KR20100125460A - 투명막 형성용 조성물 및 적층 투명막 - Google Patents

투명막 형성용 조성물 및 적층 투명막 Download PDF

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마사토 무로우치
켄지 하야시
카오루 스즈키
마사아키 무라카미
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다이닛뽄도료가부시키가이샤
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Abstract

굴절율이 1.80 이상 3.00 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(A 성분), 굴절율이 1.55 이상 1.80 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(B 성분), 굴절율이 B 성분의 굴절율보다도 작은 바인더를 함유하고, 바람직하게는 추가로 분산 안정제를 함유하며, 투명 기재의 표면에 투명성이 뛰어나고 또한 간섭 얼룩이 없는 막을 형성할 수 있는 조성물을 제공하고, 투명 기재의 표면에 상기 조성물을 막형성시켜 수득된 투명막이 적층되어 있고, 이렇게 막형성시켜 수득된 투명막의 굴절율과 그 투명 기재의 굴절율 차이가 0.03 이하이며, 투명성이 뛰어나고 또한 간섭 얼룩이 없는 적층 투명막을 제공한다.

Description

투명막 형성용 조성물 및 적층 투명막{COMPOSITION FOR TRANSPARENT FILM FORMATION AND LAYERED TRANSPARENT FILM}
본 발명은 투명막 형성용 조성물 및 적층 투명막에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 투명 기재의 표면에 투명성이 뛰어나며, 또한 간섭 얼룩이 없고, 추가로 투명 기재와의 굴절율 차이가 0.03 이하인 투명막을 형성할 수 있는 조성물, 및 투명 기재의 표면에 상기 조성물을 막형성시켜 수득되는 투명막이 적층되어 있고, 상기 막형성시켜 수득된 투명막의 굴절율과 투명 기재의 굴절율 차이가 0.03 이하이며, 투명성이 뛰어나고, 또한 간섭 얼룩이 없는 적층 투명막에 관한 것이다.
플라즈마 패널 디스플레이, 액정 디스플레이, 음극관 표시장치 등의 화상표시 장치나 광학 제품에는, 표시면의 시인성을 높이기 위해서, 형광등 등의 외부 광원으로부터의 광선의 반사가 적을 것이 요구되고 있다. 외부 광원으로부터의 광선의 반사를 저감시키는 방법으로서, 예를 들면 화상표시장치 및 광학 제품의 표시면에 고굴절율층을 형성하고, 추가로 그 위에 저굴절율층을 형성하는 방법이 일반적으로 사용되고 있다.
최근, 플라즈마 패널 디스플레이, 액정 디스플레이 등으로 대표되는 플랫 패널 디스플레이의 고기능화에 동반해서, 상기 방법으로 형성되는 반사 방지막에는 높은 투명성 및 낮은 반사율의 특성이 요구되고 있다. 반사 방지효과를 향상시키기 위해서는, 반사 방지막의 고굴절율층과 저굴절율층의 굴절율의 차이를 크게 설계할 필요가 있다. 그러나, 고굴절율층의 굴절율을 피도포 투명 기재의 굴절율보다도 높게 하였을 경우에는, 고굴절율층과 투명 기재의 굴절율 차이에 의한 간섭 줄무늬가 발생하여 표시면의 화질이 저하된다는 문제가 있다. 그 때문에 반사 방지막의 고굴절율층에는 높은 투명성 및 높은 굴절율 특성에 부가하여, 투명 기재와의 굴절율 차이가 없을 것이 요구되고 있다.
반사 방지막의 고굴절율층을 제작하는 수단으로서 증착법(예를 들면, 특허문헌 1 참조)이나, 웨트 코팅법이 보고되고 있지만, 증착법에서는 값비싼 제조장치가 필요하게 되므로 실용화에는 적합하지 않다.
웨트 코팅법에서는 굴절율 2.0 이상의 무기 미립자를 바인더에 분산한 투명 고굴절율막 형성용 조성물을 사용하는 방법이 일반적으로 사용되고 있다(예를 들면, 특허문헌 2 참조).
또, 굴절율 2.0 이상의 무기 미립자 및 도전성 미립자를 바인더에 분산시킨 투명도전 고굴절율막 형성용 조성물도 보고되고 있다(예를 들면, 특허문헌 3 참조). 도전성 미립자로서 굴절율이 1.8 이상인 것이 바람직하다고 되어 있는데, 예를 들면, 안티몬 도핑된 산화주석(ATO), 주석 도핑된 산화인듐(ITO), 알루미늄 도핑된 산화아연(AZO), 산화주석, 산화아연 등이 사용되고 있다.
상기 투명 고굴절율막 형성용 조성물 또는 투명도전 고굴절율막 형성용 조성물로 고굴절율층을 제작하였을 경우에는, 무기 미립자 및 바인더가 막 중에 분산된 상태가 된다. 무기 미립자와 바인더의 굴절율 차이가 큰 경우에는, 막 내부에서 굴절율의 분포차이가 발생하기 때문에, 간섭 얼룩이 현저하게 발생한다. 이 간섭 얼룩은 저굴절율층을 적층하였을 경우에 더욱 강조되므로 시인성이 저하된다.
또, 간섭 줄무늬를 방지하는 방법으로서, 고굴절율층과 투명 기재 사이에 중 굴절율층을 형성하는 방법이 있다(예를 들면, 특허문헌 4 참조). 그러나, 이 방법에서는 복수의 도포공정이 필요하게 되어, 제조 비용이 높아진다는 문제가 있다.
일본 공개특허공보 S59-133501호 일본 공개특허공보 2005-161111 일본 공개특허공보 2002-167576호 일본 공개특허공보 2003-075603호.
본 발명은 상기의 제반 문제를 감안하여 이루어진 것으로, (1) 투명 기재의 표면에 투명성이 뛰어나며, 또한 간섭 얼룩이 없고, 추가로 투명 기재와의 굴절율 차이가 0.03 이하인 막을 형성할 수 있는 조성물, (2) 투명 기재의 표면에 상기 조성물을 막형성시켜 수득되는 투명막이 적층되어 있고, 상기 막형성시켜 수득된 투명막의 굴절율과 투명 기재의 굴절율 차이가 0.03 이하이고, 투명성이 뛰어나며, 또한 간섭 얼룩이 없는 적층 투명막을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기의 제반 목적을 달성하기 위해서 예의 검토한 결과, 굴절율이 1.80 이상 3.00 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(A 성분), 굴절율이 1.55 이상 1.80 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(B 성분), 및 굴절율이 B 성분의 굴절율보다도 작은 바인더를 함유하는 조성물을 사용하는 것에 의해, 목적으로 하는 효과가 수득되는 것을 발견해 내고, 본 발명을 완성하였다.
즉, 본 발명의 투명막 형성용 조성물은 굴절율이 1.80 이상 3.00 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(A 성분), 굴절율이 1.55 이상 1.80 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(B 성분), 및 굴절율이 B 성분의 굴절율보다도 작은 바인더를 함유하는 것을 특징으로 한다.
또, 본 발명의 투명막 형성용 조성물은 굴절율이 1.80 이상 3.00 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(A 성분), 굴절율이 1.55 이상 1.80 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(B 성분), 굴절율이 B 성분의 굴절율보다도 작은 바인더 및 분산 안정제를 함유하는 것을 특징으로 한다.
또, 본 발명의 적층 투명막은 투명 기재의 표면에 상기의 투명막 형성용 조성물을 막형성시켜서 수득되는 투명막이 적층되어 있고, 그 막형성시켜서 수득된 투명막의 굴절율과 그 투명 기재의 굴절율의 차이가 0.03 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물을 사용해서 막 형성시킴으로써, 1층의 형성으로 투명성이 높고, 간섭 얼룩의 없는 적층 투명막을 형성할 수 있어, 종래방법에 비해서, 도포공정이 적기 때문에, 저 비용으로 제조하는 것이 가능하다.
이하에, 본 발명의 실시형태를 구체적으로 설명한다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물은 굴절율이 1.80 이상 3.00 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(A 성분), 굴절율이 1.55 이상 1.80 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(B 성분) 및 굴절율이 B 성분의 굴절율보다도 작은 바인더를 함유하고 있고, 바람직하게는 분산 안정제를 추가로 함유하고 있으며, 임의 성분으로서 분산매를 함유하고 있다.
본 발명에서 사용하는 A 성분 및 B 성분인 무기 미립자의 형상에 대해서는 특별하게 한정되지 않지만, 구형인 것이 바람직하다. 또, A 성분 및 B 성분의 크기에 대해서는, 각각 1차 입자경으로 통상, 1∼100㎚, 바람직하게는 5∼40㎚의 것을 사용할 수 있다. A 성분 및 B 성분의 입자경은 동등한 것이 바람직하다. 또, 1차 입자경은 BET법으로 계산할 수 있다.
A 성분은 형성되는 투명막의 굴절율을 높게 하기 위해서 첨가하는 것으로, A 성분으로서 굴절율이 1.80 이상 3.00 미만의 무기 미립자를 사용한다. 또, 개개의 재료의 굴절율은 재료에 고유한 값이고, 여러 문헌에 기재되어 있다. A 성분으로서 1종류만을 사용할 수도, 2종류 이상을 병용할 수도 있다. A 성분으로서 굴절율이 3.00 이상의 무기 미립자를 사용하였을 경우에는, 형성되는 막의 투명성이 저하되는 경향이 있어서 바람직하지 않다. 또, A 성분으로서 굴절율이 1.80 미만의 무기 미립자를 사용하였을 경우에는 형성되는 막의 굴절율을 소망하는 높은 값으로 할 수 없으므로 바람직하지 않다. A 성분의 종류에 대해서는 목적을 달성할 수 있는 것이라면 특별하게 한정되지 않고, 시판품 등의 공지의 무기 미립자를 사용할 수 있다. 예를 들면 산화지르코늄(굴절율 2.2), 산화티타늄(굴절율 2.76), 산화세륨(굴절율 2.2) 등을 사용할 수 있다. 또, 대전방지성 부여의 목적으로 도전성 미립자를 사용할 수도 있다. 예를 들면, 안티몬 도핑된 산화주석(ATO)(굴절율 2.0), 주석 도핑된 산화인듐(ITO)(굴절율 2.0), 알루미늄 도핑된 산화아연(AZO)(굴절율 2.0), 산화주석(굴절율 2.0), 산화아연(굴절율 2.0) 등을 사용할 수 있다. 또, 산화주석에 대해서는 인 등의 원소를 도핑한 것을 사용할 수도 있다. 산화아연에 대해서는 갈륨이나 알루미늄을 도핑한 것을 사용할 수도 있다.
B 성분은 형성되는 투명막 표면 및 내부에 있어서의 굴절율의 분포차이를 완화시키기 위해서 첨가하는 것으로, B 성분으로 굴절율이 1.55 이상 1.80 미만의 무기 미립자를 사용한다. B 성분의 종류에 대해서는 목적을 달성할 수 있는 것이라면 특별하게 한정되지 않고, 시판품 등의 공지의 것을 사용할 수 있다. 예를 들면 산화알루미늄(굴절율 1.76), 산화마그네슘(굴절율 1.64∼1.74), 수산화알루미늄(굴절 율1.58), 탄산칼슘(굴절율 1.57∼1.60), 황산바륨(굴절율 1.65) 등을 사용할 수 있다. B 성분은 1종류만을 사용할 수도, 2종류 이상을 병용할 수도 있고, 대전방지성의 부여의 목적으로 도전성 미립자를 사용할 수도 있다.
바인더로서 굴절율이 B 성분의 굴절율보다도 작고, 바람직하게는 1.55 미만이고, 사용하는 분산매에 용해할 수 있고, 무기 미립자를 분산시킬 수 있고, 막형성할 수 있는 것이라면, 일반적으로 도료에서 사용되고 있는 임의의 바인더를 특별하게 제한없이 사용할 수 있다.
본 발명에서는, A 성분과 B 성분의 굴절율의 차이는 바람직하게는 0.05 이상이고, 더 바람직하게는 0.15 이상이며, 또 B 성분과 바인더의 굴절율의 차이는 바람직하게는 0.03 이상이고, 더 바람직하게는 0.06 이상이다.
본 발명에 있어서는 바인더로서, 예를 들면 알키드 수지, 폴리에스테르 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 페놀수지, 비닐 수지, 실리콘 수지, 불소 수지, 프탈산 수지, 아미노 수지, 폴리아미드 수지, 폴리아크릴실리콘 수지, 멜라민 수지, 요소 수지, 또는 이것들을 변성한 바인더 수지 등을 1종 단독으로 사용할 수도, 2종류 이상을 병용할 수도 있다.
또, 상기 바인더 중에는 필요에 따라서 가교제를 함유할 수도 있는데, 예를 들면 아미노기 등의 염기성 작용기, OH기 등의 중성 작용기, 카르복실기 등의 산성 작용기, 이소시아네이트기 등의 반응성 작용기를 1분자 중에 2개 이상 가지는 임의의 가교제를 사용할 수 있다.
또, 상기 바인더는 활성 에너지선 경화성 화합물일 수도 있으며, 그 예시로서 래디컬 중합성 모노머, 래디컬 중합성 올리고머 등을 들 수 있다. 래디컬 중합성 모노머의 구체예로서, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜폴리프로필렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜폴리테트라메틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 단관능(메타)아크릴레이트;에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 알릴디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌옥사이드 변성 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 비스페놀 S 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 S 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 2관능(메타)아크릴레이트; 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 에틸렌 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트; 스티렌, 비닐톨루엔, 아세트산비닐, N-비닐피롤리돈, 아크릴로니트릴, 알릴알코올 등의 래디컬 중합성 모노머를 들 수 있다.
래디컬 중합성 올리고머의 구체예로서, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리우레탄(메타)아크릴레이트, 에폭시(메타)아크릴레이트, 폴리에테르(메타)아크릴레이트, 올리고(메타)아크릴레이트, 알키드(메타)아크릴레이트, 폴리올(메타)아크릴레이트, 실리콘(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴로일기를 적어도 1개 가지는 프레폴리머를 들 수 있다. 특히 바람직한 래디컬 중합성 올리고머는 폴리에스테르, 에폭시, 폴리우레탄의 각 (메타)아크릴레이트이다. 본 발명에 있어서는 활성 에너지선 경화성 화합물을 일종 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 바인더로서 활성 에너지선 경화성 화합물을 사용하는 경우에는, 광 중합 개시제(광증감제)를 첨가하는 것에 의해, 소량의 활성 에너지선의 조사로 투명막 형성용 조성물을 경화시킬 수 있다.
광 중합 개시제(광증감제)로서, 예를 들면 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 벤조페논, 벤질디메틸케톤, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, p-클로로벤조페논, 4-벤조일-4-메틸디페닐설파이드, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노 페닐)-부타논-1, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1을 들 수 있다. 광 중합 개시제는 1종 단독으로 사용할 수도, 2종 이상을 병용할 수도 있다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물에 있어서는, 투명막 형성용 조성물 중의 무기 미립자의 분산 안정성 및 보존 안정성을 더욱 향상시킬 목적으로, 분산 안정제를 첨가하는 것이 바람직하다. 본 발명에서 사용 할 수 있는 분산 안정제로서, 킬레이트제 및 금속 착체를 들 수 있다. 킬레이트제 또는 금속 착체의 첨가에 의해 형성되는 막의 경도 및 내찰상성을 저하시키지 않고 무기 미립자의 분산 안정성을 높일 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 킬레이트제는 바람직하게는 분산매에 가용의 것으로, 그러한 킬레이트제로서 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민 등의 폴리아민류, 피발로일트리플루오로아세톤, 아세틸아세톤, 트리플루오로아세틸아세톤, 헥사플루오로아세틸아세톤 등의 β-디케톤류, 에틸렌디아민테트라아세트산 등의 폴리아미노카르복시산류, 시트르산 등의 옥시카르복시산류, 디메틸글리옥심 등의 옥심류, 옥신, 옥살산 등을 들 수 있다. 킬레이트제는 1종 단독으로 사용할 수도, 2종류 이상을 병용할 수도 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 금속 착체는 바람직하게는 분산매에 가용의 것으로, 그러한 금속 착체로서 지르코늄, 티타늄, 알루미늄, 아연, 인듐, 주석으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 금속과, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민 등의 폴리아민류, 피발로일트리플루오로아세톤, 아세틸아세톤, 트리플루오로아세틸아세톤, 헥사플루오로아세틸아세톤 등의 β-디케톤류, 에틸렌디아민테트라아세트산 등의 폴리아미노카르복시산류, 시트르산 등의 옥시 카르복시산류, 디메틸글리옥심 등의 옥심류, 옥신 및 옥살산으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 배위자로 이루어지는 금속 착체를 들 수 있다. 이들 금속 착체는 1종 단독으로 사용할 수도, 2종류 이상을 병용할 수도 있다. 또 1종류 이상의 킬레이트제와 1종류 이상의 금속 착체를 혼합해서 사용할 수도 있다.
한편, 본 발명의 투명막 형성용 조성물의 보존 안정성을 의해 향상시키는 목적으로, 추가로 다른 분산제를 첨가할 수 있다. 그러한 분산제는 특별하게는 한정되지 않지만, 그 예시로서, 바람직하게는 폴리옥시에틸렌알킬 구조를 가지는 인산 에스테르계 분산제를 들 수 있다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물에 있어서는 분산매를 임의의 비율로 첨가할 수 있다. 분산매로서 물, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 노멀 부탄올, 2-부탄올, 옥탄올 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논 등의 케톤류; 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 락트산에틸, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트 등의 에스테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에테르류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 이들 분산매 중에서도 무기 미립자의 분산성 및 도포 시에 있어서의 막 형성성이 특히 양호한 분산매를 사용하는 것이 더 바람직하다. 그러한 분산매로서 예를 들면 에탄올, 이소프로판올, 노멀 부탄올, 2-부탄올, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠을 들 수 있다. 본 발명에 있어서는, 분산매로서 1종 단독으로 사용할 수도, 2종 이상을 병용할 수도 있다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물에 있어서는, A 성분과 B 성분의 배합 비율은 투명막 형성용 조성물을 도포하는 투명 기재의 굴절율에 따라서 적당하게 설정할 필요가 있지만, 통상은 A 성분과 B 성분의 질량비율(A 성분/B 성분)은 바람직하게는 15/85∼95/5, 더 바람직하게는 20/80∼90/10이다. A 성분과 B 성분의 합계 질량을 기준으로 해서 B 성분의 질량비율이 5% 보다 낮은 경우에는 형성되는 막의 간섭 얼룩이 현저하게 인정되는 경향이 있다. 반대로 B 성분의 질량비율이 85% 보다 높은 경우에는 막의 굴절율을 소망하는 정도로 높게 할 수 없다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물에 있어서는 각 성분의 배합비율은 투명막 형성용 조성물을 도포하는 투명 기재의 굴절율에 따라서 적당하게 설정할 필요가 있지만, 통상은 무기 미립자(A 성분과 B 성분과의 합계)와 바인더의 고형분의 질량비율은 바람직하게는 20/80∼90/10, 더 바람직하게는 30/70∼75/25이다. A 성분과 B 성분과 바인더의 고형분의 합계질량을 기준으로 해서 바인더의 고형분의 질량비율이 10% 보다 낮은 경우에는 막의 굴절율이 높아지게 되지만 투명성이 저하되는 경향이 있고, 80% 보다 높은 경우에는 막의 굴절율을 소망하는 정도로 높게 할 수 없다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물에 있어서는, 무기 미립자(A 성분과 B 성분의 합계)과 분산 안정제의 질량비율은 바람직하게는 99.8/0.2∼66.7/33.3, 더 바람직하게는 99.0/1.0∼76.9/23.1이다. 무기 미립자와 분산 안정제의 합계질량을 기준으로 해서 분산 안정제의 질량비율이 0.2% 보다 낮은 경우에는 조성물의 보존 안정성의 개선이 불충분해지고, 33.3% 보다 높은 경우에는 분산 안정제가 용해되지 않고 침강하는 경향이 있다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물은 A 성분, B 성분 및 바인더를 임의인 순서로 또는 동시에 첨가하고, 충분히 혼합하는 것에 의해 제조할 수 있다. 분산매는 필요에 따라서 적당하게 첨가할 수 있다. 또, A 성분과 바인더로 이루어지는 조성물(A 성분 함유 조성물) 및 B 성분과 바인더로 이루어지는 조성물(B 성분 함유 조성물)을 각각 제조한 후, A 성분 함유 조성물과 B 성분 함유 조성물을 혼합해서 제조할 수도 있다. 이 경우에 있어서도 분산매는 필요에 따라서 적당하게 첨가할 수 있다. 일반적으로는, 분산매 중에 A 성분 및 B 성분을 분산시켜서 분산액을 제조하고, 그 후에 바인더를 첨가해서 투명막 형성용 조성물을 얻는다. 또, 분산조작을 실시하기 전에 예비 분산조작을 실시할 수 있다. 예비 분산조작은 분산매 중에, 디스퍼 등으로 교반하면서, A 성분 및 B 성분을 서서히 첨가하고, A 성분 및 B 성분의 덩어리가 육안으로 확인되지 않을 때까지 잘 교반하는 것으로 실시할 수 있다. 또 분산 안정제를 첨가하는 경우에는, 분산 안정제를 용해한 분산매 중에 A 성분, B 성분 및 바인더를 임의인 순서로 또는 동시에 첨가하는 것이 바람직하다.
A 성분 및 B 성분의 분산조작은 페인트 쉐이커, 볼밀, 샌드밀, 센트리밀(centri-mill) 등을 사용해서 실시할 수 있다. 분산조작 시에 글라스비드, 산화지르코늄 비드 등의 분산 비드를 사용하는 것이 바람직하다. 비드 직경은 특별하게 한정되지 않지만, 통상 0.05∼1mm 정도이고, 바람직하게는 0.08∼0.65mm 정도이다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물에 있어서는, A 성분 및 B 성분인 무기 미립자의 평균 입자경은 바람직하게는 120㎚ 이하이고, 더 바람직하게는 80㎚ 이하이다. 평균 입자경이 120㎚을 넘을 경우에는, 형성되는 막의 헤이즈(JIS K 7105)가 높아지게 되는 경향이 있다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물은 보호막 형성용 조성물, 반사 방지막 형성용 조성물, 접착제, 실링재, 바인더재 등에 포함시켜서 사용할 수 있고, 특히 반사 방지막을 형성하는 조성물에 적합하게 사용할 수 있다.
또, 본 발명의 투명막 형성용 조성물은 그 목적을 손상하지 않는 범위 내에서, 상기 이외의 관용의 각종 첨가제를 함유할 수도 있다. 그러한 첨가제로서 중합금지제, 경화촉매, 산화방지제, 레벨링제, 커플링제 등을 들 수 있다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물은 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 트리아세틸셀룰로오스 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, ABS수지, 노보넨계 수지, 유리 등으로 이루어지는 각종 투명 기재에 도포 또는 인쇄하고, 경화시켜서 막을 형성할 수 있고, 예를 들면 플라스틱 광학부품, 터치패널, 필름형 액정소자, 플라스틱 광학부품 등의 반사 방지막을 형성하는 조성물로서 적합하게 사용할 수 있다.
본 발명의 적층 투명막은 상기의 투명 기재의 표면에 상기의 투명막 형성용 조성물을 막형성시켜서 수득되는 투명막이 적층된 것이지만, 그 막형성시켜서 수득되는 투명막의 굴절율과 그 투명 기재의 굴절율의 차이가 바람직하게는 0.03 이하가 되고, 더 바람직하게는 0.02 이하가 되도록 투명 기재 및 투명막 형성용 조성물을 선택한다. 그 막형성시켜서 수득되는 투명막의 굴절율과 그 투명 기재의 굴절율의 차이가 0.03 보다도 큰 경우에는 간섭 얼룩이 현저하게 발생하는 경향이 있다.
투명 기재에로의 투명막 형성용 조성물의 도포 또는 인쇄는 통상의 방법에 따라서, 예를 들면 바코팅, 그라비어 코팅, 롤 코팅, 스핀코팅, 스크린인쇄, 잉크젯법, 에어스프레이, 에어리스 스프레이, 정전도장 등의 수법에 따라서 실시할 수 있다.
바인더로서 열경화성 수지를 함유하는 경우에는 베이킹 등의 방법에 의해 막을 형성할 수 있다. 베이킹 시의 온도는 투명 기재의 유리전이온도보다 낮은 것이 바람직하다.
바인더로서 활성 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 경우에는, 필요에 따라서 가열해서 분산매를 증발시키고, 도막을 건조시키고, 이어서, 활성 에너지선(자외선 또는 전자선)을 조사한다. 활성 에너지선으로서는, 저압 수은등, 고압 수은등, 메탈핼라이드램프, 크세논램프, 엑시머 레이저, 색소 레이저 등의 자외선원, 및 전자선 가속장치를 사용할 수 있다. 활성 에너지선의 조사량은 자외선인 경우에는 50∼3000mJ/㎠, 전자선인 경우에는 0.2∼1000μC/㎠의 범위 내가 적당하다. 이 활성 에너지선의 조사에 의해, 상기 활성 에너지선 경화성 화합물이 중합하여, A 성분 및 B 성분이 바인더로 결합된 막이 형성된다.
본 발명의 투명막 형성용 조성물을 경화시켜서 수득되는 투명막의 막두께는 바람직하게는 0.1∼10.0㎛의 범위 내이고, 더 바람직하게는 0.3∼5.0㎛의 범위 내이다. 본 발명의 투명막 형성용 조성물을 경화시켜서 수득되는 투명막에 있어서는 A 성분, B 성분 및 바인더가 막내에서 균일하게 분산하고 있어서, 간섭 얼룩이 없고, 투명성이 높고, 헤이즈가 낮다. 그 투명막의 굴절율과 투명 기재의 굴절율의 차이가 바람직하게는 0.03 이하이고, 더 바람직하게는 0.02 이하이다. 또 광투과율이 바람직하게는 80% 이상, 더 바람직하게는 85% 이상이고, 헤이즈가 바람직하게는 1.5% 이하이고, 더 바람직하게는 1.0% 이하이다.
실시예
이하에, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명한다. 또, 실시예 및 비교예에 있어서 「부」는 모두 「질량부」이다.
실시예 및 비교예에서 사용한 여러 가지 성분은 아래와 같다.
<A 성분>
산화지르코늄(ZrO2)(굴절율 2.2, 1차 입자경 20㎚)
산화티타늄(TiO2)(굴절율 2.76, 1차 입자경 20㎚)
ATO(굴절율 2.0, 1차 입자경 30㎚)
산화아연(ZnO)(굴절율 2.03, 1차 입자경 30㎚)
<B 성분>
산화알루미늄(Al2O3)(굴절율 1.76, 1차 입자경 20㎚)
산화마그네슘(MgO)(굴절율 1.72, 1차 입자경 30㎚)
수산화알루미늄(Al(OH)3)(굴절율 1.58, 1차 입자경 30㎚)
<바인더>
일본합성화학(주) 제품, 자광 UV-7600B(굴절율 1.52)
<광 중합 개시제>
치바 스페셜리티 케미컬스(주) 제품, IRGACURE 184
<분산매>
빅케미저팬(주) 제품, BYK-142(NV.60% 이상)
<분산 안정제>
아세틸아세톤(C5H7O2)
에틸렌디아민(C2H8N2)
트리에틸렌테트라민(C6H18N4)
피발로일트리플루오로아세톤
지르코늄아세틸아세토네이트([Zr(C5H7O2)4])
티타늄아세틸아세토네이트([Ti(C5H7O2)4])
알루미늄아세틸아세토네이트([Al(C5H7O2)3])
아연아세틸아세토네이트([Zn(C5H7O2)2])
디부틸-주석 비스아세틸아세토네이트([(C4H9)2Sn(C5H7O2)2])
실시예 1
100부의 산화티타늄, 116.5부의 산화마그네슘, 116.5부의 수산화알루미늄, 33.3부의 BYK-142, 500부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 143부의 UV-7600B, 7.2부의 IRGACURE 184 및 700부의 2-부탄올을 첨가해서 광경화성 조성물을 얻었다. 롤 코터를 사용해서 이 광경화성 조성물을 막두께 75㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(광투과율 91%, 헤이즈 0.5%, 굴절율 1.65) 상에 도포하고, 유기 분산매를 증발시킨 후, 공기분위기 하에서 고압 수은등을 사용해서 300mJ/㎠의 광을 조사하고, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
실시예 2
50부의 산화지르코늄, 50부의 ATO, 25부의 산화알루미늄, 12.5부의 BYK-142, 300부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 59부의 UV-7600B, 3부의 IRGACURE 184 및 150부의 2-부탄올을 첨가하여 광경화성 조성물을 얻었다. 그 후에 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
실시예 3
50부의 산화티타늄, 50부의 산화지르코늄, 43부의 산화알루미늄, 14.3부의 BYK-142, 400부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 67부의 UV-7600B, 3.4부의 IRGACURE184 및 120부의 2-부탄올을 첨가하여 광경화성 조성물을 얻었다. 롤 코터를 사용해서 이 광경화성 조성물을 막두께 75㎛의 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 필름(광투과 87%, 헤이즈 0.4%, 굴절율 1.76) 상에 도포하고, 유기 분산매를 증발시킨 후, 공기분위기 하에서 고압 수은등을 사용해서 300mJ/㎠의 광을 조사하고, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
실시예 4
100부의 산화아연, 400부의 산화알루미늄, 50.0부의 BYK-142, 1200부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 377부의 UV-7600B, 19부의 IRGACURE 184 및 960부의 2-부탄올을 첨가해서 광경화성 조성물을 얻었다. 롤 코터를 사용해서 이 광경화성 조성물을 막두께 75㎛의 폴리카보네이트(PC) 필름(광투과율 88%, 헤이즈 0.6%, 굴절율 1.59) 상에 도포하고, 유기 분산매를 증발시킨 후, 공기분위기 하에서 고압 수은등을 사용해서 300mJ/㎠의 광을 조사하고, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
실시예 5
100부의 산화지르코늄, 43부의 산화알루미늄, 14.3부의 BYK-142, 400부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 61부의 UV-7600B, 3.2부의 IRGACURE 184 및 80부의 2-부탄올을 첨가해서 광경화성 조성물을 얻었다. 그 후에 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
실시예 6
50부의 산화티타늄, 50부의 산화지르코늄, 43부의 산화알루미늄, 14.3부의 BYK-142, 16부의 아세틸아세톤, 400부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 67부의 UV-7600B, 3.4부의 IRGACURE 184 및 120부의 2-부탄올을 첨가해서 광경화성 조성물을 얻었다. 롤 코터를 사용해서 이 광경화성 조성물을 막두께 75㎛의 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN) 필름(광투과율 87%, 헤이즈 0.4%, 굴절율 1.76) 상에 도포하고, 유기 분산매를 증발시킨 후, 공기분위기 하에서 고압 수은등을 사용해서 300mJ/㎠의 광을 조사하고, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
실시예 7
16부의 아세틸아세톤의 대신에 61부의 알루미늄아세틸아세토네이트를 첨가한 이외는 실시예 6과 동일한 방법으로 광경화성 조성물을 얻었다. 그 후에 실시예 6과 동일한 방법에 의해, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
실시예 8
16부의 아세틸아세톤의 대신에 61부의 티타늄아세틸아세토네이트를 첨가한 이외는 실시예 6과 동일한 방법으로 광경화성 조성물을 얻었다. 그 후에 실시예 6과 동일한 방법에 의해, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
실시예 9
50부의 산화지르코늄, 50부의 ATO, 25부의 산화알루미늄, 12.5부의 BYK-142, 7부의 에틸렌디아민, 7부의 디부틸-주석 비스아세틸아세토네이트, 300부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 59부의 UV-7600B, 3부의 IRGACURE 184 및 150부의 2-부탄올을 첨가해서 광경화성 조성물을 얻었다. 그 후에 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
실시예 10
100부의 산화지르코늄, 43부의 산화알루미늄, 14.3부의 BYK-142, 16부의 트리에틸렌테트라민, 400부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 61부의 UV-7600B, 3.2부의 IRGACURE 184 및 80부의 2-부탄올을 첨가해서 광경화성 조성물을 얻었다. 그 후에 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
실시예 11
16부의 트리에틸렌테트라민의 대신에 16부의 지르코늄아세틸아세토네이트를 첨가한 이외는 실시예 10 과 동일하게 하여 광경화성 조성물을 얻었다. 그 후에 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
실시예 12
100부의 산화아연, 400부의 산화알루미늄, 50.0부의 BYK-142, 65부의 피발로일트리플루오로아세톤, 60부의 아연아세틸아세토네이트, 1200부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 377부의 UV-7600B, 19부의 IRGACURE 184 및 960부의 2-부탄올을 첨가해서 광경화성 조성물을 얻었다. 롤 코터를 사용해서 이 광경화성 조성물을 막두께 75㎛의 폴리카보네이트(PC) 필름(광투과율 88%, 헤이즈 0.6%, 굴절율 1.59) 상에 도포하고, 유기 분산매를 증발시킨 후, 공기분위기 하에서 고압 수은등을 사용해서 300mJ/㎠의 광을 조사하고, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
비교예 1
100부의 산화지르코늄, 14.3부의 BYK-142, 500부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 89부의 UV-7600B, 4.3부의 IRGACURE 184 및 130부의 2-부탄올을 첨가해서 광경화성 조성물을 얻었다. 그 후에 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
비교예 2
100부의 산화알루미늄, 14.3부의 BYK-142, 500부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 18부의 UV-7600B, 4.3부의 IRGACURE 184 및 130부의 2-부탄올을 첨가해서 광경화성 조성물을 얻었다. 그 후에 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 두께3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
비교예 3
100부의 산화지르코늄, 43부의 산화알루미늄, 14.3부의 BYK-142, 400부의 2-부탄올 및 800부의 글라스비드가 되는 양으로 전체 성분을 용기에 넣고, 페인트쉐이커로 7시간 니딩하였다. 니딩 후에 글라스비드를 제거하여 분산액을 얻었다. 이 분산액에 53부의 UV-7600B, 2.7부의 IRGACURE 184 및 80부의 2-부탄올을 첨가해서 광경화성 조성물을 얻었다. 그 후에 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 두께 3㎛의 막을 가지는 적층 투명막을 제작하였다.
<평가방법>
(1) 막형성 조성물의 평균 입자경(메디안 직경)
측정기기: 니키소(주) 제품, Microtrac입도분포계
측정조건: 온도 20℃
시료: 샘플을 분산매로 NV.5%로 희석한 후에 측정
데이터 해석조건: 입자경 기준 체적기준
분산매: 2-부탄올 굴절율: 1.40
(2) 투명막의 굴절율
실시예 1∼12 및 비교예 1∼3에서 막형성된 투명막(투명 기재를 포함하지 않음)에 대해서, (주)아타고의 앗베 굴절계 DR-M4(20℃)로 측정하였다.
(3) 적층 투명막의 투과율, 헤이즈
실시예 1∼12 및 비교예 1∼3에서 얻은 적층 투명막에 대해서, 투과율 및 헤이즈를 도쿄덴쇼쿠기술센터 제품 TC-HIII DPK로 측정하였다. 측정값은 투명 기재를 포함한 적층 투명막의 측정값이다.
(4) 적층 투명막의 간섭 얼룩
실시예 1∼12 및 비교예 1∼3에서 얻은 적층 투명막에 대해서, 삼파장 형 형광등불 아래에서 목시 관찰을 하고, 하기의 기준으로 평가하였다.
○: 간섭 얼룩 없음
△: 간섭 얼룩이 미량에 있지만, 실용 가능
×: 간섭 얼룩이 현저하게 발생
-: 헤이즈가 높기 때문에, 평가할 수 없음
상기의 각각의 측정의 결과, 평가 결과를 각각의 조성물의 조성과 함께 표 1 및 표 2에 나타낸다.
Figure pct00001
Figure pct00002
표 1 및 표 2에 나타내는 데이터로부터 분명하게 나타나 있는 바와 같이, A 성분 및 B 성분을 함유하고, 또 막형성된 투명막의 굴절율과 투명 기재의 굴절율의 차이가 0.02 이하인 경우(실시예 1∼4, 6, 7, 8, 12)에는 간섭 얼룩이 없고, 투과율이 86% 이상, 헤이즈 1.1% 이하의 막이 수득되었다. 막형성된 투명막의 굴절율과 투명 기재의 굴절율의 차이가 0.03인 경우(실시예 5, 9, 10, 11)에는 간섭 얼룩이 미량에 발생하였만, 실용화할 때에 문제는 없었다. 또 분산 안정제를 사용하였을 경우(실시예 6∼12)에는, 막형성 조성물의 입자경이 1년간 안정된 값을 나타내어, 미첨가인 경우와 비교해서 보존 안정성이 향상하였다. B 성분을 첨가하지 않았을 경우 (비교예 1)에는 간섭 얼룩이 발생하였다. A 성분을 함유하지 않을 경우 (비교예 2)에는 막형성된 투명막의 굴절율과 투명 기재의 굴절율의 차이를 0.03 이하로 할 수 있는 투명막을 얻을 수 없었다. 또, 막형성된 투명막의 굴절율과 투명 기재의 굴절율의 차이가 0.03을 넘었을 경우 (비교예 3)에는 A 성분 및 B 성분을 함유하고 있어도 간섭 얼룩이 현저하게 발생하였다.

Claims (10)

  1. 굴절율이 1.80 이상 3.00 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(A 성분), 굴절율이 1.55 이상 1.80 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(B 성분), 및 굴절율이 B 성분의 굴절율보다도 작은 바인더를 함유하는 것을 특징으로 하는 투명막 형성용 조성물.
  2. 굴절율이 1.80 이상 3.00 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(A 성분), 굴절율이 1.55 이상 1.80 미만인 적어도 1종류의 무기 미립자(B 성분), 굴절율이 B 성분의 굴절율보다도 작은 바인더 및 분산 안정제를 함유하는 것을 특징으로 하는 투명막 형성용 조성물.
  3. 제 2 항에 있어서, 분산 안정제가 킬레이트제 및 금속 착체로 이루어지는 그룹에서 선택되는 적어도 1종류로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명막 형성용 조성물.
  4. 제 3 항에 있어서, 킬레이트제가 폴리아민류, β-디케톤류, 폴리아미노카르복시산류, 옥시카르복시산류, 옥심류, 옥신 및 옥살산으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 적어도 1종류로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명막 형성용 조성물.
  5. 제 3 항에 있어서, 금속 착체가 지르코늄, 티타늄, 알루미늄, 아연, 인듐 및 주석으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 금속과, 폴리아민류, β-디케톤류, 폴리아미노카르복시산류, 옥시카르복시산류, 옥심류, 옥신 및 옥살산으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 배위자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명막 형성용 조성물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, A 성분이 산화티타늄, 산화세륨, 산화지르코늄, 안티몬 도핑된 산화주석(ATO), 주석 도핑된 산화인듐(ITO), 알루미늄 도핑된 산화아연(AZO), 산화주석 및 산화아연 으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 적어도 1종류로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명막 형성용 조성물.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, B 성분이 산화알루미늄, 산화마그네슘, 수산화알루미늄, 탄산칼슘 및 황산바륨으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 적어도 1종류로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명막 형성용 조성물.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 바인더의 굴절율이 1.55 미만인 것을 특징으로 하는 투명막 형성용 조성물.
  9. 투명 기재의 표면에 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 투명막 형성용 조성물을 막형성시켜 수득된 투명막이 적층되어 있고, 이렇게 막형성시켜 수득된 투명막의 굴절율과 그 투명 기재의 굴절율 차이가 0.03 이하인 것을 특징으로 하는 적층 투명막.
  10. 제 9 항에 있어서, 광투과율이 80% 이상이고, 헤이즈가 1.5% 이하인 것을 특징으로 하는 적층 투명막.
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