CN207969158U - 一种渐变色片材及电子产品壳体 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种渐变色片材及电子产品外壳,包括依次层叠的基体层、介质膜层和油墨层,所述介质膜层的厚度沿长度方向逐渐减小,所述减小为线性减小;介质膜层厚度的变化会引起光的干涉和偏振作用将反射光进行加强或减弱,从而能够呈现出颜色的渐变。所述介质膜层包括低折射率膜层和高折射率膜层,所述低折射率膜层和所述高折射率膜层交替排列,该方式能够明显提高介质膜层的反射率,从而增强介质膜层厚度的变化所引起的光的干涉和偏振作用,所得片材能够呈现出更加丰富的渐变色。
Description
技术领域
本实用新型涉及光学片材领域,具体涉及一种渐变色片材及电子产品壳体。
背景技术
现有技术中,光学片材颜色渐变效果基本上是通过采用挡板遮挡方法来实现的,但采用挡板遮挡的方法实现光学片材的渐变,工艺复杂,对设备要求较高,在镀膜过程中需要对遮挡板移动以达到目的,且其呈现的颜色变化突兀,不能达到自然过渡的效果,渐变效果较差。
实用新型内容
本实用新型主要针对上述现有技术中渐变色片材的颜色变化突兀,色彩单一,渐变效果不佳的技术问题,提供一种颜色丰富、过渡自然,相同角度能观察不同渐变效果的渐变色片材。
为解决上述技术问题,本实用新型提供如下技术方案:一种渐变色片材,包括依次层叠的基体层、介质膜层和油墨层,所述介质膜层的厚度沿长度方向逐渐减小,所述减小为线性减小。介质膜层厚度的变化会引起光的干涉和偏振作用将反射光进行加强或减弱,从而能够呈现出颜色的渐变。
所述介质膜层包括沿长度方向的起始端和末端,沿长度方向距离末端Xnm的介质膜层的厚度Y=aX+b;其中a>0,b为末端的介质膜层厚度,800nm≥b≥30nm。优选情况下,所述沿长度方向距离末端Xnm的介质膜层的厚度Y=aX+b;其中1>a>0,b为末端的介质膜层厚度,800nm≥b≥30nm。所述起始端的介质膜层厚度与所述末端的介质膜层厚度的厚度差为30-350nm;优选地,所述起始端的介质膜层厚度与所述末端的介质膜层厚度的厚度差为120-200nm。优选范围内的介质膜层起始端与末端厚度的差值,使得在较小差值范围时就能呈现颜色丰富的渐变效果。
所述介质膜层的平均厚度为130-800nm,在所述介质膜层的平均厚度范围内,所得片材的颜色丰富,渐变效果好,且还能够保证介质膜层在基材表面的附着,产品整体性能较好。
所述介质膜层包括低折射率膜层和高折射率膜层,所述低折射率膜层和所述高折射率膜层交替排列。所述低折射率膜层的折射率为1.4-1.55;所述高折射率膜层的折射率为1.7-2.35。介质膜层采用低折射率膜层和高折射率膜层交替排列的方式,能够明显提高介质膜层的反射率,从而增强介质膜层厚度的变化所引起的光的干涉和偏振作用,所得片材能够呈现出更加丰富的渐变色。
所述介质膜层包括至少两层低折射率膜层,所述至少两层低折射率膜层包括第一低折射率膜层和第二低折射率膜层;所述第一低折射率膜层与基体层表面接触,所述第二低折射率膜层与油墨层表面接触。
所述低折射率膜层可选自SiO2膜层和/或SiO膜层,单层的低折射率膜层的平均厚度为20-130nm;所述高折射率膜层可选自Ti3O5膜层、Al2O3膜层、MgO膜层、TiO2膜层、Ti2O3膜层、HfO2膜层、ZrO2膜层、Nb2O5膜层、ZnO膜层、Y2O3膜层和CeO2膜层中的一种或多种,单层的高折射率膜层的平均厚度为10-50nm。
所述基体层为玻璃层或金属层。所述油墨层的油墨可选为各种颜色的油墨,油墨层所起的作用主要为衬色,可以根据需要进行调节,从而做出不同渐变效果的片材。
作为优选,本实用新型还包括位于油墨层表面的保护膜层。所述保护膜层包括聚酯膜层和粘接胶层,所述粘接胶层与油墨层接触。
本实用新型是先对基材进行预处理,然后将预处理过的基材固定到蒸发镀膜机腔体壁上进行蒸发镀膜,从而在基材表面形成厚度逐渐变化的介质膜层;对蒸镀好的介质膜层基材进行油墨丝印并经过隧道炉烘烤得到片材,所得片材颜色具有渐变效果。
本实用新型的有益效果在于,所述介质膜层的厚度沿长度方向逐渐减小,所述减小为线性减小。介质膜层厚度的变化会引起光的干涉和偏振作用将反射光进行加强或减弱,从而能够呈现出颜色的渐变。另一方面,介质膜层包括低折射率膜层和高折射率膜层,所述低折射率膜层和所述高折射率膜层交替排列,该方式能够明显提高介质膜层的反射率,从而增强介质膜层厚度的变化所引起的光的干涉和偏振作用,所得片材能够呈现出更加丰富的渐变色。本实用新型简单易行,通过调节介质膜层的层数及厚度,可以实现在同一观察角度,所得片材的颜色不同,且颜色变化过渡自然,也就是说本实用新型实现了自然变化的渐变色效果,且其渐变颜色种类丰富,增加了片材表面装饰的多样性。
附图说明
附图是用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型,但并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
图1:本实用新型一实施例所述的一种光学片材的结构示意图;
图2:本实用新型另一实施例所述的一种光学片材的结构示意图;
附图标记:
1、基体层;2、介质膜层;3、油墨层;4、保护层。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。
如图1所示,本实施例提供一种渐变色片材,包括依次层叠的基体层1、介质膜层2和油墨层3,所述介质膜层2的厚度沿长度方向逐渐减小,所述减小为线性减小。介质膜层2厚度的变化会引起光的干涉和偏振作用将反射光进行加强或减弱,从而能够呈现出颜色的渐变。
所述介质膜层2包括沿长度方向的起始端和末端,沿长度方向距离末端Xnm的介质膜层2的厚度Y=aX+b;其中a>0,b为末端的介质膜层2的厚度,800nm≥b≥30nm。优选情况下,所述沿长度方向距离末端Xnm的介质膜层的厚度Y=aX+b;其中1>a>0,b为末端的介质膜层2的厚度,800nm≥b≥30nm。
所述介质膜层2的平均厚度为130-800nm;所述起始端的介质膜层厚度与所述末端的介质膜层厚度的厚度差为30-350nm。优选地,所述介质膜层2沿长度方向的起始端厚度与沿长度方向的末端厚度的差值为120-200nm。
所述介质膜层2包括低折射率膜层和高折射率膜层,所述低折射率膜层的折射率为1.4-1.55;所述高折射率膜层的折射率为1.7-2.35。介质膜层2可以含有单层低折射率膜层,也可以含有多层低折射率膜层;同样,介质膜层2可以含有单层高折射率膜层,也可以含有多层高折射率膜层。例如,介质膜层2可以为低折射率膜层/高折射率膜层结构;也可以优选低折射率膜层和高折射率膜层交替排列结构,具体的,比如低折射率膜层/高折射率膜层/低折射率膜层结构或低折射率膜层/高折射率膜层/低折射率膜层/高折射率膜层结构或低折射率膜层/高折射率膜层/低折射率膜层/高折射率膜层/低折射率膜层结构或低折射率膜层/高折射率膜层/低折射率膜层/高折射率膜层/低折射率膜层/高折射率膜层结构、或低折射率膜层/高折射率膜层/低折射率膜层/高折射率膜层/低折射率膜层/高折射率膜层/低折射率膜层结构或低折射率膜层/高折射率膜层/……/高折射率膜层/低折射率膜层结构等。介质膜层2采用低折射率膜层和高折射率膜层交替排列的实施方式,能够明显提高介质膜层2的反射率,从而增强介质膜层2厚度的变化所引起的光的干涉和偏振作用,所得片材能够呈现出更加丰富的渐变色。
所述介质膜层2与基体层1表面接触,其中,可以是低折射率膜层与基体层1表面接触,也可以是高折射率膜层与基体层1表面接触,本实用新型没有限制。
所述低折射率膜层为SiO2膜层和/或SiO膜层,单层的低折射率膜层的平均厚度为20-130nm;所述高折射率膜层为Ti3O5膜层、Al2O3膜层、MgO膜层、TiO2膜层、Ti2O3膜层、HfO2膜层、ZrO2膜层、Nb2O5膜层、ZnO膜层、Y2O3膜层和CeO2膜层中的一种或多种,单层的高折射率膜层的平均厚度为10-50nm。
所述基体层1为玻璃层或金属层;优选地,所述基体层1为玻璃层。更优选地,所述基体层1为玻璃层时,所述低折射率膜层与玻璃层1接触;低折射率膜层材料为SiO2和/或SiO,玻璃中也含有SiO2,因此SiO2和/或SiO的低折射率膜层与玻璃层1的结合效果更好。
所述油墨层的油墨可选为各种颜色的油墨,油墨层所起的作用主要为衬色,可以根据需要进行调节,从而做出不同渐变效果的片材。
在本实用新型的另一个实施例中,如图2所示,所述渐变色片材还包括位于油墨层3表面的保护膜层4。所述保护膜层4包括聚酯膜层和粘接胶层,所述粘接胶层与油墨层3接触。
作为本实用新型的一种实施方式,对基材表面预处理,将处理过的基材固定到蒸发镀膜机腔体上进行蒸镀形成介质膜层,在介质膜层表面丝印油墨并烘干,将保护膜层粘接到油墨层表面,即得到具有渐变色效果的片材样品。其中:所述介质膜层共有5个分层,介质膜层每个分层的厚度沿长度方向逐渐减小;第一层至第五层的镀层材料依次是:SiO2 、Ti3O5、SiO2 、Ti3O5和SiO2 ,第一层至第五层的平均厚度依次为120 nm、15nm、25nm、45nm和75nm;介质膜层沿长度方向的起始端厚度与沿长度方向的末端厚度的差值为60nm。
作为本实用新型的一种实施方式,对基材表面预处理,将处理过的基材固定到蒸发镀膜机腔体上进行蒸镀形成介质膜层,在介质膜层表面丝印油墨并烘干,将保护膜层粘接到油墨层表面,即得到具有渐变色效果的片材样品。其中:所述介质膜层共有3个分层,介质膜层每个分层的厚度沿长度方向逐渐减小;第一层至第三层的镀层材料依次是:SiO2 、Ti3O5和SiO2 ,第一层至第三层的平均厚度依次为110nm、40nm和70nm;介质膜层沿长度方向的起始端厚度与沿长度方向的末端厚度的差值为30nm。
作为本实用新型的一种实施方式,对基材表面预处理,将处理过的基材固定到蒸发镀膜机腔体上进行蒸镀形成介质膜层,在介质膜层表面丝印油墨并烘干,将保护膜层粘接到油墨层表面,即得到具有渐变色效果的片材样品。其中:所述介质膜层共有7个分层,介质膜层每个分层的厚度沿长度方向逐渐减小;第一层至第七层的镀层材料依次是:SiO2 、Ti3O5、 SiO2 、Ti3O5、SiO2 、Ti3O5和SiO2 ,第一层至第七层的平均厚度依次为115nm、15nm、25nm、40nm 、20nm、40nm和70nm;介质膜层沿长度方向的起始端厚度与沿长度方向的末端厚度的差值为120nm。
作为本实用新型的一种实施方式,对基材表面预处理,将处理过的基材固定到蒸发镀膜机腔体上进行蒸镀形成介质膜层,在介质膜层表面丝印油墨并烘干,将保护膜层粘接到油墨层表面,即得到具有渐变色效果的片材样品。其中:所述介质膜层共有13个分层,介质膜层每个分层的厚度沿长度方向逐渐减小;第一层至第十三层的镀层材料依次是:SiO2 、Ti3O5、 SiO2 、Ti3O5、SiO2 、Ti3O5 、SiO2 、Ti3O5、 SiO2 、Ti3O5、SiO2 、Ti3O5和SiO2 ,第一层至第十三层的平均厚度依次为120nm、10nm、30nm、40nm 、20nm、30nm、40nm、20nm、30nm、40nm 、20nm、40nm和70nm;介质膜层沿长度方向的起始端厚度与沿长度方向的末端厚度的差值为200nm。
本实用新型的其他实施例还提供一种电子产品外壳,其包括上述实施例任意一种渐变色片材。相比于现有技术,该电子产品外壳可以实现在同一观察角度,电子产品外壳的颜色不同,且颜色变化过渡自然,也就是说该电子产品外壳实现了自然变化的渐变色效果,且其渐变颜色种类丰富,增加了电子产品外壳表面装饰的多样性。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (13)
1.一种渐变色片材,包括依次层叠的基体层、介质膜层和油墨层,其特征在于,所述介质膜层的厚度沿长度方向逐渐减小,所述减小为线性减小。
2.根据权利要求1所述的渐变色片材,其特征在于,所述介质膜层包括沿长度方向的起始端和末端,沿长度方向距离末端Xnm的介质膜层的厚度Y=aX+b;其中a>0,b为末端的介质膜层厚度,800nm≥b≥30nm。
3.根据权利要求2所述的渐变色片材,其特征在于,所述沿长度方向距离末端Xnm的介质膜层的厚度Y=aX+b;其中1>a>0,b为末端的介质膜层厚度,800nm≥b≥30nm。
4.根据权利要求2所述的渐变色片材,其特征在于,位于起始端的介质膜层厚度与位于末端的介质膜层厚度的厚度差为30-350nm。
5.根据权利要求1所述的渐变色片材,其特征在于,所述介质膜层的平均厚度为130-800nm。
6.根据权利要求1所述的渐变色片材,其特征在于,所述介质膜层包括低折射率膜层和高折射率膜层,所述低折射率膜层和所述高折射率膜层交替排列。
7.根据权利要求6所述的渐变色片材,其特征在于,所述介质膜层包括至少两层低折射率膜层,所述至少两层低折射率膜层包括第一低折射率膜层和第二低折射率膜层;所述第一低折射率膜层与基体层表面接触,所述第二低折射率膜层与油墨层表面接触。
8.根据权利要求6所述的渐变色片材,其特征在于,所述低折射率膜层的折射率为1.4-1.55;所述高折射率膜层的折射率为1.7-2.35。
9.根据权利要求6所述的渐变色片材,其特征在于,所述低折射率膜层选自SiO2膜层和/或SiO膜层,单层低折射率膜层的平均厚度为20-130nm。
10.根据权利要求6所述的渐变色片材,其特征在于,所述高折射率膜层选自Ti3O5膜层、Al2O3膜层、MgO膜层、TiO2膜层、Ti2O3膜层、HfO2膜层、ZrO2膜层、Nb2O5膜层、ZnO膜层、Y2O3膜层和CeO2膜层中的一种或多种,单层高折射率膜层的平均厚度为10-50nm。
11.根据权利要求1所述的渐变色片材,其特征在于,所述渐变色片材还包括位于油墨层表面的保护膜层。
12.根据权利要求1所述的渐变色片材,其特征在于,所述基体层为玻璃层或金属层。
13.一种电子产品外壳,其特征在于,包括如权利要求1-12中任意一项所述的渐变色片材。
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