JP2012072275A - ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】膜硬度に優れ、フィルムのカールが抑制され、かつ透明基材との密着性に優れたハードコート層を有する光学フィルムを提供し得るハードコート層形成用組成物の提供。
【解決手段】（ａ）光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造を有するポリエチレンオキシド化合物（ｎは１〜５０の数を表す）、（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル、（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物、及び（ｄ）光重合開始剤を含有するハードコート層形成用組成物であって、（ｂ）成分の含有割合が、該ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量に対して５〜８０質量％である、ハードコート層形成用組成物。
【選択図】なし
【解決手段】（ａ）光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造を有するポリエチレンオキシド化合物（ｎは１〜５０の数を表す）、（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル、（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物、及び（ｄ）光重合開始剤を含有するハードコート層形成用組成物であって、（ｂ）成分の含有割合が、該ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量に対して５〜８０質量％である、ハードコート層形成用組成物。
【選択図】なし
Description
本発明は、ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置に関する。
陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面への傷付きを防止するために、透明基材上にハードコート層を有するハードコートフィルムなどの光学フィルムを設けることが好適である。
ハードコート層を有する光学フィルムは、しばしば透明基材上に硬化性化合物を含有するハードコート層形成用組成物を塗布し、該硬化性化合物を硬化させることで製造される。
ハードコート層を有する光学フィルムは、しばしば透明基材上に硬化性化合物を含有するハードコート層形成用組成物を塗布し、該硬化性化合物を硬化させることで製造される。
ハードコート層を形成する際、基材とハードコート層との密着性を向上させるために、ハードコート層形成用組成物には、基材を溶解する溶媒がしばしば用いられる。例えば、特許文献１及び２では、光学フィルム上の機能層（ハードコート層又は防眩層）形成用組成物に、溶媒として炭酸ジメチルを用い、硬化性化合物として多官能のウレタンアクリレート化合物を使用することが記載されている。
しかしながら、基材溶解性の高い溶媒を大量に用いると、基材を多く溶かし過ぎ、ハードコート層と基材の混合領域が広がりすぎ、硬化性化合物の硬化時に基材のハードコート層側が強く収縮を受け、フィルムが強くカールしてしまう。特に近年は、ディスプレイの薄型化に伴って基材フィルムの薄膜化が進んでいることにより、カールの悪化の度合いがよりシビアになっており、カール低減への要望が強くなっている。
一方、基材溶解性の高い溶媒を小量で用いたり、基材溶解性の低い溶媒を用いた場合には十分な密着性が得られない場合がある。
更に、基材成分がハードコート層中に多量に混入すると、ハードコート層の架橋密度が低下し、硬度の悪化を招くことも問題となっており、密着性、硬度、カールの全てに対して優れるハードコート層を有する光学フィルムが求められる。
一方、基材溶解性の高い溶媒を小量で用いたり、基材溶解性の低い溶媒を用いた場合には十分な密着性が得られない場合がある。
更に、基材成分がハードコート層中に多量に混入すると、ハードコート層の架橋密度が低下し、硬度の悪化を招くことも問題となっており、密着性、硬度、カールの全てに対して優れるハードコート層を有する光学フィルムが求められる。
本発明の目的は、膜硬度に優れ、フィルムのカールが抑制され、かつ透明基材との密着性に優れたハードコート層を有する光学フィルムを提供し得るハードコート層形成用組成物を提供することである。
本発明の別の目的は、膜硬度に優れ、フィルムのカールが抑制され、かつ透明基材とハードコート層との密着性に優れるハードコート層を有する光学フィルムを提供することである。
本発明の更なる別の目的は、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することである。
本発明の別の目的は、膜硬度に優れ、フィルムのカールが抑制され、かつ透明基材とハードコート層との密着性に優れるハードコート層を有する光学フィルムを提供することである。
本発明の更なる別の目的は、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することである。
本発明者らは前記課題を解決するために鋭意検討し、ハードコート層塗布用組成物に用いる溶媒と添加剤について以下のような知見を得た。
（１）基材を溶解する溶媒と溶解しない溶媒を適切な比率で混合させることにより、基材を適度に溶かすことで、優れた密着性と硬度が得られ、かつカールを抑制する。
（２）更に、上記（１）に加えて、ハードコート層形成用組成物に、光重合可能な基を１つ以上有し、かつポリエチレンオキシド構造を有する化合物を添加すると、カール性が更に改良される。この効果は、膜中にポリエチレンオキシド鎖が導入されたことにより得られると推測される柔軟性よりも更に顕著な改良効果であることから、そのメカニズムについては未だ明らかではないが、該化合物が集中的に基材側に集まる（局在する）ことにより、カールが更に改良されたものと推測される。
これらの知見をもとに、下記手段により、前記課題を解決し目的を達成し得ることを見出した。
（１）基材を溶解する溶媒と溶解しない溶媒を適切な比率で混合させることにより、基材を適度に溶かすことで、優れた密着性と硬度が得られ、かつカールを抑制する。
（２）更に、上記（１）に加えて、ハードコート層形成用組成物に、光重合可能な基を１つ以上有し、かつポリエチレンオキシド構造を有する化合物を添加すると、カール性が更に改良される。この効果は、膜中にポリエチレンオキシド鎖が導入されたことにより得られると推測される柔軟性よりも更に顕著な改良効果であることから、そのメカニズムについては未だ明らかではないが、該化合物が集中的に基材側に集まる（局在する）ことにより、カールが更に改良されたものと推測される。
これらの知見をもとに、下記手段により、前記課題を解決し目的を達成し得ることを見出した。
１．
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物であって、下記（ｂ）成分の含有割合が、該ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量に対して５〜８０質量％である、ハードコート層形成用組成物。
（ａ）光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造を有するポリエチレンオキシド化合物（ｎは１〜５０の数を表す）
（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤
２．
前記（ｂ）として、炭酸ジメチルのみを含有する、上記１に記載のハードコート層形成用組成物。
３．
前記（ａ）ポリエチレンオキシド化合物が２個又は３個の光重合可能な基を有する、上記１又は２に記載のハードコート層形成用組成物。
４．
前記（ａ）ポリエチレンオキシド化合物が有する光重合可能な基が（メタ）アクリロイルオキシ基である、上記１〜３のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
５．
前記（ａ）ポリエチレンオキシド化合物におけるｎが１〜３０である、上記１〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
６．
更に（ｅ）導電性化合物を含有する上記１〜５のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
７．
透明基材上に、上記１〜６のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有する光学フィルム。
８．
前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである上記７に記載の光学フィルム。
９．
上記７又は８に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
１０．
上記７若しくは８に記載の光学フィルム、又は上記９に記載の偏光板を有する画像表示装置。
１１．
セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に上記１〜６のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物であって、下記（ｂ）成分の含有割合が、該ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量に対して５〜８０質量％である、ハードコート層形成用組成物。
（ａ）光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造を有するポリエチレンオキシド化合物（ｎは１〜５０の数を表す）
（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤
２．
前記（ｂ）として、炭酸ジメチルのみを含有する、上記１に記載のハードコート層形成用組成物。
３．
前記（ａ）ポリエチレンオキシド化合物が２個又は３個の光重合可能な基を有する、上記１又は２に記載のハードコート層形成用組成物。
４．
前記（ａ）ポリエチレンオキシド化合物が有する光重合可能な基が（メタ）アクリロイルオキシ基である、上記１〜３のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
５．
前記（ａ）ポリエチレンオキシド化合物におけるｎが１〜３０である、上記１〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
６．
更に（ｅ）導電性化合物を含有する上記１〜５のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
７．
透明基材上に、上記１〜６のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有する光学フィルム。
８．
前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである上記７に記載の光学フィルム。
９．
上記７又は８に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
１０．
上記７若しくは８に記載の光学フィルム、又は上記９に記載の偏光板を有する画像表示装置。
１１．
セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に上記１〜６のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
本発明によれば、膜硬度に優れ、フィルムのカールが抑制され、かつ透明基材との密着性に優れたハードコート層を有する光学フィルムを提供し得るハードコート層形成用組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、膜硬度に優れ、フィルムのカールが抑制され、かつ透明基材とハードコート層との密着性に優れるハードコート層を有する光学フィルムを提供することができる。
更に本発明によれば、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することができる。
また、本発明によれば、膜硬度に優れ、フィルムのカールが抑制され、かつ透明基材とハードコート層との密着性に優れるハードコート層を有する光学フィルムを提供することができる。
更に本発明によれば、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することができる。
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
なお、本発明においては、「モノマーに相当する繰り返し単位」、及び「モノマーに由来する繰り返し単位」とは、モノマーの重合後に得られる成分が繰り返し単位となることを意味している。
なお、本発明においては、「モノマーに相当する繰り返し単位」、及び「モノマーに由来する繰り返し単位」とは、モノマーの重合後に得られる成分が繰り返し単位となることを意味している。
本発明のハードコート層形成用組成物は、下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物であって、下記（ｂ）成分の含有割合が、該ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量に対して５〜８０質量％である。
（ａ）光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造を有するポリエチレンオキシド化合物（ｎは１〜５０の数を表す）
（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤
（ａ）光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造を有するポリエチレンオキシド化合物（ｎは１〜５０の数を表す）
（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤
［（ａ）ポリエチレンオキシド化合物］
本発明のハードコート層形成用組成物に含まれる前記（ａ）光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造を有するポリエチレンオキシド化合物（ｎは１〜５０の数を表す）について説明する。
本発明のハードコート層形成用組成物に含まれる前記（ａ）光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造を有するポリエチレンオキシド化合物（ｎは１〜５０の数を表す）について説明する。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物は、光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造を有する（ｎは１〜５０の数を表す）。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物が有する光重合可能な基の数としては、ブリードアウトを抑止し、かつハードコート層の硬度を阻害しない観点から官能基等量として１０〜２０００ｇ・ｍｏｌ−１が好ましく、５０〜１０００ｇ・ｍｏｌ−１がより好ましく、１００〜５００ｇ・ｍｏｌ−１が更に好ましい。更に具体的な官能基数としては、１〜１８個が好ましく、２個又は３個がより好ましく、２個が更に好ましい。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物が有する光重合可能な基としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基、などが挙げられ他の不飽和二重結合を有する化合物との反応性が良好である観点から、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましく、より好ましくはアクリロイルオキシ基である。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物において、ｎは繰り返し数を表し、１〜５０の数を表す。ｎは１〜３０が好ましく、３〜２０がより好ましい。
特に、（ａ）ポリエチレンオキシド化合物において光重合可能な基が２つの場合は、ｎは１〜２０が好ましく、３〜１５がより好ましい。（ａ）ポリエチレンオキシド化合物において光重合可能な基が２つの場合は、ｎが２０以下であるとハードコート層の硬度が向上するため好ましい。また、ｎが１以上であることでカール低減に優れるため好ましい。
また、（ａ）ポリエチレンオキシド化合物において光重合可能な基が３つの場合は、ｎは１〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましい。これは、ｎが２の場合よりも架橋密度が高くなるため、カールを低減させるにはポリエチレンオキシド鎖がより長い方に最適値がかわるためであると考えられる。
特に、（ａ）ポリエチレンオキシド化合物において光重合可能な基が２つの場合は、ｎは１〜２０が好ましく、３〜１５がより好ましい。（ａ）ポリエチレンオキシド化合物において光重合可能な基が２つの場合は、ｎが２０以下であるとハードコート層の硬度が向上するため好ましい。また、ｎが１以上であることでカール低減に優れるため好ましい。
また、（ａ）ポリエチレンオキシド化合物において光重合可能な基が３つの場合は、ｎは１〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましい。これは、ｎが２の場合よりも架橋密度が高くなるため、カールを低減させるにはポリエチレンオキシド鎖がより長い方に最適値がかわるためであると考えられる。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物に含まれる−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造の数は、１分子中に含まれる−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−構造のトータル個数で比較すると、ポリエチレンオキシド鎖が長い方がカール低減に有利である点から少ないほうが好ましく、６つ以内がより好ましく、４つ以内が更に好ましく、１つが特に好ましい。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物の分子量は１０００以下が好ましい。分子量が１０００以下であるとハードコート層の硬度が向上し、カール低減効果も大きいため好ましい。これは、（ａ）ポリエチレンオキシド化合物の分子量が１０００以下であると、（ａ）ポリエチレンオキシド化合物が基材表面に集まりにくくなるためであると考えられる。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物は、光重合可能な基と、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造とを含むが、これら以外の構造を含んでもよい。例えば、アルキレン、アミド結合、スルホニルアミド結合、チオアミド結合、エーテル結合、エステル結合、ウレタン結合などが挙げられる。
カール低減効果が最も発現しやすいという理由から、（ａ）ポリエチレンオキシド化合物は、好ましくは光重合可能な基と、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造とからなるものである。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物は、分岐状又は直線状の構造を有していてもよいが、一分子中に含まれる（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）構造の数が等しい分岐状と直線状の構造を有する化合物を比較すると、分岐炭素部分はカール低減効果がないため、直線状の化合物の方がより有利にカールを低減できるという観点から、好ましくは直線状の構造を有する化合物である。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物の特に好ましい構造としては、１つの−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造の両末端に光重合可能な基が結合した構造であり、下記一般式（ａ１）で表される化合物であることが好ましい。
カール低減効果が最も発現しやすいという理由から、（ａ）ポリエチレンオキシド化合物は、好ましくは光重合可能な基と、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造とからなるものである。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物は、分岐状又は直線状の構造を有していてもよいが、一分子中に含まれる（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）構造の数が等しい分岐状と直線状の構造を有する化合物を比較すると、分岐炭素部分はカール低減効果がないため、直線状の化合物の方がより有利にカールを低減できるという観点から、好ましくは直線状の構造を有する化合物である。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物の特に好ましい構造としては、１つの−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造の両末端に光重合可能な基が結合した構造であり、下記一般式（ａ１）で表される化合物であることが好ましい。
上記式中、ＲＡ及びＲＢは各々独立に水素原子又はメチル基を表す。ｎは前記と同義であり、好ましい範囲も同様である。なかでも、ｎ≒９であるものが最も好ましい。
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。なお、エチレンオキシドを「ＥＯ」と略する。
ＥＯ付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート
ＥＯ変性ジグリセリンテトラアクリレート
ＥＯ付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート
ＥＯ変性ジグリセリンテトラアクリレート
（ａ）ポリエチレンオキシド化合物は、例えば、特開２００１−１７２３０７号公報、特許第４５０６２３７号公報などに記載の方法により合成することができる。また、（ａ）ポリエチレンオキシド化合物としては市販品を用いることもできる。市販品としては、新中村化学工業（株）製の「Ａ−４００」、日油（株）製の「ブレンマーＰＰ−５００」、「ブレンマーＰＭＥ−１０００」、大阪有機化学工業（株）製の「ビスコートＶ♯３６０」、共栄社化学製の「ＤＧＥ−４Ａ」などが好ましく挙げられる。
本発明のハードコート層形成用組成物中の（ａ）ポリエチレンオキシド化合物の含有量は、ハードコート層の硬度を低減しない範囲でカール低減効果にも優れるという観点から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して１質量％〜４０質量％が好ましく、３質量％〜３０質量％がより好ましく、５質量％〜２０質量％が更に好ましい。
［（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチルについて説明する。
本発明のハードコート層形成用組成物は、炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチルを、ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量に対して５〜８０質量％含有する。
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチルについて説明する。
本発明のハードコート層形成用組成物は、炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチルを、ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量に対して５〜８０質量％含有する。
炭酸エステル溶剤には、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、ジ−ｎ−プロピルカーボーネート、ジイソプロピルカーボネートなど様々な種類があるが、本発明においては特に炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチルのみを好ましく用いることができることがわかった。これは、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチルがセルロースアシレートフィルムを膨潤・溶解する溶剤であり、ハードコート層とセルロースアシレートフィルムとの密着性を良好にすることができ、更には溶解速度が速いために基材を溶解し過ぎることがないため、カール性も損なわないためであると考えられる。これら以外の炭酸エステル溶剤は、セルロースアシレートフィルムを溶解することができないので、本発明の効果が得られない。
炭酸ジメチルと炭酸エチルメチルは任意の比率で用いることができるが、炭酸ジメチル／炭酸エチルメチルの質量比率は１００／０〜０／１００が好ましく、１００／０〜２０／８０がより好ましい。
密着性、硬度に優れ、かつカール低減の効果に非常に優れるという理由から、（ｂ）溶剤としては、炭酸ジメチルのみを含有することが特に好ましい。
炭酸ジメチルと炭酸エチルメチルは任意の比率で用いることができるが、炭酸ジメチル／炭酸エチルメチルの質量比率は１００／０〜０／１００が好ましく、１００／０〜２０／８０がより好ましい。
密着性、硬度に優れ、かつカール低減の効果に非常に優れるという理由から、（ｂ）溶剤としては、炭酸ジメチルのみを含有することが特に好ましい。
（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチルは、セルロースアシレートフィルムを短時間で膨潤・溶解する溶剤であり、ハードコート層とセルロースアシレートフィルムとの密着性を良好にする。本発明に用いる溶媒の沸点は、６５℃以上が好ましく、８０℃以上１２０℃以下がより好ましいが、炭酸エチルメチル、炭酸ジメチルの沸点はそれぞれ１０７℃、９０℃であり好ましい。これは、基材とハードコート層の混在領域の厚みを制御し、密着性と硬度とを付与し易い点から下限以上が好ましく、膜の硬化時に溶媒が残存することによる効果不良を防ぐために上限以下が好ましいためである。
本発明のハードコート層形成用組成物において、（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチルの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量に対して５〜８０質量％である。該含有量が５質量％未満であると、ハードコート層と基材との密着性が悪化する。また、該含有量が８０質量％を超えると、カール低減効果、及びハードコート層の硬度に劣る。（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチルの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量に対して１０〜６５質量％が好ましく、２０〜５５質量％がより好ましい。
本発明のハードコート層形成用組成物は、前記（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチルと、前記（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル以外の溶剤を含有する。該（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル以外の溶剤としては、塗工時の乾燥性等を考慮し、適宜選択できる。
（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル以外の溶剤としては、ケトン、エステル、アルコール、芳香族炭化水素などが挙げられ、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、イソプロパノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらのなかでも好ましくは、（ａ）ポリエチレンオキシド化合物や（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物の溶解性が高く、乾燥性が適節、塗工ムラなどを生じにくいという理由から、沸点が６５℃以上のケトン、アルコール、エーテルが好ましい。更に具体的にはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、イソプロパノール、又はシクロヘキサノンを好ましく用いることができる。
（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル以外の溶剤としては、ケトン、エステル、アルコール、芳香族炭化水素などが挙げられ、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、イソプロパノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらのなかでも好ましくは、（ａ）ポリエチレンオキシド化合物や（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物の溶解性が高く、乾燥性が適節、塗工ムラなどを生じにくいという理由から、沸点が６５℃以上のケトン、アルコール、エーテルが好ましい。更に具体的にはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、イソプロパノール、又はシクロヘキサノンを好ましく用いることができる。
本発明のハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、更に好ましくは４０〜７０質量％である。
本発明においては、溶解性の高すぎる溶媒を用いると、基材を多く溶かし過ぎ、ハードコート層と基材の混合領域が広がると、ハードコート層形成用組成物中のモノマーの硬化時に基材のハードコート層側が強く収縮を受け、フィルムが強くカールしてしまう。下記のように評価される溶解性Ｓの好ましい範囲としては、１０〜４０％が好ましく、１５〜３０％がより好ましく、２０〜２５％が更に好ましい。
溶媒の基材溶解性は、基材フィルムを溶媒に一定時間浸漬し、浸漬前後の質量変化の大きさを示すパラメータ（溶解性Ｓ）で評価できる。溶解性Ｓは、
溶解性Ｓ＝基材フィルムの質量変化量＝（Ｍ−Ｍ’）／Ｍ×１００ （質量％）
（但し、式中Ｍは溶媒浸漬前の基材フィルム片の質量、Ｍ’は浸漬後の質量）
で表すことができ、Ｓが大きいほど基材溶解性が高いことを示す。
溶媒の基材溶解性は、基材フィルムを溶媒に一定時間浸漬し、浸漬前後の質量変化の大きさを示すパラメータ（溶解性Ｓ）で評価できる。溶解性Ｓは、
溶解性Ｓ＝基材フィルムの質量変化量＝（Ｍ−Ｍ’）／Ｍ×１００ （質量％）
（但し、式中Ｍは溶媒浸漬前の基材フィルム片の質量、Ｍ’は浸漬後の質量）
で表すことができ、Ｓが大きいほど基材溶解性が高いことを示す。
［（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物について説明する。
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。該重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は３つ以上であることがより好ましい。
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物について説明する。
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。該重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は３つ以上であることがより好ましい。
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
本発明のハードコート層形成用組成物中の（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、６０〜９９質量％が好ましく、７０〜９９質量がより好ましい。
［（ｄ）光重合開始剤］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｄ）光重合開始剤について説明する。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｄ）光重合開始剤について説明する。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
本発明のハードコート層形成用組成物中の（ｄ）光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
本発明のハードコート層形成用組成物には、上記した以外の成分を添加することもできる。特に、（ｅ）導電性化合物、（ｆ）シリカ微粒子を含有することは、フィルムのカール低減効果を更に向上させることができるという理由から好ましい。また、（ｆ）シリカ微粒子には、これ以外にも屈折率を制御する効果や膜硬度向上の効果もある。
［（ｅ）導電性化合物］
本発明の光学フィルムハードコート層は、帯電防止性を付与する目的で導電性化合物を含有してもよい。特に、親水性を有する導電性化合物を用いることにより、レベリング剤の表面偏在性を向上させることができ、面状ムラ防止、耐擦傷性を更に向上させることができる。導電性化合物に親水性を持たせるためには、親水性基を導電性化合物に導入してもよく、親水性基としては、高い導電性を発現させ、かつ比較的安価である観点から、カチオン性基を有することが好ましく、中でも４級アンモニウム塩基を有することがより好ましい。
本発明の光学フィルムハードコート層は、帯電防止性を付与する目的で導電性化合物を含有してもよい。特に、親水性を有する導電性化合物を用いることにより、レベリング剤の表面偏在性を向上させることができ、面状ムラ防止、耐擦傷性を更に向上させることができる。導電性化合物に親水性を持たせるためには、親水性基を導電性化合物に導入してもよく、親水性基としては、高い導電性を発現させ、かつ比較的安価である観点から、カチオン性基を有することが好ましく、中でも４級アンモニウム塩基を有することがより好ましい。
本発明に用いられる導電性化合物は、特に制限はないが、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物が挙げられる。イオン導電性化合物としては、カチオン性、アニオン性、非イオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である電子伝導性化合物が挙げられる。これらの中では帯電防止性能が高く、比較的安価で、更に基材側領域に偏在させる観点から、４級アンモニウム塩基を有する化合物（カチオン系化合物）が好適である。
４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、基材側領域に偏在させる観点から、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。
一般式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ２ＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｍ＋はプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。
式中、Ｒ２、Ｒ２’及びＲ２’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｘ−はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。
一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ３とＲ４及びＲ５とＲ６はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−又は―Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−又は―Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−又は−ＮＨＣＯＲ２６ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５及びＲ２６はアルキレン基を表す。Ｒ１０、Ｒ１３、Ｒ１８、Ｒ２１及びＲ２４は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ‐はアニオンを表す。Ｚ１、Ｚ２は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ＋［Ｘ−］−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。ｎは５〜３００の整数を表す。
一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭素数１〜４の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭素数１〜４の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
一般式（Ｉ）において、Ｒ１は水素原子が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Ｑは、好ましくは群Ａから選ばれる下記一般式（ＶＩ）であり、Ｒ２、Ｒ２’及びＲ２’’は各々メチル基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。ｐ及びｑは、好ましくは０又は１であり、より好ましくはｐ＝０、ｑ＝１である。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Ｑは、好ましくは群Ａから選ばれる下記一般式（ＶＩ）であり、Ｒ２、Ｒ２’及びＲ２’’は各々メチル基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。ｐ及びｑは、好ましくは０又は１であり、より好ましくはｐ＝０、ｑ＝１である。
一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、好ましくは炭素数１〜４の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ａ、Ｂ及びＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくはＥは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。Ｚ１、Ｚ２が、−Ｎ＝Ｃ−基とともに形成する５員又は６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくはＥは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。Ｚ１、Ｚ２が、−Ｎ＝Ｃ−基とともに形成する５員又は６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｚ、ｒ及び実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｒは各々のユニットのモル比を表す。
上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、帯電防止層の耐擦傷性（膜強度）も高めることができるので、より好ましい。
電子伝導性化合物としては、好ましくは芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族炭素環としては、例えばベンゼン環が挙げられ、更に縮環を形成してもよい。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族ヘテロ環としては、例えばピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ペンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられ、更に縮環を形成してもよく、置換基を有してもよい。
また、非共役高分子又は共役高分子における前記二価以上の連結基としては、炭素原子、珪素原子、窒素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子、金属、金属イオンなどで形成される連結基が挙げられる。好ましくは、炭素原子、窒素原子、珪素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組み合わせから形成される基であり、組み合わせにより形成される基としては、置換若しくは無置換のメチレン基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、エステル基、アミド基、シリル基などが挙げられる。
電子伝導性化合物としては、具体的には、置換又は非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン、又はこれらの誘導体等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、また、目的に応じて２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもでき、導電性ポリマーを構成し得るモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーも用いることができる。
電子伝導性化合物としては、共役高分子であることが更に好ましい。共役高分子の例としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（パラフェニレン）、ポリフルオレン、ポリアズレン、ポリ（パラフェニレンサルファイド）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）、複鎖型共役系高分子（ポリペリナフタレンなど）、金属フタロシアニン系高分子、その他共役系高分子（ポリ（パラキシリレン）、ポリ［α−（５，５’−ビチオフェンジイル）ベンジリデン］など）、又はこれらの誘導体等が挙げられる。
好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）が挙げられ、より好ましくはポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール又はこれらの誘導体、更に好ましくはポリチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれかが挙げられる。
好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）が挙げられ、より好ましくはポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール又はこれらの誘導体、更に好ましくはポリチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれかが挙げられる。
以下に、電子伝導性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、これらの他にも、国際公開第９８／０１９０９号記載の化合物等が挙げられる。
本発明で用いる電子伝導性化合物の質量平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは１０，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。ここで質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。
本発明で用いる電子伝導性化合物は、塗布性及び他の成分との親和性付与の観点から、有機溶剤に可溶であることが好ましい。ここで、「可溶」とは溶剤中に単一分子状態又は複数の単一分子が会合した状態で溶解しているか、粒子径が３００ｎｍ以下の粒子状に分散されている状態を指す。
一般に、電子伝導性化合物は水を主成分とする溶媒に溶解することから、化合物としては親水性を有するが、このような電子伝導性化合物を有機溶剤に可溶化するには、電子伝導性化合物を含む組成物中に、有機溶剤との親和性を上げる化合物（例えば可溶化補助剤等）や有機溶剤中での分散剤等を添加する、あるいは疎水化処理したポリアニオンドーパントを用いることにより、有機溶剤に可溶化することができる。これらの方法により本発明で示される有機溶剤へも溶解可能となるが、化合物としての親水性は残っており、本発明の方法を適用すれば導電性化合物の偏在が可能である。
一般に、電子伝導性化合物は水を主成分とする溶媒に溶解することから、化合物としては親水性を有するが、このような電子伝導性化合物を有機溶剤に可溶化するには、電子伝導性化合物を含む組成物中に、有機溶剤との親和性を上げる化合物（例えば可溶化補助剤等）や有機溶剤中での分散剤等を添加する、あるいは疎水化処理したポリアニオンドーパントを用いることにより、有機溶剤に可溶化することができる。これらの方法により本発明で示される有機溶剤へも溶解可能となるが、化合物としての親水性は残っており、本発明の方法を適用すれば導電性化合物の偏在が可能である。
導電性化合物として４級アンモニウム塩基を有する化合物が用いられる場合、元素分析（ＥＳＣＡ）による帯電防止層表面側の窒素又は硫黄の窒素原子量が０．５〜５ｍｏｌ％であることが好ましい。この範囲であれば良好な帯電防止性が得易い。より好ましくは０．５〜３．５ｍｏｌ％であり、更に好ましくは０．５〜２．５ｍｏｌ％である。
本発明のハードコート層形成用組成物は、（ｅ）導電性化合物を含有しても含有しなくてもよいが、含有する場合は、（ｅ）導電性化合物の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して５〜２０質量％が好ましく、１０〜１５質量％がより好ましい。
［シリカ微粒子］
シリカ微粒子のサイズ（１次粒径）は１５ｎｍ以上１００ｎｍ未満、更に好ましくは２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、最も好ましくは２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機微粒子の粒径が小さすぎると、レベリング剤の表面偏在性を高める効果が少なくなり、大きすぎるとハードコート層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。また、シリカ微粒子は粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いてもよい。
シリカ微粒子のサイズ（１次粒径）は１５ｎｍ以上１００ｎｍ未満、更に好ましくは２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、最も好ましくは２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機微粒子の粒径が小さすぎると、レベリング剤の表面偏在性を高める効果が少なくなり、大きすぎるとハードコート層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。また、シリカ微粒子は粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いてもよい。
本発明に使用することができるシリカ微粒子は塗布液中での分散性向上、膜強度向上のために表面処理を施していてもよく、表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開２００７−２９８９７４号公報の［０１１９］〜［０１４７］に記載のものと同様である。
シリカ微粒子の具体的な例としては、ＭｉＢＫ−ＳＴ、ＭｉＢＫ−ＳＤ（以上、平均粒子径１５ｎｍ、日産化学工業（株）製シリカゾル）、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（平均粒子径５０ｎｍ、日産化学工業（株）製シリカゾル）などを好ましく用いることができる。
本発明のハードコート層には、これらの他に更に添加剤を含有することも可能である。更に含有し得る添加剤としては、ポリマーの分解を抑える目的で、紫外線吸収剤、亜リン酸エステル、ヒドロキサム酸、ヒドロキシアミン、イミダゾール、ハイドロキノン、フタル酸、などを挙げることができる。また、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物（特に、フッ素系界面活性剤）、内部散乱性付与の目的でマット粒子などを挙げることができる。
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、透明基材上に前記ハードコート層形成用組成物を用いて形成されたハードコート層を有する。
本発明の光学フィルムは、透明基材上にハードコート層を有し、更に目的に応じて、必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい。例えば、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）などを設けることができる。
本発明の光学フィルムは、透明基材上に前記ハードコート層形成用組成物を用いて形成されたハードコート層を有する。
本発明の光学フィルムは、透明基材上にハードコート層を有し、更に目的に応じて、必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい。例えば、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）などを設けることができる。
［透明基材］
本発明の光学フィルムにおいては、透明基材（支持体）として種々用いることができるが、セルロース系ポリマーを含む基材が好ましく、セルロースアシレートフィルムを用いることがより好ましい。
セルロースアシレートフィルムとしては、特に限定されないが、ディスプレイに設置する場合は、セルローストリアセテートフィルムを偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてそのまま用いることができるため、生産性やコストの点でセルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。
セルロースアシレートフィルムの厚さは、通常、２５μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、かつ必要な基材強度が得られる３０μｍ〜１００μｍが好ましい。
本発明の光学フィルムにおいては、透明基材（支持体）として種々用いることができるが、セルロース系ポリマーを含む基材が好ましく、セルロースアシレートフィルムを用いることがより好ましい。
セルロースアシレートフィルムとしては、特に限定されないが、ディスプレイに設置する場合は、セルローストリアセテートフィルムを偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてそのまま用いることができるため、生産性やコストの点でセルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。
セルロースアシレートフィルムの厚さは、通常、２５μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、かつ必要な基材強度が得られる３０μｍ〜１００μｍが好ましい。
本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることが更に好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
一般に、セルロースアシレートの２，３，６位の水酸基は全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４、実施例、合成例１、段落番号００４８〜００４９、合成例２、段落番号００５１〜００５２、合成例３に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
［ハードコート層の物性］
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性能を得るための光学設計から、１．４８〜１．６５であることが好ましい。更に望ましくは１．４８〜１．６０、最も好ましくは１．４８〜１．５５である。
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性能を得るための光学設計から、１．４８〜１．６５であることが好ましい。更に望ましくは１．４８〜１．６０、最も好ましくは１．４８〜１．５５である。
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、０．５μｍ〜２０μｍとし、好ましくは１μｍ〜１０μｍ、更に好ましくは１μｍ〜５μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
本発明の光学フィルムとして、特に好ましい態様は、セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムであって、該セルロースアシレートフィルム基材のハードコート層の界面には、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在する光学フィルムである。
ここで、ハードコート層とは、ハードコート層成分が含まれている部分全体を指し、基材とは、ハードコート層成分を含まない部分を示すこととする。
本発明の光学フィルムでは、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在している。このように各成分が混じり合うことにより、基材とハードコート層密着性が向上する。基材成分とハードコート層成分が混在した領域の厚さは、ハードコート層全体の厚さに対して５〜８０％であることが好ましく、１０〜７５％であることが更に好ましく、１５〜７５％であることが特に好ましい。混在した領域が５％以上であれば基材とハードコート層との密着性が十分になり、８０％以下であれば基材と混在していないハードコート層が薄くならないため硬度が向上する。更に、１００％であるとハードコート層の最表面に基材成分が露出するため、反射防止層などの上層との密着性を阻害する。
また、混在した領域は、フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析した時に、基材成分とハードコート層成分が共に検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。例えば、基材としてセルロースアセテートフィルムを、ハードコート成分（不飽和二重結合を有する化合物）としてアクリロイル基を有する化合物を用いた場合は、基材を表す二次イオンとしてＣ６Ｈ５Ｏ２ ＋を、ハードコート成分（不飽和二重結合を有する化合物）を表す二次イオンとしＣ３Ｈ３Ｏ２ −をそれぞれ検出し、全膜厚に対す両二次イオンが検出される領域の膜厚を測定することで、混在した領域の割合を知ることができる。
ここで、ハードコート層とは、ハードコート層成分が含まれている部分全体を指し、基材とは、ハードコート層成分を含まない部分を示すこととする。
本発明の光学フィルムでは、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在している。このように各成分が混じり合うことにより、基材とハードコート層密着性が向上する。基材成分とハードコート層成分が混在した領域の厚さは、ハードコート層全体の厚さに対して５〜８０％であることが好ましく、１０〜７５％であることが更に好ましく、１５〜７５％であることが特に好ましい。混在した領域が５％以上であれば基材とハードコート層との密着性が十分になり、８０％以下であれば基材と混在していないハードコート層が薄くならないため硬度が向上する。更に、１００％であるとハードコート層の最表面に基材成分が露出するため、反射防止層などの上層との密着性を阻害する。
また、混在した領域は、フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析した時に、基材成分とハードコート層成分が共に検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。例えば、基材としてセルロースアセテートフィルムを、ハードコート成分（不飽和二重結合を有する化合物）としてアクリロイル基を有する化合物を用いた場合は、基材を表す二次イオンとしてＣ６Ｈ５Ｏ２ ＋を、ハードコート成分（不飽和二重結合を有する化合物）を表す二次イオンとしＣ３Ｈ３Ｏ２ −をそれぞれ検出し、全膜厚に対す両二次イオンが検出される領域の膜厚を測定することで、混在した領域の割合を知ることができる。
［反射防止層］
（低屈折率層）
本発明の光学フィルムは、前記ハードコート層上に直接又は他の層を介して低屈折率層を設けることもできる。この場合、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムとして機能することができる。
低屈折率層をハードコート層上に直接設ける場合には、層厚２００ｎｍ以下の薄膜層とすることが好ましい。更に、光学層厚で設計波長の約１／４の層厚で形成すればよい。但し、最も単純な構成である低屈折率層１層で反射防止を行う１層薄膜干渉型の場合は、反射率０．５％以下を満足し、かつ、ニュートラルな色味、高い耐擦傷性、耐薬品性、耐候性を有する実用的な低屈折率材料がないため、更に低反射化が必要な場合には、ハードコート層と低屈折率層との間に高屈折率層を形成する２層薄膜干渉型、又は、ハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層を順次形成する３層薄膜干渉型など、多層の光学干渉によって反射を防止する多層薄膜干渉型反射防止フィルムとすればよい。
この場合、低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．５１であることが好ましい。１．３０〜１．４６であることが好ましく、１．３２〜１．３８が更に好ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
（低屈折率層）
本発明の光学フィルムは、前記ハードコート層上に直接又は他の層を介して低屈折率層を設けることもできる。この場合、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムとして機能することができる。
低屈折率層をハードコート層上に直接設ける場合には、層厚２００ｎｍ以下の薄膜層とすることが好ましい。更に、光学層厚で設計波長の約１／４の層厚で形成すればよい。但し、最も単純な構成である低屈折率層１層で反射防止を行う１層薄膜干渉型の場合は、反射率０．５％以下を満足し、かつ、ニュートラルな色味、高い耐擦傷性、耐薬品性、耐候性を有する実用的な低屈折率材料がないため、更に低反射化が必要な場合には、ハードコート層と低屈折率層との間に高屈折率層を形成する２層薄膜干渉型、又は、ハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層を順次形成する３層薄膜干渉型など、多層の光学干渉によって反射を防止する多層薄膜干渉型反射防止フィルムとすればよい。
この場合、低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．５１であることが好ましい。１．３０〜１．４６であることが好ましく、１．３２〜１．３８が更に好ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
低屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分としては公知のものを用いることができ、具体的には特開２００７−２９８９７４号公報に記載の含フッ素硬化性樹脂と無機微粒子を含有する組成物や、特開２００２−３１７１５２号公報、特開２００３−２０２４０６号公報、及び特開２００３−２９２８３１号公報に記載の中空シリカ微粒子含有低屈折率コーティングを好適に用いることができる。
（光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まずハードコート層形成用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まずハードコート層形成用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
塗布した後、乾燥、光照射してハードコート層形成用組成物から形成される層を硬化し、これによりハードコート層が形成される。必要に応じて、透明基材上にあらかじめその他の層を塗設しておき、その上にハードコート層を形成することも可能である。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。また必要に応じて前記したようなその他の層を設けることもできる。本発明の光学フィルムの製造方法において、複数の層を同時に塗布してもよいし、逐次塗布してもよい。
［偏光板用保護フィルム］
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
上述したケン化処理について説明する。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が浸水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％〜２５質量％であり、処理温度は３０℃〜７０℃、処理時間は１５秒〜５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
本発明の光学フィルムの帯電防止層は、このようなケン化処理によってアルカリ水溶液に晒されても、帯電防止性能が良好に保たれる。
本発明の光学フィルムの帯電防止層は、このようなケン化処理によってアルカリ水溶液に晒されても、帯電防止性能が良好に保たれる。
本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、セルロースアシレートフィルムは、セルローストリアセテートフィルムであることが好ましい。
［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする。
次に、本発明の偏光板について説明する。
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
光学フィルムのセルロースアシレートフィルムが、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記光学フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。
本発明の光学フィルム、反射防止フィルム及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができる。
特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型／半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。
本発明の光学フィルム、反射防止フィルム及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができる。
特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型／半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
〔光学フィルムの作製〕
下記に示す通りに、ハードコート層形成用の塗布液を調製し、透明基材上にハードコート層を形成して、光学フィルム試料１〜２４を作製した。
下記に示す通りに、ハードコート層形成用の塗布液を調製し、透明基材上にハードコート層を形成して、光学フィルム試料１〜２４を作製した。
（ハードコート層用塗布液Ａ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液Ａ−１（固形分濃度５０質量％）とした。
炭酸ジメチル ４００質量部
メチルイソブチルケトン ６００質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物（ＰＥＴ３０、日本化薬（株）製） ８７０質量部
Ａ−４００（ポリアルキレンオキシド化合物） １００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
３０質量部
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液Ａ−１（固形分濃度５０質量％）とした。
炭酸ジメチル ４００質量部
メチルイソブチルケトン ６００質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物（ＰＥＴ３０、日本化薬（株）製） ８７０質量部
Ａ−４００（ポリアルキレンオキシド化合物） １００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
３０質量部
ハードコート層用塗布液Ａ−１と同様の方法で、各成分を下記表１のように混合して溶剤に溶解して表１記載の比率になるように調整し、固形分濃度５０質量％のハードコート層用塗布液Ａ−２〜Ａ−２８を作製した。
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
Ａ−４００（新中村化学工業（株）製）：
Ａ−４００（新中村化学工業（株）製）：
ブレンマーＰＰ−５００（日油（株）製）：
ブレンマーＰＭＥ−１０００（日油（株）製）：
ビスコートＶ♯３６０（大阪有機化学工業（株）製）：
ＤＧＥ−４Ａ（共栄社化学製）：
Ａ−ＴＭＭＴ：新中村化学工業（株）ＮＫエステル
Ｉｒｇ．１８４：光重合開始剤イルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製）
ＩＰ−９：前記導電性化合物ＩＰ−９
炭酸ジメチル／炭酸エチルメチル：炭酸ジメチルと炭酸エチルメチルの５０：５０（質量比）混合物
ＩＰ−９：前記導電性化合物ＩＰ−９
炭酸ジメチル／炭酸エチルメチル：炭酸ジメチルと炭酸エチルメチルの５０：５０（質量比）混合物
（ハードコート層Ａ−１の作製）
層厚８０μｍの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液Ａ−１をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａ−１を形成した。
層厚８０μｍの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液Ａ−１をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａ−１を形成した。
同様の方法でハードコート層用塗布液Ａ−２〜２８を用いてハードコート層Ａ−２〜２８を作製した。なお、ハードコート層の屈折率の測定は、各層の塗布液を約４μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定し、いずれも１．５２であった。「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ
部品番号：「ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。
部品番号：「ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。
（光学フィルムの評価）
以下の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表２に示す。
以下の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表２に示す。
（１）基材とハードコート層界面の観察
フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析し、界面の状態を観察した。基材成分とハードコート層成分が共に検出される部分を基材とハードコート層成分が混在した領域とし、この領域の膜厚も同じＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定し、ハードコート層全体の厚さに対する基材成分とハードコート層成分が混在した領域の厚さの割合を算出した。なお、基材を表す二次イオンとしてＣ６Ｈ５Ｏ２ ＋を、ハードコート成分（不飽和二重結合を有する化合物）を表す二次イオンとしＣ３Ｈ３Ｏ２ −をそれぞれ検出した。
フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析し、界面の状態を観察した。基材成分とハードコート層成分が共に検出される部分を基材とハードコート層成分が混在した領域とし、この領域の膜厚も同じＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定し、ハードコート層全体の厚さに対する基材成分とハードコート層成分が混在した領域の厚さの割合を算出した。なお、基材を表す二次イオンとしてＣ６Ｈ５Ｏ２ ＋を、ハードコート成分（不飽和二重結合を有する化合物）を表す二次イオンとしＣ３Ｈ３Ｏ２ −をそれぞれ検出した。
（２）密着性評価
ＪＩＳ−Ｋ−５４００に記載の碁盤目剥離法にて評価を行った。即ち、試料表面に１ｍｍ間隔で１００個の碁盤目を入れ、セロハンテープ（ニチバン（株）製）で密着試験を行った。新しいセロハンテープを貼ったあとに剥離し、以下の基準で判定した。
◎・・碁盤目中のマスの剥離が起こらない
○・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが９０％以上で、僅かに剥離するが問題がない
△・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが７０％以上９０％未満であり、僅かに剥離するがほとんど問題がない
×・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが７０％未満であり、非常に問題である
ＪＩＳ−Ｋ−５４００に記載の碁盤目剥離法にて評価を行った。即ち、試料表面に１ｍｍ間隔で１００個の碁盤目を入れ、セロハンテープ（ニチバン（株）製）で密着試験を行った。新しいセロハンテープを貼ったあとに剥離し、以下の基準で判定した。
◎・・碁盤目中のマスの剥離が起こらない
○・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが９０％以上で、僅かに剥離するが問題がない
△・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが７０％以上９０％未満であり、僅かに剥離するがほとんど問題がない
×・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが７０％未満であり、非常に問題である
（３）カール
作製した光学フィルムのカールの測定を、旧ＪＩＳ規格（ＪＩＳ―Ｋ７６１９−１９８８）の「写真フィルムのカールの測定法」中の方法Ａのカール測定用型板法により実施した。測定条件は２５℃、相対湿度６０％、調湿時間１０時間であり、カールＣを以下の数式で表したときの値で評価した。カールＣは、その絶対値が小さいほどフィルムがカールしていないことを示し、Ｃの絶対値が２０以下の場合を合格とした。
（数式） カールＣ＝１／Ｒ （Ｒは曲率半径（ｍ）を表す。）
なお、このときのカールの試料内測定方向は、ウェブ形態での塗布の場合、基材の搬送方向について測ったものである。
作製した光学フィルムのカールの測定を、旧ＪＩＳ規格（ＪＩＳ―Ｋ７６１９−１９８８）の「写真フィルムのカールの測定法」中の方法Ａのカール測定用型板法により実施した。測定条件は２５℃、相対湿度６０％、調湿時間１０時間であり、カールＣを以下の数式で表したときの値で評価した。カールＣは、その絶対値が小さいほどフィルムがカールしていないことを示し、Ｃの絶対値が２０以下の場合を合格とした。
（数式） カールＣ＝１／Ｒ （Ｒは曲率半径（ｍ）を表す。）
なお、このときのカールの試料内測定方向は、ウェブ形態での塗布の場合、基材の搬送方向について測ったものである。
（４）鉛筆硬度
ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。光学フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する試験用鉛筆を用いて評価した。ハードコート性能として、硬度は２．５Ｈ以上であることが好ましい。
ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。光学フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する試験用鉛筆を用いて評価した。ハードコート性能として、硬度は２．５Ｈ以上であることが好ましい。
（５）ゴミ付き防止性評価
光学フィルムの透明支持体側をＣＲＴ表面に貼り付け、０．５μｍ以上の埃及びティッシュペーパー屑を、１ｆｔ３（立法フィート）当たり１００〜２００万個有する部屋で２４時間使用した。反射防止フィルム１００ｃｍ２当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値で以下のように評価した。
Ａ：２０個未満で、ほとんど屑が付着しない
Ｂ：２０個以上２００個未満で、小量の屑が付着するが問題はない
Ｃ：２００個以上で、多量の屑が付着する
光学フィルムの透明支持体側をＣＲＴ表面に貼り付け、０．５μｍ以上の埃及びティッシュペーパー屑を、１ｆｔ３（立法フィート）当たり１００〜２００万個有する部屋で２４時間使用した。反射防止フィルム１００ｃｍ２当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値で以下のように評価した。
Ａ：２０個未満で、ほとんど屑が付着しない
Ｂ：２０個以上２００個未満で、小量の屑が付着するが問題はない
Ｃ：２００個以上で、多量の屑が付着する
表２に示すように、本発明のハードコート形形成用組成物を使用すると、フィルムのカールを抑制してかつ、密着性、鉛筆硬度にも優れた光学フィルムを得ることができた。また、導電性化合物を含有する試料Ｎｏ．２６及び２７ではごみ付き防止性もＡ又はＢランクになり、上記効果に加えて良好なごみ付き防止性も付与することができた。
〔反射防止フィルムの作製〕
（パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１の合成）
特開２０１０−１５２３１１号公報に記載のパーフルオロオレフィン共重合体（１）と同様の方法で、パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１を調製した。得られたポリマーの屈折率は１．４２２であった
（パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１の合成）
特開２０１０−１５２３１１号公報に記載のパーフルオロオレフィン共重合体（１）と同様の方法で、パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１を調製した。得られたポリマーの屈折率は１．４２２であった
上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。
（中空シリカ分散液Ａ−１の調製）
特開２００７−２９８９７４号公報に記載の分散液Ａ−１と同様の方法を用いて条件を調整し、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ粒子の屈折率１．３１の中空シリカ粒子分散液Ａ−１（固形分濃度１８．２質量％）を調製した。
特開２００７−２９８９７４号公報に記載の分散液Ａ−１と同様の方法を用いて条件を調整し、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ粒子の屈折率１．３１の中空シリカ粒子分散液Ａ−１（固形分濃度１８．２質量％）を調製した。
（低屈折率層形成用組成物Ａ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、低屈折率層形成用組成物Ａ−１（固形分濃度５質量％）とした。
パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１ １４．８質量部
エチルメチルケトン １５７．７質量部 ＤＰＨＡ ３．０質量部
シリカ粒子分散液Ａ−１ ２１．２質量部
イルガキュア１２７ １．３質量部
Ｘ２２−１６４Ｃ ２．１質量部
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、低屈折率層形成用組成物Ａ−１（固形分濃度５質量％）とした。
パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１ １４．８質量部
エチルメチルケトン １５７．７質量部 ＤＰＨＡ ３．０質量部
シリカ粒子分散液Ａ−１ ２１．２質量部
イルガキュア１２７ １．３質量部
Ｘ２２−１６４Ｃ ２．１質量部
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ ＤＰＨＡ ： ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
・ Ｘ２２−１６４Ｃ ： 反応性シリコーン（信越化学（株）製）
・ イルガキュア１２７ ： 光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製）
・ ＤＰＨＡ ： ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
・ Ｘ２２−１６４Ｃ ： 反応性シリコーン（信越化学（株）製）
・ イルガキュア１２７ ： 光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製）
（低屈折率層の作製）
更に、作製したハードコート層（試料Ｎｏ．５）の上に低屈折率層形成用組成物Ａ−１をグラビアコーターを用いて塗布し、試料Ｎｏ．２９を得た。乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。低屈折率層の膜厚は９５ｎｍとした。
更に、作製したハードコート層（試料Ｎｏ．５）の上に低屈折率層形成用組成物Ａ−１をグラビアコーターを用いて塗布し、試料Ｎｏ．２９を得た。乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。低屈折率層の膜厚は９５ｎｍとした。
得られた反射防止フィルム試料Ｎｏ．２９について、上記と同様に、密着性、カール、鉛筆硬度を評価した。また下記方法により鏡面反射率を評価した。
（６）鏡面反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５°の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。結果を表３に示す。
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５°の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。結果を表３に示す。
表３に示すように、本発明のハードコート層上に反射防止層を形成した試料Ｎｏ．２９では、鏡面反射率が１．２２％まで低下し、良好な反射防止性を付与することができた。更に、反射防止層を形成しないときと同様、良好な密着性とカール性、鉛筆硬度を達成できていることがわかる。
（光学フィルムの鹸化処理）
前記試料Ｎｏ．２９に以下の処理を行った。１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した光学フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの光学フィルムを作製した。
前記試料Ｎｏ．２９に以下の処理を行った。１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した光学フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの光学フィルムを作製した。
（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、鹸化処理済みの光学フィルムを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護して偏光板（試料Ｎｏ．３０）を作製した。
（円偏光板の作製）
偏光板試料の低屈折率層と反対側の面にλ／４板を粘着剤で貼り合せ円偏光板（試料Ｎｏ．３１）を作製し、有機ＥＬディスプレイの表面に光学機能層が外側になるように試料Ｎｏ．２９を粘着剤で貼り付けた。傷つきや面状ムラがなく、良好な表示性能が得られた。
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、鹸化処理済みの光学フィルムを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護して偏光板（試料Ｎｏ．３０）を作製した。
（円偏光板の作製）
偏光板試料の低屈折率層と反対側の面にλ／４板を粘着剤で貼り合せ円偏光板（試料Ｎｏ．３１）を作製し、有機ＥＬディスプレイの表面に光学機能層が外側になるように試料Ｎｏ．２９を粘着剤で貼り付けた。傷つきや面状ムラがなく、良好な表示性能が得られた。
反射型液晶ディスプレイ及び半透過型液晶ディスプレイの表面の偏光板として、低屈折率層が外側になるようにＮｏ．３０を用いたところ、傷つきや面状ムラがなく、良好な表示性能が得られた。
参考のため、下記表４に各溶媒の分子量、ＳＰ値、ＴＡＣ溶解性、沸点を示す。
（ＳＰ値）
化合物のＳＰ値とは溶解性パラメーターで、どれだけ溶媒などに溶けやすいかということを数値化したものであり、有機化合物ではよく使われる極性と同義で、このＳＰ値が大きい程、極性が大きいことを表す。ＳＰ値は例えばＦｅｄｏｒの推算法（ＳＰ値基礎・応用と計算方法 ｐ．６６：山本秀樹著：情報機構（２００５．３．３１発行）で計算した値である。
化合物のＳＰ値とは溶解性パラメーターで、どれだけ溶媒などに溶けやすいかということを数値化したものであり、有機化合物ではよく使われる極性と同義で、このＳＰ値が大きい程、極性が大きいことを表す。ＳＰ値は例えばＦｅｄｏｒの推算法（ＳＰ値基礎・応用と計算方法 ｐ．６６：山本秀樹著：情報機構（２００５．３．３１発行）で計算した値である。
（ＴＡＣ溶解性）
溶媒のＴＡＣ溶解性Ｓは次の方法で評価できる。質量Ｍを測った基材フィルム（トリアセチルセルロースフィルム）を溶媒に５分間浸漬し、溶媒から取り出したものを（著しく軟化している場合はろ過する）２００℃のオーブンで１分間乾燥させる。その後再び質量Ｍ’を測定し、基材フィルムの質量の変化分より、溶解性Ｓ＝基材フィルムの質量変化量＝Ｍ’／Ｍ×１００（質量％）とし、以下のように評価した。
◎・・・５０％＜Ｓ≦１００％で、基材を非常に溶解する
○・・・３０％＜Ｓ≦５０％で、基材を溶解する
△・・・５％＜Ｓ≦３０％で、基材を小量溶解するが効果は小さい
×・・・０％≦Ｓ＜５％で、基材をほとんど溶解しない
溶媒のＴＡＣ溶解性Ｓは次の方法で評価できる。質量Ｍを測った基材フィルム（トリアセチルセルロースフィルム）を溶媒に５分間浸漬し、溶媒から取り出したものを（著しく軟化している場合はろ過する）２００℃のオーブンで１分間乾燥させる。その後再び質量Ｍ’を測定し、基材フィルムの質量の変化分より、溶解性Ｓ＝基材フィルムの質量変化量＝Ｍ’／Ｍ×１００（質量％）とし、以下のように評価した。
◎・・・５０％＜Ｓ≦１００％で、基材を非常に溶解する
○・・・３０％＜Ｓ≦５０％で、基材を溶解する
△・・・５％＜Ｓ≦３０％で、基材を小量溶解するが効果は小さい
×・・・０％≦Ｓ＜５％で、基材をほとんど溶解しない
表４に示すとおり、本発明における炭酸ジメチル、炭酸エチルメチルと同じような物性（分子量、ＳＰ値、沸点、及びＴＡＣ溶解性）を示す溶媒であっても、前記表２に示したように炭酸ジメチル、炭酸エチルメチルのようなカール低減性を示す溶媒はない。これら結果から、種々の溶媒のなかから、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチルを選択することで本発明のような格別の効果が得られることは容易には達成し得ないことがわかる。
Claims (11)
- 下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物であって、下記（ｂ）成分の含有割合が、該ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量に対して５〜８０質量％である、ハードコート層形成用組成物。
（ａ）光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−構造を有するポリエチレンオキシド化合物（ｎは１〜５０の数を表す）
（ｂ）炭酸ジメチル及び／又は炭酸エチルメチル
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤 - 前記（ｂ）として、炭酸ジメチルのみを含有する、請求項１に記載のハードコート層形成用組成物。
- 前記（ａ）ポリエチレンオキシド化合物が２個又は３個の光重合可能な基を有する、請求項１又は２に記載のハードコート層形成用組成物。
- 前記（ａ）ポリエチレンオキシド化合物が有する光重合可能な基が（メタ）アクリロイルオキシ基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
- 前記（ａ）ポリエチレンオキシド化合物におけるｎが１〜３０である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
- 更に（ｅ）導電性化合物を含有する請求項１〜５のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
- 透明基材上に、請求項１〜６のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有する光学フィルム。
- 前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである請求項７に記載の光学フィルム。
- 請求項７又は８に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
- 請求項７若しくは８に記載の光学フィルム、又は請求項９に記載の偏光板を有する画像表示装置。
- セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に請求項１〜６のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
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