JP5377283B2

JP5377283B2 - 偏光板、画像表示装置、及び偏光板の製造方法

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Publication number: JP5377283B2
Application number: JP2009298577A
Authority: JP
Inventors: 高康山崎; 謙一福田; 美帆朝日; 淳渡部
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2009-12-28
Filing date: 2009-12-28
Publication date: 2013-12-25
Anticipated expiration: 2029-12-28
Also published as: JP2011136503A; US20110183110A1

Description

本発明は、帯電防止層を有する光学フィルム、該光学フィルムを用いた反射防止フィルム及び偏光板、並びに該光学フィルム、該反射防止フィルム又は該偏光板をディスプレイの最表面に用いた画像表示装置に関する。

陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面への傷付きや埃等の付着による視認性低下を防止するために、透明で帯電防止性能を有するハードコートフィルムを設けることが好適である。とりわけ、近年のＬＣＤのように高精細、高品位化された画像表示装置の場合には、上記の防塵性の他に、表示面での外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するための透明で帯電防止性能を有する反射防止フィルム等を設けることも行われている。

これらの光学フィルムは、偏光膜の表面フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いられることが一般的であり、該保護フィルムの基材がセルロースアシレートフィルムである場合、光学機能層を有する側とは反対側のセルロースアシレートフィルムの表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、偏光膜との接着性を改良することができる。
この親水化処理はケン化処理と言われるもので、一般的には濃度が１ｍｏｌ／Ｌ以上のアルカリ溶液に浸漬し、その後、酸溶液で中和する等の方法により行われる。この際に、光学機能層側の表面もアルカリ溶液に晒されるため、光学機能層の機能自体が損なわれる場合があった。例えば、帯電防止性能の付与のため導電性化合物を用いた帯電防止性フィルムの場合、アルカリ溶液により導電性化合物の導電性が失われ、所望の機能が得られないことがあった。そのため、帯電防止性能を有する光学フィルムにおいては、上記のようなアルカリ溶液の処理により導電性を低下させないこと、即ち耐薬品性が高いことが非常に重要であり、これらを達成する技術が強く望まれている。

一方、特許文献１〜４には、光学フィルムに帯電防止性能を付与する方法として、例えば４級アンモニウム塩基を有する化合物を用いた光学フィルムに関する技術が開示されている。これらの文献には、安定かつ良好な導電性を発現させる技術や、面状、導電性、高温高湿試験後の密着性に優れかつ干渉ムラを低減する技術等、有用な技術の記載がある。

特開２００９−２６３５６７号公報特開２００５−３１６４２８号公報特開２００９−８６６６０号公報特開２００３−３９６１９号公報

しかしながら、特許文献１〜３の光学フィルムでは４級アンモニウム塩基を有する化合物がフィルム表面近傍に集中して偏在しているために、例えば、基材の親水化処理などのためアルカリ溶液等に浸漬した際に、４級アンモニウム塩基を有する化合物がアルカリ溶液により変質し、導電性が低下する耐薬品性の問題が解決されていない。
また、特許文献４では、帯電防止剤の表面窒素原子量を規定することで平滑性とすべり性に優れる光学フィルムを得ることが開示されているが、耐薬品性に関する技術については予見されておらず、十分な耐薬品性を有していないことが予想される。

本発明の目的は、帯電防止性に優れ、かつ耐薬品性にも優れた光学フィルムを提供することにある。
本発明の別の目的は、帯電防止性に優れ、かつ耐薬品性にも優れた光学フィルムの製造方法を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、該光学フィルムを用いた反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、セルロースアシレートフィルム上に、親水性を有する導電性化合物を含有する帯電防止層を設け、帯電防止層中の導電性化合物の分布を特定の範囲とすることにより、前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
＜１＞
偏光膜と、その両側に二枚の保護フィルムを有する偏光板であって、前記二枚の保護フィルムの少なくとも一方が、
セルロースアシレートフィルム上に、親水性を有する導電性化合物を含む帯電防止層を有する光学フィルムであって、
前記帯電防止層中、前記導電性化合物は、前記帯電防止層の表面側領域より内部に偏在している光学フィルムであることを特徴とする偏光板。
＜２＞
前記親水性を有する導電性化合物が、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物であることを特徴とする＜１＞に記載の偏光板。
＜３＞
前記イオン導電性化合物が、４級アンモニウム塩基を有する化合物であることを特徴とする＜２＞に記載の偏光板。
＜４＞
前記４級アンモニウム塩基を有する化合物が、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーであることを特徴とする＜３＞に記載の偏光板。

一般式（Ｉ）中、Ｒ ₁ は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ ₂ ＣＯＯ ^- Ｍ ⁺ を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ ^- Ｍ ⁺ を表す。Ｍはプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。

式中、Ｒ ₂ 、Ｒ ₂ '及びＲ ₂ "は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｘ ^- はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。

一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ ₃ 、Ｒ ₄ 、Ｒ ₅ 及びＲ ₆ は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ ₃ とＲ ₄ 及びＲ ₅ とＲ ₆ はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ ₇ ＣＯＲ ₈ −、−Ｒ ₉ ＣＯＯＲ ₁₀ ＯＣＯＲ ₁₁ −、−Ｒ ₁₂ ＯＣＲ ₁₃ ＣＯＯＲ ₁₄ −、−Ｒ ₁₅ −（ＯＲ ₁₆ ） _m −、−Ｒ ₁₇ ＣＯＮＨＲ ₁₈ ＮＨＣＯＲ ₁₉ −、−Ｒ ₂₀ ＯＣＯＮＨＲ ₂₁ ＮＨＣＯＲ ₂₂ −又は―Ｒ ₂₃ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₄ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₅ −を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ ₇ ＣＯＲ ₈ −、−Ｒ ₉ ＣＯＯＲ ₁₀ ＯＣＯＲ ₁₁ −、−Ｒ ₁₂ ＯＣＲ ₁₃ ＣＯＯＲ ₁₄ −、−Ｒ ₁₅ −（ＯＲ ₁₆ ） _m −、−Ｒ ₁₇ ＣＯＮＨＲ ₁₈ ＮＨＣＯＲ ₁₉ −、−Ｒ ₂₀ ＯＣＯＮＨＲ ₂₁ ＮＨＣＯＲ ₂₂ −又は―Ｒ ₂₃ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₄ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₅ −又は−ＮＨＣＯＲ ₂₆ ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ ₇ 、Ｒ ₈ 、Ｒ ₉ 、Ｒ ₁₁ 、Ｒ ₁₂ 、Ｒ ₁₄ 、Ｒ ₁₅ 、Ｒ ₁₆ 、Ｒ ₁₇ 、Ｒ ₁₉ 、Ｒ ₂₀ 、Ｒ ₂₂ 、Ｒ ₂₃ 、Ｒ ₂₅ 及びＲ ₂₆ はアルキレン基を表す。Ｒ ₁₀ 、Ｒ ₁₃ 、Ｒ ₁₈ 、Ｒ ₂₁ 及びＲ ₂₄ は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ ^‐ はアニオンを表す。
Ｚ ₁ 、Ｚ ₂ は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ ⁺ [Ｘ ^- ]−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。
ｎは５〜３００の整数を表す。
＜５＞
元素分析（ＥＳＣＡ）による前記帯電防止層の表面側領域の窒素又は硫黄原子量が０．５〜５ｍｏｌ％であることを特徴とする＜３＞又は＜４＞に記載の偏光板。
＜６＞
元素分析（ＥＳＣＡ）による前記帯電防止層の窒素又は硫黄原子量が、下記式（１）を満たすことを特徴とする＜３＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の偏光板。
式（１） β／α＞２．５
式（１）中、α、βは元素分析により求めた帯電防止層中の窒素又は硫黄原子量で、帯電防止層中の総窒素又は硫黄原子量を１００ｍｏｌ％としたときの、αは帯電防止層の表面側領域の窒素又は硫黄原子量を表し、βはセルロースアシレートフィルム側領域での窒素又は硫黄原子量を表す。
＜７＞
前記β／αが、６．５＞β／α＞２．５を満たすことを特徴とする＜６＞に記載の偏光板。
＜８＞
前記光学フィルムの全ヘイズ値が０．１％以上１％未満で、かつＪＩＳＢ０６０１に基づく算術平均粗さＲａが０．０３μｍ以下であることを特徴とする＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の偏光板。
＜９＞
前記帯電防止層の厚さが６μｍ〜２０μｍであることを特徴とする＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の偏光板。
＜１０＞
前記帯電防止層が、前記導電性化合物、重合性基を二つ以上有する多官能モノマー、光重合開始剤、下記一般式（ＩＶ）又は（Ｖ）で表されるカーボネート溶剤を含有する組成物を硬化させた層であることを特徴とする＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載の偏光板。

式中、Ｒ _ａ、Ｒ _ｂは、それぞれ独立して、アルキル基を表す。Ｒ _ｃはアルキレン基を表す。
＜１１＞
前記重合性基を二つ以上有する多官能モノマーが、アクリルロイル基、メタアクリロイル基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ _２から選ばれるいずれかの基であることを特徴とする＜１０＞に記載の偏光板。
＜１２＞
前記光学フィルムが、前記帯電防止層上に、前記帯電防止層より屈折率の低い低屈折率層を有する反射防止フィルムであることを特徴とする＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の偏光板。
＜１３＞
＜１＞〜＜１２＞のいずれか１項に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。
＜１４＞
偏光膜と、その両側に二枚の保護フィルムを有する偏光板の製造方法であって、前記二枚の保護フィルムの少なくとも一方が、
セルロースアシレートフィルム上に帯電防止層を有する光学フィルムであって、
親水性を有する導電性化合物、重合性基を二つ以上有する多官能モノマー、光重合開始剤、下記一般式（ＩＶ）又は（Ｖ）で表されるカーボネート溶剤を含有する組成物を前記セルロースアシレートフィルム上に塗布し硬化させることで前記帯電防止層中、前記導電性化合物が、前記帯電防止層の表面側領域より内部に偏在している帯電防止層を形成することを特徴とする偏光板の製造方法。

式中、Ｒ _ａ、Ｒ _ｂは、それぞれ独立して、アルキル基を表す。Ｒ _ｃはアルキレン基を表す。
＜１５＞
前記親水性を有する導電性化合物が、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物であることを特徴とする＜１４＞記載の偏光板の製造方法。
＜１６＞
前記イオン導電性化合物が、４級アンモニウム塩基を有する化合物であることを特徴とする＜１５＞に記載の偏光板の製造方法。
＜１７＞
前記４級アンモニウム塩基を有する化合物が、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーであることを特徴とする＜１６＞に記載の偏光板の製造方法。

一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ ₃ 、Ｒ ₄ 、Ｒ ₅ 及びＲ ₆ は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ ₃ とＲ ₄ 及びＲ ₅ とＲ ₆ はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ ₇ ＣＯＲ ₈ −、−Ｒ ₉ ＣＯＯＲ ₁₀ ＯＣＯＲ ₁₁ −、−Ｒ ₁₂ ＯＣＲ ₁₃ ＣＯＯＲ ₁₄ −、−Ｒ ₁₅ −（ＯＲ ₁₆ ） _m −、−Ｒ ₁₇ ＣＯＮＨＲ ₁₈ ＮＨＣＯＲ ₁₉ −、−Ｒ ₂₀ ＯＣＯＮＨＲ ₂₁ ＮＨＣＯＲ ₂₂ −又は―Ｒ ₂₃ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₄ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₅ −を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ ₇ ＣＯＲ ₈ −、−Ｒ ₉ ＣＯＯＲ ₁₀ ＯＣＯＲ ₁₁ −、−Ｒ ₁₂ ＯＣＲ ₁₃ ＣＯＯＲ ₁₄ −、−Ｒ ₁₅ −（ＯＲ ₁₆ ） _m −、−Ｒ ₁₇ ＣＯＮＨＲ ₁₈ ＮＨＣＯＲ ₁₉ −、−Ｒ ₂₀ ＯＣＯＮＨＲ ₂₁ ＮＨＣＯＲ ₂₂ −又は―Ｒ ₂₃ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₄ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₅ −又は−ＮＨＣＯＲ ₂₆ ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ ₇ 、Ｒ ₈ 、Ｒ ₉ 、Ｒ ₁₁ 、Ｒ ₁₂ 、Ｒ ₁₄ 、Ｒ ₁₅ 、Ｒ ₁₆ 、Ｒ ₁₇ 、Ｒ ₁₉ 、Ｒ ₂₀ 、Ｒ ₂₂ 、Ｒ ₂₃ 、Ｒ ₂₅ 及びＲ ₂₆ はアルキレン基を表す。Ｒ ₁₀ 、Ｒ ₁₃ 、Ｒ ₁₈ 、Ｒ ₂₁ 及びＲ ₂₄ は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ ^‐ はアニオンを表す。
Ｚ ₁ 、Ｚ ₂ は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ ⁺ [Ｘ ^- ]−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。
ｎは５〜３００の整数を表す。
本発明は、上記＜１＞〜＜１７＞に関するものであるが、その他の事項（たとえば下記［１］〜［１７］に記載した事項など）についても参考のために記載した。

［１］
セルロースアシレートフィルム上に、親水性を有する導電性化合物を含む帯電防止層を有する光学フィルムであって、
前記帯電防止層中、前記導電性化合物は、前記帯電防止層の表面側領域より内部に偏在していることを特徴とする光学フィルム。
［２］
前記親水性を有する導電性化合物が、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物であることを特徴とする［１］に記載の光学フィルム。
［３］
前記イオン導電性化合物が、４級アンモニウム塩基を有する化合物であることを特徴とする［１］又は［２］に記載の光学フィルム。
［４］
前記４級アンモニウム塩基を有する化合物が、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーであることを特徴とする［３］に記載の光学フィルム。

一般式（Ｉ）中、Ｒ₁は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ₂ＣＯＯ^-Ｍ⁺を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ^-Ｍ⁺を表す。Ｍはプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。

式中、Ｒ₂、Ｒ₂'及びＲ₂"は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｘ^-はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。

一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ₃とＲ₄及びＲ₅とＲ₆はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ₇ＣＯＲ₈−、−Ｒ₉ＣＯＯＲ₁₀ＯＣＯＲ₁₁−、−Ｒ₁₂ＯＣＲ₁₃ＣＯＯＲ₁₄−、−Ｒ₁₅−（ＯＲ₁₆）_m−、−Ｒ₁₇ＣＯＮＨＲ₁₈ＮＨＣＯＲ₁₉−、−Ｒ₂₀ＯＣＯＮＨＲ₂₁ＮＨＣＯＲ₂₂−又は―Ｒ₂₃ＮＨＣＯＮＨＲ₂₄ＮＨＣＯＮＨＲ₂₅−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ₇ＣＯＲ₈−、−Ｒ₉ＣＯＯＲ₁₀ＯＣＯＲ₁₁−、−Ｒ₁₂ＯＣＲ₁₃ＣＯＯＲ₁₄−、−Ｒ₁₅−（ＯＲ₁₆）_m−、−Ｒ₁₇ＣＯＮＨＲ₁₈ＮＨＣＯＲ₁₉−、−Ｒ₂₀ＯＣＯＮＨＲ₂₁ＮＨＣＯＲ₂₂−又は―Ｒ₂₃ＮＨＣＯＮＨＲ₂₄ＮＨＣＯＮＨＲ₂₅−又は−ＮＨＣＯＲ₂₆ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₅及びＲ₂₆はアルキレン基を表す。Ｒ₁₀、Ｒ₁₃、Ｒ₁₈、Ｒ₂₁及びＲ₂₄は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ^‐はアニオンを表す。
Ｚ₁、Ｚ₂は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ⁺[Ｘ^-]−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。
ｎは５〜３００の整数を表す。
［５］
元素分析（ＥＳＣＡ）による前記帯電防止層の表面側領域の窒素又は硫黄原子量が０．５〜５ｍｏｌ％であることを特徴とする［３］又は［４］に記載の光学フィルム。
［６］
元素分析（ＥＳＣＡ）による前記帯電防止層の窒素又は硫黄原子量が、下記数式（１）を満たすことを特徴とする［３］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルム。
式（１） β／α＞２．５
式（１）中、α、βは元素分析により求めた帯電防止層中の窒素又は硫黄原子量で、帯電防止層中の総窒素又は硫黄原子量を１００ｍｏｌ％としたときの、αは帯電防止層の表面側領域の窒素又は硫黄原子量を表し、βはセルロースアシレートフィルム側領域での窒素又は硫黄原子量を表す。
［７］
前記光学フィルムの全ヘイズ値が０．１％以上１％未満で、かつＪＩＳＢ０６０１に基づく算術平均粗さＲａが０．０３μｍ以下であることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルム。
［８］
前記帯電防止層の厚さが６μｍ〜２０μｍであることを特徴とする［１］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルム。
［９］
前記帯電防止層が、前記導電性化合物、重合性基を二つ以上有する多官能モノマー、光重合開始剤、下記一般式（ＩＶ）又は（Ｖ）で表されるカーボネート溶剤を含有する組成物を硬化させた層であることを特徴とする［１］〜［８］のいずれかに記載の光学フィルム。

式中、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂは、それぞれ独立して、アルキル基を表す。Ｒ_ｃはアルキレン基を表す。
［１０］
前記重合性基を二つ以上有する多官能モノマーが、アクリルロイル基、メタアクリロイル基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２から選ばれるいずれかの基であることを特徴とする［９］に記載の光学フィルム。
［１１］
セルロースアシレートフィルム上に帯電防止層を有する光学フィルムの製造方法であって、
親水性を有する導電性化合物、重合性基を二つ以上有する多官能モノマー、光重合開始剤、下記一般式（ＩＶ）又は（Ｖ）で表されるカーボネート溶剤を含有する組成物を前記セルロースアシレートフィルム上に塗布し硬化させることで前記帯電防止層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。

式中、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂは、それぞれ独立して、アルキル基を表す。Ｒ_ｃはアルキレン基を表す。
［１２］
前記親水性を有する導電性化合物が、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物であることを特徴とする［１１］記載の光学フィルムの製造方法。
［１３］
前記イオン導電性化合物が、４級アンモニウム塩基を有する化合物であることを特徴とする［１１］又は［１２］に記載の光学フィルムの製造方法。
［１４］
前記４級アンモニウム塩基を有する化合物が、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーであることを特徴とする［１３］に記載の光学フィルムの製造方法。
［１５］
［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルム光学フィルム上に、前記帯電防止層より屈折率の低い低屈折率層を有することを特徴とすることを特徴とする反射防止フィルム。
［１６］
偏光膜と、その両側に二枚の保護フィルムを有する偏光板であって、前記二枚の保護フィルムの少なくとも一方が、［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルム、又は［１５］に記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
［１７］
［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルム、［１５］に記載の反射防止フィルム、又は［１６］に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。

本発明によれば、十分な帯電防止能を備え、耐薬品性に優れた光学フィルム、これを用いた反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置を提供することができる。

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。

本発明の光学フィルムは、セルロースアシレートフィルム上に、親水性を有する導電性化合物を含む帯電防止層を有し、帯電防止層中、導電性化合物は前記帯電防止層の表面側領域より内部に偏在して多く存在する。
このように、帯電防止層において、特定の導電性化合物をセルロースアシレートフィルム側に偏在させることにより、帯電防止性と耐薬品性に優れた光学フィルムが得られる。

本明細書において、帯電防止層の「表面側領域」とはセルロースアシレートフィルム側とは逆側の帯電防止層最表面近傍の領域であり、帯電防止層の最表面からの深さが０〜０．５μｍの領域である。
本明細書において、「セルロースアシレートフィルム側領域」（以下、「基材側領域」とも言う）とは、帯電防止層の前記「帯電防止層の表面側領域」以外の領域であり、帯電防止層の最表面からの深さが０．５μｍ〜１μｍの領域のことを指す。
本発明の光学フィルムの帯電防止層において、導電性化合物は、上記の「表面側領域」より内部に偏在させる。本明細書において、導電性化合物が帯電防止層の内部に偏在するとは、導電性化合物が「表面側領域」よりも「セルロースアシレートフィルム側領域」に多く存在していることをいう。導電性化合物は「表面側領域」に存在する量に対して「セルロースアシレートフィルム側領域」に存在する量の比が２．５より大きいことが好ましい。
導電性化合物の存在量は、帯電防止層中の窒素又は硫黄原子量を測定することで見積もることができる。帯電防止層中において、「表面側領域」の窒素又は硫黄原子量に対する「セルロースアシレートフィルム側領域」の窒素又は硫黄原子量の比は２．５より大きいことが好ましい
上記の導電性化合物の偏在は、帯電防止層を形成する際に用いる溶剤の種類、量の選択、また帯電防止塗布液の濃度等により達成することができるが、特定の親水性溶剤を用いる方法には本発明の特定の導電性化合物を偏在させ易く、更に面状を良好にできる点で好ましい方法である。
親水性溶剤を用いた場合に導電性化合物が偏在し易い理由は詳細には判明していないが、本発明の導電性化合物は親水性を有しているために親水性溶剤との親和性が高く、更に溶剤の基材溶解性（セルロースアシレートフィルムの溶解性）が高い場合、溶剤との親和性によってセルロースアシレートフィルム（基材）の界面へと引き寄せられることに起因していると考えている。したがって、親水性かつ基材溶解性の高い溶剤では、原理的には導電性化合物が帯電防止層内部に偏在し、耐薬品性に優れた光学フィルムが得られる可能性はあるが、溶剤によっては導電性化合物の偏在が達成されないこともある。後述するように、本発明では、特定のカーボネート系溶剤を用いることが好ましい。
なお、本発明の光学フィルムの帯電防止層において、導電性化合物は上記の「表面側領域」より内部に偏在させるが、導電性化合物は帯電防止層中全体に存在し、帯電防止層内部に導電性化合物が存在する層と存在しない層との界面は存在しない。

以下、本発明の光学フィルムについて更に説明する
（光学フィルムの層構成）
本発明の光学フィルムは、セルロースアシレートフィルム上に帯電防止層を有し、更に目的に応じて、必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい。例えば、光学フィルムの物理強度を更に高めるためにハードコート層を有したり、光学干渉によって反射率が減少するように各層の屈折率、膜厚、層順及び層の数等を考慮して積層したりした光学フィルムを挙げることができる。

本発明の光学フィルムのより具体的な層構成の例を下記に示す。なお、以下の例において、透明支持体とはセルロースアシレートフィルムを意味する。
透明支持体／帯電防止層
透明支持体／帯電防止層／低屈折率層
透明支持体／帯電防止層／ハードコート層
透明支持体／帯電防止層／防眩層
透明支持体／帯電防止層／高屈折率層／低屈折率層
透明支持体／帯電防止層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
透明支持体／帯電防止層／ハードコート層／低屈折率層
透明支持体／帯電防止層／防眩層／低屈折率層
透明支持体／帯電防止層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層

［セルロースアシレートフィルム］
本発明の光学フィルムにおいては、透明支持体（基材）としてセルロースアシレートフィルムを用いる。
セルロースアシレートフィルムであれば、特に限定されないが、ディスプレイに設置する場合は、セルローストリアセテートフィルムを偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてそのまま用いることができるため、生産性やコストの点でセルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。
セルロースアシレートフィルムの厚さは、通常、２５μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、かつ必要な基材強度が得られる４０μｍ〜２００μｍが好ましい。

本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。

また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることが更に好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。

一般に、セルロースアシレートの２，３，６位の水酸基は全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。

本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４、実施例、合成例１、段落番号００４８〜００４９、合成例２、段落番号００５１〜００５２、合成例３に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。

［帯電防止層］
本発明の光学フィルムの帯電防止層は、親水性を有する導電性化合物を含有する。
親水性を有する導電性化合物を用いることにより、該導電性化合物を基材側領域に偏在させることができ、耐薬品性を向上させることができる。
導電性化合物に親水性を持たせるため、親水性基を導電性化合物に導入してもよく、親水性基としては、高い導電性を発現させ、かつ比較的安価である観点から、カチオン性基を有することが好ましく、中でも４級アンモニウム塩基を有することがより好ましい。

（導電性化合物）
本発明に用いられる導電性化合物は、親水性を有していれば特に制限はないが、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物が挙げられる。
イオン導電性化合物としては、カチオン性、アニオン性、非イオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である電子伝導性化合物が挙げられる。
これらの中では帯電防止性能が高く、比較的安価で、更に基材側領域に偏在させる観点から、４級アンモニウム塩基を有する化合物（カチオン系化合物）が好適である。

４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。
高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、基材側領域に偏在させる観点から、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。

一般式（Ｉ）中、Ｒ₁は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ₂ＣＯＯ^-Ｍ⁺を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ^-Ｍ⁺を表す。Ｍ^＋はプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。

式中、Ｒ₂、Ｒ₂'及びＲ₂"は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｘ^-はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。

一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ₃とＲ₄及びＲ₅とＲ₆はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ₇ＣＯＲ₈−、−Ｒ₉ＣＯＯＲ₁₀ＯＣＯＲ₁₁−、−Ｒ₁₂ＯＣＲ₁₃ＣＯＯＲ₁₄−、−Ｒ₁₅−（ＯＲ₁₆）_m−、−Ｒ₁₇ＣＯＮＨＲ₁₈ＮＨＣＯＲ₁₉−、−Ｒ₂₀ＯＣＯＮＨＲ₂₁ＮＨＣＯＲ₂₂−又は―Ｒ₂₃ＮＨＣＯＮＨＲ₂₄ＮＨＣＯＮＨＲ₂₅−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ₇ＣＯＲ₈−、−Ｒ₉ＣＯＯＲ₁₀ＯＣＯＲ₁₁−、−Ｒ₁₂ＯＣＲ₁₃ＣＯＯＲ₁₄−、−Ｒ₁₅−（ＯＲ₁₆）_m−、−Ｒ₁₇ＣＯＮＨＲ₁₈ＮＨＣＯＲ₁₉−、−Ｒ₂₀ＯＣＯＮＨＲ₂₁ＮＨＣＯＲ₂₂−又は―Ｒ₂₃ＮＨＣＯＮＨＲ₂₄ＮＨＣＯＮＨＲ₂₅−又は−ＮＨＣＯＲ₂₆ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₅及びＲ₂₆はアルキレン基を表す。Ｒ₁₀、Ｒ₁₃、Ｒ₁₈、Ｒ₂₁及びＲ₂₄は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ^‐はアニオンを表す。
Ｚ₁、Ｚ₂は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ⁺[Ｘ^-]−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。
ｎは５〜３００の整数を表す。

一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
アルキル基は、炭素数１〜４の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。
アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。

一般式（Ｉ）において、Ｒ₁は水素原子が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Ｑは、好ましくは群Ａから選ばれる下記一般式（ＶＩ）であり、Ｒ₂、Ｒ₂'及びＲ₂"は各々メチル基である。
Ｘ^-は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
ｐ及びｑは、好ましくは０又は１であり、より好ましくはｐ＝０、ｑ＝１である。

一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）において、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は、好ましくは炭素数１〜４の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
Ａ、Ｂ及びＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ^-は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくはＥは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。
Ｚ₁、Ｚ₂が、−Ｎ＝Ｃ−基とともに形成する５員又は６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。

以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｒ及び実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｒは各々のユニットのモル比を表す。

上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、帯電防止層の耐擦傷性（膜強度）も高めることができるので、より好ましい。

電子伝導性化合物としては、好ましくは芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族炭素環としては、例えばベンゼン環が挙げられ、更に縮環を形成してもよい。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族ヘテロ環としては、例えばピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ペンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられ、更に縮環を形成してもよく、置換基を有してもよい。

また、非共役高分子又は共役高分子における前記二価以上の連結基としては、炭素原子、珪素原子、窒素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子、金属、金属イオンなどで形成される連結基が挙げられる。好ましくは、炭素原子、窒素原子、珪素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組み合わせから形成される基であり、組み合わせにより形成される基としては、置換若しくは無置換のメチレン基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、エステル基、アミド基、シリル基などが挙げられる。

電子伝導性化合物としては、具体的には、置換又は非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン、又はこれらの誘導体等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、また、目的に応じて２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもでき、導電性ポリマーを構成し得るモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーも用いることができる。

電子伝導性化合物としては、共役高分子であることが更に好ましい。共役高分子の例としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（パラフェニレン）、ポリフルオレン、ポリアズレン、ポリ（パラフェニレンサルファイド）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）、複鎖型共役系高分子（ポリペリナフタレンなど）、金属フタロシアニン系高分子、その他共役系高分子（ポリ（パラキシリレン）、ポリ［α−（５，５’−ビチオフェンジイル）ベンジリデン］など）、又はこれらの誘導体等が挙げられる。
好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）が挙げられ、より好ましくはポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール又はこれらの誘導体、更に好ましくはポリチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれかが挙げられる。

以下に、電子伝導性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、これらの他にも、国際公開第９８／０１９０９号記載の化合物等が挙げられる。

本発明で用いる電子伝導性化合物の質量平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは１０，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。ここで質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。

本発明で用いる電子伝導性化合物は、塗布性及び他の成分との親和性付与の観点から、有機溶剤に可溶であることが好ましい。ここで、「可溶」とは溶剤中に単一分子状態又は複数の単一分子が会合した状態で溶解しているか、粒子径が３００ｎｍ以下の粒子状に分散されている状態を指す。
一般に、電子伝導性化合物は水を主成分とする溶媒に溶解することから、化合物としては親水性を有するが、このような電子伝導性化合物を有機溶剤に可溶化するには、電子伝導性化合物を含む組成物中に、有機溶剤との親和性を上げる化合物（例えば可溶化補助剤等）や有機溶剤中での分散剤等を添加する、あるいは疎水化処理したポリアニオンドーパントを用いることにより、有機溶剤に可溶化することができる。これらの方法により本発明で示される有機溶剤へも溶解可能となるが、化合物としての親水性は残っており、本発明の方法を適用すれば導電性化合物の偏在が可能である。

導電性化合物として４級アンモニウム塩基を有する化合物が用いられる場合、元素分析（ＥＳＣＡ）による帯電防止層表面側の窒素又は硫黄の窒素原子量が０．５〜５ｍｏｌ％であることが好ましい。この範囲であれば良好な帯電防止性が得易い。より好ましくは０．５〜３．５ｍｏｌ％であり、更に好ましくは０．５〜２．５ｍｏｌ％である。

また、元素分析（ＥＳＣＡ）による帯電防止層の窒素原子量比又は硫黄原子量比が、下記式（１）を満たすことが好ましい。
式（１） β／α＞２．５
式（１）中、βは元素分析により求めた帯電防止層中の窒素又は硫黄原子量で、帯電防止層中の総窒素又は硫黄原子量を１００ｍｏｌ％としたときの、αは帯電防止層の表面側領域の窒素又は硫黄原子量を表し、βはセルロースアシレートフィルム側領域での窒素又は硫黄原子量を表す。
β／α＞２．５であると、良好な帯電防止性と耐薬品性が得られるため好ましい。より好ましくは６．５＞β／α＞２．５である。
ＥＳＣＡによる元素分析は、予めエッチング速度を決めておいた帯電防止層の表面から、一定深さづつ層をエッチングして元素分析を行い、これを繰り返して表面から内部側への深さ方向への組成変化を測定する。組成変化を検出するためのエッチング方法には制限が無いが、有機物層の深さ方向の組成変化を測定する場合は、Ｃ６０イオン銃を用いたエッチングによる測定は、試料の損傷を少なくできるため好ましい。

本発明の帯電防止層は、本発明における親水性を有する導電性化合物と、溶剤とを含む塗布組成物をセルロースアシレートフィルム上に塗布、乾燥して形成することができる。
塗布組成物には、更に、重合性基を二つ以上有する多官能モノマーや光重合開始剤を含有させて、塗布後、多官能モノマーを硬化させることで帯電防止層を形成してもよい。このように帯電防止層を形成すると、層の硬度が向上し、膜強度や耐擦傷性を改善することができる。

以下、導電性化合物以外で、帯電防止層又は帯電防止層形成用の塗布組成物に用いることができる成分について説明する。
（重合性基を二つ以上有する多官能モノマー）
本発明では、塗布組成物に重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーを含むことが好ましい。該重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、帯電防止剤との併用により導電性と塗膜の強度や耐擦傷性を両立させることが可能となる。重合性不飽和基は２つ以上であり、３つ以上であることがより好ましい。

本発明に用いられる重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーについて説明する。該モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。

重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。

中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、１，６-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ、同ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。

（光重合開始剤）
本発明の帯電防止層を形成するためには、塗布組成物に光重合開始剤が含まれることが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。

「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

（溶剤）
本発明においては、基材側領域に導電性化合物を偏在させ、良好な帯電防止性と耐薬品性を得る観点で、塗布組成物に一般式（ＩＶ）又は一般式（Ｖ）で表されるカーボネート系溶剤を含有することが好ましい。

式中、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂは、それぞれ独立して、アルキル基を表す。Ｒ_Ｃはアルキレン基を表す。

一般式（ＩＶ）及び一般式（Ｖ）について説明する。
式中、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂは、それぞれ独立に、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、Ｒ_Ｃは炭素数２又は２のアルキレン基が好ましい。
炭素数１〜３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。一般式（１）の溶剤として具体的には、例えば、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｎ−プロピルカーボーネート、ジイソプロピルカーボネート、非対称の例としては、メチルエチルカーボネート、メチルｎ−プロピルカーボネート、エチルｎ−プロピルカーボネートが挙げられる。
炭素数２又は３のアルキレン基としては、エチレン基、イソプロピレン基が挙げられる。一般式（２）の溶剤としては、具体的には、例えば、炭酸エチレン、炭酸プロピレンが挙げられる。

一般式（ＩＶ）又は一般式（Ｖ）で表されるカルボネート系溶剤は、セルロースアシレートフィルムを短時間で膨潤・溶解する溶剤であり、帯電防止層とセルロースアシレートフィルムとの密着性を良好にするとともに、ＴＡＣ（セルローストリアセテート）フィルムに塗工する場合、例えばワイヤーバーコート法、ダイコート法等で塗工する時に、レベリング性が良好となる。特に単層流延法によって作成されたＴＡＣフィルムは、複数層共流延法と比較し、フィルム表面の平滑性が劣る傾向があり、防眩層をウエット塗工した際に生じるＴＡＣフィルムの平面性不良起因の筋状の塗工ムラ等が発生し易いが、沸点が８０℃以上、好ましくは８５℃以上の溶剤を使用すると、平面性不良起因の筋状の塗工ムラ等が改善できる傾向があり、塗工適性上優位である。
一般式（ＩＶ）又は一般式（Ｖ）で表されるカルボネート系溶剤の沸点は、８５℃以上が好ましく、９０℃以上１４０℃以下であることが、耐薬品性向上の観点から好ましい。
一般式（ＩＶ）又は一般式（Ｖ）で表されるカルボネート系溶剤のなかでも、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネートが好ましく、ジメチルカーボーネートがより好ましい。

溶剤としては、塗工時の乾燥性、更なるレベリング性向上等を考慮し、一般式（１）又は（２）で表されるカルボネート系溶剤以外の有機溶剤を、密着性、塗工時のレベリング性、耐薬品性が低下しない範囲で使用できる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

（界面活性剤）
本発明の帯電防止層又は帯電防止層形成用の塗布組成物には各種の界面活性剤を使用することも好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制したり、帯電防止層の表面凹凸や塗布物のハジキを改良できることがある。更には、帯電防止化合物の分散性を向上させることで、より安定で高い導電性を発現できる場合があり好適である。

界面活性剤としては、具体的にはフッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。

界面活性剤を添加すると、塗布された液膜の表面に界面活性剤が速やかに移動して偏在化し、膜乾燥後も界面活性剤がそのまま表面に偏在することになるので、界面活性剤を添加した帯電防止層の表面エネルギーは、界面活性剤によって低下する。帯電防止層の膜厚不均一性やハジキ、ムラを防止するという観点からは、膜の表面エネルギーが低いことが好ましい。

層の表面エネルギー（γｓ^ｖ：単位、ｍＪ／ｍ^２）は、Ｄ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓの“Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．”、１３巻、ｐ．１７４１（１９６９年）を参考に、層上で、純水Ｈ_２Ｏとヨウ化メチレンＣＨ_２Ｉ_２を用いて実験的に求めることができる。このとき、純水とヨウ化メチレンのそれぞれの接触角をθ_Ｈ２Ｏ、θ_{ＣＨ２Ｉ２}として、下記の連立方程式（１），（２）によりγｓ^ｄ及びγｓ^ｈを求め、その和で表される値γｓ^ｖ（＝γｓ^ｄ＋γｓ^ｈ）により構成層の表面張力のエネルギー換算値（ｍＮ／ｍ単位をｍＪ／ｍ^２単位としたもの）として定義する。サンプルは、測定する前に所定の温湿度条件で一定時間以上調湿を行うことが必要である。この際の温度は２０℃〜２７℃、湿度は５０〜６５ＲＨ％の範囲であることが好ましく、調湿時間は２時間以上であることが好ましい。
（１）１＋ｃｏｓθ_Ｈ２Ｏ＝２√γｓ^ｄ（√γ_Ｈ２Ｏｄ／γ_Ｈ２Ｏｖ）＋２√γｓ^ｈ（√γ_Ｈ２Ｏｈ／γ_Ｈ２Ｏｖ）
（２）１＋ｃｏｓθ_{ＣＨ２Ｉ２}＝２√γｓ^ｄ（√γ_{ＣＨ２Ｉ２}ｄ／γ_{ＣＨ２Ｉ２}ｖ）＋２√γｓ^ｈ（√γ_{ＣＨ２Ｉ２}ｈ／γ_{ＣＨ２Ｉ２}ｖ）
ここで、γ_Ｈ２Ｏ ^ｄ＝２１．８°、γ_Ｈ２Ｏ ^ｈ=５１．０°、γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ＝７２．８°、γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｄ＝４９．５°、γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｈ＝１．３°、γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ＝５０．８°である。

帯電防止層の好ましい表面エネルギーは、４５ｍＪ／ｍ^２以下の範囲であり、２０〜４５ｍＪ／ｍ^２の範囲がより好ましく、２０〜４０ｍＪ／ｍ^２の範囲が更に好ましい。層の表面エネルギーを４５ｍＪ／ｍ^２以下とすることにより、該帯電防止層上の膜厚均一化やハジキ改良という効果が得られる。ただし、界面活性剤を添加する層の上に更に低屈折率層などの上層を塗布する場合には、界面活性剤は上層へ溶出・移動するものであることが好ましく、界面活性剤を添加する層の上層塗布液の溶媒（例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、シクロヘキサノン等）で該層を浸漬、洗い流した後の該層の表面エネルギーは、むしろ高いことが好ましく、表面エネルギー３５〜７０ｍＪ／ｍ^２であることが好ましい。

フッ素系界面活性剤の好ましい態様、及び具体例は、特開２００７−１０２２０６号公報の段落番号［００２３］〜［００８０］に記載されており、本発明においても同様である。

シリコーン系化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。

分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、１０００〜３００００であることが特に好ましく、１０００〜２００００であることが最も好ましい。

シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７．８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。

好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業（株）製の“Ｘ−２２−１７４ＤＸ”、“Ｘ−２２−２４２６”、“Ｘ−２２−１６４Ｂ”、“Ｘ２２−１６４Ｃ”、“Ｘ−２２−１７０ＤＸ”、“Ｘ−２２−１７６Ｄ”、“Ｘ−２２−１８２１”（以上商品名）；チッソ（株）製の“ＦＭ−０７２５”、“ＦＭ−７７２５”、“ＦＭ−４４２１”、“ＦＭ−５５２１”、“ＦＭ−６６２１”、“ＦＭ−１１２１”（以上商品名）；Ｇｅｌｅｓｔ製の“ＤＭＳ−Ｕ２２”、“ＲＭＳ−０３３”、“ＲＭＳ−０８３”、“ＵＭＳ−１８２”、“ＤＭＳ−Ｈ２１”、“ＤＭＳ−Ｈ３１”、“ＨＭＳ−３０１”、“ＦＭＳ１２１”、“ＦＭＳ１２３”、“ＦＭＳ１３１”、“ＦＭＳ１４１”、“ＦＭＳ２２１”（以上商品名）；東レ・ダウコーニング（株）製の“ＳＨ２００”、“ＤＣ１１ＰＡ”、“ＳＨ２８ＰＡ”、“ＳＴ８０ＰＡ”、“ＳＴ８６ＰＡ”、“ＳＴ９７ＰＡ”、“ＳＨ５５０”、“ＳＨ７１０”、“Ｌ７６０４”、“ＦＺ−２１０５”、“ＦＺ２１２３”、“ＦＺ２１６２”、“ＦＺ−２１９１”、“ＦＺ２２０３”、“ＦＺ−２２０７”、“ＦＺ−３７０４”、“ＦＺ−３７３６”、“ＦＺ−３５０１”、“ＦＺ−３７８９”、“Ｌ−７７”、“Ｌ−７２０”、“Ｌ−７００１”、“Ｌ−７００２”、“Ｌ−７６０４”、“Ｙ−７００６”、“ＳＳ−２８０１”、“ＳＳ−２８０２”、“ＳＳ−２８０３”、“ＳＳ−２８０４”、“ＳＳ−２８０５”（以上商品名）；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製の“ＴＳＦ４００”、“ＴＳＦ４０１”、“ＴＳＦ４１０”、“ＴＳＦ４３３”、“ＴＳＦ４４５０”、“ＴＳＦ４４６０”（以上商品名）；などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
前記界面活性剤は、帯電防止層形成用塗布組成物の全固形分中に０．０１〜０．５質量％含有されることが好ましく、０．０１〜０．３質量％がより好ましい。

（透光性粒子）
本発明の帯電防止層には、防眩性（表面散乱性）や内部散乱性を付与するため、各種の透光性粒子を用いることができる。

透光性粒子は有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズ値の設計が容易となる。透光性粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、バインダーとの屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、メラミン樹脂粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）等が用いられる。
無機粒子としては、シリカ粒子（屈折率１．４４）、アルミナ粒子（屈折率１．６３）、ジルコニア粒子、チタニア粒子、また中空や細孔を有する無機粒子が挙げられる。

なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。
更に、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダー（硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３）とアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート重合体からなる透光性粒子を組み合わせて用いることが好ましく、特にバインダーと架橋ポリ（スチレン−アクリル）共重合体からなる透光性粒子（屈折率が１．４８〜１．５４）との組合せが好ましい。

本発明に用いることができるバインダー成分（透光性粒子以外の成分を混合したもの）と透光性粒子の屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．６５である。
また、本発明に用いることができるバインダーと透光性粒子との屈折率の差（透光性粒子の屈折率−バインダーの屈折率）は、絶対値として好ましくは０．００１〜０．０３０であり、より好ましくは０．００１〜０．０２０、更に好ましくは０．００１〜０．０１５である。この差が０．０３０を超えると、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じる。屈折率差を前記範囲とするには、バインダー及び透光性粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。

ここで、バインダーの屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。

上記のような透光性粒子の場合には、バインダー中で透光性粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるとよい。

透光性粒子の平均粒子径（体積基準）は０．５〜２０μｍが好ましく、より好ましくは２．０〜１５．０μｍである。平均粒径が０．５μｍ未満であると、光の散乱角度分布が広角にまで広がるため、ディスプレイの文字ボケを引き起こしたりするため、好ましくない。一方、２０μｍを超えると、添加する層の膜厚を厚くする必要が生じ、カールやコスト上昇といった問題が生じる。

また、粒子径の異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。

前記透光性粒子は、帯電防止層全固形分中に３〜３０質量％含有されるように配合されることが好ましい。より好ましくは５〜２０質量％である。３質量％以上である、十分な添加効果が得られ、３０質量％以下であると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題も防止できる。

また、透光性粒子の密度は、好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ^２である。

本発明の帯電防止層には、これらの他に更に添加剤を含有することも可能である。更に含有し得る添加剤としては、ポリマーの分解を抑える目的で、紫外線吸収剤、亜リン酸エステル、ヒドロキサム酸、ヒドロキシアミン、イミダゾール、ハイドロキノン、フタル酸、などを挙げることができる。また、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物（特に、フッ素系界面活性剤）などを挙げることができる。

（帯電防止層形成用組成物）
本発明における帯電防止層用組成物は、導電性化合物、重合性基を二つ以上有する多官能モノマー、光重合開始剤及びカーボネート系溶剤を含有することが好ましい。
帯電防止層を形成するための塗布組成物における各成分の好ましい含有量について説明する。なお、ここで含有量とは塗布組成物中の全固形分に対する各成分の固形分の比率（質量％）である。導電性化合物の含有量は、０．１〜４０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％が更に好ましく、１〜２０質量％が最も好ましい。重合性基を二つ以上有する多官能モノマーの含有量は５０〜９９質量％が好ましく、７５〜９９質量％が更に好ましく、８０〜９７質量％が最も好ましい。光開始剤の含有量は１〜１０質量％であることが好ましく、１〜５質量％であることが更に好ましい。
導電性化合物の含有量が上記範囲にあると、十分な帯電防止効果と耐薬品性を得ることができ、膜強度が弱めることもない。重合性基を二つ以上有する多官能モノマーが５０質量％以上であれば、十分な膜強度が得られる。光開始剤の含有量が１質量％以上であると硬化反応が促進し、十分な膜強度が得られる。

塗布組成物中の固形分の濃度は１〜７０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％であり、最も好ましくは３０〜６５質量％である。

塗布組成物中の全溶剤含有量は、全質量から前記固形分濃度を差し引いた量であり、３０質量％〜９９質量％が好ましく、３０質量％〜８０質量％がより好ましく、３５質量％〜７０質量％が最も好ましい。ここで全溶剤含有量とは、塗布組成物中の全質量に対する溶剤量の比率（質量％）である。
全溶剤含有量が３０質量％より少ないと、本発明の効果が得られ難いことや組成物が高粘度となるためにレベリング性が低下し面状が悪化するため好ましくない。また、全溶剤含有量が８０質量％より多いと、本発明の効果は得られるが、所定の膜厚を達成するための塗布量が増大し、乾燥時間が長くなることで生産性を低下させることがあり好ましくない。

本発明における塗布組成物中の全溶剤含有量の内、一般式（ＩＶ）又は一般式（Ｖ）で表されるカルボネート系溶剤の含有量は５質量％〜８０質量％が好ましく、１０質量％〜７０質量％がより好ましく、１５質量％〜６０質量％が最も好ましい。

［帯電防止層の物性］
本発明における帯電防止層は、屈折率が１．４８〜１．６５であることが好ましい。更に望ましくは１．４８〜１．６０、最も好ましくは１．４８〜１．５５である。上記範囲内とすることで基材との干渉ムラを抑制し、更に低屈折率層を積層した際の反射色味をニュートラルにすることができるため好ましい。

帯電防止層の膜厚は、１μｍ以上であり、６μｍ〜２０μｍが好ましく、６μｍ〜１８μｍが好ましく、６μｍ〜１５μｍが最も好ましい。上記範囲とすることで物理強度と導電性を両立することができる。

帯電防止層の透過率は８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが最も好ましい。

[光学フィルム]
本発明の光学フィルムの硬度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

本発明の光学フィルムの全ヘイズ値が０．１％以上１％未満で、かつＪＩＳＢ０６０１に基づく算術平均粗さＲａが０．０３μｍ以下であることが好ましい。各値が上記範囲にあると、透光性や平滑性に優れ、視認性が良好となるため好ましい。
全ヘイズ値としては０．１％以上０．５％未満がより好ましい。Ｒａは０．００１μｍ以上０．０１５μｍ以下であることがより好ましい。

本発明の光学フィルムの表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数値（ＬｏｇＳＲ）は帯電防止性の観点から低いほど好ましく、２５℃６０％環境下で１２以下であることが好ましく、より好ましくは５〜１１以下であり、更に好ましくは６〜１０である。表面抵抗率を上記範囲にすることで優れた防塵性を付与することが可能となる。
このような表面抵抗率とするための帯電防止層における導電性化合物の含有量は、帯電防止剤の種類により異なるが、イオン導電性化合物の場合０．１〜３．５ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．５〜２．５ｇ／ｍ^２であることがより好ましい。電子伝導性化合物の場合は、０．０１〜１．０ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．０５〜０．５ｇ／ｍ^２であることがより好ましい。

（光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず帯電防止層形成用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。

塗布した後、乾燥、光照射して帯電防止層形成用組成物から形成される層を硬化し、これにより帯電防止層が形成される。必要に応じて、透明支持体上にあらかじめその他の層（以下に述べるフィルムを構成する層、例えば、ハードコート層、防眩層など）を塗設しておき、その上に帯電防止層を形成することも可能である。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。

（ハードコート層）
本発明の光学フィルムには、フィルムの物理的強度を更に高めるために、ハードコート層を設けることもできる。本発明の帯電防止層がハードコート層を兼ねることも好適であるが、より高いハードコート性を付与する目的で、ハードコート層を設けることもできる。

本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性能を得るための光学設計から、１．４８〜１．６５であることが好ましい。更に望ましくは１．４８〜１．６０、最も好ましくは１．４８〜１．５５である。

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、０．５μｍ〜２０μｍとし、好ましくは１μｍ〜１０μｍ、更に好ましくは１μｍ〜５μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳＫ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

ハードコート層を形成するバインダー成分としては、前記重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーに記載したモノマーを好適に用いる事ができる。

ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。屈折率を制御するための無機微粒子としてはシリカ微粒子を用いる事が支持体とハードコート層の干渉による色味ムラを抑制するという観点から好ましい。

（防眩層）
本発明では前記帯電防止層とは別に表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で防眩層を形成してもよい。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。

本発明の光学フィルムで、例えば透明支持体上にハードコート層（防眩層）／帯電防止層の２層が積層された構成を得る場合、前記２層を一回の塗布工程で２層の塗布層を同時に塗布形成される方法を用いることもできる。
この際、ハードコート層と帯電防止層の２層を一回の塗布工程で同時に塗布形成することにより低コストで高い生産性を得る事が可能となる。一回の塗布工程で２層を同時に形成する方法としては、公知の方法を用いることができる。具体的には、特開２００７−２９３３０２号公報の段落番号［００３２］〜［００５６］等に記載の方法を利用することができる。

（高屈折率層及び中屈折率層）
高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．２０であることが好ましく、１．７０〜１．８０であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．６５であることが好ましく、１．５８〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。

中屈折率層、高屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分として公知のものを用いる事ができ、具体的には特開２００８−２６２１８７の段落番号［００７４］〜［００９４］に示される。

（低屈折率層）
本発明の光学フィルムは、前記帯電防止層上に直接又は他の層を介して低屈折率層を有することが好ましい。この場合、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムとして機能することができる。
この場合、低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．５１であることが好ましい。１．３０〜１．４６であることが好ましく、１．３２〜１．３８が更に好ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。

低屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分としては公知のものを用いることができ、具体的には特開２００７−２９８９７４号公報に記載の含フッ素硬化性樹脂と無機微粒子を含有する組成物や、特開２００２−３１７１５２号公報、特開２００３−２０２４０６号公報、及び特開２００３−２９２８３１号公報に記載の中空シリカ微粒子含有低屈折率コーティングを好適に用いることができる。

［偏光板用保護フィルム］
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。

上述したケン化処理について説明する。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が浸水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％〜２５質量％であり、処理温度は３０℃〜７０℃、処理時間は１５秒〜５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
本発明の光学フィルムの帯電防止層は、このようなケン化処理によってアルカリ水溶液に晒されても、帯電防止性能が良好に保たれる。

本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、セルロースアシレートフィルムは、セルローストリアセテートフィルムであることが好ましい。

［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする。

偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。

光学フィルムのセルロースアシレートフィルムが、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。

本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。

また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記光学フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。

本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。
本発明の光学フィルム、反射防止フィルム及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができる。
特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型／半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。

（各種特性値）
以下に本発明に関する各種測定法と、評価結果の基準を示す。

（１）表面抵抗値測定
２５℃、６０％ＲＨ条件下に試料を２時間置いた後に超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１（（株）アドバンテスト製）を用いて測定し、表面抵抗値の常用対数（ｌｏｇＳＲ）で示した。ｌｏｇＳＲがより低い方が良好であり、本発明においては１０以下であることが好ましい。
（２）鉛筆硬度評価
ＪＩＳＫ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。光学フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳＳ６００６に規定する試験用鉛筆を用いて評価した。本発明においては、３Ｈ以上であることが好ましい。
（３）密着性評価
ＪＩＳＫ５４００に記載の碁盤目剥離法にて評価を行った。即ち、サンプル表面に１ｍｍ間隔で１００個の碁盤目を入れ、セロファンテープ（ニチバン(株)製）で密着試験を行った。新しいセロファンテープを貼った後に剥離し、碁盤目中のマスの剥離が無いものが９０％以上のものを○、剥離が無いものが５０％以上９０％未満の場合を△、それ以下は×とした。
（４）ヘイズ測定
ヘイズメーター（日本電色工業(株)製ＮＤＨ２０００）にて、２５℃６０％ＲＨ環境下でヘイズ値を測定した。ヘイズ値は０．５以下であることが好ましく、０．３以下であることがより好ましい。
（５）表面粗さ測定
試料表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）をＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９８２）に準じて、小坂研究所(株)製、サーフコーダーＭＯＤＥＬＳＥ−３Ｆを用いて測定した。測定条件は、評価長さ２．５ｍｍ、カットオフ０．０８ｍｍ、速度０．５ｍｍ／秒、探針径２μｍ、荷重３０μＮで行った。
（６）耐薬品性試験
試験サンプルを４０℃に加温した水酸化ナトリウム水溶液（２．５Ｎ）に１．５分間浸漬処理し、その後２０℃の純水で３０秒洗浄した。そのサンプルを更に２５℃の硫酸水溶液（０．１Ｎ）に３０秒浸漬し、再度２０℃の純水で３０秒洗浄して耐薬品性試験を行った。試験前のｌｏｇＳＲとの差分をΔｌｏｇＳＲが小さい方が耐薬品性が良好なことを意味し、ΔｌｏｇＳＲが０．３以下であることが好ましい。
（７）導電性化合物の偏在性評価（α、βの測定）
ＥＳＣＡ（株式会社島津製作所ＥＳＣＡ−３４００）を用い、励起Ｘ線はＭｇＫα （１２５３．６ｅＶ）、Ｘ線径は8ｍｍ、Ｘ線出力は12ｋＶであり、光電子脱出確度は３５°で測定を行った。Ｃ６０イオンエッチングは１０ｋＶ、１０ｎＡで行い、各々の領域についてサンプル最表層から100ｎｍ深さ毎にエッチングした後の元素分析を行い、各領域での窒素又は硫黄原子量を各々の総原子量に対してｍｏｌ％を算出した。αは帯電防止層の最表面から深さが０．５μｍまでの原子量を測定し、それら深さでの窒素又は硫黄原子量のｍｏｌ％から平均値を算出してαとした。βは帯電防止層の表面からの深さが０．５μｍから深さ１μｍでの原子量を測定し、それら深さでの窒素又は硫黄原子量のｍｏｌ％から平均値を算出してβとした。

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。

（調製例１）帯電防止組成物Ｈ１の調整
導電性化合物の溶剤分散物Ａ６．８質量部、ＤＰＨＡ３８．６質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル４４．６質量部、ジメチルカーボネート８．７質量部、光重合開始剤Ｉｒｇ．１２７（商品名イルガキュア１２７、チバ・ジャパン（株）製）１．３質量部を容器に添加し、撹拌の後、孔径１．０μmのポリプロピレン製フィルターでろ過し、帯電防止組成物を調整した。

以下同様に各材料を下記表１のように混合し、帯電防止層用塗布液Ｈ１〜Ｈ１１を作製した。

上述の使用材料及び略称について説明する。
・分散物Ａ：ＩＰ−９の固形分３０．７％溶液、溶剤はプロピレングリコールモノメチルエーテルとイソプロピルアルコールの質量比が３０：７０のもの
・分散物Ｂ：ＩＰ−１３の固形分３０．７％溶液、溶剤はプロピレングリコールモノメチルエーテルとイソプロピルアルコールの質量比が３０：７０のもの
・ＤＰＨＡ：商品名ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製）
・Irg.127：商品名イルガキュア１２７（チバ・ジャパン（株）製）
・PGM：プロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業(株)製）
・IPA：イソプロピルアルコール（和光純薬工業(株)製）
・DMC：ジメチルカーボネート（東京化成(株)製）
・DEC：ジエチルカーボネート（和光純薬工業(株)製）

（中空シリカ粒子分散液（Ｆ）の調製）
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シエル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２０部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５部加え混合した後に、イオン交換水９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加し、分散液（Ｅ）を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２％の分散液（Ｆ）を得た。得られた分散液のＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５％以下であった。

（低屈折率層用塗布液の調製）
各成分を表２のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分５％の低屈折率層用塗布液Ｌｎ１を作製した。

なお、上記表中における略号は以下の通りである。
・「Ｐ−１」：特開２００４−４５４６２号公報に記載の含フッ素共重合体Ｐ−３（質量平均分子量約５００００）
・ＲＭＳ−０３３：メタクリロキシ変性シリコーン（Ｇｅｌｅｓｔ（株）製）

（帯電防止層の作製）
層厚８０μｍの透明支持体としてのセルローストリアセテートフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士フィルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記帯電防止層形成用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。６０℃で約２分乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量１２０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍの帯電防止層を形成し、光学フィルムを作製した（試料Ｎｏ．ＨＣ１〜ＨＣ１１）。

（耐薬品性試験後のサンプルの作製）
上記で得られた各水準試料（試料Ｎｏ．ＨＣ１〜ＨＣ１１）の半分に対し、上述した耐薬品性試験を行いサンプルを作製した。

（光学フィルムの評価）
本文記載の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表３に示す。

（調製例１２）導電性化合物の分散物Ｃの調製
ポリスチレンスルホン酸（分子量約１０万）の２質量％の水溶液１０００ｍｌに、８．０ｇの３，４−エチレンジオキシチオフェンを加え２０℃で混合した。この混合液に、酸化触媒液１００ｍｌ（１５質量％の過硫酸アンモニウムと４．０質量％の硫酸第二鉄を含む）を添加した後に、２０℃で３時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に１０００ｍｌのイオン交換水を添加した後に、限外ろ過法を用いて約１０００ｍｌ溶液を除去した。この操作を３回繰り返した。
そして、得られた溶液に１００ｍｌの硫酸水溶液（１０質量％）と１０００ｍｌのイオン交換水とを加え、限外ろ過法を用いて約１０００ｍｌの溶液を除去した。得られた液に１０００ｍｌのイオン交換水を加えた後、限外ろ過法を用いて約１０００ｍｌの液を除去した。この操作を５回繰り返した。これにより約１．１質量％のＰＥＤＯＴ・ＰＳＳ（ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）・ポリスチレンスルホン酸）の水溶液を得た。固形分濃度をイオン交換水で調整して、１．０質量％の水溶液とし、導電性化合物の溶液（Ａ）を調製した。

この水溶液（Ａ）の２００ｍｌにアセトンを２００ｍｌ加えた後、限外ろ過により水及びアセトンを２１０ｍｌ除去した。この操作を１度繰り返し、固形分濃度をアセトンで調整し、１．０質量％の水／アセトン溶液を調製した。この溶液２００ｍｌにトリオクチルアミン２．０ｇを溶解したアセトンを５００ｍｌ加えた後、スターラーにより３時間攪拌した。限外ろ過により水及びアセトンを５１０ｍｌ除去した。固形分濃度をアセトンで調製し、１．０質量％のアセトン溶液とし、導電性化合物の溶液（Ｂ）を調製した。この溶液の含水率は２質量％であった。

この溶液（Ｂ）の２００ｍｌにメチルエチルケトンを３００ｍｌ加え混合し、室温で減圧下で濃縮し、総量が２００ｍｌになるまで濃縮した。固形分をメチルエチルケトンで調整し、１．０質量％のメチルエチルケトン溶液とし、導電性化合物の分散物Ｃを調製した。この溶液の含水率は０．０５質量％であり、アセトン残率は１質量％以下であった。この溶液に含まれる固形分中導電性化合物の含有率は５０質量％である。

（帯電防止層用塗布液の調製）
各成分を下記表４のように混合し、メチルエチルケトン、ＩＰＡ及びカーボネート系溶剤の混合溶媒に溶解して固形分濃度３０質量％の帯電防止層用塗布液Ｈ１２〜１４を作製した。

上述した試料Ｎｏ．ＨＣ１と同様にセルローストリアセテートフィルム上に、前記帯電防止層用塗布液Ｈ１２〜Ｈ１４を塗布して帯電防止層を形成し、光学フィルムを調整した。（試料Ｎｏ．ＨＣ１２〜ＨＣ１４）
また、試料Ｎｏ．ＨＣ１の耐薬品性試験後のサンプル作製と同様の方法で、耐薬品性試験後のサンプルを作製した。

（光学フィルムの評価）
前述の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表５に示す。

本発明の試料ＨＣ２、ＨＣ３、ＨＣ１２の直上にＬｎ１を積層塗布し、６００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶ照射で硬化させて膜厚０．１μｍの低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製したが、これら反射防止フィルムの帯電防止性、光学特性は良好であり、耐薬品性試験後も導電性変化が無かった。

以上より、導電性、膜強度、密着が良好で、耐薬品性に優れる光学フィルムを提供できることが分かる。

Claims

偏光膜と、その両側に二枚の保護フィルムを有する偏光板であって、前記二枚の保護フィルムの少なくとも一方が、
セルロースアシレートフィルム上に、親水性を有する導電性化合物を含む帯電防止層を有する光学フィルムであって、
前記帯電防止層中、前記導電性化合物は、前記帯電防止層の表面側領域より内部に偏在している光学フィルムであることを特徴とする偏光板。
前記親水性を有する導電性化合物が、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
前記イオン導電性化合物が、４級アンモニウム塩基を有する化合物であることを特徴とする請求項２に記載の偏光板。
前記４級アンモニウム塩基を有する化合物が、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーであることを特徴とする請求項３に記載の偏光板。

一般式（Ｉ）中、Ｒ₁は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ₂ＣＯＯ^-Ｍ⁺を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ^-Ｍ⁺を表す。Ｍはプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。

式中、Ｒ₂、Ｒ₂'及びＲ₂"は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｘ^-はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。

一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ₃とＲ₄及びＲ₅とＲ₆はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ₇ＣＯＲ₈−、−Ｒ₉ＣＯＯＲ₁₀ＯＣＯＲ₁₁−、−Ｒ₁₂ＯＣＲ₁₃ＣＯＯＲ₁₄−、−Ｒ₁₅−（ＯＲ₁₆）_m−、−Ｒ₁₇ＣＯＮＨＲ₁₈ＮＨＣＯＲ₁₉−、−Ｒ₂₀ＯＣＯＮＨＲ₂₁ＮＨＣＯＲ₂₂−又は―Ｒ₂₃ＮＨＣＯＮＨＲ₂₄ＮＨＣＯＮＨＲ₂₅−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ₇ＣＯＲ₈−、−Ｒ₉ＣＯＯＲ₁₀ＯＣＯＲ₁₁−、−Ｒ₁₂ＯＣＲ₁₃ＣＯＯＲ₁₄−、−Ｒ₁₅−（ＯＲ₁₆）_m−、−Ｒ₁₇ＣＯＮＨＲ₁₈ＮＨＣＯＲ₁₉−、−Ｒ₂₀ＯＣＯＮＨＲ₂₁ＮＨＣＯＲ₂₂−又は―Ｒ₂₃ＮＨＣＯＮＨＲ₂₄ＮＨＣＯＮＨＲ₂₅−又は−ＮＨＣＯＲ₂₆ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₅及びＲ₂₆はアルキレン基を表す。Ｒ₁₀、Ｒ₁₃、Ｒ₁₈、Ｒ₂₁及びＲ₂₄は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ^‐はアニオンを表す。
Ｚ₁、Ｚ₂は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ⁺[Ｘ^-]−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。
ｎは５〜３００の整数を表す。
元素分析（ＥＳＣＡ）による前記帯電防止層の表面側領域の窒素又は硫黄原子量が０．５〜５ｍｏｌ％であることを特徴とする請求項３又は４に記載の偏光板。
元素分析（ＥＳＣＡ）による前記帯電防止層の窒素又は硫黄原子量が、下記式（１）を満たすことを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の偏光板。
式（１） β／α＞２．５
式（１）中、α、βは元素分析により求めた帯電防止層中の窒素又は硫黄原子量で、帯電防止層中の総窒素又は硫黄原子量を１００ｍｏｌ％としたときの、αは帯電防止層の表面側領域の窒素又は硫黄原子量を表し、βはセルロースアシレートフィルム側領域での窒素又は硫黄原子量を表す。
前記β／αが、６．５＞β／α＞２．５を満たすことを特徴とする請求項６に記載の偏光板。
前記光学フィルムの全ヘイズ値が０．１％以上１％未満で、かつＪＩＳＢ０６０１に基づく算術平均粗さＲａが０．０３μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の偏光板。
前記帯電防止層の厚さが６μｍ〜２０μｍであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の偏光板。
前記帯電防止層が、前記導電性化合物、重合性基を二つ以上有する多官能モノマー、光重合開始剤、下記一般式（ＩＶ）又は（Ｖ）で表されるカーボネート溶剤を含有する組成物を硬化させた層であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の偏光板。

式中、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂは、それぞれ独立して、アルキル基を表す。Ｒ_ｃはアルキレン基を表す。
前記重合性基を二つ以上有する多官能モノマーが、アクリルロイル基、メタアクリロイル基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２から選ばれるいずれかの基であることを特徴とする請求項１０に記載の偏光板。
前記光学フィルムが、前記帯電防止層上に、前記帯電防止層より屈折率の低い低屈折率層を有する反射防止フィルムであることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の偏光板。
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。
偏光膜と、その両側に二枚の保護フィルムを有する偏光板の製造方法であって、前記二枚の保護フィルムの少なくとも一方が、
セルロースアシレートフィルム上に帯電防止層を有する光学フィルムであって、
親水性を有する導電性化合物、重合性基を二つ以上有する多官能モノマー、光重合開始剤、下記一般式（ＩＶ）又は（Ｖ）で表されるカーボネート溶剤を含有する組成物を前記セルロースアシレートフィルム上に塗布し硬化させることで前記帯電防止層中、前記導電性化合物が、前記帯電防止層の表面側領域より内部に偏在している帯電防止層を形成することを特徴とする偏光板の製造方法。

式中、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂは、それぞれ独立して、アルキル基を表す。Ｒ_ｃはアルキレン基を表す。
前記親水性を有する導電性化合物が、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物であることを特徴とする請求項１４記載の偏光板の製造方法。
前記イオン導電性化合物が、４級アンモニウム塩基を有する化合物であることを特徴とする請求項１５に記載の偏光板の製造方法。
前記４級アンモニウム塩基を有する化合物が、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーであることを特徴とする請求項１６に記載の偏光板の製造方法。

一般式（Ｉ）中、Ｒ ₁ は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ ₂ ＣＯＯ ^- Ｍ ⁺ を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ ^- Ｍ ⁺ を表す。Ｍはプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。

式中、Ｒ ₂ 、Ｒ ₂ '及びＲ ₂ "は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｘ ^- はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。

一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ ₃ 、Ｒ ₄ 、Ｒ ₅ 及びＲ ₆ は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ ₃ とＲ ₄ 及びＲ ₅ とＲ ₆ はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ ₇ ＣＯＲ ₈ −、−Ｒ ₉ ＣＯＯＲ ₁₀ ＯＣＯＲ ₁₁ −、−Ｒ ₁₂ ＯＣＲ ₁₃ ＣＯＯＲ ₁₄ −、−Ｒ ₁₅ −（ＯＲ ₁₆ ） _m −、−Ｒ ₁₇ ＣＯＮＨＲ ₁₈ ＮＨＣＯＲ ₁₉ −、−Ｒ ₂₀ ＯＣＯＮＨＲ ₂₁ ＮＨＣＯＲ ₂₂ −又は―Ｒ ₂₃ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₄ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₅ −を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ ₇ ＣＯＲ ₈ −、−Ｒ ₉ ＣＯＯＲ ₁₀ ＯＣＯＲ ₁₁ −、−Ｒ ₁₂ ＯＣＲ ₁₃ ＣＯＯＲ ₁₄ −、−Ｒ ₁₅ −（ＯＲ ₁₆ ） _m −、−Ｒ ₁₇ ＣＯＮＨＲ ₁₈ ＮＨＣＯＲ ₁₉ −、−Ｒ ₂₀ ＯＣＯＮＨＲ ₂₁ ＮＨＣＯＲ ₂₂ −又は―Ｒ ₂₃ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₄ ＮＨＣＯＮＨＲ ₂₅ −又は−ＮＨＣＯＲ ₂₆ ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ ₇ 、Ｒ ₈ 、Ｒ ₉ 、Ｒ ₁₁ 、Ｒ ₁₂ 、Ｒ ₁₄ 、Ｒ ₁₅ 、Ｒ ₁₆ 、Ｒ ₁₇ 、Ｒ ₁₉ 、Ｒ ₂₀ 、Ｒ ₂₂ 、Ｒ ₂₃ 、Ｒ ₂₅ 及びＲ ₂₆ はアルキレン基を表す。Ｒ ₁₀ 、Ｒ ₁₃ 、Ｒ ₁₈ 、Ｒ ₂₁ 及びＲ ₂₄ は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ ^‐ はアニオンを表す。
Ｚ ₁ 、Ｚ ₂ は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ ⁺ [Ｘ ^- ]−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。
ｎは５〜３００の整数を表す。