JP2004272198A - 反射防止積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光透過性を有する基材フィルムの少なくとも一面側に、直接、或いは他の層を介して内部、及び/又は表面にナノポーラス構造を有する低屈折率組成物をコーティングしてなる低屈折率層が形成された反射防止積層体であり、且つ、ナノポーラス構造を有する低屈折率組成物は、少なくとも、(A)分子中にフッ素原子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物と、(B)塗工液に調製するための液状媒体中に分散させることが可能で且つ平均粒子径5nm〜300nmの微粒子とからなる。
【選択図】 なし
Description
本発明に用いる低屈折率組成物におけるバインダー成分には、フッ素原子を含み、且つ数平均分子量が2万以上の電離放射線で効果するポリマーと、1分子中に3個以上の電離放射線で効果する官能基を有するフッ素含有及び/又は非含有のモノマーが含まれることが望ましい。該樹脂組成物は、低屈折率組成物に成膜性(皮膜形成能)と低い屈折率を付与するためのバインダー成分である電離放射線硬化型のフッ素原子を含有するモノマー及び/又はポリマーを含む。本発明で使用するフッ素原子含有電離放射線硬化型樹脂組成物は、電離放射線で硬化する官能基(単に「電離放射線硬化性基」と呼ぶことがある)を有するか、或いは、電離放射線硬化性官能基を有することに加えて、熱により硬化する官能基(単に「熱硬化性基」と呼ぶことがある)も有するので、該樹脂組成物を含有する塗工液を被塗工体の表面に塗布し、乾燥し、電離放射線の照射、又は電離放射線の照射と加熱を行うと、塗膜内に架橋結合等の化学結合を形成し、塗膜を効率よく硬化させることができる。
その他にも、旭硝子(株)製の商品名サイトップといった市販品を例示することができる。
具体的には、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート等のジアクリレート;トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の多官能(メタ)アクリレート、或いは、これらのラジカル重合性モノマーが重合したオリゴマーを例示することができる。これらのフッ素非含有モノマー及び/又はオリゴマーは、2種以上を組み合わせて用いても良い。
(B)成分としての微粒子には、「空隙を有する微粒子」が好ましく使用される。「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造をとった結果、或いは微粒子が集合体を形成した結果、気体が屈折率1.0の空気である場合、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の空気の占有率に反比例して屈折率が低下した微粒子及びその集合体のことを言う。例えば、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムや表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子や、断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子のうち、本発明に使用できる平均粒子径の範囲のものが好ましく使用できる。
本発明による反射防止積層体の低屈折率層は、さらに、分子中にフッ素原子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物および微粒子の何れに対しても相溶性を有するフッ素系および/またはケイ素系化合物を含んでなることが好ましい。このようにフッ素系化合物等を含むことにより、最表面に用いられる塗膜表面の平坦化や反射防止積層体に必要とされる防汚性、耐擦傷性向上に効果がある滑り性を付与することができる。
上記フッ素系化合物は市販の製品として入手することができ、例えば、日本油脂製モディパーFシリーズ(商品名)、大日本インキ化学工業社製ディフェンサMCFシリーズ(商品名)等が好ましく用いられる。
で示される構造を有することが好ましい。
このような化合物は、市販の製品として入手することができ、例えば、フルオロアルキル基をもつシリコーンオイルFL100(商品名:信越化学工業社製) や、ポリエーテル変性シリコーンオイルTSF4460 (商品名、GE東芝シリコーン社製) 等、目的に合わせて種々の変性シリコーンオイルを入手できる。
Rcn SiX4-n
(式中、Rcはパーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、またはパーフルオロアルキルエーテル基を含む炭素数3〜1000の炭化水素基を示し、Xはメトキシ基、エトキシ基、もしくはプロポキシ基等の炭素数1〜3のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、もしくはメトキシエトキシ基等のオキシアルコキシ基、または、クロル基、ブロモ基もしくはヨード基等のハロゲン基等の加水分解性基であり、同一でも異なっていてもよく、nは1〜3の整数を示す。)
で示される構造であってもよい。
このような加水分解性基を含むことにより、特に無機成分の微粒子を用いた場合、微粒子表面の水酸基と共有結合や水素結合を形成し易く、密着性を保持できるという効果がある。
このような化合物として、具体的には、TSL8257(商品名:GE 東芝シリコーン社製)等のフルオロアルキルシランが挙げられる。
(上記一般式(4)は、アルミニウム化合物、および/またはそこから誘導されるオリゴマーおよび/または錯体や無機または有機酸のアルミニウム塩の中から選定することができる。ここで、残基Rは、同一でも異なってもよく、ハロゲン、炭素数10以下、好ましくは4以下のアルキル、アルコキシ、もしくはアシルオキシ、またはヒドロキシであり、これらの基は全部または一部がキレート配位子により置き換えられていてもよいものである。)
具体的には、アルミニウム-sec- ブトキシド、アルミニウム-iso- プロポキシド、及びそのアセチルアセトン、アセト酢酸エチル、アルカノールアミン類、グリコール類、及びその誘導体との錯体等を挙げることができる。
フッ素原子含有バインダー成分として液状のフッ素原子含有モノマー及び/又はオリゴマーを比較的多量に用いる場合には、当該フッ素原子含有モノマー及び/又はオリゴマーが塗工液に調製するための液状媒体としても機能し得るので、溶剤を用いなくてもコーティング組成物の固形成分を溶解、分散、又は希釈して塗工液の状態に調製できる場合がある。従って、本発明において溶剤は必ずしも必要ではないが、固形成分を溶解分散し、濃度を調整して、塗工適性に優れた塗工液を調製するために溶剤を使用する場合が多い。
上記各成分を用いて本発明で使用するコーティングのための低屈折率組成物を調製するには、塗工液の一般的な調製法に従って分散処理すればよい。例えば、各必須成分及び各所望成分を任意の順序で混合し、得られた混合物にビーズ等の媒体を投入し、ペイントシェーカーやビーズミル等で適切に分散処理することにより、コーティングのための低屈折率組成物が得られる。
本発明で使用する低屈折率組成物を用いて塗膜を形成するには、(A)(B)成分及びその他の成分を含有するを塗工液を被塗工体の表面に塗布し乾燥し、電離放射線、及び/又は加熱により硬化させ、(A)成分及び(B)成分を主体として含有する皮膜の硬化物とする。
次に、本発明の反射防止積層体の具体例について説明する。本発明の反射防止積層体は、光透過性を有する基材の少なくとも一面側に、直接、或いは他の層を介して、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異なる層(光透過層)を一層以上積層してなる、単層型又は多層型反射防止膜のうちの少なくとも一層を低屈折率層としたものである。該反射防止積層体は、反射防止フィルムとして用いることができる。なお、本発明においては、多層型反射防止膜の中で最も屈折率の高い層を高屈折率層と称し、最も屈折率の低い層を低屈折率層と称し、それ以外の中間的な屈折率を有する層を中屈折率層と称する。基材及び光透過層は、反射防止フィルムの材料として使用できる程度の光透過性を有する必要があり、できるだけ透明に近いものが好ましい。
本発明の反射防止積層体におけるハードコート層は、電離放射線硬化型樹脂組成物を使用して形成することが望ましい。尚、本明細書において、「ハードコート層」とは、JIS5600−5−4:1999で示される鉛筆硬度試験でH以上の硬度を示すものをいう。
本発明の反射防止積層体におけるハードコート層は、次に説明する防眩性を有していてよもいし、ハードコート層とは別に防眩層を設けてもよい。
本発明の反射防止積層体には、静電気の発生がなくゴミの付着防止や液晶ディスプレイなどに組みこまれた際の外部からの静電気障害を受けない効果を付与するために必要に応じて帯電防止層を形成してもよい。この場合の帯電防止層の性能としては反射防止積層体形成後の表面抵抗が1012Ω/□以下となることが好ましい。しかし1012 Ω/□以上であっても、帯電防止層を設けていないものに比べて、埃付着性を防止することができる。
ハードコート層と前記低屈折率層との間に、屈折率が1.46〜2.00の範囲で、かつ膜厚が0.05〜0.15μmの範囲である乃至高屈折率層が、少なくとも一層以上設けられることが反射防止性において望ましい。
低屈折率層の基材側と反対の側の面に、低屈折率層の表面の防汚の目的で防汚層が設けられていてもよい。防汚層は、低屈折率層の基材側と反対の側の面に設けることで、反射防止膜の防汚性や耐擦傷性に効果があるものの、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物への相溶性が低く、低屈折率層中に添加できないフッ素系および/またはケイ素化合物や、前記分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物および微粒子の何れに対しても相溶性を有するフッ素系および/またはケイ素系化合物を使用しても良く、低屈折率層の基材側と反対の側の面に設けることで、反射防止積層体に必要とされる防汚性、耐擦傷性の更なる性能向上が期待できる。
本発明の反射防止積層体は、特に、液晶表示装置(LCD)や陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等の画像表示装置の表示面を被覆する多層型反射防止膜の少なくとも一層、特に低屈折率層を形成するのに好適に用いられる。
下記組成の成分を配合して低屈折率層用コーティング組成物を調製した。
光重合開始剤(イルガキュア907:商品名、チバスペシャリティーケミカルズ製) 0. 1質量部
多孔質シリカ微粒子(Nipsil SS50F:商品名、日本シリカ工業(株)製、一次粒子径20nm、屈折率1.38、比表面積82m2 /g) 1.43質量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製) 0.4質量部
ハードコート層の形成
下記成分を混合してハードコート層形成用コーティング組成物を調製し、得られたハードコート層形成用コーティング組成物を透明基材上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)、光源Hバルブ)を用いて、照射線量108mJ/cm2 で紫外線照射を行い、ハードコート層を硬化させて、膜厚2〜5μmの基材/ハードコートフィルムを得た。
光重合開始剤(イルガキュア184:商品名、チバスペシャリティーケミカルズ製) 0.25質量部
メチルイソブチルケトン 94.75質量部
低屈折率層の形成
厚み80μmのトリアセテートセルロース(TAC)フィルム上に,上記組成のハードコート層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後,紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株),光源Hパルプ)を用いて、照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い,ハードコート層を硬化させて、膜厚約5μmのハードコート層を有する、基材/ハードコート層フィルムを得た。
2−1 凝集粒子の微粒化処理
下記組成の成分を混合して三本ロールで凝集シリカ粒子を平均粒子径100nmになるまで粉砕した。粉砕後の凝集シリカ粒子の屈折率は1.36であった。 ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 0.72質量部
凝集シリカ微粒子(Nipsil E220A:商品名、日本シリカ工業(株)製、一次粒子径20nm、粒子径1.5μm、比表面積150m2/ g) 1.43質量部
2−2 低屈折率層用コーティング組成物の調製
上記工程で得られた凝集シリカを分散したモノマー溶液に対し、以下の成分を混合して低屈折率層用コーティング組成物を調製した。
光重合開始剤(イルガキュア907:商品名、チバスペシャリティーケミカルズ製) 0.1質量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製) 0.4質量部
ハードコート層の形成
前記実施例1と同様にして透明基材上にハードコート層を形成した。
前記工程で得られた透明基材/ハードコートフィルム上に、前記で調製した低屈折率層用コーティング組成物を塗布し、前記実施例1と同様にして基材/ハードコート層/低屈折率層フィルムを得た。
光重合開始剤(イルガキュア907:商品名、チバスペシャリティーケミカルズ製) 0.1質量部
多孔質シリカ微粒子(Nipsil SS50F:商品名、日本シリカ工業(株)製、一次粒子径20nm、屈折率1.38、比表面積82m2 /g) 1.43質量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製)0.4質量部
TSF4460(商品名、GE東芝シリコーン(株)製) 0.12質量部
下記組成の成分を混合して帯電防止層形成用組成物を調製した。
(固形分45%、ペルトロンC−4456S−7:商品名、日本ペルノックス製)
25質量部
HDDA(KS−HDDA:商品名、日本化薬製) 10.5質量部
イルガキュア184(商品名、チバスペシャルティケミカルズ製) 0.84質量部
酢酸ブチル 76.5質量部
シクロヘキサノン 32.8質量部
積層体(基材/帯電防止層/ハードコート層/低屈折率層)の作製
上記組成の帯電防止層形成用組成物をTACフィルム上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量約20mJ/cm2 で紫外線照射を行い,帯電防止層を硬化させて、膜厚約1μmの帯電防止層を作成した。
(1)埃拭き取り試験
得られた積層体5の上に、ティッシュペーパーの埃をふりかけベンコットで表面を軽く拭いたところ、埃は容易に拭き取れた。
上記で得られた積層体5、および帯電防止層を設けない基材/ハードコート層フィルムの帯電減衰を、オネストメーター(シンド静電気(株)製)を用いて測定した。測定条件を以
下に示す。
プローブ位置 :20cm
測定時間 :5分間
結果を以下に示す。帯電防止層の効果が確認された。
下記組成の成分を混合して防眩層形成用組成物を調製した。
スチレンビーズ( 粒径3.5μm) 6質量部
トルエン 50質量部
イルガキュア184(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 2質量部
積層体(基材/防眩層/低屈折率層)の作製
上記組成の防眩層形成用組成物をTACフィルム上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後,紫外線照射装置を用いて、照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い防眩層を硬化させて、膜厚約4μmの防眩層を有する基材/防眩層フィルムを得た。
下記組成の成分を混合して屈折率1.63の中屈折率ハードコート層形成用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 5質量部
イルガキュア184(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 1質量部
シクロヘキサノン 12質量部
積層体(基材/中屈折率ハードコート層/低屈折率層)の作製
上記組成の中屈折率ハードコート層形成用組成物をTACフィルム上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて、照射線量100mJ/cm2 で塗膜を硬化させて、膜厚約5μmの中屈折率ハードコート層を有する基材/中屈折率ハードコート層フィルムを得た。
下記組成の成分を混合して防汚層形成用組成物を調製した。
FC−40(商品名、住友3M(株)製) 93.3質量部
積層体(基材/ハードコート層/低屈折率層/防汚層)の作製
実施例1と同様にして、基材上にハードコート層、低屈折率層を形成した。
その後、上記組成の防汚層形成用組成物をバーコーティングし、70℃で4分間熱硬化させることにより、実施例7の積層体を得た。
下記の成分を混合して屈折率1.90の高屈折率層形成用組成物を調製した。
Disperbyk163 (商品名、ビックケミー・ジャパン製) 2質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 4質量部
イルガキュア184(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.2質量部
メチルイソブチルケトン 37.3質量部
中屈折率層形成用組成物の調製
上記屈折率1.90のチタニア分散液10質量部に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリルペースト(SR399E:商品名、日本化薬社製) を2.5質量部加え、屈折率1.76の中屈折率層形成用組成物を調製した。
実施例1と同様にして作製した基材/ハードコート層フィルム上に、上記組成の中屈折率層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて膜厚約80nmの中屈折率層を得た。
下記の成分を混合して屈折率1.70の高屈折率層形成用組成物を調製した。
Disperbyk163 (商品名、ビックケミー・ジャパン製) 2質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 7.5質量部
イルガキュア184(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製 0.2質量部
メチルイソブチルケトン 37.3質量部
積層体(基材/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層)の作製
実施例1と同様にして作製した基材/ハードコート層フィルム上に、上記組成の高屈折率層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて膜厚約80nmの高屈折率層を得た。
下記組成の成分を混合して低屈折率層用コーティング組成物を調製した。
光重合開始剤(イルガキュア907:商品名、チバスペシャリティーケミカルズ製) 0. 1質量部
ハードコート層の形成
下記成分を混合してハードコート層形成用コーティング組成物を調製し、得られたハードコート層形成用コーティング組成物を透明基材上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)、光源Hバルブ)を用いて、照射線量108mJ/cm2 で紫外線照射を行い、ハードコート層を硬化させて、膜厚2〜5μmの基材/ハードコートフィルムを得た。
光重合開始剤(イルガキュア184:商品名、チバスペシャリティーケミカルズ製) 0.25質量部
メチルイソブチルケトン 94.75質量部
低屈折率層の形成
上記の基材/ハードコートフィルム上に、前記の低屈折率層用コーティング組成物を塗布し、基材/ハードコート層/低屈折率層フィルムを得た。
島津製作所(株)製分光光度計(UV−3100PC)を用いて絶対反射率を測定した。なお、低屈折率層の膜厚は、反射率の極小値が波長550nm付近になるように設定した。用いた基材であるTACフィルム自体の反射率は4%程度であり、実施例の反射率は、すべて1%程度以下であり、反射防止膜として使用できる程度の低屈折率を有するものであった。
爪スクラッチ試験
耐爪スクラッチ性の評価は、得られた試料の表面を爪で擦り、シリカ薄膜が基材(ハードコート層)から剥離するかを目視により確認した。剥離したものを×、表面に傷が付いたが剥離しなかったものを△、傷が全く付かなかったものを○とした。
♯0000のスチールウールを用い、荷重200gで10往復と20往復したときの傷の有無を目視により確認した。剥離したものを×、表面に傷が付いたが剥離しなかったものを△、傷が全く付かなかったものを○とした。
2 画素部
3 ブラックマトリックス層
4 カラーフィルター
5,7 透明電極層
8 シール材
9 配向膜
10 偏光フィルム
11 バックライトユニット
12 偏光素子
13,14 保護フィルム
15 接着剤層
16 ハードコート層
17 多層型反射防止膜
18 中屈折率層
19 高屈折率層
20 低屈折率層
21 基材フィルム
22 高屈折率層
23 低屈折率層
101 液晶表示装置
102 反射防止フィルム
Claims (24)
- 光透過性を有する基材の少なくとも一面側に直接、或いは他の層を介して内部、及び/又は表面にナノポーラス構造を有する低屈折率組成物をコーティングしてなる低屈折率層が形成された反射防止積層体であって、
前記ナノポーラス構造を有する低屈折率組成物が、少なくとも、
(A)分子中にフッ素原子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物と、
(B)塗工液に調製するための液状媒体中に分散させることが可能で且つ平均粒子径5nm〜300nmの微粒子と
からなることを特徴とする反射防止積層体。 - 前記ナノポーラス構造が、平均粒子径5nm〜300nmの微粒子が集合体を形成した結果生じる、平均孔径が0.01nm〜100nmの空気を含有する独立した、及び/又は連続した孔であることを特徴とする請求項1の反射防止積層体。
- 前記ナノポーラス構造が、平均粒子径5nm〜300nmの微粒子自身の平均孔径0.01nm〜100nmの空気を含有する孔を有することにより形成されることを特徴とする請求項1に記載の反射防止積層体。
- 前記平均孔径0.01nm〜100nmの空気を含有する孔を有する微粒子の屈折率が1.20〜1.45である請求項3に記載の反射防止積層体。
- 前記フッ素原子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物が、フッ素原子を含み、且つ数平均分子量が2万以上の電離放射線で硬化するポリマーと、1分子中に3個以上の電離放射線で硬化する官能基を有するフッ素含有及び/又は非含有のモノマーからなることを特徴とする請求項1に記載の反射防止積層体。
- 前記分子中にフッ素原子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物は熱で硬化可能である請求項1又は4に記載の反射防止積層体。
- 前記平均粒子径5nm〜300nmの微粒子の添加量が前記フッ素原子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物100重量部に対し、1〜400重量部の範囲であることを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記熱で硬化可能であるフッ素原子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物に含まれる官能基の少なくとも一部が水酸基であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記低屈折率層が、前記分子中にフッ素原子を含む電離放射線硬化型組成物および前記微粒子の何れに対しても相溶性を有するフッ素系および/またはケイ素系化合物を含んでなる、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記フッ素系および/またはケイ素系化合物の少なくとも一部が、前記分子中にフッ素原子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物と、化学反応により共有結合を形成してなる、請求項9に記載の反射防止積層体。
- 前記フッ素系化合物が、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基、およびパーフルオロアルケニル基の少なくとも1つを有する化合物、ならびにそれらの化合物の混合物からなる群から選択されるものである、請求項9または10に記載の反射防止積層体。
- 前記フッ素系および/またはケイ素系化合物が、下記一般式、
Rcn SiX4-n
(ここで、Rcは、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基を含む炭素数3〜1000の炭化水素基を示し、Xは炭素数1〜3のアルコキシ基、オキシアルコキシ基、ハロゲン基を示し、nは1〜3の整数を示す)
で表される化合物からなる、請求項9または10に記載の反射防止積層体。 - 前記フッ素系および/またはケイ素系化合物が、前記分子中にフッ素原子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物と前記シリカ微粒子との総重量に対して、0.01〜10重量%含まれてなる、請求項9乃至13のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記低屈折率層の屈折率が1.45以下である、請求項1に記載の反射防止積層体。
- 前記他の層がハードコート層であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止積層体。
- 前記ハードコート層の屈折率が1.57〜1.70の範囲である、請求項16に記載の反射防止積層体。
- 前記ハードコート層が、防眩性能を有してなる、請求項15又は16に記載の反射防止積層体。
- 前記低屈折率層の基材側と反対の側の面に、防汚層が設けられてなる、請求項1乃至18のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記ハードコート層と前記低屈折率層との間に、屈折率が1.46〜2.00の範囲で、かつ膜厚が0.05〜0.15μmの範囲である中乃至高屈折率層が、少なくとも一層以上設けられてなる、請求項15乃至19のいずれか1 項に記載の反射防止積層体。
- 前記ハードコート層、前記中乃至高屈折率層、及び前記低屈折率層からなる群から選択される少なくとも一層が、帯電防止性能を有する、請求項15乃至20のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記基材と前記ハードコート層との間に、帯電防止層が設けられてなる、請求項15乃至21のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記低屈折率層の膜厚が、0.05〜0.15μmの範囲である、請求項1乃至22に記載の反射防止積層体。
- 前記低屈折率層の表面を、#0000番のスチールウールを用いて10回擦ったときの、該低屈折率層のヘイズ値の変化が認められる最低荷重量が、200g以上である、請求項1乃至23のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
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