JPS59133501A - 干渉薄膜の施こされた光学体 - Google Patents
干渉薄膜の施こされた光学体Info
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- JPS59133501A JPS59133501A JP58006662A JP666283A JPS59133501A JP S59133501 A JPS59133501 A JP S59133501A JP 58006662 A JP58006662 A JP 58006662A JP 666283 A JP666283 A JP 666283A JP S59133501 A JPS59133501 A JP S59133501A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、干渉薄膜が施こされた光学体に関するもので
ある。
ある。
例えば、光字体の反射防止膜としては単層反射防止膜や
更に単層反射防止膜の欠点を改良した多１−系の反射防
止膜が多く使われている。多階層としては、２Ｎｍ＋ａ
層、４層あるいは等価膜利用のものが設計されているが
、これら多層系の反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率
層とを組み合わせたもの、あるいは低屈折率層と中間屈
折率層と高屈折率ｊ−とを組み合わせたものが用いられ
ている。
更に単層反射防止膜の欠点を改良した多１−系の反射防
止膜が多く使われている。多階層としては、２Ｎｍ＋ａ
層、４層あるいは等価膜利用のものが設計されているが
、これら多層系の反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率
層とを組み合わせたもの、あるいは低屈折率層と中間屈
折率層と高屈折率ｊ−とを組み合わせたものが用いられ
ている。
上記した様な反射防止膜や、あるいは反射増加膜の高屈
折率をもった干渉薄膜としては、一般にＺｒＯ２，Ｔｉ
Ｏ２，Ｔａ２０６ 、 Ｃｏｏ、 、 Ｃｒ２Ｏ３尋が
知られているが、蒸着法等の被膜形成の容易さ、化学的
、物理的安定性の高さ、価格等の点からＺ ｒ Ｏ２が
最も広く使用されている。しかし、このＺ ｒｏ２薄膜
は厚み方向に屈折率の不均質さが生じやすいという欠点
を有している。このため、例えばＣａＯ、ＭｇＯ、Ｙ２
Ｏ３等を安定剤としてその少量をＺｒＯ２に混合し、均
質な屈折率の干渉薄膜を得ることが知られてお９、その
結果およそ２０の屈折率をもつ干渉薄膜を得ることがで
きる。又干渉薄膜のデザインにおいては、しばしば２．
０より大きい屈折率を持った均質膜が要求されるが、こ
の場合にはＺｒＯ□よりも大きな屈折率を持つ物質、例
えば””２１ Ｔａ２”ｓ 吟とＺｒＯ２とを混合し、
蒸看拐料とする試みもなされている。しかし、この場合
にはやはシ厚み方向の屈折率の不均質さが問題となる。
折率をもった干渉薄膜としては、一般にＺｒＯ２，Ｔｉ
Ｏ２，Ｔａ２０６ 、 Ｃｏｏ、 、 Ｃｒ２Ｏ３尋が
知られているが、蒸着法等の被膜形成の容易さ、化学的
、物理的安定性の高さ、価格等の点からＺ ｒ Ｏ２が
最も広く使用されている。しかし、このＺ ｒｏ２薄膜
は厚み方向に屈折率の不均質さが生じやすいという欠点
を有している。このため、例えばＣａＯ、ＭｇＯ、Ｙ２
Ｏ３等を安定剤としてその少量をＺｒＯ２に混合し、均
質な屈折率の干渉薄膜を得ることが知られてお９、その
結果およそ２０の屈折率をもつ干渉薄膜を得ることがで
きる。又干渉薄膜のデザインにおいては、しばしば２．
０より大きい屈折率を持った均質膜が要求されるが、こ
の場合にはＺｒＯ□よりも大きな屈折率を持つ物質、例
えば””２１ Ｔａ２”ｓ 吟とＺｒＯ２とを混合し、
蒸看拐料とする試みもなされている。しかし、この場合
にはやはシ厚み方向の屈折率の不均質さが問題となる。
均質膜構成を基本とする通常の単層葦たは多層干渉膜で
は膜方向に不均質が発生すると所期の反射％性や透過特
性が得られないという欠点があり、従来では高屈折率を
持つ均質な干渉薄膜は上述したＣａＯ、ＭｇＯ＋Ｙ２０
Ｂ等で安定化したＺ ｒＯ２以外にはほとんど知られて
いないのが実状であり、かかる安定化したＺｒ Ｏ２に
おいても１．９〜２３程度の広い高屈折率の範囲におい
て均質な干渉薄膜を得ることは困難であった。
は膜方向に不均質が発生すると所期の反射％性や透過特
性が得られないという欠点があり、従来では高屈折率を
持つ均質な干渉薄膜は上述したＣａＯ、ＭｇＯ＋Ｙ２０
Ｂ等で安定化したＺ ｒＯ２以外にはほとんど知られて
いないのが実状であり、かかる安定化したＺｒ Ｏ２に
おいても１．９〜２３程度の広い高屈折率の範囲におい
て均質な干渉薄膜を得ることは困難であった。
本発明は、１．９〜２．３糧度の尚屈折率を持ちしかも
不均質度の小さな干渉薄膜でおって、上Ｍ己した様な欠
点等のない干渉薄膜全提供することを目的としてイυを
究の結果発明されたものであって、その猥旨は単ノー又
は複数層よりなる干渉薄膜が施こされた光学体において
、前記の単層又は複数ｊ−の少なくとも一層が少くも酸
化ジルコニウム（ＺｒＯ，）と酸化チタニウム（ＴｉＯ
２）と酸化アルミニウム（ＡｌｚＯａ ）の３成分を含
む高屈折率層であることを特徴とする干渉薄膜の施こさ
れた光学体に関するものである。
不均質度の小さな干渉薄膜でおって、上Ｍ己した様な欠
点等のない干渉薄膜全提供することを目的としてイυを
究の結果発明されたものであって、その猥旨は単ノー又
は複数層よりなる干渉薄膜が施こされた光学体において
、前記の単層又は複数ｊ−の少なくとも一層が少くも酸
化ジルコニウム（ＺｒＯ，）と酸化チタニウム（ＴｉＯ
２）と酸化アルミニウム（ＡｌｚＯａ ）の３成分を含
む高屈折率層であることを特徴とする干渉薄膜の施こさ
れた光学体に関するものである。
本発明における上記した酸化ジルコニウムと酸化チタニ
ウムと酸化アルミニウムとの３成分を含む高屈折率層の
各成分の割合は、膜厚方向にほぼ均質な１．９〜２．３
相度の屈折率と高い機械的強度が得られる様に第３図に
示した斜脚領域Ｐ内（境界線上を含む）にあることが好
ましい。即ち、この高屈折率層は第３図に示す様に正三
角形に交わる三軸にそれぞれ酸化ジルコニウム、アルミ
ナおよび酸化チタニウムの１ｍ俤を表示した三角座標図
において点Ａ、Ｆ（各点の組成は下表の通り）で囲まれ
る範囲内の組成比を有する酸化ジルコニウム、酸化チタ
ニウム及び酸化アル１ニウムの３成分を少くとも含むも
のであるものが好ましい。
ウムと酸化アルミニウムとの３成分を含む高屈折率層の
各成分の割合は、膜厚方向にほぼ均質な１．９〜２．３
相度の屈折率と高い機械的強度が得られる様に第３図に
示した斜脚領域Ｐ内（境界線上を含む）にあることが好
ましい。即ち、この高屈折率層は第３図に示す様に正三
角形に交わる三軸にそれぞれ酸化ジルコニウム、アルミ
ナおよび酸化チタニウムの１ｍ俤を表示した三角座標図
において点Ａ、Ｆ（各点の組成は下表の通り）で囲まれ
る範囲内の組成比を有する酸化ジルコニウム、酸化チタ
ニウム及び酸化アル１ニウムの３成分を少くとも含むも
のであるものが好ましい。
（５） 。
この範囲はおおよそ次の様な理山により定められたもの
である。即ち、上記３成分を含む尚屈折率層の酸化ジル
コニウムの含有割合が上記した割合よシ少なすぎると、
蒸着時の安定性が損なわれて好゛ましくなく、又上記割
合より多すぎると不均質度が大きくなし好ましくない。
である。即ち、上記３成分を含む尚屈折率層の酸化ジル
コニウムの含有割合が上記した割合よシ少なすぎると、
蒸着時の安定性が損なわれて好゛ましくなく、又上記割
合より多すぎると不均質度が大きくなし好ましくない。
又酸化チタニウムの含有割合が上記割合より少なすぎる
と高屈折率を持った膜が得られずにメリットを失なうこ
とになシ好１しくなく、又上記割合より多すき゛ると吸
収が出てしまい好ましく（６） ない。又酸化アルミニウムの含有割合が少なすぎると不
均質度が大きくなり好まし２くなく、又多ずぎると高屈
折率が得られず好ましくない。
と高屈折率を持った膜が得られずにメリットを失なうこ
とになシ好１しくなく、又上記割合より多すき゛ると吸
収が出てしまい好ましく（６） ない。又酸化アルミニウムの含有割合が少なすぎると不
均質度が大きくなり好まし２くなく、又多ずぎると高屈
折率が得られず好ましくない。
本発明において、高屈折率層を形成するに当っては、例
えば酸化ジルコニウムと酸化チタニウムと酸化アルミニ
ウムの粉末を第３図の斜線領域Ｐの範囲内で混合し、加
熱、加圧、焼成等の処理によシ固型化して蒸着材料とし
、この蒸着材料を用いて通常の真空蒸着、スパッター、
イオンブレーティング法尋の物理蒸着を行なえばよい。
えば酸化ジルコニウムと酸化チタニウムと酸化アルミニ
ウムの粉末を第３図の斜線領域Ｐの範囲内で混合し、加
熱、加圧、焼成等の処理によシ固型化して蒸着材料とし
、この蒸着材料を用いて通常の真空蒸着、スパッター、
イオンブレーティング法尋の物理蒸着を行なえばよい。
かかる本発明の高屈折率層は、単層又は複数層よりなる
反射防止膜や反射増加膜やその他種々の干渉薄膜におい
て要求される高屈折率膜として利用することができる。
反射防止膜や反射増加膜やその他種々の干渉薄膜におい
て要求される高屈折率膜として利用することができる。
第１図に示した干渉薄膜の施こされた光学体は、ガラス
基体１面上にΔの光学膜厚を有する屈折率１．６〜１．
７程度の中間屈折率層２（ｅｘ。
基体１面上にΔの光学膜厚を有する屈折率１．６〜１．
７程度の中間屈折率層２（ｅｘ。
Ａｌ２Ｏ３，ＳｉＯ、ＣｅＦ３． ＭｇＯ）と、λ／２
の光学膜厚を有する本発明による酸化ジルコニウムと酸
化チタニウムと酸化アルミニウムとの３成分を含む屈折
率１９〜２３程度の高屈折率層３と、更にその−Ｆに１
／４λの光学膜厚を令する屈折率１．３５〜１．４７６
度の低屈折率層４（例えばＳｉｎ、 、 ＭｇＦ２．
Ｎａ５ＡＩＦ’ｓなどの低屈折率層）とを順次積層した
三層反射防止膜を有する光学体５の構成の断面図を示し
たものである。
の光学膜厚を有する本発明による酸化ジルコニウムと酸
化チタニウムと酸化アルミニウムとの３成分を含む屈折
率１９〜２３程度の高屈折率層３と、更にその−Ｆに１
／４λの光学膜厚を令する屈折率１．３５〜１．４７６
度の低屈折率層４（例えばＳｉｎ、 、 ＭｇＦ２．
Ｎａ５ＡＩＦ’ｓなどの低屈折率層）とを順次積層した
三層反射防止膜を有する光学体５の構成の断面図を示し
たものである。
又、第２図に示した干渉薄膜の施こされた光学体は、ガ
ラス基体１０面上にλ／４の光学膜厚を有する本発明に
よる酸化ジルコニウムと酸化チタニウムと酸化アルミニ
ウムとの３成分を含む屈折率１．９〜２．３の高屈折率
層１１とλ／４の光学膜厚を有する屈折率１，３５〜１
４７程度の低屈折率層１２ （ａｘ、 ＭｇＢ’２．’
５ｉｎ２． ＮａａＡＩＦｇ ）と錦の光学膜厚を有
する同上の高屈折率層１３とを順次積層した三１−反射
増加膜を有する光学体１４の構成の断面図を示したもの
である。
ラス基体１０面上にλ／４の光学膜厚を有する本発明に
よる酸化ジルコニウムと酸化チタニウムと酸化アルミニ
ウムとの３成分を含む屈折率１．９〜２．３の高屈折率
層１１とλ／４の光学膜厚を有する屈折率１，３５〜１
４７程度の低屈折率層１２ （ａｘ、 ＭｇＢ’２．’
５ｉｎ２． ＮａａＡＩＦｇ ）と錦の光学膜厚を有
する同上の高屈折率層１３とを順次積層した三１−反射
増加膜を有する光学体１４の構成の断面図を示したもの
である。
次に本発明の実施例について説明する。
実施例１
１ ｒＯ２とＴｌＯ２とＡｌ２Ｏ３の粉末をＺｒＯ２；
８１ 電量％ ＋Ｔｉｅ２ｉ ９重ｉｔチ、 Ａｘ、
ｏ、 ： １０ ！ｉｔ％の割合で、混合し加熱、加圧
、焼成し固型化し′＃：、蒸着材料を電子ビーム力ロ熱
型の真空熱溜装置を用い、ｌ Ｘ １ ｏ−一〜Ｉ Ｘ
１０−’ Ｔｏｒｒの圧力下で３００℃に加熱された
ガラス基体上に蒸着約００６５μｍの膜厚ノＺｒ０２−
Ｔｉｅ、−Ａｌ□Ｏ，の複合高ＭＡＦ′ｒ率層を形成し
、サンプル煮１を得た。このサンプル煮１の膜組成は第
３図のＸ点（ＺｒＯ，： ８１重量％。
８１ 電量％ ＋Ｔｉｅ２ｉ ９重ｉｔチ、 Ａｘ、
ｏ、 ： １０ ！ｉｔ％の割合で、混合し加熱、加圧
、焼成し固型化し′＃：、蒸着材料を電子ビーム力ロ熱
型の真空熱溜装置を用い、ｌ Ｘ １ ｏ−一〜Ｉ Ｘ
１０−’ Ｔｏｒｒの圧力下で３００℃に加熱された
ガラス基体上に蒸着約００６５μｍの膜厚ノＺｒ０２−
Ｔｉｅ、−Ａｌ□Ｏ，の複合高ＭＡＦ′ｒ率層を形成し
、サンプル煮１を得た。このサンプル煮１の膜組成は第
３図のＸ点（ＺｒＯ，： ８１重量％。
ＴｉＯ，；９重ｔ％、 Ａｌ２Ｏ３； １０重Ｉ＃Ｌ饅
）で示した通りでめシ、その屈折率は１．９９であった
。
）で示した通りでめシ、その屈折率は１．９９であった
。
実施例２
Ｚｒ０２ ？！： Ｔｉ０ｚとＡｌ２Ｏ３＋７）粉末を
ＺｒＯ２； ５５重蓋％ ｒ ＴｌＯ２’ ２” Ａｆ
％＋ Ａ１１０３ ： ２０重１：チの割合で混合し、
加熱、加圧、焼成し固型化した魚倉材料を電子ビーム加
熱型の真空蒸２イ装置を用い、Ｉ Ｘ １０−’ 〜Ｉ
Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ ノ圧力下で３００℃に加熱
されたガラス基体上に蒸噛し、約０．０６１ ｐ ｍの
膜厚のＺｒＯ，−ＴｉＯ２−Ａ１２０． 複合尚屈折
率ノーを形成し、サンプル１１ｉ２を得た。
ＺｒＯ２； ５５重蓋％ ｒ ＴｌＯ２’ ２” Ａｆ
％＋ Ａ１１０３ ： ２０重１：チの割合で混合し、
加熱、加圧、焼成し固型化した魚倉材料を電子ビーム加
熱型の真空蒸２イ装置を用い、Ｉ Ｘ １０−’ 〜Ｉ
Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ ノ圧力下で３００℃に加熱
されたガラス基体上に蒸噛し、約０．０６１ ｐ ｍの
膜厚のＺｒＯ，−ＴｉＯ２−Ａ１２０． 複合尚屈折
率ノーを形成し、サンプル１１ｉ２を得た。
このサンプル煮２の膜組成は第３図のＹ点（９）
（ＺｒＯ２； ５ ５ 重：ｊｔ％ 、 ＴｉＯ２：
２５電値Ｓ ｌ Ａｌ２Ｏ８；２００重量％で示し
た通りであり、その屈折率は２．１６であった。
２５電値Ｓ ｌ Ａｌ２Ｏ８；２００重量％で示し
た通りであり、その屈折率は２．１６であった。
実施例３
Ｚ ｒＯ２とＴｌＯ２とＡＩ、Ｏｓの粉末をＺｒＯ２：
２２重量％。
２２重量％。
Ｔｉｅ２ｉ ６０重量％、 Ａｌ、Ｏｌ： １８重量％
の割合で混合し、加熱、加圧、焼成し固型化した蒸着材
料を電子ビーム加熱型の真空蒸着装置を用いＩ Ｘ １
０−ＩＩ〜Ｉ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ の圧力下で
３００℃に加熱されたガラス基体上に蒸着し約０．０５
６μｍの膜厚のＺｒＯ，−ＴｉＯ２−ム１２０３複合高
屈折率層を形成し、サンプルＡ３を得た。このサンプル
屓３の膜組成は第３図の点Ｚ （ＺｒＯ，： ２２ ｇ
量チ、 ＴｉＯ２： ６０重量チ、 Ａｍ２０３ｉ １
８重量％）で示した通９であり、その屈折率は２．２７
であった０ 比較例Ｉ Ｚ ｒ０２の粉末を加熱、加圧、焼成し固型化した蒸着
材料を実施例１と同様な方法でガラス基体上に蒸着し、
０．０６２μｍの膜厚のＺｒＯ２層を形（１０） 成し、サンプル扁４を得た。このサンプル４の屈折率は
２．０６であった。
の割合で混合し、加熱、加圧、焼成し固型化した蒸着材
料を電子ビーム加熱型の真空蒸着装置を用いＩ Ｘ １
０−ＩＩ〜Ｉ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ の圧力下で
３００℃に加熱されたガラス基体上に蒸着し約０．０５
６μｍの膜厚のＺｒＯ，−ＴｉＯ２−ム１２０３複合高
屈折率層を形成し、サンプルＡ３を得た。このサンプル
屓３の膜組成は第３図の点Ｚ （ＺｒＯ，： ２２ ｇ
量チ、 ＴｉＯ２： ６０重量チ、 Ａｍ２０３ｉ １
８重量％）で示した通９であり、その屈折率は２．２７
であった０ 比較例Ｉ Ｚ ｒ０２の粉末を加熱、加圧、焼成し固型化した蒸着
材料を実施例１と同様な方法でガラス基体上に蒸着し、
０．０６２μｍの膜厚のＺｒＯ２層を形（１０） 成し、サンプル扁４を得た。このサンプル４の屈折率は
２．０６であった。
実施例１〜３により得られたサンプル屋１〜４４につき
機械的強度を１４べるため消しゴム試験（消しゴム（Ｒ
ａｂｂｉｔ Ｇｏ、 Ｌｔａ製ｗｈｉ ｔθＡｌ０ＩＯ
）に１匁の荷重をかけ、毎秒１往復、約４儀のストロー
クで２０往復こする。）を実施したところ、目視観察で
傷は認められず、十分実用に耐える強度を有することが
認められた。又、本発明によれば１．９〜２．３の範囲
にわたる屈折率が自由に選べることが分った。
機械的強度を１４べるため消しゴム試験（消しゴム（Ｒ
ａｂｂｉｔ Ｇｏ、 Ｌｔａ製ｗｈｉ ｔθＡｌ０ＩＯ
）に１匁の荷重をかけ、毎秒１往復、約４儀のストロー
クで２０往復こする。）を実施したところ、目視観察で
傷は認められず、十分実用に耐える強度を有することが
認められた。又、本発明によれば１．９〜２．３の範囲
にわたる屈折率が自由に選べることが分った。
実施例４
第１図に示す構成の反射防止膜において、中間屈折率層
２、高屈折率層３及び低屈折率層４をそれぞれ表２に示
す物質で形成させｆｃ、場合の波長と反射率との関係を
第４〜６図に示す。
２、高屈折率層３及び低屈折率層４をそれぞれ表２に示
す物質で形成させｆｃ、場合の波長と反射率との関係を
第４〜６図に示す。
（１１）
（１２）
第３図において、Ｃは比較例でＺｒＯ２高屈折率層とし
て使用した場合である。このとき設計波長付近の極大反
射率が約０．３２％であるのに対し、本発明のＺｒＯ，
−ＴｉＯ２−ム１！０１からなる高屈折率層を使用した
ム、Ｂではそれぞれへ１８％。
て使用した場合である。このとき設計波長付近の極大反
射率が約０．３２％であるのに対し、本発明のＺｒＯ，
−ＴｉＯ２−ム１！０１からなる高屈折率層を使用した
ム、Ｂではそれぞれへ１８％。
０、１４ ％であシ、本発明を利用した反射防止膜は比
較例に比べ反射率の低下が認められ、又ムでは本発明に
よる高屈折率層の屈折率がＺｒＯ３よりも小さいため、
低反射波長域も比較例に比べ広くなっていることが認め
られ、よシ好ましい反射防止効果が得られることがわか
る。
較例に比べ反射率の低下が認められ、又ムでは本発明に
よる高屈折率層の屈折率がＺｒＯ３よりも小さいため、
低反射波長域も比較例に比べ広くなっていることが認め
られ、よシ好ましい反射防止効果が得られることがわか
る。
以上述べたように本発明のＺｒＯ，−Ｔｉ０２−ムｌ！
Ｏｓからなる高屈折率層は、ＺｒＯ２とＴ１０１とＡｌ
、 Ｏ，の混合成型体を蒸着材料として各種蒸着法、ス
パッター法等によｐ形成する場合１．９〜λ３の屈折率
の範囲内において屈折率の均一性１機械的強度の優れた
希望値の蒸着高屈折率層を再現性よく実現することがで
きる。従って、かかる高屈折率層を用いれば、従来と比
較して高性能の多層系の反射防止膜２反射増加膜、その
他各種の（１３） 干渉薄膜を有する光学体を得ることができる。
Ｏｓからなる高屈折率層は、ＺｒＯ２とＴ１０１とＡｌ
、 Ｏ，の混合成型体を蒸着材料として各種蒸着法、ス
パッター法等によｐ形成する場合１．９〜λ３の屈折率
の範囲内において屈折率の均一性１機械的強度の優れた
希望値の蒸着高屈折率層を再現性よく実現することがで
きる。従って、かかる高屈折率層を用いれば、従来と比
較して高性能の多層系の反射防止膜２反射増加膜、その
他各種の（１３） 干渉薄膜を有する光学体を得ることができる。
第１図は、ガラス基体上に設けられた三層反射防止膜の
構成を示す断面図であり、第２図はガラス基体上に設け
られた三層反射増加膜の構成を示す断面図であり、第３
図は本発明の高屈折率層の酸化ジルコニウム、酸化チタ
ニウム。 及び酸化アルミニウムの組成割合を示す三角座標図であ
り、第４図は表２中の反射防止膜Ａの波長と反射率との
関係を示す光学特性図、第５図は表２中の反射防止膜Ｂ
の同上の光学特性図。 第６図は光２中の反射防止膜Ｃの同上の光学特性図であ
る。 回申Ｐは本発明における膜の組成割合の範囲を示す。 又、１．１０はガラス基体、２は中間屈折率層。 ３．１１．１３は高屈折率層、４．１２は低屈折率層。 ５．１４は光学体を示す。 （１４）
構成を示す断面図であり、第２図はガラス基体上に設け
られた三層反射増加膜の構成を示す断面図であり、第３
図は本発明の高屈折率層の酸化ジルコニウム、酸化チタ
ニウム。 及び酸化アルミニウムの組成割合を示す三角座標図であ
り、第４図は表２中の反射防止膜Ａの波長と反射率との
関係を示す光学特性図、第５図は表２中の反射防止膜Ｂ
の同上の光学特性図。 第６図は光２中の反射防止膜Ｃの同上の光学特性図であ
る。 回申Ｐは本発明における膜の組成割合の範囲を示す。 又、１．１０はガラス基体、２は中間屈折率層。 ３．１１．１３は高屈折率層、４．１２は低屈折率層。 ５．１４は光学体を示す。 （１４）
Claims (2)
- （１）単層又は複数層よｐなる干渉薄膜が施こされた光
学体において、前記の単層又は複数層の少なくとも一層
が少くとも酸化ジルコニウムと酸化チタニウムと酸化ア
ルミニウムの３成分を含む高屈折率層であることを％徴
とする干渉薄膜の施こされた光学体。 - （２）単層又は複数層の少なくとも一層が、添付第３図
に示す様に正三角形に交わる三軸にそれぞれ酸化ジルコ
ニウム、酸化アルミニウムおよび酸化チタニウムの重量
饅を表示した三角座標図において、点Ａ、’？（各点の
組成は１表の通υ）で囲まれる範囲内の組成比を有する
酸化ジルコニウム、酸化チタニウム及び酸化アルミニウ
ムの３成分を含む高屈折率層であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の干渉薄膜の施こされた光学体
。 表 １
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58006662A JPS59133501A (ja) | 1983-01-20 | 1983-01-20 | 干渉薄膜の施こされた光学体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58006662A JPS59133501A (ja) | 1983-01-20 | 1983-01-20 | 干渉薄膜の施こされた光学体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59133501A true JPS59133501A (ja) | 1984-07-31 |
Family
ID=11644588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58006662A Pending JPS59133501A (ja) | 1983-01-20 | 1983-01-20 | 干渉薄膜の施こされた光学体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59133501A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009131104A1 (ja) | 2008-04-21 | 2009-10-29 | 大日本塗料株式会社 | 透明膜形成用組成物及び積層透明膜 |
| CN102187254A (zh) * | 2008-10-23 | 2011-09-14 | 通用电气公司 | 用于节能灯的高折射率材料 |
-
1983
- 1983-01-20 JP JP58006662A patent/JPS59133501A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009131104A1 (ja) | 2008-04-21 | 2009-10-29 | 大日本塗料株式会社 | 透明膜形成用組成物及び積層透明膜 |
| CN102187254A (zh) * | 2008-10-23 | 2011-09-14 | 通用电气公司 | 用于节能灯的高折射率材料 |
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