WO2011058847A1 - 反射防止フィルムおよびその製造方法 - Google Patents

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leveling
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直之 柴山
俊昭 吉原
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凸版印刷株式会社
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    • G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers

Definitions

  • the present invention relates to an antireflection film provided for the purpose of preventing external light from being reflected on the surface of a window or display.
  • the present invention relates to an antireflection film provided on the surface of a display such as a liquid crystal display (LCD), a CRT display, an organic electroluminescence display (ELD), a plasma display (PDP), a surface electric field display (SED), or a field emission display (FED).
  • a display such as a liquid crystal display (LCD), a CRT display, an organic electroluminescence display (ELD), a plasma display (PDP), a surface electric field display (SED), or a field emission display (FED).
  • a display such as a liquid crystal display (LCD), a CRT display, an organic electroluminescence display (ELD), a plasma display (PDP), a surface electric field display (SED), or a field emission display (FED).
  • it relates to an antireflection film provided on the surface of a
  • the display is used in an environment where external light or the like enters regardless of whether it is used indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface and the like, and the reflected image is mixed with the display image, thereby degrading the screen display quality. For this reason, it is essential to provide an antireflection function on the display surface or the like, and there is a demand for higher performance of the antireflection function and a combination of functions other than the antireflection function.
  • the antireflection function can be obtained by forming a multi-layered antireflection layer having a repeating structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer made of a transparent material such as a metal oxide on a transparent substrate.
  • These antireflection layers having a multilayer structure can be formed by a dry film forming method such as a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method.
  • an acrylic material is generally cured.
  • a method of providing a hard coat layer obtained in this manner and forming an antireflection layer thereon is used.
  • the hard coat layer is made of an acrylic material and has high surface hardness, gloss, transparency, and scratch resistance.
  • an antireflection layer When an antireflection layer is formed by a wet film formation method, it is produced by applying at least a low refractive index layer on a hard coat layer obtained by curing these ionizing radiation curable materials. Compared to the membrane method, it has the merit of being able to be manufactured at low cost, and is widely available in the market.
  • the antireflection film By providing an antireflection film on the display surface, reflection of external light can be suppressed by the antireflection function, and contrast in a bright place can be improved. Further, since the transmittance can be improved at the same time, the image can be displayed brighter. It can also be expected to save energy by reducing the output of the backlight.
  • antireflection films there is a demand for antireflection films with low production costs.
  • an antireflection film excellent in antireflection performance and optical characteristics free from interference unevenness is required.
  • the antireflection film is provided on the display surface, high scratch resistance is required.
  • an antireflection film having an antistatic function is required to prevent dust adhesion.
  • the invention according to claim 1 is an antireflection film in which an unevenly distributed layer and a low refractive index layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent substrate,
  • the antireflection film is characterized in that at least an intermediate layer, a hard coat layer, an antistatic layer containing a conductive material, and a leveling layer containing a leveling material are unevenly distributed in order from the transparent substrate side.
  • the parallel light transmittance of the antireflection film is 93% or more, and the haze of the antireflection film is within a range of 1.0% or less, and the The surface resistance value on the surface of the low refractive index layer of the antireflection film is in the range of 1 ⁇ 10 5 ⁇ / cm 2 or more and 1 ⁇ 10 12 ⁇ / cm 2 or less, and the surface of the low refractive index layer of the antireflection film.
  • the anti-reflection film according to claim 1, wherein the pure water contact angle is in the range of 80 ° to 130 °.
  • the invention according to claim 3 is that the leveling material contained in the leveling layer is selected from a compound having an amide group, a compound having an acrylic group, a compound having a butadiene group, and a compound having an olefin group.
  • the antireflection film according to claim 1 or claim 2 is characterized.
  • the conductive material contained in the conductive layer is selected from quaternary ammonium salt materials, metal oxide particles, and conductive polymers. The antireflection film according to any one of 3 was used.
  • the conductive material contained in the conductive layer contains a quaternary ammonium salt material
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having an amide group
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material is 1,000 or more and 100,000 or less
  • the molecular weight (A) of the compound having an amide group is 100,000 or less.
  • the conductive material included in the conductive layer includes metal oxide particles
  • the leveling material included in the leveling layer includes a compound having an amide group, and 4.
  • the metal oxide particles have an average particle diameter of 500 nm or less, and the molecular weight (A) of the compound having an amide group is 100,000 or less.
  • a film was obtained.
  • the conductive material included in the conductive layer includes a conductive polymer, and the leveling material included in the leveling layer includes a compound having an amide group, and 5.
  • the conductive material included in the conductive layer includes a quaternary ammonium salt material
  • the leveling material included in the leveling layer includes a compound having an acrylic group
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material is 1,000 or more and 100,000 or less
  • the molecular weight (B) of the compound having an acrylic group is 100,000 or less.
  • the conductive material included in the conductive layer includes metal oxide particles
  • the leveling material included in the leveling layer includes a compound having an acrylic group, and 5.
  • the metal oxide particles have an average particle size of 500 nm or less, and the molecular weight (B) of the compound having an acrylic group is 100,000 or less.
  • the conductive material included in the conductive layer includes a conductive polymer, and the leveling material included in the leveling layer includes a compound having an acrylic group, and 5.
  • the conductive polymer has an average particle size of 1000 nm or less, and the molecular weight (B) of the compound having an acrylic group is 100,000 or less. A film was obtained.
  • the conductive material included in the conductive layer includes a quaternary ammonium salt material
  • the leveling material included in the leveling layer includes a compound having a butadiene group
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material is 1,000 or more and 100,000 or less
  • the molecular weight (C) of the compound having a butadiene group is 100,000 or less.
  • the conductive material included in the conductive layer includes metal oxide particles
  • the leveling material included in the leveling layer includes a compound having a butadiene group, and 5.
  • the antireflection according to claim 1 wherein the average particle diameter of the metal oxide particles is 500 nm or less, and the molecular weight (C) of the compound having a butadiene group is 100,000 or less.
  • the conductive material included in the conductive layer includes a conductive polymer, and the leveling material included in the leveling layer includes a compound having a butadiene group, and 5.
  • the conductive polymer has an average particle diameter of 1000 nm or less, and the molecular weight (C) of the compound having a butadiene group is 100,000 or less. A film was obtained.
  • the conductive material included in the conductive layer includes a quaternary ammonium salt material
  • the leveling material included in the leveling layer includes a compound having an olefin group
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material is 1,000 or more and 100,000 or less
  • the molecular weight (D) of the compound having the olefin group is 100,000 or less.
  • the conductive material contained in the conductive layer contains metal oxide particles
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having an olefin group, and 5.
  • the conductive material included in the conductive layer includes a conductive polymer
  • the leveling material included in the leveling layer includes a compound having an olefin group, and 5.
  • the conductive polymer has an average particle size of 1000 nm or less, and the molecular weight (D) of the compound having an olefin group is 100,000 or less. A film was obtained.
  • the invention according to claim 17 is a method for producing an antireflection film in which an unevenly distributed layer and a low refractive index layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent substrate, wherein at least one of the transparent substrates
  • a coating process for forming an unevenly-distributed layer coating liquid is applied to the surface of the uneven-distribution layer, an ionizing radiation curable material, a conductive material, a leveling material, and a solvent.
  • the uneven distribution layer is an intermediate layer, a hard coat layer, an antistatic layer, a leveling layer, Be stacked unevenly was method of manufacturing the anti-reflection film, wherein the.
  • the invention according to claim 18 is characterized in that 30 wt% or more of the total solvent contained in the uneven distribution layer forming coating liquid is a solvent that dissolves or swells the transparent substrate, and the uneven distribution layer forming coating liquid
  • the invention according to claim 19 includes a primary drying in which the drying step of drying the coating film of the uneven distribution layer is performed within a range of a drying temperature of 15 ° C. to 30 ° C., and a drying temperature of 40 ° C. to 150 ° C.
  • an antireflection film having a low production cost, excellent optical properties, high scratch resistance, and antistatic performance could be provided.
  • an antireflection film having excellent scratch resistance could be obtained.
  • FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of the antireflection film (1) of the present invention.
  • an unevenly distributed layer (12) and a low refractive index layer (13) are sequentially provided on at least one surface of the transparent substrate (11) in this order from the transparent substrate side.
  • the uneven distribution layer (12) includes an ionizing radiation curable material that is a binder matrix forming material, a quaternary ammonium salt material or metal oxide particle or a conductive polymer that is a conductive material, and a leveling material, High surface hardness can be imparted to the antireflection film by curing the material with ionizing radiation to form a binder matrix.
  • the uneven distribution layer includes, in order from the transparent substrate side, the intermediate layer (12a), the hard coat layer (12b), the antistatic layer (12c) in which the conductive material is unevenly distributed, and the leveling layer in which the leveling material is unevenly distributed. They are formed in the order of (12d).
  • An intermediate layer (12a) is formed at the interface between the transparent substrate (11) and the uneven distribution layer (12).
  • the transparent base material component and the ionizing radiation curable material component of the uneven distribution layer are mixed.
  • the refractive index of the transparent base material (11) determines the hard coat layer (12b). It gradually changes to the refractive index.
  • middle layer can improve the adhesiveness between a transparent base material (11) and an uneven distribution layer (12).
  • middle layer when forming an uneven distribution layer, it can form by including the solvent which melt
  • the presence of the intermediate layer (12a) can be confirmed by determining the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° from the low refractive index side of the obtained antireflection film.
  • an interference peak corresponding to the layer thickness of the low refractive index layer is confirmed from the obtained spectral reflectance (a spectrum waveform has many ripples)
  • interference fringe unevenness is observed in the appearance inspection in which the back surface is blackened.
  • the interference peak corresponding to the layer thickness of the low refractive index layer is not confirmed from the obtained spectral reflectance, it is determined that the intermediate layer (12a) is formed, and interference occurs in the appearance inspection by the back surface black coating process. Unevenness is not seen at all.
  • Interference fringes and interference unevenness are a type of color unevenness due to optical interference, but mainly due to the difference in refractive index between the transparent substrate and the hard coat layer. This is a phenomenon in which unevenness is observed in a rainbow-like color. Color unevenness is reflected color unevenness caused by film thickness unevenness of the low refractive index layer, and is a phenomenon in which in-plane color variation increases.
  • the hard coat layer (12b) mainly comprises an ionizing radiation curable material, improves the surface hardness of the antireflection film, and imparts scratch resistance. It can be determined whether or not the hard coat layer is formed from the pencil hardness of the unevenly distributed layer surface.
  • the antistatic layer (12c) has a conductive material unevenly distributed, and imparts antistatic performance to the antireflection film. By making the conductive material unevenly distributed, the amount of use can be reduced rather than dispersing the conductive material, and the manufacturing cost can be reduced. In the antistatic layer, whether or not the antistatic layer is formed can be determined from the surface resistance value of the antireflection film.
  • the leveling layer (12d) has leveling material unevenly distributed on the antistatic layer.
  • the leveling layer improves the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer, prevents the low refractive index layer from peeling from the uneven distribution layer, and imparts scratch resistance to the antireflection film.
  • whether or not the leveling layer (12d) is formed in the uneven distribution layer (12) is determined by surface analysis using an X-ray photoelectron spectrometer (XPS). Can do.
  • XPS X-ray photoelectron spectrometer
  • the presence or absence of the antistatic layer (12c) below the leveling layer can be determined by depth direction analysis (depth profile) using an X-ray photoelectron spectrometer (XPS).
  • depth profile depth profile
  • XPS X-ray photoelectron spectrometer
  • XPS is a device that analyzes the chemical state of the sample surface.
  • the sample is irradiated with X-rays (energy: h ⁇ )
  • the inner-shell electrons in the element are knocked out by the photoelectric effect, and the kinetic energy (Ek) of the photoelectrons at this time is expressed by the general formula (A)
  • Ek h ⁇ Eb ⁇ .
  • ⁇ is the work function of the apparatus or sample.
  • Eb is a value specific to an element and varies depending on the chemical state of the element.
  • the distance that electrons can pass while maintaining energy in a solid is tens of kilometers at most.
  • XPS is an apparatus that can analyze the type, amount, and chemical state of elements existing from a sample surface to a depth of several tens of kilometers by measuring Ek and the number of photoelectrons emitted from the sample surface. Further, in XPS, the depth direction analysis can be performed by combining with ion etching.
  • the low refractive index layer (13) provided on the uneven distribution layer (12) imparts an antireflection function to the antireflection film.
  • the film thickness (d) of the low refractive index layer (13) is such that the optical film thickness (nd) obtained by multiplying the film thickness (d) by the refractive index (n) of the low refractive index layer is visible light. It is designed to be equal to 1/4 of the wavelength.
  • the low refractive index layer (13) is formed by applying the coating liquid containing the low refractive index layer forming material and the uneven distribution layer.
  • the antistatic layer in which the conductive material is unevenly distributed and the low refractive index layer on the antistatic layer As a result, the scratch resistance may be reduced by peeling off the low refractive index layer.
  • the inventors of the present invention formed a leveling layer on the antistatic layer in which the conductive material was unevenly distributed by adding a leveling material to the coating solution for forming the uneven distribution layer containing the ionizing radiation curable material and the conductive material. The present inventors have found that the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer can be improved and an antireflection film having high scratch resistance can be obtained.
  • the low refractive index layer forming material and the conductive material are electrically repelled, and the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer is reduced. As a result, the scratch resistance is reduced.
  • the electric repulsion between the low refractive layer forming material and the conductive material is stronger, there may be a problem that repelling or the like occurs when the low refractive index layer forming coating liquid is applied.
  • the water repellent material is included in the low refractive index layer forming material, the desired antifouling performance may not be obtained due to electrical repulsion between the conductive material and the water repellent material in the low refractive index layer material. is there.
  • an uneven distribution layer that becomes an intermediate layer, a hard coat layer, an antistatic layer, and a leveling layer can be simultaneously formed. Accordingly, the manufacturing cost can be reduced as compared with the case where the hard coat layer and the antistatic layer are sequentially applied and formed on the transparent substrate.
  • the conductive material is more likely to deposit on the surface than the ionizing radiation curable material that is the binder matrix forming material, and the leveling material is more likely to deposit on the surface than the conductive material. Therefore, by forming the uneven distribution layer by controlling the drying temperature and time conditions to make it uneven, it can be separated from the intermediate layer, the hard coat layer, the antistatic layer and the leveling layer. It is as a layer.
  • the intermediate layer (12a) is composed of a binder matrix component and a triacetyl cellulose component of the uneven distribution layer.
  • the binder matrix of the low refractive index layer from the refractive index of the transparent base material (11) from the transparent base material (11) side toward the low refractive index layer (13) side in the thickness direction.
  • the refractive index gradually changes to the refractive index of the hard coat layer (12b).
  • the hard coat layer (12b) can include an ionizing radiation curable material, a conductive material, and a leveling material, which are binder matrix components. Consists mainly of ionizing radiation curable material that is a binder matrix component, and since the binder matrix component is unevenly distributed, the antireflection film can have surface hardness.
  • the antistatic layer (12c) can include an ionizing radiation curable material, a conductive material, and a leveling material, which are binder matrix components. Since the conductive material is unevenly distributed and exists in a large amount, it exhibits an antistatic function and can be an antireflection film having an antistatic function.
  • the leveling layer (12d) can include an ionizing radiation curable material and a leveling material which are binder matrix components. It is mainly composed of leveling material and does not contain conductive material. When the conductive material is present on the outermost surface of the uneven distribution layer, the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer is reduced when the low refractive index layer is formed on the uneven distribution layer. Will fall.
  • the surface tension of the leveling material is lower than that of the conductive material that is a conductive material on the outermost surface, and therefore a layer that does not contain the conductive material that is a conductive material is provided. It can be formed easily.
  • the low refractive index layer is not affected by the conductive material. Therefore, it is possible to prevent a decrease in the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer, to impart a high surface hardness to the antireflection film, and to provide an antireflection film having excellent scratch resistance and antifouling properties. can do.
  • the parallel light transmittance of the antireflection film is 93% or more, and the haze of the antireflection film is in the range of 1.0% or less, and the antireflection film
  • the surface resistance value on the surface of the low refractive index layer is in the range of 1 ⁇ 10 5 ⁇ / cm 2 or more and 1 ⁇ 10 12 ⁇ / cm 2 or less, and pure water contact on the surface of the low refractive index layer of the antireflection film
  • the angle is preferably in the range of 80 ° to 130 °.
  • the parallel light transmittance of the antireflection film is less than 93%, or when the haze is more than 1.0%, the transparency is lost and the display becomes cloudy (white-brown), and the display contrast is reduced. It may be reduced.
  • the parallel light transmittance is preferably as high as possible, and the haze is as low as possible.
  • the parallel light transmittance of the antireflection film is preferably in the range of 93% to 98%. Considering the materials currently considered, it is difficult to produce an antireflection film having a parallel light transmittance exceeding 98%.
  • the haze of the antireflection film is preferably in the range of 0.05% to 0.5%. In view of the materials currently considered, it is difficult to produce an antireflection film having a haze of less than 0.05%.
  • the surface resistance value is preferably in the range of 1 ⁇ 10 5 ⁇ / cm 2 to 1 ⁇ 10 12 ⁇ / cm 2 .
  • an antireflection film having a surface resistance value of less than 1 ⁇ 10 5 ⁇ / cm 2 on the surface of the antireflection film is prepared, a large amount of quaternary ammonium salt material, metal oxide particles, or high conductivity Molecules are required, and the uneven distribution layer of the present invention may not be formed. Further, the transparency (total light transmittance value) may be lowered.
  • the surface resistance value on the surface of the antireflection film is in the range of 1 ⁇ 10 10 ⁇ / cm 2 to 1 ⁇ 10 12 ⁇ / cm 2 , it is generally said to be a region where dust does not adhere in a dynamic state. When used on the outermost surface of the display, this condition is necessary. Therefore, in the present invention, 1 ⁇ 10 12 ⁇ / cm 2 or less is preferable.
  • the surface resistance value can be measured according to JIS-K6911 (1995).
  • the pure water contact angle is in the range of 80 ° to 130 °.
  • the pure water contact angle is in the range of 80 ° to 130 °.
  • the contact angle of pure water exceeds 130 °, repelling occurs when the low refractive index layer is formed, and the low refractive index layer may not be formed. Further, when the pure water contact angle is less than 80 °, sufficient antifouling properties may not be obtained.
  • a measuring method of a pure water contact angle it can measure based on JISR3257 (1999). Specifically, using a contact angle meter, a droplet is formed on the needle tip in a dry state (20 ° C.-65% RH), and this is brought into contact with the surface of the sample (solid) to form a droplet. It can be determined by measuring the angle.
  • the contact angle is an angle formed by a tangent to the liquid surface at the point where the solid and the liquid are in contact with the solid surface, and is defined as an angle on the side including the liquid. Distilled water is used as the liquid.
  • the leveling material contained in the leveling layer is selected from a compound having an amide group, a compound having an acrylic group, a compound having a butadiene group, and a compound having an olefin group. Is preferred. Specific examples of the leveling material selected from a compound having an amide group, a compound having an acrylic group, a compound having a butadiene group, and a compound having an olefin group will be described later.
  • the conductive material contained in the conductive layer is preferably selected from quaternary ammonium salt materials, metal oxide particles, and conductive polymers.
  • quaternary ammonium salt materials metal oxide particles
  • conductive polymers A specific example of a conductive material selected from quaternary ammonium salt materials, metal oxide particles, and conductive polymers will be described later.
  • the conductive material contained in the conductive layer contains a quaternary ammonium salt material
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having an amide group
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material is preferably 1,000 or more and 100,000 or less
  • the molecular weight (A) of the compound having an amide group is preferably 100,000 or less.
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material used for the uneven distribution layer is less than 1000, the quaternary ammonium salt material tends to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, so that no leveling layer is formed, and the surface of the uneven distribution layer is quaternized. Ammonium salt material will be present. At this time, the low refractive index layer forming material and the quaternary ammonium salt material are electrically repelled, the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer is reduced, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is reduced. End up.
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material exceeds 100,000, the quaternary ammonium salt material is unevenly distributed and the antistatic layer cannot be formed. Further, when the molecular weight (A) of the compound having an amide group exceeds 100,000, a layer is formed by mixing the conductive material and the leveling material, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed.
  • the metal oxide particles is preferably 500 nm or less
  • the molecular weight (A) of the compound having an amide group is preferably 100,000 or less.
  • the metal oxide particles When the average particle diameter of the metal oxide particles exceeds 500 nm, the metal oxide particles are likely to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, and the metal oxide particles are present on the surface of the uneven distribution layer. At this time, the low refractive index layer forming material and the quaternary ammonium salt material are electrically repelled, the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer is reduced, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is reduced. End up. Moreover, when the molecular weight (A) of the compound having an amide group exceeds 100,000, a layer is formed by mixing the conductive material and the leveling material, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed.
  • the conductive material contained in the conductive layer contains a conductive polymer
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having an amide group.
  • the average particle diameter of the conductive polymer is 1000 nm or less
  • the molecular weight (A) of the compound having an amide group is 100,000 or less.
  • the conductive polymer When the average particle diameter of the conductive polymer exceeds 500 nm, the conductive polymer is likely to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, and metal oxide particles are present on the surface of the uneven distribution layer. At this time, the low refractive index layer forming material and the conductive polymer are electrically repelled, the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer is reduced, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is reduced. End up. Moreover, when the molecular weight (A) of the compound having an amide group exceeds 100,000, a layer is formed by mixing the conductive material and the leveling material, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed.
  • the conductive material contained in the conductive layer contains a quaternary ammonium salt material
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having an acrylic group
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material is 1,000 or more and 100,000 or less
  • the molecular weight (B) of the compound having an acrylic group is 100,000 or less.
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material used for the uneven distribution layer is less than 1000, the quaternary ammonium salt material tends to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, so that no leveling layer is formed, and the surface of the uneven distribution layer is quaternized. Ammonium salt material will be present. At this time, the low refractive index layer forming material and the quaternary ammonium salt material are electrically repelled, the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer is reduced, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is reduced. End up.
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material exceeds 100,000, the quaternary ammonium salt material is unevenly distributed and the antistatic layer cannot be formed.
  • the molecular weight (B) of the compound having an acrylic group exceeds 100,000, a conductive material and a leveling material are mixed in the outermost layer to form a layer, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed. .
  • the conductive material contained in the conductive layer contains metal oxide particles
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having an acrylic group
  • the average particle diameter of the metal oxide particles is preferably 500 nm or less
  • the molecular weight (B) of the compound having an acrylic group is preferably 100,000 or less.
  • the metal oxide particles When the average particle diameter of the metal oxide particles exceeds 500 nm, the metal oxide particles are likely to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, and the metal oxide particles are present on the surface of the uneven distribution layer. Therefore, the leveling layer is not formed on the outermost layer, and the low refractive index layer forming material and the metal oxide particles are electrically repelled, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is lowered. Further, the haze of the obtained antireflection film is increased.
  • the molecular weight (B) of the compound having an acrylic group exceeds 100,000, a layer is formed by mixing the conductive material and the leveling material, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed.
  • the conductive material contained in the conductive layer contains a conductive polymer
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having an acrylic group
  • the conductive material It is preferable that the average particle diameter of the conductive polymer is 1000 nm or less, and the molecular weight (B) of the compound having an acrylic group is in the range of 100,000 or less.
  • the conductive polymer When the average particle diameter of the conductive polymer exceeds 500 nm, the conductive polymer is likely to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, and metal oxide particles are present on the surface of the uneven distribution layer. At this time, the low refractive index layer forming material and the conductive polymer are electrically repelled, the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer is reduced, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is reduced. End up.
  • the molecular weight (B) of the compound having an acrylic group exceeds 100,000, a layer is formed by mixing the conductive material and the leveling material, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed.
  • the conductive material contained in the conductive layer contains a quaternary ammonium salt material
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having a butadiene group
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material is preferably in the range of 1000 or more and 100,000 or less
  • the molecular weight (C) of the compound having a butadiene group as the leveling material is preferably 100,000 or less.
  • the intermediate layer, the hard coat layer, the antistatic layer, and the leveling layer are formed from the transparent substrate side.
  • An unevenly distributed layer that is unevenly distributed and stacked in order can be formed.
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material used for the uneven distribution layer is less than 1000, the quaternary ammonium salt material tends to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, so that no leveling layer is formed, and the surface of the uneven distribution layer is quaternized. Ammonium salt material will be present. At this time, the low refractive index layer forming material and the quaternary ammonium salt material are electrically repelled, the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer is reduced, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is reduced. End up.
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material exceeds 100,000, it is difficult to form an antistatic layer by unevenly distributing the quaternary ammonium salt material, and the resulting antireflection film has sufficient antistatic performance. You will not be able to get.
  • the molecular weight (C) of the compound having a butadiene group exceeds 100,000, the quaternary ammonium salt material and the leveling material are mixed to form a layer, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed.
  • the metal oxide particles is preferably 500 nm or less
  • the molecular weight (C) of the compound having a butadiene group is preferably 100,000 or less.
  • the metal oxide particles When the average particle diameter of the metal oxide particles exceeds 500 nm, the metal oxide particles are likely to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, and the metal oxide particles are present on the surface of the uneven distribution layer. Therefore, the leveling layer is not formed on the outermost layer, and the low refractive index layer forming material and the metal oxide particles are electrically repelled, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is lowered. Further, the haze of the obtained antireflection film is increased. Further, when the molecular weight (C) of the compound having a butadiene group exceeds 100,000, the conductive material and the leveling material are mixed to form a layer, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed. It becomes impossible to obtain an antireflection film having antistatic properties.
  • C molecular weight
  • the conductive material contained in the conductive layer contains a conductive polymer
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having a butadiene group
  • conductive It is preferable that the average particle diameter of the conductive polymer is 1000 nm or less, and the molecular weight (C) of the compound having a butadiene group is in the range of 100,000 or less.
  • the conductive polymer When the average particle diameter of the conductive polymer exceeds 500 nm, the conductive polymer is likely to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, and metal oxide particles are present on the surface of the uneven distribution layer. At this time, the low refractive index layer forming material and the conductive polymer are electrically repelled, the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer is reduced, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is reduced. End up. Moreover, when the molecular weight (C) of the compound having a butadiene group exceeds 100,000, the conductive material and the leveling material are mixed to form a layer, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed.
  • C molecular weight
  • the conductive material contained in the conductive layer contains a quaternary ammonium salt material
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having an olefin group
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material is 1000 or more and 100,000 or less
  • the molecular weight (D) of the compound having an olefin group as a leveling material is divided by the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material.
  • the value (D / Q) is preferably 0.5 or less.
  • the intermediate layer, the hard coat layer, the antistatic layer, and the leveling layer are formed from the transparent substrate side.
  • An unevenly distributed layer that is unevenly distributed and stacked in order can be formed.
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material used for the uneven distribution layer is less than 1000, the quaternary ammonium salt material tends to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, so that no leveling layer is formed, and the surface of the uneven distribution layer is quaternized. Ammonium salt material will be present. At this time, the low refractive index layer forming material and the quaternary ammonium salt material are electrically repelled, the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer is reduced, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is reduced. End up.
  • the molecular weight (Q) of the quaternary ammonium salt material exceeds 100,000, it is difficult to form an antistatic layer by unevenly distributing the quaternary ammonium salt material, and the resulting antireflection film has sufficient antistatic performance. You will not be able to get.
  • the molecular weight (D) of the compound having an olefin group exceeds 100,000, the quaternary ammonium salt material and the leveling material are mixed to form a layer, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed.
  • the conductive material contained in the conductive layer contains metal oxide particles
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having an olefin group
  • a metal The average particle diameter of the oxide particles is preferably 500 nm or less
  • the molecular weight (D) of the compound having an olefin group is preferably 100,000 or less.
  • the metal oxide particles When the average particle diameter of the metal oxide particles exceeds 500 nm, the metal oxide particles are likely to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, and the metal oxide particles are present on the surface of the uneven distribution layer. Therefore, the leveling layer is not formed on the outermost layer, and the low refractive index layer forming material and the metal oxide particles are electrically repelled, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is lowered. Further, the haze of the obtained antireflection film is increased. Further, when the molecular weight (D) of the compound having an olefin group exceeds 100,000, the conductive material and the leveling material are mixed to form a layer, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed.
  • D molecular weight
  • the conductive material contained in the conductive layer contains a conductive polymer
  • the leveling material contained in the leveling layer contains a compound having an olefin group.
  • the average particle diameter of the conductive polymer is 1000 nm or less
  • the molecular weight (D) of the compound having an olefin group is 100,000 or less.
  • the conductive polymer When the average particle diameter of the conductive polymer exceeds 500 nm, the conductive polymer is likely to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, and metal oxide particles are present on the surface of the uneven distribution layer. At this time, the low refractive index layer forming material and the conductive polymer are electrically repelled, the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer is reduced, and the scratch resistance of the resulting antireflection film is reduced. End up. Moreover, when the molecular weight (D) of the compound having a butadiene group exceeds 100,000, the conductive material and the leveling material are mixed to form a layer, and the antistatic layer and / or the leveling layer is not formed.
  • D molecular weight
  • the “molecular weight” is a molecular weight obtained from the structural formula when the molecular weight is 1000 or less, and indicates a weight average molecular weight when the molecular weight exceeds 1000.
  • the molecular weight (A) of the compound having an amide group used as a leveling material in the antireflection film of the present invention is preferably 100,000 or less, but considering the molecular weight of a commercially available compound having an amide group, The molecular weight (A) of the compound having a group is preferably 40 or more and 100,000 or less.
  • the molecular weight (B) of the compound having an acrylic group used as a leveling material is preferably 100,000 or less, but considering the molecular weight of a commercially available compound having an acrylic group, The molecular weight (B) of the compound having an acrylic group is preferably 1000 or more and 100,000 or less.
  • the molecular weight (C) of the compound having a butadiene group used as a leveling material is preferably 100,000 or less, but considering the molecular weight of a commercially available compound having a butadiene group,
  • the molecular weight (C) of the compound having a butadiene group is preferably 1000 or more and 100,000 or less.
  • the molecular weight (D) of the compound having an olefin group used as a leveling material is preferably 100000 or less, but considering the molecular weight of a commercially available compound having an olefin group, The molecular weight (D) of the compound having an olefin group is preferably 1000 or more and 100,000 or less.
  • the average particle diameter of the metal oxide particles and the average particle diameter of the conductive polymer are determined by a light scattering method.
  • the average particle diameter of the metal oxide particles used as the conductive material is preferably 500 nm or less, but considering the average particle diameter of commercially available metal oxide particles, The average particle diameter of the metal oxide particles is preferably 1 nm or more and 500 nm or less.
  • the average particle diameter of the conductive polymer used as the conductive material is preferably 500 nm or less, but considering the average particle diameter of commercially available metal oxide particles,
  • the average particle size of the conductive polymer is preferably 1 nm or more and 500 nm or less.
  • the optical film thickness of the low refractive index layer is preferably in the range of 80 nm or more and 200 nm or less.
  • the spectral reflectance curve obtained from the surface (A) side of the antireflection film is a spectral reflectance curve that takes a minimum value in the vicinity of 500 nm; Therefore, an antireflection film having excellent antireflection properties can be obtained.
  • the spectral reflectance curve shows a tendency that the rising curve in the short wavelength direction is steeper than the rising curve in the long wavelength direction based on the minimum value.
  • the steep rise curve in the short wavelength direction when the minimum value of the spectral reflectance curve is used as a reference causes the color of the reflected light of the formed antireflection film, and the thickness of the unevenly distributed layer It causes color unevenness when unevenness occurs.
  • the minimum value of the spectral reflectance curve by setting the minimum value of the spectral reflectance curve to around 500 nm, the reflected hue is small, and the occurrence of color unevenness due to a steep rising curve in the short wavelength direction can be suppressed.
  • the visual average reflectance at the low refractive index layer forming surface (surface (A)) of the antireflection film is in the range of 0.5% or more and 2.0% or less. It is preferable that
  • the luminous average reflectance at the low refractive index layer forming surface (surface (A)) of the antireflection film exceeds 2.5%, an antireflection film having sufficient antireflection performance may be obtained. Can not. On the other hand, it is difficult to realize an antireflection film having a luminous average reflectance of 0.2% on the surface of the antireflection film by optical interference of the uneven distribution layer. Furthermore, it is preferable that the luminous average reflectance on the surface of the uneven distribution layer is in the range of 0.2% to 2.0%.
  • the content of the quaternary ammonium salt material that is the conductive material in the uneven distribution layer is 0. It is preferably 5 wt% or more and less than 25 wt%. If the content of the quaternary ammonium salt material, which is a conductive material in the uneven distribution layer, is less than 0.5 wt%, sufficient antistatic performance may not be obtained. On the other hand, when the content of the quaternary ammonium salt material, which is a conductive material, exceeds 25 wt%, the leveling layer is not formed well. In addition, since the quaternary ammonium salt material, which is a conductive material, does not have hard coat properties, the hardness and scratch resistance of the antireflection film may be lowered. In addition, the cost increases.
  • the content of the metal oxide particles that are the conductive material in the uneven distribution layer is 0.5 wt%.
  • the content is preferably less than 25 wt%.
  • the content of the metal oxide particles as the conductive material in the uneven distribution layer is less than 0.5 wt%, sufficient antistatic performance may not be obtained.
  • the content of the metal oxide particles as the conductive material exceeds 25 wt%, the leveling layer is not formed well.
  • the content of the conductive polymer that is the conductive material in the uneven distribution layer is 0.1 wt%.
  • the content is preferably less than 25 wt%. If the content of the conductive polymer that is the conductive material in the uneven distribution layer is less than 0.1 wt%, sufficient antistatic performance may not be obtained.
  • the content of the conductive polymer as the conductive material exceeds 25 wt%, the leveling layer is not formed well.
  • the conductive polymer which is a conductive material does not have a hard coat property, the hardness and scratch resistance of the antireflection film may be lowered. In addition, the cost increases.
  • the content of the compound having an amide group as the leveling material in the uneven distribution layer is preferably in the range of 0.05 wt% or more and less than 25 wt%. If the content of the compound having an amide group in the uneven distribution layer is less than 0.05 wt%, the leveling layer cannot be formed, and the conductive material is present on the outermost surface of the uneven distribution layer. In some cases, the scratch resistance is lowered, and further, the formation of the low refractive index layer is inhibited. On the other hand, when the content of the compound having an amide group exceeds 25 wt%, the amide layer becomes thick and the antistatic function may be lowered.
  • the content of the leveling material in the uneven distribution layer is 0.001 wt% or more 5 It is preferable to be within the range of less than 0.000 wt%.
  • the content of the leveling material in the uneven distribution layer is less than 0.001 wt%, the leveling layer cannot be formed, and the conductive material is present on the outermost surface of the uneven distribution layer, so that the scratch resistance In some cases, the formation of a low refractive index layer may be hindered.
  • the content of the leveling material exceeds 5.00 wt%, the amide layer becomes thick and the antistatic function may be lowered.
  • the method for producing an antireflection film of the present invention is a method for producing an antireflection film in which an unevenly distributed layer and a low refractive index layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent substrate, the transparent substrate
  • An application step of applying an uneven layer forming coating liquid containing an ionizing radiation curable material, a conductive material, a leveling material, and a solvent to at least one surface of the substrate, and forming a coating film of the uneven layer, and the coating layer of the uneven layer A primary drying, a drying process for performing secondary drying, a hardening process for irradiating the coating film of the uneven distribution layer with ionizing radiation to form an uneven distribution layer, a low refractive index layer forming material and a low refractive index including a solvent.
  • a coating process for applying a layer forming coating solution to form a coating film for the low refractive index layer a drying process for drying the coating film for the low refractive index layer, and a hardening process for forming the low refractive index layer in order.
  • the uneven distribution layer includes an intermediate layer, a hard coat layer, an antistatic layer, Characterized in that it is laminated unevenly in the order of the ring layer.
  • the uneven distribution layer is provided by providing a drying process for performing primary drying on the coating film of the uneven distribution layer and a drying process for performing primary drying on the coating film of the uneven distribution layer after the drying process of the primary drying.
  • the intermediate layer, the hard coat layer, the antistatic layer in which the conductive material is unevenly distributed, and the leveling layer in which the leveling material is unevenly distributed can be unevenly distributed.
  • FIG. 1 The schematic of an example of the manufacturing apparatus of the antireflection film of this invention was shown in FIG.
  • a coating material for forming an unevenly distributed layer containing a binder matrix forming material containing an ionizing radiation curable material on a transparent substrate, a conductive material, a leveling material, and a solvent.
  • an ionizing radiation irradiation unit (23) for irradiating the coating film of the unevenly distributed layer with ionizing radiation and forming the unevenly distributed layer as a hard film is formed on the transparent substrate by continuously conveying the transparent substrate from the unwinding unit (31) to the winding unit (32).
  • a low refractive index layer-forming coating solution is applied onto the uneven distribution layer, and a coating step of forming a coating film of the low refractive index layer, a drying step of drying the coating film of the low refractive index layer, and the low refractive index
  • the low refractive index layer is formed by the hardening process for forming the layer.
  • the hardening process for forming the low refractive index layer when an ionizing radiation curable material is used as the low refractive index layer forming material, the film is hardened by irradiating with ionizing radiation and the low refractive index layer is formed.
  • the film is hardened by heating to form a low refractive index layer.
  • the antireflective film can be manufactured by forming the low refractive index layer on the uneven distribution layer using the manufacturing apparatus shown in FIG.
  • 30% by weight or more of the total solvent contained in the uneven distribution layer forming coating solution is a solvent for dissolving or swelling the transparent substrate, and the uneven distribution It is preferable that the solvent is contained in the layer forming coating solution at a ratio of 25 wt% to 85 wt%.
  • an uneven distribution layer including a conductive material, an antistatic layer in which a leveling material is unevenly distributed, and a leveling layer is formed by including a solvent in a proportion of 25 wt% to 85 wt% in the uneven distribution layer forming coating liquid.
  • the solvent that dissolves or swells the transparent base material contained in the coating liquid penetrates the transparent base material in the process from applying the coating liquid for forming an uneven distribution layer on the transparent base material to forming a coating film and drying. Accordingly, the binder matrix forming material component also penetrates into the transparent base material and is mixed with the base material to form an intermediate layer. On the other hand, since the conductive material and the leveling material do not easily penetrate into the transparent base material, they segregate to the antistatic layer and leveling layer side opposite to the transparent base material side to form an unevenly distributed layer.
  • the transparent substrate and the unevenly distributed layer are used.
  • An intermediate layer composed of a transparent substrate component and a binder matrix component can be formed, and an unevenly distributed layer can be formed efficiently.
  • the solvent which dissolves or swells a transparent base material is less than 30 wt% among all the solvents, the uneven distribution layer may not be formed.
  • the quaternary ammonium salt material or metal oxide particle or conductive polymer and leveling material that is the conductive material that is the conductive material in the coating film It is possible to make sufficient time until the uneven distribution layer is formed and the uneven distribution layer is formed, and the uneven distribution layer can be easily manufactured.
  • the coating film may be dried rapidly and the uneven distribution layer may not be formed.
  • the amount of solvent in the uneven distribution layer forming coating solution exceeds 85 wt%, it is necessary to lengthen the drying time, which tends to be unsuitable for mass production.
  • the drying process for drying the coating film of the uneven distribution layer is performed in the range of a drying temperature of 15 ° C. to 30 ° C. It is preferable to include two-stage continuous drying of secondary drying performed within the range of 0 ° C. or less. It is preferable that primary drying is performed within the range of a drying temperature of 20 ° C. or more and 30 ° C. or less immediately after the application of the drying step. By setting the primary drying temperature within the range of 20 ° C. or more and 30 ° C. or less, the quaternary ammonium salt material, metal oxide particles, conductive polymer and leveling material, which are conductive materials in the coating of the uneven distribution layer, are unevenly distributed. Thus, the time until the uneven distribution layer is formed can be sufficient.
  • the unevenly distributed layer may be dried rapidly and the unevenly distributed layer may not be formed.
  • the drying temperature is below 20 ° C., it is necessary to lengthen the drying time, which is not suitable for continuous production.
  • the secondary drying temperature within a range of drying temperature of 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower.
  • the secondary drying temperature within the range of 50 ° C. or more and 150 ° C. or less, an unevenly distributed layer is formed that is unevenly distributed in the order of the intermediate layer, the hard coat layer, the antistatic layer, and the leveling layer from the transparent substrate side. be able to.
  • the drying temperature exceeds 150 ° C., the evaporation rate of the solvent is too fast, so that the surface of the uneven distribution layer becomes rough and haze may occur.
  • the drying temperature is lower than 50 ° C., the solvent remains in the uneven distribution layer, resulting in an uneven distribution layer having no hard coat property.
  • the primary drying alone may be insufficient in drying, and after the primary drying, the secondary drying may be performed by appropriate drying by heating within a drying temperature range of 50 ° C. to 150 ° C. .
  • the uneven distribution layer (12) can be easily produced by performing primary drying and secondary drying at the drying temperature.
  • primary drying is performed to separate each layer of the uneven distribution layer, and as the secondary drying, the solvent is removed by performing appropriate heat drying within the range of 50 ° C. to 150 ° C. Yes.
  • the drying process for drying the coating film of the uneven distribution layer is performed for 2 seconds until the solvent contained in the coating film of the uneven distribution layer becomes 10 wt% or less. It is preferable to be within the range of 60 seconds or more.
  • the time from when the coating film of the uneven distribution layer is formed on the transparent substrate to when the solvent contained in the coating film comprising the coating solution for forming the uneven distribution layer on the transparent substrate is 10 wt% or less is 2 seconds or more. By making it within the range of 60 seconds or less, the time until the conductive material and the leveling material in the coating film are unevenly distributed to form the unevenly distributed layer can be sufficient, and the uneven distribution including the antistatic layer and the leveling layer is provided. Layers can be easily formed.
  • the time required for the solvent contained in the unevenly distributed layer to be 10 wt% or less is less than 2 seconds, the antistatic layer and the leveling layer are removed by rapid drying of the unevenly distributed layer. It may become impossible to form.
  • the time until the solvent contained in the coating film of the uneven distribution layer becomes 10 wt% or less exceeds 60 seconds, it takes too much time and is not realistic. Even when the uneven distribution layer is formed by the single wafer method, the tact time becomes long and the productivity is lowered, which is not preferable.
  • the antireflection film of the present invention and the method for producing the antireflection film will be described.
  • films or sheets made of various organic polymers can be used.
  • base materials usually used for optical members such as displays, optical properties such as transparency and refractive index of light, as well as various physical properties such as impact resistance, heat resistance, durability,
  • Polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, celluloses such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose and cellophane, polyamides such as 6-nylon and 6,6-nylon, polymethyl methacrylate, etc.
  • ком ⁇ онентs made of an organic polymer such as acrylic, polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, and ethylene vinyl alcohol are used.
  • polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polycarbonate, and polymethyl methacrylate are preferable.
  • triacetyl cellulose can be suitably used for a liquid crystal display because of its low birefringence and good transparency.
  • the thickness of the transparent substrate is preferably in the range of 25 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less, and more preferably in the range of 40 ⁇ m or more and 80 ⁇ m or less.
  • organic polymers may be added with known additives such as ultraviolet absorbers, infrared absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants, etc. Can be used.
  • the transparent substrate may be composed of one or a mixture of two or more selected from the above organic polymers, or a polymer, or may be a laminate of a plurality of layers.
  • an ionizing radiation curable material is included as a binder matrix forming material.
  • An acrylic material can be used as the ionizing radiation curable material.
  • the acrylic material is synthesized from a monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate compound such as acrylic acid or methacrylic acid ester of polyhydric alcohol, diisocyanate and polyhydric alcohol, and hydroxyester of acrylic acid or methacrylic acid.
  • a polyfunctional urethane (meth) acrylate compound can be used.
  • polyether resins having an acrylate functional group polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and the like can be used. .
  • (meth) acrylate means both “acrylate” and “methacrylate”.
  • urethane (meth) acrylate indicates both “urethane acrylate” and “urethane methacrylate”.
  • Examples of monofunctional (meth) acrylate compounds include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl ( (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) ) Acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzine
  • bifunctional (meth) acrylate compound examples include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonanediol di (meth).
  • Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and tris 2-hydroxy.
  • Trifunctional (meth) acrylate compounds pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol Trifunctional or higher polyfunctionality such as tra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate ( And (meth) acrylate compounds and polyfunctional (meth) acrylate compounds in which a part of these (meth) acrylates is substituted with an alkyl group or ⁇ -caprolactone.
  • Polyfunctional urethane acrylate can also be used as the acrylic material.
  • the urethane acrylate is obtained by reacting a polyhydric alcohol, a polyvalent isocyanate, and a hydroxyl group-containing acrylate.
  • Kyoeisha Chemical Co., Ltd., UA-306H, UA-306T, UA-306l, etc., Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., UV-1700B, UV-6300B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7640B, UV -7650B, etc. manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., U-4HA, U-6HA, UA-100H, U-6LPA, U-15HA, UA-32P, U-324A, etc., manufactured by Daicel UCB, Ebecryl-1290, Ebecryl -1290K, Ebecryl-5129, etc., manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., UN-3220HA, UN-3220
  • polyether resins polyether resins
  • polyester resins epoxy resins
  • alkyd resins alkyd resins
  • spiroacetal resins polybutadiene resins
  • polythiol polyene resins having acrylate functional groups it can.
  • the thickness of the uneven distribution layer is preferably in the range of 3 ⁇ m or more and 20 m or less from the viewpoint of optical properties, scratch resistance, hardness, and the like. Further, it is more preferable that the thickness is in the range of 4 ⁇ m or more and 7 ⁇ m or less from the viewpoint of processing such as curling suppression.
  • a solvent is added, and a solvent that dissolves or swells the transparent substrate within a range of 30 wt% or more of the total solvent is used.
  • the transparent base material is dissolved or swollen within 30 wt% or more of the total solvent contained in the coating solution for forming the uneven distribution layer including the binder matrix forming material, the quaternary ammonium salt material, and the leveling material on the transparent base material.
  • the solvent By using the solvent, an unevenly distributed layer in which the conductive material and the leveling material are unevenly distributed can be formed.
  • the transparent substrate and the unevenly distributed layer are used.
  • An intermediate layer composed of a transparent substrate component and a binder matrix component can be formed, and an unevenly distributed layer can be formed efficiently.
  • the uneven distribution layer cannot be formed.
  • Solvents that dissolve or swell the transparent substrate when using a triacetylcellulose film as the transparent substrate include dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, trioxane, tetrahydrofuran, anisole And ethers such as phenetole, some ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone, and ethyl formate, propyl formate, formic acid Esters such as n-pentyl, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, propion brewed ethyl, n-pentyl acetate
  • Solvents that do not dissolve or swell the triacetyl cellulose film include alcohols such as ethanol and isopropyl alcohol, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, and methyl isobutyl ketone. And some ketones such as methyl butyl ketone and diacetone alcohol. These can be used alone or in combination of two or more.
  • the solvent is contained in the uneven distribution layer forming coating solution in a proportion of 25 wt% or more and 85 wt% or less.
  • the coating film may be dried rapidly and the uneven distribution layer may not be formed.
  • the amount of solvent in the uneven distribution layer forming coating liquid exceeds 85 wt%, it is necessary to lengthen the drying time, which is not suitable for mass production.
  • the step of drying the coating film of the uneven distribution layer in a solvent atmosphere having a solvent concentration of 0.2 vol% or more and 10 vol% or less.
  • a solvent atmosphere having a solvent concentration of 0.2 vol% or more and 10 vol% or less By performing the step of drying the coating film of the uneven distribution layer in a solvent atmosphere of 0.2 vol% or more and 10 vol% or less, the quaternary ammonium salt material, the metal oxide particles, or the high conductivity of the conductive material in the coating film is obtained.
  • the time until the molecules are unevenly distributed to form the uneven distribution layer can be sufficient, and the uneven distribution layer can be easily manufactured.
  • the solvent used in the dry atmosphere it is preferable to use at least one of the solvents contained in the uneven distribution layer forming coating solution.
  • the solvent atmosphere is less than 0.2 vol%, the coating film may be dried rapidly and an unevenly distributed layer may not be formed.
  • the solvent atmosphere exceeds 10 vol% it is necessary to lengthen the drying time, which is not suitable for mass production.
  • Quaternary ammonium salt material which is a conductive material contained in the uneven distribution layer
  • an acrylic material containing a quaternary ammonium salt material as a functional group in the molecule can be preferably used.
  • Quaternary ammonium salt material -N + X - shows the structure of quaternary ammonium cation (-N +) and anion (X -) expressing the conductive hard coat layer by providing the.
  • X ⁇ may be Cl ⁇ , Br ⁇ , I ⁇ , F ⁇ , HSO 4 ⁇ , SO 4 2 ⁇ , NO 3 ⁇ , PO 4 3 ⁇ , HPO 4 2 ⁇ , H 2 PO 4 ⁇ , SO 2. 3 -, OH -, and the like can be given.
  • An acrylic material containing a quaternary ammonium salt material as a functional group in the molecule can also be used as the quaternary ammonium salt material.
  • an acrylic material containing a quaternary ammonium salt material in the molecule as a functional group an acrylic acid or methacrylate ester of a polyhydric alcohol containing a quaternary ammonium salt material (—N + X ⁇ ) in the molecule as a functional group.
  • Such polyfunctional or polyfunctional (meth) acrylate compounds, polyfunctional urethane (meth) acrylate compounds synthesized from diisocyanate and polyhydric alcohol, acrylic acid or methacrylic acid hydroxy ester, etc. can be used. .
  • polyether resins having an acrylate functional group polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and the like can be used. .
  • the molecular weight of the quaternary ammonium salt material contained in the uneven distribution layer of the present invention is preferably in the range of 1000 to 100,000.
  • an unevenly distributed layer that is unevenly distributed in the order of the intermediate layer, the hard coat layer, the antistatic layer, and the leveling layer from the transparent substrate side can be formed.
  • the quaternary ammonium salt material when the molecular weight of the quaternary ammonium salt material is less than 1000, the quaternary ammonium salt material tends to be unevenly distributed on the surface of the uneven distribution layer, and the quaternary ammonium salt material exists on the surface of the uneven distribution layer. Therefore, the low refractive index layer forming material and the quaternary ammonium salt material may be electrically repelled, and the adhesion between the uneven distribution layer and the low refractive index layer may be reduced, thereby reducing the scratch resistance.
  • the weight average molecular weight of the quaternary ammonium salt material exceeds 100,000, the hard coat layer and the antistatic layer are mixed, resulting in poor surface resistance.
  • NR-121X-9IPA manufactured by Colcoat Co.
  • Metal oxide particles used as the conductive material include zirconium oxide, antimony-containing tin oxide (ATO), phosphorus-containing tin oxide (PTO), tin-containing indium oxide, aluminum oxide, cerium oxide, zinc oxide, and aluminum-containing zinc oxide.
  • conductive metal oxide particles mainly composed of one or more metal oxides selected from tin oxide, antimony-containing zinc oxide and indium-containing zinc oxide can be used.
  • Examples of the conductive polymer used as the conductive material include polyacetylene, polyaniline, polythiophene, polypyrrole, polyphenylene sulfide, poly (1,6-heptadiyne), polybiphenylene (polyparaphenylene), polyparafinylene sulfide, polyphenylacetylene, One or a mixture of two or more selected from poly (2,5-thienylene) and derivatives thereof can be used.
  • a compound having an amide group is added as a leveling material, and a leveling layer is formed in the uneven distribution layer.
  • a compound having one or more amide groups in one molecule can be used as the compound having an amide group.
  • a compound having an amide group as a leveling material it is preferable to use a compound having one or more polymerizable groups in addition to the amide group.
  • the compound having an acrylic group used as a leveling material is an acrylic leveling agent containing an acrylic group in the molecule.
  • the compound having an acrylic group has the structure shown in (Chemical Formula 1), has low activity and good recoatability.
  • R 2 an alkyl group, a polyester group, a polyether group, a salt, a reactive group, or the like can be introduced.
  • the compound having an acrylic group used as a leveling material examples include BYK0-350, BYK-352, BYK-354, BYK-355, BYK-356, BYK-358N, BYK-361N, BYK-380, BYK- 392, BYK-394 and the like.
  • a butadiene leveling agent containing a butadiene group in the molecule can be suitably used as the compound having a butadiene group used as a leveling material.
  • a compound having a butadiene group has low activity and good recoatability.
  • an olefin group, a polyester group, a polyether group, a salt, a reactive group, or the like can be introduced into the molecule.
  • Specific examples of the compound having a butadiene group used as a leveling material include Floren AC-1190, Floren AC-1190HF, Floren AC-2000, Floren AC-2000HF, and the like.
  • an olefin leveling agent containing an olefin group in the molecule can be suitably used as the compound having an olefin group used as a leveling material.
  • a compound having an olefin group has low activity and good recoatability.
  • a polyester group, a polyether group, a salt, a reactive group, or the like can be introduced into the molecule.
  • Specific examples of the compound having an olefin group used as a leveling material include Florene AC-2200HF.
  • a photopolymerization initiator is added to the unevenly-distributed layer forming coating liquid.
  • Any photopolymerization initiator may be used as long as it generates radicals when irradiated with ultraviolet rays.
  • acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones are used. Can do.
  • the addition amount of the photopolymerization initiator is preferably in the range of 0.1 wt% or more and 10 wt% or less with respect to the ionizing radiation curable material, and more preferably 1 wt% or more and 8.5 wt% or less. preferable.
  • a surface adjusting agent, a refractive index adjusting agent, an adhesion improver, a curing agent, etc. can be added as additives to the uneven distribution layer forming coating solution.
  • the uneven distribution layer forming coating liquid obtained by adjusting the above materials can be applied on a transparent substrate by a wet film forming method to form a coating film, thereby forming an uneven distribution layer.
  • the method for forming the uneven distribution layer is described below.
  • the uneven distribution layer forming coating solution is applied onto a transparent substrate to form a coating film.
  • the coating method for coating the uneven distribution layer forming coating liquid on the transparent substrate includes roll coater, reverse roll coater, gravure coater, micro gravure coater, knife coater, bar coater, wire bar coater, die coater, dip. A coating method using a coater can be used.
  • the uneven distribution layer (12) of this invention is a thin coating film and needs to be a uniform film thickness, it is preferable to use a micro gravure coater method and a die coater method.
  • the solvent in the coating film is removed by drying the coating film of the uneven distribution layer formed on the transparent substrate.
  • heating, blowing, hot air, or the like can be used as the drying means.
  • the primary drying temperature within the range whose drying temperature is 20 degreeC or more and 30 degrees C or less immediately after application
  • the primary drying temperature within the range of 20 ° C. or more and 30 ° C. or less, the time until the conductive material and the leveling material in the coating of the uneven distribution layer are unevenly distributed to form the uneven distribution layer can be sufficient. .
  • the unevenly distributed layer may be dried rapidly and the unevenly distributed layer may not be formed.
  • the drying temperature is below 20 ° C., it is necessary to lengthen the drying time, which is not suitable for continuous production.
  • a range of drying temperature of 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower.
  • the drying temperature is higher than 150 ° C.
  • the evaporation rate of the solvent is too fast, so that the surface of the uneven distribution layer becomes rough and haze may occur.
  • the drying temperature is lower than 50 ° C.
  • the solvent remains in the uneven distribution layer, resulting in an uneven distribution layer having no hard coat property.
  • the primary drying alone may be insufficient in drying, and after the primary drying, the secondary drying may be performed by appropriate drying by heating within a drying temperature range of 50 ° C. to 150 ° C. .
  • the uneven distribution layer (12) can be easily manufactured by performing primary drying and secondary drying at the drying temperature.
  • primary drying is performed to separate each layer of the uneven distribution layer, and as the secondary drying, the solvent is removed by performing appropriate heat drying within the range of 50 ° C. to 150 ° C. Yes.
  • the solvent contained in the coating film of the uneven distribution layer on the said transparent base material is 10 wt% or less It is preferable that the time until becomes within the range of 2 seconds to 60 seconds, and after forming the coating film of the uneven distribution layer on the transparent substrate, the coating solution for forming the uneven distribution layer on the transparent substrate.
  • the time until the solvent contained in the coating film is 10 wt% or less within the range of 2 seconds to 60 seconds, the conductive material and leveling material in the coating film are unevenly distributed to form an unevenly distributed layer. It is possible to make the time until the distribution is sufficient, and the uneven distribution layer (12) can be easily formed.
  • the antistatic layer and the leveling layer are removed by rapid drying of the unevenly distributed layer. It may become impossible to form.
  • the unevenly distributed layer (12) is formed by irradiating the coating film obtained by applying the unevenly distributed layer forming coating liquid on the transparent substrate with ionizing radiation.
  • ultraviolet rays and electron beams can be used.
  • a light source such as a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc, or a xenon arc can be used.
  • electron beams emitted from various electron beam accelerators such as cockloftwald type, bandegraph type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, dynamitron type, and high frequency type can be used.
  • the electron beam preferably has an energy of 50 to 1000 KeV. An electron beam having an energy of 100 to 300 KeV is more preferable.
  • the low refractive index layer is formed by applying a low refractive index layer forming coating liquid containing a low refractive index layer forming material on the surface of the uneven distribution layer, and by a wet film forming method.
  • the film thickness (d) of the low refractive index layer is such that the optical film thickness (nd) obtained by multiplying the film thickness (d) by the refractive index (n) of the low refractive index layer is 1 / wavelength of visible light. Designed to be equal to 4.
  • low refractive index particles and binder matrix forming material can be used.
  • the binder matrix forming material has a low refractive index
  • the low refractive index forming material does not need to be included in the low refractive index forming material.
  • an ionizing radiation curable material or a thermosetting material can be used as the binder matrix forming material in the low refractive index layer (13).
  • low refractive particles examples include LiF, MgF, 3NaF.AlF or AlF (all of which have a refractive index of 1.40), or Na 3 AlF 6 (ice crystal).
  • Low refractive index particles made of a low refractive material such as stone or a refractive index of 1.33) can be used.
  • grain can be used suitably.
  • the voids can be made to have a refractive index of air ( ⁇ 1), so that they can be low refractive index particles having a very low refractive index.
  • low refractive index silica particles having voids inside can be used.
  • the voids can be made to have a refractive index of air ( ⁇ 1), so that they can be low refractive index particles having a very low refractive index.
  • ⁇ 1 refractive index of air
  • the low refractive index silica particles having voids therein porous silica particles or shell-structured silica particles can be used.
  • the low refractive index particles preferably have a particle size of 1 nm to 100 nm.
  • the particle diameter exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, and the low refractive index layer tends to be whitened and the transparency of the antireflection film tends to be lowered.
  • the particle size is less than 1 nm, problems such as particle non-uniformity in the low refractive index layer due to particle aggregation occur.
  • the refractive index is 1.35 lower than the refractive index of glass 1.45 while maintaining the spherical shape, the radius is 20 nm or more and 25 nm or less, A spherical structure of density ( ⁇ 1) is in the central part, and the periphery is covered with layers of different densities ( ⁇ 2) having a thickness of 10 nm to 15 nm, and the value of ( ⁇ 1 / ⁇ 2) is 0.5, 0.1, The center part of the low-refractive-index silica particle is 0.0, and the one having a structure that has a density of about 1/10 that of external silica can be used.
  • an acrylic material can be used as the ionizing radiation curable material used as the binder matrix forming material.
  • the acrylic material is synthesized from a monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate compound such as acrylic acid or methacrylic acid ester of polyhydric alcohol, diisocyanate and polyhydric alcohol, and hydroxyester of acrylic acid or methacrylic acid.
  • a polyfunctional urethane (meth) acrylate compound can be used.
  • polyether resins having an acrylate functional group polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and the like can be used. .
  • Examples of monofunctional (meth) acrylate compounds include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl ( (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) ) Acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzine
  • bifunctional (meth) acrylate compound examples include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonanediol di (meth).
  • Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and tris 2-hydroxy.
  • Trifunctional (meth) acrylate compounds pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol Trifunctional or higher polyfunctionality such as tra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate ( And (meth) acrylate compounds and polyfunctional (meth) acrylate compounds in which a part of these (meth) acrylates is substituted with an alkyl group or ⁇ -caprolactone.
  • polyfunctional urethane acrylates can be suitably used because the desired molecular weight and molecular structure can be designed and the physical properties of the formed hard coat layer can be easily balanced.
  • the urethane acrylate is obtained by reacting a polyhydric alcohol, a polyvalent isocyanate, and a hydroxyl group-containing acrylate.
  • thermoplastic resins include cellulose derivatives such as acetylcellulose, nitrocellulose, acetylbutylcellulose, ethylcellulose, and methylcellulose, vinyl acetate and copolymers thereof, vinyl chloride and copolymers thereof, vinylidene chloride and copolymers thereof, and the like.
  • Acetal resins such as polyvinyl resins, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, acrylic resins and copolymers thereof, acrylic resins such as methacrylic resins and copolymers thereof, polystyrene resins, polyamide resins, linear polyester resins, polycarbonate resins, etc.
  • the low refractive index layer forming material can be a water repellent material for the purpose of making it difficult for dirt such as fingerprints to adhere to the surface of the antireflection film and for facilitating wiping off the adhered dirt.
  • a silicone material an organic silicon compound, and a UV curable water repellent can be used.
  • the silicone material alkylaralkyl-modified silicone oil, alkyl-modified silicone oil, polyether-modified silicone oil, and alkyl polyether-modified silicone oil can also be used.
  • an organosilicon compound which does not contain fluorine and does not have a (meth) acryl group can also be used.
  • an alkyl alkoxysilane compound, a silane siloxane compound, a silane compound containing a polyester group, a silane compound having a polyether group, or a siloxane compound can also be used.
  • the UV curable water repellent BYK-350, BYK-3500 (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), F470 (manufactured by DIC Corporation), or the like can be used.
  • a hydrolyzate of silicon alkoxide which is a thermosetting material, can be used as the binder matrix forming material.
  • Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (A) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, and tetra-sec-butoxy.
  • the hydrolyzate of silicon alkoxide may be obtained by using a metal alkoxide
  • a hydrolyzate of silicon alkoxide which is a thermosetting material
  • a general formula (B) R ′ z Si (OR) 4-z (provided that is a fluorine compound as the water repellent material)
  • R ′ represents a non-reactive functional group having an alkyl group, a fluoroalkyl group or a fluoroalkylene oxide group
  • z is an integer satisfying 1 ⁇ z ⁇ 3). It can be included.
  • the refractive index of the low refractive index layer can be further reduced.
  • the silicon alkoxide represented by the general formula (C) include octadecyltrimethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyltrimethoxysilane, and the like.
  • Solvents contained in the coating solution for forming the low refractive index layer include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, Ethers such as ethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, trioxane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, Ketones such as cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone, as well as ethyl format
  • a photopolymerization initiator is added to the low refractive index layer forming coating solution.
  • Any photopolymerization initiator may be used as long as it generates radicals when irradiated with ultraviolet rays.
  • acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones are used. Can do.
  • the addition amount of the photopolymerization initiator is preferably in the range of 0.1 wt% or more and 10 wt% or less with respect to the ionizing radiation curable material, and more preferably 1 wt% or more and 8.5 wt% or less. preferable.
  • a surface adjusting agent, a refractive index adjusting agent, an adhesion improver, a curing agent, and the like can be added as additives to the coating solution for forming a low refractive index layer.
  • a coating solution for forming a low refractive index layer obtained by adjusting the above materials is applied on the uneven distribution layer (12) by a wet film forming method to form a coating film of the low refractive index layer, and the low refractive index layer (13 ) Can be formed.
  • the method for forming the low refractive index layer is shown below.
  • the coating solution for forming the low refractive index layer is applied on the uneven distribution layer (12) to form a coating film of the low refractive index layer.
  • the coating method for applying the coating solution for forming the low refractive index layer on the uneven distribution layer includes a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, and a die coater.
  • a coating method using a dip coater can be used.
  • the low refractive index layer (13) of this invention is a thin coating film and needs to be a uniform film thickness, it is preferable to use a micro gravure coater method.
  • the solvent in the coating film is removed by drying the coating film of the low refractive index layer formed on the uneven distribution layer (12).
  • heating, blowing, hot air, or the like can be used as the drying means.
  • drying temperature it is preferable to perform moderate heat drying within the range of 50 degreeC or more and 150 degrees C or less.
  • the coating film for the low refractive index layer obtained by applying the coating liquid for forming the low refractive index layer on the uneven distribution layer, By irradiating with ionizing radiation, a low refractive index layer (13) is formed.
  • ultraviolet rays and electron beams can be used.
  • a light source such as a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc, or a xenon arc can be used.
  • electron beams emitted from various electron beam accelerators such as cockloftwald type, bandegraph type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, dynamitron type, and high frequency type can be used.
  • the electron beam preferably has an energy of 50 to 1000 KeV. An electron beam having an energy of 100 to 300 KeV is more preferable.
  • the antireflection film of the present invention is continuously formed by a roll-to-roll method. As shown in FIG. 2, the web-shaped transparent base material that has been wound is continuously run from the unwinding portion (31) to the winding portion (32). At this time, the transparent base material is applied to the coating unit (21). The uneven distribution layer is continuously formed on the transparent substrate by passing through the drying unit (22) and the ionizing radiation irradiation unit (23). Thereafter, by passing the low refractive index layer through the unit in the same manner, the low refractive index layer is formed on the uneven distribution layer, and an antireflection film can be produced.
  • the surface of the unevenly-distributed layer and the surface of the low refractive index layer of the resulting antireflection film is 1.8 mm in diameter in a dry state (20 ° C.-65% RH) using a contact angle meter (CA-X type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Were made at the tip of the needle, and these were brought into contact with the surface of the sample (solid) to form a droplet.
  • the contact angle is an angle formed by a tangent to the liquid surface at a point where the solid and the liquid are in contact with the solid surface, and is defined as an angle on the side including the liquid. Distilled water was used as the liquid.
  • the pure water contact angle was measured according to JIS-R3257.
  • the intermediate layer, hard coat layer, antistatic layer, and leveling layer in the uneven distribution layer were determined according to the following criteria.
  • the contact angle is 60 ° or more and the element specific to the conductive material is not detected in the XPS measurement, it is judged that there is a leveling layer, and the contact angle is less than 60 ° and / or chlorine is detected in the XPS surface analysis. It was judged that there was no leveling layer. Also, those having an atomic weight ratio of 0.1 atomic% or less were not detected.
  • the X-ray intensity at the time of measurement was 100 W (10 kV, 10 mA).
  • ⁇ Quaternary ammonium salt material Cl ⁇ Metal oxide particles (antimony-containing tin oxide): Sn ⁇ Metal oxide particles (phosphorus-containing tin oxide): Sn ⁇ Conductive polymer (polythiophene): S ⁇ Conductive polymer (polyaniline): N
  • Leveling material compound having an amide group ⁇ conductive material: quaternary ammonium salt material
  • ⁇ Adjustment example A1> (Unevenly distributed layer forming coating liquid A1)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • quaternary ammonium salt material molecular weight 18500
  • ⁇ Adjustment example A2> (Unevenly distributed layer forming coating liquid A2)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • NR-121X-9IPA Coldcoat Co./Isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 20 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight
  • Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight
  • ⁇ Adjustment example A3> (Coating liquid A3 for uneven distribution layer formation) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -10 parts by weight of quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (molecular weight 18500)-10 parts by weight of N, N-diallylformamide-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-light 10 parts by weight of a polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) was prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, thereby obtaining an uneven distribution layer forming coating solution A3.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • quaternary ammonium salt material prepared in Syn
  • ⁇ Adjustment example A4> (Unevenly distributed layer forming coating liquid A4) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ⁇ Light ester DQ100 containing quaternary ammonium salt (Molecular weight 208, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight 10 parts by weight of N-vinylformamide 50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby forming unevenly distributed layer forming coating solution A4.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • ⁇ Adjustment example A5> (Unevenly distributed layer forming coating liquid A5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -P-styrene sulfonic acid ammonium salt homopolymer molecular weight 120,000
  • N-vinylformamide 50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate
  • pentaerythritol tetraacrylate 10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan)
  • the mixture was prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and it was designated as uneven distribution layer forming coating solution A5.
  • ⁇ Adjustment example A6> (Unevenly distributed layer forming coating liquid A6)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (molecular weight 18500)-10 parts by weight of polyamide (molecular weight 10,000)-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby forming unevenly distributed layer-forming coating liquid A6.
  • ⁇ Adjustment example A7> (Unevenly distributed layer forming coating liquid A7)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Synthesis Example 1 molecular weight 18500
  • 0.01 parts by weight-N-vinylformamide 10 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate
  • 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.)
  • These were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and this was used as the uneven distribution layer forming coating solution A7.
  • ⁇ Adjustment example A8> (Unevenly distributed layer forming coating liquid A8) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (molecular weight 18500) 100 parts by weight-10 parts by weight of N-vinylformamide-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) The solution was prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and it was designated as uneven distribution layer forming coating solution A8.
  • ⁇ Adjustment example A9> (Unevenly distributed layer forming coating liquid A9)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • quaternary ammonium salt material molecular weight 18500
  • ⁇ Adjustment Example A10> (Unevenly distributed layer forming coating liquid A10) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -10 parts by weight of quaternary ammonium salt material (molecular weight 18500) prepared in Synthesis Example 1-10 parts by weight of N-vinylformamide-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator ( Ciba Japan Co., Ltd. Irgacure 184) 10 parts by weight were prepared and prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 20 wt%.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • quaternary ammonium salt material molecular weight 18500
  • ⁇ Adjustment Example A11> (Unevenly distributed layer forming coating liquid A11)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • quaternary ammonium salt material (molecular weight 18500) prepared in Synthesis Example 1-10 parts by weight of N-vinylformamide-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator ( Ciba Japan Co., Ltd. Irgacure 184) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 90 wt%, thereby obtaining unevenly distributed layer forming coating solution A11.
  • ⁇ Adjustment example A12> (Hard coat layer forming coating liquid A12) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight of quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (molecular weight 18500) 50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate Photoinitiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 A part by weight was prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, thereby obtaining unevenly distributed layer-forming coating liquid A12.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (molecular weight 18500) 50 parts by weight of dipentaerythritol
  • ⁇ Adjustment example A13> (Unevenly distributed layer forming coating liquid A13) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), and the solid content is 50 wt% using methyl ethyl ketone. Thus, the uneven distribution layer forming coating solution A13 was prepared.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan
  • Example A1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven distribution layer forming coating liquid A1 is applied to one side of a triacetyl cellulose film (Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying oven at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A 5 ⁇ m transparent uneven distribution layer was formed.
  • the coating solution A for forming a low refractive index layer was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb) The film was hardened by irradiation with UV to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example A1] was produced.
  • Example A12 to [Example A14]
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid A1 with a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other manufacturing conditions were [Example A1].
  • an antireflection film of [Example A12] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid A1 with both the primary drying temperature and the secondary drying temperature being 25 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example A1].
  • an antireflection film of [Example A13] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid A1 with the primary drying temperature and the secondary drying temperature set to 80 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example A1]. Then, an antireflection film of [Example A14] was produced.
  • Table 1 shows a summary of the manufacturing conditions in [Example A1] to [Example A16].
  • ⁇ Adjustment example B1> (Unevenly distributed layer forming coating liquid B1) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight These were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and the resulting uneven distribution layer forming coating solution B1 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isoprop
  • ⁇ Adjustment example B2> (Unevenly distributed layer forming coating liquid B2) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ⁇ Phosphorus-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight These were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and the resulting uneven distribution layer forming coating solution B2.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Phosphorus-containing tin oxide average particle size 50 nm /
  • ⁇ Adjustment example B3> (Unevenly distributed layer forming coating solution B3)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-N, N-diallylformamide 10 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10
  • a part by weight was prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution B3.
  • ⁇ Adjustment example B4> (Unevenly distributed layer forming coating solution B4) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 0.01 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight Were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and this was used as the uneven distribution layer forming coating solution B4.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isoprop
  • ⁇ Adjustment example B5> (Unevenly distributed layer forming coating solution B5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 100 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight
  • Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight
  • ⁇ Adjustment example B6> (Unevenly distributed layer forming coating solution B6)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide (average particle size 1000 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight
  • Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight
  • ⁇ Adjustment example B7> (Unevenly distributed layer forming coating solution B7) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight These were prepared using isopropyl alcohol so that the solid content was 50 wt%, and the resulting uneven distribution layer forming coating solution B7 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dis
  • ⁇ Adjustment example B8> (Unevenly distributed layer forming coating solution B8) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight These were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 20 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution B8 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl
  • ⁇ Adjustment example B9> (Unevenly distributed layer forming coating liquid B9)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight
  • Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight
  • ⁇ Adjustment example B10> (Unevenly distributed layer forming coating solution B10)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate
  • pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 10 parts by weight are prepared using methyl ethyl ketone.
  • the solution was prepared so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution B10 was obtained.
  • ⁇ Adjustment example B11> (Unevenly distributed layer forming coating solution B11) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), solid content of which is 50 wt% using methyl ethyl ketone Thus, the uneven distribution layer forming coating solution B11 was prepared.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co
  • Example B1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven-distribution layer-forming coating solution B1 is applied to one side of a triacetylcellulose film (manufactured by Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying oven at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A 5 ⁇ m transparent uneven distribution layer was formed.
  • a triacetylcellulose film manufactured by Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m
  • the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device
  • the low refractive index layer forming coating solution B was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb) The film was hardened by irradiation with UV to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example B1] was produced.
  • an ultraviolet irradiation device manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb
  • Example B10 to [Example B12]
  • the uneven distribution layer is formed using the uneven distribution layer forming coating solution B1 with a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other manufacturing conditions are [Example B1].
  • an antireflection film of [Example B10] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed by using the uneven distribution layer forming coating liquid B1 to set both the primary drying temperature and the secondary drying temperature to 25 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example B1]. Then, an antireflection film of [Example B11] was produced.
  • Example B12 the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating solution B1 with both the primary drying temperature and the secondary drying temperature being 80 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example B1]. Thus, an antireflection film of [Example B12] was produced.
  • Table 3 shows a summary of the manufacturing conditions in [Example B1] to [Example B14].
  • ⁇ Adjustment example C1> (Unevenly distributed layer forming coating liquid C1) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ⁇ Polythiophene (average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight Then, these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution C1 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol disper
  • ⁇ Adjustment example C2> (Unevenly distributed layer forming coating liquid C2)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene Average particle size 300nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight
  • Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight
  • ⁇ Adjustment example C3> (Unevenly distributed layer forming coating liquid C3)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene Average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-N, N-diallylformamide 10 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 Weight parts were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution C3.
  • ⁇ Adjustment example C4> (Unevenly distributed layer forming coating liquid C4)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene Average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 0.01 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight
  • Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight Were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and this was used as the uneven distribution layer forming coating solution C4.
  • ⁇ Adjustment example C5> (Unevenly distributed layer forming coating liquid C5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene (average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight
  • Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight
  • ⁇ Adjustment example C6> (Unevenly distributed layer forming coating liquid C6)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene Average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight
  • Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight
  • ⁇ Adjustment example C7> (Unevenly distributed layer forming coating liquid C7)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene Average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight N-vinylformamide 10 parts by weight Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight
  • Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight
  • ⁇ Adjustment example C9> (Unevenly distributed layer forming coating liquid C8)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 10 parts by weight are prepared using methyl ethyl ketone.
  • the solution was prepared so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution C8 was obtained.
  • Example C1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven distribution layer forming coating solution C1 is applied to one side of a triacetylcellulose film (Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying oven at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A 5 ⁇ m transparent uneven distribution layer was formed.
  • the coating solution C for forming a low refractive index layer was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb) The film was hardened by irradiation with UV to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example C1] was produced.
  • Example C8 to [Example C10]
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid C1 with a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other manufacturing conditions were [Example C1].
  • an antireflection film of [Example C8] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed by setting the primary drying temperature and the secondary drying temperature to 25 ° C. using the uneven distribution layer forming coating liquid C1, and the other production conditions were the same as in [Example C1].
  • an antireflection film of [Example C9] was produced.
  • the uneven distribution layer is formed by setting the primary drying temperature and the secondary drying temperature to 80 ° C. using the uneven distribution layer forming coating liquid C1, and the other manufacturing conditions are the same as in [Example C1]. Then, an antireflection film of [Example C10] was produced.
  • Example C11 [Example C12]
  • the uneven distribution layer forming coating liquids C8 and C9 are used instead of the uneven distribution layer forming coating liquid C1, and the other manufacturing conditions are the same as in [Example C1].
  • the antireflection films of [Example C11] and [Example C12] were produced.
  • ⁇ Adjustment Example D1> (Unevenly distributed layer forming coating solution D1) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (weight average molecular weight 18500) 10 parts by weight-BYK-350 (manufactured by Big Chemie Japan) 0.1 part by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10 A part by weight was prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Synthesis Example 1 weight average molecular weight 18500
  • ⁇ Adjustment example D2> (Unevenly distributed layer forming coating liquid D2)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • NR-121X-9IPA Coldcoat Co./Isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 20 parts by weight-BYK-350 (manufactured by Big Chemie Japan)
  • pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator manufactured by Ciba Japan
  • Irgacure 184 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby obtaining unevenly distributed layer-forming coating solution D2.
  • ⁇ Adjustment Example D4> (Unevenly distributed layer forming coating solution D4) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ⁇ Light ester DQ100 containing quaternary ammonium salt (Kyoeisha Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 208) 10 parts by weight BYK-350 (by Big Chemie Japan) 0.1 parts by weight dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight photopolymerization Initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) was prepared in an amount of 10 parts by weight, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby obtaining unevenly distributed layer forming coating solution D4.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical
  • ⁇ Adjustment Example D5> (Unevenly distributed layer forming coating solution D5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • P-Styrenesulfonic acid ammonium salt homopolymer molecular weight 120,000
  • BYK-350 manufactured by Big Chemie Japan
  • pentaerythritol tetraacrylate-photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10
  • a part by weight was prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, to obtain an unevenly distributed layer forming coating solution D5.
  • ⁇ Adjustment Example D7> (Unevenly distributed layer forming coating solution D7)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Synthesis Example 1 weight average molecular weight 18500
  • 100 parts by weight-BYK-350 manufactured by Big Chemie Japan
  • pentaerythritol tetraacrylate-photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10
  • a part by weight was prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 20 wt%, to obtain an uneven distribution layer forming coating solution D7.
  • ⁇ Adjustment Example D8> (Unevenly distributed layer forming coating solution D8)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Synthesis Example 1 weight average molecular weight 18500
  • 10 parts by weight-BYK-350 manufactured by Big Chemie Japan
  • pentaerythritol tetraacrylate-photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10
  • a part by weight was prepared, and these were prepared using isopropyl alcohol so that the solid content was 50 wt%, to obtain an unevenly distributed layer forming coating solution D1.
  • ⁇ Adjustment Example D10> (Unevenly distributed layer forming coating solution D10)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Synthesis Example 1 weight average molecular weight 18500
  • 10 parts by weight-BYK-350 manufactured by Big Chemie Japan
  • pentaerythritol tetraacrylate-photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10
  • a part by weight was prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 90 wt%, thereby obtaining an uneven distribution layer forming coating solution D10.
  • ⁇ Adjustment Example D11> (Unevenly distributed layer forming coating solution D11) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (weight average molecular weight 18500) 10 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) %, And the uneven distribution layer forming coating solution 10 was prepared.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Synthesis Example 1 weight average molecular weight 18500
  • ⁇ Adjustment Example D12> (Unevenly distributed layer forming coating solution D12) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), solid content of which is 50 wt% using methyl ethyl ketone Thus, the uneven distribution layer forming coating solution D12 was prepared.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co
  • Example D1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven distribution layer-forming coating solution D1 is applied to one side of a triacetylcellulose film (Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying oven at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A 5 ⁇ m transparent uneven distribution layer was formed.
  • the coating solution D for forming a low refractive index layer was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb) The film was hardened by irradiation with UV to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example D1] was produced.
  • Example D2 to [Example D10]
  • the uneven distribution layer forming coating liquids D2 to D10 are used instead of the uneven distribution layer forming coating liquid D1, and the other manufacturing conditions are the same as in [Example D1].
  • the antireflection films of [Example D2] to [Example D10] were produced.
  • Example D11 to [Example D13]
  • the uneven distribution layer is formed using the uneven distribution layer forming coating liquid D1 with a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other manufacturing conditions are [Example D1].
  • an antireflection film of [Example D11] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating solution D1 with both the primary drying temperature and the secondary drying temperature being 25 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example A1]. Then, an antireflection film of [Example D12] was produced.
  • Example D13 the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating solution D1 with both the primary drying temperature and the secondary drying temperature being 80 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example D1]. Thus, an antireflection film of [Example D13] was produced.
  • Example D14 [Example D15]
  • the uneven distribution layer forming coating liquids D11 and D12 are used instead of the uneven distribution layer forming coating liquid D1, and other manufacturing conditions are the same as in [Example D1].
  • the antireflection films of [Example D14] and [Example D15] were produced.
  • Table 7 summarizes the manufacturing conditions in [Example D1] to [Example D15].
  • ⁇ Adjustment example E2> (Unevenly distributed layer forming coating liquid E2)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Phosphorus-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-BYK-350 (by Big Chemie Japan)
  • 0.1 part by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator by Ciba Japan
  • Irgacure 184 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby obtaining unevenly distributed layer forming coating solution E2.
  • ⁇ Adjustment example E3> (Unevenly distributed layer forming coating liquid E3)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-BYK-394 (by Big Chemie Japan)
  • 0.1 part by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator by Ciba Japan
  • Irgacure 184 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby obtaining unevenly distributed layer forming coating solution E3.
  • ⁇ Adjustment Example E4> (Unevenly distributed layer forming coating liquid E4)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 0.01 parts by weight-BYK-350 (by Big Chemie Japan) 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Ciba Japan) Irgacure 184) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby preparing an unevenly distributed layer forming coating solution E4.
  • ⁇ Adjustment Example E5> (Unevenly distributed layer forming coating liquid E5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 100 parts by weight-BYK-350 (by Big Chemie Japan) 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (by Ciba Japan) Irgacure 184) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby forming unevenly distributed layer forming coating solution E5.
  • ⁇ Adjustment Example E8> (Unevenly distributed layer forming coating liquid E8) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-BYK-350 (by Big Chemie Japan) 0.1 part by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (by Ciba Japan) Irgacure 184) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 20 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution 19 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle
  • ⁇ Adjustment Example E10> (Unevenly distributed layer forming coating liquid E10)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate
  • pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 10 parts by weight are prepared using methyl ethyl ketone.
  • the solution was prepared so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution E10 was obtained.
  • Example E1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven distribution layer forming coating solution E1 is applied to one side of a triacetylcellulose film (Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying oven at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A 5 ⁇ m transparent uneven distribution layer was formed.
  • the low refractive index layer forming coating liquid E was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb) The film was hardened by irradiation with UV to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example E1] was produced.
  • an ultraviolet irradiation device manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb
  • Example E10 to [Example E12]
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid E1 with a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other production conditions were [Example E1].
  • an antireflection film of [Example E10] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed by using the uneven distribution layer forming coating liquid E1 to set both the primary drying temperature and the secondary drying temperature to 25 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example E1]. Then, an antireflection film of [Example E11] was produced.
  • Example E12 the uneven distribution layer was formed by setting the primary drying temperature and the secondary drying temperature at 80 ° C. using the uneven distribution layer forming coating liquid E1, and the other production conditions were the same as in [Example E1]. Then, an antireflection film of [Example E12] was produced.
  • ⁇ Adjustment Example F1> (Unevenly distributed layer forming coating solution F1) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ⁇ Polythiophene (average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-BYK-350 (by Big Chemie Japan) 0.1 part by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (by Ciba Japan) Irgacure 184) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution F1 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100n
  • ⁇ Adjustment Example F2> (Unevenly distributed layer forming coating solution F2)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polyaniline average particle size 75nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-BYK-350 (by Big Chemie Japan)
  • pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator by Ciba Japan
  • Irgacure 184 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, and this was used as the uneven distribution layer forming coating solution F2.
  • ⁇ Adjustment Example F3> (Unevenly distributed layer forming coating solution F3)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 300nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-BYK-350 (by Big Chemie Japan)
  • pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator by Ciba Japan
  • Irgacure 184 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, and the resulting uneven distribution layer forming coating solution F3 was obtained.
  • ⁇ Adjustment example F4> (Unevenly distributed layer forming coating solution F4)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-BYK-394 (by Big Chemie Japan)
  • 0.1 part by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator by Ciba Japan
  • Irgacure 184 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby forming unevenly distributed layer forming coating solution F4.
  • ⁇ Adjustment Example F5> (Unevenly distributed layer forming coating solution F5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 0.01 parts by weight-BYK-350 (by Big Chemie Japan)
  • ⁇ Adjustment Example F6> (Unevenly distributed layer forming coating solution F6)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-BYK-350 (by Big Chemie Japan)
  • 0.1 part by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator by Ciba Japan
  • Irgacure 184 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using isopropyl alcohol so that the solid content was 50 wt%, to obtain an uneven distribution layer forming coating solution F6.
  • ⁇ Adjustment Example F7> (Unevenly distributed layer forming coating solution F7)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-BYK-350 (by Big Chemie Japan)
  • pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator by Ciba Japan
  • Irgacure 184 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 20 wt%, to obtain an unevenly distributed layer forming coating solution F7.
  • ⁇ Adjustment Example F8> (Unevenly distributed layer forming coating solution F8)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-BYK-350 (by Big Chemie Japan)
  • 0.1 part by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator by Ciba Japan
  • Irgacure 184 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 90 wt%, thereby forming unevenly distributed layer forming coating solution F8.
  • ⁇ Adjustment Example F9> (Hard coat layer forming coating solution F9)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) are prepared using methyl ethyl ketone.
  • the solution was prepared so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution F9 was obtained.
  • ⁇ Adjustment Example F10> (Unevenly distributed layer forming coating solution F10) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), solid content of which is 50 wt% using methyl ethyl ketone Thus, the uneven distribution layer forming coating solution F10 was prepared.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co.
  • Example F1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven distribution layer forming coating solution F1 is applied to one side of a triacetylcellulose film (Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying oven at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A 5 ⁇ m transparent uneven distribution layer was formed.
  • the coating solution F for forming a low refractive index layer was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb) The film was hardened by irradiation with UV to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example F1] was produced.
  • Example F2] to [Example F8] In [Example F2] to [Example F8], the uneven distribution layer forming coating liquids F2 to F8 were used instead of the uneven distribution layer forming coating liquid F1, and the other production conditions were the same as in [Example F1].
  • the antireflection films of [Example F2] to [Example F8] were produced.
  • Example F9 to [Example F11]
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid F1 with a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other manufacturing conditions were [Example F1].
  • an antireflection film of [Example F9] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed by setting the primary drying temperature and the secondary drying temperature to 25 ° C. using the uneven distribution layer forming coating liquid F1, and the other manufacturing conditions were the same as in [Example F1]. Then, an antireflection film of [Example F10] was produced.
  • Example F11 the uneven distribution layer was formed by setting the primary drying temperature and the secondary drying temperature to 80 ° C. using the uneven distribution layer forming coating liquid F1, and the other production conditions were the same as in [Example F1]. Then, an antireflection film of [Example F11] was produced.
  • Example F12 [Example F13]
  • the uneven distribution layer forming coating liquids F9 and F10 are used instead of the uneven distribution layer forming coating liquid F1, and the other manufacturing conditions are the same as in [Example F1].
  • the antireflection films of [Example F12] and [Example F13] were produced.
  • ⁇ Adjustment example G1> (Unevenly distributed layer forming coating liquid G1) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (weight average molecular weight 18500) 10 parts by weight-Floren AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight Were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, and this was used as the uneven distribution layer forming coating solution G1.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • ⁇ Adjustment example G2> (Unevenly distributed layer forming coating liquid G2)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • NR-121X-9IPA Coldcoat Co./Isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 20 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution G2.
  • ⁇ Adjustment example G3> (Unevenly distributed layer forming coating liquid C3)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Light ester DQ100 containing quaternary ammonium salt Made by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., molecular weight 208) 10 parts by weight • Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight • 50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate • 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate •
  • Photopolymerization initiator Ciba Irgacure 184, manufactured by Japan Co., Ltd. 10 parts by weight were prepared and prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, thereby forming an uneven distribution layer forming coating solution C3.
  • ⁇ Adjustment example G4> (Unevenly distributed layer forming coating liquid G4)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -P-styrene sulfonic acid ammonium salt homopolymer molecular weight 120,000
  • Floren AC2000 manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan
  • ⁇ Adjustment example G5> (Unevenly distributed layer forming coating liquid G5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 0.01 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • a part by weight was prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, to obtain an uneven distribution layer forming coating solution G5.
  • ⁇ Adjustment example G6> (Unevenly distributed layer forming coating liquid G6)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 100 parts by weight-Floren AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight
  • Were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, and this was used as the uneven distribution layer forming coating solution G6.
  • ⁇ Adjustment example G7> (Unevenly distributed layer forming coating solution G7)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 weight average molecular weight 18500
  • 10 parts by weight-Floren AC2000 manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • ⁇ Adjustment example G8> (Unevenly distributed layer forming coating liquid G8) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (weight average molecular weight 18500) 10 parts by weight-Floren AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight Were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 20 wt%, and this was used as the uneven distribution layer forming coating solution G8.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • ⁇ Adjustment example G9> (Unevenly distributed layer forming coating liquid G9)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 weight average molecular weight 18500
  • 10 parts by weight-Floren AC2000 manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • ⁇ Adjustment example G10> (Unevenly distributed layer forming coating liquid G10) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (weight average molecular weight 18500) 10 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) % To make the uneven distribution layer forming coating liquid G10.
  • ⁇ Adjustment example G11> (Unevenly distributed layer forming coating liquid G11) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), solid content of which is 50 wt% using methyl ethyl ketone Thus, the uneven distribution layer forming coating solution G11 was prepared.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co
  • Example G1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven distribution layer forming coating solution G1 is applied to one side of a triacetylcellulose film (Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying furnace at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, a dry film thickness is obtained by performing ultraviolet irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (light source H bulb manufactured by Fusion UV System Japan). A transparent uneven distribution layer of 5 ⁇ m was formed.
  • the coating solution G for forming a low refractive index layer was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb) The film was hardened by irradiation with UV to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example G1] was produced.
  • Example G2] to [Example G9] In [Example G2] to [Example G9], the uneven distribution layer forming coating liquids G2 to G9 are used instead of the uneven distribution layer forming coating liquid G1, and other manufacturing conditions are the same as in [Example G1].
  • the antireflection films of [Example G2] to [Example G9] were produced.
  • Example G10 to [Example G12]
  • the uneven distribution layer is formed using the uneven distribution layer forming coating liquid G1 at a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other manufacturing conditions are [Example G1].
  • an antireflection film of [Example G10] was produced.
  • the uneven distribution layer is formed by using the uneven distribution layer forming coating liquid G1 to set the primary drying temperature and the secondary drying temperature to 25 ° C., and the other manufacturing conditions are the same as in [Example G1]. Then, an antireflection film of [Example G11] was produced.
  • the uneven distribution layer is formed by using the uneven distribution layer forming coating liquid G1 to set the primary drying temperature and the secondary drying temperature to 80 ° C., and the other manufacturing conditions are the same as in [Example G1]. Then, an antireflection film of [Example G12] was produced.
  • Example G13 [Example G14]
  • the uneven distribution layer forming coating liquids G10 and G11 are used instead of the uneven distribution layer forming coating liquid G1, and other manufacturing conditions are the same as in [Example G1].
  • the antireflection films of [Example G13] and [Example G14] were produced.
  • Leveling material Compound having a butadiene group
  • Conductive material Metal oxide particles Examples of the case where a compound having a butadiene group as the leveling material and metal oxide particles as the conductive material are used are shown below.
  • ⁇ Adjustment example H1> (Unevenly distributed layer forming coating liquid H1) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution H1 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeish
  • ⁇ Adjustment example H2> (Unevenly distributed layer forming coating liquid H2)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Phosphorus-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and the unevenly distributed layer forming coating solution H 2 was obtained.
  • ⁇ Adjustment example H3> (Unevenly distributed layer forming coating liquid H3)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 0.01 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator manufactured by Ciba Japan
  • Irgacure 184 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, to obtain unevenly distributed layer forming coating solution H3.
  • ⁇ Adjustment example H4> (Unevenly distributed layer forming coating liquid H4)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 100 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 50 parts by weight-Photopolymerization initiator Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan
  • ⁇ Adjustment example H5> (Unevenly distributed layer forming coating liquid H5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide (average particle size 1000 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution H5.
  • ⁇ Adjustment example H6> (Unevenly distributed layer forming coating solution H6)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 50 parts by weight-Photopolymerization initiator Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan
  • ⁇ Adjustment example H7> (Unevenly distributed layer forming coating liquid H7)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 20 wt%, to obtain an uneven distribution layer forming coating solution H7.
  • Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan
  • ⁇ Adjustment example H8> (Unevenly distributed layer forming coating liquid H8) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 90 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution H8 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeish
  • ⁇ Adjustment example H9> (Unevenly distributed layer forming coating liquid H9)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate
  • pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 10 parts by weight are prepared using methyl ethyl ketone.
  • the solution was prepared so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution H9 was obtained.
  • ⁇ Adjustment example H10> (Unevenly distributed layer forming coating solution H10) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), solid content of which is 50 wt% using methyl ethyl ketone Thus, the uneven distribution layer forming coating solution G11 was prepared.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co.
  • Example H1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven distribution layer forming coating solution H1 is applied to one side of a triacetyl cellulose film (Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying oven at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A 5 ⁇ m transparent uneven distribution layer was formed.
  • the low refractive index layer forming coating liquid H was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb) The film was hardened by irradiation with UV to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example H1] was produced.
  • an ultraviolet irradiation device manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb
  • Example H9 to [Example H11]
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating solution H1 with a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other manufacturing conditions were [Example H1].
  • an antireflection film of [Example H9] was produced.
  • the uneven distribution layer is formed by using the uneven distribution layer forming coating liquid H1 to set the primary drying temperature and the secondary drying temperature to 25 ° C., and the other manufacturing conditions are the same as in [Example H1]. Then, an antireflection film of [Example H10] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed by using the uneven distribution layer forming coating liquid H1 to set the primary drying temperature and the secondary drying temperature to 80 ° C., and the other manufacturing conditions were the same as in [Example H1]. Then, an antireflection film of [Example H11] was produced.
  • Leveling material Compound having a butadiene group
  • Conductive material Quaternary ammonium salt
  • ⁇ Adjustment Example I1> (Uniform layer forming coating liquid I1) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ⁇ Polythiophene (average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution I1.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd
  • ⁇ Adjustment Example I2> (Unevenly distributed layer forming coating liquid I2)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polyaniline average particle size 75nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution I2.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 1500nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution I3.
  • ⁇ Adjustment Example I4> (Unevenly distributed layer forming coating liquid I4) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ⁇ Polythiophene (average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion) 0.01 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10 A part by weight was prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, and this was designated as uneven distribution layer forming coating solution I5.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • ⁇ Adjustment Example I5> (Unevenly distributed layer forming coating liquid I5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using isopropyl alcohol so that the solid content was 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating liquid I5.
  • ⁇ Adjustment Example I6> (Unevenly distributed layer forming coating liquid I6)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene Average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 20 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution I6.
  • ⁇ Adjustment Example I7> (Unevenly distributed layer forming coating liquid I7)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 90 wt%, thereby obtaining an unevenly distributed layer forming coating solution I7.
  • ⁇ Adjustment Example I8> (Uniform layer forming coating liquid I8) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ⁇ Polythiophene (average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 10 parts by weight are prepared using methyl ethyl ketone. The solution was prepared so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution I8 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Example I1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven distribution layer forming coating solution I1 is applied to one side of a triacetylcellulose film (Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying oven at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A 5 ⁇ m transparent uneven distribution layer was formed.
  • the low refractive index layer forming coating liquid I was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb) The film was hardened by irradiation with UV to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example I1] was produced.
  • an ultraviolet irradiation device manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb
  • Example I8 to [Example I10]
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid I1 with a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other manufacturing conditions were [Example I1].
  • an antireflection film of [Example I8] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid I1 with the primary drying temperature and the secondary drying temperature both set to 25 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example I1].
  • an antireflection film of [Example I9] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid I1 with both the primary drying temperature and the secondary drying temperature set to 80 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example I1]. Thus, an antireflection film of [Example I10] was produced.
  • Example I11 [Example I12]
  • the uneven distribution layer forming coating liquids I8 and I9 are used instead of the uneven distribution layer forming coating liquid I1, and other manufacturing conditions are the same as in [Example I1].
  • the antireflection films of [Example I11] and [Example I12] were produced.
  • ⁇ Adjustment example J1> (Unevenly distributed layer forming coating liquid J1) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (weight average molecular weight 18500) 10 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight Were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, and this was used as the uneven distribution layer forming coating solution J1.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • ⁇ Adjustment example J2> (Unevenly distributed layer forming coating liquid J2)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • NR-121X-9IPA Coldcoat Co./Isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 20 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and the unevenly distributed layer forming coating liquid J2 was obtained.
  • ⁇ Adjustment example J3> (Unevenly distributed layer forming coating liquid J3) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ⁇ Light ester DQ100 containing quaternary ammonium salt (Made by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., molecular weight 208) 10 parts by weight • Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight • 50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate • 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate • Photopolymerization initiator (Ciba Irgacure 184 manufactured by Japan Co., Ltd. 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby preparing an uneven distribution layer forming coating solution J3.
  • ⁇ Adjustment example J4> (Unevenly distributed layer forming coating liquid J4)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -P-styrene sulfonic acid ammonium salt homopolymer molecular weight 120,000
  • Florene AC2200HF manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan
  • ⁇ Adjustment example J5> (Unevenly distributed layer forming coating liquid J5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 0.01 part by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • a part by weight was prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and this was designated as uneven distribution layer forming coating solution J5.
  • ⁇ Adjustment example J6> (Unevenly distributed layer forming coating liquid J6)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 100 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight
  • Were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and this was used as the uneven distribution layer forming coating solution J6.
  • ⁇ Adjustment example J7> (Unevenly distributed layer forming coating liquid J7)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 10 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • ⁇ Adjustment example J8> (Unevenly distributed layer forming coating liquid J8)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 10 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • Were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 20 wt%, and this was used as the uneven distribution layer forming coating solution J8.
  • ⁇ Adjustment example J9> (Unevenly distributed layer forming coating liquid J9)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 10 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • Were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 90 wt%, and this was used as the uneven distribution layer forming coating solution J9.
  • ⁇ Adjustment example J10> (Unevenly distributed layer forming coating liquid J10) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -Quaternary ammonium salt material prepared in Synthesis Example 1 (weight average molecular weight 18500) 10 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) %, And the uneven distribution layer forming coating solution J10 was prepared.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Synthesis Example 1 weight average molecular weight 18500
  • ⁇ Adjustment example J11> (Unevenly distributed layer forming coating liquid J11) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) -50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), solid content of which is 50 wt% using methyl ethyl ketone Thus, the uneven distribution layer forming coating solution J10 was prepared.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co
  • Example J1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven distribution layer forming coating liquid J1 is applied to one side of a triacetyl cellulose film (Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying oven at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A 5 ⁇ m transparent uneven distribution layer was formed.
  • the coating solution J for forming a low refractive index layer was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb) The film was hardened by UV irradiation to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example J1] was produced.
  • Example J2 to [Example J9]
  • the uneven distribution layer forming coating liquids J2 to J9 were used instead of the uneven distribution layer forming coating liquid J1, and the other production conditions were the same as in [Example J1].
  • the antireflection films of [Example J2] to [Example J9] were produced.
  • Example J10 to [Example J12]
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid J1 with a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other manufacturing conditions were [Example J1].
  • an antireflection film of [Example J10] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid J1 with both the primary drying temperature and the secondary drying temperature being 25 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example J1]. Then, an antireflection film of [Example J11] was produced.
  • Example J12 the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid J1 with the primary drying temperature and the secondary drying temperature set to 80 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example J1]. Then, an antireflection film of [Example J12] was produced.
  • Leveling material Compound having an olefin group
  • Conductive material Metal oxide particles
  • ⁇ Adjustment example K1> (Unevenly distributed layer forming coating liquid K1) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution K1.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Phosphorus-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, thereby forming an unevenly distributed layer-forming coating solution K2.
  • ⁇ Adjustment example K3> (Uniform layer forming coating liquid K3)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 0.01 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • ⁇ Adjustment example K4> (Unevenly distributed layer forming coating solution K4)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 100 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution K4 was obtained.
  • ⁇ Adjustment example K5> (Uniform layer forming coating liquid K5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide (average particle size 1000 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby forming an unevenly distributed layer forming coating solution K5.
  • ⁇ Adjustment example K6> (Unevenly distributed layer forming coating solution K6)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using isopropyl alcohol so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution K6 was obtained.
  • ⁇ Adjustment example K7> (Uniform layer forming coating liquid K7) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 20 wt%, and the unevenly distributed layer forming coating solution K7 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoe
  • ⁇ Adjustment example K8> (Uniform layer forming coating liquid K8) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 90 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution K8 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeish
  • ⁇ Adjustment example K9> (Uniform layer forming coating liquid K9)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate
  • pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 10 parts by weight are prepared using methyl ethyl ketone.
  • the solution was prepared so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution K9 was obtained.
  • ⁇ Adjustment example K10> (Uniform layer forming coating liquid K10) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Antimony-containing tin oxide (average particle size 50 nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 10 parts by weight are prepared using methyl ethyl ketone. The solution was prepared so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution K10 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Antimony-containing tin oxide average particle size 50 nm / isopropyl
  • Example K1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven-distribution layer-forming coating solution K1 is applied to one side of a triacetylcellulose film (Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying oven at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A 5 ⁇ m transparent uneven distribution layer was formed.
  • the coating solution K for forming a low refractive index layer was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan, light source K bulb) The film was cured by UV irradiation to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example K1] was produced.
  • an ultraviolet irradiation device Fusion UV System Japan, light source K bulb
  • Example K9 to [Example K11]
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid K1 with a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other manufacturing conditions were [Example K1].
  • an antireflection film of [Example K9] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating solution K1 with both the primary drying temperature and the secondary drying temperature being 25 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example K1].
  • an antireflection film of [Example K10] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating solution K1 with both the primary drying temperature and the secondary drying temperature set to 80 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example K1]. Thus, an antireflection film of [Example K11] was produced.
  • Example K12 [Example K13]
  • the uneven distribution layer forming coating liquids K9 and K10 are used instead of the uneven distribution layer forming coating liquid K1, and other manufacturing conditions are the same as in [Example K1].
  • the antireflection films of [Example K12] and [Example K13] were produced.
  • Table 21 shows a summary of the manufacturing conditions in [Example K1] to [Example K13].
  • Leveling material Compound having olefin group ⁇
  • Conductive material Quaternary ammonium salt An example in which a compound having an olefin group is used as the leveling material and a conductive polymer is used as the conductive material is shown below.
  • ⁇ Adjustment example L1> (Unevenly distributed layer forming coating liquid L1) For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ⁇ Polythiophene (average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion) (Solid content) 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution 18 was obtained.
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co.
  • ⁇ Adjustment example L2> (Unevenly distributed layer forming coating liquid L2)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polyaniline average particle size 75nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution L2.
  • ⁇ Adjustment example L3> (Unevenly distributed layer forming coating liquid L3)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene Average particle size 300nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution L3.
  • ⁇ Adjustment example L4> (Unevenly distributed layer forming coating liquid L4)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 0.01 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator manufactured by Ciba Japan
  • Irgacure 184 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content would be 50 wt%, thereby forming unevenly distributed layer forming coating solution L4.
  • ⁇ Adjustment example L5> (Unevenly distributed layer forming coating liquid L5)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene Average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using isopropyl alcohol so that the solid content was 50 wt% to obtain unevenly distributed layer forming coating solution L5.
  • ⁇ Adjustment example L6> (Unevenly distributed layer forming coating liquid L6)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene Average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 20 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution L6 was obtained.
  • ⁇ Adjustment example L7> (Unevenly distributed layer forming coating liquid L7)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene Average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-Florene AC2200HF (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • 0.1 part by weight-Dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) ) 10 parts by weight were prepared, and these were prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 90 wt%, and the uneven distribution layer forming coating solution L7 was obtained.
  • ⁇ Adjustment example L8> (Unevenly distributed layer forming coating liquid L8)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Polythiophene average particle size 100nm / isopropyl alcohol dispersion
  • Solid content 5 parts by weight-50 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate-50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 10 parts by weight are prepared using methyl ethyl ketone.
  • the liquid was prepared so that the solid content was 50 wt%, and the uneven distribution layer forming coating liquid L8 was obtained.
  • ⁇ Adjustment example L9> (Unevenly distributed layer forming coating liquid L9)
  • urethane acrylate U-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • dipentaerythritol triacrylate 50 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), solid content of which is 50 wt% using methyl ethyl ketone
  • the uneven distribution layer forming coating solution L9 was prepared.
  • Example L1 (Formation of uneven distribution layer)
  • the uneven distribution layer forming coating liquid L1 is applied to one side of a triacetylcellulose film (Fuji Film Co., Ltd .: film thickness 80 ⁇ m), dried in a drying oven at 25 ° C. for 10 seconds as primary drying, and continuously as secondary drying 80 After drying in a drying oven at 50 ° C. for 50 seconds and drying, the film thickness is dried by irradiating with UV irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using an UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A 5 ⁇ m transparent uneven distribution layer was formed.
  • the coating solution L for forming a low refractive index layer was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After a first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds and a second drying temperature of 80 ° C. for 50 seconds, an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan, light source H bulb) The film was hardened by irradiating with UV to form a low refractive index layer, and an antireflection film of [Example L1] was produced.
  • Example L8 to [Example L10]
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid L1 with a first drying temperature of 50 ° C. and a second drying temperature of 60 ° C., and the other manufacturing conditions were [Example L1].
  • an antireflection film of [Example L8] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid L1 with both the primary drying temperature and the secondary drying temperature being 25 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example L1].
  • an antireflection film of [Example L9] was produced.
  • the uneven distribution layer was formed using the uneven distribution layer forming coating liquid L1 with both the primary drying temperature and the secondary drying temperature set to 80 ° C., and the other production conditions were the same as in [Example L1]. Then, an antireflection film of [Example L10] was produced.
  • Example L11 [Example L12]
  • the uneven distribution layer forming coating liquids L8 and L9 are used instead of the uneven distribution layer forming coating liquid L1, and other manufacturing conditions are the same as in [Example L1].
  • the antireflection films of [Example L11] and [Example L12] were produced.
  • Table 23 summarizes the manufacturing conditions in [Example L1] to [Example L12].
  • the uneven distribution layer is an antireflection film composed of an intermediate layer, a hard coat layer, an antistatic layer, and a leveling layer, so that low manufacturing costs, excellent optical properties, high scratch resistance, and antistatic properties are achieved.
  • An antireflection film having performance could be provided.

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Abstract

【課題】反射防止フィルムにあっては、製造コストの低い反射防止フィルムが求められており、さらに、反射防止性能や干渉ムラのない光学特性に優れた反射防止フィルムが求められており、さらに、ディスプレイ表面に設けられるため高い耐擦傷性が求められており、さらに、ほこり付着防止のため帯電防止機能を備える反射防止フィルムが求められている。本発明にあっては、製造コストが低く、また、優れた光学特性及び優れた耐擦傷性及び帯電防止機能を備える反射防止フィルムを提供することを課題とする。 【解決手段】透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムであって、前記偏在層は、少なくとも透明基材側から中間層、ハードコート層、導電性材料を含む帯電防止層、レベリング材料を含むレベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする反射防止フィルムとした。

Description

反射防止フィルムおよびその製造方法
　本発明は、窓やディスプレイなどの表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などのディスプレイの表面に設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。さらには、透過型液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。
　一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
　一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。
　乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている。
　また、これらの反射防止層が透明基材上に設けられている反射防止フィルムにあっては、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル系材料を硬化して得られるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル系材料により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有する。
　湿式成膜法によって反射防止層を形成する場合、これらの電離放射線硬化型材料を硬化して得られるハードコート層の上に少なくとも低屈折率層を塗布して製造されるものであり、乾式成膜法に比べ安価に製造できるメリットがあり、市場に広く出まわっている。
特開２００５－２０２３８９号公報 特開２００５－１９９７０７号公報 特開平１１－９２７５０号公報 特開２００７－１２１９９３号公報 特開２００５－１４４８４９号公報 特開２００６－１５９４１５号公報 特開２００７－３３２１８１号公報
　反射防止フィルムをディスプレイ表面に設けることにより、その反射防止機能によって、外光の反射を抑制することができ、明所でのコントラストを向上させることができる。
また、同時に透過率を向上させることができることから画像をより明るく表示可能にすることができる。また、バックライトの出力などを抑える省エネ効果も期待できる。
　反射防止フィルムにあっては、製造コストの低い反射防止フィルムが求められている。また、反射防止フィルムにあっては、反射防止性能や干渉ムラのない光学特性に優れた反射防止フィルムが求められている。また、反射防止フィルムにあってはディスプレイ表面に設けられるため高い耐擦傷性が求められている。また、反射防止フィルムにあっては、ほこり付着防止のため帯電防止機能を備える反射防止フィルムが求められている。本発明にあっては、製造コストが低く、また、優れた光学特性及び優れた耐擦傷性及び帯電防止機能を備える反射防止フィルムを提供することを課題とする。
　上記課題を解決するために請求項１に係る発明としては、透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムであって、前記偏在層は、少なくとも透明基材側から中間層、ハードコート層、導電性材料を含む帯電防止層、レベリング材料を含むレベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする反射防止フィルムとした。
　また、請求項２に係る発明としては、前記反射防止フィルムの平行光線透過率が９３％以上であり、かつ、前記反射防止フィルムのヘイズが１．０％以下の範囲内であり、かつ、前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２以上１×１０１２Ω／ｃｍ２以下の範囲内であり、かつ、前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における純水接触角が８０°以上１３０°以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項３に係る発明としては、前記レベリング層に含まれるレベリング材料が、アミド基を有する化合物、アクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物から選択されることを特徴とする請求項１または請求項２記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項４に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が、四級アンモニウム塩材料、金属酸化物粒子、導電性高分子から選択されることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項５に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、前記アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項６に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含み、かつ、前記金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、前記アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項７に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含み、かつ、前記導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、前記アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項８に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、前記アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項９に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含み、かつ、前記金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、前記アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項１０に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含み、かつ、前記導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、前記アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項１１に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、前記ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項１２に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含み、かつ、前記金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、前記ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項１３に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含み、かつ、前記導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、前記ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項１４に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含み、かつ、前記四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、前記オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項１５に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含み、かつ、前記金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、前記オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項１６に係る発明としては、前記導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、前記レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含み、かつ、前記導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、前記オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項１７に係る発明としては、透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の面に、電離放射線硬化型材料と導電性材料とレベリング材料と溶剤を含む偏在層形成塗液を塗布し、偏在層の塗膜を形成する塗布工程と、前記偏在層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥を施す乾燥工程と、前記偏在層の塗膜に電離放射線を照射し、偏在層を形成する硬膜工程と、低屈折率層形成材料と溶剤を含む低屈折率層形成塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する塗布工程と、前記低屈折率層の塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記低屈折率層を形成する硬膜工程を順に備え、かつ、前記偏在層が、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法とした。
　また、請求項１８に係る発明としては、前記偏在層形成塗液に含まれる全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の溶媒が透明基材を溶解または膨潤させる溶媒であり、かつ、前記偏在層形成塗液中に溶媒が２５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の範囲内の割合で含まれることを特徴とする請求項１７に記載の反射防止フィルムの製造方法とした。
　また、請求項１９に係る発明としては、前記偏在層の塗膜を乾燥する乾燥工程が、乾燥温度１５℃以上３０℃以下の範囲内でおこなわれる一次乾燥と、乾燥温度４０℃以上１５０℃以下の範囲内でおこなわれる二次乾燥の二段階の連続する乾燥を含むことを特徴とする請求項１７または請求項１８に記載の反射防止フィルムの製造方法とした。
　本発明の反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法にあっては、低い製造コストと優れた光学特性、高い耐擦傷性、帯電防止性能を備える反射防止フィルムを提供することができた。特に、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができた。
本発明の一実施例の反射防止フィルムの断面模式図である。 本発明の一実施例の反射防止フィルムの製造工程の概略図である。
　本発明の反射防止フィルムについて説明する。図１に本発明の反射防止フィルム（１）の断面模式図を示した。
　本発明の反射防止フィルム（１）にあっては、透明基材（１１）の少なくとも一方の面に透明基材側から順に偏在層（１２）、低屈折率層（１３）を順に備える。偏在層（１２）はバインダマトリックス形成材料である電離放射線硬化型材料と、導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子と、レベリング材料を含んでおり、電離放射線材料等を電離放射線で硬化させてバインダマトリックスを形成することにより反射防止フィルムに高い表面硬度を付与することができる。ここで、偏在層は、透明基材側から順に、中間層（１２ａ）、ハードコート層（１２ｂ）、前記導電性材料を偏在させた帯電防止層（１２ｃ）、レベリング材料を偏在させたレベリング層（１２ｄ）の順に形成されている。
　透明基材（１１）と偏在層（１２）の界面に中間層（１２ａ）が形成されている。中間層（１２ａ）では、透明基材成分と偏在層の電離放射硬化型材料成分が混在している。中間層（１２ａ）にあっては、厚さ方向で透明基材（１１）側から低屈折率層（１３）側に向かって透明基材（１１）の屈折率からハードコート層（１２ｂ）の屈折率まで漸次変化する。
　透明基材（１１）の屈折率からハードコート層（１２ｂ）の屈折率まで漸次変化する中間層（１２ａ）を設けることにより、偏在層と透明基材の界面で発生する干渉縞の発生を防ぐことができる。また、中間層は透明基材（１１）と偏在層（１２）間の密着性を向上させることができる。なお、中間層にあっては、偏在層を形成する際に偏在層形成用塗液に透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を含ませることにより形成することができる。
　中間層（１２ａ）は得られる反射防止フィルムについて低屈折率側から５°入射角で分光反射率を求めることによりその存在を確認することができる。得られる分光反射率から低屈折率層の層厚に対応した干渉ピーク（分光スペクトルの波形が多数のリップルが見られる）確認された場合には中間層（１２ａ）は形成されていないものと判断され、裏面を黒塗り処理した外観検査において干渉縞ムラが観察される。一方、得られる分光反射率から低屈折率層の層厚に対応した干渉ピークが確認されない場合には中間層（１２ａ）は形成されているものと判断され、裏面黒塗り処理による外観検査において干渉ムラが全く見られない。
　なお、干渉縞、干渉ムラとは光学干渉による色ムラの一種であるが主に透明基材とハードコート層の屈折率差に起因するもので、膜厚が厚い場合に複数の光学干渉が同時に発生し虹色状に色ムラが観察される現象である。色ムラとは低屈折率層の膜厚ムラに起因する反射色ムラのことで面内の色バラツキが大きくなる現象である。
　ハードコート層（１２ｂ）は、主として電離放射線硬化型材料を成分としており、反射防止フィルムの表面硬度を向上させ、耐擦傷性を付与している。ハードコート層は偏在層表面の鉛筆硬度から形成されているか否かを判断することができる。
　また、帯電防止層（１２ｃ）は、導電性材料を偏在させており、反射防止フィルムに帯電防止性能を付与している。導電性材料を偏在させることにより、導電性材料を分散させるよりも使用量を低下させることができ、製造コストを低減させることができる。帯電防止層にあっては、反射防止フィルムの表面抵抗値から帯電防止層が形成されているか否かを判断することができる。
　また、レベリング層（１２ｄ）は帯電防止層上にレベリング材料を偏在させている。レベリング層は偏在層と低屈折率層の密着性を向上させ、偏在層から低屈折率層が剥離することを防止し、反射防止フィルムに耐擦傷性を付与している。
　本発明の反射防止フィルムにおいて偏在層（１２）中でレベリング層（１２ｄ）が形成されていることは、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）による表面分析によって形成されているか否かを判断することができる。
　また、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）による深さ方向分析（デプスプロファイル）によってレベリング層の下の帯電防止層（１２ｃ）の有無を判断することもできる。
　ＸＰＳは、試料表面の化学状態を分析する装置である。試料にＸ線（エネルギー：ｈν）を照射すると、光電効果により元素内の内殻電子がたたき出され、この時の光電子の運動エネルギー（Ｅｋ）は、一般式（Ａ）　Ｅｋ＝ｈν－Ｅｂ－φ　で表される。ここで、Ｅｂは内殻電子のエネルギーレベル（束縛エネルギー）、φは装置や試料の仕事関数である。またＥｂは、元素固有の値であり、その元素の化学状態によって変化する。一方、固体内で電子がエネルギーを保持したまま通過できる距離はせいぜい数十Åである。ＸＰＳは、試料表面から放出された光電子のＥｋとその数を測定することによって、試料表面から数十Åの深さまでに存在する元素の種類、量、および化学状態の分析ができる装置である。また、ＸＰＳにあっては、イオンエッチングと組み合わせることにより、深さ方向分析が可能となる。
　偏在層（１２）の上に設けられる低屈折率層（１３）は、反射防止フィルムに反射防止機能を付与する。このとき低屈折率層（１３）の膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計される。低屈折率層（１３）は、低屈折率層形成材料を含む塗液と偏在層上に塗布することにより形成される。
　偏在層形成材料に導電性材料を含有・偏在させ、偏在層表面に低屈折率層を形成するにあっては、導電性材料を偏在させた帯電防止層と帯電防止層上の低屈折率層の密着性が悪く、その結果、低屈折率層の剥離によって耐擦傷性が低下してしまうことがあった。本発明者らは、電離放射線硬化型材料、導電性材料を含む偏在層形成用塗液に、さらにレベリング材料を加えることにより、導電性材料を偏在させた帯電防止層上にレベリング層を形成し、偏在層と低屈折率層の密着性を向上させ、耐擦傷性が高い反射防止フィルムとすることができることを見出し本発明に至った。
　偏在層の最表面に導電性材料が偏在している場合、低屈折率層形成材料と導電性材料が電気的反発をし、偏在層と低屈折率層の密着力が落ちるため、反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、低屈折層形成材料と導電性材料との電気的反発がより強い場合は、低屈折率層形成塗液を塗布する際にハジキなどが生じるといった不具合が発生する場合もある。また、低屈折率層形成材料に撥水材料を含む場合には、導電性材料と低屈折率層材料中の撥水材料の電気的反発により所望の防汚性能が得られなくなってしまうこともある。
　また、本発明にあっては、偏在層形成用塗液を塗布することにより、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層となる偏在層を同時に形成することができる。したがって、透明基材上にハードコート層及び帯電防止層を順次塗布・形成した場合と比較して、製造コストを抑えることができる。
　偏在層（１２）において、導電性材料はバインダマトリックス形成材料である電離放射線硬化型材料と比較して表面へ析出しやすく、且つ、レベリング材料は導電性材料よりも更に表面へ析出しやすい。したがって、偏在層を形成する際に乾燥温度、時間の条件を制御して偏在化させることにより、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層と分離させることができ、それら層構成を偏在層としている。
　中間層（１２ａ）は、偏在層のバインダマトリックス成分とトリアセチルセルロース成分からなる。中間層（１２ａ）にあっては、厚さ方向で透明基材（１１）側から低屈折率層（１３）側に向かって透明基材（１１）の屈折率から低屈折率層のバインダマトリックスの屈折率であるハードコート層（１２ｂ）の屈折率まで漸次変化する。透明基材（１１）の屈折率からハードコート層（１２ｂ）の屈折率まで漸次変化する中間層（１２ａ）を設けることにより、偏在層と透明基材の界面で発生する干渉縞の発生を防ぐことができる。また、中間層は透明基材（１１）と偏在層（１２）間の密着性を向上させることができる。
　ハードコート層（１２ｂ）とは、バインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料と導電性材料およびレベリング材料を含むことができる。主にバインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料から構成され、バインダマトリックス成分が多く偏在して存在するため、反射防止フィルムに表面硬度を持たせることができる
　帯電防止層（１２ｃ）とは、バインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料と導電性材料およびレベリング材料を含むことができる。導電性材料でが偏在して多く存在するため帯電防止機能を発現し、帯電防止機能を有する反射防止フィルムとすることができる。
　レベリング層（１２ｄ）とは、バインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料とレベリング材料を含むことができる。おもにレベリング材料から構成され、導電性材料は含まれていない。導電性材料が偏在層の最表面に存在した場合には、偏在層上に低屈折率層を形成する際に偏在層と低屈折率層の密着力が落ちるため、反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。本発明の反射防止フィルムにあっては、最表面へは導電性材料である導電性材料よりもレベリング材料の方が表面張力が低いために、導電性材料である導電性材料を含有しない層を容易に形成することができる。
　本発明の反射防止フィルムにあっては低屈折率層を形成する際に、導電性材料の影響を受けない。よって、偏在層と低屈折率層の密着力の低下を防ぐことができ、反射防止フィルムに高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れ、防汚性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
　本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止フィルムの平行光線透過率が９３％以上であり、かつ、反射防止フィルムのヘイズが１．０％以下の範囲内であり、かつ、反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２以上１×１０１２Ω／ｃｍ２以下の範囲内であり、かつ、反射防止フィルムの低屈折率層表面における純水接触角が８０°以上１３０°以下の範囲内であることが好ましい。
　反射防止フィルムの平行光線透過率が９３％を下回る場合、または、ヘイズが１．０％を超える場合には、透明感が無くなり、白濁（白らっ茶け）してしまい、ディスプレイのコントラストを低下させてしまうことがある。なお、本発明の反射防止フィルムにあっては、平行光線透過率は高ければ高いほど好ましく、ヘイズは低ければ低いほど好ましい。ただし、反射防止フィルムの平行光線透過率は９３％以上９８％以下の範囲内であることが好ましい。現在考えられる使用材料を考慮すると平行光線透過率が９８％を超える反射防止フィルムを作製することは困難である。また、反射防止フィルムのヘイズは０．０５％以上０．５％以下の範囲内であることが好ましい。現在考えられる使用材料を考慮するとヘイズが０．０５％を下回る反射防止フィルムを作製することは困難である。
　また、表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２以上１×１０１２Ω／ｃｍ２以下の範囲内であることが好ましい。なお、反射防止フィルム表面での表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２を下回る反射防止フィルム作成する場合、多量の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子が必要となり、本発明の偏在層の形成ができなくなることがある。さらに、透明性（全光線透過率値）が低下してしまうことがある。反射防止フィルム表面の表面抵抗値が１×１０１０Ω／ｃｍ２～１×１０１２Ω／ｃｍ２の状態にある場合は、一般的に動的な状態で埃が付着しない領域といわれており、ディスプレイの最表面に用いられる場合は、この条件が必要となる。そのため、本発明では１×１０１２Ω／ｃｍ２以下が好ましいこととした。
　なお、前記表面抵抗値の測定方法としては、ＪＩＳ－Ｋ６９１１（１９９５）に準拠して測定することができる。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、純水接触角が８０°以上１３０°以下の範囲内であることが好ましい。純水接触角を８０°以上とすることにより、低屈折率層に優れた防汚性を付与することができる。また、１３０°以下の範囲内とすることにより、低屈折率層を形成する際に偏在層と低屈折率層の密着が良くなるために、高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れ、防汚性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
　なお、純水接触角が１３０°超える場合にあっては、低屈折率層を形成する際にハジキが発生してしまい、低屈折率層を形成することができなくなってしまう恐れがある。また、純水接触角が８０°に満たない場合にあっては、十分な防汚性を得ることができなくなってしまうことがある。
　なお、純水接触角の測定方法としては、ＪＩＳ　Ｒ３２５７（１９９９）に準拠して測定することができる。具体的には、接触角計を用いて、乾燥状態（２０℃－６５％ＲＨ）で液滴を針先に作り、これを試料（固体）の表面に接触させて液滴を作り、この接触角を測定することで求めることができる。接触角とは、固体と液体とが接触する点における液体表面に対する接線と固体表面とがなす角であり、液体を含む側の角度で定義される。液体としては、蒸留水が使用される。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、レベリング層に含まれるレベリング材料が、アミド基を有する化合物、アクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物から選択されることが好ましい。なお、アミド基を有する化合物、アクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物から選択されるレベリング材料の具体例はあとで記述する。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が、四級アンモニウム塩材料、金属酸化物粒子、導電性高分子から選択されることが好ましい。なお、四級アンモニウム塩材料、金属酸化物粒子、導電性高分子から選択される導電性材料の具体例はあとで記述する。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）およびアミド基を有する化合物の分子量（Ａ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００００を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することができなくなってしまう。また、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００を超える場合、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびアミド基を有する化合物の分子量（Ａ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含む際に、導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびアミド基を有する化合物の分子量（Ａ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　導電性高分子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、前記アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下であるであることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）およびアクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００００を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することができなくなってしまう。また、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００を超える場合、最表層において導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、前記導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびアクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。よって、最表層でレベリング層が形成されずに、低屈折率層形成材料と金属酸化物粒子が電気的反発をし、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。さらに得られる反射防止フィルムのヘイズが上昇する。また、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含む際に、導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下の範囲内であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびアクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　導電性高分子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が、１０００以上１０００００以下の範囲内であり、かつ、レベリング材料であるブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）およびブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００００を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することが困難となり、得られる反射防止フィルムが十分な帯電防止性能を得ることができなくなってしまう。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００を超える場合、四級アンモニウム塩材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。よって、最表層でレベリング層が形成されずに、低屈折率層形成材料と金属酸化物粒子が電気的反発をし、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。さらに得られる反射防止フィルムのヘイズが上昇する。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されないため、十分な帯電防止性を備える反射防止フィルムとすることができなくなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含み、かつ、導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下の範囲内であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　導電性高分子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が、１０００以上１０００００以下であり、かつ、レベリング材料であるオレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）を前記四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）で除した値（Ｄ／Ｑ）が、０．５以下であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）およびオレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００００を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することが困難となり、得られる反射防止フィルムが十分な帯電防止性能を得ることができなくなってしまう。また、オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００を超える場合、四級アンモニウム塩材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびオレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。よって、最表層でレベリング層が形成されずに、低屈折率層形成材料と金属酸化物粒子が電気的反発をし、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。さらに得られる反射防止フィルムのヘイズが上昇する。また、オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含む際に、導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００以下であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびオレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　導電性高分子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。
　なお、本発明において「分子量」とは、分子量１０００以下の場合は構造式から求められる分子量であり、分子量が１０００を超える場合には重量平均分子量を指す。
　なお、本発明の反射防止フィルムにおいてレベリング材料として用いられるアミド基を有する化合物の分子量（Ａ）は１０００００以下であることが好ましいが、市販されているアミド基を有する化合物の分子量を考慮すると、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）は４０以上１０００００以下であることが好ましい。
　なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、レベリング材料として用いられるアクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）は１０００００以下であることが好ましいが、市販されているアクリル基を有する化合物の分子量を考慮すると、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）は１０００以上１０００００以下であることが好ましい。
　なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、レベリング材料として用いられるブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）は１０００００以下であることが好ましいが、市販されているブタジエン基を有する化合物の分子量を考慮すると、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）は１０００以上１０００００以下であることが好ましい。
　なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、レベリング材料として用いられるオレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）は１０００００以下であることが好ましいが、市販されているオレフィン基を有する化合物の分子量を考慮すると、オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）は１０００以上１０００００以下であることが好ましい。
　なお、本発明において、金属酸化物粒子の平均粒子径および導電性高分子の平均粒子径は、光散乱法により求められる。
　なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、導電性材料として用いられる金属酸化物粒子の平均粒子径は５００ｎｍ以下であることが好ましいが、市販されている金属酸化物粒子の平均粒子径を考慮すると、金属酸化物粒子の平均粒子径は１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい
　なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、導電性材料として用いられる導電性高分子の平均粒子径は５００ｎｍ以下であることが好ましいが、市販されている金属酸化物粒子の平均粒子径を考慮すると、導電性高分子の平均粒子径は１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、低屈折率層の光学膜厚が８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。低屈折率層の光学膜厚を８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内とすることにより、反射防止フィルムの表面（Ａ）側から求められる分光反射率曲線を５００ｎｍ近傍で極小値をとる分光反射率曲線とすることができ、反射防止性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
　分光反射率曲線は極小値を基準として短波長方向への上昇カーブが長波長方向への上昇カーブと比較して急峻な傾向を示す。このとき、分光反射率曲線の極小値を基準としたときの短波長方向への急峻な上昇カーブは、形成される反射防止フィルムの反射光の色味の原因となり、また、偏在層の膜厚ムラが発生したときの色ムラの発生原因となる。本発明にあっては、分光反射率曲線の極小値を５００ｎｍ近傍とすることにより、反射色相が小さく、短波長方向への急峻な上昇カーブによる色ムラの発生を抑制することができる。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止フィルムの低屈折率層形成面（表面（Ａ））での視感平均反射率が０．５％以上２．０％以下の範囲内であることが好ましい。
　反射防止フィルムの低屈折率層形成面（表面（Ａ））での視感平均反射率が２．５％を超える場合にあっては、十分な反射防止性能を備える反射防止フィルムとすることができない。一方、反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．２％の反射防止フィルムを偏在層の光学干渉により実現することは困難である。なお、さらには偏在層表面での視感平均反射率は０．２％以上２．０％以下の範囲内であることが好ましい。
　また、本発明の反射防止フィルムにおいて、偏在層中の導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合には、偏在層中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料の含有量は０．５ｗｔ％以上２５ｗｔ％未満であることが好ましい。偏在層中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料の含有量が０．５ｗｔ％未満の場合にあっては、十分な帯電防止性能を得られなくなってしまうことがある。一方、導電性材料である四級アンモニウム塩材料の含有量が２５ｗｔ％を超える場合にあっては、レベリング層が上手く形成されない。また、導電性材料である四級アンモニウム塩材料はハードコート性を持たないため反射防止フィルムの硬度と耐擦傷性が低下することがある。また、コスト高となる。
　また、本発明の反射防止フィルムにおいて、偏在層中の導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合には、偏在層中の導電性材料である金属酸化物粒子の含有量は０．５ｗｔ％以上２５ｗｔ％未満であることが好ましい。偏在層中の導電性材料である金属酸化物粒子の含有量が０．５ｗｔ％未満の場合にあっては、十分な帯電防止性能を得られなくなってしまうことがある。一方、導電性材料である金属酸化物粒子の含有量が２５ｗｔ％を超える場合にあっては、レベリング層が上手く形成されない。
　また、本発明の反射防止フィルムにおいて、偏在層中の導電性材料として導電性高分子を用いた場合には、偏在層中の導電性材料である導電性高分子の含有量は０．１ｗｔ％以上２５ｗｔ％未満であることが好ましい。偏在層中の導電性材料である導電性高分子の含有量が０．１ｗｔ％未満の場合にあっては、十分な帯電防止性能を得られなくなってしまうことがある。一方、導電性材料である導電性高分子の含有量が２５ｗｔ％を超える場合にあっては、レベリング層が上手く形成されない。また、導電性材料である導電性高分子はハードコート性を持たないため反射防止フィルムの硬度と耐擦傷性が低下することがある。また、コスト高となる。
　また、レベリング材料としてアミド基を有する化合物を用いる場合、偏在層中のレベリング材料であるアミド基を有する化合物の含有量は０．０５ｗｔ％以上２５ｗｔ％未満の範囲内であることが好ましい。偏在層中のアミド基を有する化合物の含有量が０．０５ｗｔ％未満の場合にあっては、レベリング層の形成ができず、導電性材料が偏在層の最表面に存在することになるため、耐擦傷性が低下し、さらには低屈折率層の形成を阻害する場合がある。一方、アミド基を有する化合物の含有量が２５ｗｔ％を超える場合にあっては、アミド層が厚くなり、帯電防止機能が低下する場合がある。
　また、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物等のアミド基を有する化合物以外を用いる場合、偏在層中のレベリング材料の含有量は０．００１ｗｔ％以上５．００ｗｔ％未満の範囲内であることが好ましい。偏在層中のレベリング材料の含有量が０．００１ｗｔ％未満の場合にあっては、レベリング層の形成ができず、導電性材料が偏在層の最表面に存在することになるため、耐擦傷性が低下し、さらには低屈折率層の形成を阻害する場合がある。一方、レベリング材料の含有量が５．００ｗｔ％を超える場合にあっては、アミド層が厚くなり、帯電防止機能が低下する場合がある。
　本発明の反射防止フィルムの製造方法について説明する。
　本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の面に、電離放射線硬化型材料と導電性材料とレベリング材料と溶剤を含む偏在層形成塗液を塗布し、偏在層の塗膜を形成する塗布工程と、前記偏在層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥を施す乾燥工程と、前記偏在層の塗膜に電離放射線を照射し、偏在層を形成する硬膜工程と、低屈折率層形成材料と溶剤を含む低屈折率層形成塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する塗布工程と、前記低屈折率層の塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記低屈折率層を形成する硬膜工程を順に備え、かつ、前記偏在層が、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする。
　本発明にあっては、偏在層の塗膜に対して一次乾燥を施す乾燥工程と、一次乾燥の乾燥工程後に偏在層の塗膜に対して一次乾燥を施す乾燥工程を設けることにより、偏在層において中間層、ハードコート層、導電性材料を偏在させた帯電防止層、前記レベリング材料を偏在させたレベリング層の順に偏在させることができる。
　図２に本発明の反射防止フィルムの製造装置の一例の概略図を示した。
　本発明の反射防止フィルムの製造装置にあっては、透明基材上に電離放射線硬化型材料を含むバインダマトリックス形成材料と、導電性材料と、レベリング材料と、溶媒を含む偏在層形成用塗液を塗布し塗膜を形成する塗布工程（２１）と、前記偏在層の塗膜を一次乾燥ユニット（２２ａ）と、二次乾燥を施す二次乾燥ユニット（２２ｂ）の２つの乾燥ユニット（２２）と、前記偏在層の塗膜に電離放射線を照射し、偏在層を硬膜形成する電離放射線照射ユニット（２３）を順に備えている。巻き出し部（３１）から巻き取り部（３２）まで透明基材を連続搬送することにより、透明基材上に偏在層が形成される。
　次に、低屈折率層形成塗液を偏在層上に塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する塗布工程、前記低屈折率層の塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記低屈折率層を形成する硬膜工程により低屈折率層が形成される。このとき、低屈折率層を形成する硬膜工程においては、低屈折率層形成材料として電離放射線硬化型材料を用いる場合には電離放射線を照射することによって硬膜され低屈折率層は形成される。一方、低屈折率層形成材料として熱硬化型材料を用いる場合には加熱することによって硬膜され、低屈折率層は形成される。低屈折率層を形成するにあっては、図２に示した製造装置を用いて偏在層上に低屈折率層を形成し反射防止フィルムを製造することもできる。なお、偏在層形成と、低屈折率層形成の前記工程を連続して繋げることにより、反射防止フィルムを製造することも可能である。
　本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の溶媒が前記透明基材を溶解または膨潤させる溶媒であり、且つ、前記偏在層形成用塗液中に溶媒が２５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の割合で含まれることが好ましい。透明基材上にバインダマトリックス形成材料と導電性材料、レベリング材料を含む偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用い、かつ、前記偏在層形成用塗液中に溶媒が２５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の割合で含ませることにより、導電性材料、レベリング材料が偏在した帯電防止層、レベリング層を備える偏在層を形成することができる。
　透明基材上に偏在層形成用塗液を塗布し塗膜を形成してから乾燥するまでの工程で塗液に含まれる透明基材を溶解あるいは膨潤させる溶媒が透明基材へと浸透し、それに伴いバインダマトリックス形成材料成分も透明基材へと浸透し基材と混合され中間層が形成される。一方、導電性材、レベリング材料は透明基材には浸透しがたいため、透明基材側とは反対の帯電防止層およびレベリング層側へと偏析し偏在層を形成するものである。
　偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が３０ｗｔ％以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用いることにより、透明基材と偏在層間に透明基材成分とバインダマトリックス成分からなる中間層を形成することができ、さらには、効率的に偏在層を形成することができる。なお、全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が３０ｗｔ％を下回る場合にあっては、偏在層を形成することができなくなってしまうことがある。偏在層の塗液中の溶媒量を前記範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料である導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層を容易に製造することができる。
　なお、偏在層形成用塗液中の溶媒量が２５ｗｔ％に満たない場合にあっては、塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、偏在層形成用塗液中の溶媒量が８５ｗｔ％を越える場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなってしまう傾向にある。
　本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、偏在層の塗膜を乾燥する乾燥工程が、乾燥温度１５℃以上３０℃以下の範囲内で行なわれる一次乾燥と、乾燥温度４０℃以上１５０℃以下の範囲内で行われる二次乾燥の二段階の連続する乾燥を含むことが好ましい。乾燥工程が塗布直後に乾燥温度２０℃以上３０℃以下の範囲内で一次乾燥をおこなうことが好ましい。一次乾燥温度を２０℃以上３０℃以下の範囲内とすることにより、偏在層の塗膜中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができる。
　なお、乾燥温度が３０℃を超える場合にあっては、偏在層の塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、乾燥温度が２０℃を下回る場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり連続生産に不向きとなってしまう。
　また、乾燥温度５０℃以上１５０℃以下の範囲内で二次乾燥をおこなうことが好ましい。二次乾燥温度を５０℃以上１５０℃以下の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。なお、乾燥温度が１５０℃を超える場合にあっては、溶剤の蒸発速度が早すぎるために偏在層の表面が荒れてしまい、ヘイズが発生する恐れがある。一方、乾燥温度が５０℃を下回る場合にあっては、溶剤が偏在層に残留してしまい、ハードコート性を持たない偏在層となってしまう。
　また、前記一次乾燥のみでは乾燥が不十分の場合があり、一次乾燥後、二次乾燥として乾燥温度５０℃以上１５０℃以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥をおこなうことも兼ねている。乾燥工程において、一次乾燥及び二次乾燥を前記乾燥温度にておこなうことにより、偏在層（１２）を容易に製造することができる。
　また、偏在層の各層の分離を行うために一次乾燥を行っており、二次乾燥としてでは５０℃以上１５０℃以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥を行うことにより溶剤を除去している。
　なお、本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、偏在層の塗膜を乾燥する乾燥工程を、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒以上６０秒以下の範囲内とすることが好ましい。
　前記偏在層の塗膜を透明基材上に形成してから、透明基材上の偏在層形成用塗液からなる塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒以上６０秒以下の範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、帯電防止層およびレベリング層を備える偏在層を容易に形成することができる。
　また、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒に満たない場合にあっては、偏在層の塗膜の急激な乾燥により帯電防止層およびレベリング層を形成することができなくなってしまうことがある。なお、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が６０秒を超える場合にあっては、時間がかかりすぎてしまい現実的でない。枚葉方式で偏在層を形成する場合においても、タクトタイムが長くなり生産性が低下するため好ましくない。
　さらに詳細に、本発明の反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法について説明する。
　本発明の反射防止フィルムに用いられる透明基材としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６－ナイロン、６，６－ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。中でも、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに対し好適に用いることができる。
　なお、透明基材の厚みは２５μｍ以上２００μｍ以下の範囲内にあることが好ましく、さらには、４０μｍ以上８０μｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
　さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は前記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。
　次に、偏在層について説明する
　偏在層を形成するにあっては、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を含む。電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
　なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
　単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、３－メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチル－２－ヒドロキシプロピルフタレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２－（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２－（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２－（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２－アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２－ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε－カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
　アクリル系材料として多官能ウレタンアクリレートを用いることもできる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６ｌ等、日本合成化学社製、ＵＶ－１７００Ｂ、ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ－７６００Ｂ、ＵＶ－７６０５Ｂ、ＵＶ－７６４０Ｂ、ＵＶ－７６５０Ｂ等、新中村化学社製、Ｕ－４ＨＡ、Ｕ－６ＨＡ、ＵＡ－１００Ｈ、Ｕ－６ＬＰＡ、Ｕ－１５ＨＡ、ＵＡ－３２Ｐ、Ｕ－３２４Ａ等、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ－１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ－１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ－５１２９等、根上工業社製、ＵＮ－３２２０ＨＡ、ＵＮ－３２２０ＨＢ、ＵＮ－３２２０ＨＣ、ＵＮ－３２２０ＨＳ等を挙げることができるがこの限りではない。
　また、これらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
　また、偏在層の膜厚としては光学特性、耐擦傷性、硬度などより、３μｍ以上２０ｍ以下の範囲内にすることが好ましい。また、カールの抑制のなどの加工取り扱い上から４μｍ以上７μｍ以下の範囲内にすることがさらに好ましい。
　偏在層形成用塗液にあっては、溶媒が加えられ、全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が用いられる。
　また、透明基材上にバインダマトリックス形成材料と四級アンモニウム塩材料、レベリング材料を含む偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用いることにより、導電性材料およびレベリング材料が偏在した偏在層を形成することができる。
　偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が３０ｗｔ％以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用いることにより、透明基材と偏在層間に透明基材成分とバインダマトリックス成分からなる中間層を形成することができ、さらには、効率的に偏在層を形成することができる。
　なお、全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が３０ｗｔ％を下回る場合にあっては、偏在層を形成することができなくなってしまう。
　透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた際の透明基材を溶解または膨潤させる溶媒としては、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等の一部のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ－ペンチル、およびγ－プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、その他としてＮ－メチル－２－ピロリドン、炭酸ジメチルが挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　トリアセチルセルロースフィルムを溶解または膨潤させない溶媒としては、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ－ヘキサンなどの炭化水素類、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、ジアセトンアルコールなどの一部のケトン類などが挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　また、偏在層形成用塗液中に溶媒が２５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の割合で含まれることが好ましい。偏在層の塗液中の溶媒量を前記範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層を容易に製造することができる。
　なお、偏在層形成用塗液中の溶媒量が２５ｗｔ％に満たない場合にあっては、塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、偏在層形成用塗液中の溶媒量が８５ｗｔ％を越える場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなってしまう。
　また、偏在層の塗膜を乾燥する工程を溶媒濃度０．２ｖｏｌ％以上１０ｖｏｌ％以下の溶媒雰囲気下でおこなうことが好ましい。偏在層の塗膜を乾燥する工程を０．２ｖｏｌ％以上１０ｖｏｌ％以下の溶媒雰囲気下でおこなうことにより、塗膜中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層を容易に製造することができる。
　なお、このとき乾燥雰囲気に用いられる溶媒としては、偏在層形成用塗液に含まれる溶媒のうち少なくとも１種類が用いられることが好ましい。溶媒雰囲気下が０．２ｖｏｌ％に満たない場合にあっては、塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう場合がある。一方、溶媒雰囲気下が１０ｖｏｌ％を超える場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなってしまう。
　偏在層に含まれる導電性材料である四級アンモニウム塩材料としては、四級アンモニウム塩材料を官能基として分子内に含むアクリル系材料を好適に用いることができる。四級アンモニウム塩材料は－Ｎ＋　Ｘ－の構造を示し、四級アンモニウムカチオン（－Ｎ＋）とアニオン（Ｘ－）を備えることによりハードコート層に導電性を発現させる。このとき、Ｘ－としては、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－、Ｆ－、ＨＳＯ４ －、ＳＯ４ ２－、ＮＯ３ －、ＰＯ４ ３－、ＨＰＯ４ ２－、Ｈ２ＰＯ４ －、ＳＯ３ －、ＯＨ－等を挙げることができる。
　また、四級アンモニウム塩材料として四級アンモニウム塩材料を官能基として分子内に含むアクリル系材料を用いることもできる。四級アンモニウム塩材料を官能基として分子内に含むアクリル系材料としては、四級アンモニウム塩材料（－Ｎ＋　Ｘ－）を官能基として分子内に含む多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
　本発明の偏在層中に含まれる四級アンモニウム塩材料の分子量が１０００以上１０００００以下の範囲内であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量が１０００以上１０００００以下の範囲内とすることにより透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　また、四級アンモニウム塩材料の分子量が１０００を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在する。よって、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着性が低下して耐擦傷性が低下する場合がある。一方、四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量が１０００００を超える場合にハードコート層と帯電防止層が混合してしまい、表面抵抗値が悪くなる。四級アンモニウム塩材料としては、具体的には、ＮＲ－１２１Ｘ－９ＩＰＡ（コルコート社製）等を用いることができる。
　導電性材料として用いられる金属酸化物粒子としては、酸化ジルコニウム、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、スズ含有酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、アルミニウム含有酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン含有酸化亜鉛及びインジウム含有酸化亜鉛から選択される１種又は２種以上の金属酸化物を主成とする導電性を有する金属酸化物粒子を用いることができる。
　導電性材料として用いられる導電性高分子としては、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６－ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ（２，５－チエニレン）及びこれらの誘導体から選ばれる１種または２種以上の混合物を用いることができる。
　偏在層形成用塗液にはレベリング材料としてアミド基を有する化合物が加えられ、偏在層にレベリング層が形成される。アミド基を有する化合物としては、１分子内に１以上のアミド基を有する化合物を用いることができる。具体的には、アセトアミド、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジオクチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－モノブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）メタクリルアミド（メタ）アクリロイルモルホリンなどのアクリル系化合物、Ｎ－ビニルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジアリルホルムアミド、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニル－ε－カプロラクタム、ポリアミドなどが挙げられる。中でも、レベリング材料としてアミド基を有する化合物にあっては、アミド基のほかに１以上の重合性基を持つ化合物を用いることが好ましい。
　レベリング材料として用いられるアクリル基を有する化合物とは、アクリル基を分子内に含むアクリル系レベリング剤である。アクリル基を有する化合物は（化１）に示す構造を有しており、活性度が低くリコート性がよい。このとき、Ｒ１としては、Ｈ、ＣＨ３、ＣｎＨ２ｎ－１（ｎ＝自然数）などを挙げることができる。また、Ｒ２としてはアルキル基、ポリエステル基、ポリエーテル基、塩や反応性基等を導入することができる。
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　レベリング材料として用いられるアクリル基を有する化合物として、具体的にはＢＹＫ0－３５０、ＢＹＫ－３５２，ＢＹＫ－３５４、ＢＹＫ－３５５、ＢＹＫ－３５６、ＢＹＫ－３５８Ｎ、ＢＹＫ－３６１Ｎ、ＢＹＫ－３８０、ＢＹＫ－３９２、ＢＹＫ－３９４等が挙げられる。
　レベリング材料として用いられるブタジエン基を有する化合物としては、ブタジエン基を分子内に含むブタジエン系レベリング剤を好適に用いることができる。ブタジエン基を有する化合物は活性度が低くリコート性がよい。このとき、オレフィン基、ポリエステル基、ポリエーテル基、塩や反応性基等を分子内に導入することができる。
　レベリング材料として用いられるブタジエン基を有する化合物として、具体的にはフローレンＡＣ－１１９０、フローレンＡＣ－１１９０ＨＦ、フローレンＡＣ－２０００、フローレンＡＣ－２０００ＨＦ等が挙げられる。
　レベリング材料として用いられるオレフィン基を有する化合物としては、オレフィン基を分子内に含むオレフィン系レベリング剤を好適に用いることができる。オレフィン基を有する化合物は活性度が低くリコート性がよい。このとき、、ポリエステル基、ポリエーテル基、塩や反応性基等を分子内に導入することができる。
　レベリング材料として用いられるオレフィン基を有する化合物として、具体的にはフローレンＡＣ－２２００ＨＦ等が挙げられる。
　また、偏在層形成用塗液を紫外線により硬化させる場合にあっては、偏在層形成用塗液に光重合開始剤を添加する。
　光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料に対して０．１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下の範囲内であることが好ましく、さらには１ｗｔ％以上８．５ｗｔ％以下であることが好ましい。
　また、偏在層形成用塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。
　以上の材料を調整して得られる偏在層形成用塗液を湿式成膜法により透明基材上に塗布し、塗膜を形成し、偏在層を形成することができる。以下に偏在層の形成方法を示す。
　偏在層形成用塗液は透明基材上に塗布され、塗膜を形成する。偏在層形成用塗液を透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。なお、本発明の偏在層（１２）は薄い塗膜であり、均一な膜厚であることが必要であることから、マイクログラビアコーター法、ダイコーター法を用いることが好ましい。
　次に、透明基材上に形成された偏在層の塗膜は乾燥することにより、塗膜中の溶媒は除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。
　なお、乾燥工程が塗布直後に乾燥温度２０℃以上３０℃以下の範囲内で一次乾燥をおこなうことが好ましい。一次乾燥温度を２０℃以上３０℃以下の範囲内とすることにより、偏在層の塗膜中の導電性材料およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができる。
　なお、乾燥温度が３０℃を超える場合にあっては、偏在層の塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、乾燥温度が２０℃を下回る場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり連続生産に不向きとなってしまう。
　また、乾燥温度５０℃以上１５０℃以下の範囲内で二次乾燥をおこなうことが好ましい。二次乾燥温度を５０℃以上１５０℃以下の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。
　なお、乾燥温度が１５０℃を超える場合にあっては、溶剤の蒸発速度が早すぎるために偏在層の表面が荒れてしまい、ヘイズが発生する恐れがある。一方、乾燥温度が５０℃を下回る場合にあっては、溶剤が偏在層に残留してしまい、ハードコート性を持たない偏在層となってしまう。
　また、前記一次乾燥のみでは乾燥が不十分の場合があり、一次乾燥後、二次乾燥として乾燥温度５０℃以上１５０℃以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥をおこなうことも兼ねている。
　乾燥工程において、一次乾燥及び二次乾燥を前記乾燥温度にておこなうことにより、偏在層（１２）を容易に製造することができる。
　また、偏在層の各層の分離を行うために一次乾燥を行っており、二次乾燥としてでは５０℃以上１５０℃以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥を行うことにより溶剤を除去している。
　また、透明基材上に形成された偏在層形成用塗液からなる塗膜を透明基材上に形成してから前記透明基材上の偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒以上６０秒以下の範囲内であることが好ましく、前記偏在層の塗膜を透明基材上に形成してから、透明基材上の偏在層形成用塗液からなる塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒以上６０秒以下の範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層（１２）を容易に形成することができる。
　また、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒に満たない場合にあっては、偏在層の塗膜の急激な乾燥により帯電防止層およびレベリング層を形成することができなくなってしまうことがある。
　なお、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が６０秒を超える場合にあっては、時間がかかりすぎてしまい現実的でない。枚葉方式で偏在層を形成する場合においても、タクトタイムが長くなり生産性が低下するため好ましくない。
　次に、偏在層形成用塗液を透明基材上に塗布することにより得られる塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、偏在層（１２）が形成される。
　電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０～１０００ＫｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００～３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。
　次に、低屈折率層の形成方法について述べる。
　低屈折率層は、低屈折率層形成材料を含む低屈折率層形成塗液を偏在層表面に塗布し、湿式成膜法により形成される。このとき低屈折率層膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計される。
　低屈折率層形成材料としては、低屈折率粒子およびバインダマトリックス形成材料を用いることができる。なお、バインダマトリックス形成材料が低い屈折率を有する場合には低屈折率形成材料中に低屈折率粒子を含まなくてもよい。低屈折率層（１３）におけるバインダマトリックス形成材料としては電離放射線硬化型材料、熱硬化型材料を用いることができる。
　低屈折率層形成材料用塗液に含ませることのできる低屈折粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４０）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。
　粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子としては、多孔質シリカ粒子やシェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。
　また、低屈折率粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。
　なお、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子の一例としては、球状の形状を保持したまま、硝子の屈折率１．４５に比べて低い屈折率１．３５であり、半径２０ｎｍ以上２５ｎｍ以下、密度（ρ１）の球状の構造が中心部分にあり、周囲を厚み１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下の異なる密度（ρ２）の層が覆っており、（ρ１／ρ２）の値が０．５、０．１、０．０を示し、低屈折率シリカ粒子の中心部分は外部のシリカの１／１０程度の密度となるような構造を有するものを用いることができる。
　また、バインダマトリックス形成材料として用いられる電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
　単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、３－メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチル－２－ヒドロキシプロピルフタレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２－（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２－（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２－（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２－アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２－ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε－カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
　アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
　また、電離放射線硬化型材料の他に熱可塑性樹脂等を加えることもできる。熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等を使用できる熱可塑性樹脂を加えることにより製造されるフィルムのカールを抑制することができる。
　また、低屈折率層形成材料には、反射防止フィルム表面に指紋等の汚れが付着しにくくすること、付着した汚れをふき取りやすくすることを目的として撥水材料をさせることができる。撥水材料としてシリコーン系材料、有機珪素化合物、ＵＶ硬化型撥水剤を用いることができる。シリコーン系材料としては、アルキルアラルキル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイルを用いることもできる。さらには、フッ素を含有せず、（メタ）アクリル基を持たない有機ケイ素化合物を用いることもできる。具体的には、アルキルアルコキシシラン化合物、シランシロキサン化合物、ポリエステル基を含有するシラン化合物、ポリエーテル基を有するシラン化合物、シロキサン化合物を用いることもできる。また、ＵＶ硬化型撥水剤として、ＢＹＫ－３５０やＢＹＫ－３５００（ビックケミー・ジャパン株式会社製）、Ｆ４７０（ＤＩＣ株式会社製）などを用いることができる。
　また、バインダマトリックス形成材料として、熱硬化型材料であるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。具体的には、一般式（Ａ）　ＲｘＳｉ（ＯＲ）４－ｘ　（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
　一般式（Ａ）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ－ｉｓｏ－プロポキシシラン、テトラ－ｎ－プロポキシシラン、テトラ－ｎ－ブトキシシラン、テトラ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、テトラ－ｔｅｒｔ－ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ－ｉｓｏ－プロポキシシラン、テトラペンタ－ｎ－プロキシシラン、テトラペンタ－ｎ－ブトキシシラン、テトラペンタ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、テトラペンタ－ｔｅｒｔ－ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（Ｂ）で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
　バインダマトリックス形成材料として、熱硬化型材料であるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いる場合には、撥水材料としてフッ素化合物である一般式（Ｂ）　Ｒ´ｚＳｉ（ＯＲ）４－ｚ（但し、式中Ｒ´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有させることができる。一般式（Ｂ）で表されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることにより、反射防止フィルムの低屈折率層表面に防汚性を付与することができる。さらに、低屈折率層の屈折率をさらに低下することができる。一般式（Ｃ）で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
　低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ－ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ－ペンチル、およびγ－プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。
　また、バインダマトリックス形成材料として用いられる電離放射線硬化型材料を用い、紫外線により硬化させる場合にあっては、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤を添加する。
　光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料に対して０．１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下の範囲内であることが好ましく、さらには１ｗｔ％以上８．５ｗｔ％以下であることが好ましい。
　また、低屈折率層形成用塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。
　以上の材料を調整して得られる低屈折率層形成用塗液を湿式成膜法により偏在層（１２）上に塗布し、低屈折率層の塗膜を形成し、低屈折率層（１３）を形成することができる。以下に低屈折率層の形成方法を示す。
　低屈折率層形成用塗液は、偏在層（１２）上に塗布され、低屈折率層の塗膜を形成する。低屈折率層形成用塗液を、偏在層上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。なお、本発明の低屈折率層（１３）は薄い塗膜であり、均一な膜厚であることが必要であることから、マイクログラビアコーター法を用いることが好ましい。
　次に、偏在層（１２）上に形成された低屈折率層の塗膜は乾燥することにより、塗膜中の溶媒は除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。なお、乾燥温度としては、５０℃以上１５０℃以下の範囲内の適度な加熱乾燥をおこなうことが好ましい。
　次に、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、低屈折率層形成用塗液を、偏在層上に塗布することにより得られる低屈折率層の塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、低屈折率層（１３）が形成される。
　電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０～１０００ＫｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００～３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。
　本発明の反射防止フィルムはロール・ツー・ロール方式により連続形成される。図２に示したように、巻き取られているウェブ状の透明基材を巻き出し部（３１）から巻き取り部（３２）まで連続走行させ、このとき、透明基材を塗布ユニット（２１）、乾燥ユニット（２２）、電離放射線照射ユニット（２３）を通過させることにより、透明基材上に偏在層が連続形成される。その後、低屈折率層を同様にしてユニットを通過させることにより、偏在層上に低屈折率層が形成され、反射防止フィルムを製造することができる。
　まずは、本実施例で得られる反射防止フィルムについての評価方法について示す。
「視感平均反射率の測定」
　得られる反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ－４０００）を用い測定した低屈折率層形成面についてＣ光源、２度視野の条件下での入射角５°における分光反射率を測定した。得られる分光反射率から平均視感反射率（Ｙ％）を算出した。また、比視感度は明所視標準比視感度を用いた。
「ヘイズ（Ｈ）、平行光線透過率の測定」
　得られる反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業社製、ＮＤＨ－２０００）を使用してヘイズ（Ｈ）、平行光線透過率を測定した。
「表面抵抗値の測定」
　得られる反射防止フィルムの低屈折率層表面についてＪＩＳ－Ｋ６９１１（１９９５）に準拠して高抵抗抵抗率計（ダイアインスツルメンツ社製、ハイレスターＭＣＰ－ＨＴ２６０）にて測定をおこなった。
「接触角の測定」
　得られる反射防止フィルムの偏在層表面及び低屈折率層表面について、接触角計（協和界面科学社製　ＣＡ－Ｘ型）を用いて、乾燥状態（２０℃－６５％ＲＨ）で直径１．８ｍｍの液滴を針先に作り、これらを試料（固体）の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と液体とが接触する点における液体表面に対する接線と固体表面とがなす角であり、液体を含む側の角度で定義した。液体としては、蒸留水を使用した。また、前記純水接触角の測定方法としては、ＪＩＳ－Ｒ３２５７に準拠して測定した。
「鉛筆硬度の測定」
　ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４（１９９９）に準拠し、５００ｇ荷重で各反射防止フィルムの偏在層表面の鉛筆硬度を測定した。
「色ムラ、干渉縞の評価」
　得られる反射防止フィルムについて、低屈折率層表面に蛍光灯を映りこませて、反射光を確認することにより色ムラの確認、干渉ムラの確認をおこなった。
　目視にて確認した評価は、以下の規準でおこなった。
　　丸印　：色ムラ及び干渉縞が良好である。
　　バツ印：色ムラ及び干渉縞が良好でなかった。
「耐擦傷性（スチールウール（ＳＷ）の評価」
　得られる反射防止フィルムの低屈折率層表面について、学振型摩擦堅牢度試験機（テスター産業株式会社製、ＡＢ－３０１）を用いて、光学積層体の低屈折率層表面に５００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけたスチールウール（日本スチールウール社製、ボンスター＃００００）を用い、１０往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。
　目視にて確認した評価は、以下の規準でおこなった。
　　丸印　：傷を確認することが出来ない。
　　バツ印：傷が確認できる。
「鉛筆硬度の測定」
　得られる反射防止フィルムの偏在層表面について、ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４（１９９９）に準拠した鉛筆硬度試験をおこない、鉛筆硬度を求めた。
　以下の判断基準により偏在層における中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の判定をおこなった。
「偏在層における中間層の確認」
　「視感平均反射率の測定」の項で求めた分光反射率から、中間層の有無の確認をおこなった。具体的には、得られる分光反射率曲線において偏在層の膜厚に対応した干渉ピークが確認されない場合を中間層有りと判断し、偏在層の膜厚に対応した干渉ピークが確認される場合を中間層なしと判断した。
　　　丸印　：中間層有り（干渉ピーク無し）
　　　バツ印：中間層無し（干渉ピーク有り）
「偏在層におけるハードコート層の確認」
　「鉛筆硬度の測定」の項で求めた偏在層表面の鉛筆硬度から、偏在層表面の鉛筆硬度がＨ以上の場合をハードコート層有り、Ｈ未満の場合をハードコート層なしと判断した。
　　　丸印　：ハードコート層有り（鉛筆硬度Ｈ以上）
　　　バツ印：ハードコート層無し（鉛筆硬度Ｈ未満）
「偏在層における帯電防止層の確認」
　「表面抵抗値の測定」の項で求めた表面抵抗値から、帯電防止層の有無の確認をおこなった。表面抵抗値が表面抵抗値１×１０１０Ω／ｃｍ２以下の場合を帯電防止層有りと判断し、偏表面抵抗値が表面抵抗値１×１０１０Ω／ｃｍ２より大きい場合を帯電防止層なしと判断した。
　　　丸印　：帯電防止層有り（表面抵抗値１×１０１０Ω／ｃｍ２以下）
　　　バツ印：帯電防止層無し（表面抵抗値１×１０１０Ω／ｃｍ２より大きい）
　なお、偏在層形成用塗液に導電性材料を加えなかった反射防止フィルムについては、「偏在層における帯電防止層の確認」をおこなっていない。
「偏在層におけるレベリング層の確認」
　レベリング層の存在は、偏在層表面の接触角及びＸ線光電子分光分析装置により確認した。偏在層表面の接触角の測定方法は「接触角の測定」で示したとおりである。Ｘ線光電子分光分析装置（ＪＰＳ－９０ＭＸＶ　ｍｉｃｒｏ（日本電子製））を用い、偏在層表面の表面分析をおこなうことにより判断した。接触角が６０°以上であり、かつ、ＸＰＳ測定において導電性材料特有の元素が不検出のものをレベリング層有りと判断し、接触角が６０°未満および／またはＸＰＳによる表面分析において塩素が検出されるものをレベリング層無しと判断した。また、原子量比で０．１ａｔｏｍｉｃ％以下のものは不検出とした。なお、測定の際のＸ線強度は１００Ｗ（１０ｋＶ、１０ｍＡ）とした。
　　　丸印　：レベリング層有り（接触角６５°以上、かつ、導電性材料特有元素不検出）
　　　バツ印：レベリング層無し（上記以外）
　なお、偏在層形成用塗液にレベリング材料を加えなかった反射防止フィルムについては、「偏在層におけるレベリング層の確認」をおこなっていない。
　なお、導電性材料特有の元素は以下のとおりである。
　　　・四級アンモニウム塩材料　　　　　　　　　　：　Ｃｌ
　　　・金属酸化物粒子（アンチモン含有酸化スズ）　：　Ｓｎ
　　　・金属酸化物粒子（リン含有酸化スズ）　　　　：　Ｓｎ
　　　・導電性高分子（ポリチオフェン）　　　　　　：　Ｓ
　　　・導電性高分子（ポリアニリン）　　　　　　　：　Ｎ
　次に、本実施例で作製した反射防止フィルムの作製方法について示す。
（Ａ）レベリング材料：アミド基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩材料
　以下に、レベリング材料としてアミド基を有する化合物、導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ａ１～Ａ１３の（調整例）を示す。
（合成例１）
　攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、
　・オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
　　（商品名：「ブレンマー５０ＰＯＥＰ－８００Ｂ」日本油脂社製）　１８．０ｇ
　・メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド　　３５．０ｇ
　・シクロヘキシルメタクリレート　１４．０ｇ
　・アゾビスイソブチロニトリル　０．３ｇ
　・イソプロピルアルコール　　１００．０ｇ
　・メチルエチルケトン　４０．０ｇ
を仕込み、窒素雰囲気下、６５℃で３時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は１８５００であった。
＜調整例Ａ１＞
（偏在層形成塗液Ａ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）　１０重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ１とした。
＜調整例Ａ２＞
（偏在層形成塗液Ａ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ＮＲ－１２１Ｘ－９ＩＰＡ（コルコート社製／イソプロピロアルコール分散液）
　　　　　（固形分）２０重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ２とした。
＜調整例Ａ３＞
（偏在層形成用塗液Ａ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）　１０重量部
　・Ｎ，Ｎ－ジアリルホルミアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ３とした。
＜調整例Ａ４＞
（偏在層形成塗液Ａ４）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・四級アンモニウム塩を含有するライトエステルＤＱ１００
　　　　　（共栄社化学社製、分子量２０８）　１０重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ４とした。
＜調整例Ａ５＞
（偏在層形成塗液Ａ５）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ｐ－スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー（分子量１２万）
　　　　　１０重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ５とした。
＜調整例Ａ６＞
（偏在層形成塗液Ａ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）　１０重量部
　・ポリアミド（分子量１００００）　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ６とした。
＜調整例Ａ７＞
（偏在層形成塗液Ａ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
　　　　　０．０１重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ７とした。
＜調整例Ａ８＞
（偏在層形成塗液Ａ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
　　　　　１００重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ８とした。
＜調整例Ａ９＞
（偏在層形成塗液Ａ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）　１０重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ９とした。
＜調整例Ａ１０＞
（偏在層形成塗液Ａ１０）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）　１０重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ１０とした。
＜調整例Ａ１１＞
（偏在層形成塗液Ａ１１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）　１０重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ１１とした。
＜調整例Ａ１２＞
（ハードコート層形成塗液Ａ１２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ１２とした。
＜調整例Ａ１３＞
（偏在層形成塗液Ａ１３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ａ１３とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ａの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ａ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２）　２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ａとした。
［実施例Ａ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ａ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ａを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ａ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ａ２］～［実施例Ａ１１］
　［実施例Ａ２］～［実施例Ａ１１］においては、偏在層形成用塗液Ａ１の代わりに偏在層形成塗液Ａ２～Ａ１１を用いて、その他の製造条件は［実施例Ａ１］と同様にして、［実施例Ａ２］～［実施例１１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ａ１２］～［実施例Ａ１４］
　［実施例Ａ１２］においては、偏在層形成塗液Ａ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ａ１］と同様にして、［実施例Ａ１２］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ａ１３］においては、偏在層形成塗液Ａ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ａ１］と同様にして、［実施例Ａ１３］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ａ１４］においては、偏在層形成塗液Ａ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ａ１］と同様にして、［実施例Ａ１４］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ａ１５］、［実施例Ａ１６］
　［実施例Ａ１５］、［実施例Ａ１６］においては、偏在層形成塗液Ａ１の代わりに偏在層形成塗液Ａ１２、Ａ１３を用いて、その他の製造条件は［実施例Ａ１］と同様にして、［実施例Ａ１５］、［実施例Ａ１６］の反射防止フィルムを作製した。
　（表１）に、［実施例Ａ１］～［実施例Ａ１６］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
  
　得られた［実施例Ａ１］～［実施例Ａ１６］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表２）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
  
（Ｂ）レベリング材料：アミド基を有する化合物×導電性材料：金属酸化物粒子
　以下に、レベリング材料としてアミド基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ｂ１～Ｂ１１の（調整例）を示す。
＜調整例Ｂ１＞
（偏在層形成塗液Ｂ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ１とした。
＜調整例Ｂ２＞
（偏在層形成塗液Ｂ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・リン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ２とした。
＜調整例Ｂ３＞
（偏在層形成塗液Ｂ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ，Ｎ－ジアリルホルミアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ３とした。
＜調整例Ｂ４＞
（偏在層形成塗液Ｂ４）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）０．０１重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ４とした。
＜調整例Ｂ５＞
（偏在層形成塗液Ｂ５）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）１００重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ５とした。
＜調整例Ｂ６＞
（偏在層形成塗液Ｂ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ６とした。
＜調整例Ｂ７＞
（偏在層形成塗液Ｂ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ７とした。
＜調整例Ｂ８＞
（偏在層形成塗液Ｂ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し偏在層形成塗液Ｂ８とした。
＜調整例Ｂ９＞
（偏在層形成塗液Ｂ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように偏在層形成塗液Ｂ９とした。
＜調整例Ｂ１０＞
（偏在層形成塗液Ｂ１０）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ１０とした。
＜調整例Ｂ１１＞
（偏在層形成塗液Ｂ１１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ１１とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ｂの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ｂ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２）　２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｂとした。
［実施例Ｂ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｂ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｂを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｂ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｂ２］～［実施例Ｂ９］
　［実施例Ｂ２］～［実施例Ｂ９］においては、偏在層形成用塗液Ｂ１の代わりに偏在層形成塗液Ｂ２～Ｂ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｂ１］と同様にして、［実施例Ｂ２］～［実施例Ｂ９］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｂ１０］～［実施例Ｂ１２］
　［実施例Ｂ１０］においては、偏在層形成塗液Ｂ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｂ１］と同様にして、［実施例Ｂ１０］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｂ１１］においては、偏在層形成塗液Ｂ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｂ１］と同様にして、［実施例Ｂ１１］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｂ１２］においては、偏在層形成塗液Ｂ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｂ１］と同様にして、［実施例Ｂ１２］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｂ１３］、［実施例Ｂ１４］
　［実施例Ｂ１３］、［実施例Ｂ１４］においては、偏在層形成塗液Ｂ１の代わりに偏在層形成塗液Ｂ１０、Ｂ１１を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｂ１］と同様にして、［実施例Ｂ１３］、［実施例Ｂ１４］の反射防止フィルムを作製した。
　（表３）に、［実施例Ｂ１］～［実施例Ｂ１４］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　得られた［実施例Ｂ１］～［実施例Ｂ１４］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表４）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
  
（Ｃ）レベリング材料：アミド基を有する化合物×導電性材料：導電性高分子
　以下に、レベリング材料としてアミド基を有する化合物、導電性材料として導電性高分子を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ｃ１～Ｃ９の（調整例）を示す。
＜調整例Ｃ１＞
（偏在層形成塗液Ｃ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｃ１とした。
＜調整例Ｃ２＞
（偏在層形成塗液Ｃ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径３００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｃ２とした。
＜調整例Ｃ３＞
（偏在層形成塗液Ｃ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ，Ｎ－ジアリルホルミアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し偏在層形成塗液Ｃ３とした。
＜調整例Ｃ４＞
（偏在層形成塗液Ｃ４）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）０．０１重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｃ４とした。
＜調整例Ｃ５＞
（偏在層形成塗液Ｃ５）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、調液し、偏在層形成塗液Ｃ５とした。
＜調整例Ｃ６＞
（偏在層形成塗液Ｃ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド １０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、調液し、偏在層形成塗液Ｃ６とした。
＜調整例Ｃ７＞
（偏在層形成塗液Ｃ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・Ｎ－ビニルホルムアミド １０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｃ７とした。
＜調整例Ｃ９＞
（偏在層形成塗液Ｃ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｃ８とした。
＜調整例Ｃ９＞
（偏在層形成塗液Ｃ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｃ９とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ｃの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ｃ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２） ２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｃとした。
［実施例Ｃ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｃ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｃを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｃ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｃ２］～［実施例Ｃ７］
　［実施例Ｃ２］～［実施例Ｃ７］においては、偏在層形成用塗液Ｃ１の代わりに偏在層形成塗液Ｃ２～Ｃ７を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｃ１］と同様にして、［実施例Ｃ２］～［実施例Ｃ７］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｃ８］～［実施例Ｃ１０］
　［実施例Ｃ８］においては、偏在層形成塗液Ｃ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｃ１］と同様にして、［実施例Ｃ８］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｃ９］においては、偏在層形成塗液Ｃ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｃ１］と同様にして、［実施例Ｃ９］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｃ１０］においては、偏在層形成塗液Ｃ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｃ１］と同様にして、［実施例Ｃ１０］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｃ１１］、［実施例Ｃ１２］
　［実施例Ｃ１１］、［実施例Ｃ１２］においては、偏在層形成塗液Ｃ１の代わりに偏在層形成塗液Ｃ８、Ｃ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｃ１］と同様にして、［実施例Ｃ１１］、［実施例Ｃ１２］の反射防止フィルムを作製した。
　（表５）に、［実施例Ｃ１］～［実施例Ｃ１２］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　得られた［実施例Ｃ１］～［実施例Ｃ１２］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表６）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
（Ｄ）レベリング材料：アクリル基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩材料
　以下に、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ｄ１～Ｄ１２の（調整例）を示す。
（合成例１）
　攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、
　・オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
　　（商品名：「ブレンマー５０ＰＯＥＰ－８００Ｂ」日本油脂社製）　１８．０ｇ
　・メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド ３５．０ｇ
　・シクロヘキシルメタクリレート １４．０ｇ
　・アゾビスイソブチロニトリル ０．３ｇ
　・イソプロピルアルコール １００．０ｇ
　・メチルエチルケトン ４０．０ｇ
を仕込み、窒素雰囲気下、６５℃で３時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は１８５００であった。
＜調整例Ｄ１＞
（偏在層形成塗液Ｄ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ１とした。
＜調整例Ｄ２＞
（偏在層形成塗液Ｄ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ＮＲ－１２１Ｘ－９ＩＰＡ（コルコート社製／イソプロピロアルコール分散液）
 （固形分）２０重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ２とした。
＜調整例Ｄ３＞
（偏在層形成塗液Ｄ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）　
　　　　　１０重量部
　・ＢＹＫ－３９４（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ３とした。
＜調整例Ｄ４＞
（偏在層形成塗液Ｄ４）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・四級アンモニウム塩を含有するライトエステルＤＱ１００
　　　　　（共栄社化学社製、重量平均分子量２０８） １０重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ４とした。
＜調整例Ｄ５＞
（偏在層形成塗液Ｄ５）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ｐ－スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー（分子量１２万）
 １０重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ５とした。
＜調整例Ｄ６＞
（偏在層形成塗液Ｄ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　０．０１重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ６とした。
＜調整例Ｄ７＞
（偏在層形成塗液Ｄ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１００重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ７とした。
＜調整例Ｄ８＞
（偏在層形成塗液Ｄ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ１とした。
＜調整例Ｄ９＞
（偏在層形成塗液Ｄ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ９とした。
＜調整例Ｄ１０＞
（偏在層形成塗液Ｄ１０）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ１０とした。
＜調整例Ｄ１１＞
（偏在層形成塗液Ｄ１１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液１０とした。
＜調整例Ｄ１２＞
（偏在層形成塗液Ｄ１２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート 　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート 　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ１２とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ｄの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ｄ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２） ２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｄとした。
［実施例Ｄ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｄ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｄを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｄ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｄ２］～［実施例Ｄ１０］
　［実施例Ｄ２］～［実施例Ｄ１０］においては、偏在層形成用塗液Ｄ１の代わりに偏在層形成塗液Ｄ２～Ｄ１０を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｄ１］と同様にして、［実施例Ｄ２］～［実施例Ｄ１０］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｄ１１］～［実施例Ｄ１３］
　［実施例Ｄ１１］においては、偏在層形成塗液Ｄ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｄ１］と同様にして、［実施例Ｄ１１］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｄ１２］においては、偏在層形成塗液Ｄ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ａ１］と同様にして、［実施例Ｄ１２］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｄ１３］においては、偏在層形成塗液Ｄ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｄ１］と同様にして、［実施例Ｄ１３］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｄ１４］、［実施例Ｄ１５］
　［実施例Ｄ１４］、［実施例Ｄ１５］においては、偏在層形成塗液Ｄ１の代わりに偏在層形成塗液Ｄ１１、Ｄ１２を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｄ１］と同様にして、［実施例Ｄ１４］、［実施例Ｄ１５］の反射防止フィルムを作製した。
　（表７）に、［実施例Ｄ１］～［実施例Ｄ１５］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
  
　得られた［実施例Ｄ１］～［実施例Ｄ１５］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表８）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
  
（Ｅ）レベリング材料：アクリル基を有する化合物×導電性材料：金属酸化物粒子
　以下に、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ｅ１～Ｅ１１の（調整例）を示す。
＜調整例Ｅ１＞
（偏在層形成塗液Ｅ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ１とした。
＜調整例Ｅ２＞
（偏在層形成塗液Ｅ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・リン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ２とした。
＜調整例Ｅ３＞
（偏在層形成塗液Ｅ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３９４（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ３とした。
＜調整例Ｅ４＞
（偏在層形成塗液Ｅ４）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）０．０１重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ４とした。
＜調整例Ｅ５＞
（偏在層形成塗液Ｅ５）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）１００重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ５とした。
＜調整例Ｅ６＞
（偏在層形成塗液Ｅ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ６とした。
＜調整例Ｅ７＞
（偏在層形成塗液Ｅ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ７とした。
＜調整例Ｅ８＞
（偏在層形成塗液Ｅ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
 （固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液１９とした。
＜調整例Ｅ９＞
（偏在層形成塗液Ｅ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液２０とした。
＜調整例Ｅ１０＞
（偏在層形成塗液Ｅ１０）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ１０とした。
＜調整例Ｅ１１＞
（偏在層形成塗液Ｅ１１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート 　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ１１とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ｅの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ｅ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２） ２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｅとした。
［実施例Ｅ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｅ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｅを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｅ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｅ２］～［実施例Ｅ９］
　［実施例Ｅ２］～［実施例Ｅ９］においては、偏在層形成用塗液Ｅ１の代わりに偏在層形成塗液Ｅ２～Ｅ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｅ１］と同様にして、［実施例Ｅ２］～［実施例Ｅ９］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｅ１０］～［実施例Ｅ１２］
　［実施例Ｅ１０］においては、偏在層形成塗液Ｅ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｅ１］と同様にして、［実施例Ｅ１０］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｅ１１］においては、偏在層形成塗液Ｅ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｅ１］と同様にして、［実施例Ｅ１１］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｅ１２］においては、偏在層形成塗液Ｅ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｅ１］と同様にして、［実施例Ｅ１２］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｅ１３］、［実施例Ｅ１４］
　［実施例Ｅ１３］、［実施例Ｅ１４］においては、偏在層形成塗液Ｅ１の代わりに偏在層形成塗液Ｅ１０、Ｅ１１を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｅ１］と同様にして、［実施例Ｅ１３］、［実施例Ｅ１４］の反射防止フィルムを作製した。
　（表９）に、［実施例Ｅ１］～［実施例Ｅ１４］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
　得られた［実施例Ｅ１］～［実施例Ｅ１４］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表１０）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
（Ｆ）レベリング材料：アクリル基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩
　以下に、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、導電性材料として導電性高分子を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ｆ１～Ｆ１０の（調整例）を示す。
＜調整例Ｆ１＞
（偏在層形成塗液Ｆ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ１とした。
＜調整例Ｆ２＞
（偏在層形成塗液Ｆ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリアニリン（平均粒子径７５ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ２とした。
＜調整例Ｆ３＞
（偏在層形成塗液Ｆ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径３００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ３とした。
＜調整例Ｆ４＞
（偏在層形成塗液Ｆ４）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３９４（ビックケミー・ジャパン社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ４とした。
＜調整例Ｆ５＞
（偏在層形成塗液Ｆ５）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）０．０１重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ５とした。
＜調整例Ｆ６＞
（偏在層形成塗液Ｆ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ６とした。
＜調整例Ｆ７＞
（偏在層形成塗液Ｆ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ７とした。
＜調整例Ｆ８＞
（偏在層形成塗液Ｆ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ＢＹＫ－３５０（ビックケミー・ジャパン社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ８とした。
＜調整例Ｆ９＞
（ハードコート層形成塗液Ｆ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ９とした。
＜調整例Ｆ１０＞
（偏在層形成塗液Ｆ１０）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ１０とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ｆの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ｆ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２）　２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｆとした。
［実施例Ｆ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｆ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｆを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｆ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｆ２］～［実施例Ｆ８］
　［実施例Ｆ２］～［実施例Ｆ８］においては、偏在層形成用塗液Ｆ１の代わりに偏在層形成塗液Ｆ２～Ｆ８を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｆ１］と同様にして、［実施例Ｆ２］～［実施例Ｆ８］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｆ９］～［実施例Ｆ１１］
　［実施例Ｆ９］においては、偏在層形成塗液Ｆ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｆ１］と同様にして、［実施例Ｆ９］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｆ１０］においては、偏在層形成塗液Ｆ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｆ１］と同様にして、［実施例Ｆ１０］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｆ１１］においては、偏在層形成塗液Ｆ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｆ１］と同様にして、［実施例Ｆ１１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｆ１２］、［実施例Ｆ１３］
　［実施例Ｆ１２］、［実施例Ｆ１３］においては、偏在層形成塗液Ｆ１の代わりに偏在層形成塗液Ｆ９、Ｆ１０を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｆ１］と同様にして、［実施例Ｆ１２］、［実施例Ｆ１３］の反射防止フィルムを作製した。
　（表１１）に、［実施例Ｆ１］～［実施例Ｆ１３］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
　得られた［実施例Ｆ１］～［実施例Ｆ１３］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表１２）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
（Ｇ）レベリング材料：ブタジエン基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩材料
　以下に、レベリング材料としてブタジエン基を有する化合物、導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ｇ１～Ｇ１１の（調整例）を示す。
（合成例１）
　攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、
　・オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
　　（商品名：「ブレンマー５０ＰＯＥＰ－８００Ｂ」日本油脂社製）　１８．０ｇ
　・メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド　３５．０ｇ
　・シクロヘキシルメタクリレート　１４．０ｇ
　・アゾビスイソブチロニトリル　０．３ｇ
　・イソプロピルアルコール　１００．０ｇ
　・メチルエチルケトン　４０．０ｇ
を仕込み、窒素雰囲気下、６５℃で３時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は１８５００であった。
＜調整例Ｇ１＞
（偏在層形成塗液Ｇ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ１とした。
＜調整例Ｇ２＞
（偏在層形成塗液Ｇ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ＮＲ－１２１Ｘ－９ＩＰＡ（コルコート社製／イソプロピロアルコール分散液）
　　　　　（固形分）２０重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ２とした。
＜調整例Ｇ３＞
（偏在層形成塗液Ｃ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・四級アンモニウム塩を含有するライトエステルＤＱ１００
　　　　　（共栄社化学社製、分子量２０８）　１０重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｃ３とした。
＜調整例Ｇ４＞
（偏在層形成塗液Ｇ４）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ｐ－スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー（分子量１２万）
　　　　　１０重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ４とした。
＜調整例Ｇ５＞
（偏在層形成塗液Ｇ５）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　０．０１重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ５とした。
＜調整例Ｇ６＞
（偏在層形成塗液Ｇ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１００重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ６とした。
＜調整例Ｇ７＞
（偏在層形成塗液Ｇ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ７とした。
＜調整例Ｇ８＞
（偏在層形成塗液Ｇ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）　
　　　　　１０重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ８とした。
＜調整例Ｇ９＞
（偏在層形成塗液Ｇ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）　
　　　　　１０重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ９とした。
＜調整例Ｇ１０＞
（偏在層形成塗液Ｇ１０）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ１０とした。
＜調整例Ｇ１１＞
（偏在層形成塗液Ｇ１１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ１１とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ｇの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ｇ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２）　２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｇとした。
［実施例Ｇ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｇ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｇを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｇ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｇ２］～［実施例Ｇ９］
　［実施例Ｇ２］～［実施例Ｇ９］においては、偏在層形成用塗液Ｇ１の代わりに偏在層形成塗液Ｇ２～Ｇ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｇ１］と同様にして、［実施例Ｇ２］～［実施例Ｇ９］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｇ１０］～［実施例Ｇ１２］
　［実施例Ｇ１０］においては、偏在層形成塗液Ｇ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｇ１］と同様にして、［実施例Ｇ１０］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｇ１１］においては、偏在層形成塗液Ｇ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｇ１］と同様にして、［実施例Ｇ１１］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｇ１２］においては、偏在層形成塗液Ｇ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｇ１］と同様にして、［実施例Ｇ１２］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｇ１３］、［実施例Ｇ１４］
　［実施例Ｇ１３］、［実施例Ｇ１４］においては、偏在層形成塗液Ｇ１の代わりに偏在層形成塗液Ｇ１０、Ｇ１１を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｇ１］と同様にして、［実施例Ｇ１３］、［実施例Ｇ１４］の反射防止フィルムを作製した。
　（表１３）に、［実施例Ｇ１］～［実施例Ｇ１４］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
　得られた［実施例Ｇ１］～［実施例Ｇ１４］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表１４）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
（Ｈ）レベリング材料：ブタジエン基を有する化合物×導電性材料：金属酸化物粒子
　以下に、レベリング材料としてブタジエン基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ｈ１～Ｈ１０の（調整例）を示す。
＜調整例Ｈ１＞
（偏在層形成塗液Ｈ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ１とした。
＜調整例Ｈ２＞
（偏在層形成塗液Ｈ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・リン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ２とした。
＜調整例Ｈ３＞
（偏在層形成塗液Ｈ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）０．０１重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ３とした。
＜調整例Ｈ４＞
（偏在層形成塗液Ｈ４）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）１００重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ４とした。
＜調整例Ｈ５＞
（偏在層形成塗液Ｈ５）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ５とした。
＜調整例Ｈ６＞
（偏在層形成塗液Ｈ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ６とした。
＜調整例Ｈ７＞
（偏在層形成塗液Ｈ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ７とした。
＜調整例Ｈ８＞
（偏在層形成塗液Ｈ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ８とした。
＜調整例Ｈ９＞
（偏在層形成塗液Ｈ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ９とした。
＜調整例Ｈ１０＞
（偏在層形成塗液Ｈ１０）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ１１とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ｈの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ｈ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２）　２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｈとした。
［実施例Ｈ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｈ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｈを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｈ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｈ２］～［実施例Ｈ８］
　［実施例Ｈ２］～［実施例Ｈ８］においては、偏在層形成用塗液Ｈ１の代わりに偏在層形成塗液Ｈ２～Ｈ８を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｈ１］と同様にして、［実施例Ｈ２］～［実施例Ｈ８］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｈ９］～［実施例Ｈ１１］
　［実施例Ｈ９］においては、偏在層形成塗液Ｈ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｈ１］と同様にして、［実施例Ｈ９］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｈ１０］においては、偏在層形成塗液Ｈ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｈ１］と同様にして、［実施例Ｈ１０］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｈ１１］においては、偏在層形成塗液Ｈ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｈ１］と同様にして、［実施例Ｈ１１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｈ１２］、［実施例Ｈ１３］
　［実施例Ｈ１２］、［実施例Ｈ１３］においては、偏在層形成塗液Ｈ１の代わりに偏在層形成塗液Ｈ９、Ｈ１０を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｈ１］と同様にして、［実施例Ｈ１２］、［実施例Ｈ１３］の反射防止フィルムを作製した。
　（表１５）に、［実施例Ｈ１］～［実施例Ｈ１３］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
　得られた［実施例Ｈ１］～［実施例Ｈ１３］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表１６）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
（Ｉ）レベリング材料：ブタジエン基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩
　以下に、レベリング材料としてブタジエン基を有する化合物、導電性材料として導電性高分子を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ｉ１～Ｉ９の（調整例）を示す。
＜調整例Ｉ１＞
（偏在層形成塗液Ｉ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ１とした。
＜調整例Ｉ２＞
（偏在層形成塗液Ｉ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリアニリン（平均粒子径７５ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ２とした。
＜調整例Ｉ３＞
（偏在層形成塗液Ｉ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１５００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ３とした。
＜調整例Ｉ４＞
（偏在層形成塗液Ｉ４）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　０．０１重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ５とした。
＜調整例Ｉ５＞
（偏在層形成塗液Ｉ５）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ５とした。
＜調整例Ｉ６＞
（偏在層形成塗液Ｉ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ６とした。
＜調整例Ｉ７＞
（偏在層形成塗液Ｉ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ７とした。
＜調整例Ｉ８＞
（偏在層形成塗液Ｉ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ８とした。
＜調整例Ｉ９＞
（偏在層形成塗液Ｉ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ９とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ｉの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ｉ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２）　２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｉとした。
［実施例Ｉ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｉ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｉを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｉ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｉ２］～［実施例Ｉ７］
　［実施例Ｉ２］～［実施例Ｉ７］においては、偏在層形成用塗液Ｉ１の代わりに偏在層形成塗液Ｉ２～Ｉ７を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｉ１］と同様にして、［実施例Ｉ２］～［実施例Ｉ７］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｉ８］～［実施例Ｉ１０］
　［実施例Ｉ８］においては、偏在層形成塗液Ｉ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｉ１］と同様にして、［実施例Ｉ８］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｉ９］においては、偏在層形成塗液Ｉ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｉ１］と同様にして、［実施例Ｉ９］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｉ１０］においては、偏在層形成塗液Ｉ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｉ１］と同様にして、［実施例Ｉ１０］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｉ１１］、［実施例Ｉ１２］
　［実施例Ｉ１１］、［実施例Ｉ１２］においては、偏在層形成塗液Ｉ１の代わりに偏在層形成塗液Ｉ８、Ｉ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｉ１］と同様にして、［実施例Ｉ１１］、［実施例Ｉ１２］の反射防止フィルムを作製した。
　（表１７）に、［実施例Ｉ１］～［実施例Ｉ１２］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
  
　得られた［実施例Ｉ１］～［実施例Ｉ１２］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表１８）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
（Ｊ）レベリング材料：オレフィン基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩材料
　以下に、レベリング材料としてオレフィン基を有する化合物、導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ｊ１～Ｊ１１の（調整例）を示す。
（合成例１）
　攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、
　・オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
　　（商品名：「ブレンマー５０ＰＯＥＰ－８００Ｂ」日本油脂社製）　１８．０Ｉ
　・メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド　３５．０Ｉ
　・シクロヘキシルメタクリレート　１４．０Ｉ
　・アゾビスイソブチロニトリル　０．３Ｉ
　・イソプロピルアルコール　１００．０Ｉ
　・メチルエチルケトン　４０．０Ｉ
を仕込み、窒素雰囲気下、６５℃で３時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は１８５００であった。
＜調整例Ｊ１＞
（偏在層形成塗液Ｊ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ１とした。
＜調整例Ｊ２＞
（偏在層形成塗液Ｊ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ＮＲ－１２１Ｘ－９ＩＰＡ（コルコート社製／イソプロピロアルコール分散液）
　　　　　（固形分）２０重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ２とした。
＜調整例Ｊ３＞
（偏在層形成塗液Ｊ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・四級アンモニウム塩を含有するライトエステルＤＱ１００
　　　　　（共栄社化学社製、分子量２０８）　１０重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ３とした。
＜調整例Ｊ４＞
（偏在層形成塗液Ｊ４）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ｐ－スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー（分子量１２万）
　　　　　１０重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ４とした。
＜調整例Ｊ５＞
（偏在層形成塗液Ｊ５）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　０．０１重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ５とした。
＜調整例Ｊ６＞
（偏在層形成塗液Ｊ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１００重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ６とした。
＜調整例Ｊ７＞
（偏在層形成塗液Ｊ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ７とした。
＜調整例Ｊ８＞
（偏在層形成塗液Ｊ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ８とした。
＜調整例Ｊ９＞
（偏在層形成塗液Ｊ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ９とした。
＜調整例Ｊ１０＞
（偏在層形成塗液Ｊ１０）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
　　　　　１０重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ１０とした。
＜調整例Ｊ１１＞
（偏在層形成塗液Ｊ１１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ１０とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ｊの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ｊ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２）　２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｊとした。
［実施例Ｊ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｊ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｊを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｊ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｊ２］～［実施例Ｊ９］
　［実施例Ｊ２］～［実施例Ｊ９］においては、偏在層形成用塗液Ｊ１の代わりに偏在層形成塗液Ｊ２～Ｊ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｊ１］と同様にして、［実施例Ｊ２］～［実施例Ｊ９］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｊ１０］～［実施例Ｊ１２］
　［実施例Ｊ１０］においては、偏在層形成塗液Ｊ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｊ１］と同様にして、［実施例Ｊ１０］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｊ１１］においては、偏在層形成塗液Ｊ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｊ１］と同様にして、［実施例Ｊ１１］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｊ１２］においては、偏在層形成塗液Ｊ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｊ１］と同様にして、［実施例Ｊ１２］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｊ１３］、［実施例Ｊ１４］
　［実施例Ｊ１３］、［実施例Ｊ１４］においては、偏在層形成塗液Ｊ１の代わりに偏在層形成塗液Ｊ１０、Ｊ１１を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｊ１］と同様にして、［実施例Ｊ１３］、［実施例Ｊ１４］の反射防止フィルムを作製した。
　（表１９）に、［実施例Ｊ１］～［実施例Ｊ１４］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
　得られた［実施例Ｊ１］～［実施例Ｊ１４］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表２０）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
（Ｋ）レベリング材料：オレフィン基を有する化合物×導電性材料：金属酸化物粒子
　以下に、レベリング材料としてオレフィン基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ｋ１～Ｋ１０の（調整例）を示す。
＜調整例Ｋ１＞
（偏在層形成塗液Ｋ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ１とした。
＜調整例Ｋ２＞
（偏在層形成塗液Ｋ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・リン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ２とした。
＜調整例Ｋ３＞
（偏在層形成塗液Ｋ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）０．０１重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ３とした。
＜調整例Ｋ４＞
（偏在層形成塗液Ｋ４）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）１００重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ４とした。
＜調整例Ｋ５＞
（偏在層形成塗液Ｋ５）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ５とした。
＜調整例Ｋ６＞
（偏在層形成塗液Ｋ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ６とした。
＜調整例Ｋ７＞
（偏在層形成塗液Ｋ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ７とした。
＜調整例Ｋ８＞
（偏在層形成塗液Ｋ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ８とした。
＜調整例Ｋ９＞
（偏在層形成塗液Ｋ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ９とした。
＜調整例Ｋ１０＞
（偏在層形成塗液Ｋ１０）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ１０とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ｋの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ｋ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２）　２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｋとした。
［実施例Ｋ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｋ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｋを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｋバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｋ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｋ２］～［実施例Ｋ８］
　［実施例Ｋ２］～［実施例Ｋ８］においては、偏在層形成用塗液Ｋ１の代わりに偏在層形成塗液Ｋ２～Ｋ８を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｋ１］と同様にして、［実施例Ｋ２］～［実施例Ｋ８］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｋ９］～［実施例Ｋ１１］
　［実施例Ｋ９］においては、偏在層形成塗液Ｋ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｋ１］と同様にして、［実施例Ｋ９］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｋ１０］においては、偏在層形成塗液Ｋ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｋ１］と同様にして、［実施例Ｋ１０］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｋ１１］においては、偏在層形成塗液Ｋ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｋ１］と同様にして、［実施例Ｋ１１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｋ１２］、［実施例Ｋ１３］
　［実施例Ｋ１２］、［実施例Ｋ１３］においては、偏在層形成塗液Ｋ１の代わりに偏在層形成塗液Ｋ９、Ｋ１０を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｋ１］と同様にして、［実施例Ｋ１２］、［実施例Ｋ１３］の反射防止フィルムを作製した。
　（表２１）に、［実施例Ｋ１］～［実施例Ｋ１３］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
　得られた［実施例Ｋ１］～［実施例Ｋ１３］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表２２）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
（Ｌ）レベリング材料：オレフィン基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩
　以下に、レベリング材料としてオレフィン基を有する化合物、導電性材料として導電性高分子を用いた場合の実施例について示す。
　以下に偏在層形成塗液Ｌ１～Ｌ９の（調整例）を示す。
＜調整例Ｌ１＞
（偏在層形成塗液Ｌ１）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液１８とした。
＜調整例Ｌ２＞
（偏在層形成塗液Ｌ２）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリアニリン（平均粒子径７５ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ２とした。
＜調整例Ｌ３＞
（偏在層形成塗液Ｌ３）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径３００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ３とした。
＜調整例Ｌ４＞
（偏在層形成塗液Ｌ４）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）０．０１重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ４とした。
＜調整例Ｌ５＞
（偏在層形成塗液Ｌ５）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ５とした。
＜調整例Ｌ６＞
（偏在層形成塗液Ｌ６）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ６とした。
＜調整例Ｌ７＞
（偏在層形成塗液Ｌ７）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製）　０．１重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ７とした。
＜調整例Ｌ８＞
（偏在層形成塗液Ｌ８）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
　　　　　（固形分）５重量部
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ８とした。
＜調整例Ｌ９＞
（偏在層形成塗液Ｌ９）
　ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｔ）　１００重量部　に対して、
　・ジペンタエリスリトールトリアクリレート　５０重量部
　・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　５０重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　１０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ９とした。
　以下に低屈折率層形成塗液Ｌの（調整例）を示す。
（低屈折率層形成塗液Ｌ）
　・多孔質シリカ微粒子の分散液
　（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
　　　　　（固形分）　２．５重量部
　・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　　　　（日本化薬社製ＤＰＥＡ－１２）　２．５重量部
　・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）　０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｌとした。
［実施例Ｌ１］
（偏在層の形成）
　トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｌ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。
（低屈折率層の形成）
　形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｌを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｌ１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｌ２］～［実施例Ｌ７］
　［実施例Ｌ２］～［実施例Ｌ７］においては、偏在層形成用塗液Ｌ１の代わりに偏在層形成塗液Ｌ２～Ｌ７を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｌ１］と同様にして、［実施例Ｌ２］～［実施例Ｌ７］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｌ８］～［実施例Ｌ１０］
　［実施例Ｌ８］においては、偏在層形成塗液Ｌ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｌ１］と同様にして、［実施例Ｌ８］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｌ９］においては、偏在層形成塗液Ｌ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｌ１］と同様にして、［実施例Ｌ９］の反射防止フィルムを作製した。
　［実施例Ｌ１０］においては、偏在層形成塗液Ｌ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｌ１］と同様にして、［実施例Ｌ１０］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｌ１１］、［実施例Ｌ１２］
　［実施例Ｌ１１］、［実施例Ｌ１２］においては、偏在層形成塗液Ｌ１の代わりに偏在層形成塗液Ｌ８、Ｌ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｌ１］と同様にして、［実施例Ｌ１１］、［実施例Ｌ１２］の反射防止フィルムを作製した。
　（表２３）に、［実施例Ｌ１］～［実施例Ｌ１２］における製造条件をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
　得られた［実施例Ｌ１］～［実施例Ｌ１２］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表２４）に評価結果等をまとめたものを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
　実施例の結果、偏在層を、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層から構成される反射防止フィルムとすることで、低い製造コストと優れた光学特性、高い耐擦傷性、帯電防止性能を備える反射防止フィルムを提供することができた。
　　１　　　　反射防止フィルム
　　１１　　　透明基材
　　１２　　　偏在層
　　１２ａ　　中間層
　　１２ｂ　　ハードコート層
　　１２ｃ　　帯電防止層
　　１２ｄ　　レベリング層
　　１３　　　低屈折率層
　　２１　　　塗布ユニット
　　２２　　　乾燥ユニット
　　２２ａ　　一次乾燥ユニット
　　２２ｂ　　二次乾燥ユニット
　　２３　　　電離放射線照射ユニット
　　３１　　　巻き出し部
　　３２　　　巻き取り部

Claims (19)

  1. 　透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムであって、
    　前記偏在層は、少なくとも透明基材側から中間層、ハードコート層、導電性材料を含む帯電防止層、レベリング材料を含むレベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする反射防止フィルム。
  2. 　前記反射防止フィルムの平行光線透過率が９３％以上であり、かつ、
    　前記反射防止フィルムのヘイズが１．０％以下の範囲内であり、かつ、
    　前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２以上１×１０１２Ω／ｃｍ２以下の範囲内であり、かつ、
    　前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における純水接触角が８０°以上１３０°以下の範囲内である
    　ことを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
  3. 　前記レベリング層に含まれるレベリング材料が、アミド基を有する化合物、アクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物から選択される
    　ことを特徴とする請求項１または請求項２記載の反射防止フィルム。
  4. 　前記導電層に含まれる導電性材料が、四級アンモニウム塩材料、金属酸化物粒子、導電性高分子から選択される
    　ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  5. 　前記導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、
    　前記アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  6. 　前記導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、
    　前記アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  7. 　前記導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、
    　前記アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  8. 　前記導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、
    　前記アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  9. 　前記導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、
    　前記アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  10. 　前記導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、
    　前記アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  11. 　前記導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、
    　前記ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  12. 　前記導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、
    　前記ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  13. 　前記導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、
    　前記ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  14. 　前記導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、
    　前記オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  15. 　前記導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、
    　前記オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  16. 　前記導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、
    　前記レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含み、かつ、
    　前記導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、
    　前記オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００以下である
    　ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  17. 　透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムの製造方法であって、
    　前記透明基材の少なくとも一方の面に、電離放射線硬化型材料と導電性材料とレベリング材料と溶剤を含む偏在層形成塗液を塗布し、偏在層の塗膜を形成する塗布工程と、
    　前記偏在層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥を施す乾燥工程と、
    　前記偏在層の塗膜に電離放射線を照射し、偏在層を形成する硬膜工程と、
    　低屈折率層形成材料と溶剤を含む低屈折率層形成塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する塗布工程と、
    　前記低屈折率層の塗膜を乾燥する乾燥工程と、
    　前記低屈折率層を形成する硬膜工程を順に備え、かつ、
    　前記偏在層が、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
  18. 　前記偏在層形成塗液に含まれる全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の溶媒が透明基材を溶解または膨潤させる溶媒であり、かつ、
    　前記偏在層形成塗液中に溶媒が２５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の範囲内の割合で含まれる
    　ことを特徴とする請求項１７に記載の反射防止フィルムの製造方法。
  19. 　前記偏在層の塗膜を乾燥する乾燥工程が、
    　乾燥温度１５℃以上３０℃以下の範囲内でおこなわれる一次乾燥と、乾燥温度４０℃以上１５０℃以下の範囲内でおこなわれる二次乾燥の二段階の連続する乾燥を含む
    　ことを特徴とする請求項１７または請求項１８に記載の反射防止フィルムの製造方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011136503A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Fujifilm Corp 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2012247667A (ja) * 2011-05-30 2012-12-13 Jsr Corp 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物
JP2015014750A (ja) * 2013-07-08 2015-01-22 凸版印刷株式会社 帯電防止機能付きハードコート
JP2016136280A (ja) * 2016-04-12 2016-07-28 Jsr株式会社 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物
JP2019073618A (ja) * 2017-10-16 2019-05-16 Dic株式会社 積層体

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101799607B1 (ko) * 2009-11-12 2017-11-20 도판 인사츠 가부시키가이샤 반사 방지 필름 및 그의 제조 방법
WO2011089787A1 (ja) * 2010-01-22 2011-07-28 凸版印刷株式会社 反射防止フィルムおよびその製造方法
JP2015047526A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 大日本印刷株式会社 積層フィルムの製造方法
JP6284762B2 (ja) * 2013-12-18 2018-02-28 富士フイルム株式会社 熱線遮蔽材および窓ガラス
CN103715231B (zh) 2013-12-31 2016-11-23 京东方科技集团股份有限公司 有机发光显示面板、显示装置
EP3203274B1 (en) * 2016-02-04 2023-04-05 Essilor International Ophthalmic lens comprising a thin antireflective coating with a very low reflection in the visible
JP6603595B2 (ja) * 2016-02-12 2019-11-06 株式会社トッパンＴｏｍｏｅｇａｗａオプティカルフィルム 透明導電性フィルム及びタッチパネル、並びに、透明導電性フィルムの製造方法
JP6418474B2 (ja) * 2016-06-27 2018-11-07 Dic株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物及びそれを用いたフィルム
JP6288538B1 (ja) * 2016-06-27 2018-03-07 Dic株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物及びそれを用いたフィルム
KR102280262B1 (ko) 2018-05-18 2021-07-21 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
CN109785763B (zh) * 2019-03-29 2022-02-08 上海天马微电子有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001059902A (ja) * 1999-08-23 2001-03-06 Toppan Printing Co Ltd 反射防止積層体およびその製造方法
JP2001316604A (ja) * 2000-04-28 2001-11-16 Toppan Printing Co Ltd 低反射ハードコート樹脂組成物
WO2006109419A1 (ja) * 2005-03-30 2006-10-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 光学積層体
JP2008033348A (ja) * 2007-09-11 2008-02-14 Toppan Printing Co Ltd 反射防止積層体の製造方法
JP2008241882A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Aica Kogyo Co Ltd コート剤及び反射防止フィルム
JP2008239724A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Toppan Printing Co Ltd ハードコートフィルム
JP2008299007A (ja) * 2007-05-30 2008-12-11 Nippon Paper Chemicals Co Ltd 防眩ハードコートフィルム、及びそれを用いた偏光板並びに表示装置
JP2009075248A (ja) * 2007-09-19 2009-04-09 Lintec Corp 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法
JP2009211061A (ja) * 2008-02-04 2009-09-17 Nippon Zeon Co Ltd 反射防止フィルム
JP2009262149A (ja) * 2008-03-31 2009-11-12 Dainippon Printing Co Ltd 多層塗工膜の製造方法及び光学用部材

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06136355A (ja) * 1992-10-27 1994-05-17 Kao Corp 帯電防止材料
JPH1134222A (ja) * 1997-07-14 1999-02-09 Kansai Paint Co Ltd サンドイッチ構造パネル及びその製造方法
JP3873397B2 (ja) 1997-09-19 2007-01-24 日本油脂株式会社 画像表示装置用帯電防止性反射防止フィルム
JP2001106897A (ja) * 1999-10-07 2001-04-17 Sumitomo Rubber Ind Ltd 二液常温硬化型ポリウレタン樹脂組成物
JP2001286817A (ja) * 2000-04-05 2001-10-16 Konica Corp 塗膜の乾燥方法
JP2002182005A (ja) * 2000-12-15 2002-06-26 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フイルム
JP4882183B2 (ja) * 2001-08-21 2012-02-22 大日本印刷株式会社 防眩性フィルム
JP3980423B2 (ja) * 2002-07-01 2007-09-26 日東電工株式会社 ハードコートフィルム、その製造方法、光学素子および画像表示装置
JP4418144B2 (ja) * 2002-09-30 2010-02-17 株式会社きもと 導電性反射防止フィルム
JP4001336B2 (ja) * 2002-11-07 2007-10-31 日東電工株式会社 被膜シートの製造方法
JP4475016B2 (ja) * 2003-06-30 2010-06-09 東レ株式会社 ハードコートフィルム、反射防止フィルムおよび画像表示装置
JP2005144849A (ja) 2003-11-14 2005-06-09 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明導電膜及び反射防止性透明導電膜
JP4742579B2 (ja) 2003-12-18 2011-08-10 凸版印刷株式会社 反射防止積層体
JP5055695B2 (ja) 2003-12-18 2012-10-24 凸版印刷株式会社 反射防止積層体
JP4544952B2 (ja) * 2004-03-31 2010-09-15 大日本印刷株式会社 反射防止積層体
JP4920179B2 (ja) * 2004-07-23 2012-04-18 凸版印刷株式会社 帯電防止性を有する積層体
JP2006159415A (ja) 2004-12-02 2006-06-22 Toppan Printing Co Ltd ハードコートフィルムおよびその製造方法
WO2006090879A1 (en) * 2005-02-22 2006-08-31 Fujifilm Corporation Film, manufacturing method thereof, polarization plate using the film, and liquid crystal, and display device using the polarizing plate
JP5006528B2 (ja) * 2005-07-13 2012-08-22 旭化成株式会社 帯電防止ハードコート用塗布組成物
CN100552475C (zh) * 2005-08-03 2009-10-21 富士胶片株式会社 防反射膜、偏光板和图像显示装置
JP2007121993A (ja) 2005-09-29 2007-05-17 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止積層体及びその製造方法
JPWO2007037276A1 (ja) * 2005-09-29 2009-04-09 大日本印刷株式会社 反射防止膜
US20070212498A1 (en) * 2006-02-24 2007-09-13 Fujifilm Corporation Optical film, antireflection film, polarizing plate, display apparatus and method for manufacturing optical film
JP4670745B2 (ja) * 2006-06-12 2011-04-13 日本化成株式会社 帯電防止組成物、帯電防止層および帯電防止フィルム
JP2008012834A (ja) * 2006-07-07 2008-01-24 Toray Ind Inc 光学フィルム
JP2008038092A (ja) * 2006-08-09 2008-02-21 Nippon Kasei Chem Co Ltd 帯電防止性樹脂組成物、帯電防止層、及び積層材
JP5151113B2 (ja) * 2006-11-02 2013-02-27 Ｊｓｒ株式会社 硬化性組成物、硬化膜及び帯電防止用積層体
JP4997147B2 (ja) * 2007-03-08 2012-08-08 富士フイルム株式会社 反射防止積層体、偏光板及び画像表示装置
US8715784B2 (en) * 2007-03-09 2014-05-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method of producing optical layered body, optical layered body, polarizer and image display device
JP5217744B2 (ja) * 2007-08-02 2013-06-19 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法
US20090075074A1 (en) * 2007-09-12 2009-03-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical layered body, method of producing the same, polarizer, and image display device
JP2009128820A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Hoya Corp 多層反射防止膜を有するプラスチックレンズおよびその製造方法
JP5114438B2 (ja) * 2008-02-13 2013-01-09 富士フイルム株式会社 光学フィルム、その製造方法、偏光板および画像表示装置
KR101799607B1 (ko) * 2009-11-12 2017-11-20 도판 인사츠 가부시키가이샤 반사 방지 필름 및 그의 제조 방법

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001059902A (ja) * 1999-08-23 2001-03-06 Toppan Printing Co Ltd 反射防止積層体およびその製造方法
JP2001316604A (ja) * 2000-04-28 2001-11-16 Toppan Printing Co Ltd 低反射ハードコート樹脂組成物
WO2006109419A1 (ja) * 2005-03-30 2006-10-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 光学積層体
JP2008241882A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Aica Kogyo Co Ltd コート剤及び反射防止フィルム
JP2008239724A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Toppan Printing Co Ltd ハードコートフィルム
JP2008299007A (ja) * 2007-05-30 2008-12-11 Nippon Paper Chemicals Co Ltd 防眩ハードコートフィルム、及びそれを用いた偏光板並びに表示装置
JP2008033348A (ja) * 2007-09-11 2008-02-14 Toppan Printing Co Ltd 反射防止積層体の製造方法
JP2009075248A (ja) * 2007-09-19 2009-04-09 Lintec Corp 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法
JP2009211061A (ja) * 2008-02-04 2009-09-17 Nippon Zeon Co Ltd 反射防止フィルム
JP2009262149A (ja) * 2008-03-31 2009-11-12 Dainippon Printing Co Ltd 多層塗工膜の製造方法及び光学用部材

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011136503A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Fujifilm Corp 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2012247667A (ja) * 2011-05-30 2012-12-13 Jsr Corp 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物
JP2015014750A (ja) * 2013-07-08 2015-01-22 凸版印刷株式会社 帯電防止機能付きハードコート
JP2016136280A (ja) * 2016-04-12 2016-07-28 Jsr株式会社 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物
JP2019073618A (ja) * 2017-10-16 2019-05-16 Dic株式会社 積層体

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