JP2014081558A - ハードコート組成物及びハードコート材 - Google Patents

Abstract

【課題】透明基材との密着性、帯電防止性、表面硬度に優れ、且つ、透明基材とハードコート層との屈折率の違いによる干渉縞のないハードコート組成物及びハードコート材の提供。
【解決手段】（Ａ）帯電防止剤、（Ｂ)アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤からなるハードコート組成物であって、前記（Ｂ）アクリレート化合物が、分子中に下記（化学式１）で表される繰り返し単位に、少なくとも一つ以上のアクリロイル基を有する。

【選択図】図１

Description

本発明は、帯電防止や反射防止機能を有するハードコート組成物及びそれを用いたハードコート材に関する。

一般にディスプレイの表面には、擦傷性を上げるためにアクリル系の電離放射線硬化型材料を硬化して得られるハードコート層が設けられている。しかし、ハードコート層と透明基材フィルムの屈折率差が大きくなると、ハードコート層上面（ディスプレイ表面）で反射する光と、ハードコート層下面（透明基材との界面）で反射する光で、両者の光が干渉して虹色のムラ（干渉縞）を生じ、ディスプレイの視認性が低下する要因となる。

干渉縞を軽減する方法として、これまでに以下の４つの方法が提案されている。一つ目は、透明基材上に凹凸をもうけることによって、ハードコート層と透明基材との界面での光の反射を散乱させる方法（特許文献１参照）、二つ目は、透明基材とハードコート層の屈折率差を低減するために、透明基材とハードコート層の間に、屈折率が透明基材とハードコート層の各値の中間の値である層（中間層）を１層設ける方法（特許文献２参照）、三つ目は透明基材とハードコート層の界面近傍の屈折率が連続的に変化するように、ハードコート塗液中の溶剤に透明基材を溶解又は膨潤させるものを用い、透明基材とハードコート層の間に屈折率傾斜層を設ける方法（特許文献３参照）、四つ目はハードコート層と透明基材の屈折率の差が小さくなるよう、ハードコート塗液の屈折率を調整する方法（特許文献４参照）がある。

しかし、表面凹凸を設ける方法では、凹凸による光散乱でヘイズが上昇するという懸念事項があり、干渉縞改善とヘイズ抑制の両立が困難である。また、中間層を設ける方法では、屈折率差は小さくなるが、層間の界面は残っており、干渉縞を完全になくすことは不可能であり、さらに中間層を形成させるプロセスが必要であるため、製造コストが増す。透明基材を溶解又は膨潤させる溶剤を用いた方法では、干渉縞をなくすために必要な厚さの屈折率傾斜層が形成される前に、溶剤が揮発してしまうため、干渉縞抑制が困難である。ハードコート材料の屈折率を調整する方法では、微粒子や含フッ素材料を用いる必要があるため、膜硬度や塗工性、材料コストの点で使用が困難である。

特開平８−１９７６７０号公報 特開２０００−１１１７０６号公報 特開２００３−１３１００７号公報 特開２００９−２６５６５８号公報

本発明は透明基材との密着性、帯電防止性、表面硬度に優れ、且つ、透明基材とハードコート層との屈折率の違いによって生じる干渉縞のないハードコート組成物及びハードコート材の提供を目的としている。

本発明に係る請求項１の発明は、（Ａ）帯電防止剤、（Ｂ)アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤からなるハードコート組成物であって、
前記（Ｂ）アクリレート化合物が、分子中に下記（化学式１）で表される繰り返し単位に、少なくとも一つ以上のアクリロイル基を有することを特徴とするハードコート組成物である。

（式中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、ｎは１以上の整数を表す）

また、請求項２の発明は、前記繰り返し単位が、エチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基であることを特徴とする請求項１に記載のハードコート組成物である。

また、請求項３の発明は、前記アクリレート化合物にアクリロイル基が３つ以上含まれることを特徴とする請求項１又は２に記載のハードコート組成物である。

また、請求項４の発明は、透明基材の一方の面に、請求項１乃至３のいずれかに記載のハードコ−ト組成物からなるハードコート層を有することを特徴とするハードコート材である。

また、請求項５の発明は、請求項４に記載のハードコート層の上に反射防止層を積層してなることを特徴とするハードコート材である。

また、請求項６の発明は、請求項４又は５に記載の透明基材がトリアセチルセルロース又はアクリル樹脂から成ることを特徴とするハードコート材である。

本発明の請求項１によれば、前記ハードコート組成物が分子中に上記（化学式１）で表される繰り返し単位に、少なくとも一つ以上のアクリロイル基を有するアクリレート化合物を含有することによって、前記ハードコート組成物による透明基材の溶解性や膨潤性が向上し、屈折率に傾斜性のあるハードコート層を形成することができる。すなわち、本発明により、従来の溶剤による透明基材の溶解または膨潤では、干渉縞をなくすために必要な厚さの屈折率傾斜層が形成される前に溶剤が揮発してしまう問題が解決できる。その結果、透明基材とハードコート層間の屈折率の差を低減することができ干渉縞を抑制することができる。

また、本発明の請求項２によれば、前記繰り返し単位が、エチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基であることにより、アルキル基の鎖長が短く、前記アルキル基によるエーテル結合が遮蔽されず、その結果、透明基材の溶解性や膨潤性が向上し、より好ましく屈折率に傾斜性のあるハードコート層を形成することができる。

また、本発明の請求項３によれば、前記アクリレート化合物がアクリロイル基を３つ以上含むことにより、反応性を著しく向上させることができ、透明基材の一方の面に高い表面硬度を付与することができる。

上記のように、本発明によれば、密着性、帯電防止性、表面硬度に優れ、且つ、透明基材とハードコート層との屈折率の差を低減することで干渉縞を抑制できる、ハードコート組成物及びハードコート材を提供することができる。

本発明に係るハードコート材の一実施形態を表す断面模式図である。

本発明は、帯電防止剤、上記（化１）式で表されるアクリレート化合物、光重合開始剤、及び溶剤からなるハードコート組成物と、透明基材の一方の面に前記ハードコート組成物を用いて形成されるハードコート材である。

図１は本発明に係るハードコート材の一実施形態を表す断面模式図を示している。図１（ａ）は、透明基材１１の一方の面に前記ハードコート組成物からなるハードコート層１２が形成されたハードコート材１の一実施形態を示している。また、図１（ｂ）は透明基材１の一方の面に、前記ハードコート層１２、反射防止層２１が順次積層されたハードコート材２の一実施形態を示している。

本発明のハードコート組成物は、（Ａ）帯電防止剤、（Ｂ）アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤からなり、上記（化１）式で表されるアクリレート化合物により透明基材を溶解又は膨潤させることができる。その結果、透明基材とその上に形成されるハードコート層との間に、屈折率を傾斜させることで干渉縞を抑制できる。また、前記アクリレート化合物に含まれるアクリロイル基が特に３つ以上あることで、高い密着性と表面硬度が得られる。

前記ハードコート組成物に用いられる（Ａ）帯電防止剤としては、４級アンモニウム塩を含有する帯電防止剤が好ましい。これは、導電性微粒子を用いる場合と比べ、塗工性や透明性が良好なためである。このような帯電防止剤として、例えばライトエステルＤＱ１００（共栄社化学製）、ＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ（コルコート社製、固形分１０％）などを挙げることができる。また、その配合比はハードコート組成物の全体に対して２重量％以上が好ましく、さらには２．５重量％以上がより好ましい。これは上記帯電防止剤が占める割合が２重量％未満の場合、表面抵抗値が１×１０^１０Ω／□以上となるためである。

また、前記ハードコート組成物に用いられる（Ｂ）アクリレート化合物としては、分子中に上記（化学式１）で表される繰り返し単位に、少なくとも一つ以上のアクリロイル基を有するものである。特に、上記繰り返し単位の中でも、基材溶解性の高さから、エチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基がより好ましい。アルキル基の鎖長が大きく、分鎖状のものになると、エーテル結合がアルキル基に遮蔽され、基材溶解性が低下する。

また、ハードコート層としての硬度を保持するため、上記アクリレート化合物中に、アクリロイル基が３つ以上含まれることがより好ましい。また、アクリレート化合物は１種類であっても２種類以上用いてもよく、種類の数は特に限定されるものではない。

またさらに、前記アクリレート化合物は（化学式１）で表される繰り返し単位を有するアクリレート化合物と、（化学式１）で表される繰り返し単位を有さないアクリレート化合物から構成されていてもよく、繰り返し単位を持たないアクリレート化合物は１種類であっても２種類以上であってもよく、種類や種類の数は特に限定されない。なお、基材溶解性を保持するため、アクリレート組成物全体に占める前記（化学式１）で表される繰り返し単位を有するアクリレート化合物の割合は、８重量％以上がより好ましい。８重量％未満では、透明基材の溶解又は膨潤が十分でなくなり、干渉縞の抑制が困難となる。

前記（化学式１）で表される繰り返し単位を持つアクリレート化合物としては、例えば、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、エトキシ化ノニルフェニルアクリレート、アルコキシ化ノニルフェニルアクリレート、２−フェノキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシージエチレングリコールアクリレート、メトキシ−トリエチレングリコールアクリレート、２エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、メトキシーポリエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化グリセリルトリアクリレートなどが挙げられる。

なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。

また、前記ハードコート組成物に用いられる（Ｃ）光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。

また、前記ハードコート組成物に用いられる（Ｄ）溶剤としては、特に限定するものではないが、透明基材の溶解又は膨潤を促進させるものが好ましい。例えば、透明基材としてトリアセチルセルロース、又はアクリル樹脂を用いた場合には、ジブチルエーテル、ジオキサン、ジオキソランなどのエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等の一部のケトン類、また酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ペンチルなどのエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブなどのセロソルブ類、その他としてＮ−メチル−２−ピロリドン（Ｎ−メチルピロリドン）、炭酸ジメチルが挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

次に、本発明に係るハードコート材について説明する。

本発明に係るハードコート材は、図１（ａ）に表すように、透明基材１１の一方の面に前記ハードコート組成物を塗布し、乾燥後、電離放射線照射により硬化させてハードコート層１２を形成して得られる。また、図１（ｂ）に表すように、前記ハードコート層１２の上にさらに反射防止層２１を形成したハードコート材を得ることができる。

本発明に係るハードコート材に用いられる透明基材としては、種々の有機高分子からなるフィルム又はシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される透明基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、トリアセチルセルロース、アクリル樹脂は、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに対し好適に用いることができる。

上記透明基材の一方の面に、前記ハードコート組成物を塗布する方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いることができる。

また、透明基材上に形成されたハードコート組成物の塗膜を乾燥する手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。

また、乾燥後の電離放射線の照射方法としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。

本発明に係る前記ハードコート層の形成方法としては、ロール・ツー・ロール方式による連続形成もできる。例えば、ウェブ状の透明基材を塗布装置の巻き出し部から巻き取り部まで連続走行させ、このとき、透明基材を塗布ユニット、乾燥ユニット、電離放射線照射ユニットを通過させることにより、透明基材上にハードコート層が連続形成される。

なお、前記ハードコート組成物を塗布し、形成される塗膜においてハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止するために、前記ハードコート組成物に表面調整剤と呼ばれる添加剤を加えても良い。表面調整剤は、その働きに応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜（防眩層）の表面張力を低下させる働きを備える。

また、前記ハードコート組成物には必要に応じて、他の添加剤を加えても良い。例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、密着性向上剤、硬化剤などを用いることができる。

次に、図１（ｂ）に表すような、前記ハードコート層１２の上にさらに反射防止層２１を形成したハードコート材について具体的に説明する。

図１（ａ）に表すハードコート材のハードコート層１２の上に、反射防止組成物を塗布し、乾燥後、電離放射線を照射して反射防止層２１を形成する。前記反射防止組成物は少なくとも低屈折率シリカ粒子とバインダマトリックス形成材料を含む。

前記低屈折率シリカ粒子は粒子内部に空隙を有し手いるのが特徴であり、屈折率が１．２０〜１．４４であればよく、特に限定されるものではない。例えば、有機珪素化合物から成るマトリックス中に、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を添加することにより、低屈折率化が可能となる。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子は内部に空気を含有しているために、それ自身の屈折率は、通常のシリカ（屈折率＝１．４６）と比較して著しく低い（屈折率＝１．４４〜１．３４）。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子は、多孔性シリカ微粒子を有機珪素化合物等で表面を被覆し、その細孔入口を閉塞して作製される。

また、この内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子をマトリックス中に添加した場合、このシリカ微粒子は中空であるために、マトリックスがシリカ微粒子内部に浸漬することが無く、屈折率の上昇を防ぐことが出来る。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子の平均粒径は、０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であれは良い。この平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、反射防止層の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その透明性が低下する。また、この平均粒径が０．５ｎｍ未満であると、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子が凝集しやすくなってしまう。

前記バインダマトリックス形成材料としては、例えば、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、下記（化学式２）で示されるケイ素アルコキシドの
加水分解物を用いることができる。

但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である。

前記（化学式２）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式２で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。

また、前記バインダマトリックス形成材料として、（化学式２）で表されるケイ素アルコキシドに、下記（化学式３）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を含有させることにより反射防止層表面に防汚性を付与することができ、加えて、反射防止層の屈折率を低下することができる。

但し、式中Ｒ´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である。

（化学式３）で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。

また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いることもできる。電離放射線硬化型材料としては、前記ハードコート組成物で挙げたアクリレート化合物を用いることができる。また、低屈折率のフッ素系電離放射線硬化型材料を用いて反射防止層を形成するにあっては、必ずしも低屈折率粒子を添加する必要はない。また、電離放射線硬化型材料を用いる場合にあっても、反射防止層表面に防汚性を発現する材料を添加することが好ましい。なお、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより反射防止層を形成する場合には、反射防止組成物に光重合開始剤が加えられる。

光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。以上により、反射防止層は形成される。

バインダマトリックス形成材料として、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いた場合には、ケイ素アルコキシドの加水分解物と低屈折率粒子とを含む反射防止組成物を、前記ハードコート層上に塗布して塗膜を形成し、乾燥・加熱して、ケイ素アルコキシドの脱水縮合反応をおこなうことにより反射防止層を形成することができる。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、電離放射線硬化型材料
と低屈折率粒子とを含む反射防止組成物を前記ハードコート層上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、電離放射線を照射することで硬化させ、反射防止層を形成することができる。

なお、反射防止組成物には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、添加剤として、防汚剤、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。

また、前記反射防止層の形成方法としては前記方法に限らず、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等の適宜な手段であってもよく、例えば、膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ_２等の極薄膜や金属蒸着膜、あるいはＳｉＯｘやＭｇＦ_２の蒸着膜により形成しても良い。

以下実施例について詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものでは無い。

（実施例１）
透明基材として、厚さ８０μｍ、アクリル樹脂（屈折率１．４９）を用いた。その一方の面に下記のハードコート組成物をワイヤーバーコーターにより塗布し、２０秒２５℃の条件下で保持し、さらにオーブン中、４０秒８０℃の条件下で乾燥した。その後、窒素雰囲気下、コンベア式紫外線硬化装置で露光量２００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射し、前記透明基材の上に膜厚５μｍのハードコート層を形成した。

＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：ライトエステルＤＱ１００ ３重量部
・アクリレート化合物 ４７重量部
（エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート）
・光重合開始剤：ＬＵＣＩＲＩＮＴＰＯ（チバジャパン社製） １重量部
・溶剤：メチルエチルケトン ２９重量部
イソプロピルアルコール １９重量部

次に、前記ハードコート層の上に下記組成の反射防止組成物をワイヤーバーコーターにより塗布し、２０秒２５℃の条件下で保持し、さらにオーブン中、４０秒６０℃の条件下で乾燥した。その後、窒素雰囲気下、コンベア式紫外線硬化装置で露光量２４０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射し、反射防止層を有するハードコート材を作製した。

＜反射防止組成物＞
・多孔質シリカ微粒子分散液： １４．９４重量部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０重量部、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １．９９重量部
（ＤＰＥＡ−１２、日本化薬社製）
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４ ０．０７重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・添加剤：ＴＳＦ４４６０（ＧＥ東芝シリコーン社製） ０．２０重量部
・溶剤：メチルイソブチルケトン ８２重量部

（実施例２）
透明基材として、厚さ６０μｍ、トリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）を用いた。次に、下記組成のハードコート組成物を用いて、実施例１と同様にしてハードコート層を形成した。

＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：ライトエステルＤＱ１００ ３重量部
・アクリレート化合物： ４７重量部
（プロポキシ化グリセリルトリアクリレート）
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４ １重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・溶剤：エタノール ４８重量部

次に、前記ハードコート層の上に、実施例１と同様にして反射防止層を有するハードコート材を作製した。

（実施例３）
透明基材として実施例２と同じものを用い、下記組成のハードコート組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止層を有するハードコート材を作製した。

＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：ライトエステルＤＱ１００ ３重量部
・アクリレート化合物： ４７重量部
（プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート）
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７ １重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・溶剤：イソプロピルアルコール ４８重量部

（比較例１）
透明基材として実施例２と同じものを用い、下記組成のハードコート組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止層を有するハードコート材を作製した。

＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：ライトエステルＤＱ１００ ３重量部
・アクリレート化合物：トリエチレングリコールジアクリレート ４７重量部
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４ １重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・溶剤：エタノール ４８重量部
を攪拌し、混合させることで帯電防止機能付きハードコート組成物を得た。

（比較例２）
下記組成のハードコート組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止層を有
するハードコート材を作製した。

＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：ライトエステルＤＱ１００ ３重量部
・アクリレート化合物：トリメチロールプロパントリアクリレート ４７重量部
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦジャパン社製） １重量部
・溶剤：アセトン ３４重量部
エタノール １４重量部

（比較例３）
下記組成のハードコート組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止層を有するハードコート材を作製した。

＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：ライトエステルＤＱ１００ ３重量部
・アクリレート化合物：ペンタエリスリトールトリアクリレート ４７重量部
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦジャパン社製） １重量部
・溶剤：イソプロピルアルコール １４重量部

＜評価＞
実施例１〜３、比較例１〜３で得られたハードコート材について、以下の測定・評価を行い、その結果を下記の表１に示す。

・干渉縞の観察
透明基材の他方の面をサンドペーパーで擦り、その後、艶消しの黒色塗料を塗布し、蛍光灯（三波長蛍光灯）直下、帯電防止機能付き反射防止層を観察した。なお、目視にて確認した干渉縞は、以下の基準で評価した。
◎：干渉縞が認められない。○：干渉縞がほとんど認められない。△：干渉縞がわずかに認められる。×：干渉縞が顕著に認められる。

・鉛筆硬度の測定
透明基材の一方の表面に対して、ＪＩＳ Ｋ５４０１に示された試験方法に基づき評価した。

・密着性の評価
透明基材の一方の表面に対して、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６に準拠して、ハードコート層の残存数にて評価した。目視にて確認した評価を以下のように分類した。
○：剥離を確認することが出来ない。△：２０マス以下の剥離が確認できる。×：２０マス以上の剥離が確認できる。

＜比較結果＞
比較例１は、硬度の低下が見られた。前記（化１）式で表される繰り返し単位を有するアクリレート化合物のアクリロイル基の数が２であるためと考えられる。また、比較例２ではアクリレート化合物が含まれておらず、基材溶解性を有するアセトンを３４重量部用いても干渉縞が全面に発生し、密着性も２０マス以下の剥離が確認された。透明基材が十分に溶解又は膨潤し、屈折率傾斜層が形成される前に、アセトンが揮発したことが原因と考えられる。また、比較例３では、アクリレート化合物や基材溶解性を有する溶剤も含まれておらず、比較例２よりも顕著に干渉縞が発生し、密着性も２０マス以上の剥離が確認
された。

これに対し、実施例で得られた帯電防止機能付きハードコートフィルムは、干渉縞が発生しておらず、密着性もフィルムの剥離が見られておらず、鉛筆硬度もＨと良好である。この結果から、以下のことが示された。アクリレート化合物を用いることで、透明基材が溶解又は膨潤し、屈折率傾斜層が十分に形成されるため、干渉縞を抑制でき、高い密着性を持たせることができた。また、アクリレート化合物のアクリロイル基の数を３つ以上とすることで、良好な鉛筆硬度を持つハードコートとすることができた。

１：ハードコート材
１１：透明基材
１２：ハードコート層
２：ハードコート材
２１：反射防止層

Claims (6)

1. （Ａ）帯電防止剤、（Ｂ)アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤からなるハードコート組成物であって、
   前記（Ｂ）アクリレート化合物が、分子中に下記（化学式１）で表される繰り返し単位と、少なくとも一つ以上のアクリロイル基を有することを特徴とするハードコート組成物。
   

   

   （式中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、ｎは１以上の整数を表す）
2. 前記繰り返し単位が、エチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基であることを特徴とする請求項１に記載のハードコート組成物。
3. 前記アクリレート化合物にアクリロイル基が３つ以上含まれることを特徴とする請求項１又は２に記載のハードコート組成物。
4. 透明基材の一方の面に、請求項１乃至３のいずれかに記載のハードコ−ト組成物からなるハードコート層を有することを特徴とするハードコート材。
5. 請求項４に記載のハードコート層の上に反射防止層を積層してなることを特徴とするハードコート材。
6. 請求項４又は５に記載の透明基材がトリアセチルセルロース又はアクリル樹脂から成ることを特徴とするハードコート材。

Images