CN101099093A - 防反射薄膜 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种防反射薄膜，其在基材薄膜的至少一面上，依次具有(A)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和2～25重量％的防带电剂的硬涂层，厚度为1～20μm；以及(B)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和30～80重量％的多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层，厚度为0.05～0.3μm，且表面电阻率为5×1012Ω/□以下。具有如下特征：防反射层是1层，其能有效防止图像显示元件的表面的光反射，同时，抑制尘埃和灰尘等附着的防带电效果的持续性和耐擦伤性优异，且耐溶剂性也优异。

Description

防反射薄膜
技术领域
本发明涉及防反射薄膜，更具体地说，涉及防反射层是1层类型的防反射薄膜，其能有效防止等离子体显示器(PDP)、阴极射线管(CRT)、液晶显示器(LCD)等图像显示元件表面的光反射，以及抑制尘埃和灰尘等附着的防带电效果的持续性和耐擦伤性优异，且耐溶剂性也优异。
背景技术
在PDP、CRT、LCD等显示器中，从外部向画面照射光线，会发生该光产生反射而无法看见显示图像的情况，尤其是近年来，伴随着显示器的大型化，解决上述问题变成越来越重要的课题。
为了解决这样的问题，迄今为止，对各种显示器进行各种防反射处理和防眩处理。作为其中一种方法，在各种显示器上使用防反射薄膜。
该防反射薄膜目前使用通过蒸镀或溅射等干式处理法，从而在基材薄膜上将低折射率的物质(MgF2)薄膜化的方法或将折射率高的物质[ITO(掺杂锡的氧化铟)、TiO2等]与折射率低的物质(MgF2、SiO2等)交互叠层的方法等制备。然而，通过这样的干式处理法制备的防反射薄膜存在无法避免制造成本高的问题。
因此，近年来，尝试了通过湿式处理法，即涂布法制备防反射薄膜。然而，在该通过湿式处理法制备的防反射薄膜中，与上述通过干式处理法制备的防反射薄膜相比，产生表面的耐擦伤性恶化这样的问题。
因此，为了解决湿式处理法中的上述问题，使用电离放射线固化型树脂组合物形成固化层(硬涂层)。公开了例如在基材薄膜上，(1)依次层叠(A)含有通过电离放射线形成的固化树脂且厚度为2～20μm的硬涂层；(B)含有通过电离放射线形成的固化树脂和包括掺杂锑的氧化锡的至少2种金属氧化物、折射率在1.65～1.80的范围内、厚度为60～160nm的高折射率层、和(C)含有硅氧烷类聚合物、折射率在1.37～1.47的范围内、厚度为80～180nm的低折射率层而形成的光学用薄膜(参见例如专利文献1)；(2)依次层叠(A)含有金属氧化物和通过热或电离放射线形成的固化物、厚度为2～20μm的硬涂层和(B)含有多孔性二氧化硅和聚硅氧烷类聚合物、折射率在1.30～1.45的范围内、厚度为40～200nm的低折射率层而形成的光学用薄膜(参见例如专利文献2)等。
这些光学用薄膜有效防止图像显示元件的表面光反射，同时是耐擦伤性良好的防反射薄膜。
另一方面，在防反射薄膜中，为了防止尘埃和灰尘等的粘附，要求持续性优异的防带电性能。为了在上述光学用薄膜中赋予持续性优异的防带电性能，例如，可以在(1)的光学用薄膜中，作为(B)高折射率层的金属氧化物使用具有防带电性的金属氧化物，或在(2)的光学用薄膜中，作为(A)高折射率层的金属氧化物使用具有防带电性的金属氧化物。
然而，现状是在仅在硬涂层上层叠低折射率层的1层类型中，迄今为止还没有开始在低折射率层上使用硅氧烷化合物以外的具有防带电性能的防反射薄膜。
专利文献1：日本特开2002-341103号公报
专利文献2：日本特开2003-139908号公报
发明内容
本发明鉴于这样的事实，目的是提供一种能有效防止PDP、CRT、LCD等图像显示元件表面的光反射，同时抑制尘埃和灰尘等附着的防带电效果的持续性和耐擦伤性优异，且耐溶剂性也优异的防反射层是1层类型的防反射薄膜。
本发明者为了开发具有上述优异性能的防反射薄膜，进行了深入的研究，结果发现通过在基材薄膜上依次层叠含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和特定量的防带电剂的硬涂层、和含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和特定量的多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层，能实现该目的，基于该认识而完成本发明。
即，本发明提供：
(1)一种防反射薄膜，其特征在于在基材薄膜的至少一面上，依次具有(A)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和2～25重量％的防带电剂的硬涂层，厚度为1～20μm；以及(B)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和30～80重量％的多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层，厚度为0.05～0.3μm，且该防反射薄膜表面电阻率为5×1012Ω/□以下，
(2)如上述(1)项所述的防反射薄膜，(A)层中的防带电剂是在分子内具有1个以上季铵盐基的阳离子类防带电剂，和
(3)如上述(1)或(2)项所述的防反射薄膜，(B)层中的多孔性二氧化硅颗粒比重为1.7～1.9，折射率为1.25～1.36和平均粒径为20～100nm。
具体实施方式
本发明的防反射薄膜具有通过湿式处理法，在基材薄膜的至少一面上依次层叠(A)硬涂层和(B)低折射率层的结构。
对本发明防反射薄膜中的基材薄膜没有特别的限制，可以从作为现有防反射薄膜的基材而公知的塑料薄膜中适当选择使用。作为这样的塑料薄膜，可以列举例如聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚对萘二甲酸乙二酯等聚酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、赛璐玢、二乙酰基纤维素薄膜、三乙酰基纤维素薄膜、乙酰基纤维素丁酸酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚砜薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚砜薄膜、聚醚酰亚胺薄膜、聚酰亚胺薄膜、氟树脂薄膜、聚酰胺薄膜、丙烯酸树脂薄膜、降冰片烯类树脂薄膜、环烯烃树脂薄膜等。
这些基材薄膜可以是透明、半透明的任一种，或者可以是着色的、也可以是无着色的，可以根据用途适当选择。例如，在作为液晶显示体保护使用的情况下，优选无色透明的薄膜。
对这些基材薄膜的厚度没有特别的限制，可以适当选定，通常在15～250μm，优选在30～200μm的范围内。此外，该基材薄膜为了提高与在表面上设置的层的粘合性，根据期望，在一面或两面上通过氧化法或凹凸化法等进行表面处理。作为上述氧化法，可以列举电晕放电处理、铬酸处理(湿式)、火焰处理、热风处理、臭氧·紫外线照射处理等。此外，作为凹凸化法，可以列举例如喷砂法、溶剂处理法等。这些表面处理法可以根据基材薄膜的种类适当选择，通常，从效果和操作性等方面出发，优选使用电晕放电处理法。此外，可以使用在一面或两面上进行底涂层处理。
在本发明的防反射薄膜中，在上述基材薄膜的至少一面上，首先设置(A)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂和防带电剂的硬涂层。
该包含通过活性能量线照射形成的固化树脂和防带电剂的硬涂层例如可以将含有活性能量线固化性化合物、上述防带电剂和根据期望而含有光聚合引发剂等的硬涂层形成用涂布液在基材薄膜的至少一面上涂层，形成涂膜，照射活性能量线以固化该涂膜，从而形成。
其中，所谓的活性能量线固化性化合物是指通过照射在电磁波或带电粒子线中具有能量量子的射线，即照射紫外线或电子线等，从而交联固化的化合物。
作为这样的活性能量线固化性化合物，可以列举例如光聚合性预聚物和/或光聚合性单体。在上述光聚合性预聚物中包括自由基聚合型和阳离子聚合型，作为自由基聚合型的光聚合性预聚物，可以列举例如聚酯丙烯酸酯类、环氧丙烯酸酯类、聚氨酯丙烯酸酯类、多元醇丙烯酸酯类等。其中，作为聚酯丙烯酸酯类预聚物，例如可以通过由多元羧酸和多元醇缩合获得的在两末端具有羟基的聚酯低聚物的羟基通过(甲基)丙烯酸酯化，或通过在多元羧酸中加成环氧烷基获得的低聚物的末端的羟基通过(甲基)丙烯酸酯化而获得。
环氧丙烯酸类预聚物例如可以在较低分子量的双酚型环氧树脂或酚醛型环氧树脂的环氧乙烷环内，通过反应(甲基)丙烯酸酯化而获得。聚氨酯丙烯酸酯类预聚物例如可以将聚醚多元醇或聚酯多元醇与聚异氰酸酯反应而获得的聚氨酯低聚物通过(甲基)丙烯酸酯化而获得。此外，多元醇丙烯酸酯类预聚物可以将聚醚多元醇的羟基通过(甲基)丙烯酸酯化而获得。这些光聚合性预聚物可以使用1种，也可以将2种以上组合使用。
另一方面，作为阳离子聚合型光聚合型预聚物，通常使用环氧类树脂。作为该环氧类树脂，可以列举例如对双酚树脂或酚醛树脂等多元酚类通过表氯醇等而环氧化的化合物、将直链状烯烃化合物或环状烯烃化合物通过过氧化物氧化获得的化合物等。
作为光聚合性聚合物，可以列举例如1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊醇己二酸二(甲基)丙烯酸酯、羟基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二环戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性的磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化环己基二(甲基)丙烯酸酯、异氰尿酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性的三甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯氧基乙基)异氰尿酸酯、丙酸改性的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等多官能团丙烯酸酯。这些光聚合性单体可以使用1种，也可以将2种以上组合使用，此外，还可以联用光聚合性预聚物。
作为根据期望使用的光聚合引发剂，对于自由基聚合型的光聚合性预聚物或光聚合性单体，可以列举例如苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻正丁基醚、苯偶姻异丁基醚、苯乙酮、二甲基氨基苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉-丙-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-2-(羟基-2-丙基)酮、二苯酮、对苯基二苯酮、4，4’-二乙基氨基二苯酮、二氯二苯酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、苄基二甲基缩酮、苯乙酮二甲基缩酮、对二甲基胺苯甲酸酯等。此外，作为阳离子聚合型光聚合性预聚物的光聚合引发剂，可以列举例如包括芳香族硫离子、芳香族氧代硫离子、芳香族碘离子等与四氟硼酸盐、六氟磷酸盐、六氟锑酸盐、六氟砷酸盐等阴离子的化合物。这些物质可以使用1种，也可以将2种以上组合使用，此外，其混合量相对于100重量份上述光聚合性预聚物和/或光聚合性单体，通常在0.2～10重量份的范围内选择。
另一方面，对硬涂层中所含的防带电剂没有特别的限制，可以使用选自目前公知的非离子类、阴离子类、阳离子类、两性类防带电剂中的至少1种。在这些物质中，从效果和对硬涂层的均匀分散性的观点出发，优选在分子内具有1个以上季铵盐基的阳离子类防带电剂。
具有季铵盐基的阳离子类防带电剂可以使用低分子型和高分子型的任一种，从效果的持续型以及泄漏或气体产生的防止性等观点出发，优选高分子型阳离子类防带电剂。
作为上述高分子型阳离子类防带电剂，可以使用目前公知的物质中，适当选择任意的物质使用。具体地说，可以优选列举在分子内具有式(I)表示的具有季铵盐基的高分子聚合物。
Figure A20058004609800091
(式中，R1和R2分别表示相同或不同的碳原子数为1～10的烷基，R3表示碳原子数为1～10的烷基或碳原子数为7～10的芳烷基，Xn-表示n价的阴离子，n表示1～4的整数。)
在上述式(I)中，作为R1和R2表示的烷基和R3中的烷基，优选为碳原子数为1～6的烷基，尤其是碳原子数为1～4的烷基，此外，作为R3中的芳烷基，优选苄基。作为碳原子数为1～4的烷基，可以列举甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基。
另一方面，Xn-可以是无机阴离子、有机阴离子的任一种，作为其例子，可以列举F-、Cl-、Br-、I-的卤素阴离子、NO3 -、ClO4 -、BF4 -、CO3 2-、SO4 2-等无机阴离子、CH3OSO3 -、C2H5OSO3 -、以及包括乙酸、丙酸、琥珀酸、马来酸、富马酸、对甲苯磺酸、三氟乙酸等有机酸的残基的有机阴离子。
作为这样的高分子型季铵盐类防带电剂，可以列举例如以下所示的化合物，即，聚乙烯苄基型[(a)]、聚(甲基)丙烯酸酯型[(b)]、苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物型[(c)]、苯乙烯-马来酰亚胺共聚物型[(d)]、甲基丙烯酸酯-甲基丙烯酰亚胺共聚物型[(e)]等。另外，在(c)、(d)和(e)的共聚物型中，还可以是无规共聚物型和嵌段共聚物型的任一种。
(其中，R表示H或CH3)
Figure A20058004609800111
(其中，R表示H或CH3)
(其中，在上述(a)-(e)中，x、y、w表示聚合度(3-30))
在本发明中，该高分子型阳离子类防带电剂可以使用1种，也可以将2种以上组合使用。
另一方面，作为低分子型阳离子类防带电剂，可以优选列举例如式(II)表示的具有季铵盐基的化合物。
Figure A20058004609800113
(式中，A表示碳原子数为10～30的烷基、R4和R5分别表示相同或不同的碳原子数为10的烷基，R6表示碳原子数为1～10的烷基或碳原子数为7～10的芳烷基，Ym-表示m价的阴离子，m表示1～4的整数。)
作为上述(II)中A的例子，可以列举月桂基等十二烷基、肉豆蔻基等十四烷基、棕榈基等十六烷基、硬脂基等十八烷基、二十烷基、二十二烷基等。
此外，R4、R5、R6、Ym-和m分别与式(I)中的R1、R2、R3、Xn-和n相同。
在本发明中，该低分子型阳离子类防带电剂可以使用1种，也可以将2种以上组合使用。
此外，在本发明中，作为防带电剂，还可以使用在分子内具有1个以上季铵盐基和1个以上聚合性不饱和基的反应性阳离子类防带电剂。
通过使用这样的反应性阳离子类防带电剂，在照射活性能量线时，能与上述活性能量线固化性化合物共聚，混入形成的高分子链中，因此所得防反射薄膜的防带电性能的持续性得到提高。
作为该反应性阳离子类防带电剂，可以列举例如式(III)表示的反应性季铵盐类化合物等。
Figure A20058004609800121
(式中，R表示氢原子或甲基。)
在本发明中，该反应性阳离子类防带电剂可以使用1种，也可以将2种以上组合使用。此外，可以适当组合使用上述高分子型阳离子类防带电剂、低分子型阳离子类防带电剂和反应性阳离子类防带电剂。
在本发明中，作为(A)层的硬涂层中上述防带电剂的含量在2～25重量％的范围内选择。只要该防带电剂的含量在上述范围内，则防反射薄膜能发挥良好的防带电性能，且不会对其它性能产生坏的影响。该含量优选在3～25重量％，更优选在5～20重量％的范围内。
本发明中使用的该硬涂层形成用涂布液，根据需要可以通过在适当的溶剂中，分别按照规定的比例加入上述活性能量线固化性化合物和防带电剂，根据期望使用的上述光聚合引发剂、以及各种添加剂，例如防氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、均化剂、消泡剂等，以溶解或分散而制备。
作为此时使用的溶剂，可以列举例如己烷、庚烷、环己烷等脂肪族烃、甲苯、二甲苯等芳香族烃、二氯甲烷、二氯乙烷等卤化烃、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、1-甲氧基-2-丙醇等醇、丙酮、甲乙酮、2-戊酮、甲基异丁基酮、异佛尔酮等酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯、乙基溶纤剂等溶纤剂类溶剂等。
作为由此制备的涂布液的浓度、粘度，只要是可以涂布的浓度、粘度即可，没有特别的限制，可以根据状况适当选择。
然后，在基材薄膜的至少一面上，使用目前公知的方法，例如棒涂法、刀涂法、辊涂法、刮片涂布法、模涂布法、照相凹版涂布法等，涂布上述涂布液而形成涂膜，干燥后，在其中照射活性能量线以固化该涂膜，从而形成硬涂层。
作为活性能量线，可以列举例如紫外线或电子线。上述紫外线用高压水银灯、熔合H灯、氙灯等获得。另一方面，电子线通过电子线加速器等获得。在该活性能量线中，特别优选紫外线。另外，在使用电子线的情况下，可以无需添加聚合引发剂而获得固化膜。
在本发明中，(A)硬涂层厚度在1～20μm的范围内。该厚度不足1μm的话，恐怕无法充分发挥所得的防反射薄膜的耐擦伤性，此外，如果超过20μm，则会在硬涂层上产生裂缝。该硬涂层的优选厚度在2～15μm的范围内。
在本发明的光学用薄膜中，该(A)硬涂层的折射率通常在1.45～1.60，优选在1.49～1.55的范围内。
在本发明的防反射薄膜中，在上述硬涂层中设置(B)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂和多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层。
包含通过该活性能量线照射形成的固化树脂和多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层例如可以在(A)硬涂层上通过将包含活性能量线固化性化合物、上述多孔性二氧化硅颗粒和根据期望的光聚合引发剂的低折射率层形成用涂布液涂布而形成涂膜，照射活性能量线使该涂膜固化，而形成。
对于上述活性能量线固化性化合物以及根据期望使用的光聚合引发剂，如在上述(A)硬涂层的说明中所示。
作为该(B)层包含的多孔性二氧化硅颗粒，优选使用比重为1.7～1.9，折射率为1.25～1.36和平均粒径在20～100nm的范围内。通过使用具有该性状的多孔性二氧化硅颗粒，能获得防反射性能优异的1层类型的防反射薄膜。
在本发明中，该(B)层中的多孔性二氧化硅颗粒的含量在30～80重量％的范围内选择。只要该多孔性二氧化硅颗粒的含量在上述范围内，则该(B)层为具有期望低折射率的层，所得防反射薄膜的防反射性优异。该多孔性二氧化硅颗粒的优选含量为50～80重量％，特别优选在60～75重量％的范围内。
该(B)层的厚度为0.05～0.3μm，折射率通常在1.30～1.42的范围内。只要该(B)层的厚度和折射率在上述范围内，则能获得防反射性能、防带电性能和耐擦伤性优异的防反射薄膜。(B)层的厚度优选为0.07～0.13μm，折射率优选在1.35～1.40的范围内。
本发明中使用的该低折射率层形成用涂布液根据需要，可以通过在适当的溶剂中，分别按照规定的比例加入上述活性能量线固化性化合物、多孔性二氧化硅颗粒、根据期望使用的上述光聚合引发剂、以及各种添加剂，例如防氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、均化剂、消泡剂等，以溶解或分散而制备。
对于此时使用的溶剂，如在上述硬涂层形成用涂布液的说明中所示。
作为由此制备的涂布液的浓度、粘度，只要是可以涂布的浓度、粘度即可，没有特别的限制，可以根据状况适当选择。
在(A)硬涂层上，使用目前公知的方法，例如棒涂法、刀涂法、辊涂法、刮片涂布法、模涂布法、照相凹版涂布法等，涂布该涂布液而形成涂膜，干燥后，在其中照射活性能量线以固化该涂膜，从而形成(B)低折射率层。
对于活性能量线，如在上述硬涂层的说明中所示。
在本发明中，上述(A)硬涂层和(B)低折射率层的形成，按照以下所示的方法进行是有利的。
首先，在基材薄膜的一面上涂布硬涂层形成用涂布液而形成涂膜，照射活性能量线以固化至半固化状态。此时，在照射紫外线的情况下，光量通常为50～150mJ/cm2左右。然后，在由此形成的半固化状态的固化层上，涂布低折射率层形成用涂布液而形成涂膜，充分照射活性能量线，与上述半固化状态的固化层一起完全固化。此时，在照射紫外线的情况下，光量通常为200～1000mJ/cm2左右。
由此，在基材薄膜上，依次形成(A)层与(B)层间粘合性优异的(A)硬涂层和(B)低折射率层。
在由此制备的本发明的防反射薄膜中，表面电阻率为5×1012Ω/□以下。只要该表面电阻率为5×1012Ω/□以下，则能发挥防带电性能，在该防反射薄膜中，很难附着尘埃和灰尘。对表面电阻率的下限没有特别的限制，通常为1×108Ω/□左右。此外，本发明防反射薄膜可见光线的平均反射率为3％以下。
此外，由于在(A)硬涂层上设置(B)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂的低折射率层，因此防带电性能的持续性优异，且具有耐溶剂性，能抑制由于溶剂导致的防带电性能的降低。
另外，对表面电阻率的测定在后面进行说明。
由此，可以获得能有效防止各种图像显示元件的表面光反射，以及抑制尘埃和灰尘附着的防带电效果的持续性和耐擦伤性优异，且耐溶剂性也优异的防反射层是1层类型的防反射薄膜。
在本发明的防反射薄膜中，在基材薄膜的一面上设置硬涂层的情况下，可以在与该硬涂层相反侧的面上形成用于贴附液晶显示体等粘附体的粘合剂层。作为构成该粘合剂层的粘合剂，优选使用光学用途用的物质，例如丙烯酸酯类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、聚硅氧烷类粘合剂。该粘合剂层的厚度通常在5～100μm，优选在10～60μm的范围内。
此外，可以在该粘合剂层上设置剥离薄膜。作为该剥离薄膜，可以列举例如在薄玻璃纸、铜板纸、层压纸等纸和各种塑料薄膜上涂覆硅氧烷树脂等剥离剂的薄膜。对该剥离薄膜的厚度没有特别的限制，通常为20～150μm左右。
实施例
以下，通过实施例对本发明进行详细的说明，但本发明并不通过这些例子进行任何的限定。
另外，各例中获得的防反射薄膜的物性根据以下所示方法测定。
(1)波长500nm、600nm和700nm中的反射率
通过分光光度计[(株)岛津制作所制“UV-3101PC”]，测定波长500nm、600nm和700nm中的反射率。
(2)表面电阻率
根据JIS K 6911，使用与(株)アドバンテスト公司生产的数字静电计连接的平行电极进行测定。另外，乙醇擦拭后的表面电阻率按如下测定。
用渗入乙醇的纱布来回擦拭低折射率层的表面5次，再用干的纱布来回擦拭5次后，在23℃、相对湿度50％的环境下放置30分钟，然后与上述表面电阻率的测定同样进行。
(3)耐擦伤性
使用不锈钢绒#0000，在负荷9.8×10-3N/mm2下来回擦拭5次后，目视观察，按下述的判定标准进行评价。
○：没有擦伤
×：产生擦伤
实施例1
(1)A液(硬涂层形成用涂布液)的制备
将由45重量份作为3官能丙烯酸酯单体的季戊四醇三丙烯酸酯[东亚合成(株)制造，商品名“アロニツクスM-305”、固体成分浓度100％]、0.9重量份作为光聚合引发剂的2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉-丙-1-酮[チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ公司生产，商品名“イルガキユア907”，固体成分浓度100％]和90重量份作为具有季铵盐基的高分子型的阳离子类防带电剂[コルコ-ト公司生产、商品名“コルコ-トNR-121X-9IPA”、固体成分浓度9.5重量％]构成的混合物用1-甲氧基-2-丙醇稀释，从而制备固体成分浓度35重量％的A液(硬涂层形成用涂布液)。
(2)B液(低折射率层形成用涂布液)的制备
将由10重量份作为3官能丙烯酸酯单体的季戊四醇三丙烯酸酯[东亚合成(株)制造，商品名“アロニツクスM-305”、固体成分浓度100％]、142重量份多孔性二氧化硅颗粒的甲基异丁基酮(MIBK)分散体[触媒化成工业(株)制造，商品名“ELCOM RT-1002SIV”，固体成分浓度21重量％，多孔性二氧化硅颗粒：比重1.8，折射率1.30，平均粒径60nm]、0.5重量份作为光聚合引发剂的2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉-丙-1-酮[チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ公司生产，商品名“イルガキユア907”，固体成分浓度100％]和0.005重量份作为均化剂的改性聚二甲基硅氧烷[东レ·ダウコ-ニングシリコ-ン(株)制造，商品名“SH28PA”、固体成分浓度100％]构成的混合物用MIBK/1-甲氧基-2-丙醇混合溶剂(重量比1/1)稀释，从而制备固体成分浓度2.5重量％的B液(低折射率层形成用涂布液)。
(3)防反射薄膜的制备
在作为基材薄膜的厚度80μm的三乙酰基纤维素薄膜[富士写真フイルム(株)制造，商品名“T-80UZ”]的表面上，用マイヤ-バ-No.8涂布上述(1)中获得的A液，使得固化后的厚度为3μm。然后，在90℃下干燥1分钟后，以光量80mJ/cm2照射紫外线，固化至半固化状态。
然后，在该半固化面上，用マイヤ-バ-No.4涂布上述(2)中获得的B液，使得固化后的厚度为0.1μm。然后，在80℃下干燥1分钟后，以光量350mJ/cm2照射紫外线，完全固化，在三乙酰基纤维素薄膜上依次形成折射率1.50的硬涂层和折射率1.36的低折射率层，从而制备防反射薄膜。
由此制备的防反射薄膜的物性在表1中示出。
另外，各涂层的厚度通过大塚电子(株)制造的“MCPD-2000”测定，折射率通过(株)アタゴ生产的アツベ折射计(Na光源，波长：约590nm)测定。(以下相同)
实施例2
除了将实施例1(1)中防带电剂“コルコ-トNR-121X-9IPA”的使用量改变为60重量份以外，与实施例1同样进行，制备防反射薄膜，硬涂层的折射率：1.49
由此制备的防反射薄膜的物性在表1中示出。
实施例3
除了将实施例1(2)中多孔性二氧化硅颗粒的MIBK分散体“ELCOM RT-1002SIV”的使用量改变为120重量份以外，与实施例1同样进行，制备防反射薄膜，低折射率层的折射率：1.40
由此制备的防反射薄膜的物性在表1中示出。
比较例1
除了在实施例1(1)中A液的制备中，不使用防带电剂以外，与实施例1同样进行，制备防反射薄膜，硬涂层的折射率：1.49
由此制备的防反射薄膜的物性在表1中示出。
比较例2
除了将在实施例1(1)中A液的制备中，光聚合引发剂“イルガキユア907”的使用量改变为1.8重量份以外，与实施例1(1)同样，制备硬涂层形成用涂布液。
然后，在作为基材薄膜的厚度80μm的三乙酰基纤维素薄膜“T80UZ”(前述)的表面上，用マイヤ-バ-No.8涂布上述硬涂层形成用涂布液，使得固化后的厚度为3μm。然后，在90℃下干燥1分钟后，以光量350mJ/cm2照射紫外线以完全固化，制备硬涂层薄膜。
由此制备的硬涂层薄膜的物性在表1中示出。
                                表1
               反射率(％)       表面电阻率(Ω/□) 耐擦伤性
    500nm     600nm     700nm  初期  乙醇擦拭后
实施例1     1.6     1.5     1.8  2.0×1012  2.5×1012     ○
实施例2     1.6     1.5     1.7  3.5×1012  3.9×1012     ○
实施例3     2.0     1.7     1.9  9.2×1011  1.8×1012     ○
比较例1     1.6     1.5     1.8  5.0×1016  6.0×1016     ○
比较例2     4.5     4.4     4.3  2.8×1011  1.8×1015     ○
由表1可见，本发明的防反射薄膜(实施例1～3)的防反射性均优异，同时，初期和乙醇擦拭后的表面电阻较低，具有良好的防带电性和耐溶剂性，耐擦伤性也优异。
相反，比较例1由于在硬涂层中不包含防带电剂，因此初期和乙醇擦拭后的表面电阻率较高，防带电性不好。此外，比较例2由于没有设置低折射率层，因此防反射性不好，且乙醇擦拭后的表面电阻率较高，耐溶剂性不好。
工业上的可利用性
本发明的防反射薄膜能有效防止图像显示元件表面的光反射，及抑制尘埃和灰尘附着的防带电效果的持续性和耐擦伤性优异，且耐溶剂性也优异，能适用于例如PDP、CRT、LCD等显示器中。

Claims (3)

1.一种防反射薄膜，其特征在于在基材薄膜的至少一面上，依次具有(A)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和2～25重量％的防带电剂的硬涂层，厚度为1～20μm；以及(B)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和30～80重量％的多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层，厚度为0.05～0.3μm，且该防反射薄膜表面电阻率为5×1012Ω/□以下。
2.如上述权利要求1所述的防反射薄膜，(A)层中的防带电剂是在分子内具有1个以上季铵盐基的阳离子类防带电剂。
3.如上述权利要求1或2所述的防反射薄膜，(B)层中的多孔性二氧化硅颗粒比重为1.7～1.9，折射率为1.25～1.36和平均粒径为20～100nm。
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