JP7380708B2 - 扉または壁 - Google Patents

Description

本発明は、積層体および扉または壁に関する。

ガラス基板の上に金属製の反射層を含む積層膜を設置した積層体は、例えば、ハーフミラーおよび化粧壁等に使用されている。

例えば、引用文献１には、ガラス基板の上に積層膜を有する積層体であって、前記積層膜が誘電体基層と、クロム層と、誘電体窒化物カバー層とを含む積層体が記載されている。

特表２００４－５１４６３６号公報

近年、前述のような積層体を、タッチパネルを含む装置に適用することが検討されている。例えば、積層体を、タッチパネルを含む扉または壁などの部材（以下、「タッチパネル含有装置」と称する）に適用すれば、ハーフミラーとしての機能を有するタッチパネル含有装置を提供できる可能性がある。

しかしながら、従来の積層体は、積層膜に反射率を調整するための金属層を有する。タッチパネル含有装置において、そのような金属層が存在すると、タッチパネルが適正に作動しなくなってしまう。従って、従来の積層体は、タッチパネル含有装置への適用には適さないという問題がある。

本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、タッチパネル含有装置への適用が可能な積層体を提供することを目的とする。また、本発明では、そのような積層体を有する扉または壁を提供することを目的とする。

本発明では、積層体であって、
ガラス基板と、
前記ガラス基板の表面に設置された積層膜と、
を有し、
前記積層膜は、前記ガラス基板の側から、
窒化ケイ素を含む第１の層、
シリコンを含む第２の層、および
窒化ケイ素を含む第３の層
を有し、
当該積層体は、前記ガラス基板の側から入射される可視光の透過率が１０％以上であり、前記積層膜の側から測定される表面抵抗値が２００Ω／ｓｑ超である、積層体が提供される。

また、本発明では、扉または壁であって、
タッチパネルと、
積層体と、
を有し、
前記積層体は、前述の特徴を有する積層体であり、
前記タッチパネルは、前記積層体の前記積層膜の側に設置される、扉または壁が提供される。

本発明では、タッチパネル装置への適用が可能な積層体を提供することができる。また、本発明では、そのような積層体を有する扉または壁を提供することができる。

本発明の一実施形態による積層体の構成を模式的に示した断面図である。 本発明の一実施形態による積層体が適用された扉を模式的に示した断面図である。 本発明の一実施形態による積層体の製造方法の一例を模式的に示したフロー図である。 本発明の一実施形態による積層体の積層膜におけるＸ線光電子分光（ＸＰＳ）分析結果の一例を示した図である。

以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。

（本発明の一実施形態による積層体）
図１には、本発明の一実施形態による積層体の断面を模式的に示す。

図１に示すように、本発明の一実施形態による積層体（以下、「第１の積層体」と称する）１００は、ガラス基板１１０と、積層膜１３０とを有する。ガラス基板１１０は、相互に対向する第１の表面１１２および第２の表面１１４を有し、積層膜１３０は、ガラス基板１１０の第１の表面１１２の側に配置される。

積層膜１３０は、ガラス基板１１０に近い順に、第１の層１４０と、第２の層１５０と、第３の層１６０とを有する。

第１の層１４０および第３の層１６０は、窒化ケイ素を主体とした層で構成される。一方、第２の層１５０は、シリコンを主体とした層で構成される。

本願において、「○○を主体とした層」とは、当該物質が層内に５０質量％以上含まれることを意味する。

第２の層１５０は、主として、積層膜１３０に所望の反射特性を発現させる役割を有する。これに対して、第１の層１４０および第３の層１６０は、主として、第２の層１５０を保護する役割を有する。例えば、第１の層１４０および第３の層１６０が存在することにより、第１の積層体１００またはその前駆体を熱処理する際に、第２の層１５０の酸化が抑制される。また、第３の層１６０により、積層膜１３０の耐擦傷性を高めることができる。

なお、第１の積層体１００は、積層膜１３０の側から測定した際の表面抵抗値が２００Ω／ｓｑ超である。また、第１の積層体１００は、ガラス基板１１０の側から入射される可視光の透過率、すなわち可視光透過率が１０％以上であるという特徴を有する。

ここで、前述のように、積層膜に金属層を含む従来の積層体は、タッチパネルが適正に作動しなくなるため、タッチパネル含有装置への適用が難しいという問題がある。

しかしながら、第１の積層体１００において、積層膜１３０は、反射層として、従来のクロム層のような金属層を含まない。すなわち、第１の積層体１００では、反射特性を発現させる第２の層１５０は、半導体材料であるシリコンを主体とする層で構成される。

また、第１の積層体１００は、可視光透過率が１０％以上である。

さらに、第１の積層体１００は、表面抵抗値が２００Ω／ｓｑ超であるという特徴を有する。

従って、第１の積層体１００は、タッチパネル含有装置に適正に適用することができる。

さらに、第１の積層体１００では、積層膜１３０の第２の層１５０の厚さ等の調整により、所望の反射特性および透過特性を発現させることができる。

従って、第１の積層体１００をタッチパネル含有装置に適用した場合、ハーフミラーとしての機能を発現させることができる。また、反射色を調整することにより、高い意匠性を有するタッチパネル含有装置を提供することも可能となる。

（積層体を構成する各部材）
次に、本発明の一実施形態による積層体を構成する各部材について、より詳しく説明する。

なお、ここでは、明確化のため、図１に示した第１の積層体１００を例に、その構成部材について説明する。従って、各部材を表す際には、図１に示した参照符号を使用する。

（ガラス基板１１０）
ガラス基板１１０としては、従来のガラス基板が使用できる。特に、ガラス基板１１０の平均可視光透過率は、８０％以上であることが好ましい。

また、ガラス基板１１０は、化学強化されていてもよく、熱強化されていてもよい。

（第１の層１４０）
第１の層１４０は、窒化ケイ素を主体とする層で構成される。

第１の層１４０は、さらにアルミニウムを含んでもよい。第１の層１４０に含まれるアルミニウムの量は、例えば、最大３０質量％以下であり、２０質量％以下であることが好ましい。

第１の層１４０の厚さは、例えば、３ｎｍ～８０ｎｍの範囲である。第１の層１４０の厚さは、５ｎｍ～３０ｎｍの範囲であることが好ましい。

（第２の層１５０）
第２の層１５０は、シリコンを主体とする層で構成される。シリコンは、アモルファスシリコンであることが好ましい。なお本願において、「アモルファス」とは、Ｘ線回折装置によるＸ線回折パターンにおいて、ピークが観測されないことを意味する。

第２の層１５０は、さらにアルミニウムおよび／または炭素を含んでもよい。第２の層１５０に含まれるアルミニウムの量は、例えば、最大３０質量％以下であり、２０質量％以下であることが好ましい。第２の層１５０に含まれる炭素の量は、例えば、最大３０質量％以下であり、２０質量％以下であることが好ましい。第２の層１５０に含まれる炭素の量を、最大３０質量％以下とすることにより、表面抵抗値の低下を有意に抑制できる。

なお、第２の層１５０は、酸素および窒素をなるべく含まないことが好ましい。これらの元素は、第２の層１５０の反射特性に悪影響を及ぼし得るためである。

第２の層１５０に含まれる酸素および窒素の含有量は、それぞれ、１０原子％未満であることが好ましい。また、第２の層１５０に含まれる酸素および窒素の合計含有量は、１５原子％未満であることが好ましい。

なお、本願において、各層に含まれる元素の量は、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）分析により求めた。ＸＰＳ分析における装置条件は、以下の通りである。
・測定装置；ＰＨＩ Ｑｕａｎｔｅｒａ ＩＩ（アルバック・ファイ社製）
・測定条件
イオン中和銃；使用
光電子取出し角；４５゜
Ｘ線セッティング；Ａｌモノクロ１００μｍφ ２５Ｗ，１５ｋＶ
パスエネルギー；２２４ｅＶ
ステップ；０．４ｅＶ
測定元素；Ｃ，Ｏ，Ｎ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｃａ，Ｎａ
各元素スイープ；５
スパッタパワー；１ｋＶ
スパッタ領域；２ｍｍ×２ｍｍ
インターバル；０．２５分。

また、第２の層１５０において、窒素とケイ素の含有量の比Ｎ／Ｓｉは、０．１０以下であることが好ましい。

ここで、第２の層１５０における比Ｎ／Ｓｉは、第２の層１５０の深さ方向におけるＸＰＳ分析結果から、以下のように算定される。
・第２の層１５０においてケイ素の測定値が最も高い位置（以下「中心点」という）を求める。
・中心点における窒素の値を求める。
・中心点におけるケイ素の測定値および窒素の測定値から、比Ｎ／Ｓｉを求める。

第２の層１５０の厚さは、例えば、３ｎｍ～４０ｎｍの範囲である。第２の層１５０の厚さは、５ｎｍ～３０ｎｍの範囲であることが好ましい。

（第３の層１６０）
第３の層１６０の厚さは、例えば、３ｎｍ～８０ｎｍの範囲である。第３の層１６０の厚さは、５ｎｍ～６０ｎｍの範囲であることが好ましい。

なお、第３の層１６０については、上記第１の層１４０に関する記載が参照できるため、ここでは、詳細な記載を省略する。

（積層膜１３０）
積層膜１３０の基本構成は前述の通りであるが、積層膜１３０は、さらに、最表面に保護層を有してもよい。

保護層としては、例えば、チタニア層およびジルコニア層等が挙げられる。

また、図１に示した例では、積層膜１３０において、第１の層１４０および第２の層１５０は、相互に隣接している。また、第３の層１６０および第２の層１５０は、相互に隣接している。

しかしながら、これは単なる一例であって、第１の層１４０と第２の層１５０の間、および／または第３の層１６０と第２の層１５０との間に、別の層（金属層は除く）が存在してもよい。

同様に、ガラス基板１１０と第１の層１４０との間に、別の層（金属層は除く）が存在してもよい。ただし、ガラス基板１１０と第１の層１４０との間には、酸化物層が存在しないことが好ましい。この場合、後述するように、ガラス基板１１０の熱強化処理のため、第１の積層体１００を熱処理した際に、ヘイズ値の上昇を抑制することが可能になる。

積層膜１３０の層数は、１０以下であることが好ましい。層数が１０以下であれば、積層体の厚さを低減でき、内部応力の増加が抑制されるため、耐久性の向上につながる。

（第１の積層体１００）
第１の積層体１００は、積層膜１３０の側から測定した際に、２００Ω／ｓｑ超の表面抵抗値を有する。表面抵抗値は、４００Ω／ｓｑ以上であることが好ましい。

また、第１の積層体１００は、ガラス基板１１０から積層膜１３０に向かって測定した際に、１０％以上の可視光透過率Ｔｖを有し、２０％以上の可視光透過率Ｔｖを有することが好ましい。

ここで、「可視光透過率Ｔｖ」は、ＩＳＯ９０５０：２００３に基づいて求められた値である。

また、第１の積層体１００は、ガラス基板１１０の側から測定した際に、２０％以上の可視光反射率Ｒｖを有することが好ましく、２５％以上の可視光反射率Ｒｖを有することがより好ましい。

ここで、「可視光反射率Ｒｖ」は、ＩＳＯ９０５０：２００３に基づいて求められた値である。

また、第１の積層体１００は、可視光透過率Ｔｖと可視光反射率Ｒｖの比、Ｔｖ／Ｒｖが０．３≦Ｔｖ／Ｒｖ≦２．０の範囲にあることが好ましい。この場合、第１の積層体１００を好適なハーフミラーとして利用することができる。

また、第１の積層体１００は、意匠性の観点から、反射色のｂ^＊が、－１０＜ｂ^＊＜１５を満たすことが好ましい。

なお、本願において、反射色の色調は、ＣＩＥ１９７６Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色度座標に基づいて定められる。

さらに、第１の積層体１００は、ヘイズが０．５％未満であってもよい。

（適用例）
本発明の一実施形態による積層体は、タッチパネルを有する扉および壁などに適用することができる。

以下、図２を参照して、本発明の一実施形態による積層体の一適用例について説明する。

図２には、本発明の一実施形態による積層体が設置された扉の断面を模式的に示す。

図２に示すように、この扉２０１は、積層体２００と、有機物層２７０と、タッチパネル２８０とを有する。

積層体２００は、ガラス基板２１０と、積層膜２３０とを有する。有機物層２７０は、積層膜２３０の上に設置される。また、タッチパネル２８０は、有機物層２７０の上に設置される。

有機物層２７０は、扉２０１の意匠性を高めるために設置される。

有機物層２７０は、第１の部分２７２および第２の部分２７４を有する。有機物層２７０の第１の部分２７２は、例えば、カーボンブラックのような着色剤を含む樹脂で構成される。樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、（メタ）アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、またはアルキド樹脂が使用されてもよい。

一方、有機物層２７０の第２の部分２７４は、タッチパネル２８０の直下に相当する。第２の部分２７４は、タッチパネル２８０の動作を妨害しないように、透明な有機物で構成される必要がある。そのような透明な有機物は、例えば、前述の樹脂等で構成されてもよい。

ここで、扉２０１において、積層体２００は、本発明の一実施形態による積層体、例えば前述のような第１の積層体１００で構成される。

前述のように、積層体２００は、積層膜２３０中に金属反射層を含まず、代わりにシリコンを含む第２の層が使用される。また、積層体２００は、１０％以上の可視光透過率Ｔｖを有し、２００Ω／ｓｑ超の表面抵抗値を有する。

従って、扉２０１では、タッチパネルを適正に作動させることが可能になる。

以上、図２を参照して、本発明の一実施形態による積層体を備えるタッチパネル付き扉２０１について説明した。しかしながら、本発明の一実施形態による積層体の適用例は、これに限られるものではない。例えば、本発明の一実施形態による積層体は、タッチパネルを有する壁に適用されてもよい。あるいは、本発明の一実施形態による積層体は、その他のタッチパネル含有装置に適用されてもよい。

（本発明の一実施形態による積層体の製造方法）
次に、図３を参照して、本発明の一実施形態による積層体の製造方法について説明する。

図３には、本発明の一実施形態による積層体の製造方法（以下、「第１の製造方法」と称する）のフローを模式的に示す。

図３に示すように、第１の製造方法は、
ガラス基板の上に第１の層を設置する工程（工程Ｓ１１０）と、
第１の層の上に第２の層を設置する工程（工程Ｓ１２０）と、
第２の層の上に第３の層を設置する工程（工程Ｓ１３０）と、
必要な場合に実施される、ガラス基板を熱強化処理する工程（工程Ｓ１４０）と、
を有する。

以下、各工程について説明する。なお、ここでは、図１に示した第１の積層体１００を例に、その製造方法について説明する。従って、各部材を表す際には、図１に示した参照符号を使用する。

（工程Ｓ１１０）
まず、ガラス基板１１０が準備される。また、ガラス基板１１０の第１の表面１１２に、窒化ケイ素を主体とする第１の層１４０が設置される。

第１の層１４０の設置方法は、特に限られず、従来の任意の成膜方法を用いて成膜されてもよい。第１の層１４０は、例えば、スパッタリング法により成膜されてもよい。

（工程Ｓ１２０）
次に、第１の層１４０の上に、シリコンを主体とする第２の層１５０が設置される。第２の層１５０の設置方法は、特に限られず、従来の任意の成膜方法を用いて成膜されてもよい。第２の層１５０は、例えば、スパッタリング法により成膜されてもよい。

（工程Ｓ１３０）
次に、第２の層１５０の上に、窒化ケイ素を主体とする第３の層１６０が設置される。第３の層１６０の設置方法は、特に限られず、従来の任意の成膜方法を用いて成膜されてもよい。第３の層１６０は、例えば、スパッタリング法により成膜されてもよい。

なお、第１の層１４０～第３の層１６０がいずれもスパッタリング法で成膜される場合、各層は、同一のスパッタ装置内で成膜されてもよい。この場合、一つの層を成膜する度にガラス基板を出し入れする必要がなくなり、成膜工程を効率化できる。

あるいは、各層は、インライン型の成膜装置を用いて、連続的に設置されてもよい。インライン型の装置では、ガラス基板が装置内を搬送されている間に、各層が順次成膜される。

（工程Ｓ１４０）
工程Ｓ１３０までのステップにより、前述のような構成を有する第１の積層体１００を製造することができる。ただし、必要な場合、工程Ｓ１３０の後に、さらに、ガラス基板１１０を熱強化処理する工程を実施してもよい。

そのような熱強化処理は、通常、６００℃～７００℃の範囲で実施される。

なお、積層膜１３０には、シリコンを主体とする第２の層１５０が含まれる。しかしながら、第２の層１５０は、第１の層１４０と第３の層１６０との間に挟まれている。従って、熱強化処理の際に、第２の層１５０が熱影響を受けて変質するという問題は生じ難い。すなわち、熱強化処理の前後で、積層膜１３０はほとんど変化しない。

例えば、第１の積層体１００では、熱強化処理後のヘイズを０．５％未満にすることができる。

ただし、工程Ｓ１１０の前に、ガラス基板１１０の第１の表面１１２に酸化物層を設置する工程を実施した場合、化学強化処理後のヘイズが０．５％以上となる場合がある。

従って、ガラス基板１１０の直上に酸化物層を設置する工程は、実施しないことが好ましい。

（追加の工程）
以上の工程により、第１の積層体１００を製造することができる。ただし、前述の図２に示した扉２０１を製造する場合、以下の追加工程が実施され得る。

（有機物層の設置）
扉２０１を製造する場合、第１の積層体１００の積層膜１３０の側に、さらに、有機物層２７０が設置される。

有機物層２７０の形成方法は、特に限られない。有機物層２７０は、例えば、スクリーン印刷法等により設置されてもよい。

なお、前述のように、有機物層２７０は、第１の部分２７２および第２の部分２７４を有する。従って、第１の部分２７２は、色素を含む樹脂をスクリーン印刷法することにより構成され、第２の部分２７４は、色素を含まない（透明な）樹脂をスクリーン印刷法することにより構成されてもよい。

有機物層２７０の設置後に、第１の積層体１００を熱処理してもよい。これにより、有機物層２７０が乾燥され、第３の層１６０の上に固着される。

熱処理の温度は、例えば、５０℃～２００℃の範囲であってもよい。

（タッチパネルの設置）
その後、有機物層２７０の第２の部分２７４上に、タッチパネル２８０が設置される。

以上の工程により、前述の図２に示した扉２０１を製造することができる。

なお、上記第１の製造方法は、単なる一例であって、本発明の一実施形態による積層体が別の製造方法で製造され得ることは、当業者には明らかである。

以下、本発明の実施例について説明する。なお、以下の記載において、例１～例６および例２１は実施例であり、例１１は比較例である。

（例１）
以下の方法で積層体を作製した。

まず、ガラス基板（ソーダライムガラスＦＬ４、厚さ４ｍｍ：ＡＧＣ社製）を準備した。次に、スパッタリング法により、ガラス基板上に積層膜を成膜した。積層膜は、第１の層、第２の層、および第３の層の３層構成とした。

成膜装置には、ラボ用のインライン型スパッタリング装置を使用し、成膜室内でガラス基板を搬送させながら、反応性ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、順次３つの層の成膜を行うことにより、積層膜を形成した。

各層の成膜用のターゲットとして、ポリシリコンターゲットを使用した。成膜室内は、２．０×１０^－４Ｐａまで真空排気した。

第１の層は、窒化ケイ素層（目標厚さ２０ｎｍ）とし、放電ガスとして、アルゴンと窒素の混合ガス（Ａｒ：Ｎ_２＝４０ｓｃｃｍ：６０ｓｃｃｍ）を使用した。ターゲットの寸法は、７０×２００ｍｍ^２であり、スパッタ電力は５００Ｗとした。成膜室の圧力は、０．４Ｐａであった。

第２の層は、シリコン層（目標厚さ２３ｎｍ）とし、放電ガスとしてアルゴンを１００ｓｃｃｍ導入した。スパッタ電力は５００Ｗとした。

第３の層は、窒化ケイ素層（目標厚さ１０ｎｍ）とした。第３の層の成膜条件は、第１の層と同様とした。

以上の方法によりガラス基板上に積層膜を形成した後、ガラス基板の熱強化のため、得られた積層体を熱処理した。熱処理温度は、６５０℃とした。

得られた積層体を「サンプル１」と称する。

（例２～例５）
例１と同様の方法により、積層体を作製した。ただし、例２～例５では、積層膜に含まれる各層の厚さを例１の場合とは変化させた。

得られた積層体を、それぞれ、「サンプル２」～「サンプル５」と称する。

（例６）
例１と同様の方法により、積層体を作製した。ただし、この例６では、ガラス基板に第１の層を成膜する前に、ガラス基板上にチタニア層（目標厚さ４０ｎｍ）を成膜した。

チタニア層は、チタンターゲットを用いて形成した。放電ガスとして、アルゴンと酸素の混合ガス（Ａｒ：Ｏ_２＝４０ｓｃｃｍ：６０ｓｃｃｍ）を導入した。スパッタ電力は５００Ｗとした。

得られた積層体を、「サンプル３」と称する。

（例１１）
例１と同様の方法により、積層体を作製した。ただし、この例１１では、第２の層として、金属クロム層（目標厚さ１３ｎｍ）を形成した。

金属クロム層は、クロムターゲットを用いて形成した。放電ガスとして、アルゴンガスを１００ｓｃｃｍ導入した。スパッタ電力は５００Ｗとした。

得られた積層体を、「サンプル１１」と称する。

（例２１）
より実際の製造プロセスに近い状態で積層体を製造した。すなわち、生産用のインライン型成膜装置を用いて積層体を作製した。この装置で成膜される積層膜は、前述のようなラボ用の装置に比べて、不純物の影響を受けやすいと言える。

積層体は、ガラス基板（ソーダライムガラスＦＬ４、厚さ４ｍｍ：ＡＧＣ社製）の上に、３層構造の積層膜を有する。

積層膜の構成は、以下とした：
・第１の層：目標厚さ１０ｎｍのＳｉＡｌＮ（Ａｌ＝１０ａｔ％）
・第２の層：目標厚さ２３ｎｍのＳｉＡｌ（Ａｌ＝１０ａｔ％）
・第３の層：目標厚さ２０ｎｍのＳｉＡｌＮ（Ａｌ＝１０ａｔ％）
第１の層、第２の層および第３の層の成膜には、ＳｉＡｌターゲットを使用した。

成膜後に、例１と同様の方法で、積層体を熱処理した。

得られた積層体を、「サンプル２１」と称する。

以下の表１には、各サンプルにおける積層膜の仕様をまとめて示した。

図４には、サンプル２１の積層膜において得られたＸ線光電子分光（ＸＰＳ）分析の結果を示す。ただし、この結果は、サンプル２１の熱強化処理前の状態に対応する（すなわち、熱処理が未実施の試料で測定した）。

図４において横軸は、スパッタリング時間（層の厚さに対応する）であり、縦軸は、各原子の濃度（任意単位）である。

図４には、サンプル２１の積層膜を構成する３つの層に対応するピークが出現している。また、図４から、第２の層内には、不純物として、ＮおよびＯがほとんど含まれていないことがわかる。

得られた結果から、第２の層における窒素とケイ素の含有量の比Ｎ／Ｓｉを算定したところ、比Ｎ／Ｓｉは、０．０６であった。

なお、サンプル２１の積層膜（すなわち熱処理実施後のもの）において、同様の分析を実施したが、分析結果は図４の結果とほぼ等しく、大きな違いは認められなかった。

（評価）
以下の方法で各サンプルの特性を評価した。

（光学特性）
分光光度計（Ｕ４１００：ＨＩＴＡＣＨＩ社製）を用いて、各サンプルの光学特性を評価した。

サンプルの可視光透過率Ｔｖおよび可視光反射率Ｒｖを、ＩＳＯ９０５０：２００３に基づいて測定した。可視光透過率Ｔｖは、ガラス基板から積層膜に向かって測定した。可視光反射率Ｒｖは、ガラス基板の側から測定した。

得られた結果から、比Ｔｖ／Ｒｖを算定した。

また、反射色の色調を、ＣＩＥ１９７６Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色度座標に基づいて評価した。

（表面抵抗値）
各サンプルの表面抵抗値を測定した。

測定装置には、携帯式表面抵抗測定器（ＳＴＲＡＴＯＭＥＴＥＲ：ＮＡＧＹ社製）を使用した。測定は、各サンプル（１０ｃｍ×１０ｃｍ）において、積層膜の表面側で実施した。

（ヘイズ値）
各サンプルのヘイズ値を測定した。

測定にはヘイズメータを用い、各サンプルにおいて、ガラス基板の側から測定した。

（結果）
以下の表２には、各サンプルにおいて得られた評価結果をまとめて示す。

表２から明らかなように、サンプル１１は、表面抵抗値および可視光透過率Ｔｖが低い値を示した。このような特性を有するサンプル１１は、タッチパネルに適用することは難しいと考えられる。これに対して、サンプル１～６およびサンプル２１では、表面抵抗値が１０００Ω／ｓｑ超となり、可視光透過率Ｔｖが１０％以上となった。このような特性を有するサンプル１～６およびサンプル２１は、タッチパネルに適正に適用することができる。

また、サンプル１～４およびサンプル２１では、反射色の色調において、ｂ^＊が－１０＜ｂ^＊＜１５を満たすことがわかる。このような積層体は、タッチパネル含有装置に適用した際に、その意匠性を高めることができる。

また、サンプル１～３、サンプル６およびサンプル２１では、比Ｔｖ／Ｒｖが０．３から２．０の範囲となった。従って、これらのサンプルは、タッチパネル含有装置に適用した際に、ハーフミラーとしての機能を兼ね備えることができると言える。

なお、サンプル６では、ヘイズ値が比較的高い値を示した。これは、熱処理によって、積層膜が変質したことを示す。従って、サンプル６の構成では、ガラス基板の熱強化処理の実施は好ましくないと言える。

本願は、２０１９年１１月２７日に出願した日本国特許出願第２０１９－２１４６４６号に基づく優先権を主張するものであり、同日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。

１００ 第１の積層体
１１０ ガラス基板
１１２ 第１の表面
１１４ 第２の表面
１３０ 積層膜
１４０ 第１の層
１５０ 第２の層
１６０ 第３の層
２００ 積層体
２０１ 扉
２１０ ガラス基板
２３０ 積層膜
２７０ 有機物層
２７２ 第１の部分
２７４ 第２の部分
２８０ タッチパネル

Claims (13)

1. 扉または壁であって、
   タッチパネルと、
   積層体と、
   を有し、
   前記積層体は、
   ガラス基板と、
   前記ガラス基板の表面に設置された積層膜と、
   を有し、
   前記積層膜は、前記ガラス基板の側から、
   窒化ケイ素を含む第１の層、
   シリコンを含む第２の層、および
   窒化ケイ素を含む第３の層
   を有し、
   前記積層体は、前記ガラス基板の側から入射される可視光の透過率が１０％以上であり、前記積層膜の側から測定される表面抵抗値が２００Ω／ｓｑ超であり、
   前記タッチパネルは、前記積層体の前記積層膜の側に設置される、扉または壁。
2. 前記第２の層は、最大３０質量％以下のアルミニウムを含む、請求項１に記載の扉または壁。
3. 前記第２の層に含まれる、酸素および窒素の含有量は、それぞれ、１０原子％未満であり、
   前記酸素および窒素の含有量の合計は、１５原子％未満である、請求項１または２に記載の扉または壁。
4. 前記第２の層において、窒素とケイ素の含有量の比Ｎ／Ｓｉは、０．１０以下である、請求項１乃至３のいずれか一つに記載の扉または壁。
5. 前記第１の層および／または前記第３の層は、最大３０質量％以下のアルミニウムを含む、請求項１乃至４のいずれか一つに記載の扉または壁。
6. 前記積層膜は、前記ガラス基板と前記第１の層の間に酸化物層を含まない、請求項１乃至５のいずれか一つに記載の扉または壁。
7. 前記積層膜は、さらに、前記第３の層の上に保護層を有する、請求項１乃至６のいずれか一つに記載の扉または壁。
8. 前記第１の層は、前記第２の層と隣接している、請求項１乃至７のいずれか一つに記載の扉または壁。
9. 前記第３の層は、前記第２の層と隣接している、請求項１乃至８のいずれか一つに記載の扉または壁。
10. 前記ガラス基板は、熱強化されている、請求項１乃至９のいずれか一つに記載の扉または壁。
11. 前記可視光の透過率をＴｖとし、前記ガラス基板の側から反射される可視光の反射率をＲｖとしたとき、比Ｔｖ／Ｒｖは、
    
    ０．３≦Ｔｖ／Ｒｖ≦２．０
    
    を満たす、請求項１乃至１０のいずれか一つに記載の扉または壁。
12. さらに、前記積層膜の表面に、有機物層が設置されている、請求項１乃至１１のいずれか一つに記載の扉または壁。
13. 前記積層膜の層数が１０以下である、請求項１乃至１２のいずれか一つに記載の扉または壁。

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