JP2002154183A - 構造体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐擦傷性や透明性に優れた構造体を提供す
る。 【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｃ）層を積層してなる構造
体。 （Ａ）平均粒子径５〜３００ｎｍのシリカ粒子を含有す
る膜厚１〜３０μｍのハードコート層 （Ｂ）平均粒子径５〜３００ｎｍの無機酸化物粒子を含
有する膜厚０．０５〜０．５μｍの中間層であって、表
面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠）が０．０１〜
２μｍである中間層 （Ｃ）フッ素化合物およびケイ素化合物、あるいはいず
れか一方の化合物を含有する膜厚０．０５〜０．５μｍ
の表面層

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、構造体に関し、よ
り詳細には、反射防止膜積層体等に好適な耐擦傷性や透
明性に優れた構造体に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止膜の形成材料として、例えば、
熱硬化型ポリシロキサン組成物が知られており、特開昭
６１−２４７７４３号公報、特開平６−２５５９９号公
報、特開平７−３３１１１５号公報および特開平１０−
２３２３０１号公報等に開示されている。しかしなが
ら、このような熱硬化型ポリシロキサン組成物を利用し
て得られる反射防止膜は、耐擦傷性に乏しく、結果とし
て、耐久性に乏しいという問題が見られた。また、かか
る反射防止膜を製造するにあたり、高温で、長時間にわ
たって加熱処理をする必要があり、生産性が低かった
り、あるいは適用可能な基材の種類が限定されるという
問題が見られた。

【０００３】そこで、特開平８−９４８０６号公報に開
示されているように、基材上に、微粒子を高屈折率バイ
ンダー樹脂中に局在化させた高屈折率膜と、フッ素系共
重合体からなる低屈折率膜とを順次に積層した光学機能
性フィルムが提案されている。より具体的には、高屈折
率膜を形成するのに、２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子
等の微粒子層を工程紙上に予め形成しておき、それを基
材上の高屈折率バインダー樹脂に対して圧接することに
より、高屈折率バインダー樹脂中に微粒子層を埋設し
て、局在化させている。また、低屈折率膜については、
フッ化ビニリデン３０〜９０重量％およびヘキサフルオ
ロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物
が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％
であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性
不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部と、
これらの合計量を１００重量部としたときに、０．５〜
１０重量部の重合開始剤とからなる樹脂組成物を硬化し
て、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜としている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
８−９４８０６号公報に開示された光学機能性フィルム
は、高屈折率膜の製造工程が複雑であり、結果として均
一な特性を示す光学機能性フィルムを作成することが困
難であった。また、かかる光学機能性フィルムは、高屈
折率膜における表面粗さの値を考慮しておらず、低屈折
率膜の耐擦傷性が乏しいという問題が見られた。そこ
で、本発明の発明者らは鋭意検討した結果、基材上に、
（Ａ）ハードコート層と、（Ｂ）中間層（高屈折率膜）
と、（Ｃ）表面層（低屈折率膜）とを含む構造体（反射
防止膜積層体）において、（Ａ）〜（Ｃ）層の構成内容
を考慮するとともに、（Ｂ）層における表面粗さの値を
考慮するだけで、上述した問題を解決できることを見出
した。すなわち、本発明は、簡易な構造でありながら、
耐擦傷性や透明性に優れた構造体を提供することを目的
とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記
（Ａ）〜（Ｃ）層を積層してなる構造体が提供され、上
述した問題点を解決することができる。 （Ａ）数平均粒子径５〜３００ｎｍのシリカ粒子を含有
する膜厚１〜３０μｍのハードコート層 （Ｂ）数平均粒子径５〜３００ｎｍの無機酸化物粒子を
含有する膜厚０．０５〜０．５μｍの中間層であって、
表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠）が０．０１
〜２μｍである中間層 （Ｃ）フッ素化合物およびケイ素化合物、あるいはいず
れか一方の化合物を含有する膜厚０．０５〜０．５μｍ
の表面層

【０００６】すなわち、中間層の表面粗さの値をこのよ
うに考慮することにより、中間層の表面に設けられた凹
凸が表面層中に適度に入り込み、結果として、表面層に
おける耐擦傷性を著しく向上させることができる。ま
た、中間層の下方には、特定のハードコート層が設けて
あることから、中間層の動きを拘束し、結果として、さ
らに表面層における耐擦傷性を向上させることができ
る。さらに、表面層は、フッ素化合物やケイ素化合物か
ら構成されているため、優れた剥離性、耐熱性、防汚性
等をも得ることができる。

【０００７】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、ハードコート層（Ａ）に含まれるシリカ粒子の含有
量を５〜７０重量％の範囲内の値とすることが好まし
い。このようにシリカ粒子の含有量を制限することによ
り、ハードコート層の硬度を所定範囲に容易に調節する
ことができ、中間層の動きを拘束できることから、結果
として、表面層における耐擦傷性をさらに向上させるこ
とができる。

【０００８】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、ハードコート層（Ａ）に含まれるシリカ粒子が、重
合性不飽和基を有する有機化合物と結合した反応性シリ
カ粒子であることが好ましい。このようなハードコート
層であれば、中間層との間で優れた密着力が得られるた
め、さらに中間層の動きを拘束し、結果として、表面層
における耐擦傷性をさらに向上させることができる。

【０００９】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、ハードコート層（Ａ）が、トリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパント
リオキシエチル（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールペンタ（メタ）アクリレートからなる群から選択
される少なくとも一つの多官能（メタ）アクリレートを
含む紫外線硬化樹脂の硬化物であることが好ましい。こ
のようなハードコート層であれば、中間層との間でさら
に優れた密着力が得られるため、結果として、表面層に
おける耐擦傷性をさらに向上させることができる。ま
た、ハードコート層を紫外線硬化樹脂から形成するので
あれば、迅速に形成することができ、経済的である。

【００１０】また、本発明の反射防止膜積層体を構成す
るにあたり、ハードコート層（Ａ）の硬度（ＪＩＳ Ｋ
５４００準拠）がポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）基材上でＨ以上であることが好ましい。このような
硬度であれば、さらに中間層の動きを拘束し、結果とし
て、表面層における耐擦傷性をさらに向上させることが
できる。

【００１１】また、本発明の積層体を構成するにあた
り、表面抵抗値を１×１０³〜１×１０¹²Ω／□の範囲
内の値とすることが好ましい。このような表面抵抗値で
あれば、構造体が帯電しにくいために、空気中のほこり
等をひきつけることが少なくなる。

【００１２】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、波長４００〜８００ｎｍの反射率が２．０％以下で
あることが好ましい。このような反射率であれば、反射
防止膜積層体等の用途に好適に適用することができる。
なお、この反射率は、上記波長領域における最低反射率
として定義されるものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の構造体の実施形態につ
き、図１に示す反射防止膜積層体２４を例に採って、具
体的に説明する。図１の反射防止膜積層体２４は、基材
１２上に、ハードコート層１８と、高屈折率膜２０と、
低屈折率膜２２とを順次に含む反射防止膜積層体であ
る。なお、上記図１の反射防止膜積層体２４において、
高屈折率膜２０および低屈折率膜２２は、以下の記載に
おいて、それぞれ中間層および表面層を意味する。

【００１４】１．基材 （１）種類 ハードコート層を設けるための基材の種類は特に制限さ
れるものではないが、例えば、ポリエステル樹脂、トリ
アセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリ
ルカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリ
アクリレート樹脂、ノルボルネン樹脂、アクリルスチレ
ン樹脂、およびガラス等からなる基材を挙げることがで
きる。例えば、これらの基材を含む反射防止膜積層体と
することにより、カメラのレンズ部、テレビ（ＣＲＴ）
の画面表示部、あるいは液晶表示装置におけるカラーフ
ィルター等の広範な反射防止膜等の利用分野において、
反射防止効果はもちろんのこと、優れた耐擦傷性や透明
性が得られ、しかも優れた機械的強度や耐久性を得るこ
とができる。

【００１５】（２）厚さ また、基材の厚さを０．０２〜１０ｍｍの範囲内の値と
することが好ましい。この理由は、基材の厚さが０．０
２ｍｍ未満となると、ハードコート層や高屈折率膜を強
固に固定することが困難となる場合があるためであり、
一方、基材の厚さが１０ｍｍを超えると、製造が困難と
なったり、あるいは、構造体が過度に厚くなる場合があ
るためである。したがって、基材の厚さを０．０５〜５
ｍｍの範囲内の値とするのがより好ましく、０．１〜３
ｍｍの範囲内の値とするのがさらに好ましい。

【００１６】２．ハードコート層 （１）ハードコート層用硬化性組成物 また、ハードコート層用硬化性組成物の種類についても
特に制限されるものではないが、光硬化性樹脂組成物
や、熱硬化性樹脂組成物からなる硬化物であることが好
ましい。

【００１７】また、光硬化性樹脂組成物を使用した場
合、例えば、以下の構成成分からなることが好ましい。 シリカ粒子 アクリル化合物 光重合開始剤

【００１８】シリカ粒子 シリカ粒子の種類は特に制限されるものではないが、例
えば、メチルエチルケトン、水およびアルコール等に分
散させたシリカゾル等が好ましい。また、シリカ粒子の
数平均粒子径を５〜３００ｎｍの範囲内の値とすること
が好ましい。この理由は、かかるシリカ粒子の数平均粒
子径が５ｎｍ未満の値となると、ハードコート層の硬度
が低下して、結果として、低屈折率膜における耐擦傷性
の向上が困難となる場合があるためである。一方、かか
るシリカ粒子の数平均粒子径が３００ｎｍを超えると、
分散性が低下して、やはりハードコート層の硬度が低下
する場合があるためである。したがって、シリカ粒子の
数平均粒子径を１０〜２００ｎｍの範囲内の値とするこ
とがより好ましく、２０〜１５０ｎｍの範囲内の値とす
ることがさらに好ましい。なお、シリカ粒子の数平均粒
子径は、電子顕微鏡によって測定される粒径の平均値で
ある。

【００１９】また、シリカ粒子の含有量を、ハードコー
ト層の全体量に対して、５〜７０重量％の範囲内の値と
することが好ましい。この理由は、かかるシリカ粒子の
含有量が５重量％未満の値となると、ハードコート層の
硬度が低下して、結果として、中間層に対する密着力や
拘束力が低下する場合があるためである。一方、かかる
シリカ粒子の含有量が７０重量％を超えると、ハードコ
ート層が脆くなる場合があるためである。したがって、
かかるシリカ粒子の含有量を１０〜６５重量％の範囲内
の値とすることがより好ましく、２０〜６０重量％の範
囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００２０】また、本発明の反射防止膜積層体を構成す
るにあたり、ハードコート層（Ａ）に含まれるシリカ粒
子が、重合性不飽和基を有する有機化合物を結合させた
反応性シリカ粒子であることが好ましい。すなわち、シ
リカ粒子に表面処理を施し、重合性不飽和基を有する有
機化合物を含む反応性シリカ粒子とすることが好まし
い。例えば、アクリル酸エステルと、シラン化合物と
を、イソシアネート化合物を介して反応させて、少なく
ともアルコキシシリル基と、反応性不飽和結合とを有す
る有機化合物を作成し、次いで、それを用いて、シリカ
粒子に表面処理を施すことが好ましい。

【００２１】アクリル化合物 アクリル化合物としては、ラジカル反応性であって光硬
化や熱硬化が可能なことから（メタ）アクリル酸や（メ
タ）アクリル酸エステル、あるいはこれらの誘導体であ
れば、好適に使用することができる。ただし、ハードコ
ート層と、高屈折率膜（中間層）との間で、より優れた
密着力が得られることから、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
オキシエチル（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールペンタ（メタ）アクリレートからなる群から選択さ
れる少なくとも一つの多官能（メタ）アクリレートが好
ましい。

【００２２】光重合開始剤 光重合開始剤としては、光ラジカル発生剤や、光酸発生
剤が挙げられる。また、かかる光重合開始剤の使用量も
特に制限されるものではないが、例えば、アクリル化合
物１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の範囲内
の値とするのが好ましい。この理由は、光重合開始剤の
使用量が０．１重量部未満となると、アクリル化合物の
硬化が不十分となる場合があるためである。一方、光重
合開始剤の使用量が２０重量部を超えると、光重合開始
剤がハードコート層中に残存し、硬度が低下する場合が
あるためである。

【００２３】（２）膜厚 また、ハードコート層の膜厚を１〜３０μｍの範囲内の
値とする。この理由は、ハードコート層の膜厚が１μｍ
未満となると、中間層を強固に固定することが困難とな
り、結果として、表面層の耐擦傷性が向上しない場合が
あるためである。一方、ハードコート層の膜厚が３０μ
ｍを超えると、製造が困難となったり、あるいは、構造
体を構成した場合に、そりが発生したり、あるいはクラ
ックが生じ易くなるためである。したがって、ハードコ
ート層の膜厚を２〜２０μｍの範囲内の値とするのがよ
り好ましく、３〜１０μｍの範囲内の値とするのがさら
に好ましい。

【００２４】（３）硬度 また、ハードコート層の硬度（ＪＩＳ Ｋ５４００に準
拠）をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上で
Ｈ以上とすることが好ましい。この理由は、かかるハー
ドコート層の硬度がＨ未満となると、中間層を強固に固
定することが困難となり、結果として、表面層の耐擦傷
性が向上しない場合があるためである。

【００２５】（４）形成方法 ハードコート層を形成するにあたり、ハードコート層用
硬化性組成物を基材に塗布（コーティング）して、ハー
ドコート層用の塗膜を形成することが好ましい。このよ
うなコーティング方法としては、特に制限されるもので
はないが、例えば、ディッピング法、スプレー法、バー
コート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテン
コート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、また
はインクジェット法等のコーティング方法を用いること
ができる。次いで、全体として強固な塗膜を形成できる
ことから、ハードコート層用硬化性組成物からなる塗膜
を紫外線硬化、あるいは熱硬化することが好ましい。紫
外線硬化する場合、紫外線照射装置（メタルハライドラ
ンプ、高圧水銀ランプ等）を用いて、０．００１〜１０
Ｊ／ｃｍ²の光照射条件の下で行うことが好ましい。こ
の理由は、このような照射条件であれば、適当な硬度を
有するハードコート層が得られる一方、製造時間が過度
に長くなることが無いためである。したがって、照射条
件を、０．０１〜５Ｊ／ｃｍ²とすることがより好まし
く、０．０１〜１Ｊ／ｃｍ²とすることがさらに好まし
い。また、熱硬化する場合には、３０〜１２０℃、１〜
１８０分間の条件で加熱するのが好ましい。この理由
は、このような加熱条件であれば、基材を損傷すること
なく、より効率的にハードコート層を得ることができる
ためである。

【００２６】３．高屈折率膜 （１）高屈折率膜用硬化性組成物１ 高屈折率膜を形成するための高屈折率膜用硬化性組成物
は、特に制限されるものでないが、一例として、以下の
（Ａ）〜（Ｇ）成分から構成してあることが好ましい。 （Ａ）無機酸化物粒子 （Ｂ）水酸基含有重合体 （Ｃ）水酸基と反応し得る官能基および光重合可能な官
能基を併有する化合物 （Ｄ）光重合開始剤 （Ｅ）アクリレート化合物 （Ｆ）硬化触媒 （Ｇ）有機溶剤

【００２７】（Ａ）無機酸化物粒子 （Ａ）成分としての無機酸化物粒子の数平均粒子径を５
〜３００ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。この
理由は、かかる無機酸化物粒子の数平均粒子径が、５ｎ
ｍ未満となると、製造時に、高屈折率膜用硬化性組成物
において無機酸化物粒子を均一に分散させることが困難
となり、その結果、構造体において無機酸化物粒子を均
一に分散させることが困難となる場合があるためであ
る。一方、無機酸化物粒子の数平均粒子径が３００ｎｍ
を超えると、得られる反射防止膜の透明性が低下した
り、濁度（ヘイズ値）が上昇する場合があるためであ
る。したがって、無機酸化物粒子の数平均粒子径を１０
〜２００ｎｍの範囲内の値とすることがより好ましく、
２０〜１００ｎｍの範囲内の値とすることがさらに好ま
しい。

【００２８】また、（Ａ）成分である無機酸化物粒子の
種類は、屈折率の調整の容易さや透明性等を考慮して決
定することが好ましいが、より具体的には、酸化ケイ素
（ＳｉＯ₂、屈折率１．４７）、酸化ジルコニウム（Ｚ
ｒＯ₂、屈折率２．０５）、酸化スズ（ＳｎＯ₂、屈折率
２．００）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ、屈折
率１．９５）、酸化チタン（ＴｉＯ₂、屈折率２．３〜
２．７）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率１．９０）、スズ
ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ、屈折率１．９５）、酸
化セリウム（ＣｅＯ_２、屈折率２．２）、酸化セレン
（ＳｅＯ₂、屈折率１．９５）、酸化アンチモン（Ｓｂ₂
Ｏ₅、屈折率１．７１）、酸化アルミニウム（Ａｌ
₂Ｏ₃、屈折率１．６３）、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃、
屈折率１．８７）、およびアンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ、
屈折率１．９０）等の一種単独または二種以上の組み合
わせが挙げられる。また、無機酸化物粒子に対して、シ
ランカップリング剤処理を施すことが好ましい。このよ
うにカップリング剤処理することにより、高屈折率膜に
おける無機酸化物粒子と、周囲の樹脂との間の結合力を
高めることができ、結果として、低屈折率膜における耐
擦傷性を著しく向上させることができるためである。ま
た、このようにカップリング剤処理することにより、無
機酸化物粒子の分散性を向上させ、製造時における高屈
折率膜用硬化性組成物の保存安定性を向上させることも
可能である。なお、無機酸化物粒子の含有量を、高屈折
率膜の全体量に対して、１０〜９０ｖｏｌ％の範囲内の
値とすることが好ましい。

【００２９】（Ｂ）水酸基含有重合体 （Ｂ）成分は、分子内に水酸基を有する重合体であれ
ば、好適に使用することができる。より具体的には、ポ
リビニルアセタール樹脂（ポリビニルブチラール樹脂、
ポリビニルホルマール樹脂）、ポリビニルアルコール樹
脂、ポリアクリル系樹脂、ポリフェノール系樹脂、フェ
ノキシ樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせが
挙げられる。なお、水酸基含有重合体の添加量を、無機
酸化物粒子１００重量部に対して、１〜１００重量部の
範囲内の値とするのが好ましい。

【００３０】（Ｃ）水酸基と反応し得る官能基および
光重合可能な官能基を併有する化合物 （Ｃ）成分（以下、併有化合物と称する場合がある。）
としては、水酸基と反応し得る官能基（水酸基反応性官
能基と称する場合がある。）と、光重合可能な官能基
（光重合性官能基と称する場合がある。）とをそれぞれ
有する化合物であることが好ましい。このような併有化
合物を添加することにより、光重合性官能基を利用し
て、併有化合物自体を光硬化させることもできるし、あ
るいは、後述するアクリレート化合物と反応させること
もできる。また、水酸基反応性官能基を利用して、加熱
することにより、水酸基含有重合体と併有化合物とを反
応させて、より強固な硬化膜とすることも可能である。
また、併有化合物の具体例としては、t−ブチルアミノ
エチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルア
クリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレー
ト、Ｎ−メタクリロキシ−Ｎ，Ｎ−ジカルボキシメチル
−ｐ−フェニレンジアミン、メラミン・ホルムアルデヒ
ド・アルキルモノアルコール、４−メタクリロキシエチ
ル無水トリメリット酸等の一種単独または二種以上の組
み合わせが挙げられる。なお、併有化合物の添加量を、
無機酸化物粒子１００重量部に対して、１０〜３００重
量部の範囲内の値とするのが好ましい。

【００３１】（Ｄ）光重合開始剤 （Ｄ）成分としては、光ラジカル発生剤や、光酸発生剤
が挙げられる。また、かかる光重合開始剤の使用量も特
に制限されるものではないが、例えば、併有化合物１０
０重量部に対して、０．１〜２０重量部の範囲内の値と
するのが好ましい。

【００３２】（Ｅ）アクリレート化合物 （Ｅ）成分は、（Ｃ）成分中の（メタ）アクリレート化
合物以外の（メタ）アクリレート化合物であって、分子
内に少なくとも一つの（メタ）アクリロイル基を含有す
る化合物である。したがって、その種類は特に制限され
るものではないが、例えば、単官能（メタ）アクリレー
ト化合物および多官能（メタ）アクリレート化合物、あ
るいはいずれか一方の（メタ）アクリレート化合物であ
る。また、アクリレート化合物の添加量についても特に
制限されるものではないが、例えば、無機酸化物粒子１
００重量部あたり、０．０１〜１，０００重量部の範囲
内の値とすることが好ましい。

【００３３】（Ｆ）硬化触媒 （Ｆ）成分は、熱酸発生剤等であって、脂肪族スルホン
酸、脂肪族スルホン酸塩、脂肪族カルボン酸、脂肪族カ
ルボン酸塩、芳香族スルホン酸、芳香族スルホン酸塩、
芳香族カルボン酸、芳香族カルボン酸塩、金属塩、リン
酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合わせが
挙げられる。また、硬化触媒の添加量についても特に制
限されるものではないが、水酸基含有重合体と併有化合
物との合計を１００重量部としたときに、当該硬化触媒
の添加量を０．１〜３０重量部の範囲内の値とするのが
好ましい。

【００３４】（Ｇ）有機溶剤 また、硬化性樹脂組成物において、メチルエチルケトン
（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シ
クロヘキサノン、ｎ−ブタノール、エチルセルソルブ、
乳酸エチル（ＥＬ）、ジアセトンアルコール（ＤＡ
Ａ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧ
ＭＥ）、アセチルアセトン（ＡｃＡｃ）、およびアセト
酢酸エチル（ＥＡｃＡｃ）からなる群から選択される少
なくとも一種の有機溶剤を使用することが好ましい。こ
の理由は、このような有機溶剤を使用することにより、
高屈折率膜用硬化性組成物から高屈折率膜を形成する際
に、高屈折率膜における表面粗さ（Ｒｚ）の制御が容易
となるためである。また、（Ｇ）成分の添加量について
も特に制限されるものではないが、（Ａ）成分の無機酸
化物粒子１００重量部に対し、当該有機溶剤の添加量を
５０〜２０，０００重量部の範囲内の値とするのが好ま
しい。

【００３５】添加剤 高屈折率膜用硬化性組成物には、本発明の目的や効果を
損なわない範囲において、光増感剤、重合禁止剤、重合
開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、
可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、シラ
ンカップリング剤、無機充填剤、顔料、染料等の添加剤
をさらに含有させることも好ましい。

【００３６】（２）高屈折率膜用硬化性組成物２ また、高屈折率膜を形成するための別な高屈折率膜用硬
化性組成物として、以下の（ａ−１）および（ａ−２）
を有機溶媒中で反応させて得られる硬化性組成物である
ことも好ましい。 （ａ−１）１次粒子径が０．１μｍ以下で、粉体抵抗が
１００Ω・ｃｍ以下の導電性金属酸化物粒子 （ａ−２）分子内にウレタン結合［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ
Ｈ−］およびチオウレタン結合［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ
−］、あるいはいずれか一方のウレタン結合と、不飽和
ニ重結合とを有するアルコキシシラン化合物 このような高屈折率膜用硬化性組成物であれば、帯電防
止性、透明性、硬度、耐擦傷性、および密着性に優れる
とともに、高屈折率の塗膜（被膜）を形成することがで
きる。

【００３７】（３）表面粗さ（Ｒ２） 高屈折率膜における表面粗さ、すなわち、ＪＩＳ Ｂ０
６０１に準拠のＲｚをＲ２と定義するとともに、当該Ｒ
２を０．０１〜２μｍの範囲内の値とする。この理由
は、かかる表面粗さが、０．０１μｍ未満の値となる
と、低屈折率膜中に侵入する高屈折率膜の割合が少なく
なり、耐擦傷性が著しく低下するためである。図２およ
び図３に、反射防止膜積層体の断面写真を示すが、高屈
折率膜の一部が、低屈折率膜中に侵入していることが理
解される。一方、かかる表面粗さが２μｍを超えると、
低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくなり、光
散乱が生じやすくなり、結果として、反射率や、透明性
が低下するためである。したがって、表面粗さを０．０
２〜１μｍの範囲内の値とすることが好ましく、０．０
５〜０．５μｍの範囲内の値とすることがさらに好まし
い。

【００３８】また、本発明において、高屈折率膜におけ
る表面粗さ（Ｒ２）と、後述する低屈折率膜の厚さ（Ｄ
１）との比率（Ｒ２／Ｄ１）を０．０６〜２の範囲内の
値とすることが好ましい。この理由は、かかるＲ２／Ｄ
１の比率が、０．０６未満の値となると、低屈折率膜に
対する高屈折率膜の表面粗さの影響が発揮されずに、耐
擦傷性が著しく低下する場合があるためである。一方、
かかるＲ２／Ｄ１の比率が、２を超えると、低屈折率膜
における表面粗さが相対的に大きくなり、光散乱が生じ
やすくなり、結果として、反射率や、透明性が低下する
場合があるためである。したがって、Ｒ２／Ｄ１の比率
を０．２〜２の範囲内の値とすることが好ましく、０．
４〜２の範囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００３９】（４）屈折率 また、高屈折率膜における屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折
率、測定温度２５℃）を１．４５〜２．１の範囲内の値
とするのがより好ましい。この理由は、かかる屈折率が
１．４５未満の値となると、低屈折率膜と組み合わせた
場合に、反射防止効果が著しく低下する場合があるため
であり、一方、２．１を超えると、使用可能な材料が過
度に制限される場合があるためである。したがって、高
屈折率膜の屈折率を、より好ましくは１．５５〜２．０
の範囲内の値とすることであり、１．６〜１．９の範囲
内の値とすることがさらに好ましい。

【００４０】（５）膜厚 また、高屈折率膜の膜厚は特に制限されるものではない
が、例えば、０．０５〜０．５μｍの範囲内の値である
ことが好ましい。この理由は、高屈折率膜の膜厚が０．
０５μｍ未満となると、低屈折率膜と組み合わせた場合
に、反射防止効果や基材に対する密着力が低下する場合
があるためであり、一方、膜厚が０．５μｍを超える
と、製造が困難となったり、あるいは光吸収する割合が
大きくなる場合があるためである。したがって、高屈折
率膜の膜厚を０．１〜０．３μｍの範囲内の値とするの
がより好ましく、０．１２〜０．２μｍの範囲内の値と
するのがさらに好ましい。

【００４１】（６）形成方法 高屈折率膜を形成するに際して、高屈折率膜用硬化性組
成物の塗膜を形成した後、紫外線硬化または電子線硬化
することが好ましい。この場合、例えば、紫外線照射装
置（メタルハライドランプや高圧水銀ランプ等）を用
い、０．００１〜１０Ｊ／ｃｍ²の光照射条件の下で行
うことが好ましい。この理由は、このような照射条件で
あれば、十分硬化した高屈折率膜が得られる一方、製造
時間が過度に長くなることが無いためである。したがっ
て、照射条件を、０．０１〜５Ｊ／ｃｍ²とすることが
より好ましく、０．１〜３Ｊ／ｃｍ²とすることがさら
に好ましい。なお、高屈折率膜用硬化性組成物中の粒子
の種類、平均粒子径、粒子の添加量、溶剤種、あるいは
高屈折率膜の膜厚等の条件を適宜変更することにより、
光照射するだけで高屈折率膜の表面に凹凸を設けること
が可能である。

【００４２】４．低屈折率膜 （１）低屈折率膜用硬化性組成物 低屈折率膜を形成するための低屈折率膜用硬化性組成物
としては、特に制限されるものでないが、一例として、
以下の（ａ）〜（ｄ）成分から構成してあることが好ま
しい。 （ａ）水酸基を有する含フッ素共重合体 （ｂ）水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤 （ｃ）硬化触媒 （ｄ）有機溶剤

【００４３】（ａ）水酸基を有する含フッ素共重合体 （ａ）成分としては、分子内に水酸基を有する含フッ素
共重合体であれば、好適に使用することができる。より
具体的には、フッ素原子を含有する単量体と、水酸基を
含有する単量体とを共重合して得ることができる。ま
た、必要に応じて、これらの単量体以外のエチレン性不
飽和単量体を添加することも好ましい。フッ素原子を含
有する単量体としては、テトラフルオロエチレン、ヘキ
サフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、クロロトリ
フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、テトラフル
オロエチレン、（フルオロアルキル）ビニルエーテル、
（フルオロアルコキシアルキル）ビニルエーテル、パー
フルオロ（アルキルビニルエーテル）、パーフルオロ
（アルコキシビニルエーテル）、フッ素含有（メタ）ア
クリル酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合
わせが挙げられる。なお、フッ素原子を含有する単量体
の配合量は特に制限されるものではないが、例えば、１
０〜９９モル％の範囲内の値であることが好ましく、よ
り好ましくは、１５〜９７モル％の範囲内の値である。

【００４４】また、水酸基を含有する単量体としては、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピル
ビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒ
ドロキシペンチルビニルエーテル、ヒドロキシヘキシル
ビニルエーテル、ヒドロキシエチルアリルエーテル、ヒ
ドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリ
ルエーテル、アリルアルコール、ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリル酸エステル等の一種単独または二種以上の
組み合わせが挙げられる。なお、水酸基を含有する単量
体の配合量は特に制限されるものではないが、例えば、
１〜２０モル％の範囲内の値であることが好ましく、よ
り好ましくは、３〜１５モル％の範囲内の値である。

【００４５】（ｂ）水酸基と反応し得る官能基を有す
る熱硬化剤 水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤（以下、単
に熱硬化剤と称する場合がある。）としては、分子内に
メチロール基およびアルコキシ化メチル基あるいはいず
れか一方を２個以上有するメラミン化合物を使用するこ
とが好ましい。より具体的には、ヘキサメチルエーテル
化メチロールメラミン化合物、ヘキサブチルエーテル化
メチロールメラミン化合物、メチルブチル混合エーテル
化メチロールメラミン化合物、メチルエーテル化メチロ
ールメラミン化合物、ブチルエーテル化メチロールメラ
ミン化合物等のメチロールメラミン化合物等がより好ま
しい。また、熱硬化剤の添加量を、水酸基を有する含フ
ッ素共重合体１００重量部に対して、１〜７０重量部の
範囲内の値とすることが好ましい。

【００４６】（ｃ）硬化触媒 硬化触媒としては、水酸基含有重合体と硬化剤との間の
反応を促進するものであれば、好適に使用することがで
きるが、高屈折率膜用硬化性組成物における硬化触媒と
同様の硬化触媒を使用することが好ましい。また、硬化
触媒の添加量についても特に制限されるものでは無い
が、上述した水酸基を有する含フッ素共重合体と、水酸
基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤との合計量を１
００重量部としたときに、当該硬化触媒の添加量を０．
１〜３０重量部の範囲内の値とするのが好ましい。

【００４７】（ｄ）有機溶剤 低屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機溶剤として
は、高屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機溶剤と同
様の種類を使用することが好ましい。なお、有機溶剤の
添加量を、水酸基を有する含フッ素共重合体１００重量
部に対して、５００〜１０，０００重量部の範囲内の値
とすることが好ましい。

【００４８】（２）表面粗さ 低屈折率膜における表面粗さ、すなわち、ＪＩＳ Ｂ０
６０１に準拠したＲｚをＲ１と定義するとともに、当該
Ｒ１を２μｍ以下の値とすることが好ましい。この理由
は、かかる表面粗さが、２μｍを超えると、耐擦傷性が
著しく低下する場合があるためである。したがって、表
面粗さを１．４μｍ以下の値とすることがより好まし
く、０．０２〜１μｍの範囲内の値とすることがさらに
好ましい。

【００４９】また、低屈折率膜における表面粗さ（Ｒ
１）と、後述する膜厚（Ｄ１）との比率（Ｒ１／Ｄ１）
を０．０１〜２の範囲内の値とすることが好ましい。こ
の理由は、かかるＲ１／Ｄ１の比率が、０．０１未満の
値となると、低屈折率膜の膜厚が相対的に厚くなり、高
屈折率膜の表面粗さの影響が発揮されずに、耐擦傷性が
著しく低下する場合があるためである。一方、かかるＲ
１／Ｄ１の比率が、２を超えると、低屈折率膜における
表面粗さが相対的に大きくなり、光散乱が生じやすくな
り、結果として、反射率や、透明性が低下する場合があ
るためである。したがって、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．０
１４〜１の範囲内の値とすることが好ましく、０．０１
４〜０．８の範囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００５０】また、低屈折率膜における表面粗さ（Ｒ
１）と、上述した高屈折率膜における表面粗さ（Ｒ２）
との比率（Ｒ１／Ｒ２）を０．００５〜１の範囲内の値
とすることが好ましい。この理由は、かかるＲ１／Ｒ２
の比率が０．００５未満の値となると、低屈折率膜に対
する高屈折率膜の表面粗さの影響が発揮されずに、耐擦
傷性が著しく低下するためである。一方、かかるＲ１／
Ｒ２の比率が１を超えると、低屈折率膜における表面粗
さが相対的に大きくなるとともに光散乱が生じやすくな
り、結果として、反射率や、透明性が低下する場合があ
るためである。したがって、Ｒ１／Ｒ２の比率を０．１
〜１の範囲内の値とすることが好ましく、０．２〜１の
範囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００５１】（３）屈折率 低屈折率膜における屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定
温度２５℃）を１．３５〜１．５０の範囲内の値とする
のがより好ましい。この理由は、かかる屈折率が１．３
５未満の値となると、使用可能な材料の種類が過度に制
限される場合があり、一方１．５を超えると、高屈折率
膜と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下す
る場合があるためである。したがって、低屈折率膜の屈
折率を、１．３〜１．４５の範囲内の値とすることがよ
り好ましく、１．３〜１．４２の範囲内の値とすること
がさらに好ましい。

【００５２】（４）膜厚（Ｄ１） また、低屈折率膜の膜厚（Ｄ１）についても特に制限さ
れるものではないが、例えば、０．０５〜２μｍの範囲
内の値であることが好ましい。この理由は、低屈折率膜
の膜厚が０．０５μｍ未満の値となると、下地としての
高屈折率膜に対する密着力や擦傷性が低下する場合があ
るためである。一方、かかる膜厚が２μｍを超えると、
形成するのが困難となる場合があるとともに、高屈折率
膜における表面粗さを低屈折率膜に反映する効果が低下
する場合があるためである。したがって、低屈折率膜の
膜厚を０．０５〜０．５μｍの範囲内の値とすることが
より好ましく、０．０５〜０．３μｍの範囲内の値とす
ることがさらに好ましい。

【００５３】（５）表面抵抗 また、構造体の表面抵抗値を１×１０³〜１×１０¹²Ω
／□の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、
かかる表面抵抗値が１×１０³Ω／□未満の値となる
と、使用可能な導電材料の種類が過度に制限されたり、
あるいは、導電材料の添加量を多くしなければならない
場合があるためである。一方、かかる表面抵抗値が１×
１０ ¹²Ω／□を超えると、帯電しやすくなり、空気中の
ほこりを引き付けやすくなるためである。したがって、
かかる表面抵抗値を１×１０³〜１×１０¹¹Ω／□の範
囲内の値とすることが好ましく、１×１０³〜１×１０
¹⁰Ω／□の範囲内の値とすることがより好ましい。な
お、かかる表面抵抗値は、低屈折率膜や高屈折率膜に導
電材料を添加したり、これらの膜中の親水性基量を調節
することにより、容易に達成することができる。

【００５４】（６）形成方法 低屈折率膜を形成するにあたり、低屈折率膜用硬化性組
成物を高屈折率膜上に例えば、ディッピング法、スプレ
ー法、バーコート法等を用いて、塗布（コーティング）
し、低屈折率膜形成用の塗膜を形成することが好まし
い。次いで、高屈折率膜の一部と反応させて、全体とし
て強固な塗膜を形成できることから、低屈折率膜用硬化
性組成物からなる塗膜を熱硬化することが好ましい。こ
の場合、３０〜１２０℃で、１〜１８０分間の条件で加
熱するのが好ましい。この理由は、このような加熱条件
であれば、基材や形成される反射防止膜を損傷すること
なく、より効率的に反射防止性に優れた反射防止膜積層
体を得ることができるためである。

【００５５】

【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、
本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるもので
はない。また、実施例中、各成分の配合量は特に記載の
ない限り重量部を意味している。

【００５６】［実施例１］ （１）低屈折率膜用硬化性組成物の調製 水酸基を有する含フッ素重合体の調製 内容積１．５リットルの電磁攪拌機付きステンレス製オ
ートクレーブ内を窒素ガスで十分置換処理した後、酢酸
エチル５００ｇと、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）３
４．０ｇと、ヒドロキシエチルビニルエーテル（ＨＥＶ
Ｅ）４１．６ｇと、パーフルオロプロピルビニルエーテ
ル（ＦＰＶＥ）７５．４ｇと、過酸化ラウロイル１．３
ｇと、シリコーン含有高分子アゾ開始剤（和光純薬工業
（株）製、商品名：ＶＰＳ１００１）７．５ｇと、反応
性乳化剤（旭電化工業（株）製、商品名：ＮＥ−３０）
１ｇとを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃
まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去し
た。次いで、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）１１
９．０ｇをさらに仕込み、昇温を開始した。オートクレ
ーブ内の温度が７０℃に達した時点での圧力は、５．５
×１０⁵Ｐａを示した。その後、攪拌しながら、７０
℃、２０時間の条件で反応を継続し、圧力が２．３×１
０⁵Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反
応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放
出し、オートクレーブを開放し、固形分濃度３０重量％
のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液を、メタ
ノールに投入し、ポリマーを析出させた後、メタノール
によりさらに洗浄し、５０℃で真空乾燥を行い、１７０
ｇの水酸基を有する含フッ素重合体を得た。

【００５７】得られた水酸基を有する含フッ素重合体に
ついて、固有粘度（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶剤
使用、測定温度２５℃）を測定したところ、０．２８ｄ
ｌ／ｇであった。また、かかる含フッ素重合体につい
て、ガラス転移温度を、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を
用い、昇温速度５℃／分、窒素気流中の条件で測定した
ところ、３１℃であった。また、かかる含フッ素重合体
について、フッ素含量を、アリザリンコンプレクソン法
を用いて測定したところ、５１．７％であった。さら
に、かかる含フッ素重合体について、水酸基価を、無水
酢酸を用いたアセチル化法により測定したところ、１０
２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【００５８】低屈折率膜用硬化性組成物の調製 攪拌機付の容器内に、で得られた水酸基を有する含フ
ッ素共重合体１００ｇと、サイメル３０３（三井サイテ
ック（株）製、アルコキシ化メチルメラミン化合物）１
１．１ｇと、メチルイソブチルケトン（以下、ＭＩＢＫ
と称する。）３，７３６ｇとをそれぞれ添加し、１１０
℃、５時間の条件で攪拌し、水酸基を有する含フッ素共
重合体とサイメル３０３とを反応させた。次いで、キャ
タリスト４０４０（三井サイテック（株）製、固形分濃
度４０重量％）１１．１ｇをさらに添加し、１０分間攪
拌して、粘度１ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）の低屈折
率膜用硬化性組成物（以下、塗布液Ａと称する場合があ
る。）を得た。

【００５９】なお、得られた低屈折率膜用硬化性組成物
から得られる低屈折率膜の屈折率を測定した。すなわ
ち、低屈折率膜用硬化性組成物を、ワイヤーバーコータ
（＃３）を用いて、シリコンウエファ（膜厚１μｍ）上
に塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。次
いで、熱風乾燥器中において、１４０℃、１分間の条件
で塗膜を加熱硬化させ、０．３μｍの膜厚の低屈折率膜
を形成した。得られた低屈折率膜におけるＮａ−Ｄ線の
屈折率を、測定温度２５℃の条件で、分光エリプソメー
ターを用いて測定した。その結果、屈折率は１．４０で
あった。なお、膜厚の評価は断面切片の透過型電子顕微
鏡での観察より求め、界面が平坦でない塗膜の膜厚はＪ
ＩＳ Ｂ０６０１で規定される粗さ曲線での測定長１μ
ｍとして求めた平均線間の距離で定義した。

【００６０】（２）高屈折率膜用硬化性組成物の調製 反応性アルコキシシランの製造 容器内のメルカプトプロピルトリメトキシシラン７．８
ｇと、ジブチルスズジラウレート０．２ｇとからなる溶
液に対し、イソホロンジイソシアネート２０．６ｇを、
乾燥空気中、５０℃、１時間の条件で滴下した後、６０
℃、３時間の条件で、さらに攪拌した。これにペンタエ
リスリトールトリアクリレート７１．４ｇを、３０℃、
１時間の条件で滴下した後、６０℃、３時間の条件で、
さらに攪拌し、反応液とした。この反応液中の生成物、
すなわち反応性アルコキシシランにおける残存イソシア
ネート量をＦＴ−ＩＲで測定したところ、０．１重量％
以下であり、各反応がほぼ定量的に行われたことを確認
した。また、分子内に、チオウレタン結合と、ウレタン
結合と、アルコキシシリル基と、反応性不飽和結合とを
有することを確認した。

【００６１】高屈折率膜用硬化性組成物の調製 攪拌機付きの容器内に、アンチモンドープ酸化錫分散液
（石原テクノ（株）製、ＳＮＳ−１０Ｍ、分散溶媒メチ
ルエチルケトン、アンチモンドープ酸化錫含量２７．４
重量％、固形分３０重量％、動的光散乱法による重量平
均粒子径４０ｎｍ、数平均粒子径２２ｎｍ、以下、ＡＴ
Ｏ微粒子分散液と称する場合がある。）２６０ｇと、
で製造した反応性アルコキシシラン２５ｇと、蒸留水
０．３ｇと、ｐ−ヒドロキシフェニルモノメチルエーテ
ル０．０３ｇとを混合し、６５℃で、加熱攪拌した。５
時間後、オルト蟻酸メチルエステル８ｇを添加し、さら
に１時間加熱した。これに光重合開始剤として、イルガ
キュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ（株）
製）６．１ｇと、ＭＩＢＫ１，７０８ｇとを添加して、
高屈折率膜用硬化性組成物（固形分５重量％、固形分中
のＡＴＯ微粒子量７８重量％、以下、塗布液Ｂと称する
場合がある。）を得た。なお、得られた高屈折率膜用硬
化性組成物の屈折率および表面粗さ（Ｒ２）を、低屈折
率膜用硬化性組成物と同様に測定した。得られた結果を
表１に示す。

【００６２】（３）ハードコート層用硬化性組成物の調
製 乾燥空気下、（２）で製造した反応性アルコキシシラ
ン８．７ｇと、メチルエチルケトン分散シリカゾル（日
産化学工業（株）製、商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径
２２ｎｍ、シリカ濃度３０重量％）９１．３ｇと、イソ
プロピルアルコール０．２ｇと、イオン交換水０．１ｇ
とからなる混合液を、８０℃、３時間の条件で攪拌後、
オルト蟻酸メチルエステル１．４ｇを添加し、さらに１
時間同一温度で攪拌した。室温まで冷却後、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート（新中村化学工業（株）
製、商品名：ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ）２１．９ｇ
と、トリメチロ−ルプロパントリオキシエチルアクリレ
−ト（新中村化学工業（株）製、商品名ＮＫエステルＡ
−ＴＭＰＴ−３ＥＯ）１０．９５ｇと、１−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン（チバスペシャルティケ
ミカルズ（株）製、商品名：イルガキュア１８４）３．
２７ｇを混合して、ハードコート層用硬化性組成物（以
下、塗布液Ｃと記載する場合がある。）を調製した。

【００６３】（４）構造体（反射防止膜積層体）の作製 得られた塗布液Ｃを、ワイヤーバーコータ（＃２０）を
用いて、ポリエステルフィルムＡ４３００（東洋紡績
（株）製、膜厚１８８μｍ、）上に塗工し、オーブン
中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。
次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．
３Ｊ／ｃｍ²の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜
厚１０μｍのハードコート層を形成した。次いで、得ら
れた塗布液Ｂを、ワイヤーバーコータ（＃１２）を用い
て、ハードコート層上に塗工し、オーブン中、８０℃、
１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。次いで、大気
中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ²
の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜厚０．１μｍ
の高屈折率膜を形成した。さらに、得られた塗布液Ａ
を、高屈折率膜上に、ワイヤーバーコータ（＃３）を用
いて塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。
この塗膜を、オーブンを用いて１４０℃、１分の条件で
加熱し、膜厚０．１μｍの低屈折率膜を形成し、反射防
止膜積層体を得た。

【００６４】（５）表面粗さ（Ｒｚ）の測定 低屈折率膜（表面層）、高屈折率膜（中間層）およびハ
ードコート層における表面粗さ（Ｒｚ）を、ＪＩＳ Ｂ
０６０１に準拠して測定し、それぞれＲ１、Ｒ２、Ｒ３
とした。すなわち、構造体フィルムの断面切片を透過型
電子顕微鏡での観察より求め、測定長１μｍでの各層に
おける表面粗さＲ１、Ｒ２、Ｒ３として求めた。また、
Ｒｚに面内での方向性が有る場合は、水平面のｘ軸方向
のＲｚｘとｙ軸方向のＲｚｙの平均をそれぞれＲ１、Ｒ
２、Ｒ３として定義した。得られた結果を表１に示す。

【００６５】（６）反射防止膜積層体の評価 得られた反射防止膜積層体における耐擦傷性を以下の基
準で評価した。また、得られた反射防止膜積層体におけ
る耐擦傷性、反射率、濁度（ヘイズ値）、全光線透過率
および可撓性を下記に示す測定法により測定した。

【００６６】耐擦傷性 得られた反射防止膜積層体の表面を＃００００スチール
ウールにより、荷重２００ｇ／ｃｍ²の条件で３０回こ
すり、反射防止膜積層体の耐擦傷性を以下の基準から目
視にて評価した。得られた結果を表１に示す。 評価５：傷の発生が全く観察されなかった。 評価４：１〜５本の傷の発生が観察された。 評価３：６〜５０本の傷の発生が観察された。 評価２：５１〜１００本の傷の発生が観察された。 評価１：塗膜剥離が観察された。 なお、評価３以上の耐擦傷性であれば、実用上許容範囲
であり、評価４以上の耐擦傷性であれば実用上の耐久性
が優れていることから好ましく、評価５の耐擦傷性であ
れば、実用上の耐久性が著しく向上することからさらに
好ましいといえる。

【００６７】反射率 得られた反射防止膜積層体における反射率（測定波長域
における最低反射率）を、分光反射率測定装置（大型試
料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ分
光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製）により、
ＪＩＳ Ｋ７１０５（測定法Ａ）に準拠して、波長３４
０〜７００ｎｍの範囲で測定した。すなわち、アルミの
蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、各波
長における反射防止膜積層体（反射防止膜）における最
低反射率を測定した。得られた結果を表１に示す。

【００６８】濁度（ヘイズ値）および全光線透過率 得られた反射防止膜積層体につき、カラーヘイズメータ
ー（スガ試験機（株）製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０
５に準拠してヘイズ値および全光線透過率を測定した。
得られた結果を表１に示す。

【００６９】可撓性 得られた反射防止膜積層体を、直径２５ｍｍのアルミ棒
に巻きつけて、反射防止膜積層体に発生するクラックの
有無を、以下の基準により、目視で判定した。得られた
結果を表１に示す。 ○：クラックが全く発生しない。 △：クラックが１〜２本発生した。 ×：クラックが３本以上発生した。

【００７０】［実施例２〜４および比較例１〜２］実施
例２〜４および比較例１〜２では、ハードコート層の厚
さの影響を検討した。すなわち、表１に示すように、実
施例１におけるハードコート層の厚さを１０μｍから、
１μｍ（実施例２）、３μｍ（実施例３）、および５μ
ｍ（実施例４）にそれぞれ変更した反射防止膜積層体に
ついて、耐擦傷性等の評価を行った。一方、比較例１で
は、表１に示すように、ハードコート層の厚さを０．０
５μｍと本発明の下限以下の値とし、比較例２では、同
様にハードコート層の厚さを６０μｍと本発明の上限を
超える値とした以外は、実施例１と同様の反射防止膜積
層体を作製して、耐擦傷性等の評価を行った。得られた
結果を表１に示す。

【００７１】

【表１】

【００７２】［実施例５〜７および比較例３］実施例５
〜７では、ハードコート層に添加するシリカ粒子の数平
均粒子径の影響を検討した。すなわち、表２に示すよう
に、実施例１におけるハードコート層に添加するシリカ
粒子の数平均粒子径を２２ｎｍから、１００ｎｍ（実施
例５）、２００ｎｍ（実施例６）、および３００ｎｍ
（実施例７）にそれぞれ変更して構成した反射防止膜積
層体について、耐擦傷性等の評価を行った。一方、比較
例３では、表２に示すように、ハードコート層に添加す
るシリカ粒子の数平均粒子径を１，０００ｎｍと本発明
の上限を超える値とした以外は、実施例１と同様の反射
防止膜積層体を作製して、耐擦傷性等の評価を行った。
得られた結果を表２に示す。

【００７３】

【表２】

【００７４】［実施例８〜１０］実施例８〜１０では、
ハードコート層に添加するシリカ粒子に対する表面処理
の影響を検討した。すなわち、表３に示すように、実施
例１におけるハードコート層に添加したアクリル変性し
たシリカ粒子を、ジメチルジメトキシシラン（東レ・ダ
ウコーニング・シリコーン（株）製、商品名：ＡＹ−４
３−００４）で表面処理したシリカ粒子（実施例８）、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（東レ・
ダウコーニング・シリコーン（株）製、商品名：ＳＨ６
０４０）で表面処理したシリカ粒子（実施例９）、およ
び表面処理を施していないシリカ粒子（実施例１０）に
それぞれ変更して構成した反射防止膜積層体について、
耐擦傷性等の評価を行った。得られた結果を表３に示
す。

【００７５】

【表３】

【００７６】［実施例１１〜１３］実施例１１〜１３で
は、ハードコート層に添加するシリカ粒子の添加量およ
び硬度の関係を検討した。すなわち、表４に示すよう
に、実施例１におけるハードコート層に添加するシリカ
粒子の添加量を、３７重量％から、１９重量％（実施例
１１）、５６重量％（実施例１２）、および６６重量％
（実施例１３）にそれぞれ変更して構成した反射防止膜
積層体について、耐擦傷性や硬度等の評価を行った。得
られた結果を表４に示す。

【００７７】

【表４】

【００７８】［実施例１４〜１６］実施例１４〜１６で
は、ハードコート層を構成する紫外線硬化樹脂に含まれ
るアクリル酸エステルの種類の影響を検討した。すなわ
ち、表５に示すように、実施例１で使用したアクリル酸
エステルとしてのトリメチロールプロパントリアクリレ
ート（ＴＭＰＴＡと略する。）およびトリメチロールプ
ロパントリオキシエチルアクリレート（ＥＯ−ＴＭＰＴ
Ａと略する。）を、ＴＭＰＴＡ単独（実施例１４）、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡと
略する。）（実施例１５）、およびペンタエリスリトー
ルトリアクリレート（ＰＥＴＡと略する。）（実施例１
６）にそれぞれ変更して構成した反射防止膜積層体につ
いて、耐擦傷性等の評価を行った。得られた結果を表５
に示す。

【００７９】

【表５】

【００８０】

【発明の効果】本発明の構造体によれば、基材上に、特
定の（Ａ）ハードコート層と、（Ｂ）中間層と、（Ｃ）
表面層とを含み、（Ａ）〜（Ｃ）層の構成内容を考慮す
るとともに、（Ｂ）層における表面粗さの値を考慮する
ことにより、簡易な構造でありながら、耐擦傷性や透明
性に優れた構造体を提供することができるようになっ
た。したがって、屈折率を低下させるために表面層にフ
ッ素化合物や、ケイ素化合物の耐擦傷性に乏しい樹脂を
使用したとしても、本発明により、透明性を損なうこと
なく、優れた耐擦傷性を示す構造体を提供することがで
きるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止膜積層体例の断面図である。

【図２】本発明の反射防止膜積層体の断面写真である
（その１）。

【図３】本発明の反射防止膜積層体の断面写真である
（その２）。

【符号の説明】

１２ 基材 １３ 高屈折率膜の侵入部分 １８ ハードコート層 ２０ 高屈折率膜（中間層） ２２ 低屈折率膜（表面層） ２４ 反射防止膜積層体

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｚ 7/12 7/12 201/00 201/00 Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ 1/10 Ｚ Ｆターム(参考） 2K009 AA02 AA15 BB24 CC03 CC09 CC24 CC26 DD02 4F100 AA17B AA28 AA29 AA33 AB11C AH05A AH06A AK02C AK17 AK17J AK21 AK21J AK25C AK41 AK51 AK51J AK52 AK52J AL01 AL06C AT00D BA03 BA07 BA10A BA10C BA10D DD07B DE01B DE01C EJ54C GB41 JA20 JB14C JK09 JK12C JM02A JM02B JM02C JN01 JN18A JN18B 4J037 AA18 CC16 CC26 CC28 DD05 EE02 EE11 FF17 FF18 4J038 FA121 HA446 KA08 KA14 KA20 MA14 NA01 NA05 NA10 NA11 NA14 NA19 NA21 PA17

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記（Ａ）〜（Ｃ）層を積層してなる構
   造体。 （Ａ）数平均粒子径５〜３００ｎｍのシリカ粒子を含有
   する膜厚１〜３０μｍのハードコート層 （Ｂ）数平均粒子径５〜３００ｎｍの無機酸化物粒子を
   含有する膜厚０．０５〜０．５μｍの中間層であって、
   表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠）が０．０１
   〜２μｍである中間層 （Ｃ）フッ素化合物およびケイ素化合物、あるいはいず
   れか一方の化合物を含有する膜厚０．０５〜０．５μｍ
   の表面層
2. 【請求項２】 前記ハードコート層（Ａ）に含まれるシ
   リカ粒子の含有量を５〜７０重量％の範囲内の値とする
   ことを特徴とする請求項１に記載の構造体。
3. 【請求項３】 前記ハードコート層（Ａ）に含まれるシ
   リカ粒子が、重合性不飽和基を有する有機化合物と結合
   した反応性シリカ粒子であることを特徴とする請求項１
   または２に記載の構造体。
4. 【請求項４】 前記ハードコート層（Ａ）が、トリメチ
   ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
   ールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、
   ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、
   ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートから
   なる群から選択される少なくとも一つの多官能（メタ）
   アクリレートを含む紫外線硬化樹脂の硬化物であること
   を特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の構造
   体。
5. 【請求項５】 前記ハードコート層（Ａ）の硬度（ＪＩ
   Ｓ Ｋ５４００準拠）がポリエチレンテレフタレート
   （ＰＥＴ）基材上でＨ以上であることを特徴とする請求
   項１〜４のいずれか一項に記載の構造体。
6. 【請求項６】 表面抵抗値を１×１０³〜１×１０¹²
   Ω／□の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜
   ５のいずれか一項に記載の構造体。
7. 【請求項７】 波長４００〜８００ｎｍの反射率が２．
   ０％以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれ
   か一項に記載の構造体。