KR20180116566A - 적층 시스템 - Google Patents

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KR20180116566A
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이현주
강현민
김진용
오영훈
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주식회사 케이씨씨
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Abstract

본 발명은 기재, 및 상기 기재 상에 굴절률이 2.0 이상이고, 두께가 70nm 이하인 고굴절률층을 포함하는 것인 적층 시스템을 제공한다.

Description

적층 시스템{LAMINATION SYSTEM}
본 발명은 적층 시스템에 관한 것이다.
최근, 스마트폰 및 태블릿 PC 등의 모바일 기기 보급이 급속도로 확대되고 있으며, 그에 따라 소비자들의 요구사항도 점점 고급화되어 가고 있다. 특히, 소프트웨어부터 하드웨어에 이르기까지 그러한 요구사항에 부응하고자 나날이 발전을 거듭하고 있다.
고급화의 하나의 전략으로, 하드웨어 부분의 경우, 화면의 대형화가 되어 가고, 디자인 요소의 가미를 통해 제조사 마다 독특한 이미지를 구축하는 고급화 전략을 취하고 있다.
통상 상기 모바일 기기는 사용자 손과의 잦은 마찰은 물론 다양한 외부환경과의 접촉이 많은 특성을 가짐에 따라, 기능상으로는 뛰어난 내식성과 내마모성은 물론 상당한 표면 경도, 강도 및 우수한 접착성이 요구되고, 외관상으로는 우수한 표면 질감과 더불어 고품격의 색상구현이 매우 중요하다.
이러한 고품격의 색상 구현을 위해 기재에 적용된 화학적 및 물리적 코팅 방법이 다양하게 알려져 있다. 예를 들면 폴리에스테르 수지에 분산된 무기안료를 이용한 착색코팅법, ITO를 진공증착법을 이용하여 기재 표면의 칼라 구현방법 및 기재의 표면에 PVD법으로 박막으로 코팅하고 이온주입법을 이용하여 이온화된 금속이온 또는 가스이온을 주입하여 색상을 변화키는 코팅방법이 연구되어 왔다.
그러나 가장 다양한 색상을 낼 수 있는 방법으로는 아노다이징법(Anodizing)이라 할 수 있겠으나, 소재단가가 고가일 뿐만 아니라 감성시대에 요구되는 고품위 색감이나 투명감이 없는 것이 단점이다.
따라서, 투명 기재를 그대로 활용하면서 새로운 트랜드인 세라믹 느낌의 깊고 은은한 칼라감을 구현함으로써 고급스러움을 부여할 수 있는 기술이 요구되며, 이러한 기술은, 모바일 기기 뿐만 아니라 다양한 분야에도 적용될 수 있다. 예를 들면, 디스플레이 패널을 포함하는 전자 디바이스에 활용 될 수도 있으며, 가구나 가전 제품과 같은 다양한 분야에서도 깊고 은은한 칼라감을 구현함으로써 고급스러움을 부여할 수 있는 기술이 필요한 실정이다.
대한민국 공개 특허 제 2014-0138467호
본 발명에서 해결하고자 하는 기술적 과제는 고반사 적층 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명은 일 실시예에 따라, 기재, 및 상기 기재 상에 굴절률이 2.0 이상이고, 두께가 70nm 이하인 고굴절률층을 포함하는 적층 시스템을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 적층 시스템은 투명하면서도 은은한 칼라감 및 반사 효과를 나타낼 수 있으므로, 기재 상에 형성됨으로써, 세라믹 질감의 깊고 은은한 칼라감 또는 고급 질감을 구현 할 수 있다.
본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따라, 기재 상에 고굴절률층을 포함하는 단층의 적층 시스템의 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따라, 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 차례로 포함하는 2층의 적층 시스템의 개략도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따라, 기재 상에 고굴절률층, 저굴절률층 및 고굴절률층을 차례로 포함하는 3층의 적층 시스템의 개략도이다.
도 4 및 5는 본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 적층 시스템을 이용한 다양한 구조의 예를 나타낸 개략도이다.
이하, 본 발명에 대한 이해를 돕기 위해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 적층 시스템은 기재, 및 상기 기재 상에 굴절률이 2.0 이상이고, 두께가 70nm 이하인 고굴절률층을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 적층 시스템은 기재 상에 굴절률이 2.0 이상이고, 두께가 70nm 이하인 고굴절률층을 포함함으로써, 투명하면서도 은은한 칼라감 및 반사 효과를 나타낼 수 있으므로, 기재에 세라믹 질감의 깊고 은은한 칼라감 또는 고급 질감을 구현 할 수 있다.
이하, 본 발명에 대하여 보다 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 적층 시스템은 기재를 포함하며, 상기 기재는 투명, 불투명의 기재를 모두 포함할 수 있으며, 구체적으로는, 유리, 폴리에틸렌테레프탈레이트(ＰＥＴ), 하이그로시, 금속, 또는 유리/ＰＥＴ를 포함할 수 있다. 상기 기재의 굴절률은 예를 들어 1.50 내지 1.52일 수 있다. 상기 기재의 두께는 예를 들어 0.3mm 내지 6mm의 범위일 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 적층 시스템은 상기 기재 상에 굴절률이 2.0 이상이고, 두께가 70nm 이하인 고굴절률층을 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 적층 시스템에서 고굴절률층의 굴절률은 2.0 이상, 더욱 구체적으로 2.0 내지 3.0일 수 있으며, 상기 범위 내에서 본 발명에서 목적하는 은은하고 다양한 칼라감 및 반사 효과를 구현할 수 있다. 본 발명에 있어서, 굴절률은 예를 들어, ellipsometer 설비를 이용하여 측정할 수 있다.
또한, 상기 고굴절률층의 두께는 70nm 이하, 더욱 구체적으로 3nm 내지 70nm, 더욱 더 구체적으로 3nm 내지 60nm일 수 있다. 상기 적층 시스템은 고굴절률층의 두께에 따라 표면 반사율이 달라지며, 이로 인해 색상 및 깊이감이 달라질 수 있다. 만일, 상기 고굴절률층의 두께가 70nm를 초과하는 경우, 본 발명에서 목적하는 반사율 또는 색상을 구현할 수 없으므로, 고품위 색감이나 투명감이 떨어질 수 있다.
상기 적층 시스템은 기재 및 고굴절률층을 포함하여 다양한 구조의 시스템을 구현할 수 있다.
구체적으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 적층 시스템(100)은, 도 1과 같이 기재(110), 및 상기 기재(110) 상에 고굴절률층(120)을 포함하는 단층 시스템일 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 상기 적층 시스템은, 기재 상에 상기 고굴절률층, 및 상기 고굴절률층 상에 상기 고굴절률층 보다 굴절율이 낮은 저굴절률층을 더 포함하는 다층 시스템일 수 있다. 즉, 상기 적층 시스템은 상기 고굴절률층 및 상기 저굴절률층, 또는 이들이 반복되어 적층된 2층 이상의 다층 코팅층을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 적층 시스템(200)은, 도 2와 같이 기재(210), 및 상기 기재(210) 상에 고굴절률층(220), 및 상기 고굴절률층(220) 상에 저굴절률층(230)을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 적층 시스템(300)은, 도 3과 같이 기재(310), 및 상기 기재(320) 상에 고굴절률층(320), 상기 고굴절률층(320) 상에 저굴절률층(330), 및 상기 저굴절률층(330) 상에 고굴절률층(340)을 차례로 적층하여 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 적층 시스템은, 기재 상에 고굴절률층, 저굴절률층, 고굴절률층, 저굴절률층 및 고굴절률층 등을 포함할 수 있다.
상기 적층 시스템에 있어서, 상기 고굴절률층 및 저굴절률층의 반복 적층 회수는 본 발명의 효과를 저해하지 않고, 목적하는 디자인 또는 성능에 따라 다양하게 변경할 수 있다.
또한, 상기 적층 시스템이 다층 코팅층을 포함하는 경우, 상기 다층 코팅층의 최외층은 저굴절률층 또는 고굴절률층일 수 있으나, 목적하는 반사율 및 색상을 구현하는 점에서 고굴절률층일 수 있다.
상기 저굴절률층은 예를 들어, 굴절률이 1.8 이하, 더욱 구체적으로 굴절률이 1.0 내지 1.8일 수 있다. 본 발명에 일 실시예에 따르면, 상기 범위 내에서 고굴절률층의 굴절률과 저굴절률층의 굴절률 차이로 인해 본 발명에서 목적하는 반사율을 구현할 수 있으며, 이로 인해 깊고, 은은하고 다양한 칼라감을 구현할 수 있다.
또한, 상기 저굴절률층의 두께는 70nm 이하, 더욱 구체적으로 3nm 내지 70m, 더욱 더 구체적으로 3nm 내지 60nm일 수 있다. 상기 적층 시스템은 저굴절률층의 두께에 따라 표면(코팅면) 반사율이 달라질 수 있으며, 이로 인해 색상 및 깊이감이 달라질 수 있다. 만일, 상기 저굴절률층의 두께가 70nm를 초과하는 경우, 본 발명에서 목적하는 반사율 또는 색상을 구현할 수 없으므로, 고품위 색감이나 투명감이 떨어질 수 있다.
또한, 상기 적층 시스템에 있어서, 굴절률이 다른 고굴절률층 및 저굴절률층이 반복되는 이유는 이들 층들의 굴절률의 차이 또는 표면 반사율의 차이를 이용하여 은은하면서도 다양한 칼라감을 구현할 수 있기 때문이다.
예를 들어, 상기 적층 시스템에 있어서, 상기 고굴절률층 및 저굴절률층의 굴절률 차이는 0.2 내지 1.5, 구체적으로 0.3 내지 1.2일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 고굴절률층 및 저굴절률층을 구비한 적층 시스템은 본 발명에서 목적하는 반사율 및 색상, 구체적으로 표면 반사율이 8% 내지 40%이고, 코팅면(적층 표면) 색상 a* 값이 -5 내지 +5 범위이고, b* 값이 -10 내지 +10 범위를 만족할 수 있다.
또한, 상기 적층 시스템에 있어서, 고굴절률층 및 저굴절률층의 광학 두께가 상기 범위를 구현하는데 중요할 수 있다. 여기서 광학 두께는 등방성 광학 소자인 고굴절률층 및 저굴절률층에서 이들의 물리적인 두께에 굴절률을 곱한 값. 즉, 매질의 굴절률 n과 두께 d의 곱 nd를 말한다.
저굴절률층의 광학 두께는 3 내지 100nm, 구체적으로 3 내지 70nm일 수 있으며, 상기 저굴절률층의 광학 두께가 100nm를 초과하거나 3nm 미만인 경우, 본 발명에서 목적하는 반사율 또는 색상을 구현할 수 없으므로, 고품위 색감이나 투명감이 떨어질 수 있다.
고굴절률층의 광학두께는 6nm 내지 180nm, 구체적으로 6 내지 100nm일 수 있으며, 상기 고굴절률층의 광학두께가 180nm를 초과하거나 6nm 미만인 경우 본 발명에서 목적하는 반사율 또는 색상을 구현할 수 없으므로, 고품위 색감이나 투명감이 떨어질 수 있다.
또한, 상기 적층 시스템이 다층 시스템인 경우, 각각의 고굴절률층 및 각각의 저굴절률층의 두께는 서로 동일할 수 있고, 서로 상이할 수 있다. 예를 들어, 기재 상에 두께가 모두 20nm인 고굴절률층, 저굴절률층 및 고굴절률층을 차례로 적층할 수 있으며, 또는 기재 상에 두께가 15nm인 고굴절률층, 두께가 13nm인 저굴절률층, 및 두께가 25nm인 고굴절률층을 차례로 적층할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 적층 시스템에서 고굴절률층의 종류는 굴절률이 2.0 이상을 만족하고, 본 발명의 효과를 저해하지 않은 한 다양하게 사용될 수 있으며, 예를 들어 알루미늄 질화물, 실리콘 질화물, 실리콘지르코늄 질화물, 티타늄 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물, 지르코늄 산화물, 아연-주석 산화물, 크롬 산화물 및 니오븀 산화물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 물질을 포함할 수 있다. 더욱 구체적으로 상기 고굴절률층은 티타늄 산화물 또는 실리콘 질화물 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 적층 시스템에서 저굴절률층의 종류는 굴절률이 1.8 이하를 만족하고, 본 발명의 효과를 저해하지 않은 한 다양하게 사용될 수 있으며, 예를 들어 상기 저굴절률층은 플루오린화마그네슘, 알루미늄 산화물, 규소 산화물, 규소 옥시질화물, 규소 옥시탄화물 및 규소-알루미늄 혼합 산화물로부터 선택되는 1종 이상의 물질을 포함할 수 있다. 더욱 구체적으로 상기 저굴절률층은 규소 산화물 또는 알루미늄 산화물 등을 들 수 있다.
또한, 상기 적층 시스템이 다층 시스템인 경우, 각각의 고굴절률층 및 각각의 저굴절률층에 사용되는 물질의 종류는 각각의 굴절률을 만족하는 범위에서 서로 동일하거나 서로 상이할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 적층 시스템의 표면 반사율은 8% 내지 40%, 구체적으로 8% 내지 30%일 수 있다. 상기 표면 반사율은 예를 들면, 380 내지 780 nm 파장대역에서 표면(코팅면)에서의 광 반사율을 분광투과율 측정기(모델명 Lambda 950, Perkin Elmer社)로 측정할 수 있다. 상기 표면 반사율에 따라 색상 및 깊이감이 달라질 수 있다. 만일, 적층 시스템의 표면 반사율이 8% 미만인 경우, 심미성 측면에서 세라믹 느낌 구현에 문제가 있을 수 있고, 40%를 초과하는 경우 높은 반사율로 인하여 은은한 색감의 느낌 구현에 문제가 있을 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 적층 시스템은 10°의 관찰자 각에 대한 CIELAB 색 공간 좌표에 제시된 코팅면 색상 a* 값이 -5 내지 +5 범위이고, b* 값이 -10 내지 +10 범위일 수 있으며, 상기 범위인 경우 세라믹 질감의 깊고 은은한 칼라감을 구현할 수 있다.
상기 적층 시스템에 있어서, 기재상에 고굴절률층 및 저굴절률층의 적층 방법은 예를 들어, 스퍼터링법, 증착법(Evaporation), 이온 플레이팅법 및 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) 중에서 선택된 1종 이상인 방법을 선택할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 적층 시스템을 이용하여 다양한 구조를 구현할 수 있다. 즉, 상기 적층 시스템의 배면 및 전면에 다양한 코팅층을 코팅하거나 적층하여 활용할 수 있다.
예를 들면, 도 4와 같이, 기재 및 고굴절률층을 포함하는 단층 또는 다층의 적층 시스템(400), 및 상기 적층 시스템(400) 상에 SiO2의 프라이머층(410)과 지문 방지층(Anti-Finger Coating film, 420)을 포함하는 구조를 구현할 수 잇다.
또한, 도 5와 같이, 기재 및 고굴절률층을 포함하는 단층 또는 다층의 적층 시스템(500), 및 상기 적층 시스템(500) 상에 SiO2의 프라이머층(510)과 지문 방지층(520)을 포함하고, 기재 배면에 다양한 도료 코팅층(530)을 포함하는 구조를 구현할 수 있다. 이때, 상기 도료 코팅층 (530)은 예를 들면, 유리 프라이머층, 차폐층, 차폐 칼라층, UV층 및 비산 방지층 중에서 선택된 1층 이상의 코팅층을 포함할 수 있다. 이러한 다양한 코팅층을 포함함으로써, 칼라감 또는 기타 물성 효과를 원하는 목적에 따라 구현할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 적층 시스템은 기재 상에 특정 범위의 굴절률 및 두께를 만족하는 굴절률층을 포함함으로써, 투명하면서도 은은한 칼라감 및 반사 효과를 나타낼 수 있으므로, 기재 상에 세라믹 질감의 깊고 은은한 칼라감 또는 고급 질감을 구현 할 수 있다. 또한, 기재의 배면 칼라 도료 조성물과 함께 사용하는 경우, 유기 도료의 색감을 세라믹 질감으로 변화시킬 수 있으므로, 모바일 기기를 비롯한 다양한 용도로 유용하게 사용할 수 있다.
실시예
<적층 시스템의 제조>
실시예 1
두께가 0.5mm인 유리 기재 상에 굴절률이 2.4(ellipsometer 측정기)인 TiO2가 50nm의 두께로 스퍼터링법에 의해 적층시킴으로써 단층의 코팅층을 포함하는 적층 시스템을 얻었다.
실시예 2
두께가 0.5mm인 유리 기재 상에 하기 표 1의 두께로 굴절률이 2.4인 TiO2(고굴절률층), 굴절률이 1.4인 SiO2(저굴절률층) 및 TiO2(고굴절률층)를 스퍼터링법에 의해 순차적으로 적층시킴으로써 다층 코팅층을 포함하는 적층 시스템을 얻었다.
실시예 3 내지 6
하기 표 1과 같이 TiO2 및 SiO2의 두께를 변경한 것을 제외하고는, 실시예 2와 동일하게 수행하여 다층 코팅층을 포함하는 적층 시스템을 얻었다.
실시예 7
두께가 0.5mm인 유리 기재 상에 하기 표 2의 두께로 굴절률이 2.1인 SixNy(x=3, y=4, 고굴절률층), 굴절률이 1.7인 Al2O3(저굴절률층) 및 SixNy(x=3, y=4, 고굴절률층)를 스퍼터링법에 의해 순차적으로 적층시킴으로써 다층 코팅층을 포함하는 적층 시스템을 얻었다.
실시예 8 및 9
하기 표 2와 같이 SiXNy 및 Al2O3의 두께를 변경한 것을 제외하고는, 실시예 7과 동일하게 수행하여 다층 코팅층을 포함하는 적층 시스템을 얻었다.
비교예 1 내지 4
하기 표 3과 같이 TiO2 및 SiO2의 두께를 변경한 것을 제외하고는, 실시예 2와 동일하게 수행하여 다층 코팅층을 포함하는 적층 시스템을 얻었다.
비교예 5 내지 7
두께가 0.5mm 유리 기재 상에 하기 표 4의 두께로 굴절률이 1.97인 AZO(고굴절률층), 굴절률이 1.8인 SnO(저굴절률층) 및 AZO (고굴절률층)를 스퍼터링법에 의해 순차적으로 적층시킴으로써 다층 코팅층을 포함하는 적층 시스템을 얻었다.
비교예 8 내지 10
두께가 0.5mm인 유리 기재 상에 하기 표 5의 두께로 굴절률이 2.4인 TiO2 (고굴절률층), 굴절률이 2.1인 SixNy(x=3, y=4), 저굴절률층) 및 TiO2 (고굴절률층)를 스퍼터링법에 의해 순차적으로 적층시킴으로써 다층 코팅층을 포함하는 적층 시스템을 얻었다.
비교예 11 내지 13
두께가 0.5mm인 유리 기재 상에 하기 표 6의 두께로 굴절률이 1.7인 Al2O3 (고굴절률층), 굴절률이 1.4인 SiO2 (저굴절률층) 및 Al2O3 (고굴절률층)를 스퍼터링법에 의해 순차적으로 적층시킴으로써 다층 코팅층을 포함하는 적층 시스템을 얻었다.
두께(nm) 실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5 실시예 6
TiO2 - 25 10 18 13 5
SiO2 - 13 13 35 50 30
TiO2 50 15 15 13 4 5
Glass ( 5T )
굴절률 : TiO2 = 2.4, SiO2 = 1.4
두께(nm) 실시예7 실시예8 실시예9
Si3N4 30 30 10
Al2O3 10 30 30
Si3N4 30 10 30
Glass ( 5T )
굴절률 : Si3N4 = 2.1, Al2O3 = 1.7
두께(nm) 비교예1 비교예2 비교예3 비교예4
TiO2 30 30 80 80
SiO2 80 10 10 80
TiO2 10 80 30 80
Glass ( 5T )
굴절률 : TiO2 = 2.4, SiO2 = 1.4
두께(nm) 비교예5 비교예6 비교예7
AZO 30 30 60
SnO 60 30 30
AZO 30 60 40
Glass ( 5T )
굴절률 : AZO = 1.97, SnO = 1.88
두께(nm) 비교예8 비교예9 비교예10
TiO2 30 60 30
Si3N4 60 30 30
TiO2 30 30 60
Glass ( 5T )
굴절률 : TiO2 = 2.4, SiO2 = 2.1
두께(nm) 비교예11 비교예12 비교예13
Al2O3 15 10 10
SiO2 65 65 70
Al2O3 10 30 30
Glass ( 5T )
굴절률 : Al2O3 = 1.7, SiO2 = 1.4
실험예
상기 실시예 및 비교예에 따라 얻어진 단층 또는 다층 도막(적층 시스템)을 이용하여 반사율 및 코팅면 색상을 다음과 같이 측정하고, 그 결과를 하기 표 7 내지 12에 나타내었다.
(1) 반사율 평가
상기 제조된 실시예 및 비교예의 적층 시스템에 대하여, 380 내지 780 nm 파장대역에서 코팅면(표면)에서의 광 반사율을 분광투과율 측정기(모델명 Lambda 950, Perkin Elmer社)로 측정하였다. ISO9050 규격에 따라 AM1.5에 해당하는 중가계수(Weighting function)를 곱한 평균값을 구하였다.
(2) 코팅면 색상
10°의 관찰자 각에 대한 CIELAB 색 공간 좌표 (CIE L*, CIE a*, CIE b*)은, F. W. Billmeyer, Jr., "Current American Practice in Color Measurement," Applied Optics, Vol. 8, No. 4, pp. 737-750 (April 1969)에 의한 값.
반사 실시예1 실시예2 실시예3 실시예4 실시예5 실시예6
Y 32.1 25.7 15.8 17.3 10.9 11.4
L* 63.5 57.8 46.7 48.6 39.4 40.3
a* -2.2 -2.1 -1.8 -2.2 -0.9 -0.9
b* -5.1 -6.0 -1.8 0.6 -1.8 -4.3
반사 실시예7 실시예8 실시예9
Y 21.8 18.1 18.2
L* 53.8 49.7 49.7
a* -2.1 -1.6 -1.9
b* 3.7 0.3 3.7
반사 비교예1 비교예2 비교예3 비교예4
Y 18.6 8.3 13.4 48.9
L* 50.3 34.6 43.3 75.4
a* 2.2 23.3 13.1 -1.5
b* -24.8 -34.9 -25.9 60.5
반사 비교예5 비교예6 비교예7
Y 10.8 10.7 9.6
L* 39.3 39.1 37.2
a* 10.8 10.7 13.6
b* 0.3 2.3 -14.2
반사 비교예8 비교예9 비교예10
Y 10.9 12.9 9.3
L* 39.4 42.6 36.5
a* 17.4 14.4 21.5
b* -38.8 -33.2 -39.4
반사 비교예11 비교예12 비교예13
Y 7.1 6.9 6.6
L* 32.1 31.6 30.8
a* -0.5 0 0.3
b* 0.4 4.4 4.1
본 발명의 실시예에 따라 얻은 상기 실시예 1 내지 9의 적층 시스템은 모두 반사율이 8% 내지 40% 이내의 범위를 만족하고, 코팅면 색상 a* 값이 -5 내지 +5 범위, b* 값이 -10 내지 +10 범위를 만족하였다. 이에 반해, 비교예 1 내지 13의 적층 시스템은 상기 반사율 및 코팅면 색상 범위를 만족하지 못하였다.
구체적으로 살펴보면, 유리 기재 상에 70 nm 이하의 두께로 굴절률이 2.4인 TiO2(고굴절률층), 굴절률이 1.4인 SiO2(저굴절률층) 및 TiO2(고굴절률층)를 차례로 적층한 실시예 2 내지 6의 적층 시스템의 경우, 반사율이 10% 내지 26% 이내였고, 코팅면 색상 a* 값이 -3 내지 0, b* 값이 -6.0 내지 +0.6이었다.
이에 반해, 실시예 2 내지 6과 같이 유리 기재 상에 TiO2, SiO2 및 TiO2를 적층하더라도, 고굴절률층 또는 저굴절률층 중 한층이라도 두께가 70 nm를 초과하는 비교예 1 내지 4의 적층 시스템의 경우, 본 발명에서 목적하는 반사율의 범위 및 코팅면 색상값이 벗어남을 확인하였다.
또한, 실시예 7 내지 9와 같이 굴절률이 실시예 2 내지 6과 다르지만, 굴절률이 2.1인 SixNy(x=3, y=4), 고굴절률층), 굴절률이 1.7인 Al2O3(저굴절률층) 및 SixNy(x=3, y=4), 고굴절률층)를 70nm 이하로 적층한 적층 시스템의 경우 반사율이 18% 내지 22% 이내였고, 코팅면 색상 a* 값이 -3 내지 0, b* 값이 0 내지 +4이었다.
이에 반해, 고굴절률 및 저굴절률의 범위값이 모두 본 발명의 범위에서 벗어난 경우, 즉, 굴절률이 1.97인 AZO, 굴절률이 1.88인 AZO, SnO 및 AZO를 적층한 비교예 5 내지 7의 경우, 각각 두께가 70nm 이하로 적층하더라도, 코팅면 색상 a* 값이 본 발명의 범위에서 벗어났고, 비교예 7의 경우 코팅면 색상 a* 및 b* 값 모두 본 발명의 범위에서 벗어남을 확인하였다.
이와 더불어, 두께가 70nm 이하로 3층 모두 고굴절률층을 구현한 비교예 8 내지 10의 경우, 코팅면 색상 a* 및 b* 값 모두 본 발명의 범위에서 벗어남을 확인하였다.
또한, 두께가 70nm 이하로 3층 모두 저굴절률층을 구현한 비교예 11 내지 13의 경우, 코팅면 색상 a* 및 b* 값 모두 본 발명의 범위를 만족하나, 반사율이 6.6% 내지 7.1%의 범위로 8% 미만이었다.
100, 200, 300, 400, 500 : 적층 시스템
110, 210, 310 : 유리 기재
120, 220, 320, 340 : 고굴절률층
230, 330 : 저굴절율층
410, 510 : 프라이머층(SiO2)
420, 520 : 지문방지층
530 : 도료 코팅층

Claims (13)

  1. 기재, 및
    상기 기재 상에 굴절률이 2.0 이상이고, 두께가 70nm 이하인 고굴절률층을 포함하는 것인 적층 시스템.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 고굴절률층 상에 고굴절률층 보다 굴절율이 낮은 저굴절률층, 또는 이들이 반복되어 적층된 2층 이상의 다층 코팅층을 포함하는 것인 적층 시스템.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 저굴절률층은 굴절률이 1.8 이하이고, 두께가 70nm 이하인 것인 적층 시스템.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 고굴절률층 및 저굴절률층의 굴절률 차이는 0.2 내지 1.5인 것인 적층 시스템.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 고굴절률층의 광학 두께는 6 내지 180nm인 것인 적층 시스템.
  6. 청구항 2에 있어서,
    상기 저굴절률층의 광학 두께는 3 내지 100nm인 것인 적층 시스템.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 고굴절률층은 알루미늄 질화물, 실리콘 질화물, 실리콘지르코늄 질화물, 티타늄 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물, 지르코늄 산화물, 아연-주석 산화물, 크롬 산화물 및 니오븀 산화물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 물질을 포함하는 것인 적층 시스템.
  8. 청구항 2에 있어서,
    상기 저굴절률층은 플루오린화마그네슘, 알루미늄 산화물, 규소 산화물, 규소 옥시질화물, 규소 옥시탄화물 및 규소-알루미늄 혼합 산화물로부터 선택되는 1종 이상의 물질을 포함하는 것인 적층 시스템.
  9. 청구항 2에 있어서,
    상기 다층 코팅층의 최외층이 고굴절률층인 것인 적층 시스템.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 적층 시스템의 표면 반사율이 8% 내지 40%인 것인 적층 시스템.
  11. 청구항 1에 있어서,
    상기 적층 시스템은 10°의 관찰자 각에 대한 CIELAB 색 공간 좌표에 제시된 코팅면 색상 a* 값이 -5 내지 +5 범위이고, b* 값이 -10 내지 +10 범위인 것인 적층 시스템.
  12. 청구항 1에 있어서,
    상기 기재는 유리, 폴리에틸렌테레프탈레이트(ＰＥＴ), 또는 유리/ＰＥＴ인 것인 적층 시스템.
  13. 청구항 1에 있어서,
    상기 적층 시스템은 스퍼터링법, 증착법(Evaporation), 이온 플레이팅법 및 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) 중에서 선택된 1종 이상인 방법에 의해 형성된 것인 적층 시스템.
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