WO2006073139A1 - 反射防止フィルム - Google Patents

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WO2006073139A1
WO2006073139A1 PCT/JP2005/024273 JP2005024273W WO2006073139A1 WO 2006073139 A1 WO2006073139 A1 WO 2006073139A1 JP 2005024273 W JP2005024273 W JP 2005024273W WO 2006073139 A1 WO2006073139 A1 WO 2006073139A1
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layer
refractive index
antistatic agent
active energy
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Satoru Shoshi
Yutaka Onozawa
Kenta Tomioka
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Lintec Corporation
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    • G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films

Definitions

  • the present invention is a "preventive film", more specifically, it effectively prevents reflection of light on the surface of image display elements such as plasma display (PDP), brown tube (CRT), liquid crystal display (LCD), etc.
  • a flaw-preventing layer that has excellent scratch resistance and excellent U-ability is related to a single-layer type anti-fibrous film.
  • ®® may emit light from the outside, and this light power may make it difficult to view the displayed image.
  • the power to resolve the above issues is becoming more and more ⁇ 3 ⁇ 4.
  • This prevention film is conventionally a dry process such as evaporation ⁇ 5 sputtering, on O film, who thinning the low refractive index of the material (M g F 2), high Rere material ⁇ ratio [I TO (tin - doped spoon indium), T I_ ⁇ 2, etc.] and the refractive index lower material (such as Mg F 2, S I_ ⁇ 2) 3 ⁇ 4 alternately ⁇ ? are removed by the like.
  • the anti-fiber film that has been crushed by such a dry process method is unavoidably expensive.
  • attempts have been made to apply a protective film by a wet process method, that is, coating.
  • the prevention film produced by the wet process method has a problem that it is inferior in surface scratch resistance as compared with the s prevention film produced by the knitting dry process method.
  • Xie Hu (1)
  • optical films are orchid prevention finolems that effectively prevent light sit on the surface of the image display element and are excellent in physical damage.
  • the anti-static film is required to have an anti-static performance superior to that of ft in order to prevent adhesion of dust and the like.
  • anti-static performance excellent in life to key film for example, in the optical film of (1), (B) As a metal oxide of a high refractive index layer, anti-static properties are expressed.
  • (A) a metal oxide exhibiting antistatic properties may be used as the oxide of the high refractive index layer.
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2 0 0 3- 1 3 9 90 8 Disclosure of Invention
  • the present invention effectively prevents light on the surface of image display elements such as PDP, CRT, and LCD, and also prevents the adhesion of dust and dirt.
  • the anti-reflective layer which has excellent knee scratch resistance and excellent ij resistance, was made for the purpose of creating a one-layer type anti-Finolem.
  • the antistatic agent in the layer (A) is a cationic antistatic agent having one or more quaternary ammonia molecules in the molecule; Perfect
  • the antireflection film of the present invention has a structure in which (A) a hard coat layer and (B) a refractive index layer are sequentially laminated on at least one surface of a base film by a wet process method.
  • a hard coat layer and (B) a refractive index layer are sequentially laminated on at least one surface of a base film by a wet process method.
  • the Xie film in the anti-fibrous film of the present invention. Can be selected and used from among plastic films.
  • plastic films examples include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, diaceti / H-loose film, triaceti / resenorelose fibre / Rem, Acetyl ⁇ Roulose Petitoleate Vinylome, Polyvinyl Chloride Film, Polyvinylidene Chloride Film, Polyvinyl Alcohol Film, Ethylene Monovinyl Copolymer Vinylome, Polystyrene Film, Polycarbonate Film, Polymethylpentene Film Polysulfone film, Polyether ether ketone film, Polyether sulfone film, Polyetherimide film, Polyimide film Arm, fluorine Kitsuki fact Fuinoremu, polyamide film, Atarinore resin film / REM, Roh Ruborunen resin film, and a Shikuroorefi fat film.
  • These intuition films may be transparent or translucent
  • the thickness of these age films is not particularly limited, and is a force S determined appropriately, usually 15 to 2500 ⁇ , preferably 30 to 20 O t m.
  • this ingenuity film can be subjected to a surface treatment on one side or the ridge by means of an oxidized concave / convex method, for the purpose of improving the adhesion with a layer provided on the surface.
  • the oxidation method include corona treatment, chrome »treatment (display, flame treatment, heat)! «Ozone 'ultraviolet irradiation treatment and the like can be mentioned, and examples of the unevenness method include power such as sandblasting and destruction.
  • These surface treatment methods have a suitable force depending on the wrinkles of the film.
  • the corona 3 ⁇ 4m treatment method is preferably used from the viewpoints of the effect and the effect of the film.
  • one surface or ⁇ -primer-treated can be used.
  • a hard coat layer containing (A) a hard resin by irradiation with an active energy ray and an antistatic agent is provided on at least one surface of the tiits3 ⁇ 4 ”film.
  • the hard coat layer containing a hard resin and an antistatic agent by irradiation with an active energy ray is, for example, a hard coat layer containing an active energy ray-curable compound, an antistatic agent of tins, and, if desired, photopolymerization il.
  • the layer forming coating solution can be formed by coating on at least one surface of the film to form an encroachment, irradiating an active energy ray, and curing the enormous amount of dust.
  • the active energy ray curable agent / has a compound having energy quanta in Shiwan or a spring, that is, a compound that crosslinks and cures when irradiated with ultraviolet rays or an electron beam.
  • Examples of such an active 1 ⁇ bioenergy ray-curable compound include: a compatible prepolymer and Z or a photopolymerization monomer.
  • the above photopolymerization! “There are radical polymerization type and cationic polymerization type in raw polymer, and radical polymerization type I.”
  • Examples of raw polymer are polyester acrylate type, epoxy acrylate type, urethane acrylate. Rate system, poly; ⁇ sacrificee system and the like.
  • the polyester acrylate prepolymer for example, a hydroxyl group of a polyester oligomer having a hydroxyl group at both ends obtained by condensation of an f-plane carboxylic acid and a plane alcohol is esterified with (meth) acrylic acid.
  • Epoxy atelate prepolymers can be obtained, for example, by esterifying (meth) acrylic acid on a relatively low molecular weight bisphenol type epoxy, gabano novolak type epoxy, or one oxysilane ring.
  • a urethane acrylate precursor can be obtained, for example, by esterifying a polyurethane-based ligomer obtained by polyetherpolyester! ⁇ Polyesterpoly ⁇ "and polyisocyanate with (meth) acrylic acid.
  • the polyol acrylate prepolymer can be obtained by esterifying the water of the polyether polyol with (meth) acrylic acid, and one of these photopolymerizable prepolymers may be used. Two or more types may be used in combination.
  • an epoxy resin is normally used as a cationic polymerization type photopolymerization 1 ⁇ raw polymer.
  • this epoxy resin for example, a compound obtained by epoxidizing phenols such as bisphenol resin or nopolac resin with epichlorohydrin, etc., and 3 ⁇ 43 ⁇ 4 solephine-like olefin ⁇ -like olefin compound are oxidized with peroxide or the like. And the like.
  • photopolymerizable monomer examples include 1,4-butanedi; ⁇ l-di (meth) acrylate, 1,6-dihexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di ( (Meth) acrylate, neopentylglycol aditodi (meth) acrylate, hydroxypiparic acid neopentylglycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, force prolactone modified dicyclopentenyl di (meth) Atalylate, Ethylene oxide modified di (meth) phosphate diaryl (aryl), aryl, isocyanurate di (meth) atallate, tri , Dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionated dipentaerythritol tri (meth) acryl
  • photopolymerization initiators used as desired include radical polymerization type photopolymerizable prepolymers and photopolymerizable monomers, such as benzoin, benzoin methinoreateol, benzoin ethinore ether, benzoin isopropyl ether.
  • examples of photopolymerization development ⁇ which are cationic polymerization type photopolymerizable prepolymers include, for example, aromatic sulfonium ion, aromatic oxosulfo-um ion, aromatic iodine ion, and tetrafluoro The formation of anions such as fluoroborate, hexafluorophosphate, hexafluoroantimonate, hexafluoroarsenate, etc.).
  • the self ⁇ is a lift self-photopolymerizable prepolymer and / or photopolymer ["raw monomer 1 0 0 weight” Usually selected in the range of 0.2 to 10 parts by weight with respect to parts.
  • the antistatic agent contained in the coating layer there are no particular restrictions on the antistatic agent contained in the coating layer, and at least one selected from 5m non-ionic, anionic, cationic and both 14 ⁇ antistatic agents is used.
  • the cationic antistatic agent power S having one or more quaternary ammonium groups is preferable from the viewpoints of effects and homogeneity over the hard coat layer.
  • the force thione antistatic agent with quaternary ammonia ⁇ S is a low-molecular-weight type and can be ffl, but the effect of «143 ⁇ 4 bleed-out gas generation prevention '
  • a high ⁇ "type cationic antistatic agent power S is preferable.
  • the above-mentioned polymer-type cationic antistatic agent an arbitrary one can be used as appropriate from the 5 ⁇ mouth. Specifically, in the molecule, the formula (I)
  • R 3 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, ⁇ — is an n-valent anion, and n is 1 to 4 ⁇
  • Preferred examples include a polymer having a quaternary ammonium compound represented by the formula:
  • the alkyl group represented by R 1 and R 2 and the alkyl group thereof include: an alkyl group having from 6 to 6 carbon atoms, particularly a carbon number;
  • An alkyl group of ⁇ 4 is preferred, and the aralkyl group of R 3 is preferably a benzyl group.
  • alkyl group having 1 to 4 carbon atoms examples include a methyl group, an ethyl group, an n-propinole group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
  • Examples of such highly favorable quaternary ammonium antistatic agents include the following compounds: polyvinyl benzyl type [(a)], poly (meth) acrylate type [(b)], styrene one (meta) ) Atallate copolymerization ⁇ pole [(c)], styrene-maleimide copolymer ⁇ pole [(d)], methacrylate-methacrylimide copolymer ⁇ (pole [(e)]], etc. , (C), (d), and (e) may be random copolymer ⁇ 3-block copolymer type misalignment.
  • R represents H or CH 3
  • R represents H or CH 3
  • one type of the polymeric cationic antistatic agent may be used, or two or more types may be used in combination.
  • A is an alkyl group having 10 to 30 carbon atoms
  • R 4 and R 5 are the same or different alkyl groups having 10 carbon atoms
  • R 6 is a carbon number;
  • Y is an m-valent anion
  • m is 1-4.
  • the column of A includes a dodecyl group such as a lauryl group, a tetradecyl / le group such as a myristyl group, a hexadecyl group such as a normityl group, an octadecyl group such as a stearyl group, an eicosyl group, Examples include a henyl group.
  • R 4 , R ⁇ R 6 , ⁇ and m are the same as RR 2 , R 3 , X n — and n in formula (I), respectively.
  • this low molecular weight cationic antistatic agent may be used alone or in combination of two or more.
  • a cationic cationic antistatic agent having one or more quaternary ammonium atoms and one or more polymerized nitrogen groups in the molecule may be used.
  • a cationic cationic antistatic agent when active energy rays are irradiated, it is copolymerized with the above-mentioned active energy ray curable ⁇ ! And incorporated into the formed height.
  • the obtained P-preventive film has improved antistatic performance.
  • this SJ3 ⁇ 4-type cationic antistatic agent for example, the formula (III) R CH 3
  • CH2 C— COOCH2CH2— N + — CH 3 ⁇ CI- '.. (Hi)
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • this reactive cationic antistatic agent may be turned over 1 time, or two or more kinds may be used in combination.
  • an appropriate combination of a high molecular weight cationic antistatic agent, a low molecular weight cationic antistatic agent and a cationic cationic antistatic agent can be used.
  • the content of the self-antistatic agent in the hard coat layer which is the (i) layer is determined in the range of 2 to 25% by weight. If the content of the antistatic agent is within the above range, the fiber-stopping film will not only adversely affect other performances, but also exhibit good antistatic properties.
  • the content is preferably in the range of preferably from 3 to 2 5 weight 0 I 5-2 0 weight 0/0.
  • This hard coat layer-forming coating solution used in the present invention comprises, as necessary, Ml's own active energy ray-curable compound, an antistatic agent, and lift's own used if desired.
  • a photopolymerization initiator and various additional legs for example, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a leveling chiral [], a quenching chiral J, etc., at a predetermined ratio, respectively. It can be prepared by filling or dispersing.
  • aliphatic carbons such as hexane, heptane, cyclohexane, aromatic carbons such as toluene, xylene, etc.
  • salt: halogenated carbons such as methylene, ethylene chloride, etc.
  • estenoles such as butyl
  • cereal sorbs such as ethino mouth sorb.
  • the concentration and viscosity of the coating solution thus prepared are not particularly limited as long as the concentration and viscosity can be coated, and can be determined appropriately depending on the situation.
  • the above coating liquid is applied in accordance with the conventional method, for example, bar coating method, knife coating method, roll coating method, blade coating method, die coating method, gravure coating method.
  • the coating is formed, and after consolation, the active energy line is irradiated to cure the coating, thereby forming a monocoating layer.
  • active energy rays include ultraviolet rays and electron beams.
  • the ultraviolet rays can be obtained with a high-pressure mercury lamp, a fusion lamp, a xenon lamp, or the like.
  • One ⁇ m spring can be obtained with an electronic! Among these active energy rays, ultraviolet rays are the key.
  • the hardness can be obtained without adding a polymerization initiator.
  • the thickness of the hard coat layer is in the range of 1 to 20 im. If the thickness is less than 1 m ⁇ , the resulting protective film may not be fully scratched. If it exceeds 20 111, crack strength S may occur in the hard coat layer.
  • the preferred thickness of the hard coat layer is in the range of 2 to 15 tm.
  • the refractive index of the (A) hard coat layer is usually in the range of 1.45 to 1.60, preferably 149 to 1.55.
  • the refractive index layer force S containing (B) hard resin and porous sili- force particles by irradiation with active energy rays is provided on the coated layer.
  • the tff® refractive index layer containing the hardness of the active energy ray irradiation and the porous silica force particles is, for example, active energy conversion ⁇ ), self-locking porous silica particles, and a photopolymerization initiator as required.
  • a coating solution for forming a low refractive index layer containing, for example, (A) a hard coat layer is coated to form an enormous amount, and the active energy rays are applied to cure the word mandala. can do.
  • the active energy ray-curable compound used by the self and the photopolymerization development used by the company are as described in the description of the hard coat layer (A) above.
  • the specific gravity is 1.7-1.9
  • the refractive index is 1.25 to 1.36
  • the average male is 20 to: L 00 nm. .
  • the content of the porous silica force particles of (B) layers are selected in the range of 30-80 wt 0/0. If the content of the porous silica particles is in the upper weave, the layer (B) becomes a layer having a desired low refractive index, and the obtained Kit prevention film has excellent prevention properties.
  • the preferred content of the porous silli force particles is 50-80% by weight, particularly preferably in the range of 60 to 75% by weight.
  • the layer (B) has a thickness of 0.05 to 0.3 ⁇ and a refractive index of usually 1.30 to 1.42. If the thickness and refractive index of the layer (B) are in the above range S, it is possible to obtain a wrinkle-preventing film that is excellent in Sit-preventing performance and antistatic property.
  • the thickness of the layer (B) is preferably 0.07 to 0.13 ⁇ , and the refractive index is preferably in the range of 1.35 to 1.40.
  • This ⁇ -fold layered shelf coating solution used in the present invention is suitable as required
  • self-active energy ray-curable compounds, porous silica particles, and tin-based photopolymerization used as required
  • various additives such as anti-wrinkle agents, ultraviolet absorbers, and light stabilizers. It can be prepared by adding an agent, leveling antifoaming agent, etc. at a predetermined ratio and dissolving or dispersing them.
  • the cat used in this case (I is the same as described above in the description of the coating liquid for forming the coat layer.
  • the viscosity of the coating solution thus prepared is not particularly limited as long as it is a concentration and viscosity that can be coated, and can be determined appropriately depending on the situation.
  • the active energy rays are as shown in the description of the above-mentioned coating layer.
  • lj is used to form the (ii) nod coat layer and the (ii) low refractive index layer by the following method.
  • one side of the film is coated with a coating liquid for forming a coat layer to form a film, and then irradiated with active energy rays to be cured into a no- or a-cure state.
  • the amount of light is normally 5 0 15 Om jZ cm 2 key.
  • the coating liquid for forming the refractive index layer is coated to form an enormous volume, and the active energy rays are sufficiently irradiated to completely cure the braided half-cured hard! ⁇ 1.
  • the age and light intensity of JfT is usually 2 0 0 1 0 0 Om j Z cm 2 @ 3 ⁇ 4.
  • the anti-fibrous film of the present invention thus wound has a surface resistivity of 5 ⁇ 10 12 ⁇ or lower.
  • the surface resistivity is 5 ⁇ 10 12 ⁇ / mouth or less, antistatic performance is exhibited, and dust and dust are less likely to adhere to the prevention film.
  • the lower limit of the surface resistivity is not particularly limited, but is usually 1 X 10 ⁇ / low.
  • the average rate of visible light of the Sit-preventing finolem of the present invention is 3% or less.
  • the hard coating layer is provided with (B) a low refractive index layer force S containing hard a fat by irradiation with active energy rays, so that the antistatic performance is excellent and the ⁇ It has IJ properties, and the deterioration of antistatic performance by Fuji IJ is suppressed.
  • a hard coat layer is provided on one side of the film.
  • the hard coat layer is ⁇ ] "on the side of the adherend such as a liquid crystal display.
  • a pressure-sensitive adhesive layer for sticking can be formed as the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer, those for optical use, for example, acrylic pressure-sensitive adhesives, urethane-based pressure-sensitive adhesives, and silicone-based pressure-sensitive adhesives are preferable.
  • the thickness of this pressure-sensitive adhesive layer is usually in the range of 5 to: 100 m, preferably 10 to 6 ⁇ ⁇ .
  • a release film can be provided on the pressure-sensitive adhesive layer.
  • the release film include a force S such as a silicone resin or other release film (such as a J resin applied to a 3 ⁇ 43 ⁇ 4 ⁇ ⁇ type plastic film such as dalasin paper, coated paper, or laminate paper.
  • a force S such as a silicone resin or other release film (such as a J resin applied to a 3 ⁇ 43 ⁇ 4 ⁇ ⁇ type plastic film such as dalasin paper, coated paper, or laminate paper.
  • a force S such as a silicone resin or other release film (such as a J resin applied to a 3 ⁇ 43 ⁇ 4 ⁇ ⁇ type plastic film such as dalasin paper, coated paper, or laminate paper.
  • the length is usually 20 to 1 ⁇ .
  • the reflectance at wavelengths of 5 00 nm, 60 0 nm, and 70 0 nm was measured with a spectrophotometer [“UV — 3 1 0 1 PC” manufactured by Shimadzu Corporation].
  • Liquid B Preparation of coating layer for forming low refractive index layer
  • 3 ⁇ 4f prevention film As a SI film, a ⁇ ⁇ ⁇ triacetyl cell mouth film [made by Fuji Photo Film Co., Ltd., product name “T-80UZJ” on the surface, the liquid obtained by hate (1) is a hard thickness Saga to be 3 mu m, was coated with a Mayer bar N o. 8. Tsugire in,, Chi was dried for 1 minute at 90 ° C, ultraviolet rays and irradiation with light intensity 80 m J / cm 2, and Roh And cured in a fucure state.
  • the liquid B obtained by this half-cure imager, knitting (2) was applied with a Mayer bar No. 4 so that the thickness after curing was 0.1 ⁇ .
  • UV light is irradiated at 350 mjZc m 2 to completely cure, and on a triacetino H Rurose film, a hard coat layer with a refractive index of 1.50 and a low refractive index of 1.36 Sl-stopping film was made by ordering the rate layer.
  • Table 1 shows the physical properties of the thus-prevented prevention film.
  • each coat layer was measured with “MCPD-2000” manufactured by fc ⁇ m Co., Ltd., and the refractive index was determined by the Atago Abbe Refractometer (N a source, wavelength: approx. 590 nm). (Hereinafter the same)
  • Example 1 the same procedure as in Example 1 was carried out except that the amount of the antistatic agent “Colcort NR-1 21 X-9 I PA” was changed to 60 wt. The prevention film was removed. Refractive index of hard coat layer: 1. 49
  • Table 1 shows the physical properties of the wrinkle-preventing film.
  • Example 1 (2) except that the amount of MIBK body “ELCOM RT-10 02 SIV” of porous Siri force particles was changed to 120 parts by weight, the same procedure as in Male Example 1 was performed. The anti-reflection film was worn. Refractive index of ⁇ -index layer: 1.40
  • Table 1 shows the physical properties of the film for preventing printing.
  • Example 1 In the preparation of the liquid smoke in Example 1 (1), an antireflection film was used in the same manner as in Example 1 except that no antistatic agent was used.
  • the refractive index of the coating layer 1. 49
  • Table 1 shows the physical properties of the film made in this way.
  • Example 1 For the preparation of solution A in (1), use a small amount of photopolymerized IJ “Irgacure 907”. A hard coat layer forming coating solution was prepared in the same manner as in Cat Example 1 (1) except that the amount was changed to 1.8 parts by weight.
  • a thickness of 80 ⁇ Triaceti / Hr Leulos film “T 8 0 UZ” (supra) is applied to the surface after curing the coating solution for forming a self-node coat layer.
  • the vehicle was dried at 90 for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet light at a light intensity of 3500 mj Z cm 2 to completely harden, and a single coated film was formed.
  • Table 1 shows the physical properties of the hard coat film.
  • the anti- orchid film of the present invention (Examples ⁇ to 3) has excellent anti-fiber properties, low surface finish after initial and ethanol wiping, and good anti-static properties. It has a container property and is excellent in scratch resistance and life.
  • Comparative Example 1 does not have an antistatic agent in the hard coat layer, so that the surface resistivity after initial and ethanol wiping is inferior to the high antistatic property. Further, Comparative Example 2 is provided with a low refractive index layer force s, so it is inferior in preventing property, has a high surface key rate after strong ethanol wiping, and is inferior in 1 property. . Industrial applicability
  • the non-stick film of the present invention effectively prevents the sit of light on the surface of the image display element, and also has an antistatic effect that suppresses adhesion of dust, dust, etc. It has excellent strength B iJ, and is suitable for use in displays such as PDP, CRT, and LCD.

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Abstract

基材フィルムの少なくとも一方の面に、(Ａ)活性エネルギー線照射による硬化樹脂と、帯電防止剤２～２５重量％を含む厚さ１～２０μｍのハードコート層、及び(Ｂ)活性エネルギー線照射による硬化樹脂と、多孔性シリカ粒子３０～８０重量％を含む厚さ０.０５～０.３μｍの低屈折率層を順に有し、かつ表面抵抗率が５×１０12Ω／□以下の反射防止フィルム。画像表示素子の表面の光の反射を効果的に防止すると共に、埃や塵などの付着を抑制する帯電防止効果の持続性及び耐擦傷性に優れ、しかも耐溶剤性にも優れる反射防止層が１層である特徴を有する。

Description

明細書 防止フィルム 謹分野
本発明は^ "防止フィルム、 さらに詳しくは、 プラズマディスプレイ（P D P)、 ブラウ ン管（C RT)、 液晶ディスプレイ (L C D)などの画像表示素子の表面の光の反射を効果的 に防止すると共に、 埃や塵などの付着を抑制する帯電防止効果の赚 14¾ひ丽擦傷性に優 れ、 力つ而鎌 U性にも優れる歸防止層が 1層タイプの繊防止フィルムに関するもので ある。 背景鎌
P D P、 C RT, L CDなどのディスプレイにおいては、 ®®に外部から光が し、 この光力^ Itして表示画像を見ずらくすることがあり、 特に近年、 ディスプレイの «化 に伴い、 上記問題を角決すること力 ますます な ί¾ となってきている。
このような問題を解決するために、 これまで 々のディスプレイに対して、様々な繊 防止処置や防眩処置がとられている。 その一つとして sit防止フィルムを各種のディスプ レイに使用すること力 S行われてレ、る。
この 防止フィルムは、従来、蒸^5スパッタリングなどのドライプロセス法により、 オフィルム上に、低屈折率の物質 (M g F2)を薄膜化する方 、屈斤率の高レヽ物質 [ I TO (錫ドーフ 匕インジウム）、 T i〇2など]と屈折率の低い物質 (Mg F2、 S i〇2など） を交互に ¾ する^?去などで されている。 しかしながら、 このようなドライプロセス 法で條された繊防止フィルムは、 製造コストカ S高くつくのを免れないという
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そこで、 近年、 ウエットプロセス法、 すなわちコーティングにより 防止フィルムを ィ懷すること力試みられている。 しかしながら、 このウエットプロセス法によりィ權され た 防止フィルムにおいては、 編己のドライプロセス法による s 防止フィルムに比べ て、 表面の耐擦傷 に劣るという問題が生じる。
そこで、 ゥエツトプロセス法における藤己問題を解決するために、 電离腿線硬ィ 樹 脂糸滅物を用レ、て硬ィ (ハードコート層）を形财ること力 S行われている。例えば謝フ ィルム上に、 （ 1 ) ( A) 線による硬ィ 脂を含む厚さ 2〜 2 0 mのハードコート 層、 （B)mw線による硬ィ¾¾|旨と、 アンチモンド一: 匕錫を含む少なくとも 2種の 滅酸化物を含み、 屈折率が 1 . 6 5 - 1. 8 0の範囲にある厚さ 6 0〜 1 6 0 nmの高屈 折率層、 及び（C)シロキサン系ポリマーを含み、 屈折率が 1 . 3 7〜： 1. 4 7の範囲にある 厚さ 8 0〜 1 8 0 nmの低屈折率層を順次積層してなる光学用フィルム (例えば、特許文献 1参照)、 ( 2) (A) 酸化物と、熱又は電离 線による硬化物とを含む厚さ 2〜 2 0 μ mのハードコート層、 及ぴ（B)多孔性シリカとポリシロキサン系ポリマーとを含み、 屈折 率が 1. 3 0〜 1. 4 5の範囲にある厚さ 4 0〜 2 0 0 n mの低屈折率層を順次積層してな る光学用フィルム (例えば、 特許文献 2参照)などが開示されてレヽる。
これらの光学用フィルムは、画像表示素子の表面の光の Sitを効果的に防止すると共に、 而擴傷性に優れる蘭防止フィノレムである。
一方、 防止フィルムにおいては、埃や塵などの付着を防止するために、 嫌 ftに優 れる帯電防止性能が要求される。 鍵己光学用フィルムに赚生に優れる帯電防止性能を付 与するには、 例えば（1 )の光学用フィルムにおいては、 （B)高屈折率層の金属酸化物とし て、 帯電防止性を発現する 酸ィ を、 また、 （2)の光学用フィルムにおいては、 (A) 高屈折率層の滅酸化物として、 帯電防止性を発現する金属酸化物を用いればよい。
しかしながら、 低屈折率層のみをノヽードコート層に積層する 1層タイプにおいては、 低 屈折率層にシロキサン化合物を用レ、たもの での帯電防止性能付き 防止フィルムは、 これまで開発されてレヽなレヽのが^:である。
[赔文献 1 ]特開 2 0 0 2— 3 4 1 1 0 3号公報
[特許文献 2] 特開 2 0 0 3— 1 3 9 9 0 8号公報 発明の開示
本発明は、 このような事情のもとで、 P D P、 CRT, L CDなどの画像表示素子の表 面の光の を効果的に防止すると共に、埃や塵などの付着を抑制する帯電防止効果の持 綺 14¾ひ 膝傷性に優れ、 しかも耐額 ij性にも優れる反射防止層が 1層タイプの 防止 フイノレムを ί することを目的としてなされたものである。
本発明者らは、 嫌己の優れた機能を有する Mi¾止フィルムを開発すべく鋭意 を重 ねた結果、 »フィルム上に、 活性エネルギー線照射による硬ィ匕樹脂と特定量の帯電防止 剤を含むハードコート層、 及び活性エネルギー線照射による硬ィ匕樹脂と特定量の多孔性シ リ力粒子！ τ^ϋ氐屈折率層を順に ¾ することにより、 その目的を し得ることを見出 し、 この知見に基づレ、て本発明を^するに至った。
すなわち、本発明は、
( 1 ) 謝フィルムの少なくとも一方の面に、 （Α)活性エネルギー線照射による硬化樹脂 と、 帯電防止剤 2〜 2 5重量0 /0を含む厚さ 1〜 2 0 μ mのハードコート層、 及ぴ (B)活性 エネルギー線照射による硬化樹脂と、 多孔性シリカ粒子 3 0〜8 0重量％を含む厚さ 0. 0 5〜0. 3 ιηの翻折率層を順に有し、 力つ表面難率が 5 X 1 012Ω/Ο¾下である ことを糊敷とする H t防止フィルム、
( 2 ) (A)層における帯電防止剤が、 分子内に 1個以上の四級アンモ-ゥム驢を有する カチオン系帯電防止剤である上記（1)項に記載の ¾1 "防止フィルム、 及ぴ
( 3 ) ( B)層における多?し†生シリ力立子が、 i 重 1. 7〜： 1. 9、 屈折率 1. 2 5 ~ 1. 3 6 及ぴ平均雄 2 0〜 1 0 0 nmのものである上記（1 )又は（2)項に記載の 防止フィル ム、
を するものである。 、 発明を実施するための最良の形態
本発明の反射防止フィルムは、 ゥエツトプロセス法により、 基材フィルムの少なくとも 一方の面に、（A)ハードコート層及び (B)観折率層が順次積層された構造を有している。 本発明の繊防止フィルムにおける謝フィルムにつレ、ては特に制限はなく、 従来赌 防止フィルムの として ！]のプラスチックフィルムの中から適 31択して用いること ができる。 このようなプラスチックフィルムとしては、 例えば、 ポリエチレンテレフタレ ート、 ポリプチレンテレフタレート、 ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィ ルム、 ポリエチレンフィルム、 ポリプロピレンフィルム、 セロファン、 ジァセチ /Hルロ ースフィルム、 トリァセチ /レセノレロースフィ /レム、 ァセチ ΛΗτルロースプチレートフイノレ ム、 ポリ塩化ビニルフィルム、 ポリ塩化ビユリデンフィルム、 ポリビ-ルアルコールフィ ルム、 エチレン一酉懒ビニル共重合体フイノレム、 ポリスチレンフィルム、 ポリカーボネー トフイルム、 ポリメチルペンテンフィルム、 ポリスルホンフィルム、 ポリエーテルエーテ ルケトンフィルム、 ポリエーテルスルホンフィルム、 ポリエーテルィミドフィルム、 ポリ イミドフィルム、 フッ素樹月旨フイノレム、 ポリアミドフィルム、 アタリノレ樹脂フィ/レム、 ノ ルボルネン系樹脂フィルム、 シクロォレフィ 脂フィルム等を挙げることができる。 これらの勘オフイルムは、 透明、 半透明のいずれであってもよく、 また、 着色されてい てもよいし、 無賴のものでもよく、 用途に応じて適 31択すればよレ、。 例えば液晶表示 体の保護用として用いる には、 無麵明のフィルム力 s好適である。
これらの 才フィルムの厚さは特に制限はなく、 適 131定される力 S、 通常 1 5〜2 5 0 μ ΐα, 好ましくは 3 0〜2 0 O t mの範囲である。 また、 この勘才フィルムは、 その表面 に設けられる層との密着性を向上させる目的で、 所望により片面又は陋に、 酸化 凹 凸化法などにより表面処理を施すことができる。 上記酸化法としては、 例えばコロナ 処理、 クロム »理(显 、 火炎処理、 熱 )！«、 オゾン'紫外線照射処理などが挙げら れ、 また、 凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、 滅 法など力《挙げられる。 これらの表面処理法は謝フィルムの觀に応じて適 :131ばれる力 一般にはコロナ ¾m 処理法が効果及 Ό%ί乍性などの面から、 好ましく用いられる。 また、 片面又は βにプラ イマ一処理を施したものも用いることができる。
本発明の Sit防止フィルムにおいては、 tiits¾¾"フィルムの少なくとも一方の面に、 ま ず (A)活性エネルギー線照射による硬ィ 脂と帯電防止剤とを含むハードコート層が設け られる。
この活性エネルギー線照射による硬ィ 脂と帯電防止剤とを含むハードコート層は、 例 えば活性エネルギー線硬化性化合物と、 tinsの帯電防止剤と、 所望により光重合離 ilな どを含むハードコート層形成用塗工液を、 謝フィルムの少なくとも一方の面にコーティ ングして'翻莫を形成させ、活性エネルギー線を照射して、貧塵莫を硬化させることにより、 形成することができる。
ここで、活性エネルギー線硬化性化^/とは、 識波又は 泉の中でエネルギー 量子を有するもの、 すなわち、 紫外線又は電子線などを照 Ιίΐ "ることにより、 架橋、硬化 する化合物を指す。
このような活 1·生エネルギー線硬化性化合物としては、 例えば) 合性プレボリマー及び Z又は光重合 !■生モノマーを挙げることができる。 上記光重合! "生プレボリマーには、 ラジカ ル重合型とカチオン重合型があり、 ラジカル重合型の想合 I"生プレボリマーとしては、 例 えばポリエステルァクリレート系、 エポキシァクリレート系、 ウレタンアタリレート系、 ポリ； ^ルァクリレート系などが挙げられる。 ここで、 ポリエステルァクリレート系プレ ポリマーとしては、 例えば f面カルボン酸と (面アルコールの縮合によって得られる両末 端に水^ ¾を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を (メタ）アクリル酸でエステル化す ることにより、 あるいは、 面カルボン酸にアルキレンォキシドを付加して得られるオリ ゴマーの の水 を (メタ）アタリノレ酸でエステノレ化することにより得ることができる。 エポキシアタリレート系プレボリマーは、 例えば、 比較的低分子量のビスフエノール型 ェポキ、 脂ゃノボラック型ェポキ、 1 脂のォキシラン環に、 （メタ）ァクリル酸を し エステル化することにより得ることができる。 ウレタンアタリレート系プレボリマーは、 例えば、 ポリエーテルポリ ノ! ^ポリエステルポリ ^"ルとポリイソシァネートの によって得られるポリウレタン才リゴマーを、 （メタ）ァクリル酸でエステル化することに より得ることができる。 さらに、 ポリオールァクリレート系プレポリマーは、 ポリエーテ ルポリ^ルの水 を (メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。 これらの光重合性プレポリマーは 1種用いてもよいし、 2種以上を組み合わせて用いても よい。
一方、 カチオン重合型の光重合 1·生プレボリマーとしては、 エポキシ系樹脂が 常側さ れる。 このエポキシ系樹脂としては、 例えばビスフエノール樹脂ゃノポラック樹脂などの フエノール類にェピクロルヒドリンなどでエポキシ化した化合物、 ¾¾貞状ォレフイン ィ匕^ 1 状ォレフイン化合物を過酸化物などで酸化して得られた化合物などが挙げられ る。
光重合性モノマーとしては、 例えば 1 , 4一ブタンジ;^ルジ (メタ）アタリレート、 1 , 6一へキサンジオールジ (メタ）ァクリレート、 ネオペンチルグリコールジ (メタ）アタリレ 一ト、 ポリエチレングリコールジ（メタ）ァクリレート、 ネオペンチルグリコールアジべ一 トジ (メタ）ァクリレート、 ヒドロキシピパリン酸ネオペンチルグリコールジ (メタ）ァクリ レート、 ジシクロペンタニルジ (メタ）アタリレート、 力プロラクトン変性ジシクロペンテ ニルジ (メタ）アタリレート、 エチレンォキシド変性リン酸ジ (メタ）アタリレート、 ァリル ト、 イソシァヌレートジ（メタ）アタリレート、 トリ
Figure imgf000006_0001
レート、 ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリ レート、 プロピオン 性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、 ペンタエリ スリトールトリ（メタ）ナタリレート、 プロピレンォキシド変性トリメチロールプロパント リ（メタ）アタリレート、 トリス（アタリロキシェチル)ィソシァヌレート、 プロピオン« 性ジペンタエリスリ トールペンタ（メタ）ァクリレート、ジペンタエリスリ トー/ キサ（メ タ）アタリレート、力プロラクトン変性ジペンタエリスリ トールへキサ（メタ）アタリレート などの多 アタリレートが挙げられる。 これらの光重合！ 4モノマーは 1觀いてもよい し、 2種以上を組み合わせて用いてもよく、 また、 tin己光重合性プレボリマーと併用して もよい。
所望により用いられる光重合開始剤としては、 ラジカル重合型の光重合性プレポリマー や光重合性モノマーに対しては、 例えばべンゾイン、 ベンゾィンメチノレエーテノレ、 ベンゾ インェチノレエ一テル、 ベンゾインイソプロピルエーテノレ、 ベンゾイン一 n—プチノレエーテ ル、 ベンゾインイソプチルエーテル、 ァセトフエノン、 ジメチノレアミノァセトフエノン、 2 , 2—ジメトキシ一 2—フエニノレアセトフエノン、 2 , 2一ジェトキシー 2―フエニノレア セトフエノン、 2—ヒドロキシ一 2—メチノレ一 1一フエ二ノレプロパン一 1一オン、 1ーヒ ドロキシシク口へキシルフェニルケトン、 2—メチノレ一 1— [ 4— (メチ / ォ）フエニル] 一 2—モルフォリノ一プロパン一 1一オン、 4一（2—ヒドロキシエトキシ）フエニノレー 2 (ヒドロキシー 2 _プロプノレ）ケトン、ベンゾフエノン、 p一フエ二ルペンゾフエノン、 4 , 4 '—ジェチノレアミノべンゾフエノン、ジクロロべンゾフエノン、 2—メチ アントラキノ ン、 2—ェチノレアントラキノン、 2一ターシャリ一ブチノレアントラキノン、 2—アミノア ントラキノン、 2—メチルチオキサントン、 2—ェチノ1^ォキサントン、 2 _クロロチォ キサントン、 2 , 4—ジメチノレチォキサントン、 2， 4一ジェチルチオキサントン、 ベンジ ルジメチノレケタール、 ァセトフエノンジメチルケタール、 ρ—ジメチルァミン安息香酸ェ ステルなどが挙げられる。 また、 カチオン重合型の光重合性プレボリマーに ¾~ る光重合 開 ¾ ^としては、 例えは芳香族スルホニゥムイオン、 芳碰ォキソスルホ -ゥムイオン、 芳香族ョードエゥムイオンなどのォニゥムと、 テトラフルォロボレート、 へキサフルォロ ホスフェート、 へキサフルォロアンチモネート、 へキサフルォロアルセネートなどの陰ィ オンとからなる化^ )が拳げられる。 これらは 1禾 Ifflいてもよいし、 2種以上を組み合わ せて用いてもよく、 また、 その酉己^ *は、 lift己光重合性プレボリマー及び/又は光重合 ["生 モノマー 1 0 0重量部に対して、 通常 0. 2〜1 0重量部の範囲で選ばれる。
—方、 ノ、ードコート層に含有させる帯電防止剤に特に制限はな 従 5m口の非イオン 系、 ァニオン系、 カチオン系、 両 14 ^帯電防止剤の中から選ばれる少なくとも 1種が用い られる。 これらの中で、 効果及びハードコート層に财る均質^ ¾性などの点から、 奸 内に 1個以上の四級アンモニゥム: ¾を有するカチオン系帯電防止剤力 S好適である。 四級ァンモニゥム^ Sを有する力チオン系帯電防止剤は、 低分子 »ひ 好型の!/ヽず れも^ fflすることができるが、 効果の «14¾ぴブリードアゥトゃガス発生の防止 '性など の点から、 高^"型カチオン系帯電防止剤力 S好ましい。 上記高分子型カチオン系帯電防止剤としては、 従 5 ^口のものの中から、 任意のものを 適宜潘尺して用いることができる。 具体的には、 分子内に、 式（I )
R1
I
一 N+— R2■ 1ZnXn. ■ ■ ■ ( I )
I
R3
(式中、 R1及び R2は、 それぞれ同一又は異なる炭素数：!〜 1 0のアルキル基、 R3は炭素数 1〜 1 0のアルキル基又は炭素数 7〜 1 0のァラルキル基、 Χπ—は n価の陰ィオン、 nは 1〜4の纖を示す。 )
で表される四級アンモニゥム¾¾を有する高分子重合体を好ましく挙げることができる。 上記式（ I )におレ、て、 R1及び R2で示されるアルキル基並びに のうちのアルキル基と しては、 炭素数:!〜 6のアルキル基、 特に炭素数;！〜 4のアルキル基が好ましく、 また、 R3のうちのァラルキル基としては、ベンジル基が好ましレ、。炭素数 1〜4のアルキル基と しては、 メチル基、 ェチル基、 n—プロピノレ基、 イソプロピル基、 n—ブチル基、 イソブ チル基、 s e c—ヴチル基、 t e r t—プチル基が挙げられる。
一方、 は雄^オン、有機陰イオンのレ、ずれであってもよく、その例としては F一、
C Γ、 B r―、 Γのハロゲンイオン、 NO C 1 04—、 B F4—、 C〇3 2—、 S O/—などの無機 陰イオン、 CH3O S 03—、 C2H5O S 03—、 さらには酉乍酸、 マロン酸、 コノヽク酸、 マレイン 酸、 フマル酸、 p—トルエンスルホン酸、 トリフルォロ酢酸などの^酸の残基からなる 有機陰ィオンが挙げられる。
このような高好型四級ァンモニゥム 帯電防止剤としては、 例えば以下に示す化合 物、 すなわち、 ポリビニルベンジル型 [(a)] 、 ポリ（メタ）ァクリレート型 [(b)] 、 ス チレン一（メタ)アタリレート共重合 {極 [( c)]、スチレン一マレイミド共重合 {極 [( d)]、 メタクリレート—メタクリルイミド共重 ^(極 [ ( e ) ]などを拳げることができる。なお、 ( c)、 （ d)及び（e)の共重合體においては、 ランダム共重合 {¾¾ぴブロック共重合体 型のレヽずれであつてもよい。
Figure imgf000009_0001
COOCH2CH2-N+-CH3■ Cl- CH3
(ただし、 Rは H又は CH3を表す)
- (- CH2
H3■ CH3OSO3'
Figure imgf000009_0002
(ただし、 Rは H又は CH3を表す)
Figure imgf000009_0003
CH2CH2 -N+-CH3. CH3OSO3- CH3
(ただし、 上記 (a) 一 (e) において x、 y、 wは重合度（ 3乃至 30)を表す) 本宪明においては、 この高分子型カチオン系帯電防止剤は 1種用いてもよいし、 2種以 上を且み合わせて用レヽてもよい。
—方、 低分子型カチオン系帯電防止剤としては、例えば、 式 (II)
R4
A-N+-R5 - 1/mYm- · . ■ ( π )
R6
(式中、 Aは炭素数 1 0〜 3 0のアルキル基、 R4及び R5は、 それぞれ同一又は異なる炭素 数 1 0のアルキル基、 R6は炭素数；！〜 1 0のアルキル基又は炭素数 7〜1 0のァラルキノレ 基、 Y は m価の陰イオン、 mは 1〜4の を示す。 )
で表される四級ァンモニゥム驢を有する化合物を好ましく挙げることができる。
上記式 (II)における Aの ί列としては、 ラウリル基などのドデシル基、 ミリスチル基など のテトラデシ/レ基、 ノ ルミチル基などのへキサデシル基、 ステアリル基などのォクタデシ ル基、 エイコシル基、 ベへニル基などが挙げられる。
また、 R4、 R\ R6、 Υ及び mは、 それぞれ式（ I )における R R2、 R3、 Xn—及び n と同じである。
本発明においては、 この低分子型カチオン系帯電防止剤は 1種用いてもよいし、 2種以 上を組み合わせて用レ、てもよい。
さらに、 本発明においては、 帯電防止剤として、分子内に 1個以上の四級アンモニゥム 及び 1個以上の重合 ¾不辦ロ基を有する 性カチオン系帯電防止剤を用いてもよい。 このような 性カチオン系帯電防止剤を用 、ることにより、 活性エネルギー線を照射 した際に、 前述の活性エネルギー線硬化性化^!と共重合して、 形成される高 内に 取り込まれるため、 得られる麵 P方止フィルムは、 帯電防止性能の赚 ι·生が向上する。 この SJ¾性カチオン系帯電防止剤としては、 例えば式 (III) R CH3
I I
CH2=C— COOCH2CH2— N+— CH3■ CI- ' . . (Hi)
CH3
(式中、 Rは水素原子又はメチル基を示す。 )
で表される 性四級アンモニゥム 化合物などを挙げることができる。 本発明においては、 この反応性カチオン系帯電防止剤は 1禾翻いてもよいし、 2種以上 を組み合わせて用いてもよい。 また、 Ιίίϊ己高分子型カチオン系帯電防止剤、 低分子型カチ オン系帯電防止剤及ぴ 性カチオン系帯電防止剤を適当に組み合わせて用いることがで さる。
本発明においては、 （Α)層であるハードコート層中の膽己帯電防止剤の含有量は、 2〜 2 5重量％の範囲で 定される。 言歸電防止剤の含有量が上言纖囲にあれば、 繊 Ρ方止フ ィルムは、良好な帯電防止性能を発揮すると共に、他の性能に悪影響を及ぼすことがなレ、。 この含有量は、好ましくは 3〜 2 5重量0んより好ましくは 5〜 2 0重量0 /0の範囲である。 本発明において用いられるこのハードコート層形成用塗工液は、 必要に応じ、 適当な溶 剤中に、 Ml己の活性エネルギー線硬化性化合物と、 帯電防止剤と、 所望により用いられる lift己の光重合開始剤、さらには各種添力脚、例えば 化防止剤、紫外線吸収剤、光安 ¾¾、 レベリング斉 []、 消?包斉 !Jなどを、 それぞれ所定の割合で加え、 ？容角又は分散させることによ り、 調製することができる。
この際用いる としては、 例えばへキサン、 ヘプタン、 シクロへキサンなどの脂肪族 炭ィ! 素、 トノレェン、 キシレンなどの芳香族炭fek素、 塩:ィ匕メチレン、塩化エチレンなど のハロゲン化炭ィ i素、 メタノール、 エタノーノレ、 プロパノール、 ブタノーノレ、 1—メト キシ一 2—プロパノールなどのアルコール、 ァセトン、 メチノレエチルケトン、 2一ペンタ ノン、 メチルイソブチノレケトン、 ィソホロンなどのケトン、 酢酸ェチル、酌酸ブチルなど のエステノレ、 ェチノ 口ソルブなどのセ口ソルブ系 Ι」などが挙げられる。
このようにして調製された塗工液の濃度、粘度としては、 コーティング可能な濃度、 粘 度であれば.よく、 特に制限されず、 状況に応じて適: 13 定することができる。
次に、 纖才フィルムの少なくとも一方の画こ、 上記塗工液を、 従¾^0の方法、 例えば バーコート法、 ナイフコート法、 ロールコート法、 ブレードコート法、 ダイコート法、 グ ラビアコート法などを用いて、 コーティングして'翻莫を形成させ、 慰喿後、 これに活性ェ ネルギ一線を照射して款翻莫を硬化させることにより、 ノ、一ドコート層が形成される。 活性エネルギー線としては、 例えば紫外線や電子線などが挙げられる。 上記紫外線は、 高圧水銀ランプ、ヒユージョン Ηランプ、キセノンランプなどで得られる。一^ m 泉は、 電子! ^口速器などによって得られる。 この活性エネルギー線の中では、 特に紫外線が鍵 である。 なお、 電 泉を使用する は、 重合開始剤を添口することなく、硬ィ を得る ことができる。 本発明においては、 （A)ハードコート層の厚さは 1〜20 imの範囲である。 この厚さ が 1 m^満では得られる 防止フィルムの耐擦傷 !■生が十分に発揮されないおそれがあ るし、 また 20 111を超えるとハードコート層にクラック力 S発生することがある。 このハ 一ドコート層の好ましレヽ厚さは 2〜 15 t mの範囲である。
本発明の光学用フィルムにおいては、この（A)ハードコート層の屈折率は、通常 1.45 〜1.60、 好ましくは 1· 49〜1.55の範囲である。
本発明の繊防止フィルムにおいては、 廳 、ードコート層上に、 （B)活性エネルギー 線照射による硬ィ 脂と多孔性シリ力粒子とを含 氐屈折率層力 S設けられる。
この活性エネルギー線照射による硬ィ 旨と多孔性シリ力粒子とを含 tff氐屈折率層は、 例えば活性エネルギー 化性化^)と、 鍵己の多孔性シリカ粒子と、 所望により光重合 開始剤などを含む低屈折率層形成用塗工液を、 （A)ハードコート層上にコーティングして '劃莫を形成させ、 活性エネルギー線を照 して、 言贫羅を硬化させることにより、 形成す ることができる。
嫌己の活性エネルギー線硬化性化合物及ひ顧により用レ、られる光重合開 ½ ^につレ、て は、 前述の（A)ハードコート層の説明において示したとおりである。
この（ B)層に含まれる多孔性シリ力粒子としては、 比重が 1.7-1.9, 屈折率が 1. 25〜 1.36及び平均雄が 20〜： L 00 n mの範囲にあるもの力 S好ましく用いられる。 このような性状を有する多孔性シリカ粒子を用いることにより、自防止性能に優れる 1 層タイプの 防止フィルムを得ることができる。
本発明におレ、ては、 この（ B )層中の多孔性シリ力粒子の含有量は、 30-80重量0 /0の 範囲で選定される。 該多孔性シリカ粒子の含有量が上織囲にあれば、 当該 (B)層は所望 の低屈折率を有する層となり、 得られる Kit防止フィルムは、 防止性に優れたものと なる。 該多孔性シリ力粒子の好ましレ、含有量は、 50-80重量％であり、 特に 60 ~ 7 5重量％の範囲が好ましレ、。
当該（B)層は、 厚さが 0.05~0.3 μπιであって、 屈折率が、 通常 1.30〜 1.42 の範囲にある。 当該 (B)層の厚さや屈折率が上言 ¾S囲にあれば、 Sit防止性能、 帯電防止 性肯级ひ¥櫞傷生に優れる贿防止フィルムを得ることができる。 （B)層の厚さは、好ま し'くは 0.07〜0.13 μπιであり、 屈斤率は、 好ましくは 1.35〜1.40の範囲であ る。
本発明において用いられるこの β折率層形棚塗工液は、必要に応じ、 適当な歸 IJ中 に、 嫌己の活性エネルギー線硬化性化合物と、 多孔性シリカ粒子と、所望により用いられ る tin己の光重合開 ]、 さらには各種添 剤、 例えは 匕防止剤、 紫外線吸収剤、 光安定 剤、 レべリング 消泡剤などを、 それぞれ所定の割合で加え、 溶解又は分散させること により、 調製することができる。
この際用いる猫 (Iにつレ、ては、 前述の ドコート層形成用塗工液の説明にぉレヽて示し たとおりである。
このようにして調製された塗工液の 、 粘度としては、 コーティング可能な濃度、 粘 度であればよく、 特に制限されず、 状況に応じて適龍定することができる。
(Α)ハードコート層上に、 この塗工液を、 従 ¾ ^口の;^去、 例えばパーコート法、 ナイ フコート法、 ロー コート法、 ブレードコート法、 ダイコート法、 グラビアコート法など を用いて、 コーティングして'翻莫を形成させ、 車喿後、 これに活性エネルギー線を照射し て言纏莫を硬化させることにより、 （Β)低屈折率層力 S形成される。
活性エネルギー線にっレ、ては、 前述の ドコート層の説明にぉレ、て示したとおりであ る。
本発明にお！/、ては、膽己 ( Α)ノ、一ドコート層及び (Β)低屈折率層の形成は、 以下に示す 方法で行うのが ljである。
まず、 謝フィルムの一方の面に ドコート層形成用塗工液をコーティングして讓 を形成させ、 活性エネルギー線を照射してノ、ーフキュア状態に硬化させる。 この際、 紫外 線を照 Jt "る：^には、光量は、通常 5 0 1 5 Om jZ c m2鍵である。次いで、 この ようにして形成されたハーフキュア状態の硬化層上に、 低屈折率層形成用塗工液をコーテ イングして翻莫を形成させ、 活性エネルギー線を十分に照 し、 編己ハーフキュア状態の 硬ィ! ^1と共に完全に硬化させる。 この際、 紫外線を照 JfTる齢、 光量は、 通常 2 0 0 1 0 0 Om j Z c m2@¾である。
このようにして、謝フィルム上に、 （A)層と（B)層間の密着性に優れる（A) ドコ 一ト層及び (B)低屈折率層力 S順次形成される。
このようにして條された本発明の繊防止フィルムにぉレ、ては、表面抵抗率が 5 X 1 012ΩΖ口以下である。 この表面雖率が 5 X 1 012Ω /口以下であれば、帯電防止性能が 発揮され、該 防止フィルムには、 埃や塵などが付着しにくくなる。表面抵抗率の下限 については特に制限はなレヽが、通常 1 X 1 0^/ロ禾 である。 また、本発明の Sit防止 フィノレムの可視光線の平均 率は 3 %以下である。 さらに、 （A)ハードコート層上に、 （B)活性エネルギー線照射による硬ィ a 脂を含む低 屈折率層力 S設けられてレ、るため、帯電防止性能の赚性に優れると共に、而纖 IJ性を有し、 藤 IJによる帯電防止性能の低下が抑制される。
なお、 表面 ί厳率の測定にっレヽては後で説明する。
このようにして、 各種画像表示素子の表面の光の ¾fを効果的に防止すると共に、 埃や 塵などの付着を抑制する帯電防止効果の 14¾ひ面擦傷 ί·生に優れ、 力っ耐額 ij性にも優 れる ¾f防止層が 1層タイプの ¾防止フィルムを得ることができる。
本発明の^ I防止フィルムにおいては、 謝フィルムの一方の面にハードコート層が設 けられている 、 該ハードコート層とは^] "側の面に、 液晶表示体などの被着体に貼着 させるための粘着剤層を形成させることができる。 この粘着剤層を構成する粘着剤として は、 光学用途用のもの、 例えばアクリル系粘着剤、 ウレタン系粘着剤、 シリコーン系粘着 剤が好ましく用いられる。 この粘着剤層の厚さは、 通常 5〜： 1 0 0 m、 好ましくは 1 0 ~ 6 Ο μ πιの範囲である。
さらに、 この粘着剤層の上に、 剥離フィルムを設けることができる。 この剥離フィルム としては、 例えばダラシン紙、 コート紙、 ラミネート紙などの ¾¾Ό ^種プラスチックフ イルムに、 シリコーン樹脂などの剥离錢 (Jを塗付したものなど力 S挙げられる。 この剥離フィ ルムの厚さについては特に制限はなレ、が、 通常 2 0〜1 ^である。 実施例
次に、 本発明を 例により、 さらに詳細に説明する力^本発明は、 これらの例によつ てなんら限定されるものではなレ、。
なお、 列で得られた繊防止フィルムの物性は、 以下に示す方法に従って測定した。
( 1 )波長 5 0 0 nm、 6 0 0 nm及び 7 0 0 nmにおける 率
分光光度計 [(株)島津製作所製 「UV_ 3 1 0 1 P C」 ] により、 波長 5 0 0 nm、 6 0 O n m及び 7 0 0 n mにおける反射率を測定した。
( 2)表面難率
J I S K 6 9 1 1に賴し、 （株)アドバンテスト觀デジタルエレクトロメーターに 連結した TO鷇亟を使用して測定した。 なお、 エタノール拭取り後の表面抵抗率は、 以下 のようにして測定した。
エタノールを染み込ませたガーゼで ffiiS折率層の表面を 5往復拭き、 さらに乾レヽたガー ゼで 5往復拭いたのち、 23°C、 相対湿度 50%の環境下に 30分間放置後、 前 E¾面抵 抗率の測定と同様にして行つた。
(3)耐擦衞生
スチールウール # 0000を使用し、荷重 9.8X 10— 3NZmm2で 5往復擦った後に目 視観察を行い、 下記の判定基準で麵した。
〇：傷が付かない。
X ：傷が付
実施例 1
( 1 ) A液 (ハードコート層形成用塗工液)の調製
3官能ァクリレートモノマーであるペンタエリスリトールトリアタリレート 亜合成 (株)製、 商品名 「ァロニックス M— 305」 、 固形分濃度 100%] 45重量部、 光重合 開 IJとして 2—メチルー 1— [ 4一（メチルチオ)フエニル] - 2—モルホリノ一プロパン 一 1—オン [チバ ·スペシャルティ ·ケミカルズ社製、 商品名 「ィルガキュア 907J 、 , 固形分濃度 100%] 0.9重量部、及び四級アンモニゥム塩基を有する高分子型のカチォ ン系帯電防止剤 [コルコートネ耀、 商品名 「コルコート NR— 12 IX- 9 I PAJ 、 固 形分濃度 9.5重量％] 90重量部からなる混合物を、 1ーメトキシ一 2—プロパノールで «して固形分濃度 35重量％の A液 (ハードコート層形成用塗工液)を調製した。
(2) B液 (低屈折率層形成用塗工衝の調製
3¾ gァクリレートモノマーであるペンタエリスリトールトリアタリレート 亜合成 (株)製、 商品名 「ァロニックス M—305」 、 固形分濃度 100%] 10重量部、 多孔性 シリカ粒子のメチルイソプチルケトン (MI BK)^¾体 某ィ 工業 (株)製、商品名 ΓΕ LCOM RT_1002S IV」、固开分濃度 21重量0 /0、多?し个生シリ力 ί子：比重 1. 8、屈折率 1.30、 - 6 Onm] 142重量咅 光重合開女 Uとして 2—メチ /レー 1一 [ 4— (メチルチオ)フエ-ル] - 2一モルホリノ一プロパン一 1—オン [チバ ·スぺシ ャルティ ·ケミカルズ社製、 商品名 「ィルガキュア 907J 、 固形分濃度 100%] 0. 5重量咅及びレベリンク ^ ^として変性ポリジメチルシロキサン レ ·ダウコ一二ングシ リコーン (株)'製、商品名 「SH28 PA」 、 固形分濃度 100%] 0.005重量部からな る混合物を、 MI BK/1—メトキシ一' 2—プロノ ノール混合翻 1J (重量比 1/1) して固形分濃度 2.5重量％の B液 (低屈折率層形成用塗工液)を調製した。
(3)¾f防止フィルムの SIオフィルムとして厚さ δθ^πιのトリァセチルセル口一スフィルム [富士写真フィル ム (株)製、 商品名 「T— 80UZJ ] 表面に、 嫌己（1)で得た Α液を硬ィ の厚さが 3 μ mになるように、 マイヤーバー N o . 8で塗布した。 次レ、で、 90 °Cで 1分間乾燥したの ち、 紫外線を光量 80m J /cm2で照 して、 ノ、ーフキュア状態に硬化させた。
次に、このハーフキュア画こ、編己（2)で得た B液を硬化後の厚さが 0. 1 μιηになるよ うにマイヤーバー N o . 4で塗布した。 次レ、で、 80。Cで 1分間乾燥したのち、 紫外線を 光量 350mjZc m2で照射して、完全硬化させ、トリァセチノ Hルロ一スフィルム上に、 屈折率 1. 50のハードコート層及び屈折率 1. 36の低屈折率層を順 城させることに より、 Sl方止フィルムを した。
このようにして條された 防止フィルムの物性を第 1表に示す。
なお、 各コート層の厚さは、 ； fc^m子 (株)製 「MCPD— 2000」 により測定し、 屈 折率は (株)ァタゴ製ァッべ屈折計 (N a 原、波長:約 590 nm)により測定した。（以下、 同様）
実施例 2
実施例 1 (1)におレ、て、 帯電防止剤 「コルコート NR— 1 21 X—9 I PA」 の使用量 を 60重量咅 βに変更した以外は、 例 1と同様に実施して、 防止フィルムをイ^し た。 ハードコート層の屈折率 : 1. 49
このようにして條した麵 P方止フィルムの物性を第 1表に示す。
難例 3
実施例 1 (2)におレ、て、 多孔性シリ力粒子の M I B K 体 「ELCOM RT—10 02 S I V」 の使用量を 120重量部に変更した以外は、 雄例 1と同様に実施して、 反 射防止フィルムを條した。 β折率層の屈折率 : 1.40
このようにしてィ懷した ^Ιί防止フィルムの物性を第 1表に示す。
比較例 1
実施例 1 (1)における Α液の調製において、 帯電防止剤を用いなかったこと以外は、 実 施例 1と同様に難して、 反射防止フィルムをィ懷した。 ノ、ードコート層の屈折率： 1. 49
このようにして した^ 防止フィルムの物性を第 1表に示す。
比較例 2
実施例 1 (1)の A液の調製にぉレ、て、 光重合開 IJ「ィルガキュア 907」 のィ細量を 1 . 8重量部に変更した以外は、猫例 1 ( 1 )と同様にして、ハードコート層形成用塗工液 を調製した。
次に、 基材フィルムとして、 厚さ 8 0 μ πιのトリァセチ /Hrルロ一スフイルム 「T 8 0 U Z」 （前出)表面に、 歸己ノヽードコート層形成用塗工液を硬化後の厚さが 3 μ πιになるよ うに、 マイヤーバー Ν ο . 8で塗布した。 次レヽで、 9 0 で 1分間車燥したのち、 紫外線 を光量 3 5 0 m j Z c m2で照 Jtして完全硬ィ匕させ、 ノ、一ドコートフィルムを した。 このようにして されたハードコートフィルムの物性を第 1表に示す。
第 1表
Figure imgf000017_0001
第 1表から、 本発明の蘭防止フィルム (実施例 ι〜 3 )は、 い も繊防止性に優れ ると共に、 初期及びエタノール拭取り後の表面 ί職が低く、 良好な帯電防止 ひ ¾■容剤 性を有しており、 耐擦傷 !·生にも優れている。
これに対し、 比較例 1は、 ハードコート層に帯電防止剤 ¾ ^んでいないので、 初期及び エタノール拭取り後の表面抵抗率が高 帯電防止性に劣る。 また、 比較例 2は、 低屈折 率層力 s設けられてレ、なレ、ので、 防止性に劣り、 力つエタノ一ル拭取り後の表面キ雕率 が高く、 而 1」性に劣る。 産業上の利用可能性
本発明の ^方止フィルムは、 画像表示素子の表面の光の sitを効果的に防止すると共 に、 埃や塵などの付着を抑制する帯電防止効果の赚隨ひ 擦傷 I·生に優れ、 力 B iJ 性にも優れており、 例えば P D P、 C RT, L CDなどのディスプレイに好適に用いられ る。

Claims

請求の範囲
1.謝フィルムの少なくとも一方の面に、（A)活性エネルギー線照射による硬ィ 脂と、 帯電防止剤 2〜 25重量0 /0を含む厚さ 1〜 20 μ πιのハードコート層、 及び (Β)活性エネ ルギ一線照射による硬ィ ΰ#脂と、多孔性シリカ粒子 30〜80重量0 /0を含む厚さ 0.0,5〜 0.3 μπιの低屈折率層を順に有し、 力、つ表面纖率が 5 X 1012ΩΖ口以下であることを とする自防止フィルム。
2. (A)層における帯電防止剤が、 分子内に 1個以上の四級アンモニゥム驢を有する力 チオン系帯電防止剤である請求の範囲 1に記載の ¾1 "防止フィルム。
3. (B)層における多孔性シリカ粒子が、 比重 1.7〜1.9、 屈折率 1.25〜1.36及 ぴ平均粒径 20〜：！ OOnmのものである請求の範囲 1又は 2に記載の反射防止フィルム (
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