JPH02167501A

JPH02167501A - 反射防止層を有する光学材料およびその製造方法

Info

Publication number: JPH02167501A
Application number: JP1227461A
Authority: JP
Inventors: Nobuhiro Watanabe; 渡辺　展宏; Kenichi Kokubu; 国分　健一; Teruo Sakagami; 輝夫阪上
Original assignee: Kureha Corp
Current assignee: Kureha Corp
Priority date: 1988-09-09
Filing date: 1989-09-04
Publication date: 1990-06-27
Also published as: JPH0435725B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、反射防止層を有する光学材料およびその製造
方法に関するものである。

〔従来の技術〕

一般に、眼鏡用レンズ、カメラ用レンズなどの光学レン
ズ、その他のプラスチック製光学材料においては反射防
止性を有することが要求され、特に眼鏡用レンズなどに
おいては、キズの発生を防止するためのハードコート層
の他に、ゴーストやフレアと呼ばれる反射像の形成を防
止するため、単層または多層からなる反射防止層を形成
することが行われている。

従来、反射防止層を形成する方法としては、真空蒸着法
、スパッタリング法、イオンプレーティフグ法、ＣＶＤ
法などの蒸着法により、ガラスまたはプラスチックより
なる基体の表面に直接、あるいは基体の表面に有機物質
よりなるハードコート層やプライマーコート層を形成し
た上で、シリカその他の無機材料を被着させる方法が知
られている。

しかしながら、このような蒸着法によって反射防止層を
形成する方法においては、概して生産性が低くて高価と
なるという欠点に加え、基体の特性が発現されなくなっ
たり、あるいは損なわれるという問題点がある。例えば
、基体がプラスチック基体である場合には、基体それ自
体は染色可能性を有するが蒸着法による反射防止層の形
成によって染色可能性が失われ、また蒸着のための苛酷
な条件によって当該プラスチック基体の耐衝撃性が格段
に低下するようになる。また、蒸着法においては基体を
例えば３００℃以上に加熱することが必要とされるが、
プラスチック基体はそのような高温に加熱することはで
きない。しかし、低い加熱温度で蒸着を行うと、形成さ
れる蒸着膜は基体に対する密着性が不十分なものとなる
。

また、基体の表面に有機物質よりなるハードコート層や
プライマーコート層を形成した場合には、それらの耐久
性および耐熱性が低いため、更にその上に蒸着法によっ
て反射防止層を形成すると、クランクや当該反射防止層
の剥離が比較的早い時期に発生するという問題点がある
。

一方、以上のような蒸着法によらずに、有機物質または
無機物質よりなる材料を、ディッピング法、スピンコー
ド法、スプレィコート法などによって基体の表面に塗布
し、これによって単層または多層の反射防止層を形成す
る方法も多く提案されており、例えば特開昭５９−４９
５０１号公報、特開昭５９−４９５０２号公報、特開昭
６０−６８３１９号公報、特開昭６０−２１３９０１号
公報などにおいては、ケイ素含有化合物による被膜また
はシリカ微粉末を分散してなる被膜よりなる反射防止層
を形成することが記載されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の反射防止層は酸化ケイ素の低屈折性を利用するも
のであるが、酸化ケイ素の屈折率は１．４６であって十
分に低いものではなく、このため、必ずしも優れた反射
防止効果を得ることができない、という問題点がある。

〔発明の目的〕

本発明は、屈折率が十分に低く、これによって優れた反
射防止効果が発揮される反射防止層を有する光学材料を
提供することを目的とする。

本発明の他の目的は、上記のような反射防止層を有する
光学材料を有利に製造することのできる方法を提供する
にある。

〔発明の概要〕

本発明の反射防止層を有する光学材料は、屈折率が１．
４８以上の透明なプラスチック基体と、このプラスチッ
ク基体の表面を覆うよう形成した、平均粒子径が０．３
〜２００ｎｍのフッ化マグネシウムよりなる無機微粉末
がバインダー中に分散されてなり、前記プラスチック基
体よりも０．０２以上低い屈折率を有する厚さ５０〜５
０００ｎｍの反射防止層とを有してなることを特徴とす
る。

本発明の製造方法は、屈折率が１．４８以上の透明なプ
ラスチック基体の表面に、平均粒子径が０．３〜２００
ｎｍのフッ化マグネシウムよりなる無機微粉末とバイン
ダーの材料とを含有する反射防止層形成用塗布液を塗布
し、前記無機微粉末がバインダー中に分散されてなり、
前記プラスチック基体よりも０，０２以上低い屈折率を
有する厚さ５０〜５０００ｎｍの反射防止層を形成する
ことを特徴とする。

〔発明の詳細な説明〕

以下、本発明について具体的に説明する。

本発明においては、反射防止層が形成される基体として
、その屈折率が１．４８以上の透明なプラスチック基体
が用いられる。このようなプラスチック基体であれば、
その材質が限定されるものではなく、例えばポリメチル
メタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ジ
エチレングリコールビスアリルカーボネート、酢酸セル
ロース、その他の樹脂よりなるものを用いることができ
、更に近年、高屈折率材料として提案されている各種の
アクリレート共重合体、メククリレート共重合体、芳香
族ブロム化合物を含有するポリマー、ポリウレタンなど
を使用することもできる。

本発明において用いられるプラスチック基体はその屈折
率が１．４８以上のものであることが必要であり、屈折
率が１．４８未満のプラスチック基体を用いると、実質
的に反射防止効果が発現されない場合がある。そして、
屈折率が１．５４以上のプラスチック基体を用いると、
十分に優れた反射防止効果を得ることができる。

このように、プラスチック基体の屈折率は１．４８以上
であることが必要であるが、本発明においては、屈折率
が比較的低くて例えば屈折率が１．５３以下のプラスチ
ック材料に反射防止層を形成する場合に、当該プラスチ
ック材料の表面に、屈折率が１．４８以上、好ましくは
１．５３以上の透明な有機物質よりなる表面層を形成し
、これによって表面部分の屈折率を調節したものをプラ
スチック基体として用いることができる。この表面層は
、その屈折率がプラスチック材料の屈折率と近似したも
のであることが好ましい。この表面層は、ハードコート
層としての性質を有するものとして形成することも可能
である。

本発明において用いられるプラスチック基体は、最終的
に使用目的に応じた形態とされ得るものであればよく、
例えば各種のレンズなどの光学材料としての形態を有す
るものであってもよいし、平板、その他の形態を有し、
後に光学材料の形態に加工されるものであってもよい。

このようなプラスチック基体は、射出成型法や注型重合
法などによって製造することができる。

本発明においては、プラスチック基体の表面を覆うよう
反射防止層が形成される。この反射防止層は、フッ化マ
グネシウム微粉末を主体とする無機微粉末がバインダー
中に分散されてなるものである。この無機微粉末は、フ
ッ化マグネシウム微粉末のみよりなるものであってもよ
いし、あるいはフッ化マグネシウム微粉末を主体と腰仙
の無機物質の微粉末を含有するものであってもよい。

ここにフッ化マグネシウム微粉末としては、平均粒子径
が０．３〜２００ｎｍのものが用いられるが、特に０．
５〜１１００ｎの微粉末が好ましい。平均粒子径が０．
３ｒ＋＋ｎ未満のフッ化マグネシウム微粉末は製造が困
難であるためにコストが高くなって実用的ではなく、一
方、平均粒子径が２００ｎｍより大きいものを使用する
と、形成される反射防止層の透明性が低下する。

フッ化マグネシウム微粉末と共に用いられる無機物質の
微粉末としては、例えばシリカ（ＳｉＯ２、屈折率１．
４６）　、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ２、屈折率１．
３３〜１．３９）、フッ化カルシウム（Ｃａ　Ｆ　２、
屈折率１．４４）、フッ化リチウム（ＬｉＦ　、屈折率
１、３６〜１．３７）、フッ化ナトリウム（ＮａＦ、屈
折率１．３２〜１．３４）およびフッ化トリウム（Ｔｈ
Ｆ＜、屈折率１．４５〜１．５）などを挙げることがで
きる。これらの微粉末は、平均粒子径が０．３〜２００
ｎｍのものが好ましく、またその１種または２種以上を
用いることができる。

以上の無機物質の微粉末が併用される場合においては、
無機微粉末全体の５０重量％以上の割合の部分が前記フ
ッ化マグネシウム微粉末であること一が好ましい。

以上のフッ化マグネシウムを主体とする無機微粉末が、
後述するバインダー中に分散されて反射防止層が形成さ
れる。この反射防止層の屈折率はプラスチック基体に対
して０．０２以上低いことが必要であり、この屈折率の
差が０．０２以上でない場合には優れた反射防止効果を
得ることができない。

また、反射防止層におけるフッ化マグネシウムを主体と
する無機微粉末の割合は、耐擦傷性の点から、反射防止
層全体の３重量％以上、特に５重量％以上であることが
好ましい。

本発明において、反射防止層は次のようにして形成され
る。すなわち、上述のフッ化マグネシウムを主体とする
無機微粉末をバインダーの材料および必要な分散媒と共
に混合して反射防止層形成用塗布液を調製し、これをプ
ラスチック基体の表面に塗布し、更に加熱などの硬化処
理により硬化させて反射防止層を形成する。

上記バインダーとしては、膜形成性を有する樹脂を用い
ることができる。そのような樹脂とじては、例えばアク
リル樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹
脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂などの
熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂が用いられる。熱硬化
性樹脂がバインダーとされる場合においては、その材料
として当該樹脂の前駆体が用いられ、これによって反射
防止層形成用塗布液が調製される。

以上の樹脂の他、本発明においては、加熱により硬化す
る被膜を形成する金属アルコキシドをバインダーとして
用いることができ、特に低い屈折率の反射防止層が形成
されることから、シランのアルコキシドを用いることが
好ましい。モしてシランのアルコキシドとしては、アル
コキシシランまたはカーボンファンクショナルポリオル
ガノシロキサンが用いられる。

アルコキシシランの具体例としては、例えばテトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキン
シラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキンシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキ
ンシラン、メチルトリプトキンシラン、エチルトリット
キンシラン、エチルトリットキンシラン、エチルトリプ
ロポキシンラン、エチルトリブトキシシラン、プロビル
トリメトキンンラン、プロピルトリエトキシシラン、プ
ロピルトリプロポキンシラン、プロビルトリブトキンン
ラン、ジメチルジェトキシシン、ジメチルジェトキシシ
ラン、ジメチルジプロポキンンラン、ジエチルジブトキ
シシラン、ジエチルジメトキンンラン、シエチルジエト
キンンラン、ジエチルジブトキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチル
プロピルジェトキシシランなどがある。

カーボンファンクショナルポリオルガノシロキサンとし
ては、例えば３．４−エポキシシクロへキシルアルキル
トリアルコキシンラン、メククリロキンアルキルトリア
ルコキンシラン、ビニルトリアルコキンンラン、Ｔ−グ
リシドキンアルキルトリアルコキシシラン、アミノアル
キルトリアルコキンンランなどがある。

以上のバインダーの材料は、反射防止層形成用塗布液に
おいて、フッ化マグネウンムを主体とする無機微粉末が
分散された分散媒中に分散もしくは溶解される。特にバ
インダーがシランのアルコキシドであるときには、フッ
化マグネシウムを主体とする無機微粉末と有機溶剤より
なる分散媒中で混合することにより、あるいは更にその
一部をオリゴマー状に加水分解して熟成させることによ
り、好適な反射防止層形成用塗布液を得ることができる
。

反射防止層形成用塗布液の調製を容易にするために、必
要に応じて、フッ化マグネシウムを主体とする無機系微
粒子について、親水化処理または疎水化処理を行うこと
ができる。

反射防止層形成用塗布液は、上述の無機微粉末とバイン
ダーとが水または有機溶剤よりなる分散媒中に、プラス
チック基体に対して容易に塗布することができるよう、
適当な濃度で均一に分散されたものとされる。特に均一
な塗布を遠戚するためには、分散媒として有機溶剤を用
いることが好ましい。

分散媒として用いられる有機溶剤としては、例えばアル
コール、ケトン、エステル、ハロゲン化炭化水素、エー
テルなどがあり、特にメチルアルコール、エチルアルコ
ール、ブチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イ
ソプロピルアルコールなどのアルコール類が好ましく用
いられる。

反射防止層形成用塗布液には、更に塗膜の表面の平滑性
を向上させるためのフローコントロール剤、紫外線吸収
剤、酸化防止剤などを添加することも可能である。

このような反射防止層形成用塗布液は、プラスチック基
体の表面に、通常のディッピング法やスピンコード法を
利用して塗布され、形成された塗膜を硬化させることに
より、反射防止膜が形成される。

反射防止層形成用塗布液の塗布に際しては、プラスチッ
ク基体の表面に前処理を施すことが好ましく、これによ
り、反射防止層のプラスチック基体に対する密着性を向
上させることができる。

このような前処理としては、薬品処理または活性化ガス
処理などがなされる。薬品処理は、酸またはアルカリに
よる処理が一般的である。また、活性化ガス処理として
は、コロナ放電処理、低温プラズマ処理などがあり、そ
の他、紫外線とオゾンを利用した処理も有効である。こ
れらの前処理は、複数の処理を連続的にまたは段階的に
あるいは並行して実施することも可能である。

一般に透明な基体の表面に単層の反射防止層を形成する
場合において、当該基体の屈折率をｎ。、反射防止層の
屈折率をｎｌ、その層厚をｄｌ、設計波長をλとすると
、ｎｌ・ｄ、＝Ａ／４　　あるいはその奇数倍であると
きに、垂直に入射する光に対する位相差が１８０度とな
って干渉による反射光の強度は最小となる。これを位相
の条件という。ここで（ｎｌ・ｄｔ）は光学膜厚といい
、物質の屈折率と設計波長λが定まれば、反射防止層の
具体的な厚さが設計される。ここで設計波長λは、一般
に可視域の３００〜８００ｒ＋ｍの波長の範囲から目的
に応じて選ばれる。

また、反射防止層の屈折率が基体の屈折率の平方根に等
しい場合すなわちｎｌ−ｆｆｉの場合に反射率が最小と
なる。これを振幅の条件という。

従って、反射防止層の形成に用いる材料を適当に選択し
て反射防止層の屈折率と膜厚を制御することにより、こ
れら２つの条件をできるだけ満足させることが好ましい
。

反射防止層は、その厚さが小さいほど、位相の条件を容
易に実現することができるので反射防止効果の発現のた
めに望ましい。一方、反射防止層は実際上光学材料の最
外表面を形成するものとなるのである程度の硬度を有す
ることが実用上必須であり、これを達成するためには、
反射防止層は厚さが大きいものであることが望ましい。

このような観点から、本発明においては、反射防止層の
厚さは５０〜５０００ｎｍ　、好ましくは１００〜３０
００ｎｍの範囲内とされる。

なお、反射防止層の形成に用いる材料を適当に選択する
ことにより、反射防止層の諸性能、例えばプラスチック
基体に対する密着性、耐擦傷性などを良好なものとする
ことが可能である。

〔効果〕

本発明の反射防止層を有する光学材料は、プラスチック
基体を覆うよう形成された、バインダー中にフッ化マグ
ネシウム微粉末を主体とする無機微粉末が分散された反
射防止層を有し、しかもこのフッ化マグネシウムの屈折
率が１．３８ときわめて低いために優れた反射防止効果
が得られる。また、フッ化マグネシウム微粉末が平均粒
子径が０．３〜２０Ｏｎ＋＋＋の非常に粒子径の小さい
ものであるため、形成される反射防止層に十分な透明性
が得られる。

更にこの反射防止層は、有機物質よりなるバインダーに
よって形成されているため染色可能性を有し、優れた耐
擦傷性および耐久性を得ることができ、プラスチック基
体に対して高い密着性を得ることができる。

また、反射防止層を形成するためには、反射防止層形成
用塗布液をプラスチック基体の表面に塗布して硬化させ
ればよいので、製造がきわめて容易で生産の効率が高く
、しかもプラスチック基体の有する特性が阻害されるこ
とがなく、耐衝撃性が低下するようなこともない。

本発明の光学材料は、眼鏡用レンズを始め、サングラス
、ファッショングラス、スキー用またはバイク用ゴーグ
ル、安全メガネ、双眼鏡レンズ、カメラレンズ、その他
の用途に好ましく使用することができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明がこ
れらに限定されるものではない。

実施例１プラスチック基体ジエチレングリコールビスアリルカーボネート３５重量
部とジアリルフクレート６５重量部とを、イソプロペニ
ルパーオキシジカーボネートを重合開始剤として共重合
させ、厚さ２＋ｎｍの板状に成型されたプラスチック基
体を製造した。このプラスチック基体の屈折率は１．５
４であった。

反射防止層形成用塗布液平均粒子径が約２０ｎｍのフフ化マグネシウム微粉末６
０重量部と、エポキシ樹脂（旭電化工業社製のｒ　Ｅ　
Ｐ４１００Ｊと「ＥＤ５０３」とｒＥＨ２６１」とを重
量で４６：３１：２３の割合で混合したもの）４０重量
部とを、エチルアルコール中に混合し分散させて固形分
濃度５．５重量％の反射防止層形成用塗布液Ａを調製し
た。

反射防止層上記プラスチック基体を濃度５％の水酸化ナトリウム水
溶液中に５０℃で１０分間浸漬させてその表面に前処理
を施し、このプラスチック基体の表面に、上記反射防止
層形成用塗布液Ａをディッピング法により塗布し、その
後６０℃で３０分間、８０℃で１６時間加熱して硬化さ
せ、平均厚さ３００ｎｍ、屈折率１．４０の反射防止層
を形成して光学材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料は、赤紫色の反射光
色を有し、その全光線透過率は９６．４％であった。そ
して、反射防止層を形成する前のプラスチック基体の全
光線透過率は９１．８％であり、従って、反射防止層に
より優れた反射防止効果が得られることが明らかである
。

また、この光学材料を、赤、青、黄の３色混合した分散
染料液中に９０℃で２５分間浸漬して染色処理を行った
ところ、全光線透過率が６０％に低下するまでに染色さ
れた。この染色後の光学材料において、反射防止層の剥
離は認められず、反射防止効果の低下も認められなかっ
た。

また、反射防止層に縦横に１ｍｍ間隔の切り込みを入れ
て合計１００個の反射防止層片を形成し、その上に粘着
テープを貼付した後剥離させてこのときに粘着テープと
共に剥離される反射防止層片の有無を調べることにより
、反射防止層の密着性テストを行った。その結果、剥離
された反射防止層片の数は０であった。

また、反射防止層の表面に５００ｇの荷重でスチールウ
ールを対接させた状態で１０回往復動させて擦過し、こ
れによって反射防止層に生ずる傷の状態をΔ、Δ’、　
Ｂ、　Ｂ”、Ｃ，Ｃ”の６段階で評価する耐擦傷性テス
トを行ったところ、結果はＢであった。

ここに、評価がＡ、　Ａ’、　Ｂ、またはＢ′　であれ
ば、実用上問題のない耐擦傷性を有するものと認められ
る。

更に、上記光学材料に「サンシャイン　ウェザ−メータ
ー」よりの光を４００時間照射する加速処理を行い、そ
の後に、クラックの発生の有無を調べ、また上記と同様
の密着性テストおよび耐擦傷性テストを行った。その結
果、クラックの発生はなく、密着性テストおよび耐擦傷
性テストの結果は加速処理前と同様であり、異常は全く
認められなかった。

実施例２プラスチック基体市販のジエチレングリコールビスアリルカーボネート製
眼鏡用レンズ（外径７０ｍｍ、中心厚１．８ｍｍ、度数
−０，２５ジオプトリー、屈折率１．４９）をプラスチ
ック材料として用意した。

一方、Ｔ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン３
５重量部と、メチルアルコールシリカゾル５０重量部と
、０．０１Ｎの塩酸１０重量部と、無水マレイン酸５重
量部との混合物１００重量部に、テトライソプロピルビ
ス（ジオクチルフォスファイト）チタネート「プレンア
ク）４１ＢＪ（味の素■製）２０重量部を添加して表面
層形戒用塗布液へを調製した。そして上記プラスチック
材料の表面に実施例１と同様にして前処理を施した上、
上記表面層形成用塗布液Ａをディッピング法により塗布
し、その後６０℃で２０分間、１２０℃で３時間加熱し
て硬化させ、平均厚さ２５００ｎｍ、屈折率１．５７の
ハードコート層としての性質を有する表面層を形成し、
プラスチック基体を得た。

反射防止層上記表面層を形成したプラスチック基体に、実施例１に
おいて調製した反射防止層形成用塗布液Ａを、実施例１
におけると同様ではあるがディッピング速度を調整した
条件で塗布し硬化処理して、平均厚さが１００ｎ［Ｉｌ
、屈折率１４０の反射防止層を形成して光学材料を製造
した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透過半は９
６．８％であった。そして、反射防止層を形成する前の
表面層を有するプラスチック基体の全光線透過率は９０
．３％であり、従って、反射防止層により優れた反射防
止効果が得られることが明らかである。

また、この光学材料を、実施例１と同様にして赤、青、
黄の３色混合した分散染料液により染色処理を行ったと
ころ、全光線透過率が７４％に低下するまでに染色され
た。この染色後の光学材料において、反射防止層の剥離
は認められず、反射防止効果の低下も認められなかった
。

また、実施例１と同様にして行った密着性テストによる
剥離された反射防止層片の数は０１耐擦傷性テストの評
価はＡｏ　であった。

更に実施例１におけると同様にして行った加速処理後の
光学材料においても、クラックの発生はなく、密着性テ
ストおよび耐擦傷性テストの結果は加速処理前と同様で
あり、異常は全く認められなかった。

またこの反射防止層を有する光学材料に対して落球法に
よる耐衝撃性テストを行った。すなわち温度２０℃にお
いて高さ１２７ｍの位置より重さ１６．３ｇの鋼球を光
学材料上に自由落下させて光学材料の破損の有無を調べ
た。その結果、光学材料に全く破損は認められなかった
。

なお、上記表面層を有するプラスチック基体に通常のス
パッタリング法によってフッ化マグネシウムを被着させ
て反射防止層を形成して比較用の光学材料を製造した。

しかし、この光学材料は、落球法による耐衝撃性テスト
において、完全に破砕した。

以上のことから、本発明の光学材料においてはプラスチ
ック基体の耐衝撃性が反射防止層の形成によって損なわ
れないことが明らかである。

実施例３プラスチック基体実施例１で用いたものと同じ屈折率１．５４のプラスチ
ック基体を用意した。

反射防止層形成用塗布液平均粒子径約２０ｎｍのフッ化マグネシウム微粉末を５
重量％含有するエチルアルコール１００！Ｉｆｌ’Ｂと
、Ｔ−グリノドキシプロピルトリメトキシ９９フ３重量
部と、メチルトリメトキシシラン１５重量部と、０．０
１　Ｎの塩酸１０重量部と、無水マレイン酸０．５重量
部との混合物に、ｎ−プロピルアルコール５０重量部と
、エチルセロソルブ３．７重量部とを添加し、撹拌して
反射防止層形成用塗布液Ｂを調製した。

反射防止層上記プラスチック基体の表面に実施例１と同様にして前
処理を施した上、上記反射防止層形成用塗布液Ｂをディ
ッピング法により塗布し、その後６０℃で１時間、１２
０℃で３時間加熱して硬化させ、平均厚さ２５０ｎｍ、
屈折率１．４１の反射防止層を形成して光学材料を製造
した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透過率は９
６，４％であった。そして反射防止層を形成する前のプ
ラスチック基体の全光線透過率は９１．８％であり、従
って、反射防止層により優れた反射防止効果が得られる
ことが明らかである。

また、この光学材料を、実施例１と同様にして赤、青、
黄の３色混合した分散染料液により染色処理を行ったと
ころ、全光線透過率が４２％に低下するまでに染色され
た。この染色後の光学材料において、反射防止層の剥離
は認められず、反射防止効果の低下も認められなかった
。

また、実施例１と同様にして行った密着性テストによる
剥離された反射防止層片の数は０、耐擦傷性テストの評
価はＢであった。

実施例４プラスチック基体市販のジエチレングリコールビスアリルカーボネート製
眼鏡用レンズ（外径７０ｍｍ、中心厚２．Ｏｍｍ。

度数−０，２５ジオプトリー、屈折率１４９）をプラス
チック材料として用意した。

一方、市販のシリコン系ハードコート剤「スミ−７−／
ｌ／　Ｇ−３５Ｊ　（住友化学■製）　１００ｃｃに、
平均粒子径５Ｑｎｍのコロイド状五酸化アンチモンゾル
ｒＡＴＭ−１３０ＳＪ　（日産化学社製）１５ｇと、イ
ソプロピルアルコール１０ｇと、エチルセロソルフ５ｇ
とを添加して、表面層形成用塗布液Ｂを調製した。

上記プラスチック材料の表面に実施例１と同様にして前
処理を施した上、上記表面層形成用塗布液Ｂをディッピ
ング法により塗布し、加熱硬化させて平均厚さ３６００
ｎ…、屈折率１．５７のハードコート層としての性質を
有する表面層を形成してプラスチック基体を得た。

反射防止層上記表面層を形成したプラスチック基体に、実施例３に
おいて調製した反射防止層形成用塗布液Ｂを用い、実施
例３におけると同様に塗布および硬化処理して、平均厚
さが２７０ｎｍ、屈折率１．４１の反射防止層を形成し
て光学材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透過率は９
６．４％であった。そして、反射防止層を形成する前の
表面層を有するプラスチック基体の全光線透過率は９０
．３％であり、従って、反射防止層により優れた反射防
止効果が得られることが明らかである。

また、この光学材料を、実施例１と同様にして赤、青、
黄の３色混合した分散染料液により染色処理を行ったと
ころ、全光線透過率が４８％に低下するまでに染色され
た。この染色後の光学材料において、反射防止層の剥離
は認められず、反射防止効果の低下も認められなかった
。

また、実施例１と同様にして行った密着性テストによる
剥離された反射防止層片の数は０、耐擦傷性テストの評
価はＡ゛　であった。

またこの反射防止層を有する光学材料に対して、実施例
２と同様にして落球法による耐擦傷性テストを行ったと
ころ、光学材料に全く破損は認められなかった。

実施例５プラスチック基体実施例１で用いたものと同じ屈折率１．５４のプラスチ
ック材料を用意し、その表面に実施例１と同様にして前
処理を施し、これに実施例２で調製したものと同じ表面
層形成用塗布液Ａをディッピング法により塗布し、更に
加熱して硬化させ、平均厚さ２５００ｎｍ　、屈折率１
５７のハードコート層としての性質を有する表面層を形
成し、プラスチック基体を得た。

反射防止層形成用塗布液平均粒子径が約４Ｑｎｍのフン化マグネシウム微粉末を
用いたほかは実施例３と同様にして反射防止層形成用塗
布液Ｃを調製した。

反射防止層上記プラスチック基体の表面に、プラズマリアクター装
置ｒ　Ｐ　Ｒ−５０１ＡＪ　（ヤマト科学社製）を用い
て酸素ガス流量１５０ｄ／分、出力５００Ｗで１分間プ
ラズマによる前処理を施した上、上記反射防止層形成用
塗布液Ｃを回転数３０００ｒｐｍで１分間スピンコード
法により塗布し、その後６０℃で１時間、１２０℃で３
時間加熱して硬化させ、平均厚さ９８ｎｍ、屈折率１．
４１の反射防止層を形成して光学材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透通事は９
６．８％であった。そして反射防止層を形成する前のプ
ラスチック基体の全光線透過率は９０．３％であり、従
って、反射防止層により優れた反射防止効果が得られる
ことが明らかである。

また、実施例１と同様にして行った密着性テストによる
剥離された反射防止層片の数は０、耐擦傷性テストの評
価はＡ′　であった。

実施例６プラスチック基体実施例１で用いたものと同じ屈折率１．５４のプラスチ
ック材料を用意した。

一方、多官能性アクリル樹脂であるジペンタエリスリト
ールへキサアクリレート１５重量部と、芳香族アクリル
樹脂である２−ヒドロキシ−３〜フ工ノキシプロピルア
クリレート１５重量部と、エチルアルコール７０重量部
とに、光重合開始剤「イルガキュア１８４」０．６重量
部を添加して表面層形成用塗布液Ｃを調製した。そして
上記プラスチック材料の表面に実施例１と同様にして前
処理を施した上、上記表面層形成用塗布液Ｃをディッピ
ング法により塗布し、その後６０℃で１０分間予備乾燥
させ、その後、出力５００Ｗの高圧水銀ランプを具えて
なる紫外線照射装置よりの光を下方に１５ｃｍ離間した
位置において１０秒間照射して硬化させ、平均厚さ３０
００ｎｍ、屈折率１．５６のハードコート層としての性
質を有する表面層を形威し、プラスチック基体を得た。

反射防止層上記表面層を形成したプラスチック基体に、実施例５に
おいて調製した反射防止層形成用塗布液Ｃを用い、実施
例５におけると同様に塗布および硬化処理して、平均厚
さが９８ｎｍ、屈折率１．４１の反射防止層を形成して
光学材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光繰送通事は９
６．８％であった。そして、反射防止層を形成する前の
表面層を有するプラスチック基体の全光線透過率は９０
．７％であり、従って、反射防止層により優れた反射防
止効果が得られることが明らかである。

また、実施例１と同様にして行った密着性テストによる
剥離された反射防止層片の数は０、耐擦傷性テストの評
価は八゛　であった。

またこの反射防止層を有する光学材料に対して、実施例
２と同様にして落球法による耐衝撃性テストを行ったと
ころ、光学材料に全く破損は認められなかった。

実施例７プラスチック基体実施例１で用いたものと同じ屈折率１．５４のプラスチ
ック基体を用意した。

反射防止層形成用塗布液実施例３における反射防止層形成用塗布液Ｂにおいて、
ｎ−プロピルアルコール５０重量部の代わりにジアセト
ンアルコール７重量部を用いたほかは同様にして、反射
防止層形成用塗布液りを調製した。

反射防止層上記プラスチック基体の表面に、プラズマリアククー装
置ｒＰＲ−５０１ＡＪ　（ヤマト科学社製）を用いて酸
素ガス流ｉ　１５０ｄ／分、出力５００Ｗて１分間プラ
ズマによる前処理を施した上、上記反射防止層形成用塗
布液りをディッピング法により塗布し、その後６０℃で
３０分間、１２０℃で３時間加熱して硬化させ、平均厚
さ５００ｎｍ、屈折率１．４１の反射防止層を形成して
光学材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透過率は９
６．０％であった。そして反射防止層を形成する前のプ
ラスチック基体の全光線透過率は９１．５％であり、従
って、反射防止層により優れた反射防止効果が得られる
ことが明らかである。

また、この光学材料を、実施例１と同様にして赤、青、
黄の３色混合した分散染料液により染色処理を行ったと
ころ、全光線透過率が４７％に低下するまでに染色され
た。この染色後の光学材料において、反射防止層の剥離
は認められず、反射防止効果の低下も認められなかった
。

実施例８プラスチック基体１−アクリロキシ−２，４，６−ドリブロモベンゼン２
５重ｉ部と、２，２−ビス（４−メタクリロキシエトキ
シ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン５０重量部と
、スチレン１５重量部とを共重合させ、厚さ２ｍｍの板
状に成型されたプラスチック基体を製造した。このプラ
スチック基体の屈折率は１．６０であ＝３５った。

反射防止層形成用塗布液実施例３における反射防止層形成用塗布液Ｂにおいて、
フッ化マグネシウム微粉末の含有割合を１５重量％に変
更すると共に、ｎ−プロピルアルコールとエチルセロソ
ルブの添加量を調整して全体の固型分濃度を２５重量％
としたほかは実施例３と同様にして、反射防止層形成用
塗布液Ｅを調製した。

反射防止層上記プラスチック基体を濃度２０％の水酸化ナトリウム
水溶液中に８０℃で３０分間浸漬させて表面に前処理を
施し、このプラスチック基体の表面に上記反射防止層形
成用塗布液Ｅをディッピング法により塗布し、その後６
０℃で３０分間１２０℃で３時間加熱して硬化させ、平
均厚さ２８００ｎｍ、屈折率１．４０の反射防止層を形
成して光学材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透過率は９
６．０％であった。そして反射防止層を形成する前のプ
ラスチック基体の全光線透過率は８８．６％であり、従
って、反射防止層により優れた反射防止効果が得られる
ことが明らかである。

また、この光学材料を、実施例１と同様にして赤、青、
黄の３色混合した分散染料液により染色処理を行ったと
ころ、全光線透過率が７２％に低下するまでに染色され
た。この染色後の光学材料において、反射防止層の剥離
は認められず、反射防止効果の低下も認められなかった
。

また、実施例１と同様にして行った密着性テストによる
剥離された反射防止層片の数は０１耐擦傷性テストの評
価は八°　であった。

Claims

【特許請求の範囲】１）屈折率が１．４８以上の透明なプラスチック基体と
、このプラスチック基体の表面を覆うよう形成した、平
均粒子径が０．３〜２００ｎｍのフッ化マグネシウムよ
りなる無機微粉末がバインダー中に分散されてなり、前
記プラスチック基体よりも０．０２以上低い屈折率を有
する厚さ５０〜５０００ｎｍの反射防止層とを有してな
ることを特徴とする反射防止層を有する光学材料。２）プラスチック基体は、その表面に、屈折率が１．４
８以上の表面層を有する請求項１に記載の反射防止層を
有する光学材料。３）屈折率が１．４８以上の透明なプラスチック基体の
表面に、平均粒子径が０．３〜２００ｎｍのフッ化マグ
ネシウムよりなる無機微粉末とバインダーの材料とを含
有する反射防止層形成用塗布液を塗布し、前記無機微粉
末がバインダー中に分散されてなり、前記プラスチック
基体よりも０．０２以上低い屈折率を有する厚さ５０〜
５０００ｎｍの反射防止層を形成することを特徴とする
反射防止層を有する光学材料の製造方法。