TWI623430B - Hard coating film, polarizing plate using the same, hard coating film processing product, display member - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種兼具高硬度、低捲曲性、高彎曲性的硬塗膜、使用其之偏光板、硬塗膜加工品、顯示構件。一種硬塗膜，其係在透明基材2的雙面設置硬塗層3a及3b之硬塗膜1，其特徵為，透明基材2的厚度為5μm以上40μm以下，硬塗層3a及3b之各別的厚度為5μm以上30μm以下，硬塗層3a及3b的體積之合計為硬塗膜1的總體積之40%以上，總厚度為80μm以下。

Description

硬塗膜、使用其之偏光板、硬塗膜加工品、顯示構件
本發明係關於一種在顯示裝置使用的硬塗膜、使用其之偏光板、硬塗膜加工品、顯示構件。
在液晶顯示面板或觸控面板等之顯示構件，為了提升表面硬度與耐擦傷性而使用硬塗膜。硬塗膜為在透明基材的表面形成包含樹脂組成物之硬化膜的硬塗層者。伴隨近年來的顯示裝置之薄型化及輕量化，硬塗膜也需要薄型化，正在謀求使用於硬塗膜的透明基材之薄膜化。
例如，專利文獻1中，記載有藉由將含有在表面具有反應性官能基的反應性二氧化矽微粒子、在1分子中具有反應性官能基3個以上的多官能單體、及具有特定分子結構的反應性聚合物之硬塗層用硬化性樹脂組成物於基材之一面塗布及硬化，可薄膜化，同時形成高硬度的硬塗層。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2010-120991號公報
在如專利文獻1所記載之硬塗膜般的僅於基材之單面設置硬塗層的構成中，為了得到所需的硬度，有需要使硬塗層用硬化性樹脂組成物的膜厚增厚。該情況中，得到的硬塗膜之捲曲過強，在進一步加工硬塗膜、作為顯示構件使用之際，有可用性差的問題。又，在厚度40μm以下之輕薄的基材之單面設置硬塗層時，因為低硬度的基材之影響，所以硬塗膜的鉛筆硬度容易惡化。再者，在單面設置硬塗層的硬塗膜，也有彎曲方面弱，硬塗層容易破裂的問題。
因此，本發明的目的在於提供一種兼具高硬度、低捲曲性、高彎曲性的硬塗膜、使用其之偏光板、硬塗膜加工品、顯示構件。
本發明係關於一種在透明基材的雙面設置硬塗層的硬塗膜。關於本發明的硬塗膜，其特徵為透明基材的厚度為5μm以上40μm以下，硬塗層之各別的厚度為5μm以上30μm以下，硬塗層的體積之合計為硬塗膜的總體積之40%以上，總厚度為80μm以下。
關於本發明的偏光板、硬塗膜加工品及顯示構件為具備上述硬塗膜者。
根據本發明，可提供一種兼具高硬度、低捲曲性、高彎曲性的硬塗膜、使用其之偏光板、硬塗膜加 工品、顯示構件。
1‧‧‧硬塗膜
2‧‧‧透明基材
3a、3b‧‧‧硬塗層
[第1圖]第1圖為關於實施形態之硬塗膜的概略剖面圖。
[第2圖]第2圖為表示彎曲試驗之試驗方法(繞設圓柱的試驗法)的概略圖。
[實施發明之形態]
第1圖為關於實施形態之硬塗膜的概略剖面圖。
硬塗膜1為在透明基材2之雙面設置硬塗層3a及3b者。
(透明基材)
透明基材2為成為硬塗膜1之基體的薄膜。透明基材2，只要為以透明性及可見光線之透過性佳的材料形成之薄膜，則沒有特別限定，例如，可使用由纖維素三乙酸酯、環烯烴聚合物、環烯烴共聚物、丙烯酸聚合物、聚對苯二甲酸乙二酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯之任一組成的薄膜。
透明基材2的厚度為5~40μm。透明基材2的厚度若低於5μm，則透明基材2變過薄，硬塗層3的硬度及硬塗膜1的強度下降。另一方面，透明基材2的厚度若超過40μm，則硬塗膜1變厚，因此變得無益於使用硬塗膜1的顯示構件之薄型化。
(硬塗層)
硬塗層3a及3b為藉由使至少含有紫外線或電子束等之活性能量射線硬化性樹脂作為黏結劑樹脂之硬塗層形成用組成物硬化而形成者。硬塗層3a及3b之至少其一為藉由使含有活性能量射線硬化性樹脂與膠體二氧化矽的硬塗層形成用組成物硬化而形成者。只要在硬塗層3a及3b之至少其中一個包含膠體二氧化矽，則可使硬塗膜1的鉛筆硬度成為7H以上。但是，亦能夠以含有膠體二氧化矽的活性能量射線硬化性樹脂形成硬塗層3a及3b之雙方。
硬塗層3a及3b的厚度為5~30μm。硬塗層3a及3b的厚度若低於5μm，則硬塗層3a及3b的硬度不夠。另一方面，硬塗層3a及3b的厚度若超過30μm，則硬塗膜1的厚度變厚，因此變得無益於使用硬塗膜1的顯示構件之薄型化。
膠體二氧化矽為對硬塗層3a賦予硬度的成分。作為膠體二氧化矽，使用平均粒徑為80nm以下者。膠體二氧化矽的平均粒徑若超過80nm，則硬塗膜之透明性下降。膠體二氧化矽的平均粒徑之下限值，並沒有特別限定，但可適當使用平均粒徑為5nm以上者。
膠體二氧化矽的添加量係定為硬塗層形成用組成物中所含的總固體成分之20~70質量%。膠體二氧化矽的添加量若低於樹脂固體成分之20質量%，則硬塗層3a的硬度變不足夠。另一方面，膠體二氧化矽的添加量若超過樹脂固體成分之70質量%，則硬塗層變脆，結 果即是硬度下降。
作為膠體二氧化矽，較佳為使用以利用活性能量射線之照射產生反應性的活性能量射線反應基進行表面修飾過之表面修飾膠體二氧化矽。如前述的表面修飾膠體二氧化矽，利用作為黏結劑使用之活性能量射線硬化性樹脂進行交聯，因此可提升硬塗層之硬度。
活性能量射線硬化性樹脂為利用紫外線、電子束等之活性能量射線的照射來進行聚合而硬化之樹脂，例如，可使用單官能、2官能或3官能以上的(甲基)丙烯酸酯單體。再者，在本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」為丙烯酸酯與甲基丙烯酸酯之雙方的總稱，「(甲基)丙烯醯基」為丙烯醯基與甲基丙烯醯基之雙方的總稱。
作為單官能的(甲基)丙烯酸酯化合物之例，可舉出(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、丙烯醯基啉、N-乙烯吡咯啶酮、丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、磷酸(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧酯、環氧乙烷改性(甲基)丙烯酸苯氧酯、環氧丙烷改性(甲基)丙烯酸苯氧酯 、壬酚(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性壬酚(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性壬酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基丙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧乙基-2-羥丙基鄰苯二甲酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧丙酯、2-(甲基)丙烯醯氧乙基氫鄰苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧丙基氫鄰苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧丙基六氫鄰苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧丙基四氫鄰苯二甲酸酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸三氟乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、具有自2-金剛烷、金剛烷二醇衍生之1價單(甲基)丙烯酸酯的丙烯酸金剛烷酯等之金剛烷衍生物單(甲基)丙烯酸酯等。
作為2官能的(甲基)丙烯酸酯化合物之例，可舉出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙氧化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等之二(甲基)丙烯酸酯等。
作為3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物之例，可舉出三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧化三 羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、參(2-羥乙基)異三聚氰酸酯三(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三(甲基)丙烯酸酯等之三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等之3官能的(甲基)丙烯酸酯化合物、或季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷六(甲基)丙烯酸酯等之3官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物、或將該等(甲基)丙烯酸酯之一部分以烷基或ε-己內酯取代的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
又，作為活性能量射線硬化性樹脂，也可使用胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。作為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如，使在聚酯多元醇與異氰酸酯單體、或預聚物反應而得到的生成物，與具有羥基的(甲基)丙烯酸酯單體反應，藉此方式而得者。
作為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯之例，可舉出季戊四醇三丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、二季戊四醇五丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、季戊四醇三丙烯酸酯甲苯二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、二季戊四醇五丙烯酸酯甲苯二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、季戊四醇三丙烯酸酯異佛爾酮二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、二季戊四醇五丙烯酸酯 異佛爾酮二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物等。
上述的活性能量射線硬化性樹脂，可使用1種，亦可組合2種以上而使用。又，在上述的活性能量射線硬化性樹脂、硬塗層形成用組成物中也可為單體，亦可為一部分聚合的寡聚物。
活性能量射線硬化性樹脂中，較佳為以活性能量射線硬化性樹脂的固體成分之10~40質量%的比例包含重量平均分子量為8000~15000之反應性高分子。作為活性能量射線硬化性樹脂之一部分，藉由摻合該反應性高分子，可抑制硬塗膜之捲曲。
作為重量平均分子量為8000~15000之反應性高分子，可使用在主鏈鍵結多個(甲基)丙烯酸基或(甲基)丙烯醯基的高分子化合物。作為該高分子化合物之例，可舉出BEAMSET 371、BEAMSET 371MLV、BEAMSET DK1、BEAMSET DK2、BEAMSET DK3(以上為荒川化學工業股份有限公司)、SMP220A、SMP-250A、SMP-360A、SMP-550A(以上為共榮社化學股份有限公司)。該等之反應性高分子的雙鍵當量為200~600g/mol。
硬塗層形成用組成物中，亦可添加光聚合起始劑。作為光聚合起始劑之例，可舉出2,2-乙氧基苯乙酮、1-羥基環己基苯酮、二苯甲醯、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、p-氯基二苯甲酮、p-甲氧基二苯甲酮、米氏酮、苯乙酮、2-氯基噻噸酮等。亦可將該等單獨、或組合2種以上而使用。
又，硬塗層形成用組成物中，亦可添加適當 溶劑。作為溶劑的例，可舉出二丁醚、二甲氧甲烷、二甲氧乙烷、二乙氧乙烷、環氧丙烷、1,4-二烷、1,3-二氧戊環、1,3,5-三烷、四氫呋喃、苯甲醚及苯乙醚等之醚類、或丙酮、甲基乙酮、二乙酮、二丙酮、二異丁酮、甲基異丁酮、環戊酮、環己酮、甲基環己酮、及甲基環己酮等之酮類、或是甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、乙酸正戊酯、及γ-丁內酯等之酯類、甚至甲基賽路蘇、賽路蘇、丁基賽路蘇、賽路蘇乙酸酯等之賽路蘇類。亦可將該等單獨、或組合2種以上而使用。
又，作為其它的添加劑，亦可在硬塗層形成用組成物加入防污劑、表面調製劑、調平劑、折射率調製劑、光增感劑、導電材料。
關於本實施形態的硬塗膜1，能夠以捲對捲方式，在透明基材的雙面，將上述的硬塗層形成用組成物之塗液利用濕式塗布法塗布，對塗膜照射電子束或紫外線等之活性能量射線，使活性能量射線硬化性樹脂硬化，藉此方式而可形成。作為濕式塗布法，可採用流動式塗布法、噴灑塗布法、輥塗布法、凹版輥塗布法、氣刀塗布法、刮刀塗布法、線刀塗布法、刀塗布法、逆轉塗布法、移轉輥塗布法、微凹版塗布法、輕觸式塗布法、澆鑄塗布法、槽孔塗布法、軋輥塗布法、模具塗布法等之公知的方法。又，藉由紫外線照射使塗膜硬化的情況中，紫外線照射時，可使用高壓汞燈、鹵素燈、氙氣燈、融合燈等。紫外線照射量，通常為100~800mJ/cm2左 右。
關於本實施形態的硬塗膜1，作成為在透明基材2的雙面設置硬塗層3a及3b的層構成，透明基材2的厚度為5~40μm，硬塗層3a及3b的膜厚均為5~30μm，硬塗層3a及3b的體積之合計為硬塗膜1的總體積之40%以上，並且，硬塗膜1的總厚度為80μm以下。一般使用厚度為40μm以下之輕薄的透明基材2時，因低硬度的透明基材2之影響而使鉛筆硬度惡化。相對於前述，在本實施形態中，在透明基材2的雙面上積層硬塗層3a及3b，使透明基材2佔的體積比率減低，藉此方式而可減低低硬度的透明基材2之影響，且提高硬塗膜1的硬度。具體而言，硬塗膜1的表面之鉛筆硬度為7H以上，而且，具有表面至深度50nm的超微小壓入硬度為450N/mm2以上之優異的硬度特性。
又，藉由在透明基材2的雙面設置硬塗層3a及3b，可抑制硬塗膜1的捲曲(翹曲)，並且，相對於彎曲之耐性也提升。具體而言，製作將關於本實施形態的硬塗膜1切割成100mm四方形之正方形的樣本，將該樣本載置於平面上時，四角的薄膜前緣高度均為20mm以下。又，摺疊關於本實施形態的硬塗膜1時，在彎曲部之彎曲直徑為10mm以上的情況中，硬塗層3a及3b均沒有產生裂縫。如前述，關於本實施形態的硬塗膜1，具有超高硬度(鉛筆硬度為7H以上)，同時可抑制捲曲，且彎曲性也優異。
如以上說明，根據本實施形態，藉由在透明基材2的雙面將硬塗層3a及3b以上述的厚度積層，可實現 兼具高硬度、低捲曲性、高彎曲性之全部的硬塗膜1。
(其它的變形例)
再者，亦可在關於本實施形態的硬塗膜1之任一硬塗層上實施邊框(黑框)印刷，設置黏著層，製作硬塗膜加工品。該硬塗膜加工品，可具備邊框印刷及黏著層之雙方，亦可單獨具備邊框印刷或黏著層。
又，亦可使用關於本實施形態的硬塗膜1或上述的硬塗膜加工品，構成偏光板。具體而言，藉由在第1圖表示的硬塗膜1之任一硬塗層上，貼合偏光薄膜，可構成偏光板。偏光薄膜，例如為在聚乙烯醇薄膜吸附‧配向碘或染料者。
又，關於本實施形態的硬塗膜1或上述的硬塗膜加工品，可用以構成在圖像顯示裝置使用之抗反射薄膜或防眩薄膜等之顯示構件而利用。抗反射薄膜，可在第1圖所示的硬塗層3a或3b上，設置將折射率不同之多個層積層而成的抗反射層，藉此方式而構成。抗反射薄膜為將透射抗反射層，在透明基材之表面反射的光、及在抗反射層之表面反射的光利用干涉而抵消，藉此方式而抑制反射者。作為抗反射薄膜的構成例，可舉出在透明基材2上，將硬塗層、高折射率層、較高折射率之層折射率更低的低折射率層依序積層者。亦可在硬塗層與高折射率層之間，進一步設置較高折射率層之折射率更低且較低折射率層之折射率更高的中折射率層。防眩薄膜為藉由以在表面形成之細微的凹凸對外散射，減低對外等之映射，且防止眩光者。防眩薄膜，例如，可在硬塗層 3a或3b添加樹脂粒子(有機填料)等之微粒，且在表面形成細微的凹凸，藉此方式而製作。
又，亦可在上述的偏光板，組合具有抗反射機能或防眩機能的層。具體而言，可藉由在硬塗層3a及3b之任一者上貼合偏光薄膜，在另一者上設置抗反射層而構成具有抗反射機能的偏光板。或者，可藉由在硬塗層3a及3b之任一者上貼合偏光薄膜，另一者上添加樹脂粒子而構成具有防眩機能的偏光板。
又，關於本實施形態的硬塗膜1或上述的硬塗膜加工品，可用以與液晶面板等組合，構成顯示裝置而利用。作為顯示裝置的構成例，可舉出由觀察側依序將使用關於本實施形態的硬塗膜1或上述的硬塗膜加工品的抗反射薄膜、偏光板、液晶面板、偏光板、及背光單元依該順序積層者。又，亦可進一步積層觸控感應器，構成附有觸控感應器的顯示裝置。
又，關於本實施形態的硬塗膜1或上述的硬塗膜加工品，可作為使用於智慧型手機或平板電腦、筆記型電腦等之顯示裝置或附有觸控感應器之顯示裝置(觸控面板)的光學機能薄膜而利用。作為光學機能薄膜，除了硬塗膜以外，可舉出上述的偏光薄膜或抗反射薄膜、防眩薄膜等。具體而言，關於本實施形態的硬塗膜，在作為設置於液晶顯示裝置等之顯示面板的最外表面之薄膜、或者作為設置於觸控面板的最外表面之薄膜、或是以直接接合方式或空氣間隙方式組裝的觸控面板中，可作為在觸控感應器與顯示面板之間設置的中間薄膜利用。
上述的偏光板、硬塗膜加工品、顯示構件均為具備關於本發明的硬塗膜1者，表面的鉛筆硬度為7H以上，而且，具有表面至深度50nm的超微小壓入硬度為450N/mm2以上之優異的硬度特性。又，製作將上述的偏光板、硬塗膜加工品、顯示構件切割成100mm四方形之正方形的樣本，將該樣本載置於平面上時，四角的薄膜前緣高度均為20mm以下。又，摺疊上述的偏光板、硬塗膜加工品、顯示構件時，在彎曲部之彎曲直徑為10mm以上的情況中，硬塗層3a及3b均沒有產生裂縫。
[實施例]
以下說明具體地實施本發明的實施例。
在包含三乙醯纖維素(TAC)之透明基材的表面，將以下之組成的硬塗層形成用組成物利用硬塗法塗布而乾燥後，使用金屬鹵素燈，以照射線量200mJ/m2照射紫外線，使塗膜硬化，得到硬塗膜。
<硬塗層形成用組成物>
‧樹脂材料
PE-3A(季戊四醇三丙烯酸酯)、共榮社化學股份有限公司 9質量份
UA-306H(季戊四醇三丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物)、共榮社化學股份有限公司 13質量份
UB/EB硬化性樹脂BEAMSET 371、荒川化學工業股份有限公司 7質量份
‧膠體二氧化矽：MEK-ST(平均粒徑15nm)、日產化 學工業股份有限公司 43質量份
‧聚合起始劑：IRGACURE 184(1-羥基-環己基-苯基-酮)、BASF公司 2質量份
‧溶劑：甲基異丁酮 26質量份
在表1表示關於實施例1~9及比較例1~6的硬塗膜之透明基材的厚度、硬塗層的厚度、硬塗膜的總厚度、硬塗層的體積比率。再者，比較例1、2、5及6中，僅於透明基材之一面上形成硬塗層，且其它例中，於透明基材之雙面上形成硬塗層。
又，在表1一併表示關於實施例1~9及比較例1~6的硬塗膜之鉛筆硬度、微小硬度、捲曲及彎曲試驗之評價結果。在表1表示的鉛筆硬度、微小硬度、捲曲及彎曲試驗之測定及評價方法係如以下。
[鉛筆硬度]
依據JIS K5400-1900，使用鉛筆(uni、三菱鉛筆股份有限公司製)及克雷門斯型刮痕試驗機(HA-301、TESTER SANGYO股份有限公司製)，測定硬塗層表面的鉛筆硬度。一邊改變鉛筆的硬度，一邊進行重複試驗，以目視觀察傷痕導致的外觀之變化，將沒有觀察到傷痕之最大的硬度定為評價值。
[微小硬度]
將硬塗層的表面至深度50nm之超微小壓入硬度，使用超微小壓入硬度試驗機(NanoIndenterSA2、MTS Systems公司製)進行測定。測定中，作為壓頭，使用前端曲率半徑為100nm，稜角度80℃的三角錐壓頭，且將壓入速度定為2.0nm/s。
[捲曲]
製作將製作的硬塗膜切出為10cm四方形之正方形的樣本，將該樣本載置於平面上，作為4角的前緣高度，測定由平面至4角之前端為止的垂直距離。該測定值越小意指捲曲越小。
[彎曲試驗]
在第2圖表示彎曲試驗之試驗方法(繞設圓柱的試驗法)的概略圖。首先，製作由製作的硬塗膜切出為100mm( 薄膜之寬方向)×30mm(薄膜之流動方向)之帶狀的樣本。接著，如第2圖所示，將製作的樣本繞設於評價用不銹鋼圓柱(直徑1~40mm(每1mm))，以手握住保持5秒鐘。此時，對於僅於透明基材之一面上形成硬塗層的樣本，使硬塗層朝向外側而繞設(亦即，使沒有硬塗層之透明基材的面與評價用不銹鋼圓柱接觸而繞設)。接著，將自評價用不銹鋼圓柱抽離的樣本，擺設於離三波長螢光燈10cm的位置，以目視觀察繞設處的裂縫之有無。確認到裂縫時，將圓柱的直徑增大1階段(1mm)，並進行同樣的試驗。將不會產生裂縫於硬塗層之最小的評價用不銹鋼圓柱之直徑定為彎曲試驗的評價值。
如表1所示，實施例1~9中，在透明基材的雙面設置硬塗層，使透明基材的厚度成為5~40μm，使硬塗層的膜厚均成為5~30μm，且使硬塗層的體積之合計成為硬塗膜的總體積之40%以上，並且，使硬塗膜的總厚度成為80μm以下，藉此方式而確認可得到鉛筆硬度、微小壓入硬度、捲曲、彎曲性之全部均為良好的硬塗膜。
相對於前述，由於比較例1及2為僅於透明基材之一面上設置硬塗層的層構成，且硬塗層之體積比率小於40%，故鉛筆硬度低，且捲曲變得極大。
比較例3及4為在透明基材之雙面設置硬塗層的層構成，但因為硬塗層之體積比率小於40%，所以鉛筆硬度變低。又，比較例4中，因為透明基材的厚度超過40μm，且硬塗膜的總厚度也超過80μm，所以彎曲性(相對於彎曲之耐性)低。
比較例5及6為僅於透明基材之一面上設置硬塗層的層構成，且透明基材的厚度超過40μm，並且硬塗膜的總厚度也超過80μm，因此捲曲變大，彎曲性(相對於彎曲之耐性)低。比較例5中，因為硬塗層之體積比率小於40%，所以鉛筆硬度也變低。又，比較例6中，藉由使硬塗層的膜厚變厚，鉛筆硬度可提升，但捲曲變得極大。
由以上，根據本發明，確認可提供兼具高硬度、低捲曲性、高彎曲性之全部的硬塗膜。
[產業上之可利用性]
關於本發明的硬塗膜，可利用於圖像顯示裝置等。

Claims (12)

  1. 一種硬塗膜，其係在透明基材的雙面設置硬塗層之硬塗膜，其特徵為，該透明基材的厚度為5μm以上40μm以下，該硬塗層之各別的厚度為5μm以上30μm以下，該硬塗層的體積之合計為該硬塗膜的總體積之40%~55%，總厚度為80μm以下。
  2. 如請求項1之硬塗膜，其中該透明基材之其中一側的硬塗層含有膠體二氧化矽及紫外線硬化樹脂，該透明基材之另一側的硬塗層含有紫外線硬化樹脂。
  3. 如請求項1之硬塗膜，其中鉛筆硬度為7H以上，表面至深度50nm之位置的超微小壓入硬度為450N/mm2以上，將該硬塗膜切出為100mm四方形的樣本之4角的薄膜前緣高度為20mm以下，在以彎曲直徑10mm以上摺疊時，不會形成裂縫。
  4. 如請求項2之硬塗膜，其中該膠體二氧化矽的平均粒徑為80nm以下，該透明基材之該其中一側的硬塗層含有該膠體二氧化矽20質量%以上70質量%以下，該膠體二氧化矽為在表面具有紫外線反應基的表面處理膠體二氧化矽。
  5. 如請求項1之硬塗膜，其中該透明基材為纖維素三乙酸 酯、環烯烴聚合物、環烯烴共聚物、丙烯酸系、聚對苯二甲酸乙二酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯中之任一者的薄膜。
  6. 一種偏光板，其係具有如請求項1之硬塗膜。
  7. 如請求項6之偏光板，其中鉛筆硬度為7H以上，表面至深度50nm之位置的超微小壓入硬度為450N/mm2以上，將該偏光板切出為100mm四方形的樣本之4角的薄膜前緣高度為20mm以下，在以彎曲直徑10mm以上摺疊時，不會形成裂縫。
  8. 一種顯示構件，其係具有如請求項6之偏光板。
  9. 一種硬塗膜加工品，其係在如請求項1之硬塗膜的其中一面賦予黏著層。
  10. 一種硬塗膜加工品，其係在如請求項1之硬塗膜的其中一面賦予印刷層及黏著層。
  11. 如請求項9或10之硬塗膜加工品，其中鉛筆硬度為7H以上，表面至深度50nm之位置的超微小壓入硬度為450N/mm2以上，將該硬塗膜加工品切出為100mm四方形的樣本之4角的薄膜前緣高度為20mm以下，在以彎曲直徑10mm以上摺疊時，不會形成裂縫。
  12. 一種顯示構件，其係具有如請求項9或10之硬塗膜加工品。
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