WO2021106348A1 - 積層体および扉または壁 - Google Patents

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WO2021106348A1
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laminated body
glass substrate
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laminated film
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和也 矢尾板
創史 渡邊
裕司 遠藤
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Ａｇｃ株式会社
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    • E06B9/00—Screening or protective devices for wall or similar openings, with or without operating or securing mechanisms; Closures of similar construction
    • E06B9/24—Screens or other constructions affording protection against light, especially against sunshine; Similar screens for privacy or appearance; Slat blinds
    • E06B2009/2417—Light path control; means to control reflection

Definitions

  • the present invention relates to laminates and doors or walls.
  • a laminated body in which a laminated film including a metal reflective layer is installed on a glass substrate is used, for example, for a half mirror, a decorative wall, and the like.
  • Reference 1 describes a laminated body having a laminated film on a glass substrate, wherein the laminated film includes a dielectric base layer, a chromium layer, and a dielectric nitride cover layer. ing.
  • the conventional laminated body has a metal layer for adjusting the reflectance in the laminated film.
  • the presence of such a metal layer prevents the touch panel from operating properly. Therefore, there is a problem that the conventional laminated body is not suitable for application to a touch panel-containing device.
  • the present invention has been made in view of such a background, and an object of the present invention is to provide a laminate that can be applied to a touch panel-containing device. It is also an object of the present invention to provide a door or wall having such a laminate.
  • the present invention is a laminated body. With a glass substrate The laminated film installed on the surface of the glass substrate and Have, The laminated film is formed from the side of the glass substrate. First layer containing silicon nitride, It has a second layer containing silicon and a third layer containing silicon nitride.
  • the laminated body is provided by a laminated body in which the transmittance of visible light incident from the glass substrate side is 10% or more and the surface resistance value measured from the laminated film side is more than 200 ⁇ / sq. Will be done.
  • the laminated body is a laminated body having the above-mentioned characteristics, and is The touch panel is provided with a door or wall installed on the side of the laminated film of the laminated body.
  • the present invention can provide a laminate that can be applied to a touch panel device. Also, the present invention can provide a door or wall having such a laminate.
  • FIG. 1 schematically shows a cross section of a laminated body according to an embodiment of the present invention.
  • the laminate (hereinafter, referred to as “first laminate”) 100 has a glass substrate 110 and a laminate film 130.
  • the glass substrate 110 has a first surface 112 and a second surface 114 facing each other, and the laminated film 130 is arranged on the side of the first surface 112 of the glass substrate 110.
  • the laminated film 130 has a first layer 140, a second layer 150, and a third layer 160 in the order closer to the glass substrate 110.
  • the first layer 140 and the third layer 160 are composed of a layer mainly composed of silicon nitride.
  • the second layer 150 is composed of a layer mainly composed of silicon.
  • the "layer mainly composed of XX" means that the substance is contained in the layer in an amount of 50% by mass or more.
  • the second layer 150 mainly has a role of causing the laminated film 130 to exhibit desired reflection characteristics.
  • the first layer 140 and the third layer 160 mainly have a role of protecting the second layer 150.
  • the presence of the first layer 140 and the third layer 160 suppresses the oxidation of the second layer 150 when the first laminate 100 or its precursor is heat-treated.
  • the third layer 160 can enhance the scratch resistance of the laminated film 130.
  • the surface resistance value of the first laminated body 100 when measured from the side of the laminated film 130 is more than 200 ⁇ / sq. Further, the first laminated body 100 is characterized in that the transmittance of visible light incident from the side of the glass substrate 110, that is, the visible light transmittance is 10% or more.
  • the conventional laminated body containing the metal layer in the laminated film has a problem that it is difficult to apply to the touch panel-containing device because the touch panel does not operate properly.
  • the laminated film 130 does not include a metal layer such as a conventional chromium layer as a reflective layer. That is, in the first laminated body 100, the second layer 150 that exhibits the reflection characteristics is composed of a layer mainly composed of silicon, which is a semiconductor material.
  • the first laminated body 100 has a visible light transmittance of 10% or more.
  • the first laminated body 100 has a feature that the surface resistance value is more than 200 ⁇ / sq.
  • the first laminated body 100 can be appropriately applied to the touch panel containing device.
  • desired reflection characteristics and transmission characteristics can be exhibited by adjusting the thickness and the like of the second layer 150 of the laminated film 130.
  • the function as a half mirror can be exhibited. Further, by adjusting the reflected color, it is possible to provide a touch panel-containing device having a high degree of design.
  • each member constituting the laminated body (Each member constituting the laminated body) Next, each member constituting the laminated body according to the embodiment of the present invention will be described in more detail.
  • Glass substrate 110 As the glass substrate 110, a conventional glass substrate can be used. In particular, the average visible light transmittance of the glass substrate 110 is preferably 80% or more.
  • the glass substrate 110 may be chemically strengthened or heat strengthened.
  • the first layer 140 is composed of a layer mainly composed of silicon nitride.
  • the first layer 140 may further contain aluminum.
  • the amount of aluminum contained in the first layer 140 is, for example, 30% by mass or less at the maximum, and preferably 20% by mass or less.
  • the thickness of the first layer 140 is, for example, in the range of 3 nm to 80 nm.
  • the thickness of the first layer 140 is preferably in the range of 5 nm to 30 nm.
  • the second layer 150 is composed of a layer mainly composed of silicon.
  • the silicon is preferably amorphous silicon.
  • "amorphous" means that no peak is observed in the X-ray diffraction pattern by the X-ray diffractometer.
  • the second layer 150 may further contain aluminum and / or carbon.
  • the amount of aluminum contained in the second layer 150 is, for example, 30% by mass or less at the maximum, and preferably 20% by mass or less.
  • the amount of carbon contained in the second layer 150 is, for example, 30% by mass or less at the maximum, and preferably 20% by mass or less.
  • the second layer 150 preferably contains as little oxygen and nitrogen as possible. This is because these elements can adversely affect the reflective properties of the second layer 150.
  • the content of oxygen and nitrogen contained in the second layer 150 is preferably less than 10 atomic%, respectively. Further, the total content of oxygen and nitrogen contained in the second layer 150 is preferably less than 15 atomic%.
  • the amount of elements contained in each layer was determined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis.
  • XPS X-ray photoelectron spectroscopy
  • the device conditions in the XPS analysis are as follows.
  • -Measuring device PHI Quantera II (manufactured by ULVAC-PHI) -Measurement conditions Ion neutralization gun; Photoelectron extraction angle used; 45 ° X-ray setting; Al monochrome 100 ⁇ m ⁇ 25 W, 15 kV Path energy; 224 eV Step; 0.4 eV Measuring elements; C, O, N, Si, Al, Ca, Na Each element sweep; 5 Spatter power; 1kV Spatter area; 2 mm x 2 mm Interval; 0.25 minutes.
  • the ratio N / Si of the content of nitrogen and silicon is preferably 0.10 or less.
  • the ratio N / Si in the second layer 150 is calculated as follows from the XPS analysis result in the depth direction of the second layer 150. -The position where the measured value of silicon is the highest in the second layer 150 (hereinafter referred to as "center point") is determined. ⁇ Find the value of nitrogen at the center point. -The ratio N / Si is obtained from the measured value of silicon and the measured value of nitrogen at the center point.
  • the thickness of the second layer 150 is, for example, in the range of 3 nm to 40 nm.
  • the thickness of the second layer 150 is preferably in the range of 5 nm to 30 nm.
  • the thickness of the third layer 160 is, for example, in the range of 3 nm to 80 nm.
  • the thickness of the third layer 160 is preferably in the range of 5 nm to 60 nm.
  • the third layer 160 since the description regarding the first layer 140 can be referred to, detailed description thereof will be omitted here.
  • laminated film 130 The basic configuration of the laminated film 130 is as described above, but the laminated film 130 may further have a protective layer on the outermost surface.
  • Examples of the protective layer include a titania layer and a zirconia layer.
  • the first layer 140 and the second layer 150 are adjacent to each other. Further, the third layer 160 and the second layer 150 are adjacent to each other.
  • another layer (excluding the metal layer) may exist between the glass substrate 110 and the first layer 140.
  • the number of layers of the laminated film 130 is preferably 10 or less. When the number of layers is 10 or less, the thickness of the laminated body can be reduced and the increase in internal stress is suppressed, which leads to improvement in durability.
  • the first laminated body 100 has a surface resistance value of more than 200 ⁇ / sq when measured from the side of the laminated film 130.
  • the surface resistance value is preferably 400 ⁇ / sq or more.
  • the first laminated body 100 has a visible light transmittance Tv of 10% or more and a visible light transmittance Tv of 20% or more when measured from the glass substrate 110 toward the laminated film 130. Is preferable.
  • the "visible light transmittance Tv" is a value obtained based on ISO9050: 2003.
  • the first laminated body 100 preferably has a visible light reflectance Rv of 20% or more, and more preferably 25% or more, when measured from the side of the glass substrate 110. preferable.
  • visible light reflectance Rv is a value obtained based on ISO9050: 2003.
  • the ratio of the visible light transmittance Tv and the visible light reflectance Rv, Tv / Rv is in the range of 0.3 ⁇ Tv / Rv ⁇ 2.0.
  • the first laminated body 100 can be used as a suitable half mirror.
  • the reflected color b * satisfies -10 ⁇ b * ⁇ 15.
  • the color tone of the reflected color is determined based on the CIE1976L * a * b * chromaticity coordinates.
  • the haze of the first laminated body 100 may be less than 0.5%.
  • the laminate according to one embodiment of the present invention can be applied to doors and walls having a touch panel.
  • FIG. 2 schematically shows a cross section of a door on which a laminate according to an embodiment of the present invention is installed.
  • the door 201 has a laminated body 200, an organic material layer 270, and a touch panel 280.
  • the laminated body 200 has a glass substrate 210 and a laminated film 230.
  • the organic layer 270 is installed on the laminated film 230. Further, the touch panel 280 is installed on the organic material layer 270.
  • the organic material layer 270 is installed to enhance the design of the door 201.
  • the organic layer 270 has a first portion 272 and a second portion 274.
  • the first portion 272 of the organic layer 270 is composed of a resin containing a colorant such as carbon black, for example.
  • a resin containing a colorant such as carbon black
  • the resin for example, an epoxy resin, a (meth) acrylic resin, a melamine resin, a urethane resin, or an alkyd resin may be used.
  • the second portion 274 of the organic material layer 270 corresponds to directly below the touch panel 280.
  • the second portion 274 needs to be composed of a transparent organic substance so as not to interfere with the operation of the touch panel 280.
  • a transparent organic substance may be composed of, for example, the above-mentioned resin or the like.
  • the laminated body 200 is composed of a laminated body according to an embodiment of the present invention, for example, the first laminated body 100 as described above.
  • the laminated film 230 does not contain a metal reflective layer, and a second layer containing silicon is used instead. Further, the laminated body 200 has a visible light transmittance Tv of 10% or more and a surface resistance value of more than 200 ⁇ / sq.
  • the touch panel can be operated properly.
  • the door 201 with a touch panel including the laminated body according to the embodiment of the present invention has been described above with reference to FIG.
  • the application example of the laminated body according to one embodiment of the present invention is not limited to this.
  • the laminate according to one embodiment of the present invention may be applied to a wall having a touch panel.
  • the laminate according to one embodiment of the present invention may be applied to other touch panel containing devices.
  • FIG. 3 schematically shows a flow of a method for manufacturing a laminated body (hereinafter, referred to as “first manufacturing method”) according to an embodiment of the present invention.
  • the first manufacturing method is The process of installing the first layer on the glass substrate (process S110) and A step of installing the second layer on the first layer (step S120) and The step of installing the third layer on the second layer (step S130) and A step of heat-strengthening the glass substrate (step S140), which is carried out when necessary, and Have.
  • Step S110 First, the glass substrate 110 is prepared. Further, a first layer 140 mainly composed of silicon nitride is installed on the first surface 112 of the glass substrate 110.
  • the method of installing the first layer 140 is not particularly limited, and a film may be formed using any conventional film forming method.
  • the first layer 140 may be formed by, for example, a sputtering method.
  • a second layer 150 mainly composed of silicon is installed on the first layer 140.
  • the method for installing the second layer 150 is not particularly limited, and a film may be formed using any conventional film forming method.
  • the second layer 150 may be formed by, for example, a sputtering method.
  • a third layer 160 mainly composed of silicon nitride is installed on the second layer 150.
  • the method for installing the third layer 160 is not particularly limited, and a film may be formed using any conventional film forming method.
  • the third layer 160 may be formed by, for example, a sputtering method.
  • each layer may be formed in the same sputtering apparatus. In this case, it is not necessary to put in and take out the glass substrate every time one layer is formed, and the film forming process can be made more efficient.
  • each layer may be continuously installed using an in-line type film forming apparatus.
  • each layer is sequentially formed while the glass substrate is conveyed in the device.
  • Step S140 By the steps up to step S130, the first laminated body 100 having the above-described configuration can be manufactured. However, if necessary, a step of heat-strengthening the glass substrate 110 may be further carried out after the step S130.
  • Such heat strengthening treatment is usually carried out in the range of 600 ° C to 700 ° C.
  • the laminated film 130 includes a second layer 150 mainly composed of silicon. However, the second layer 150 is sandwiched between the first layer 140 and the third layer 160. Therefore, during the heat strengthening treatment, the problem that the second layer 150 is affected by heat and deteriorates is unlikely to occur. That is, the laminated film 130 hardly changes before and after the heat strengthening treatment.
  • the haze after the heat strengthening treatment can be reduced to less than 0.5%.
  • the haze after the chemical strengthening treatment may be 0.5% or more.
  • the first laminated body 100 can be manufactured. However, when manufacturing the door 201 shown in FIG. 2 described above, the following additional steps can be carried out.
  • the organic material layer 270 is further installed on the side of the laminated film 130 of the first laminated body 100.
  • the method of forming the organic layer 270 is not particularly limited.
  • the organic material layer 270 may be installed by, for example, a screen printing method or the like.
  • the organic material layer 270 has a first portion 272 and a second portion 274. Therefore, even if the first portion 272 is formed by screen-printing a dye-containing resin, and the second part 274 is formed by screen-printing a dye-free (transparent) resin. Good.
  • the first laminate 100 may be heat-treated. As a result, the organic layer 270 is dried and fixed on the third layer 160.
  • the heat treatment temperature may be, for example, in the range of 50 ° C to 200 ° C.
  • the touch panel 280 is installed on the second portion 274 of the organic material layer 270.
  • the door 201 shown in FIG. 2 described above can be manufactured.
  • the first manufacturing method is merely an example, and it is clear to those skilled in the art that the laminate according to one embodiment of the present invention can be manufactured by another manufacturing method.
  • Examples 1 to 6 and Example 21 are examples, and Example 11 is a comparative example.
  • Example 1 A laminate was produced by the following method.
  • a glass substrate (soda lime glass FL4, thickness 4 mm: manufactured by AGC Inc.) was prepared.
  • a laminated film was formed on the glass substrate by the sputtering method.
  • the laminated film has a three-layer structure consisting of a first layer, a second layer, and a third layer.
  • a laboratory in-line sputtering device is used as the film forming apparatus, and a laminated film is formed by sequentially forming three layers by a reactive DC magnetron sputtering method while transporting a glass substrate in the forming chamber. Was formed.
  • a polysilicon target was used as a target for film formation of each layer.
  • the film forming chamber was evacuated to 2.0 ⁇ 10 -4 Pa.
  • the size of the target was 70 ⁇ 200 mm 2 , and the sputter power was 500 W.
  • the pressure in the film forming chamber was 0.4 Pa.
  • the second layer was a silicon layer (target thickness 23 nm), and 100 sccm of argon was introduced as a discharge gas.
  • the sputter power was 500 W.
  • the third layer was a silicon nitride layer (target thickness 10 nm).
  • the film forming conditions of the third layer were the same as those of the first layer.
  • the obtained laminated body was heat-treated for thermal strengthening of the glass substrate.
  • the heat treatment temperature was 650 ° C.
  • Example 1 The obtained laminate is referred to as "Sample 1".
  • Examples 2 to 5 A laminate was produced by the same method as in Example 1. However, in Examples 2 to 5, the thickness of each layer contained in the laminated film was changed from that in Example 1.
  • Example 2 The obtained laminates are referred to as “Sample 2" to “Sample 5", respectively.
  • Example 6 A laminate was produced by the same method as in Example 1. However, in this Example 6, a titania layer (target thickness 40 nm) was formed on the glass substrate before the first layer was formed on the glass substrate.
  • the titania layer was formed using a titanium target.
  • the sputter power was 500 W.
  • Example 3 The obtained laminate is referred to as "Sample 3".
  • Example 11 A laminate was produced by the same method as in Example 1. However, in this Example 11, a metallic chromium layer (target thickness 13 nm) was formed as the second layer.
  • the metallic chrome layer was formed using a chrome target.
  • As a discharge gas 100 sccm of argon gas was introduced.
  • the sputter power was 500 W.
  • Example 11 The obtained laminate is referred to as "sample 11".
  • Example 21 The laminate was manufactured in a state closer to the actual manufacturing process. That is, a laminate was produced using an in-line film forming apparatus for production. It can be said that the laminated film formed by this device is more susceptible to impurities than the above-mentioned laboratory device.
  • the laminated body has a laminated film having a three-layer structure on a glass substrate (soda lime glass FL4, thickness 4 mm: manufactured by AGC Inc.).
  • the laminate was heat-treated in the same manner as in Example 1.
  • Example 21 The obtained laminate is referred to as "sample 21".
  • Table 1 summarizes the specifications of the laminated film for each sample.
  • FIG. 4 shows the results of X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis obtained in the laminated film of sample 21.
  • XPS X-ray photoelectron spectroscopy
  • the horizontal axis is the sputtering time (corresponding to the thickness of the layer), and the vertical axis is the concentration of each atom (arbitrary unit).
  • optical properties The optical characteristics of each sample were evaluated using a spectrophotometer (U4100: manufactured by Hitachi, Ltd.).
  • the visible light transmittance Tv and the visible light reflectance Rv of the sample were measured based on ISO9050: 2003.
  • the visible light transmittance Tv was measured from the glass substrate toward the laminated film.
  • the visible light reflectance Rv was measured from the side of the glass substrate.
  • the color tone of the reflected color was evaluated based on the CIE1976L * a * b * chromaticity coordinates.
  • a portable surface resistance measuring device (STRATOMETER: manufactured by NAGY) was used as the measuring device. The measurement was carried out on the surface side of the laminated film in each sample (10 cm ⁇ 10 cm).
  • a haze meter was used for the measurement, and each sample was measured from the side of the glass substrate.
  • Sample 11 showed low surface resistance and visible light transmittance Tv. It is considered difficult to apply the sample 11 having such characteristics to a touch panel.
  • the surface resistance value was more than 1000 ⁇ / sq, and the visible light transmittance Tv was 10% or more. Samples 1 to 6 and Sample 21 having such characteristics can be appropriately applied to a touch panel.
  • First laminated body 110 Glass substrate 112 First surface 114 Second surface 130 Laminated film 140 First layer 150 Second layer 160 Third layer 200 Laminated body 201 Door 210 Glass substrate 230 Laminated film 270 Organic matter Layer 272 First part 274 Second part 280 Touch panel

Abstract

積層体であって、ガラス基板と、前記ガラス基板の表面に設置された積層膜と、を有し、前記積層膜は、前記ガラス基板の側から、窒化ケイ素を含む第１の層、シリコンを含む第２の層、および窒化ケイ素を含む第３の層を有し、当該積層体は、前記ガラス基板の側から入射される可視光の透過率が１０％以上であり、前記積層膜の側から測定される表面抵抗値が２００Ω／ｓｑ超である、積層体。

Description

積層体および扉または壁
　本発明は、積層体および扉または壁に関する。
　ガラス基板の上に金属製の反射層を含む積層膜を設置した積層体は、例えば、ハーフミラーおよび化粧壁等に使用されている。
　例えば、引用文献１には、ガラス基板の上に積層膜を有する積層体であって、前記積層膜が誘電体基層と、クロム層と、誘電体窒化物カバー層とを含む積層体が記載されている。
特表２００４－５１４６３６号公報
　近年、前述のような積層体を、タッチパネルを含む装置に適用することが検討されている。例えば、積層体を、タッチパネルを含む扉または壁などの部材（以下、「タッチパネル含有装置」と称する）に適用すれば、ハーフミラーとしての機能を有するタッチパネル含有装置を提供できる可能性がある。
　しかしながら、従来の積層体は、積層膜に反射率を調整するための金属層を有する。タッチパネル含有装置において、そのような金属層が存在すると、タッチパネルが適正に作動しなくなってしまう。従って、従来の積層体は、タッチパネル含有装置への適用には適さないという問題がある。
　本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、タッチパネル含有装置への適用が可能な積層体を提供することを目的とする。また、本発明では、そのような積層体を有する扉または壁を提供することを目的とする。
　本発明では、積層体であって、
　ガラス基板と、
　前記ガラス基板の表面に設置された積層膜と、
　を有し、
　前記積層膜は、前記ガラス基板の側から、
　窒化ケイ素を含む第１の層、
　シリコンを含む第２の層、および
　窒化ケイ素を含む第３の層
　を有し、
　当該積層体は、前記ガラス基板の側から入射される可視光の透過率が１０％以上であり、前記積層膜の側から測定される表面抵抗値が２００Ω／ｓｑ超である、積層体が提供される。
　また、本発明では、扉または壁であって、
　タッチパネルと、
　積層体と、
　を有し、
　前記積層体は、前述の特徴を有する積層体であり、
　前記タッチパネルは、前記積層体の前記積層膜の側に設置される、扉または壁が提供される。
　本発明では、タッチパネル装置への適用が可能な積層体を提供することができる。また、本発明では、そのような積層体を有する扉または壁を提供することができる。
本発明の一実施形態による積層体の構成を模式的に示した断面図である。 本発明の一実施形態による積層体が適用された扉を模式的に示した断面図である。 本発明の一実施形態による積層体の製造方法の一例を模式的に示したフロー図である。 本発明の一実施形態による積層体の積層膜におけるＸ線光電子分光（ＸＰＳ）分析結果の一例を示した図である。
　以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
　（本発明の一実施形態による積層体）
　図１には、本発明の一実施形態による積層体の断面を模式的に示す。
　図１に示すように、本発明の一実施形態による積層体（以下、「第１の積層体」と称する）１００は、ガラス基板１１０と、積層膜１３０とを有する。ガラス基板１１０は、相互に対向する第１の表面１１２および第２の表面１１４を有し、積層膜１３０は、ガラス基板１１０の第１の表面１１２の側に配置される。
　積層膜１３０は、ガラス基板１１０に近い順に、第１の層１４０と、第２の層１５０と、第３の層１６０とを有する。
　第１の層１４０および第３の層１６０は、窒化ケイ素を主体とした層で構成される。一方、第２の層１５０は、シリコンを主体とした層で構成される。
　本願において、「○○を主体とした層」とは、当該物質が層内に５０質量％以上含まれることを意味する。
　第２の層１５０は、主として、積層膜１３０に所望の反射特性を発現させる役割を有する。これに対して、第１の層１４０および第３の層１６０は、主として、第２の層１５０を保護する役割を有する。例えば、第１の層１４０および第３の層１６０が存在することにより、第１の積層体１００またはその前駆体を熱処理する際に、第２の層１５０の酸化が抑制される。また、第３の層１６０により、積層膜１３０の耐擦傷性を高めることができる。
　なお、第１の積層体１００は、積層膜１３０の側から測定した際の表面抵抗値が２００Ω／ｓｑ超である。また、第１の積層体１００は、ガラス基板１１０の側から入射される可視光の透過率、すなわち可視光透過率が１０％以上であるという特徴を有する。
　ここで、前述のように、積層膜に金属層を含む従来の積層体は、タッチパネルが適正に作動しなくなるため、タッチパネル含有装置への適用が難しいという問題がある。
　しかしながら、第１の積層体１００において、積層膜１３０は、反射層として、従来のクロム層のような金属層を含まない。すなわち、第１の積層体１００では、反射特性を発現させる第２の層１５０は、半導体材料であるシリコンを主体とする層で構成される。
　また、第１の積層体１００は、可視光透過率が１０％以上である。
　さらに、第１の積層体１００は、表面抵抗値が２００Ω／ｓｑ超であるという特徴を有する。
　従って、第１の積層体１００は、タッチパネル含有装置に適正に適用することができる。
　さらに、第１の積層体１００では、積層膜１３０の第２の層１５０の厚さ等の調整により、所望の反射特性および透過特性を発現させることができる。
　従って、第１の積層体１００をタッチパネル含有装置に適用した場合、ハーフミラーとしての機能を発現させることができる。また、反射色を調整することにより、高い意匠性を有するタッチパネル含有装置を提供することも可能となる。
　（積層体を構成する各部材）
　次に、本発明の一実施形態による積層体を構成する各部材について、より詳しく説明する。
　なお、ここでは、明確化のため、図１に示した第１の積層体１００を例に、その構成部材について説明する。従って、各部材を表す際には、図１に示した参照符号を使用する。
　（ガラス基板１１０）
　ガラス基板１１０としては、従来のガラス基板が使用できる。特に、ガラス基板１１０の平均可視光透過率は、８０％以上であることが好ましい。
　また、ガラス基板１１０は、化学強化されていてもよく、熱強化されていてもよい。
　（第１の層１４０）
　第１の層１４０は、窒化ケイ素を主体とする層で構成される。
　第１の層１４０は、さらにアルミニウムを含んでもよい。第１の層１４０に含まれるアルミニウムの量は、例えば、最大３０質量％以下であり、２０質量％以下であることが好ましい。
　第１の層１４０の厚さは、例えば、３ｎｍ～８０ｎｍの範囲である。第１の層１４０の厚さは、５ｎｍ～３０ｎｍの範囲であることが好ましい。
　（第２の層１５０）
　第２の層１５０は、シリコンを主体とする層で構成される。シリコンは、アモルファスシリコンであることが好ましい。なお本願において、「アモルファス」とは、Ｘ線回折装置によるＸ線回折パターンにおいて、ピークが観測されないことを意味する。
　第２の層１５０は、さらにアルミニウムおよび／または炭素を含んでもよい。第２の層１５０に含まれるアルミニウムの量は、例えば、最大３０質量％以下であり、２０質量％以下であることが好ましい。第２の層１５０に含まれる炭素の量は、例えば、最大３０質量％以下であり、２０質量％以下であることが好ましい。第２の層１５０に含まれる炭素の量を、最大３０質量％以下とすることにより、表面抵抗値の低下を有意に抑制できる。
　なお、第２の層１５０は、酸素および窒素をなるべく含まないことが好ましい。これらの元素は、第２の層１５０の反射特性に悪影響を及ぼし得るためである。
　第２の層１５０に含まれる酸素および窒素の含有量は、それぞれ、１０原子％未満であることが好ましい。また、第２の層１５０に含まれる酸素および窒素の合計含有量は、１５原子％未満であることが好ましい。
　なお、本願において、各層に含まれる元素の量は、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）分析により求めた。ＸＰＳ分析における装置条件は、以下の通りである。
・測定装置；ＰＨＩ　Ｑｕａｎｔｅｒａ　ＩＩ（アルバック・ファイ社製）
・測定条件
　　イオン中和銃；使用
　　光電子取出し角；４５゜
　　Ｘ線セッティング；Ａｌモノクロ１００μｍφ　２５Ｗ，１５ｋＶ
　　パスエネルギー；２２４ｅＶ
　　ステップ；０．４ｅＶ
　　測定元素；Ｃ，Ｏ，Ｎ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｃａ，Ｎａ
　　各元素スイープ；５
　　スパッタパワー；１ｋＶ
　　スパッタ領域；２ｍｍ×２ｍｍ
　　インターバル；０．２５分。
　また、第２の層１５０において、窒素とケイ素の含有量の比Ｎ／Ｓｉは、０．１０以下であることが好ましい。
　ここで、第２の層１５０における比Ｎ／Ｓｉは、第２の層１５０の深さ方向におけるＸＰＳ分析結果から、以下のように算定される。
・第２の層１５０においてケイ素の測定値が最も高い位置（以下「中心点」という）を求める。
・中心点における窒素の値を求める。
・中心点におけるケイ素の測定値および窒素の測定値から、比Ｎ／Ｓｉを求める。
　第２の層１５０の厚さは、例えば、３ｎｍ～４０ｎｍの範囲である。第２の層１５０の厚さは、５ｎｍ～３０ｎｍの範囲であることが好ましい。
　（第３の層１６０）
　第３の層１６０の厚さは、例えば、３ｎｍ～８０ｎｍの範囲である。第３の層１６０の厚さは、５ｎｍ～６０ｎｍの範囲であることが好ましい。
　なお、第３の層１６０については、上記第１の層１４０に関する記載が参照できるため、ここでは、詳細な記載を省略する。
　（積層膜１３０）
　積層膜１３０の基本構成は前述の通りであるが、積層膜１３０は、さらに、最表面に保護層を有してもよい。
　保護層としては、例えば、チタニア層およびジルコニア層等が挙げられる。
　また、図１に示した例では、積層膜１３０において、第１の層１４０および第２の層１５０は、相互に隣接している。また、第３の層１６０および第２の層１５０は、相互に隣接している。
　しかしながら、これは単なる一例であって、第１の層１４０と第２の層１５０の間、および／または第３の層１６０と第２の層１５０との間に、別の層（金属層は除く）が存在してもよい。
　同様に、ガラス基板１１０と第１の層１４０との間に、別の層（金属層は除く）が存在してもよい。ただし、ガラス基板１１０と第１の層１４０との間には、酸化物層が存在しないことが好ましい。この場合、後述するように、ガラス基板１１０の熱強化処理のため、第１の積層体１００を熱処理した際に、ヘイズ値の上昇を抑制することが可能になる。
　積層膜１３０の層数は、１０以下であることが好ましい。層数が１０以下であれば、積層体の厚さを低減でき、内部応力の増加が抑制されるため、耐久性の向上につながる。
　（第１の積層体１００）
　第１の積層体１００は、積層膜１３０の側から測定した際に、２００Ω／ｓｑ超の表面抵抗値を有する。表面抵抗値は、４００Ω／ｓｑ以上であることが好ましい。
　また、第１の積層体１００は、ガラス基板１１０から積層膜１３０に向かって測定した際に、１０％以上の可視光透過率Ｔｖを有し、２０％以上の可視光透過率Ｔｖを有することが好ましい。
　ここで、「可視光透過率Ｔｖ」は、ＩＳＯ９０５０：２００３に基づいて求められた値である。
　また、第１の積層体１００は、ガラス基板１１０の側から測定した際に、２０％以上の可視光反射率Ｒｖを有することが好ましく、２５％以上の可視光反射率Ｒｖを有することがより好ましい。
　ここで、「可視光反射率Ｒｖ」は、ＩＳＯ９０５０：２００３に基づいて求められた値である。
　また、第１の積層体１００は、可視光透過率Ｔｖと可視光反射率Ｒｖの比、Ｔｖ／Ｒｖが０．３≦Ｔｖ／Ｒｖ≦２．０の範囲にあることが好ましい。この場合、第１の積層体１００を好適なハーフミラーとして利用することができる。
　また、第１の積層体１００は、意匠性の観点から、反射色のｂ＊が、－１０＜ｂ＊＜１５を満たすことが好ましい。
　なお、本願において、反射色の色調は、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標に基づいて定められる。
　さらに、第１の積層体１００は、ヘイズが０．５％未満であってもよい。
　（適用例）
　本発明の一実施形態による積層体は、タッチパネルを有する扉および壁などに適用することができる。
　以下、図２を参照して、本発明の一実施形態による積層体の一適用例について説明する。
　図２には、本発明の一実施形態による積層体が設置された扉の断面を模式的に示す。
　図２に示すように、この扉２０１は、積層体２００と、有機物層２７０と、タッチパネル２８０とを有する。
　積層体２００は、ガラス基板２１０と、積層膜２３０とを有する。有機物層２７０は、積層膜２３０の上に設置される。また、タッチパネル２８０は、有機物層２７０の上に設置される。
　有機物層２７０は、扉２０１の意匠性を高めるために設置される。
　有機物層２７０は、第１の部分２７２および第２の部分２７４を有する。有機物層２７０の第１の部分２７２は、例えば、カーボンブラックのような着色剤を含む樹脂で構成される。樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、（メタ）アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、またはアルキド樹脂が使用されてもよい。
　一方、有機物層２７０の第２の部分２７４は、タッチパネル２８０の直下に相当する。第２の部分２７４は、タッチパネル２８０の動作を妨害しないように、透明な有機物で構成される必要がある。そのような透明な有機物は、例えば、前述の樹脂等で構成されてもよい。
　ここで、扉２０１において、積層体２００は、本発明の一実施形態による積層体、例えば前述のような第１の積層体１００で構成される。
　前述のように、積層体２００は、積層膜２３０中に金属反射層を含まず、代わりにシリコンを含む第２の層が使用される。また、積層体２００は、１０％以上の可視光透過率Ｔｖを有し、２００Ω／ｓｑ超の表面抵抗値を有する。
　従って、扉２０１では、タッチパネルを適正に作動させることが可能になる。
　以上、図２を参照して、本発明の一実施形態による積層体を備えるタッチパネル付き扉２０１について説明した。しかしながら、本発明の一実施形態による積層体の適用例は、これに限られるものではない。例えば、本発明の一実施形態による積層体は、タッチパネルを有する壁に適用されてもよい。あるいは、本発明の一実施形態による積層体は、その他のタッチパネル含有装置に適用されてもよい。
　（本発明の一実施形態による積層体の製造方法）
　次に、図３を参照して、本発明の一実施形態による積層体の製造方法について説明する。
　図３には、本発明の一実施形態による積層体の製造方法（以下、「第１の製造方法」と称する）のフローを模式的に示す。
　図３に示すように、第１の製造方法は、
　ガラス基板の上に第１の層を設置する工程（工程Ｓ１１０）と、
　第１の層の上に第２の層を設置する工程（工程Ｓ１２０）と、
　第２の層の上に第３の層を設置する工程（工程Ｓ１３０）と、
　必要な場合に実施される、ガラス基板を熱強化処理する工程（工程Ｓ１４０）と、
　を有する。
　以下、各工程について説明する。なお、ここでは、図１に示した第１の積層体１００を例に、その製造方法について説明する。従って、各部材を表す際には、図１に示した参照符号を使用する。
　（工程Ｓ１１０）
　まず、ガラス基板１１０が準備される。また、ガラス基板１１０の第１の表面１１２に、窒化ケイ素を主体とする第１の層１４０が設置される。
　第１の層１４０の設置方法は、特に限られず、従来の任意の成膜方法を用いて成膜されてもよい。第１の層１４０は、例えば、スパッタリング法により成膜されてもよい。
　（工程Ｓ１２０）
　次に、第１の層１４０の上に、シリコンを主体とする第２の層１５０が設置される。第２の層１５０の設置方法は、特に限られず、従来の任意の成膜方法を用いて成膜されてもよい。第２の層１５０は、例えば、スパッタリング法により成膜されてもよい。
　（工程Ｓ１３０）
　次に、第２の層１５０の上に、窒化ケイ素を主体とする第３の層１６０が設置される。第３の層１６０の設置方法は、特に限られず、従来の任意の成膜方法を用いて成膜されてもよい。第３の層１６０は、例えば、スパッタリング法により成膜されてもよい。
　なお、第１の層１４０～第３の層１６０がいずれもスパッタリング法で成膜される場合、各層は、同一のスパッタ装置内で成膜されてもよい。この場合、一つの層を成膜する度にガラス基板を出し入れする必要がなくなり、成膜工程を効率化できる。
　あるいは、各層は、インライン型の成膜装置を用いて、連続的に設置されてもよい。インライン型の装置では、ガラス基板が装置内を搬送されている間に、各層が順次成膜される。
　（工程Ｓ１４０）
　工程Ｓ１３０までのステップにより、前述のような構成を有する第１の積層体１００を製造することができる。ただし、必要な場合、工程Ｓ１３０の後に、さらに、ガラス基板１１０を熱強化処理する工程を実施してもよい。
　そのような熱強化処理は、通常、６００℃～７００℃の範囲で実施される。
　なお、積層膜１３０には、シリコンを主体とする第２の層１５０が含まれる。しかしながら、第２の層１５０は、第１の層１４０と第３の層１６０との間に挟まれている。従って、熱強化処理の際に、第２の層１５０が熱影響を受けて変質するという問題は生じ難い。すなわち、熱強化処理の前後で、積層膜１３０はほとんど変化しない。
　例えば、第１の積層体１００では、熱強化処理後のヘイズを０．５％未満にすることができる。
　ただし、工程Ｓ１１０の前に、ガラス基板１１０の第１の表面１１２に酸化物層を設置する工程を実施した場合、化学強化処理後のヘイズが０．５％以上となる場合がある。
　従って、ガラス基板１１０の直上に酸化物層を設置する工程は、実施しないことが好ましい。
　（追加の工程）
　以上の工程により、第１の積層体１００を製造することができる。ただし、前述の図２に示した扉２０１を製造する場合、以下の追加工程が実施され得る。
　（有機物層の設置）
　扉２０１を製造する場合、第１の積層体１００の積層膜１３０の側に、さらに、有機物層２７０が設置される。
　有機物層２７０の形成方法は、特に限られない。有機物層２７０は、例えば、スクリーン印刷法等により設置されてもよい。
　なお、前述のように、有機物層２７０は、第１の部分２７２および第２の部分２７４を有する。従って、第１の部分２７２は、色素を含む樹脂をスクリーン印刷法することにより構成され、第２の部分２７４は、色素を含まない（透明な）樹脂をスクリーン印刷法することにより構成されてもよい。
　有機物層２７０の設置後に、第１の積層体１００を熱処理してもよい。これにより、有機物層２７０が乾燥され、第３の層１６０の上に固着される。
　熱処理の温度は、例えば、５０℃～２００℃の範囲であってもよい。
　（タッチパネルの設置）
　その後、有機物層２７０の第２の部分２７４上に、タッチパネル２８０が設置される。
　以上の工程により、前述の図２に示した扉２０１を製造することができる。
　なお、上記第１の製造方法は、単なる一例であって、本発明の一実施形態による積層体が別の製造方法で製造され得ることは、当業者には明らかである。
　以下、本発明の実施例について説明する。なお、以下の記載において、例１～例６および例２１は実施例であり、例１１は比較例である。
　（例１）
　以下の方法で積層体を作製した。
　まず、ガラス基板（ソーダライムガラスＦＬ４、厚さ４ｍｍ：ＡＧＣ社製）を準備した。次に、スパッタリング法により、ガラス基板上に積層膜を成膜した。積層膜は、第１の層、第２の層、および第３の層の３層構成とした。
　成膜装置には、ラボ用のインライン型スパッタリング装置を使用し、成膜室内でガラス基板を搬送させながら、反応性ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、順次３つの層の成膜を行うことにより、積層膜を形成した。
　各層の成膜用のターゲットとして、ポリシリコンターゲットを使用した。成膜室内は、２．０×１０－４Ｐａまで真空排気した。
　第１の層は、窒化ケイ素層（目標厚さ２０ｎｍ）とし、放電ガスとして、アルゴンと窒素の混合ガス（Ａｒ：Ｎ２＝４０ｓｃｃｍ：６０ｓｃｃｍ）を使用した。ターゲットの寸法は、７０×２００ｍｍ２であり、スパッタ電力は５００Ｗとした。成膜室の圧力は、０．４Ｐａであった。
　第２の層は、シリコン層（目標厚さ２３ｎｍ）とし、放電ガスとしてアルゴンを１００ｓｃｃｍ導入した。スパッタ電力は５００Ｗとした。
　第３の層は、窒化ケイ素層（目標厚さ１０ｎｍ）とした。第３の層の成膜条件は、第１の層と同様とした。
　以上の方法によりガラス基板上に積層膜を形成した後、ガラス基板の熱強化のため、得られた積層体を熱処理した。熱処理温度は、６５０℃とした。
　得られた積層体を「サンプル１」と称する。
　（例２～例５）
　例１と同様の方法により、積層体を作製した。ただし、例２～例５では、積層膜に含まれる各層の厚さを例１の場合とは変化させた。
　得られた積層体を、それぞれ、「サンプル２」～「サンプル５」と称する。
　（例６）
　例１と同様の方法により、積層体を作製した。ただし、この例６では、ガラス基板に第１の層を成膜する前に、ガラス基板上にチタニア層（目標厚さ４０ｎｍ）を成膜した。
　チタニア層は、チタンターゲットを用いて形成した。放電ガスとして、アルゴンと酸素の混合ガス（Ａｒ：Ｏ２＝４０ｓｃｃｍ：６０ｓｃｃｍ）を導入した。スパッタ電力は５００Ｗとした。
　得られた積層体を、「サンプル３」と称する。
　（例１１）
　例１と同様の方法により、積層体を作製した。ただし、この例１１では、第２の層として、金属クロム層（目標厚さ１３ｎｍ）を形成した。
　金属クロム層は、クロムターゲットを用いて形成した。放電ガスとして、アルゴンガスを１００ｓｃｃｍ導入した。スパッタ電力は５００Ｗとした。
　得られた積層体を、「サンプル１１」と称する。
　（例２１）
　より実際の製造プロセスに近い状態で積層体を製造した。すなわち、生産用のインライン型成膜装置を用いて積層体を作製した。この装置で成膜される積層膜は、前述のようなラボ用の装置に比べて、不純物の影響を受けやすいと言える。
　積層体は、ガラス基板（ソーダライムガラスＦＬ４、厚さ４ｍｍ：ＡＧＣ社製）の上に、３層構造の積層膜を有する。
　積層膜の構成は、以下とした：
・第１の層：目標厚さ１０ｎｍのＳｉＡｌＮ（Ａｌ＝１０ａｔ％）
・第２の層：目標厚さ２３ｎｍのＳｉＡｌ（Ａｌ＝１０ａｔ％）
・第３の層：目標厚さ２０ｎｍのＳｉＡｌＮ（Ａｌ＝１０ａｔ％）
　第１の層、第２の層および第３の層の成膜には、ＳｉＡｌターゲットを使用した。
　成膜後に、例１と同様の方法で、積層体を熱処理した。
　得られた積層体を、「サンプル２１」と称する。
　以下の表１には、各サンプルにおける積層膜の仕様をまとめて示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 　図４には、サンプル２１の積層膜において得られたＸ線光電子分光（ＸＰＳ）分析の結果を示す。ただし、この結果は、サンプル２１の熱強化処理前の状態に対応する（すなわち、熱処理が未実施の試料で測定した）。
　図４において横軸は、スパッタリング時間（層の厚さに対応する）であり、縦軸は、各原子の濃度（任意単位）である。
　図４には、サンプル２１の積層膜を構成する３つの層に対応するピークが出現している。また、図４から、第２の層内には、不純物として、ＮおよびＯがほとんど含まれていないことがわかる。
　得られた結果から、第２の層における窒素とケイ素の含有量の比Ｎ／Ｓｉを算定したところ、比Ｎ／Ｓｉは、０．０６であった。
　なお、サンプル２１の積層膜（すなわち熱処理実施後のもの）において、同様の分析を実施したが、分析結果は図４の結果とほぼ等しく、大きな違いは認められなかった。
　（評価）
　以下の方法で各サンプルの特性を評価した。
　（光学特性）
　分光光度計（Ｕ４１００：ＨＩＴＡＣＨＩ社製）を用いて、各サンプルの光学特性を評価した。
　サンプルの可視光透過率Ｔｖおよび可視光反射率Ｒｖを、ＩＳＯ９０５０：２００３に基づいて測定した。可視光透過率Ｔｖは、ガラス基板から積層膜に向かって測定した。可視光反射率Ｒｖは、ガラス基板の側から測定した。
　得られた結果から、比Ｔｖ／Ｒｖを算定した。
　また、反射色の色調を、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標に基づいて評価した。
　（表面抵抗値）
　各サンプルの表面抵抗値を測定した。
　測定装置には、携帯式表面抵抗測定器（ＳＴＲＡＴＯＭＥＴＥＲ：ＮＡＧＹ社製）を使用した。測定は、各サンプル（１０ｃｍ×１０ｃｍ）において、積層膜の表面側で実施した。
　（ヘイズ値）
　各サンプルのヘイズ値を測定した。
　測定にはヘイズメータを用い、各サンプルにおいて、ガラス基板の側から測定した。
　（結果）
　以下の表２には、各サンプルにおいて得られた評価結果をまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 　表２から明らかなように、サンプル１１は、表面抵抗値および可視光透過率Ｔｖが低い値を示した。このような特性を有するサンプル１１は、タッチパネルに適用することは難しいと考えられる。これに対して、サンプル１～６およびサンプル２１では、表面抵抗値が１０００Ω／ｓｑ超となり、可視光透過率Ｔｖが１０％以上となった。このような特性を有するサンプル１～６およびサンプル２１は、タッチパネルに適正に適用することができる。
　また、サンプル１～４およびサンプル２１では、反射色の色調において、ｂ＊が－１０＜ｂ＊＜１５を満たすことがわかる。このような積層体は、タッチパネル含有装置に適用した際に、その意匠性を高めることができる。
　また、サンプル１～３、サンプル６およびサンプル２１では、比Ｔｖ／Ｒｖが０．３から２．０の範囲となった。従って、これらのサンプルは、タッチパネル含有装置に適用した際に、ハーフミラーとしての機能を兼ね備えることができると言える。
　なお、サンプル６では、ヘイズ値が比較的高い値を示した。これは、熱処理によって、積層膜が変質したことを示す。従って、サンプル６の構成では、ガラス基板の熱強化処理の実施は好ましくないと言える。
　本願は、２０１９年１１月２７日に出願した日本国特許出願第２０１９－２１４６４６号に基づく優先権を主張するものであり、同日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。
　１００　　　　第１の積層体
　１１０　　　　ガラス基板
　１１２　　　　第１の表面
　１１４　　　　第２の表面
　１３０　　　　積層膜
　１４０　　　　第１の層
　１５０　　　　第２の層
　１６０　　　　第３の層
　２００　　　　積層体
　２０１　　　　扉
　２１０　　　　ガラス基板
　２３０　　　　積層膜
　２７０　　　　有機物層
　２７２　　　　第１の部分
　２７４　　　　第２の部分
　２８０　　　　タッチパネル

Claims (14)

  1. 　積層体であって、
    　ガラス基板と、
    　前記ガラス基板の表面に設置された積層膜と、
    　を有し、
    　前記積層膜は、前記ガラス基板の側から、
    　窒化ケイ素を含む第１の層、
    　シリコンを含む第２の層、および
    　窒化ケイ素を含む第３の層
    　を有し、
    　当該積層体は、前記ガラス基板の側から入射される可視光の透過率が１０％以上であり、前記積層膜の側から測定される表面抵抗値が２００Ω／ｓｑ超である、積層体。
  2. 　前記第２の層は、最大３０質量％以下のアルミニウムを含む、請求項１に記載の積層体。
  3. 　前記第２の層に含まれる、酸素および窒素の含有量は、それぞれ、１０原子％未満であり、
    　前記酸素および窒素の含有量の合計は、１５原子％未満である、請求項１または２に記載の積層体。
  4. 　前記第２の層において、窒素とケイ素の含有量の比Ｎ／Ｓｉは、０．１０以下である、請求項１乃至３のいずれか一つに記載の積層体。
  5. 　前記第１の層および／または前記第３の層は、最大３０質量％以下のアルミニウムを含む、請求項１乃至４のいずれか一つに記載の積層体。
  6. 　前記積層膜は、前記ガラス基板と前記第１の層の間に酸化物層を含まない、請求項１乃至５のいずれか一つに記載の積層体。
  7. 　前記積層膜は、さらに、前記第３の層の上に保護層を有する、請求項１乃至６のいずれか一つに記載の積層体。
  8. 　前記第１の層は、前記第２の層と隣接している、請求項１乃至７のいずれか一つに記載の積層体。
  9. 　前記第３の層は、前記第２の層と隣接している、請求項１乃至８のいずれか一つに記載の積層体。
  10. 　前記ガラス基板は、熱強化されている、請求項１乃至９のいずれか一つに記載の積層体。
  11. 　前記可視光の透過率をＴｖとし、前記ガラス基板の側から反射される可視光の反射率をＲｖとしたとき、比Ｔｖ／Ｒｖは、
     
    ０．３≦Ｔｖ／Ｒｖ≦２．０
     
    を満たす、請求項１乃至１０のいずれか一つに記載の積層体。
  12. 　さらに、前記積層膜の表面に、有機物層が設置されている、請求項１乃至１１のいずれか一つに記載の積層体。
  13. 　前記積層膜の層数が１０以下である、請求項１乃至１２のいずれか一つに記載の積層体。
  14. 　扉または壁であって、
    　タッチパネルと、
    　積層体と、
    　を有し、
    　前記積層体は、請求項１乃至１３のいずれか一つに記載の積層体であり、
    　前記タッチパネルは、前記積層体の前記積層膜の側に設置される、扉または壁。
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