JP2006159415A - ハードコートフィルムおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材(1)上に、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能性モノマーを主成分とする電離放射線硬化型樹脂(2)90〜10重量部と導電性材料(3)10〜90重量部を含むハードコート層(4)を有し、該ハードコート層(4)中の導電性材料(3)が、上方に偏在していること、前記基材(1)がトリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とするハードコートフィルムである。
【選択図】図1
Description
(X)(式中のRはアルキル基を表わす)、R’mSi(OR)4-m (Y)(式中のR’はフッ素含有置換基、Rはアルキル基、mは1〜4の整数を表わす)。
クリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、10−デカンジオール(メタ)アクリレート、3,8−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルトリシクロ[5.2.10]デカン、水素添加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、1、 4−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。該多官能モノマーは、単独で使用しても良いし、2種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
精度、取扱いから5〜7μmの範囲が好ましい。
硝酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、アンモニア、アルミニウムアセトナート、ジブチルスズラウレート、オクチル酸スズ化合物、メタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が例示でき、それらを単独に、あるいは2種類以上併せて用いてもよい。
(a)光学特性
(a)−1 ヘイズ値・・・ハードコートフィルムを写像性測定器[日本電色工業(株)製、NDH−2000 ]を使用して測定した。
(b)表面抵抗値
(b)−1 表面抵抗:JIS K6911に準拠して行った。
(c) 機械強度
(c)−1 耐擦傷性:基材表面をスチールウール〔ボンスター#0000:日本スチールウール(株)製〕により250g/cm2で10回擦り、傷の有無を目視判定した(スチールウール試験)。判定基準を次に示す。○:傷を確認することが出来ない △:数本傷を確認できる ×:傷が多数確認できる
(c)−2 鉛筆硬度…JIS K5400に準拠し、試験機法により500g加重で
評価した。
(d)ハードコート層内部の観察
(d)−1 試料をエポキシ樹脂に包理固定(90℃、90分間)後、ウルトラミクロ
トームにて薄片(設定厚み:80nm)を切削し、透過型電子顕微鏡(日立H−800
)にてハードコート層の導電性微粒子の分散状態を観察した。
厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルム(全光線透過率:93%、ヘイズ値:0.2%)上に、電離放射線硬化型樹脂:60重量部、導電性金属酸化物(酸化チタン微粒子):40重量部、イルガキュアー184:3.5重量部、イソプロピルアルコール:50重量部、酢酸メチル:50重量部からなる塗布液を、バーコーティング法により乾燥後の膜厚が3μm程度になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により600mJ/cm
2の紫外線を照射し、ハードコートフィルムを作製した。続いてSi(OC2H5)4を95mol%、CF3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)3を5mol%で混合したマトリックスに対して1.0N−HClを触媒に用いた低屈折率コーティング剤を作製した。ハードコート層上に同じくバーコーティング法により乾燥後の膜厚が100nmになるように塗布し、120℃で1分間乾燥を行うことによって低屈折率層を形成した。このフィルムの性能評価結果を表1に、ハードコートフィルム断面のTEM写真を図2に示す。
電離放射線硬化型樹脂:70重量部、導電性金属酸化物(五酸化アンチモン微粒子):30重量部、イルガキュアー184:3.5重量部、メチルエチルケトン:50重量部、酢酸メチル:50重量部とした以外は実施例1と同様にしてハードコート層および低屈折率層を作製した。このフィルムの性能評価結果を表1に示す。
電離放射線硬化型樹脂:40重量部、導電性金属酸化物(酸化亜鉛微粒子):60重量部、イルガキュアー184:3.5重量部、イソブチルアルコール:80重量部、シクロヘキサノン:20重量部とした以外は実施例1と同様にしてハードコート層および低屈折率層を作製した。このフィルムの性能評価結果を表1に示す。
<比較例2>
トリアセチルセルロースフィルムの代わりに厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(全光線透過率:88%、ヘイズ値:0.5%)を用いる以外は実施例2と同様にしてハードコート層および低屈折率層を作製した。このフィルムの性能評価結果を表1に、ハードコートフィルム断面のTEM写真を図3に示す。
2・・・電離放射線硬化型樹脂
3・・・導電性材料
4・・・ハードコート層 4a・・・表面層
5・・・低屈折率層
L1・・・全体の厚み
L2・・・表面層の厚み
Claims (10)
- 基材上に、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能性モノマーを主成分とする電離放射線硬化型樹脂90〜10重量部と導電性材料10〜90重量部を含むハードコート層を有し、該ハードコート層中の導電性材料が、上方に偏在していることを特徴とするハードコートフィルム。
- 前記ハードコート層の全体の厚みに対する前記ハードコート層の表面部分の表面層の厚みの比が0.7以下である表面層に、前記導電性材料が50%以上含まれていることを特徴とする請求項1記載のハードコートフィルム。
- 前記基材がトリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項1又は2記載のハードコートフィルム。
- 前記導電性材料がATO(酸化アンチモン−酸化スズ複合酸化物)、ITO(酸化インジウム−酸化スズ複合酸化物)、Sb2O5、TiO2、ZnO2、Ce2O3の粒子のうち少なくとも1種類以上を含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のハードコートフィルム。
- 前記ハードコート層上に一般式(X)および(Y)で示される有機珪素化合物または加水分解物、またはそれらの重合体を含む低屈折率層を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載のハードコートフィルム。
Si(OR)4 (X)
(式中のRはアルキル基を表わす)
R’mSi(OR)4-m (Y)
(式中のR’はフッ素含有置換基、Rはアルキル基、mは1〜4の整数を表わす) - 基材上に、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能性モノマーを主成分とする電離放射線硬化型樹脂90〜10重量部と導電性材料10〜90重量部を含み、且つ前記基材を溶解又は膨潤させる溶剤を含む組成物を塗工することによりハードコート層を形成する工程を有し、該ハードコート層中の導電性材料が、上方に偏在していることを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
- 前記ハードコート層の全体の厚みに対する前記ハードコート層の表面部分の表面層の厚みの比が0.7以下である表面層に、前記導電性材料が50%以上含まれていることを特徴とする請求項6記載のハードコートフィルムの製造方法。
- 前記基材がトリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項6又は7記載のハードコートフィルムの製造方法。
- 前記溶剤が酢酸メチル及びメチルエチルケトンを含むことを特徴とする請求項8記載のハードコートフィルムの製造方法。
- 前記ハードコート層上に一般式(X)および(Y)で示される有機珪素化合物または加水分解物、またはそれらの重合体を含む低屈折率層を有することを特徴とする請求項6乃至9のいずれか1項記載のハードコートフィルムの製造方法。
Si(OR)4 (X)
(式中のRはアルキル基を表わす)
R’mSi(OR)4-m (Y)
(式中のR’はフッ素含有置換基、Rはアルキル基、mは1〜4の整数を表わす)
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