CN106501882B

CN106501882B - 耐划抗反射涂层

Info

Publication number: CN106501882B
Application number: CN201610801158.8A
Authority: CN
Inventors: T·达姆; C·海茵; A·哈恩; S·穆特; S·里布萨门
Original assignee: Schott AG
Current assignee: Schott AG
Priority date: 2015-09-04
Filing date: 2016-09-02
Publication date: 2021-05-07
Anticipated expiration: 2036-09-02
Also published as: DE102015114877A1; KR102179361B1; DE102015114877B4; CN106501882A; KR20170031043A

Abstract

本发明涉及具有抗反射涂层(5)的透明元件。抗反射涂层(5)包括四个层(51、52、53、54)并且设置为反射光的色位对层厚的变化具有减小的依赖性。

Description

耐划抗反射涂层

技术领域

本发明一般地涉及光干涉涂层。更具体地，本发明涉及与高耐划性相关的抗反射涂层。

背景技术

用于便携式电子设备、例如智能手机或平板电脑的显示器的化学钢化玻璃是已知的。通常铝硅酸盐玻璃用作这些显示器的盖玻璃。这些铝硅酸盐玻璃通常在波长为550nm时具有大于1.5的折射率。

化学钢化盖玻璃用于视觉显示器也是已知的并且是常例。由于化学钢化(在化学钢化期间玻璃的钠离子与来自盐浴的钾离子交换)，几微米厚的表面附近的区域中富含钾。那里钾的含量处于在高达质量百分比几的范围中。通过化学钢化，实现弯曲强度以及耐划伤强度的提升。然而，在典型的产品使用短时间之后，将发现划伤形式的表面损坏。例如，虽然化学钢化防止了玻璃受到弯曲应力时容易破碎，因为预压应力防止或延迟了例如由划伤而导致的裂纹的扩大，但是划伤仍然无法避免。

是疏油的或疏水的或双疏的防指纹涂层(AFP)能涂覆到玻璃，以便不产生指纹或至少很容易地清除指纹。现在的产品通常具有非永久防指纹的AFP，使得容易清洁和减少指纹的明显性的作用只持续几个月。AFP通常是局部有机层，该局部有机层非常薄地涂覆以便是不旋光的。因此产品的反射性主要由玻璃表面限定。因此，在垂直入射时，约百分之四的光在玻璃表面处被反射，这是令人烦恼的，特别是在明亮情况下，例如阳光下，并且限制了显示器的内容的可读性。

抗反射涂层用于避免玻璃表面的反射是已知的。根据实践，抗反射涂层由涂覆在玻璃基底的一个侧面或两个侧面上的几层构成。根据产品的应用，期待机械稳定的、即耐损坏或耐划伤设计的抗反射系统。光学抗反射涂层的普遍目的主要是均匀地抑制电磁光谱的可见部分的反射，如果可能的话，从而没有源自不均匀的剩余反射的色彩显著性。这种色彩中性的、耐划的抗反射涂层的示例在US 2012/0212826A1中被公开。

在手机盖的制造工艺期间，上述的玻璃可在背对使用者的侧面(即，盖的后面，其通常为黑或白色的)上设有装饰性印刷物。通常，制造商的公司名字或产品名字以银字的方式印刷。

抗反射涂系统通常由多个层构成，特别是在希望在大部分的可见光谱上而不是仅在特定的波长下均匀地避免反射的情况下。两个相继的层具有不同的折射率。具有较高折射率的层与具有较低折射率的层交替。取决于波长的反射比轮廓是界面处的各反射相互作用的结果。均匀的中性色彩反射是光学层厚度的完美匹配的顺序的结果，即折射率和层厚的乘积。如果一层或多层被修改，反射条件将改变，因而反射结果将改变，特别是反射的颜色坐标或色位。

例如，层厚度方面与工艺相关的变化(就像在样品载体中不同位置处发生的那样)或生产批次之间的变化因而导致色位的强烈的变化。根据层厚度的变化的程度，将引起色位特别明显的变化，因而降低生产产量。

发明内容

因此，本发明基于以下目的，提供一种抗反射系统，该抗反射系统呈现对玻璃基底的良好的附着性和高的耐划性，是防指纹涂层的良好的基础，特别是在层厚度的典型的工艺有关的变化的情况下色位仅有很小的变化。本发明特别设计包括具有四层的抗反射涂层的透明元件。该抗反射涂层根据以上目的设计，使得反射光的色位对层厚度的变化呈现减小的依赖性。

根据本发明的抗反射干扰层系统包括一系列的交替的具有较高折射率的层和具有较低折射率的层。因此，折射率在层与层之间交替地增大和减小。该层系统包括至少四层。通过使用用于至少一个具有较高折射率的层的透明硬质材料获得高耐划性。

已经发现，在一个四层的抗反射涂层中，通过使用多于两种材料能获得色位的与层厚相关的变化的减小。涂覆在基底上的第一高折射率层应具有折射率n_中，折射率n_中在进一步更高折射率层n_高的折射率和低折射率层n_低的折射率之间。

因此，本发明提供片状元件，其包括：

在可见光谱范围中透明的片状基底；和

沉积在基底上的抗反射涂层，其中该抗反射涂层包括：

四个连续的层，其中各相邻层在折射率方面是不同的，使得折射率在层与层之间交替地增大和减小，使得具有较低折射率的层与具有较高折射率的层交替。

四个层中的最底层是折射率较高的层并因而具有比相邻的第二底层更高的折射率。

四个层现在具有至少三种不同的折射率，使得与基底相邻的并且具有更高折射率的最底层的折射率小于折射率进一步更高的层的折射率。

折射率更高的最底层所具有的折射率在1.665和1.795之间，优选小于1.790，更优选小于1.785。

具有较高折射率的最底层优选由含氧材料制成。由于这些特点，片状元件在层厚变化的情况下特别地呈现小的颜色坐标的变化。

与基底相邻的抗反射涂层的最底层优选是氮氧化物层或氧化物层。包括硅或铝或这两种材料的混合物的氮氧化物层是特别合适的，因为这些材料是高度透明的并且同时是硬质的，并且在涂布工艺期间能通过氧含量对折射率进行很好地调整和适应。通常也能使用多种组分用于层的组成。例如，根据本发明的一个实施例，想到最底层包含氮氧化物或氧化物形式的至少三种不同组分，合计为总组成的1原子百分比以上。

使用氮氧化物有助于形成多层抗反射涂层系统，因为氮氧化硅或氮化铝、氮氧化铝、或铝和硅的混合物的氮化物或氮氧化物也能用于具有进一步更高折射率的硬质材料层。因为后者的折射率应更高，所以其氧含量更低。因此根据本发明的实施例想到具有较高折射率的两个层是氮氧化硅层或氮氧化铝层或氮氧化硅和氮氧化铝的混合物，其中具有较高折射率的最底层比具有进一步更高折射率的层具有更高的氧含量。

如果期望利用溅射工艺形成纯氧化(oxidisches)层系统，那么只有氧能用作活性气体。活性气体的混合物被排除。但是，能利用由至少两种材料构成的合金靶以此方式生产根据本发明的抗反射层系统，使得一种材料的氧化物具有高折射率而另一材料的氧化物具有低折射率。通过仔细选择合金靶的成分，现在能通过溅射工艺在含氧工艺气氛中生产混合的氧化物，就较高折射率而言这满足了以上要求，但该较高折射率低于具有进一步更高折射率的层的折射率。这里提到的不排除其他选择的实例是具有锆添加物的硅靶或具有锆添加物的铝靶。

在上面已经说明的，最底层的形成中涉及多于两个组分也是可行的。具体地，可包含在氮氧化物或氧化物形式的至少三种不同组分，合计为总组成的1原子百分比以上。例如，除了Si和Al，可包含比例为1或更多原子百分比的一种其他组分，并且这种其他组分可以氧化物形式或氮氧化物的形式被并入。

抗反射涂层的该系列的四个层最优选直接涂覆于基底。因此，基底表面直接与抗反射涂层的该系列的四个层相邻。

根据本发明的特别优选的实施例，含氟有机膜可涂覆在抗反射涂层上。这种层可特别形成为氟有机分子单层、优选具有1nm至20nm的层厚、更优选具有1nm至10nm的层厚。含氟有机膜可例如是疏油涂层。

已经发现以下的层系统不仅有效地降低指纹的明显度和提供易清洁性，而且被这样涂布的化学钢化玻璃基底和因而获得的本发明的元件特别有助于防止划伤，在该层系统中，额外的含氟有机膜添加到抗反射涂层上，该抗反射涂层包括厚的硬质材料上层，该硬质材料上层具有抗反射涂层的最大厚度。

这归因于以下的事实，另外的含氟有机膜可能减小了表面的摩擦系数使得表面的损坏更小。

为了沉积根据本发明的抗反射涂层，优选采用溅射工艺，特别是反应溅射法。

附图说明

现在参考附图并通过示例性实施例对本发明进行说明。在附图中相同的附图标记指代相同或类似的层。在附图中：

图1示出具有四层的抗反射涂层的基底；

图2示出图1的实施例的变型；

图3示出具有后吸光涂层的本发明的改进；

图4示出根据抗反射涂层的结构和是否存在后吸光涂层的不同元件的色位变化。

图5示出包括SiO₂/TiO₂层的抗反射涂层系统的色位变化；和

图6示出本发明在电子装置中的应用。

具体实施方式

图1示出根据发明的片状元件的示例。不限于示出的具体示例，元件1通常包括在可见光谱范围内透明的基底3和沉积在基底1的一个面30上的抗反射涂层5。

抗反射涂层5包括四个连续的层51、52、53、54。各相邻的层具有不同的折射率。更具体地，层之间的折射率变化，使得折射率交替增大和减小。当朝基底3从顶部向底部穿过层时，从最顶层54到第二顶层53折射率增大，在下一层52减小，并且在最底层51再次增大但保持小于层53的折射率的程度。

四个层51、52、53、54的最底层(即，层51)是具有较高折射率的层并因而具有比相邻的第二底层52高的折射率。

不限于图1的特定示例性实施例，在根据本发明的抗反射涂层中在任何情况下均设置这种顺序的四个层51、52、53、54。优选地，涂层5仅包括这样四个作为旋光层。但是，不排除在该顺序层上和/或其下、基底侧存在额外的层。

四个层51、52、53、54有至少三种不同的折射率，以便邻近基底3的具有较高折射率的最底层51的折射率小于具有进一步更高折射率的层53的折射率。具有较高折射率的最底层51优选由含氧材料形成。

术语“较低折射率”和“较高折射率”是相对于相邻层而言。所以，具有较低折射率的层与一个具有较高折射率的层相邻地布置(如果层系统终止于具有较低折射率的层)，或与两个具有较高折射率的层相邻(如果具有较低折射率的层具有相对于层系统的相邻的其他层的两个界面)。

基底3最优选地是无机氧化基底，特别是玻璃基底。本发明的抗反射涂层系统特别适于化学钢化玻璃基底。

已经发现如果第一硬质材料涂层是氧化硬质材料层(例如，ZrO₂、或Zr-Si混合氧化物、即ZrO₂和SiO₂的混合物，或具有ZrO₂和Al₂O₃的混合氧化物)，或如果第一硬质材料层是氮氧化物形式的含氧氮化物，则能获得第一硬质材料涂层对基底的良好的附着性。合适的氮氧化物包括例如氮氧化硅(SiO_xN_y)或氮氧化铝(AlO_xN_y)或氮氧化硅铝(SiAlO_xN_y)。

上述这些材料ZrO₂或ZrO₂与SiO₂或Al₂O₃的混合物、以及硅或铝的氮氧化物或硅和铝的混合物的氮氧化物特别优选用于具有较高折射率的最底层。ZrO₂可例如与TiO₂层结合作为另一个或上方的具有较高折射率的层。另一选择是下方的具有较高折射率的层使用含钛的氧化物，例如包括钛和其他元素的混合氧化物。一种可能是钛/硅混合氧化物。根据本发明的抗反射系统的优选的变型，期望使用ZrO₂层作为上方的具有较高折射率的层并且与锆和硅的混合氧化物或与锆和铝的混合氧化物或与锆、硅和铝的混合氧化物作为下方的具有较高折射率的层51相结合。

因此，根据本发明的优选实施例，紧挨着基底3的抗反射涂层5的最底层51是氮氧化物或氧化物层。该层特别由元素硅、铝中的至少一个或二者的混合物的氧化物或氮氧化物形成。作为具有较高折射率的最底层51的氧化物层可由与铝和/或硅结合的钛和/或锆的氧化物形成。由此通常也同样在化学钢化玻璃基底上获得特别好的附着性。

总之，两个层51、53是具有较高折射率的层，但是如上所述，区别在于这两个层的折射率是不同的。

然而，对于两个层51、53来说含有相同的成分但组分不同实际上是可行的。如果成分是至少部分相同的，则能有助于制造，因为原则上这两层能利用相同的制造方法沉积并且仅需要调整工艺参数。

本发明的优选实施例基于以下特征，具有较高折射率的两个层51、53是含硅、氮和氧的层，其中具有较高折射率的最底层51比具有进一步更高折射率的层53具有更高的氧含量。

在氮氧化物层的情况下，已经发现，利用与氮相关的约5至10原子百分比的低氧含量已经实现了层的足够的附着性。换句话说，根据本发明的该实施例，在最底层51中相对于氮的氧的含量是至少5原子百分比但小于10原子百分比。根据其他实施例，氮氧化物、优选氮氧化硅的氧与氮的含量(含量以原子百分比给出)的比在0.41至1.02的范围内。

通常，不限于示例性实施例，所有的含硅层除硅之外可包括铝。在最上面三层、即层52、53、54中，铝的比例优选小于硅的比例，在任何情况下都是以原子百分比给出。铝与硅的量的比优选大于0.05，更优选大于0.08，但是硅的量大于铝的量。优选铝相对于硅的量的比为大约0.075至0.5，更优选为约0.1。

上面给出的量的比也可应用于具有较高折射率的最底层51，但是Al和Si的量的任何其他比也是合适的。

抗反射涂层的耐划性能通过将额外的含氟有机膜6涂覆在根据本发明的抗反射涂层5上而被进一步提高。而且，该含氟有机膜对于减小指纹的明显性和提高易清洁性是有更效的。

提高的耐划性被认为可归因于由于额外的含氟有机膜而导致的表面的摩擦系数的降低，从而表面的损坏更小。

图2示出图1的实施例的变型。图1和图2均示出本发明的实施例的示例，其中作为四层的抗反射涂层5的第二顶层53的具有较高折射率的上层具有比层51和52大的层厚。

但是，在图2的示例性实施例中，第二顶层53的厚度甚至明显大于图1中示出的示例中第二顶层的厚度。通常，能发现这样的层设计，其中具有较高折射率的层中的一个非常厚，并且该层设计仍具有好的抗反射性能。具有较高的折射率的硬质层中的一个、优选第二顶层53的大的厚度导致该层系统的高的耐划性。但是，已经发现，如果第二顶层53的厚度不大于所有四个层51、52、53、54的总厚度的一半，是有利的。根据也在图2的示例中实现的另一实施例，作为夹在具有较高折射率的两个层51、53之间的具有较低折射率的层，层52具有四个层中最小的厚度。结果，实际上，该层优选应被选择为尽可能薄以实现层厚变化的情况下获得最小的色位变化。

具有较低折射率的层52、54可通常包括SiO₂层，不限于特定的示例性实施例。换句话说，在四层的抗反射涂层5中，最顶层54和第二底层52在这种情况下由SiO₂形成。由于其折射率相对低，氧化硅特别适于在抗反射涂层的界面处获得折射率的高的跃升。这些氧化硅层可优选含有小比例的Al₂O₃，其中以原子百分比计的铝和硅的含量的比的范围为0.05至0.3的范围，优选约0.1的范围。这种将Al₂O₃小量掺杂到SiO₂仅导致折射率的非常小的增大。

在图2的示例性实施例中，仍实现了本发明的另一实施例。根据本实施例，最底层51的层厚大于第二底层52的层厚。结合折射率的设计，层厚的这种普遍关系也导致层厚的与生产相关的变化的情况下抗反射作用的稳定性提高。该实施例独立于图2中示出的特定的层厚。

图3示出本发明的改进。根据本实施例，通常吸光涂层7、优选黑色涂层被涂覆到与侧面30相反的面31上，抗反射涂层5设置在侧面30上。该装饰涂层优选用作不透明的装饰并典型地限定用于显示器区域32的框架，在该显示器区域中显示器、例如LCD或OLED显示器对于观看者来说是可见的。不透明的装饰隐藏部件、例如基底3的外周附件或布置在显示器的外周区域中的连接部。

用于示出本发明的用作的出发点的示例是设有抗反射涂层的盖玻璃，该抗反射涂层具有玻璃/Si₃N₄/SiO₂/Si₃N₄/SiO₂的层顺序，如现有技术已知的。因此，在作为基底3的玻璃片上，首先是作为层51的氮化硅层被沉积，然后是作为层52的SiO₂层，之后是另一氮氧化硅层53，在层53的顶部上是抗反射涂层5的最顶层54。如图1所示，含氟有机膜可额外地涂覆在抗反射涂层5的最顶层54上。

图4示出在不同元件1上的色位的变化，这取决于抗反射涂层5的结构和在基底3的侧面31上是否存在吸光涂层或光阻涂层7。测量值借助括号中的附图标号被单独地指定。

例如，如果铝硅酸盐玻璃用于基底3并且从玻璃开始层厚如下，则给出均匀反射的最佳的情况：

层(51)	Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>	15nm
			层(52)	SiO<sub>2</sub>	32nm
层(53)	Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>	132nm
			层(54)	SiO<sub>2</sub>	87nm

在这种情况下，根据CIE-Lab(色空间)，色位被确定为在无装饰的纯玻璃、即无吸光涂层7的纯玻璃上分别为1.0的a和3.7的b(测量值为40)的坐标。

如果层厚改变了+1nm(16nm(层51),33nm(层52),133nm(层53),88nm(层54))，发现1.5和2.8的色位值(测量值41)。如果层厚减小1nm(14nm,31nm,131nm,86nm)，则发现a和b的值分别为0.1和4.7。上述的三个测量值40、41、42在图4中用三角符号示出。

利用黑色装饰涂层或在图3所示的盖玻璃的后面上具有吸光涂层7的区域中，色位值相对于同样的涂层具有明显更大的变化。相应的测量值43、44、45用菱形符号表示。对于关闭状态下的显示器、在此情况下为黑屏以及也在打开状态下的显示器的黑色区域中、例如在黑色背景情况下得到更强的色位变化。

在这种情况下，最佳情况的颜色值如下：a＝-0.2,b＝2.1(测量值43)；

对于+1nm的层厚：a＝1.7和b＝-0.7(测量值44)；

对于-1nm的层厚：a＝-2.6和b＝4.6(测量值45)。

该更大的变化和对层厚的依赖能归因于没有后面反射，该后面反射被装饰涂层所抑制。在纯玻璃的情况下，约4％从其后面(在可见光波长范围均匀地)反射回来，并且这导致抗反射前面(约0.5％)约10倍的总反射。由层厚的变化引起的色位的变化被后面“超过”并因更不容易被注意到。在黑色后面装饰的情况下，后面反射几乎被抑制。因此，色位几乎仅由抗反射涂层5确定，并且层厚的变化引起的色位的变化占更大比重。

用于对比，测量值60至62(叉形符号)和63至65(方形符号)根据本发明的抗反射涂层5的计算的色位变化，其示出同样的层厚变化。

在任何情况下，本发明的抗反射涂层5的第一层是含氧氮化硅层，其中氧和氮的比O/N被调整为使得在550nm下得到约1.71的折射率。对于朝向Si₃N₄的更高的折射率，色位变化增大。在SiO_xN_y中氧过多的情况下，四层的抗反射涂层不再呈现好的抗反射条件。通常，不限于最底层51的组成，具有较高折射率的最底层51的折射率为1.665和1.795之间。更优选地，在这种情况下，折射率小于1.790，最优选地小于1.785。

测量值60-62涉及没有装饰涂层的玻璃基底并因此能与测量值40、41、42相比。显然，对于具有相同层厚变化的本发明的层系统来说，相比于包括相似的具有较高折射率的层的抗反射涂层，色位明显更紧密地在一起。在具有吸光涂层7的区域中，对于包括具有较高折射率的层51、53(就材料和折射率来说它们是不同的)的本发明的抗反射涂层来说，色位变化(测量值63-65)也增大。但还是在这种情况下，色位的变化基本小于具有较高折射率的层51、53(它们在材料和折射率方面是相似的)的抗反射涂层。

本发明抗反射系统的特定示例在下表中示出，本发明抗反射系统在层厚变化的情况下相比于现有技术的AR系统具有较小的色位变化：

层(51)	SiO<sub>x</sub>N<sub>y</sub>(n＝1.77)	33nm
			层(52)	SiO<sub>2</sub>	24nm
层(53)	Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>	132nm
			层(54)	SiO<sub>2</sub>	87nm

图5示出在基于TiO₂/SiO₂的抗反射涂层的情况下从基底的光反射的色位。对于在其后面上设有吸光涂层7的片状元件1来说，色位被再次计算。

而且，这些抗反射涂层5中的每一个均包括四个层。对于具有较高折射率的层51、53，在图5中示出的色位值46、47、48的情况下，使用二氧化钛层(TiO₂)。色位值66、67、68属于根据本发明的抗反射涂层5，其中涂层的四个层51、52、53、54以此方式具有至少三种不同的折射率，使得紧挨基底3的具有较高折射率的最底层51的折射率小于具有进一步更高折射率的层53的折射率，其中，具有较高折射率的最底层51由含氧材料形成。

在目前情况下，具有约1.77的折射率的SiO_xN_y、即含氧氮化硅被选择用于最底层51。相反，纯氮化硅具有约n＝2的折射率。在值为1.77的情况下，层51的折射率在SiO₂的值(即，层52、54的折射率)和TiO₂(即，层53的折射率)的值之间。

通过示例，在下表中给出由上述材料SiO_xN_y、SiO₂、和TiO₂制成的根据本发明的AR系统的结构的一个可行示例。

层(51)	SiO<sub>x</sub>N<sub>y</sub>(n＝1.733)	61nm
			层(52)	SiO<sub>2</sub>	10nm
层(53)	TiO<sub>2</sub>	102nm
			层(54)	SiO<sub>2</sub>	89nm

结果类似于图4的示例。如果在四层的AR系统中仅使用两个不同折射率(色位值46、47、48)，相比于使用三种折射率(色位值66、67、68)(其以如上所述的从基底开始n_中、n_低、n_高、n_低的顺序设置的情况下)，层的层厚变化±1nm则色位的变化更大。在图2中示出的示例中，层厚的关系对应于上表中的值。

当层厚如上所述偏离10％时，仍能获得好的抗反射特性。因此，根据本发明的一个实施例，层厚如下：最底层51为61±6.1nm，第二底层52为10±1nm，具有较高折射率的上层53为102±10.2nm，最顶层54为89±8.9nm。

对于这些示例来说，显然如果具有较高折射率的两个层51、53具有一定的最小的折射率差，则是有利的。通常，不限于参考附图描述的示例，根据本发明的改进想到：抗反射涂层5的四个层51、52、53、54的最底层51的折射率应选择为小于1.79，同时，相邻层52应调整为具有1至20nm的厚度，优选在5和15nm之间的厚度。已经发现，层52的小的层厚对于降低AR系统的色位变化对改变层厚的敏感度是有效的。因此，根据本发明的实施例，想到布置在具有较高折射率的两个层51、53之间并且构成第二底层的具有较低折射率的层52的厚度小于20nm，优选小于18nm，更优选小于15nm。

通过具有较低折射率的层的折射率给出折射率差的下限。根据在抗反射系统的结构中使用的材料，1.66及以上的折射率在这里对于最底层51是优选的。

因此，层51的折射率优选范围为1.66至1.79。

图6示出本发明的典型应用。根据本发明的一个实施例，不限于示出的示例，便携电子装置20设有电子显示器21，优选矩阵显示器或像素控制显示器，并且电子装置20包括覆盖电子显示器21的根据本发明的片状元件1，并且片状元件1的侧面30设有面向外的抗反射涂层5。在这种情况下，抗反射涂层5一方面在减少干扰光反射方面是有效的，另一方面在提供保护防止由于外部机械碰撞引起划伤方面是有效的。

示出的示例是平板电脑形式的便携装置。本发明同样适用于：移动电话，特别是所谓的智能手机；便携导航装置；和移动媒体播放器，例如特别是音乐和视频播放器；以及智能手表。

这些装置受到特定的机械应力，特别是这些装置配备有包括触敏屏的用户界面的情况下，使得具有根据本发明的元件1的抗反射涂层5的侧面30同时构成界面的操作表面。特别是在本发明的该实施例中，如上所述的并且在图1的示例中示出的含氟有机膜6的形式的其他涂层是有利的。

通常期望电子显示器的盖玻璃不是完全透明的，而是希望隐藏某些区域，如参考图3在上面说明的。为了该目的，设置吸光涂层7，该吸光涂层7覆盖元件1的周边区域并提供用于电子显示器21的框架。特别是在图6中以黑色示出的这些周边区域(其设有吸光涂层)中，色位的变化是特别清晰可见的，如通过图4和5的示例已经说明的。实际上，由于抗反射涂层5，光反射实际是非常弱的。但是，由于吸光涂层，黑色背景引起高对比度，使得即使非常弱的光反射也是能被注意到的。现在抗反射涂层5的本发明的设计确保剩余的可见光反射显出均匀的颜色。

对于本领域技术人员显而易见的是，本发明不限于在附图中示出的示例性实施例，而是能在权利要求的主题的范围内变化。特别是，各示例性实施例的特定特征能组合。例如，对于便携电子装置20来说，能使用在图1中示出的并具有图2的示例的其他特点的涂层。在每一个示出的实施例中可设置含氟有机涂层6。该选择甚至是明确地优选的。

Claims

1.一种片状元件(1)，其包括：

-在可见光谱范围中透明的基底(3)；和

-沉积在所述基底(3)上的抗反射涂层(5)，所述抗反射涂层(5)包括：

四个相继的层(51、52、53、54)，其中各相邻层在其折射率方面不同，使得折射率在层与层之间交替地增大和减小，使得具有较低折射率的层(52、54)与具有较高折射率的层交替；并且其中

四个层(51、52、53、54)的最底层(51)是较高折射率的层，其具有比相邻的第二底层(52)更高的折射率；

其中四个层(51、52、53、54)有至少三种不同的折射率，使得与所述基底(3)相近的具有较高折射率的所述最底层(51)的折射率小于具有进一步更高折射率的层(53)的折射率，其中，具有较高折射率的所述最底层(51)的折射率在1.665和1.795之间，并且其中，具有较高折射率的所述最底层(1)由含氧材料制成，其中所述最底层(51)的层厚大于所述第二底层(52)的层厚因而所述片状元件(1)在层厚变化的情况下特别呈现低的色位变化。

2.根据权利要求1所述的片状元件(1)，其中具有较高折射率的所述最底层(51)的折射率小于1.790。

3.根据权利要求1所述的片状元件(1)，其中具有较高折射率的所述最底层(51)的折射率小于1.785。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中所述基底(3)是玻璃基底。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中所述基底(3)是化学钢化玻璃基底。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中与所述基底(3)相近的所述抗反射涂层(5)的所述最底层(51)是氮氧化物层，或是氧化物层；和/或

其中两个具有较高折射率的层(51、53)是氮氧化硅层，其中具有较高折射率的最底层(51)相比于具有进一步更高折射率的层(53)具有更高的氧含量；以及/或者

其中所述最底层(51)所含的氧的范围为5至10原子百分比，或其中在氮氧化物中以原子百分比计的氧与氮的含量的比的范围为0.41至1.02。

7.根据权利要求6所述的片状元件(1)，其中所述氮氧化物层包含硅或铝、或硅和铝。

8.根据权利要求6所述的片状元件(1)，其中所述氮氧化物层含ZrO₂的层。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中作为四层的所述抗反射涂层(5)的第二顶层的具有较高折射率的上层是四个层(51、52、53、54)中具有最大厚度的层。

10.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中含氟有机膜(6)被涂覆在所述抗反射涂层(5)上。

11.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中吸光涂层(7)、优选装饰涂层被涂覆在所述基底(3)的与设有所述抗反射涂层(5)的侧面(30)相反的侧面(31)上。

12.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中装饰涂层被涂覆在所述基底(3)的与设有所述抗反射涂层(5)的侧面(30)相反的侧面(31)上。

13.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中具有较低折射率的层(52、54)是SiO₂层。

14.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中具有较低折射率的层(52、54)是额外含有Al₂O₃的SiO₂层，使得以原子百分比计的Al/Si的含量的比的范围为0.05至0.3。

15.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中具有较低折射率的层(52、54)是额外含有Al₂O₃的SiO₂层，使得以原子百分比计的Al/Si的含量的比的范围为0.1。

16.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中所述第二底层(52)的层厚小于20nm。

17.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中所述第二底层(52)的层厚小于18nm。

18.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中所述第二底层(52)的层厚小于15nm。

19.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中所述抗反射涂层(5)具有以下层厚：

四个相继层中的所述最底层(51)为61±6.1nm，

四个相继层中的所述第二底层(52)为10±1nm，

四个相继层中的具有较高折射率的上层(53)为102±10.2nm，和

四个相继层中的最顶层(54)为89±8.9nm。

20.根据权利要求1至3中任一项所述的片状元件(1)，其中所述基底的表面与所述抗反射涂层(5)直接相邻。

21.一种具有电子显示器(21)的便携电子装置(20)，其中所述电子装置(20)包括前述权利要求中任一项所述的片状元件(1)，所述片状元件覆盖所述电子显示器(21)，其中所述片状元件(1)的设有所述抗反射涂层(5)的侧面(30)是面向外的。

22.根据权利要求21所述的便携电子装置(20)，其中所述电子显示器为矩阵显示器。

23.根据权利要求21所述的便携电子装置(20)，其包括用户界面，所述用户界面包括触敏屏，其中所述片状元件(1)的设有所述抗反射涂层(5)的侧面(30)是所述界面的操作表面。