JPH07159602A - 反射防止フィルム及びその製造方法 - Google Patents
反射防止フィルム及びその製造方法Info
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- JPH07159602A JPH07159602A JP5338943A JP33894393A JPH07159602A JP H07159602 A JPH07159602 A JP H07159602A JP 5338943 A JP5338943 A JP 5338943A JP 33894393 A JP33894393 A JP 33894393A JP H07159602 A JPH07159602 A JP H07159602A
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- JP
- Japan
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- refractive index
- film
- hard coat
- coat layer
- antireflection
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 硬化塗膜がハードで耐擦傷性があり、且つ製
造が簡単で、ハードコート層と薄膜（特に無機化合物の
薄膜）との層間密着性がよい反射防止フィルム及びその
製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 基材上に塗布によりハードコート層を形成
し、該ハードコート層表面にアッシング処理を施すこと
によって粗面化し、次いで、粗面化されたハードコート
層上に反射防止効果のある薄膜を薄膜形成法により一層
又は複数層形成する。前記ハードコート層はハード性を
有する高屈折率樹脂又は高屈折率粒子を含有したハード
性を有する樹脂としてもよい。このような高屈折率のハ
ードコート層を用いた場合、その上に低屈折率の無機材
料の蒸着膜、プラズマＣＶＤ、スパッタリング等の薄膜
を形成する。
造が簡単で、ハードコート層と薄膜（特に無機化合物の
薄膜）との層間密着性がよい反射防止フィルム及びその
製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 基材上に塗布によりハードコート層を形成
し、該ハードコート層表面にアッシング処理を施すこと
によって粗面化し、次いで、粗面化されたハードコート
層上に反射防止効果のある薄膜を薄膜形成法により一層
又は複数層形成する。前記ハードコート層はハード性を
有する高屈折率樹脂又は高屈折率粒子を含有したハード
性を有する樹脂としてもよい。このような高屈折率のハ
ードコート層を用いた場合、その上に低屈折率の無機材
料の蒸着膜、プラズマＣＶＤ、スパッタリング等の薄膜
を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カーブミラー、バック
ミラー、ゴーグル、窓ガラスやパソコン・ワープロ等の
ディスプレイの表面において光の反射防止をすることの
できる耐擦傷性の改善された反射防止フィルムの製造方
法及びその製造方法によって得られた反射防止フィルム
に関する。
ミラー、ゴーグル、窓ガラスやパソコン・ワープロ等の
ディスプレイの表面において光の反射防止をすることの
できる耐擦傷性の改善された反射防止フィルムの製造方
法及びその製造方法によって得られた反射防止フィルム
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、カーブミラー、バックミラー、ゴ
ーグル、窓ガラス、パソコン・ワープロ等のディスプレ
イ、その他種々の商業ディスプレイ等には、ガラスやプ
ラスチック等の透明基板が用いられており、これらの透
明基板を通して物体や文字、図形の視覚情報を、或いは
ミラーでは透明基板を通して反射層からの像を観察する
場合に、これらの透明基板の表面が光で反射して内部の
視覚情報が見えにくいという問題があった。
ーグル、窓ガラス、パソコン・ワープロ等のディスプレ
イ、その他種々の商業ディスプレイ等には、ガラスやプ
ラスチック等の透明基板が用いられており、これらの透
明基板を通して物体や文字、図形の視覚情報を、或いは
ミラーでは透明基板を通して反射層からの像を観察する
場合に、これらの透明基板の表面が光で反射して内部の
視覚情報が見えにくいという問題があった。
【０００３】このような透明基板の反射を防止する方法
としては、従来、ガラスやプラスチック表面に反射防止
塗料を塗布する方法、ガラス等の透明基板の表面に膜厚
０．１μｍ程度のＭｇＦ2 等の極薄膜や金属蒸着膜を設
ける方法、プラスチックレンズ等のプラスチック表面に
電離放射線硬化型樹脂を塗工し、その上に蒸着によりＳ
ｉＯ2 やＭｇＦ2 の膜を形成する方法、電離放射線硬化
型樹脂の硬化膜上にその樹脂の屈折率よりも低屈折率の
塗膜を形成する方法等があった。
としては、従来、ガラスやプラスチック表面に反射防止
塗料を塗布する方法、ガラス等の透明基板の表面に膜厚
０．１μｍ程度のＭｇＦ2 等の極薄膜や金属蒸着膜を設
ける方法、プラスチックレンズ等のプラスチック表面に
電離放射線硬化型樹脂を塗工し、その上に蒸着によりＳ
ｉＯ2 やＭｇＦ2 の膜を形成する方法、電離放射線硬化
型樹脂の硬化膜上にその樹脂の屈折率よりも低屈折率の
塗膜を形成する方法等があった。
【０００４】前記ガラス上に形成された膜厚０．１μｍ
程度のＭｇＦ2 の極薄膜をさらに説明する。入射光が薄
膜に垂直に入射する場合に、特定の波長をλ0 とし、こ
の波長に対する反射防止膜の屈折率をｎ0 、反射防止膜
の厚みをｈ、および透明基板の屈折率をｎg とすると、
反射防止膜が光の反射を１００％防止し、光を１００％
透過するための条件は、次の式（１）および式（２）の
関係を満たすことが必要であることは既に知られている
（サイエンスライブラリ 物理学＝９「光学」７０〜７
２頁、昭和５５年，株式会社サイエンス社発行）。
程度のＭｇＦ2 の極薄膜をさらに説明する。入射光が薄
膜に垂直に入射する場合に、特定の波長をλ0 とし、こ
の波長に対する反射防止膜の屈折率をｎ0 、反射防止膜
の厚みをｈ、および透明基板の屈折率をｎg とすると、
反射防止膜が光の反射を１００％防止し、光を１００％
透過するための条件は、次の式（１）および式（２）の
関係を満たすことが必要であることは既に知られている
（サイエンスライブラリ 物理学＝９「光学」７０〜７
２頁、昭和５５年，株式会社サイエンス社発行）。
【０００５】
【数１】 ガラスの屈折率ｎg ＝約１．５であり、ＭｇＦ2 膜の屈
折率ｎ0 ＝１．３８、入射光の波長λ0 ＝５５００Å
（基準）と既に知られているので、これらの値を前記式
（２）に代入すると、反射防止膜の厚みｈは約０．１μ
ｍが最適であると計算される。
折率ｎ0 ＝１．３８、入射光の波長λ0 ＝５５００Å
（基準）と既に知られているので、これらの値を前記式
（２）に代入すると、反射防止膜の厚みｈは約０．１μ
ｍが最適であると計算される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記反
射防止塗料を前記透明基板に塗布する方法は形成された
塗膜の表面に傷がつきやすく、そのため光線透過率の低
下が生じるという問題がある。また、前記透明基板の表
面に薄膜や金属蒸着膜を形成する方法は、その膜厚が式
（２）から前記のごとく計算されるように０．１μｍ程
度とかなり薄く、このために耐擦傷性が悪く、しかも透
明基板から剥離し易かった。
射防止塗料を前記透明基板に塗布する方法は形成された
塗膜の表面に傷がつきやすく、そのため光線透過率の低
下が生じるという問題がある。また、前記透明基板の表
面に薄膜や金属蒸着膜を形成する方法は、その膜厚が式
（２）から前記のごとく計算されるように０．１μｍ程
度とかなり薄く、このために耐擦傷性が悪く、しかも透
明基板から剥離し易かった。
【０００７】また、前記のように基材上に形成された電
離放射線硬化型樹脂の塗膜に蒸着膜を積層する方法にお
いては、連続工程が困難で生産性が上がらずコスト高に
なっていた。また、このような前記電離放射線硬化型樹
脂の硬化膜上に低屈折率の塗膜を形成する方法は、この
硬化樹脂表面には反応基がほとんど無いため、ＭｇＦ2
やＳｉＯ2 等の無機化合物を蒸着する場合には、その密
着力が弱く得られた蒸着膜は剥がれやすかった。
離放射線硬化型樹脂の塗膜に蒸着膜を積層する方法にお
いては、連続工程が困難で生産性が上がらずコスト高に
なっていた。また、このような前記電離放射線硬化型樹
脂の硬化膜上に低屈折率の塗膜を形成する方法は、この
硬化樹脂表面には反応基がほとんど無いため、ＭｇＦ2
やＳｉＯ2 等の無機化合物を蒸着する場合には、その密
着力が弱く得られた蒸着膜は剥がれやすかった。
【０００８】そこで、本発明の目的は、硬化塗膜がハー
ドで耐擦傷性があり、且つ製造が簡単で、ハードコート
層と無機化合物の蒸着膜、プラズマＣＶＤ、スパッタリ
ング等の反射防止効果のある膜、或いは無機化合物及び
／又は有機化合物の反射防止効果のある膜との層間の密
着性が良い反射防止フィルム及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
ドで耐擦傷性があり、且つ製造が簡単で、ハードコート
層と無機化合物の蒸着膜、プラズマＣＶＤ、スパッタリ
ング等の反射防止効果のある膜、或いは無機化合物及び
／又は有機化合物の反射防止効果のある膜との層間の密
着性が良い反射防止フィルム及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るために本発明は、基材上にハード性を有する樹脂を塗
布することによりハードコート層を形成し、該ハードコ
ート層表面にアッシング処理を施すことによって粗面化
し、次いで、粗面化されたハードコート層上に反射防止
効果のある層を一層又は複数層形成することを特徴とす
る反射防止フィルムの製造方法とするものである。
るために本発明は、基材上にハード性を有する樹脂を塗
布することによりハードコート層を形成し、該ハードコ
ート層表面にアッシング処理を施すことによって粗面化
し、次いで、粗面化されたハードコート層上に反射防止
効果のある層を一層又は複数層形成することを特徴とす
る反射防止フィルムの製造方法とするものである。
【００１０】また本発明は、基材上にハード性を有する
高屈折率樹脂又は高屈折率粒子を含有したハード性を有
する樹脂を塗布することにより高屈折率のハードコート
層を形成し、該ハードコート層表面にアッシング処理を
施すことによって粗面化し、次いで、粗面化されたハー
ドコート層上に低屈折率無機化合物及び／又は低屈折率
有機化合物の低屈折率層を形成することを特徴とする反
射防止フィルムの製造方法とするものである。
高屈折率樹脂又は高屈折率粒子を含有したハード性を有
する樹脂を塗布することにより高屈折率のハードコート
層を形成し、該ハードコート層表面にアッシング処理を
施すことによって粗面化し、次いで、粗面化されたハー
ドコート層上に低屈折率無機化合物及び／又は低屈折率
有機化合物の低屈折率層を形成することを特徴とする反
射防止フィルムの製造方法とするものである。
【００１１】本発明の反射防止フィルムは前記の反射防
止フィルムの製造方法で得られたものであることを特徴
とする。
止フィルムの製造方法で得られたものであることを特徴
とする。
【００１２】基材：反射防止フィルムに適した基材に
は、透明性のあるものであればよいが、特に、トリアセ
チルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレート
（以下、ＰＥＴと略称する）が透明性が優れており適し
ている。
は、透明性のあるものであればよいが、特に、トリアセ
チルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレート
（以下、ＰＥＴと略称する）が透明性が優れており適し
ている。
【００１３】ハードコート層：前記基材上にハードコー
ト層を形成するために使用される樹脂には、紫外線硬化
型樹脂又は電子線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂
が使用される。この電離放射線硬化型樹脂には、好まし
くは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、
比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹
脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フォ
スファゼン骨格を持つアクリル変性樹脂、エポキシ系樹
脂のウレタンアクリレート、アルキッド樹脂、スピロア
セタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリ
エン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）
アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび
反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルス
チレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並び
に多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）ア
クリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較
的多量に含有するものが使用できる。
ト層を形成するために使用される樹脂には、紫外線硬化
型樹脂又は電子線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂
が使用される。この電離放射線硬化型樹脂には、好まし
くは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、
比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹
脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フォ
スファゼン骨格を持つアクリル変性樹脂、エポキシ系樹
脂のウレタンアクリレート、アルキッド樹脂、スピロア
セタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリ
エン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）
アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび
反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルス
チレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並び
に多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）ア
クリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較
的多量に含有するものが使用できる。
【００１４】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫
外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤とし
て、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベ
ンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テ
トラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン
類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルア
ミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いる
ことができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレ
タンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート等を混合するのが好ましい。
外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤とし
て、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベ
ンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テ
トラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン
類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルア
ミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いる
ことができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレ
タンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート等を混合するのが好ましい。
【００１５】ハードコート層の形成方法として、例え
ば、ハードコート用樹脂として電離放射線硬化型樹脂を
用いる場合には、透明基材フィルム上に電離放射線硬化
型樹脂を塗布し、この電離放射線硬化型樹脂が溶剤で希
釈されている場合には溶剤を乾燥した後に、また、溶剤
で希釈されていない場合にはそのままで電離放射線硬化
型樹脂を塗布した透明基材フィルムに対して、電離放射
線を照射して塗膜を硬化させることにより、ハードコー
ト層とする。
ば、ハードコート用樹脂として電離放射線硬化型樹脂を
用いる場合には、透明基材フィルム上に電離放射線硬化
型樹脂を塗布し、この電離放射線硬化型樹脂が溶剤で希
釈されている場合には溶剤を乾燥した後に、また、溶剤
で希釈されていない場合にはそのままで電離放射線硬化
型樹脂を塗布した透明基材フィルムに対して、電離放射
線を照射して塗膜を硬化させることにより、ハードコー
ト層とする。
【００１６】ハードコート層に使用される電離放射線硬
化型樹脂の硬化方法は通常の電離放射線硬化型樹脂の硬
化方法、即ち、電子線または紫外線の照射によって硬化
することができる。例えば、電子線硬化の場合にはコッ
クロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶
縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型
等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００Ｋ
ｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを
有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高
圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、
キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発
する紫外線等が利用できる。
化型樹脂の硬化方法は通常の電離放射線硬化型樹脂の硬
化方法、即ち、電子線または紫外線の照射によって硬化
することができる。例えば、電子線硬化の場合にはコッ
クロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶
縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型
等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００Ｋ
ｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを
有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高
圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、
キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発
する紫外線等が利用できる。
【００１７】このハードコート層中には、後記するよう
に反射防止効果を上げるために高屈折率粒子を分散して
おいてもよく、この場合、ハードコート層上には無機及
び／又は有機化合物からなる低屈折率の反射防止層を形
成する。また、ハードコート層中に帯電防止等のその他
の機能を付与するために導電性超微粒子等の機能性超微
粒子を分散させてもよい。
に反射防止効果を上げるために高屈折率粒子を分散して
おいてもよく、この場合、ハードコート層上には無機及
び／又は有機化合物からなる低屈折率の反射防止層を形
成する。また、ハードコート層中に帯電防止等のその他
の機能を付与するために導電性超微粒子等の機能性超微
粒子を分散させてもよい。
【００１８】アッシング処理：前記ハードコート層に対
してアッシング処理する。このアッシング処理によっ
て、ハードコート層表面は微細な凹凸が形成されるた
め、その上に形成される反射防止層との密着性が高ま
る。また、このアッシング処理によりハードコート層の
樹脂表面には、無機化合物との結合反応に寄与する−Ｏ
Ｈ基が生成するため、特に、無機化合物からなる蒸着
膜、プラズマＣＶＤ、スパッタリング等の真空プロセス
により形成される反射防止層、及び無機化合物の塗布に
よって形成される反射防止層は、ハードコート層の樹脂
表面との密着力を高めることができる。
してアッシング処理する。このアッシング処理によっ
て、ハードコート層表面は微細な凹凸が形成されるた
め、その上に形成される反射防止層との密着性が高ま
る。また、このアッシング処理によりハードコート層の
樹脂表面には、無機化合物との結合反応に寄与する−Ｏ
Ｈ基が生成するため、特に、無機化合物からなる蒸着
膜、プラズマＣＶＤ、スパッタリング等の真空プロセス
により形成される反射防止層、及び無機化合物の塗布に
よって形成される反射防止層は、ハードコート層の樹脂
表面との密着力を高めることができる。
【００１９】アッシング処理は、オゾンの存在下で２４
５ｎｍの紫外線を照射することにより、オゾンＯ3 が励
起酸素原子Ｏ* と酸素ガスＯ2 に変換される現象が利用
される。この現象で生成される強力な酸化作用を持つ励
起酸素原子Ｏ* と紫外線によって、樹脂表面を分解・除
去したり、樹脂表面に−ＯＨ基を生成させることができ
る。
５ｎｍの紫外線を照射することにより、オゾンＯ3 が励
起酸素原子Ｏ* と酸素ガスＯ2 に変換される現象が利用
される。この現象で生成される強力な酸化作用を持つ励
起酸素原子Ｏ* と紫外線によって、樹脂表面を分解・除
去したり、樹脂表面に−ＯＨ基を生成させることができ
る。
【００２０】反射防止層の形成：前記アッシング処理さ
れたハードコート層上に反射防止効果を有する無機化合
物及び／又は有機化合物の薄膜又は厚膜等を形成するこ
とにより、反射防止フィルムを製造する。この膜形成方
法には、無機化合物の場合には蒸着、プラズマＣＶＤ、
スパッタリング等の一般に知られている膜形成法が使用
できる。また有機化合物のみ、又は有機化合物と無機化
合物との混合物の場合には塗布による方法が使用でき
る。
れたハードコート層上に反射防止効果を有する無機化合
物及び／又は有機化合物の薄膜又は厚膜等を形成するこ
とにより、反射防止フィルムを製造する。この膜形成方
法には、無機化合物の場合には蒸着、プラズマＣＶＤ、
スパッタリング等の一般に知られている膜形成法が使用
できる。また有機化合物のみ、又は有機化合物と無機化
合物との混合物の場合には塗布による方法が使用でき
る。
【００２１】反射防止性を発現するには、ハードコー
ト層上に低屈折率層及び高屈折率層の薄膜の形成を無機
化合物で形成する方法と、高屈折率ハードコート層上
に低屈折率無機化合物の薄膜を形成する方法と、高屈
折率ハードコート層上に低屈折率の有機化合物を塗布す
る方法又は低屈折率の有機化合物と無機化合物の混合物
を塗布する方法がある。
ト層上に低屈折率層及び高屈折率層の薄膜の形成を無機
化合物で形成する方法と、高屈折率ハードコート層上
に低屈折率無機化合物の薄膜を形成する方法と、高屈
折率ハードコート層上に低屈折率の有機化合物を塗布す
る方法又は低屈折率の有機化合物と無機化合物の混合物
を塗布する方法がある。
【００２２】前記の方法は、アッシング処理されたハ
ードコート層上に、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＺｎＯ2 、Ｓ
ｂ2 Ｏ5 、ＳｎＯ2 、インジウム−錫酸化物（略語：
「ＩＴＯ」）等の高屈折率無機化合物の薄膜を形成し、
さらにこの上にＭｇＦ2 、ＳｉＯ2 等の低屈折率無機化
合物の薄膜を形成することによって反射防止性を発現す
るものである。前記方法においては、高屈折率無機化合
物の薄膜と低屈折率無機化合物の薄膜の組み合わせの例
で説明しているが、各々の層を複数層積層してもよい
し、また、屈折率が段階的に減少するように屈折率の異
なる無機化合物の３種以上の薄膜をハードコート層上に
形成してもよい。
ードコート層上に、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＺｎＯ2 、Ｓ
ｂ2 Ｏ5 、ＳｎＯ2 、インジウム−錫酸化物（略語：
「ＩＴＯ」）等の高屈折率無機化合物の薄膜を形成し、
さらにこの上にＭｇＦ2 、ＳｉＯ2 等の低屈折率無機化
合物の薄膜を形成することによって反射防止性を発現す
るものである。前記方法においては、高屈折率無機化合
物の薄膜と低屈折率無機化合物の薄膜の組み合わせの例
で説明しているが、各々の層を複数層積層してもよい
し、また、屈折率が段階的に減少するように屈折率の異
なる無機化合物の３種以上の薄膜をハードコート層上に
形成してもよい。
【００２３】前記の方法は、ハードコート層用の樹脂
の中から高屈折率である樹脂を選択してハードコート層
を形成するか、又はハードコート層に用いる樹脂中に高
屈折率無機化合物微粒子を分散させたものでハードコー
ト層を形成し、この高屈折率のハードコート層上に、Ｍ
ｇＦ2 、ＳｉＯ2 等の低屈折率無機化合物の膜を形成す
ることによって、反射防止性を発現するものである。
の中から高屈折率である樹脂を選択してハードコート層
を形成するか、又はハードコート層に用いる樹脂中に高
屈折率無機化合物微粒子を分散させたものでハードコー
ト層を形成し、この高屈折率のハードコート層上に、Ｍ
ｇＦ2 、ＳｉＯ2 等の低屈折率無機化合物の膜を形成す
ることによって、反射防止性を発現するものである。
【００２４】前記の方法は、グラビア（リバース）コ
ート、ロールコート、リップコート、ビードコート法等
により形成される。
ート、ロールコート、リップコート、ビードコート法等
により形成される。
【００２５】
【実施例】ハードコート層を形成するための塗布組成物
として電子線硬化型樹脂（５０−３：商品名、大日精化
製）５０重量％に、メチルエチルケトン：トルエン＝
１：１溶液で希釈したものを調製した。この塗布組成物
をＰＥＴフィルム上に、ワイヤーバーにて、乾燥膜厚が
６μｍになるように塗布し、乾燥させた後、電子線（５
Ｍｒａｄ）を照射して塗膜を硬化させた。
として電子線硬化型樹脂（５０−３：商品名、大日精化
製）５０重量％に、メチルエチルケトン：トルエン＝
１：１溶液で希釈したものを調製した。この塗布組成物
をＰＥＴフィルム上に、ワイヤーバーにて、乾燥膜厚が
６μｍになるように塗布し、乾燥させた後、電子線（５
Ｍｒａｄ）を照射して塗膜を硬化させた。
【００２６】ついで、得られたハードコート層に対し
て、ＵＶアッシング装置（DEEP UV PROCESSOR DUV-1100
-2B:商品名、日本電池製）を用い、ＵＶアッシングをオ
ゾンの存在下で、高出力定圧水銀灯にて７２０Ｗで３分
間行なった。アッシングの後、直ちに、ＭｇＦ2 の蒸着
を以下の条件で行なった。すなわち、蒸着機としてＥＭ
Ｃ−７００（商品名：国際電気製）を用い、真空度４×
１０-5ｔｏｒｒ、基板温度を室温とし、ＡＣＣＶＯＬＴ
を５ｋＶ、ＥＭＩＳＳＩＯＮを１０ｍＡ、蒸着速度４Ａ
／Ｓで、ＭｇＦ2 を膜厚１０００Åとなるように蒸着し
た。
て、ＵＶアッシング装置（DEEP UV PROCESSOR DUV-1100
-2B:商品名、日本電池製）を用い、ＵＶアッシングをオ
ゾンの存在下で、高出力定圧水銀灯にて７２０Ｗで３分
間行なった。アッシングの後、直ちに、ＭｇＦ2 の蒸着
を以下の条件で行なった。すなわち、蒸着機としてＥＭ
Ｃ−７００（商品名：国際電気製）を用い、真空度４×
１０-5ｔｏｒｒ、基板温度を室温とし、ＡＣＣＶＯＬＴ
を５ｋＶ、ＥＭＩＳＳＩＯＮを１０ｍＡ、蒸着速度４Ａ
／Ｓで、ＭｇＦ2 を膜厚１０００Åとなるように蒸着し
た。
【００２７】このようにして得られた反射防止フィルム
（層構成：ＭｇＦ2 １０００Ａ／５０−３アッシング／
Ｔ−ＰＥＴ）の透過率、ヘイズ値、ＰＴ値、硬度を測定
した。その結果を下記の表１に示す。比較例１としてペ
ット原反（Ｔ−ＰＥＴ）、比較例２として本実施例にお
いてアッシング処理のみを省略したもの（層構成：Ｍｇ
Ｆ2 １０００Ａ／５０−３／Ｔ−ＰＥＴ）について、本
実施例と同様に性能試験を行なった。その結果を下記の
表１に示す。
（層構成：ＭｇＦ2 １０００Ａ／５０−３アッシング／
Ｔ−ＰＥＴ）の透過率、ヘイズ値、ＰＴ値、硬度を測定
した。その結果を下記の表１に示す。比較例１としてペ
ット原反（Ｔ−ＰＥＴ）、比較例２として本実施例にお
いてアッシング処理のみを省略したもの（層構成：Ｍｇ
Ｆ2 １０００Ａ／５０−３／Ｔ−ＰＥＴ）について、本
実施例と同様に性能試験を行なった。その結果を下記の
表１に示す。
【００２８】
【表１】 ＰＴは直線透過率（散乱されないで透過した光の透過
率）を意味する。
率）を意味する。
【００２９】ヘイズ値（％）は、〔（透過率−ＰＴ）／
透過率〕×１００で求められる。
透過率〕×１００で求められる。
【００３０】前記表１によれば、本実施例と比較例２は
比較例１のものに比べ、透過率、ヘイズ値、ＰＴ値が共
に高いことから、反射防止性に優れ、透明性に優れた反
射防止フィルムであることが分かるが、比較例２のもの
は、比較例１と同様に硬度が低く、本実施例のものが硬
度が高くハードコート層と無機化合物の蒸着膜との層間
の密着性が良いことが分かる。
比較例１のものに比べ、透過率、ヘイズ値、ＰＴ値が共
に高いことから、反射防止性に優れ、透明性に優れた反
射防止フィルムであることが分かるが、比較例２のもの
は、比較例１と同様に硬度が低く、本実施例のものが硬
度が高くハードコート層と無機化合物の蒸着膜との層間
の密着性が良いことが分かる。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、基材表面に形成したハ
ードコート層表面にアッシング処理を施すことによって
粗面化した後に、薄膜を形成しているので、得られた反
射防止フィルムはハードで耐擦傷性があり、その製造方
法が簡単であり、且つ反射防止性、透明性に優れた反射
防止フィルムを提供することができる。
ードコート層表面にアッシング処理を施すことによって
粗面化した後に、薄膜を形成しているので、得られた反
射防止フィルムはハードで耐擦傷性があり、その製造方
法が簡単であり、且つ反射防止性、透明性に優れた反射
防止フィルムを提供することができる。
【００３２】また、ハードコート層上に形成する薄膜に
無機化合物が使用されている場合、ハードコート層の樹
脂表面に形成されている−ＯＨ基等の反応基により、ハ
ードコート層と無機化合物の薄膜との密着性が増す。
無機化合物が使用されている場合、ハードコート層の樹
脂表面に形成されている−ＯＨ基等の反応基により、ハ
ードコート層と無機化合物の薄膜との密着性が増す。
Claims (6)
- 【請求項１】 （１）基材上にハード性を有する樹脂を
塗布することによりハードコート層を形成し、 （２）該ハードコート層表面にアッシング処理を施すこ
とによって粗面化し、 （３）次いで、粗面化されたハードコート層上に反射防
止層を一層又は複数層形成することを特徴とする反射防
止フィルムの製造方法。 - 【請求項２】 （１）基材上にハード性を有する高屈折
率樹脂又は高屈折率粒子を含有したハード性を有する樹
脂を塗布することにより高屈折率のハードコート層を形
成し、 （２）該ハードコート層表面にアッシング処理を施すこ
とによって粗面化し、 （３）次いで、粗面化されたハードコート層上に低屈折
率無機化合物及び／又は低屈折率有機化合物の低屈折率
層を形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造
方法。 - 【請求項３】 前記反射防止層又は低屈折率層の形成方
法は、蒸着、プラズマＣＶＤ、スパッタリング等の真空
プロセスから選ばれた方法である請求項１又は２記載の
反射防止フィルムの製造方法。 - 【請求項４】 前記反射防止層又は低屈折率層の形成方
法は、塗布による方法である請求項１又は２記載の反射
防止フィルムの製造方法。 - 【請求項５】 前記基材は、トリアセチルセルロースフ
ィルム又はポリエチレンテレフタレートフィルムである
請求項１、２、３又は４記載の反射防止フィルムの製造
方法。 - 【請求項６】 請求項１、２、３、４又は５記載の反射
防止フィルムの製造方法によって製造された反射防止フ
ィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5338943A JPH07159602A (ja) | 1993-12-02 | 1993-12-02 | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5338943A JPH07159602A (ja) | 1993-12-02 | 1993-12-02 | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07159602A true JPH07159602A (ja) | 1995-06-23 |
Family
ID=18322788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5338943A Pending JPH07159602A (ja) | 1993-12-02 | 1993-12-02 | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07159602A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100236026B1 (ko) * | 1996-12-13 | 1999-12-15 | 구본준;론 위라하디락사 | 반사형 액정표시장치 및 제조방법 |
| JP2002154183A (ja) * | 2000-11-21 | 2002-05-28 | Jsr Corp | 構造体 |
| JP2022512737A (ja) * | 2018-10-19 | 2022-02-07 | レーシング オプティクス，インコーポレイテッド | 反射防止コーティングを有する透明カバー |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63309901A (ja) * | 1987-06-11 | 1988-12-19 | Nikon Corp | プラスチック製眼鏡レンズ |
| JPH01309003A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-13 | Toray Ind Inc | 撥水性を有する帯電防止物品 |
| JPH02167501A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-06-27 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 反射防止層を有する光学材料およびその製造方法 |
| JPH04249145A (ja) * | 1991-02-04 | 1992-09-04 | Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd | 防眩フィルム及びその製造方法 |
| JPH04288349A (ja) * | 1991-01-23 | 1992-10-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 |
| JPH05166976A (ja) * | 1991-12-12 | 1993-07-02 | Matsushita Electron Corp | 半導体素子の実装方法 |
| JPH05307104A (ja) * | 1992-04-30 | 1993-11-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | 平面ディスプレイの外光反射防止方法 |
-
1993
- 1993-12-02 JP JP5338943A patent/JPH07159602A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63309901A (ja) * | 1987-06-11 | 1988-12-19 | Nikon Corp | プラスチック製眼鏡レンズ |
| JPH01309003A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-13 | Toray Ind Inc | 撥水性を有する帯電防止物品 |
| JPH02167501A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-06-27 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 反射防止層を有する光学材料およびその製造方法 |
| JPH04288349A (ja) * | 1991-01-23 | 1992-10-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 |
| JPH04249145A (ja) * | 1991-02-04 | 1992-09-04 | Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd | 防眩フィルム及びその製造方法 |
| JPH05166976A (ja) * | 1991-12-12 | 1993-07-02 | Matsushita Electron Corp | 半導体素子の実装方法 |
| JPH05307104A (ja) * | 1992-04-30 | 1993-11-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | 平面ディスプレイの外光反射防止方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100236026B1 (ko) * | 1996-12-13 | 1999-12-15 | 구본준;론 위라하디락사 | 반사형 액정표시장치 및 제조방법 |
| JP2002154183A (ja) * | 2000-11-21 | 2002-05-28 | Jsr Corp | 構造体 |
| JP2022512737A (ja) * | 2018-10-19 | 2022-02-07 | レーシング オプティクス，インコーポレイテッド | 反射防止コーティングを有する透明カバー |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040302 |