TWI656976B - 抗牛頓環積層體及使用該抗牛頓環積層體之電容式觸控面板 - Google Patents
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Abstract
本發明係關於一種積層體，其具備至少於單面具有凹凸之表面形狀之第1層、及至少於單面具有凹凸之表面形狀之第2層，且上述第1層之凹凸之表面形狀及上述第2層之凹凸之表面形狀之厚度為1~6μm，表面粗度大於10nm且小於60nm，上述第1層之凹凸之表面形狀與上述第2層之凹凸之表面形狀對向並以該凹凸之表面形狀相互接觸之方式積層。
Description
本發明係關於一種抗牛頓環積層體及使用該抗牛頓環積層體之電容式觸控面板。
觸控面板係作為位置輸入裝置而發揮功能之電子零件，與液晶顯示器等顯示裝置組合而廣泛利用於行動電話及攜帶型遊戲機等。觸控面板係當操作者基於畫面顯示，以手或輸入筆指示觸控面板之特定位置時，藉由使裝置感知該特定位置之資訊，而可進行操作者所期望之適當之動作的介面。作為觸控面板，根據檢測指示之位置之動作原理而有各種方式者，通用有電阻膜式及電容式。尤其電容式係以行動電話等行動式機器為中心急速擴大。作為電容式之代表性檢測方式，可舉出類比檢測之表面型、及利用使用經圖案化之電極之累計檢測方式的投影型之2種方式。
作為電容式觸控面板，可使用具備於單面或兩面設置有導電層之玻璃板(以下有稱為「感測器玻璃」之情況)者，通常於感測器玻璃之前表面側(觸控面側)經由黏著層而積層有玻璃板(以下有稱為「覆蓋玻璃」之情況)。又，為了防止覆蓋玻璃之破損及碎片之飛散，而於覆蓋玻璃之前表面側或覆蓋玻璃之背面側進而貼附有保護薄膜片材(樹脂薄膜)。
觸控面板通常係使用黏著劑而安裝於顯示裝置之前表面，尤其於大型顯示裝置之情形時，自成本之方面而言，僅將觸控面板之外緣部藉由黏著劑固定。
作為一例，於圖2中表示對僅將習知之電容式觸控面板之外緣部藉由黏著劑而固定於顯示裝置之前表面的附有電容式觸控面板之顯示裝置300之構成進行說明的概略剖視圖。附有電容式觸控面板之顯示裝置300具備於最前表面配置有偏光板312之液晶顯示器311、及電容式觸控面板321。電容式觸控面板321具備基材層303、形成於基材層303之背面側之凹凸層306、形成於基材層303之前表面側之導電層302y、設置於導電層302y之前表面側之黏著層307、設置於黏著層307之前表面側之導電層302x、設置於導電層302x之前表面側之覆蓋玻璃301、及印刷層305。導電層302x係形成於覆蓋玻璃301之背面側，導電層302x係藉由黏著層307而固定於導電層302y。電容式觸控面板321係與液晶顯示器311之間設置間隙而配置於液晶顯示器311之前表面，外緣部係藉由黏著層331而固定於液晶顯示器311。藉此，於液晶顯示器311之前表面與電容式觸控面板321之背面之間形成有空間。
於光學薄膜之領域中，存在當薄膜等構件與其他構件(例如玻璃板或其他薄膜)接觸時，產生眩光、牛頓環、黏連等問題之情況。為了防止該等問題，而有於薄膜之表面設置微細之凹凸形狀之情況。通常，要形成之凹凸之大小係根據所要求之性能(抗眩光、抗牛頓環、抗黏連)而設定，於抗眩光之情形時最大，於抗黏連之情形時最小。作為此種凹凸形狀之形成方法，可使用使硬塗層含有粒子之方法、及使特定之樹脂成分藉由相分離而析出之方法等
(例如專利文獻1~8)。於圖2之電容式觸控面板321中，為了賦予抗黏連性能，而組入有於單側具有凹凸形狀之薄膜(於基材層303之單面形成有凹凸層306者)。
於專利文獻9中，作為於液晶顯示器中用以抑制牛頓環產生之光學薄膜，揭示有具有0.03μm以上且0.15μm以下、且均方根斜率R△q為0.01以上且0.03以下等特徵的光學薄膜。於專利文獻9中，揭示有於液晶顯示器中以設計性等為目的而使用之於前表面構件之背面側配置該光學薄膜之實施形態(圖8)、及於顯示部之顯示面側與前表面構件之背面側之二者配置該光學薄膜之實施形態(圖9)。然而，該光學薄膜無法充分降低霧度，尤其不具有足夠用於近年來之高精細顯示器的光學性能。又，由於光學層之厚度較厚，因此若基材變薄則會產生捲曲，而處理性變差。
[專利文獻1]日本專利特開2010-042671號公報
[專利文獻2]日本專利特開2010-060643號公報
[專利文獻3]日本專利特開2011-033948號公報
[專利文獻4]日本專利特開2012-206502號公報
[專利文獻5]日本專利5181793號公報
[專利文獻6]日本專利特開2003-045234號公報
[專利文獻7]日本專利4392048號公報
[專利文獻8]日本專利特開2007-182519號公報
[專利文獻9]日本專利特開2010-066761號公報
然而，此種具有凹凸之習知之薄膜進一步具有如下問題：於因應力被壓抵於玻璃等之平滑面之情形時，當應力解除後亦會殘留牛頓環。該問題係於安裝有顯示裝置之觸控面板中，當使用者進行觸控操作時對該觸控面板施加應力而觸控面板與顯示裝置接觸時產生。於圖2之電容式觸控面板中，即便於基材層303之背面設置凹凸層306，於偏光板312之表面之平滑性特別高之情形時，在觸控面板321因應力被壓抵之情況下，於應力解除後亦有可能殘留牛頓環。進而，顯示裝置越大型化則該問題越顯著。又，此種問題於觸控面板所具備之玻璃基板為1片之情形時進一步變得顯著。其原因在於：玻璃基板為1片之觸控面板容易產生撓曲及應變，於中央附近保持與顯示裝置之前表面之偏光板接觸之狀態而難以恢復。
又，由於具有凹凸之習知之薄膜係以與該薄膜接觸之顯示裝置之表面之平滑性較高為前提，於藉由使該顯示裝置與該薄膜之接觸面積變小而防止產生牛頓環的技術思想下構成者，因此必須具有某種程度以上之較大之凹凸形狀。其結果為，由於習知之薄膜形成有較大之凹凸，因此霧度值較高。因此，為了可降低霧度值且防止牛頓環產生，存在進一步改良習知之薄膜之餘地。如上所述，期望具有於應力解除後亦不會殘留牛頓環之高水準之抗牛頓環性能，同時儘可能降低霧度值。
本發明係鑒於上述問題而完成者，其目的在於提供一種具有觸控面之明亮度良好等優異之光學性能，且於應力解除後亦
不會殘留牛頓環的抗牛頓環積層體及使用該抗牛頓環積層體之電容式觸控面板。
本發明者等人進行了銳意研究，結果發現藉由使用如下積層體而解決上述課題，從而完成本發明，該積層體具備至少於單面具有凹凸之表面形狀之第1層、及至少於單面具有凹凸之表面形狀之第2層，且上述第1層之凹凸之表面形狀及上述第2層之凹凸之表面形狀係厚度為1~6μm，表面粗度大於10nm且小於60nm，且上述第1層之凹凸之表面形狀與上述第2層之凹凸之表面形狀對向並以該凹凸之表面形狀相互接觸之方式積層。
本發明具有以下態樣。
[1]一種積層體，其具備至少於單面具有凹凸之表面形狀之第1層、及至少於單面具有凹凸之表面形狀之第2層，且上述第1層之凹凸之表面形狀及上述第2層之凹凸之表面形狀之厚度為1~6μm，表面粗度大於10nm且小於60nm，且上述第1層之凹凸之表面形狀與上述第2層之凹凸之表面形狀對向並以該凹凸之表面形狀相互接觸之方式積層。
[2]如[1]之積層體，其中，上述第1層及/或上述第2層含有粒徑20~250nm之無機或有機微粒子。
[3]如[1]或[2]之積層體，其中，上述第1層之凹凸面及/或上述第2層之凹凸面係使含有至少2種成分之樹脂組成物相分離而形成凹凸。
[4]如[1]至[3]中任一項之積層體，其中，上述第1層之凹凸面及上述第2層之凹凸面中，一凹凸面為含有粒徑20~250nm之無
機或有機微粒子之凹凸樹脂層，另一凹凸面為使含有至少2種成分之樹脂組成物相分離而形成之凹凸樹脂層。
[5]如[1]至[4]中任一項之積層體，其中，上述第1層及第2層之霧度大於0.6且小於7.0。
[6]一種顯示裝置，其組入有[1]至[5]中任一項之積層體。
[7]一種光學薄膜，其係用以組入具有觸控面板功能之顯示裝置內者，其特徵在於：上述光學薄膜於至少單面具有凹凸之表面形狀，具有凹凸之表面形狀之面之表面粗度大於10nm且小於60nm，且上述光學薄膜於同一顯示裝置內至少使用2片以上，以凹凸之表面形狀相互接觸之方式配置。
其中，於本說明書及申請專利範圍中，表面粗度係藉由下述測定方法而測定之值。
使用微雷射顯微鏡(KEYENCE股份有限公司製造 測定部VK-X105控制器部VK-X100)，以倍率200倍進行各樹脂薄膜之表面觀察與圖像之獲取。對於所得之圖像，將測定區域設為100μm×100μm，使用上述微雷射顯微鏡所附屬之解析軟體，基於JIS B0601：2001而計算出算術平均表面粗度Ra。
或者，使用掃描探針顯微鏡(Veeco股份有限公司製造之Nanoscope IV及Nanoscope IIIa)，使用Si單晶探針作為探針，將測定模式設為間歇接觸(Tapping)模式，將測定區域設為10μm×10μm，進行圖像之獲取。對於所得之圖像，使用附屬之解析軟體，作為用以去除波紋之加增處理，進行平面化(Flatten)處理(0次)1次，
及進行平面自適應(Planefit)處理(XY)1次後，計算出表面粗度。
又，上述積層體之透明性係基於JIS K 7136，使用日本電色股份有限公司製造之NDH4000而測定霧度值。
根據本發明，可提供具有觸控面之明亮度良好等優異之光學性能，且於應力解除後亦不會殘留牛頓環的抗牛頓環積層體及使用該抗牛頓環積層體之電容式觸控面板。
1‧‧‧玻璃基板
2、2x、2y、302x、302y‧‧‧導電層
3、3a、3b‧‧‧基材(透明薄膜)
4a、4b‧‧‧凹凸之表面形狀
5、305‧‧‧印刷層
7、17、31、307、331‧‧‧黏著層
11、311‧‧‧液晶顯示器
12‧‧‧基材(偏光板)
21、22、321‧‧‧電容式觸控面板
100‧‧‧抗牛頓環積層體
110‧‧‧第1層
111、121‧‧‧基材
112、122‧‧‧凹凸之表面形狀
120‧‧‧第2層
200、201‧‧‧使用本發明之抗牛頓環積層體之附有電容式觸控面板之顯示裝置
300‧‧‧習知之附有電容式觸控面板之顯示裝置
301‧‧‧覆蓋玻璃
303‧‧‧基材層
306‧‧‧凹凸層
312‧‧‧偏光板
圖1係表示本發明之抗牛頓環積層體之一例之概略剖視圖。
圖2係對習知之附有電容式觸控面板之顯示裝置之構成進行說明的概略剖視圖。
圖3係對使用本發明之抗牛頓環積層體之一態樣的附有電容式觸控面板之顯示裝置之構成進行說明的概略剖視圖。
圖4係對使用本發明之抗牛頓環積層體之另一態樣的附有電容式觸控面板之顯示裝置之構成進行說明的概略剖視圖。
以下，參照隨附圖式，表示實施形態而對本發明進行說明。
圖1係表示本發明之抗牛頓環積層體100之概略剖視圖。抗牛頓環積層體100具有第1層110、及第2層120。第1層110具有基材111、及凹凸之表面形狀112。基材111並無限定，例如為聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等樹脂層或玻璃板。
凹凸之表面形狀112係表面粗度大於10nm且小於60nm。凹
凸之表面形狀112例如可藉由將下述硬化性樹脂組成物等材料塗佈於基材111上形成塗膜，使該塗膜硬化而形成。第2層120具有基材121、及凹凸之表面形狀122。基材121及凹凸之表面形狀122之詳細情況與基材111及凹凸之表面形狀112之詳細情況相同。
凹凸之表面形狀112及凹凸之表面形狀122(第1層110及第2層120)亦可藉由接著劑或黏著劑等而於外緣部相對於彼此固定。或者，第1層110與第2層120亦可藉由未圖示之固定具而於外緣部相對於彼此固定。
凹凸之表面形狀112與凹凸之表面形狀122係對向配置，且以相互接觸之方式積層。凹凸之表面形狀112與凹凸之表面形狀122亦可並非所有部分接觸，亦可於外緣部經由接著劑或黏著劑等而相對於彼此以非接觸狀態固定，且於中央部以接觸狀態或可接觸之狀態積層。
作為可使用作為基材111、121之薄膜，例如可舉出：聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚萘二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚萘二甲酸丙二酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、賽璐凡、二乙醯纖維素薄膜、三乙醯纖維素薄膜、乙醯纖維素丁酸酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏二氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚碸薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚碸薄膜、聚醚醯亞胺薄膜、聚醯亞胺薄膜、氟樹脂薄膜、聚醯胺薄膜、丙烯酸系樹脂薄膜等。
作為上述薄膜，自耐候性、耐溶劑性、剛度、成本等觀點而言，較佳為聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。
基材111、121較佳為透明至可用於光學用途之程度。
於基材111、121中，亦可含有各種添加劑。作為添加劑，例如可舉出：抗氧化劑、耐熱穩定劑、紫外線吸收劑、有機粒子、無機粒子、顏料、染料、抗靜電劑、成核劑、偶合劑等。
為了提昇與凹凸之表面形狀112、122之密接性，基材111、121亦可實施表面處理。作為表面處理，例如可舉出：噴砂處理或溶劑處理等凹凸化處理、電暈放電處理、鉻酸處理、火焰處理、熱風處理、臭氧‧紫外線照射處理等表面氧化處理等。
於基材111、121為薄膜之情形時，自確保強度、防止捲曲等觀點而言，基材111、121之厚度較佳為10~300μm，更佳為30~200μm，尤佳為35~130μm。於基材111、121為玻璃之情形時，基材111、121之厚度較佳為0.1mm以上，更佳為0.2mm以上。
基材111、121亦可為玻璃製偏光板或樹脂製偏光板。例如，於下述圖3之電容式觸控面板200中，構成液晶顯示器11之最前表面之偏光板12可作為基材111或基材121之一者而發揮功能，基材3可作為基材111或基材121之另一者而發揮功能。於圖4之電容式觸控面板201中亦相同，構成液晶顯示器11之最前表面之偏光板12可作為基材111或基材121之一者而發揮功能，基材3b可作為基材111或基材121之另一者而發揮功能。
凹凸之表面形狀112、122係為了賦予抗牛頓環性能等而設置。於圖3之電容式觸控面板200中，凹凸之表面形狀4a與凹凸之表面形狀112相對應，凹凸之表面形狀4b與凹凸之表面形狀122相對應。又，於圖4之電容式觸控面板201中，凹凸之表面形狀4a與凹凸之表面形狀112相對應，凹凸之表面形狀4b與凹
凸之表面形狀122相對應。
凹凸之表面形狀112、122可藉由如下方法形成：將含有熱硬化性或活性能量射線硬化性之樹脂成分之硬塗層形成用塗佈液塗佈於基材(基材111或基材121)上而形成塗膜，並使該塗膜硬化。作為形成凹凸之方法，具體而言，可舉出於樹脂層形成用材料中調配粒子之方法；及使樹脂層形成用材料含有溶解性參數(SP)值不同之2種樹脂成分，於塗佈後使一樹脂成分藉由相分離而析出的方法等。
於本發明中，於樹脂層形成用材料實質上未相分離之情形時，該樹脂層形成用材料較佳為含有粒徑未滿250nm之無機或有機微粒子。又，於樹脂層形成用材料含有實質上相分離之樹脂成分之情形時，該樹脂層形成用材料較佳為實質上不含有粒徑未滿250nm之無機或有機微粒子。藉由使用該等任一種樹脂層形成用材料，而本發明之抗牛頓環積層體成為兼具優異之光學性能與抗牛頓環性能者。
再者，實質上未相分離意為樹脂層形成用材料(組成物)中實質上未包含相分離之樹脂成分。例如於樹脂層形成用材料包含溶解性參數(SP)值不同之2種樹脂成分之情形時，2種樹脂成分之SP值之差為1.0以上，於將樹脂層形成用材料之總質量設為100質量%時，量較少之樹脂成分之含量較佳為3質量%以下。更佳為2質量%以下，進而較佳為1質量%以下，最佳為0.1質量%以下。
又，於樹脂層形成用材料(組成物)為相分離者之情形時，於將樹脂層形成用材料之總質量設為100質量%時，粒徑未滿250nm之無機或有機微粒子之含量較佳為3質量%以下。更佳為2質量%
以下，進而較佳為1質量%以下，最佳為0.1質量%以下。
作為熱硬化性之樹脂成分，例如可舉出：酚系樹脂、尿素樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等。
作為活性能量射線硬化性之樹脂成分，可舉出含有可藉由活性能量射線之照射而聚合之聚合性不飽和基(例如乙烯性雙鍵等包含聚合性不飽和鍵之基)之單體者。於活性能量射線硬化性之樹脂成分中，視需要調配光聚合起始劑等。
凹凸之表面形狀112、122尤佳為以活性能量射線使含有多官能(甲基)丙烯酸單體及粒子之樹脂層形成用組成物(以下稱為「樹脂層形成用組成物(X)」)硬化而成之硬化物。由於該硬化物中，母材(粒子以外之部分)含有具有交聯結構之硬質丙烯酸系聚合物，因此表面硬度、透明性、耐擦傷性等優異。又，抗牛頓環積層體100藉由凹凸之表面形狀112及凹凸之表面形狀122含有粒子，而抑制使樹脂層形成用組成物(X)硬化時之積層體之收縮。
「多官能」意指具有2個以上聚合性不飽和基，「(甲基)丙烯酸單體」係至少具有(甲基)丙烯醯基作為聚合性不飽和基之化合物。「(甲基)丙烯醯基」表示丙烯醯基或甲基丙烯醯基。
作為多官能(甲基)丙烯酸單體，例如可舉出：二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環戊基
二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二環戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇(較佳為質量平均分子量400~600)二(甲基)丙烯酸酯、改質雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙化環己基二(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸酯二(甲基)丙烯酸酯等2官能(甲基)丙烯酸酯；新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改質二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、聚醚三(甲基)丙烯酸酯、甘油丙氧基三(甲基)丙烯酸酯、參(丙烯醯氧基乙基)異氰脲酸酯等3官能(甲基)丙烯酸酯；新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯等4官能(甲基)丙烯酸酯；二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、丙酸改質二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇單羥基五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等5官能以上之(甲基)丙烯酸酯等。
該等多官能(甲基)丙烯酸單體可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。
上述多官能(甲基)丙烯酸單體較佳為含有4官能以上(較佳為5官能以上，更佳為6官能)之(甲基)丙烯酸單體。4官能以上之(甲基)丙烯酸單體有助於硬度之提昇。
所有多官能(甲基)丙烯酸單體中，4官能以上之(甲基)丙烯酸單體之比例較佳為50質量%以上，更佳為60質量%以上，進而較佳為70質量%以上，最佳為80質量%以上。
樹脂層形成用組成物(X)所含有之粒子可為無機粒子亦可為有機粒子。作為無機粒子，較佳為硬度較高者，例如可使用二氧化矽粒子、二氧化鈦粒子、氧化鋯粒子、氧化鋁粒子、二氧化錫粒子、五氧化銻粒子、三氧化銻粒子等無機氧化物粒子。
無機粒子亦可為藉由偶合劑對上述無機氧化物粒子進行處理而成之反應性無機氧化物粒子。藉由利用偶合劑進行處理，而可提高與丙烯酸系聚合物之間之鍵結力。其結果，可提昇表面硬度及耐擦傷性，進而可提昇無機氧化物粒子之分散性。
作為偶合劑，例如可舉出：γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-巰基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基鋁等。該等可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
偶合劑之處理量相對於無機氧化物粒子100質量份，較佳為0.1~20質量份，更佳為1~10質量份。
作為有機粒子，例如可使用丙烯酸系樹脂、聚苯乙烯、聚矽氧烷、三聚氰胺樹脂、苯胍胺樹脂、聚四氟乙烯、乙酸纖維素、聚碳酸酯、聚醯胺等樹脂粒子等。
有機粒子亦可為藉由偶合劑對上述樹脂粒子進行處理而成之反應性樹脂粒子。藉由利用偶合劑進行處理，而可提高與丙烯酸系聚合物之間之鍵結力。其結果，可提昇表面硬度及耐擦傷性，進而可提昇樹脂粒子之分散性。
偶合劑及其處理量與上述反應性無機氧化物粒子中所舉出之偶合劑及其處理量相同。
為了兼具充分之抗牛頓環性能與優異之光學性能，粒子之粒徑未滿250nm。粒子之粒徑較佳為10nm~200nm，更佳為20nm~150nm，進而較佳為30nm~100nm。
於樹脂層形成用組成物(X)之固形份中，粒子之調配量較佳為1~20質量%，更佳為3~15質量%，進而較佳為5~10質量%。若粒子之調配量為該等較佳之範圍內，則抗牛頓環性能進一步提昇。又，若為1質量%以上，則抗牛頓環性能提昇，若為20質量%以下，則可調配充分之量之多官能(甲基)丙烯酸單體，因此硬塗性能變得良好。
再者，固形份於不包含溶劑之情形時表示構成樹脂層形成用組成物(X)之所有成分之合計，於包含溶劑之情形時表示除溶劑以外之所有成分之合計。
為了促進硬化，樹脂層形成用組成物(X)較佳為含有上述多官能(甲基)丙烯酸單體及粒子並且含有光聚合起始劑。
作為光聚合起始劑，可使用公知者，例如可舉出：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香-正丁醚、安息香異丁醚、苯乙酮、二甲胺基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4(甲硫基)苯基]-2-啉基-丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2(羥基-2-丙基)酮、二苯甲酮、對苯基二苯甲酮、4,4'-二乙胺基二苯甲酮、苯丙酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽醌、2-胺基蒽醌、2-甲基9-氧硫、2-乙基9-氧硫、2-氯9-氧硫、2,4-二甲基9-氧硫、2,4-二乙基9-氧硫、苄基二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、對
二甲胺苯甲酸酯等。該等光聚合起始劑可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。
樹脂層形成用組成物(X)之固形份中，光聚合起始劑之調配量較佳為0.5~10質量%，更佳為2~8質量%。若為0.5質量%以上則難以產生硬化不良。即便調配超過10質量%，亦無法獲得與調配量相應之硬化促進效果，亦會使成本變高。又，有殘留於硬化物中而成為黃變及滲出等之原因之虞。
除含有光聚合起始劑以外，亦可進而含有光增感劑。作為光增感劑，例如可舉出：正丁基胺、三乙基胺、三-正丁基膦等。
樹脂層形成用組成物(X)亦可視需要於不損害本發明之效果之範圍內，含有上述以外之其他成分。例如，可含有用以對凹凸樹脂層賦予耐擦傷性以外之其他功能(撥水性、撥油性、防污性、塗佈適性、抗靜電性、紫外線遮蔽性等)之公知之添加劑。作為此種添加劑，例如可舉出：氟系化合物、聚矽氧烷系化合物、金屬氧化物微粒子、抗靜電樹脂、導電性高分子、紫外線吸收劑等。藉由添加氟系化合物，而可賦予撥水‧撥油性、及污漬難以附著且附著之污漬容易擦拭之防污效果。又，藉由添加聚矽氧烷系化合物，而提昇撥水性、污漬難以附著且附著之污漬容易擦拭之防污效果的賦予及塗佈適性。又，藉由添加金屬氧化物微粒子、抗靜電樹脂、或導電性高分子，而可賦予抗靜電性。又，藉由添加金屬氧化物微粒子或紫外線吸收劑，而可賦予紫外線遮蔽性。
樹脂層形成用組成物(X)亦可含有溶劑。
作為溶劑，例如使用甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、甲基乙基酮、
甲苯、正己烷、正丁醇、甲基異丁基酮、甲基丁基酮、乙基丁基酮、環己酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、N-甲基-2-吡咯啶酮等。該等可單獨使用1種以上，亦可混合使用2種以上。
以減輕塗佈不均為目的，亦可併用蒸發速度不同之2種以上之溶劑。例如可混合使用選自甲基乙基酮、甲基異丁基酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲醚之至少2種。
凹凸之表面形狀112、122可藉由將上述樹脂層形成用組成物(X)等樹脂層形成用材料塗佈於基材111、121之表面而形成塗膜，使該塗膜硬化而形成。
作為樹脂層形成用材料之塗佈方法，例如可舉出使用刮刀塗佈機、氣刀塗佈機、輥式塗佈機、棒式塗佈機、凹版塗佈機、微凹版塗佈機、桿式刮刀塗佈機、唇口塗佈機、模具塗佈機、簾幕式塗佈機、印刷機等之方法。
樹脂層形成用材料之塗佈量係根據凹凸之表面形狀112、122之厚度而設定。
凹凸之表面形狀112、122之厚度較佳為1~6μm，更佳為2~5μm。若該厚度為1μm以上則可獲得充分之硬塗性能。若為6μm以下，則透明性、基材密接性、耐捲曲性等優異。
再者，將凹凸之表面形狀112、122之最薄部分之厚度(自存在於凹凸之表面形狀112、122的凹部之底至基材111、121側之表面之距離)設為凹凸之表面形狀112、122之厚度。
較佳為凹凸之表面形狀112、122於形成塗膜後且使該塗膜硬化前進行加熱乾燥。加熱乾燥之條件例如較佳為60℃~
100℃、30秒~90秒。更佳為70℃~90℃、45秒~75秒。藉由於上述較佳之範圍之條件下進行加熱乾燥，而使本發明之積層體兼具優異之光學性能、與充分之抗牛頓環性能。
於樹脂層形成用材料係如上述樹脂層形成用組成物(X)般為活性能量射線硬化性之情形時，塗膜可藉由活性能量射線之照射而硬化。於樹脂層形成用材料為熱硬化性之情形時，塗膜可藉由使用加熱爐或紅外線燈等進行加熱而硬化。
作為活性能量射線，可舉出：紫外線、電子束、可見光線、γ射線等游離輻射等，其中，自通用性之方面而言，較佳為紫外線。作為紫外線之光源，例如可使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、碳弧、氙弧、無電極紫外線燈等。
作為電子束，例如可使用自柯克勞夫-沃耳吞型、凡德格拉夫型、共振變壓型、絕緣核心變壓器型、直線型、高頻高壓型、高頻型等各種電子束加速器發射之電子束。
利用活性能量射線之照射之硬化較佳係於氮氣等惰性氣體存在下進行。
硬化可以1階段進行，亦可分為預備硬化步驟與主硬化步驟之2階段進行。
本發明之抗牛頓環積層體100較佳為全光線透過率為90%以上。又，上述積層體之霧度為1.5%以下，較佳為1.3%以下，更佳為1.2%以下，進而較佳為1.1%以下，進而更佳為1.0%以下，最佳為0.9%以下。若滿足該等條件，則作為觸控面板及顯示裝置用光學構件有用。
全光線透過率及霧度分別可藉由依照JIS K7361-1及JIS
K7136之方法測定。
圖3係對使用本發明之抗牛頓環積層體100之一態樣之附有電容式觸控面板之顯示裝置200之構成進行說明的概略剖視圖。
附有電容式觸控面板之顯示裝置200具備：液晶顯示器11，其於最前表面配置有形成有凹凸之表面形狀之層4b之偏光板12；及電容式觸控面板25。觸控面板25係與液晶顯示器11之間設置間隙而配置於液晶顯示器11之前表面，且外緣部係藉由黏著層31而固定於液晶顯示器11。藉此，於液晶顯示器11之前表面與觸控面板25之背面之間形成有空間。
觸控面板25具備玻璃基板1、形成於玻璃基板之背面之導電層2x、黏著層7、印刷層5、基材3、形成於基材3之前表面之導電層2y、及形成於基材3之背面之凹凸之表面形狀4a。玻璃基板1及導電層2x係藉由黏著層7而密接於導電層2y之前表面。於導電層2y之前表面之外緣部形成有印刷層5。
導電層2x係用以檢測橫軸方向之位置之導電層，導電層2y係用以檢測縱軸方向之位置之導電層。
凹凸之表面形狀4a與液晶顯示裝置11對向。
再者，於本說明書及申請專利範圍中，「前表面」意指使用電容式觸控面板或安裝其之顯示裝置時，使用者所視認、操作之側之面，「背面」意指與使用者所視認、操作之側為相反側之面。有將觸控面板之前表面稱為觸控面之情況。
作為液晶顯示器11，並無特別限定，除可使用於表面形成有凹凸之表面形狀之層4b之偏光板12以外，可使用公知之液晶顯示器。
作為玻璃基板1，可利用觸控面板等所使用之公知之玻璃板。
玻璃基板1之厚度較佳為0.1mm以上，更佳為0.2mm以上。若為0.1mm以上，則觸控面板11之強度亦變得充分。上限並無特別限定，但若超過3mm則不太會產生撓曲及應變，而難以產生牛頓環，因此自本發明之有用性之方面，且透明性亦優異之觀點而言，較佳為3mm以下，更佳為2mm以下。
導電層2x及2y係透明之導電性之膜。
導電層2x及2y係用於表面型電容式觸控面板等，可為以實質上均勻之厚度形成之均勻層，或者亦可為用於投影型電容方式之觸控面板等之為了進行位置感測而形成的具有規則圖案之導電層。再者，於均勻層之情形時，亦可根據觸控面板之構成等，為了形成引出電極等而將導電層2x及2y之一部分圖案化。
作為導電層2x及2y之材質，例如可舉出：金、銀、鉑、鈀、銅、鋁、鎳、鉻、鈦、鐵、鈷、錫、及該等之合金等金屬；銦-錫氧化物(Indium Tin Oxide(ITO))、銦-鋅氧化物(Indium Zinc Oxide(IZO))、氧化鋅(Zinc Oxide(ZnO))、鋅-錫氧化物(Zinc Tin Oxide(ZTO))等金屬氧化物；包含碘化銅等之其他金屬化合物；
PEDOT/PSS等導電性樹脂等。再者，上述PEDOT/PSS係使PEDOT(3,4-乙二氧基噻吩之聚合物)與PSS(苯乙烯磺酸之聚合物)共存之聚合複合物。
導電層2x及2y之厚度係考慮導電性、透明性等而設定。為了設為觸控面板用電極板，導電層2x及2y之導電性以表面電阻計較佳為105Ω/sq以下，更佳為103Ω/sq以下。通常，該表面電阻於金屬系之情形時，可藉由設為30~600Å之厚度達成，於金屬氧化物系之情形時，可藉由設為80~5,000Å之厚度達成。
導電層2x及2y可藉由公知之方法形成。
例如於導電層2為均勻層之情形時，可舉出：真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍覆法、噴霧熱分解法、化學電鍍法、電鍍法、塗佈法、或該等之組合法等薄膜形成法。自膜之形成速度及大面積膜之形成性、生產性等方面而言，較佳為真空蒸鍍法或濺鍍法。
規則圖案可藉由利用各種印刷方式等於玻璃基板1及基材3之表面預先局部地設置導電層2x及2y的方法而形成，或者，亦可如上述般於形成均勻層後，藉由蝕刻等將其一部分去除而形成。
為了提高導電層2x及2y與玻璃基板1及基材3之密接性，亦可對玻璃基板1及基材3之表面實施電暈放電處理、紫外線照射處理、電漿處理、濺鍍蝕刻處理、底漆塗佈處理等適當之前處理。
作為構成黏著層7之黏著劑，可分別利用用於觸控面板等光學用途之公知之黏著劑。作為黏著劑，例如可舉出：天然橡膠系黏著劑、合成橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、胺基甲酸乙酯系黏著劑、
聚矽氧系黏著劑等。黏著劑可為溶劑系、無溶劑系、乳液系、水系之任一者。其中，自透明度、耐候性、耐久性、成本等觀點而言，較佳為丙烯酸系黏著劑，尤佳為溶劑系者。
於黏著劑中，亦可視需要添加其他助劑。作為其他助劑，可舉出：抗氧化劑、黏著賦予劑、矽烷偶合劑、紫外線吸收劑、受阻胺系化合物等光穩定劑、增黏劑、pH值調整劑、黏合劑、交聯劑、黏著性粒子、消泡劑、防腐防黴劑、顏料、無機填充劑、穩定劑、濡濕劑、濕潤劑等。
黏著層7之厚度分別較佳為10~100μm，更佳為20~80μm。若為10μm以上，則獲得充分之黏著性。若黏著層7之厚度超過100μm，則自薄型化、成本之方面而言不利。
於基材3之背面，形成有凹凸之表面形狀4a。於偏光板12之前表面，形成有凹凸之表面形狀4b。
該等凹凸之表面形狀於藉由將表面粗度設為大於10nm且小於60nm，而玻璃板1向液晶顯示裝置11方向撓曲時，即便凹凸之表面形狀4a接觸凹凸之表面形狀4b，亦難以產生牛頓環，且牛頓環難以殘留。
由於上述表面粗度大於10nm，故而與兩面或單面不存在凹凸之情形相比，第1層與第2層之接觸面積較小，容易分離，因此可發揮優異之抗牛頓環效果。上述表面粗度較佳為13nm以上，更佳為15nm以上。
由於上述表面粗度小於60nm，因此積層體之霧度較小，又，積層體之透明性變高，難以損害觸控面之明亮度。該表面粗度較佳為小於50nm，更佳為小於40nm，尤佳為小於30nm。
滿足上述表面粗度之凹凸之表面形狀可依照本說明書之實施例及比較例之材料及條件等獲得。
圖4係對使用本發明之抗牛頓環積層體之另一態樣之附有電容式觸控面板之顯示裝置201之構成進行說明的概略剖視圖。
圖4所示之附有電容式觸控面板之顯示裝置201具備液晶顯示器11及觸控面板21。觸控面板21具備：玻璃基板1、黏著層7、導電層2x、第1基材3a、黏著層17、導電層2y、第2基材3b、及形成於第2基材3b之背面之凹凸之表面形狀4a。
玻璃基板1之背面與導電層2x之前表面係經由黏著層7而密接。第1基材3a之背面與導電層2y之前表面係經由黏著層17而密接。於導電層2x之前表面之外緣部形成有印刷層5。
導電層2x係用以檢測橫軸方向之位置之導電層，導電層2y係用以檢測縱軸方向之位置之導電層。再者，亦可為導電層2x係用以檢測縱軸方向之位置之導電層，導電層2y係用以檢測橫軸方向之位置之導電層。黏著層17係絕緣性黏著層。
凹凸之表面形狀4a與凹凸之表面形狀4b對向。凹凸之表面形狀4a、4b之表面粗度大於10nm且小於60nm。表面粗度之較佳之範圍與附有電容式觸控面板之顯示裝置200之表面粗度相同。
以上，對本發明之導電薄膜片材及使用其之觸控面板進行了說明，但本發明並不限定於該等。
例如，於上述說明中，表示了使用液晶顯示器作為顯示裝置之例，但本發明並不限定於此。例如可使用陰極射線管(CRT)顯示器、電漿顯示器、電致發光(EL)顯示器等各種顯示裝置。
以下，表示實施例對本發明進行更具體說明，但本發明並不限定於該等例。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，係混合二新戊四醇六丙烯酸酯(6官能丙烯酸酯、商品名A-DPH，新中村化學股份有限公司製造)100質量份、粒徑50nm之矽酸膠分散液(有機矽溶膠L類型，固形份濃度30%，日產化學工業股份有限公司製造)20質量份、光聚合起始劑(商品名IRGACURE184，BASF股份有限公司製造)4質量份。藉由將該混合物利用甲基乙基酮以固形份濃度成為50%之方式稀釋，而製備樹脂層形成用組成物A。
作為基材，使用厚度100μm之PET薄膜(商品名A4300，東洋紡織股份有限公司製造)。於該基材上棒式塗佈樹脂層形成用組成物A。其後，將該基材以80℃、60秒加熱乾燥。其後，對於該基材，使用高壓水銀燈紫外線照射機(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，於160W/cm、燈高度13cm、皮帶速度10m/min、2pass、氮氣環境下照射紫外線。藉此，塗佈於基材之組成物A硬化而成為厚度5μm之樹脂層。依此獲得樹脂薄膜A1。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，係混合二新戊四醇六丙烯酸酯(6官能丙烯酸酯，商品名A-DPH，新中村化學股份有限公司製造)100質量份、粒徑50nm之矽酸膠分散液(有機矽溶膠L類型，固形份
濃度30%，日產化學工業股份有限公司製造)20質量份、光聚合起始劑(商品名IRGACURE184，BASF股份有限公司製造)4質量份。藉由將該混合物利用甲基乙基酮以固形份濃度成為50%之方式稀釋，而製備樹脂層形成用組成物A。
作為基材，使用厚度100μm之PET薄膜(商品名A4300，東洋紡織股份有限公司製造)。於該基材上棒式塗佈樹脂層形成用組成物A。其後，將該基材以80℃、60秒加熱乾燥。其後，對於該基材，使用高壓水銀燈紫外線照射機(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，於160W/cm、燈高度13cm、皮帶速度10m/min、2pass、氮氣環境下照射紫外線。藉此，塗佈於基材之組成物A硬化而成為厚度2μm之樹脂層。依此獲得樹脂薄膜A2。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，係混合二新戊四醇六丙烯酸酯(6官能丙烯酸酯，商品名A-DPH，新中村化學股份有限公司製造)100質量份、粒徑50nm之矽酸膠分散液(有機矽溶膠L類型，固形份濃度30%，日產化學工業股份有限公司製造)20質量份、光聚合起始劑(商品名IRGACURE184，BASF股份有限公司製造)4質量份。藉由將該混合物利用甲基乙基酮以固形份濃度成為50%之方式稀釋，而製備樹脂層形成用組成物A。
作為基材，使用厚度100μm之PET薄膜(商品名A4300，東洋紡織股份有限公司製造)。於該基材上棒式塗佈樹脂層形成用組成物A。其後，將該基材以80℃、60秒加熱乾燥。其後，對於該基材，使用高壓水銀燈紫外線照射機(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，於160W/cm、燈高度13cm、皮帶速度10m/min、2pass、
氮氣環境下照射紫外線。藉此，塗佈於基材之組成物A硬化而成為厚度7μm之樹脂層。依此獲得樹脂薄膜A3。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，係混合二新戊四醇六丙烯酸酯(6官能丙烯酸酯，商品名A-DPH，新中村化學股份有限公司製造)100質量份、粒徑50nm之矽酸膠分散液(有機矽溶膠L類型，固形份濃度30%，日產化學工業股份有限公司製造)20質量份、光聚合起始劑(商品名IRGACURE184，BASF股份有限公司製造)4質量份。藉由將該混合物利用甲基乙基酮以固形份濃度成為50%之方式稀釋，而製備樹脂層形成用組成物A。
作為基材，使用厚度100μm之PET薄膜(商品名A4300，東洋紡織股份有限公司製造)。於該基材上棒式塗佈樹脂層形成用組成物A。其後，將該基材以80℃、60秒加熱乾燥。其後，對於該基材，使用高壓水銀燈紫外線照射機(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，於160W/cm、燈高度13cm、皮帶速度10m/min、2pass、氮氣環境下照射紫外線。藉此，塗佈於基材之組成物A硬化而成為厚度0.5μm之樹脂層。依此獲得樹脂薄膜A4。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，係混合二新戊四醇六丙烯酸酯(6官能丙烯酸酯，商品名A-DPH，新中村化學股份有限公司製造)100質量份、粒徑100nm矽酸膠分散液(有機矽溶膠Z類型，固形份濃度30%，日產化學工業股份有限公司製造)20質量份、光聚合起始劑(商品名IRGACURE184，BASF股份有限公司製造)4質量份。藉
由將該混合物利用甲基乙基酮以固形份濃度成為50%之方式稀釋，而製備樹脂層形成用組成物B。
作為基材，使用厚度100μm之PET薄膜(商品名A4300，東洋紡織股份有限公司製造)。於該基材上棒式塗佈樹脂層形成用組成物B。其後，將該基材以80℃、60秒加熱乾燥。其後，對於該基材，使用高壓水銀燈紫外線照射機(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，於160W/cm、燈高度13cm、皮帶速度10m/min、2pass、氮氣環境下照射紫外線。藉此，塗佈於基材之組成物B硬化而成為厚度5μm之樹脂層。依此獲得樹脂薄膜B1。
將藉由相分離而形成表面凹凸之樹脂層形成用組成物C(商品名Lucifral NAB-007固形份濃度40%日本立邦漆股份有限公司製造)棒式塗佈於基材(厚度100μm之PET薄膜，商品名A4300，東洋紡織股份有限公司製造)之表面。其後，將該基材以80℃、60秒加熱乾燥。其後，對於該基材，使用高壓水銀燈紫外線照射機(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，於160W/cm、燈高度13cm、皮帶速度10m/min、2pass、氮氣環境下照射紫外線。藉此，塗佈於基材之組成物C硬化而成為厚度5μm之樹脂層。依此獲得樹脂薄膜C1。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，係混合二新戊四醇六丙烯酸酯(6官能丙烯酸酯，商品名A-DPH，新中村化學股份有限公司製造)100
質量份、粒徑20nm之矽酸膠分散液(商品名PL-2L-MEK，固形份濃度20%，扶桑化學工業股份有限公司製造)30質量份、光聚合起始劑(商品名IRGACURE184，BASF股份有限公司製造)4質量份。藉由將該混合物利用甲基乙基酮以固形份濃度成為50%之方式稀釋，而製備樹脂層形成用組成物D。
作為基材，使用厚度100μm之PET薄膜(商品名A4300，東洋紡織股份有限公司製造)。於該基材上棒式塗佈樹脂層形成用組成物D。其後，將該基材以80℃、60秒加熱乾燥。其後，對於該基材，使用高壓水銀燈紫外線照射機(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，於160W/cm、燈高度13cm、皮帶速度10m/min、2pass、氮氣環境下照射紫外線。藉此，塗佈於基材之組成物D硬化而成為厚度5μm之樹脂層。依此獲得樹脂薄膜D1。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，係混合二新戊四醇六丙烯酸酯(6官能丙烯酸酯，商品名A-DPH，新中村化學股份有限公司製造)100質量份、1400nm之二氧化矽粒子(商品名Sylysia310，富士矽化學股份有限公司製造)6質量份、光聚合起始劑(商品名IRGACURE184，BASF股份有限公司製造)4質量份。藉由將該混合物利用甲基乙基酮以固形份濃度成為50%之方式稀釋而製備樹脂層形成用組成物E。
作為基材，使用厚度100μm之PET薄膜(商品名A4300，東洋紡織股份有限公司製造)。於該基材上棒式塗佈樹脂層形成用組成物E。其後，將該基材以80℃、60秒加熱乾燥。其後，對於該基材，使用高壓水銀燈紫外線照射機(EYE GRAPHICS股份有限公
司製造)，於160W/cm、燈高度13cm、皮帶速度10m/min、2pass、氮氣環境下照射紫外線。藉此，塗佈於基材之組成物E硬化而成為厚度5μm之樹脂層。依此獲得樹脂薄膜E1。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，係混合二新戊四醇六丙烯酸酯(6官能丙烯酸酯，商品名A-DPH，新中村化學股份有限公司製造)100質量份、4100nm之二氧化矽粒子(商品名Sylysia430，富士矽化學股份有限公司製造)6質量份、光聚合起始劑(商品名IRGACURE184，BASF股份有限公司製造)4質量份。藉由將該混合物利用甲基乙基酮以固形份濃度成為50%之方式稀釋而製備樹脂層形成用組成物F。
作為基材，使用厚度100μm之PET薄膜(商品名A4300，東洋紡織股份有限公司製造)。於該基材上棒式塗佈樹脂層形成用組成物F。其後，將該基材以80℃、60秒加熱乾燥。其後，對於該基材，使用高壓水銀燈紫外線照射機(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，於160W/cm、燈高度13cm、皮帶速度10m/min、2pass、氮氣環境下照射紫外線。藉此，塗佈於基材之組成物F硬化而成為厚度5μm之樹脂層。依此獲得樹脂薄膜F1。
於厚度100μm之PET薄膜之基材上，棒式塗佈折射率1.65之組成物(商品名OPSTARORKZ6719固形份20%，JSR股份有限公司製造)。使該基材於80℃下加熱乾燥60秒。藉此，形成厚度0.2μm
之高折射層。進而，於高折射層上與樹脂薄膜A1之製作同樣地棒式塗佈樹脂層形成用組成物A而製作樹脂薄膜G1。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，係混合二新戊四醇六丙烯酸酯(6官能丙烯酸酯，商品名A-DPH，新中村化學股份有限公司製造)100質量份、及光聚合起始劑(商品名IRGACURE184，BASF股份有限公司製造)4質量份。藉由將該混合物利用甲基乙基酮以固形份濃度成為50%之方式稀釋，而製備樹脂層形成用組成物H。
作為基材，使用厚度100μm之PET薄膜(商品名A4300，東洋紡織股份有限公司製造)。於該基材上棒式塗佈樹脂層形成用組成物H。其後，將該基材以80℃、60秒加熱乾燥。其後，對於該基材，使用高壓水銀燈紫外線照射機(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，於160W/cm、燈高度13cm、皮帶速度10m/min、2pass、氮氣環境下照射紫外線。藉此，塗佈於基材之組成物H硬化而成為厚度5μm之樹脂層。依此獲得樹脂薄膜H1。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，係混合二新戊四醇六丙烯酸酯(6官能丙烯酸酯，商品名A-DPH，新中村化學股份有限公司製造)100質量份、粒徑10nm之矽酸膠分散液(有機矽溶膠標準類型，固形份濃度30%，日產化學工業股份有限公司製造)10質量份、光聚合起始劑(商品名IRGACURE184，BASF股份有限公司製造)4質量份。藉由將該混合物利用甲基乙基酮以固形份濃度成為50%之方式
稀釋，而製備樹脂層形成用組成物I。
作為基材，使用厚度100μm之PET薄膜(商品名A4300，東洋紡織股份有限公司製造)。於該基材上棒式塗佈樹脂層形成用組成物I。其後，將該基材以80℃、60秒加熱乾燥。其後，對於該基材，使用高壓水銀燈紫外線照射機(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，於160W/cm、燈高度13cm、皮帶速度10m/min、2pass、氮氣環境下照射紫外線。藉此，塗佈於基材之組成物I硬化而成為厚度5μm之樹脂層。依此獲得樹脂薄膜I1。
使用微雷射顯微鏡(KEYENCE股份有限公司製造 測定部VK-X105控制器部VK-X100)，以倍率200倍進行各樹脂薄膜之表面觀察與圖像之獲取。對於所得之圖像，將測定區域設為100μm×100μm而使用上述微雷射顯微鏡所附屬之解析軟體，基於JIS B0601：2001計算出算術平均表面粗度Ra。
基於JIS K 7136，使用日本電色工業股份有限公司製造之NDH4000而測定所得之樹脂薄膜及積層體之霧度值。
將所得之樹脂薄膜裁斷為縱100mm×橫100mm之大小，於23℃、濕度50%RH之環境下放置1天。其後，將樹脂薄膜置於水平面上，測定四角之隆起。四角之隆起係相對於水平面垂直之方向上的水平面至樹脂薄膜之四角各者之距離。計算其平均值作為捲曲。
將捲曲為0~10mm之情形評價為○。將捲曲為11mm以上之情形評價為×。
準備2片樹脂薄膜，以使各樹脂層彼此對向之狀態放置，自樹脂層之相反面以手指壓抵。其後解除應力，以目視確認5秒後是否產生牛頓環。此時，將未產生牛頓環之情形評價為○。又，將產生了牛頓環之情形或樹脂薄膜彼此貼附之情形評價為×。
準備2片樹脂薄膜A1，以使各樹脂層對向之方式配置，製作積層體。
將2片之樹脂薄膜A1之兩者變更為樹脂薄膜B1，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片之樹脂薄膜A1之兩者變更為樹脂薄膜C1，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片之樹脂薄膜A1之兩者變更為樹脂薄膜D1，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片之樹脂薄膜A1之兩者變更為樹脂薄膜G1，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片樹脂薄膜A1之一者變更為樹脂薄膜B1，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片樹脂薄膜A1之一者變更為樹脂薄膜C1，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片之樹脂薄膜A1之兩者變更為樹脂薄膜A2，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片之樹脂薄膜A1之兩者變更為樹脂薄膜H1，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片之樹脂薄膜A1之兩者變更為樹脂薄膜I1，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片樹脂薄膜A1之一者變更為樹脂薄膜I1，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片樹脂薄膜B1之一者變更為樹脂薄膜I1，除此以外與實施例2同樣地製作積層體。
將2片之樹脂薄膜A1之兩者變更為樹脂薄膜A3，除此以外與
實施例1同樣地製作積層體。
將2片之樹脂薄膜A1之兩者變更為樹脂薄膜A4，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片之樹脂薄膜A1之兩者變更為樹脂薄膜E1，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
將2片之樹脂薄膜A1之兩者變更為樹脂薄膜F1，除此以外與實施例1同樣地製作積層體。
Claims (7)
- 一種積層體，其具備至少於單面具有凹凸之表面形狀之第1層、及至少於單面具有凹凸之表面形狀之第2層，且上述第1層之凹凸之表面形狀及上述第2層之凹凸之表面形狀之厚度為1~6μm，表面粗度大於10nm且小於60nm，且上述第1層之凹凸之表面形狀與上述第2層之凹凸之表面形狀對向並以該凹凸之表面形狀相互接觸之方式積層。
- 如請求項1之積層體，其中，上述第1層及/或上述第2層含有粒徑20~250nm之無機或有機微粒子。
- 如請求項1或2之積層體，其中，上述第1層之凹凸面及/或上述第2層之凹凸面係使含有至少2種成分之樹脂組成物相分離而形成凹凸。
- 如請求項1或2之積層體，其中上述第1層之凹凸面及上述第2層之凹凸面中，一凹凸面為含有粒徑20~250nm之無機或有機微粒子之凹凸樹脂層，另一凹凸面為使含有至少2種成分之樹脂組成物相分離而形成之凹凸樹脂層。
- 如請求項1或2之積層體，其中，上述第1層及第2層之霧度大於0.6且小於7.0。
- 一種顯示裝置，其組入有請求項1至5中任一項之積層體。
- 一種光學薄膜，其係用以組入具有觸控面板功能之顯示裝置內者，其特徵在於：上述光學薄膜於至少單面具有凹凸之表面形狀，該凹凸之表面形狀之厚度為1~6μm，具有凹凸之表面形狀之面之表面粗度大於10nm且小於60nm，且上述光學薄膜於同一顯示裝置內至少使用2片以上，以凹凸之表 面形狀相互接觸之方式配置。
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