硬化性化合物１００重量部に対して、１０〜８０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。

３．ハードコート層
また、図１（ｂ）に例示するように、ニュートンリング防止層１２が設けてある側とは反対の基材フィルム１０の表面１０´´に、ハードコート層（第２のハードコート層）１６が形成してあることが好ましい。
すなわち、このように第２のハードコート層が形成してあることにより、ニュートンリング防止フィルムの耐久性をさらに著しく向上させることができるためである。
なお、図１（ｂ）に例示する第２のハードコート層１６は、後述するように、粒子（無機微粒子）１６ａと、ハードコート樹脂１６ｂとから構成されている例である。

また、第２のハードコート層の表面粗さ（Ｒａ）を０．０５〜０．３０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる第２のハードコート層の表面粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ未満の値になると、十分な防眩性が得られない場合があるためである。
一方、かかる第２のハードコート層の表面粗さ（Ｒａ）が０．３０μｍを超えた値になると、透過鮮明度等の低下を抑制することが困難となる場合があるためである。
また、第２のハードコート層の表面粗さ（Ｒａ）をかかる範囲とすることにより、本発明のニュートンリング防止フィルムをタッチパネル用フィルムとして用いた場合には、防眩性を効果的に向上させることが出来る。
したがって、第２のハードコート層の表面粗さ（Ｒａ）を０．０５〜０．２８μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．１０〜０．２５μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

また、第２のハードコート層の厚さを２．５〜１０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる第２のハードコート層の厚さが２．５μｍ未満の値になると、耐擦傷性、鉛筆硬度などの表面硬度が低下し、ひいては透明導電層が形成されたニュートンリング防止フィルムの耐久性が低下する場合があるためである。
一方、かかる第２のハードコート層の厚さが１０μｍを超えた値になると、クラックなど発生しやすくなり、使用上の不具合発生や、加工性低下をもたらす場合があるためである。
したがって、第２のハードコート層の厚さを２．７〜８μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、３〜７μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

また、第２のハードコート層の構成材料を、ニュートンリング防止層と同じく、例えば、エネルギー線硬化性化合物と、光重合開始剤と、無機微粒子と、レベリング剤と、から構成することができる。

４．透明導電層
また、図１（ｃ）に例示するように、ニュートンリング防止層１２の上に、導電層１３が形成してあることが好ましい。
すなわち、ニュートンリング防止フィルムの用途にもよるが、例えば、表面抵抗率が１×１０²〜１×１０⁴Ω／□の範囲の導電層が形成してあることが好ましく、表面抵抗率が０．３×１０³〜０．５×１０³Ω／□の範囲の導電層が形成してあることがより好ましい。
なお、図１（ｃ）に例示するニュートンリング防止フィルム２０は、下方から、第２のハードコート層１６、基材フィルム１０、ニュートンリング防止層１２、および導電層１３が、順次積層してある例である。

また、導電層の厚さは、各種用途で必要とされる導電性によって適宜選択されるものであるが、通常３〜１０００ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる導電層の厚さが３ｎｍ未満の値になると、透明導電性が不十分となったり、強度が不十分となり経時で損傷を発生する場合があるためである。
一方、かかる透明導電層の厚さが１０００ｎｍを超えた値になると、光の透過性が悪化する場合があるためである。
したがって、透明導電層の厚さを５〜５００ｎｍの範囲内の値とすることがより好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

また、透明導電層は非常に薄いため、その表面状態は、ニュートンリング防止層に依存し、ニュートンリング防止層の表面状態をもって規定することができる。すなわち、ニュートンリング防止層を上述のように規定することにより、ニュートンリングの発生を抑制する効果に優れ、かつ、透過鮮明度に優れたニュートンリング防止フィルムを得ることができ、その結果、そのニュートンリング防止層上に透明導電層を設けてもニュートンリングの発生を抑制する効果に優れ、かつ、透過鮮明度にも優れたものとなる。

そして、上述のように、透明導電層の表面粗さ（Ｒａ）は、ニュートンリング防止層の表面状態により決定されるものであるが、通常０．０５〜０．３０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる透明導電層の表面粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ未満の値になると、ニュートンリングが発生する場合があるためである。
一方、かかる透明導電層の表面粗さ（Ｒａ）が０．３０μｍを超えた値になると、マット感が強くなり透過鮮明度が低下する場合があるためである。
したがって、透明導電層の表面粗さ（Ｒａ）を０．０５〜０．１３μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．０６〜０．１２μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

また、透明導電層は、金属酸化物系材料から構成されても良いし、有機導電性ポリマーにより構成されても良い。金属酸化物系材料としては、酸化インジウム（ＩｎＯ）、酸化錫（ＳｎＯ）、酸化インジウム錫化合物（ＩＴＯ化合物）、酸化インジウム亜鉛化合物（ＩＺＯ化合物）、酸化アンチモン錫化合物、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化アルミニウム亜鉛化合物などを好ましく挙げることができる。一方、有機導電性ポリマーとしては、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレン、ポリピリジンなどを好ましく挙げることができ、その一種単独または二種以上の組み合わせとすることが好ましい。

５．その他
その他、図１（ｄ）に例示するように、粘着剤層１８を設けることが好ましい。
すなわち、ニュートンリング防止層１２とは反対側に、このような粘着剤層１８を設けることによって、ニュートンリング防止フィルム２０の使い勝手性を向上させることができる。
なお、図１（ｄ）に例示するニュートンリング防止フィルム２０は、基材フィルム１０の上に、ハードコート層１６が予め設けてあり、さらにその上に、粘着剤層１８が設けてある例である。

ここで、粘着剤層の厚さを１〜３００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる粘着剤層の厚さが１μｍ未満の値になると、所定の粘着性を発現させることが困難となる場合があるためである。
一方、かかる粘着剤層の厚さが３００μｍを超えた値になると、塗工に必要な溶剤を完全に乾燥することが難しく、残留した溶剤の影響により粘着剤層表面が荒れたり、粘着力のばらつきが大きくなる場合があるためである。
したがって、粘着剤層の厚さを１０〜２００μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、３０〜１００μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

また、粘着剤層の構成材料を、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせとすることが好ましい。

[第２の実施形態]
本発明の第２の実施形態は、図２（ａ）〜（ｅ）に例示するように、透明基材フィルムの少なくとも一方の表面に、ニュートンリング防止層を有するニュートンリング防止フィルムの製造方法であって、透明基材フィルムを準備する工程と、ニュートンリング防止層を、透明基材フィルムの少なくとも一方の表面に形成する工程と、を含むニュートンリング防止フィルムの製造方法である。
そして、ニュートンリング防止層の表面粗さ（Ｒａ）を０．０５〜０．１５μｍの範囲内の値とし、かつ、膜厚を２．５〜１０μｍの範囲内の値とするとともに、ニュートンリング防止層の単位面積における、コンフォーカル顕微鏡を用いて測定されるニュートンリング防止層の正反射面からの高さが０．３〜０．８μｍ未満の突起数をａ１とし、同高さが０．８〜１．３μｍ未満の突起数をａ２とし、同高さが１．３〜２．１μｍ未満の突起数をａ３とし、同高さが２．１μｍ以上の突起数をａ４としたときに、
ａ１／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を２５〜６０％の範囲内の値とし、
ａ２／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を３７〜７２％の範囲内の値とし、
ａ３／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を３〜１３％の範囲内の値とし、
かつ、ａ４／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を０または０〜１％の範囲内の値（但し、０は含まない。）として、ニュートンリング防止層における突起の分布を制御することを特徴とするニュートンリング防止フィルムの製造方法である。

１．透明基材フィルムの準備工程
図２（ａ）に例示するように、所定の透明基材フィルム１０を準備する工程である。
なお、所定の透明基材フィルムの態様については、第１の参考実施形態において説明したとおりである。

２．ニュートンリング防止層の形成工程
ニュートンリング防止層の形成工程は、ニュートンリング防止層用塗布液を予め調整した後、図２（ｂ）に例示するように、所定の透明基材フィルム１０の上に塗布するとともに、紫外線（ＵＶ）の照射等によって、ニュートンリング防止層１２を形成する工程である。

（１）ニュートンリング防止層の塗布液調整工程
まず、図示しないものの、配合材料を均一に混合し、ニュートンリング防止層を形成するためのニュートンリング防止層用塗布液を調製する。
ここで、ニュートンリング防止層用塗布液は、上述したように、例えば、エネルギー線硬化性化合物と、光重合開始剤と、無機微粒子と、レベリング剤と、を含むハードコート材料から構成することができる。
その場合、公知の塗布方法を用いて、均一な厚さのニュートンリング防止層を形成することができるように、例えば、溶剤等を添加し、温度２５℃条件において、粘度１〜１００ｍＰａ・ｓｅｃ．の範囲内の値に調整することが好ましく、粘度２〜５０ｍＰａ・ｓｅｃ．の範囲内の値に調整することが好ましく、粘度３〜３０ｍＰａ・ｓｅｃ．の範囲内の値に調整することがさらに好ましい。

なお、塗布方法についても特に制限されるものではないが、公知の方法、例えば、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、スピンコート法などを用いることができる。

（２）エネルギー線照射工程
また、図２（ｂ）に例示するように、エネルギー線として、例えば、紫外線（ＵＶ）を照射することによって、ニュートンリング防止層を形成する。
ここで、紫外線の照射条件として、露光量を１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲内の値とすることが好ましく、１５０〜７００ｍＪ／ｃｍ²の範囲内の値とすることがより好ましく、２００〜５００ｍＪ／ｃｍ²の範囲内の値とすることがさらに好ましい。

３．ハードコート層の形成工程
また、図２（ｃ）に例示するように、ニュートンリング防止層１２が設けてある側とは反対の基材フィルム１０の表面１０´´に、ハードコート層（第２のハードコート層）１６を形成する工程である。
ここで、ハードコート層（第２のハードコート層）の形成方法は特に制限されるものではないが、例えば、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、スピンコート法などを用いることができる。

４．導電層の形成工程
また、図２（ｄ）に例示するように、ニュートンリング防止層１２の上に、導電層１３を形成する工程である。
ここで、導電層の形成方法は特に制限されるものではないが、例えば、金属系材料により導電層を形成する場合は、蒸着法、スパッタリング法などを用いることができ、有機導電性ポリマーにより導電層を形成する場合は、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、スピンコート法などを用いることができる。
その他、図示しないものの、導電層を形成した後に、第２のハードコート層の上に、粘着剤層を形成することによって、ニュートンリング防止フィルムの使い勝手性を向上させることができる。

以下、実施例を参照しながら、本発明のニュートンリング防止フィルムを詳細に説明する。但し、言うまでもなく、本発明の技術的範囲は、以下の実施例の記載に制限されるものではない。

［実施例１］
１．ニュートンリング防止フィルムの作成
（１）ニュートンリング防止層用塗布液の調製
下記の配合成分を撹拌混合することにより、ニュートンリング防止層用塗布液ａ１（固形分濃度４０重量％）を調製した。
Ａ１：紫外線硬化型樹脂（商品名：ビームセット５７５ＣＢ、荒川化学工業製、固形分濃
度１００％、光重合開始剤入り）１００重量部
Ｂ１：フィラー分散紫外線硬化型樹脂（商品名：セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＢＳ）、
大日精化工業製、フィラー濃度１０％、フィラー粒径４．７μｍ、固形分濃度１０
０％、光重合開始剤入り）４０重量部
Ｂ２：フィラー分散紫外線硬化型樹脂（商品名：セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＭＢ）、
大日精化工業製、フィラー濃度１０％、フィラー粒径０．４μｍ、固形分濃度８５
％、光重合開始剤入り）５０重量部
Ｃ１：レベリング剤（商品名：ＳＨ２８、東レダウシリコーン製、固形分濃度１００％）
０．２重量部
Ｄ１：エチルセロソルブ ２６６．５５重量部

（２）第２のハードコート層用塗布液の調製
また、下記の配合成分を撹拌混合することによりハードコート層用塗布液ｂ１（固形分濃度４０重量％）を調製した。
Ａ１：ウレタンアクリレートと多官能モノマーの混合物（商品名：ビームセット５７５Ｃ
Ｂ、荒川化学工業製、固形分濃度１００％、光重合開始剤入り）１００重量部
Ｂ１：フィラー分散紫外線硬化型樹脂（商品名：セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＢＳ）、
大日精化工業製、フィラー濃度１０％、フィラー粒径４．７μｍ、固形分濃度１０
０％、光重合開始剤入り）５０重量部
Ｂ２：フィラー分散紫外線硬化型樹脂（商品名：セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＭＢ）、
大日精化工業製、フィラー濃度１０％、フィラー粒径０．４μｍ、固形分濃度８５
％、光重合開始剤入り）５９重量部
Ｃ１：レベリング剤（商品名：ＳＨ２８、東レダウシリコーン製、固形分濃度１００％）
０．２重量部
Ｄ１：エチルセロソルブ ２９１．６８重量部

（３）ニュートンリング防止層の形成
次いで、透明な両面易接着ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、商品名：ＰＥＴ１８８Ａ４３００、膜厚１８８μｍ）を準備した。その片面に、マイヤーバー＃１０を用いて、ニュートンリング防止層用塗布液ａ１を塗布し、オーブン中、７０℃、１分間の条件で、乾燥した。その後、紫外線照射装置を用いて、紫外線（光量３００ｍＪ／ｃｍ²）を照射して、ニュートンリング防止層（第１のハードコート層）を形成した。

（４）第２のハードコート層の形成
次いで、両面易接着ＰＥＴフィルムにおけるニュートンリング防止層を形成した反対面に、マイヤーバー＃１０を用いてハードコート層用塗布液ｂ１を塗布し、オーブン中、７０℃、１分間の条件で、乾燥した。その後、紫外線照射装置（アイグラフィックス(株)製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて、紫外線（光量３００ｍＪ／ｃｍ²）を照射し、第２のハードコート層を形成して、ニュートンリング防止フィルムとした。

２．ニュートンリング防止フィルムの評価
（１）突起高さおよび突起数
得られたニュートンリング防止フィルムにつき、コンフォーカル顕微鏡（レーザーテック社製、製品名：ＨＤ１００Ｄ）を用いるとともに、２０倍の対物レンズを用いて、基準面（正反射面）からの単位面積当たり（２００μｍ×２００μｍ）の突起高さおよび突起数を測定した。
なお、かかる突起高さは、ニュートンリング防止層側の正反射面からの高さを表わし、具体的には、励起光と蛍光の波長の組み合わせを観察対象に合せて測定すべく、異なる分光特性を持つ複数のビームスプリッタを有するコンフォーカル顕微鏡の装置の構成上定まる基準面（正反射面）からの高さを意味する。

（２）膜厚
また、電子顕微鏡用資料作成装置（ＥＭＵＣ６、ライカマイクロシステム社製）にてニュートンリング防止フィルムの断面資料を作成し、デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−５００、キーエンス社製）にてニュートンリング防止層および第２のハードコート層夫々の膜厚を測定した。

（３）全光線透過率
得られたニュートンリング防止フィルムの全光線透過率につき、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１に準じて、ヘイズメーター（日本電色製、ＮＤＨ−２０００）を用いて測定した。
なお、全光線透過率が９０％以上であれば、透明性に関して優れていると言え、全光線透過率が８７％以上であれば、透明性に関して実用上問題ないと言え、全光線透過率が８７％未満になると、透明性に関して実用上問題があると言える。

（４）ヘイズ
得られたニュートンリング防止フィルムのヘイズにつき、ＪＩＳ Ｋ７１３６に準じて、ヘイズメーター（日本電色製、ＮＤＨ−２０００）を用いて測定した。
なお、ヘイズが１０％以下であれば、透明性に関して優れていると言え、ヘイズが１５％以下であれば、透明性に関して実用上問題ないと言え、ヘイズが１５％を超えると、透明性に関して実用上問題があると言える。

（５）透過鮮明度
得られたニュートンリング防止フィルムの透過鮮明度につき、ＴＭ式写像性測定器（スガ試験機製、ＩＣＭ−１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して透過式で測定した。なお、４種類のスリット０．１２５ｍｍ、０.５ｍｍ、１.０ｍｍ、２.０ｍｍを用いて得られた各測定値の合計値を透過鮮明度とした。
なお、かかる透過鮮明度が３００以上であれば、高精細性に関して優れていると言え、透過鮮明度が２５０以上であれば、通常レベルの高精細性を有すると言え、透過鮮明度が２５０未満となると、高精細性に劣ると言える。

（６）表面粗さ（Ｒａ）
得られたニュートンリング防止フィルムにおけるニュートンリング防止層の表面粗さ（Ｒａ）を、ＩＳＯ４２８７に準じて接触式表面粗さ計（株式会社ミツトヨ製、装置名：ＳＶ３０００Ｓ４）を用いて測定した。

（７）ニュートンリング防止性（ＡＮ性）
得られたニュートンリング防止フィルムにおけるニュートンリング防止性（ＡＮ性）を、以下の基準に沿って評価した。
○：ニュートンリング防止層側をガラスに押し当てて、ガラス面越しに目視した際に、ニ
ュートンリングが全く見られない。
△：ニュートンリング防止層側をガラスに押し当てて、ガラス面越しに目視した際に、ニ
ュートンリングがほとんど見られない。
×：ニュートンリング防止層側をガラスに押し当てて、ガラス面越しに目視した際に、ニ
ュートンリングが見られる。

［実施例２］
実施例２では、ニュートンリング防止層を形成する際に、マイヤーバー＃１２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、ニュートンリング防止フィルムを作成し、評価した。

［実施例３］
実施例３では、ニュートンリング防止層を形成する際に、ニュートンリング防止層用塗布液ａ１の代わりに、下記ニュートンリング防止層用塗布液ａ２を用いるとともに、マイヤーバー＃８で塗布した以外は、実施例１と同様の方法にて、ニュートンリング防止フィルムを作成し、評価した。

（ニュートンリング防止層用塗布液ａ２の調製）
２ｍｍφジルコニアビーズを収容したビーズミルを用いて、以下の配合成分を、９０分間分散処理し、ニュートンリング防止層用塗布液ａ２（固形分濃度３５重量％）を調製した。
なお、レーザー回折・散乱法により、シリカ粒子の粒度分布を測定したところ、ハードコート液ａ２は、０．６７μｍと、２．９８μｍに、粒度分布ピーク値を持ち、平均粒径は２．４８（μｍ）であった。
Ａ１：紫外線硬化型樹脂（商品名：ビームセット５７５ＣＢ、荒川化学工業製、固形分濃
度１００％、光重合開始剤入り）１００重量部
Ｂ３：シリカフィラー（商品名：サイリシア４５６ＲＣ、富士シリシア化学製、フィラー
粒径６．７μｍ）４重量部
Ｃ１：レベリング剤（商品名：ＳＨ２８、東レダウシリコーン製、固形分濃度１００％）
０．１重量部
Ｄ１：エチルセロソルブ １９３．３３重量部

［実施例４］
実施例４では、ニュートンリング防止層を形成する際に、ニュートンリング防止層用塗布液ａ１の代わりにニュートンリング防止層用塗布液ａ２を用いた以外は、実施例１と同様の方法にて、ニュートンリング防止フィルムを作成し、評価した。

［比較例１］
比較例１では、ニュートンリング防止層を形成する際に、ニュートンリング防止層用塗布液ａ１の代わりに、上記ハードコート層用塗布液ｂ１を用いるとともに、マイヤーバー＃８で塗布した以外は、実施例１と同様の方法にて、ニュートンリング防止フィルムを作成し、評価した。

［比較例２］
比較例２では、ニュートンリング防止層を形成する際に、ニュートンリング防止層用塗布液ａ１の代わりに、下記ニュートンリング防止層用塗布液ａ３を用いるとともに、マイヤーバー＃１２で塗布した以外は、実施例１と同様の方法にて、ニュートンリング防止フィルムを作成し、評価した。

（ニュートンリング防止層用塗布液ａ３の調製）
下記の配合成分を撹拌混合することによりニュートンリング防止層用塗布液ａ３（固形分濃度４０％）を調製した。
Ａ１：ウレタンアクリレートと多官能モノマーの混合物（商品名：ビームセット５７５Ｃ
Ｂ、荒川化学工業製、固形分濃度１００％、光重合開始剤入り）１００重量部
Ｂ１：フィラー分散紫外線硬化型樹脂（商品名：セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＢＳ）、
大日精化工業製、フィラー濃度１０％、フィラー粒径４．７μｍ、固形分濃度１０
０％、光重合開始剤入り）５０重量部
Ｂ２：フィラー分散紫外線硬化型樹脂（商品名：セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＭＢ）、
大日精化工業製、フィラー濃度１０％、フィラー粒径０．４μｍ、固形分濃度８５
％、光重合開始剤入り）５９重量部
Ｂ３：フィラー分散紫外線硬化型樹脂（商品名：セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＢＳ２）
、大日精化工業製、フィラー濃度１０％、フィラー粒径６．５μｍ、固形分濃度１
００％、光重合開始剤入り）１０重量部
Ｃ１：レベリング剤（商品名：ＳＨ２８、東レダウシリコーン製、固形分濃度１００％）
０．２重量部
Ｄ１：エチルセロソルブ ３０６．６８重量部

［比較例３］
比較例３では、ニュートンリング防止層用塗布液ａ１の代わりに、ニュートンリング防止層用塗布液ａ２を用い、マイヤーバー＃１２で塗布した以外は、実施例１と同様の方法にてニュートンリング防止フィルムを作成し、評価した。

以上、詳述したように、本発明によれば、ニュートンリング防止層の表面粗さや膜厚、さらには、ニュートンリング防止層における突起の分布を制御することによって、ニュートンリングの発生を抑制しつつ、透過鮮明度等にも優れたニュートンリング防止フィルムを効率的に提供できるようになった。

また、ニュートンリング防止層とは反対側の透明基材フィルムに、第２のハードコート層をさらに設けることによって、ニュートンリング防止フィルムの耐久性をさらに著しく向上させることができるようになった。
さらに、ニュートンリング防止層の上に、導電層を設けることによって、電極の一部として使用することができ、タッチパネル等の電子光学機器への応用が容易になった。
よって、本発明によれば、ニュートンリングの発生を抑制しつつ、透過鮮明度にも優れたニュートンリング防止フィルムとして、タッチパネルなどに、幅広く使用することができる。

１０：基材フィルム
１２：ニュートンリング防止層
１２ａ：無機微粒子
１２ｂ：ハードコート樹脂
１３：導電層
１６：第２のハードコート層
１６ａ：無機微粒子
１６ｂ：ハードコート樹脂
１８：粘着剤層
２０：ニュートンリング防止フィルム
１０１：ニュートンリング防止シート
１０２：透明支持体
１０３：ニュートンリング防止層
１３１：微粒子
１３２：エネルギー線硬化型有機無機ハイブリッド樹脂

Claims (6)

1. 透明基材フィルムの少なくとも一方の表面に、ニュートンリング防止層を有するニュートンリング防止フィルムの製造方法であって、
   前記透明基材フィルムを準備する工程と、
   前記ニュートンリング防止層を、透明基材フィルムの少なくとも一方の表面に形成する工程と、を含み、
   前記ニュートンリング防止層の表面粗さ（Ｒａ）を０．０５〜０．１５μｍの範囲内の値とし、かつ、膜厚を２．５〜１０μｍの範囲内の値とするとともに、
   前記ニュートンリング防止層の単位面積における、コンフォーカル顕微鏡を用いて測定されるニュートンリング防止層の正反射面からの高さが０．３〜０．８μｍ未満の突起数をａ１とし、
   前記高さが０．８〜１．３μｍ未満の突起数をａ２とし、
   前記高さが１．３〜２．１μｍ未満の突起数をａ３とし、
   前記高さが２．１μｍ以上の突起数をａ４としたときに、
   ａ１／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を２５〜６０％の範囲内の値とし、
   ａ２／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を３７〜７２％の範囲内の値とし、
   ａ３／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を３〜１３％の範囲内の値とし、
   かつ、ａ４／（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）×１００を０または０〜１％の範囲内の値（但し、０は含まない。）として、
   前記ニュートンリング防止層における前記突起の分布を制御することを特徴とするニュートンリング防止フィルムの製造方法。
2. 前記ニュートンリング防止層を、ハードコート材料を用いて形成することを特徴とする請求項１に記載のニュートンリング防止フィルムの製造方法。
3. 前記ニュートンリング防止層を、複数の無機微粒子と、エネルギー線硬化性化合物と、から構成し、かつ、エネルギー線を照射することによって、形成することを特徴とする請求項１に記載のニュートンリング防止フィルムの製造方法。
4. 前記ニュートンリング防止層が設けてある側とは反対の透明基材フィルムの表面に、ハードコート層を形成する工程をさらに設けることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のニュートンリング防止フィルムの製造方法。
5. 前記ハードコート層の表面粗さ（Ｒａ）を０．０５〜０．３０μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項４に記載のニュートンリング防止フィルムの製造方法。
6. 前記ニュートンリング防止層の上に、透明導電層を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のニュートンリング防止フィルムの製造方法。