JP2002139602A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルムInfo
- Publication number
- JP2002139602A JP2002139602A JP2000331919A JP2000331919A JP2002139602A JP 2002139602 A JP2002139602 A JP 2002139602A JP 2000331919 A JP2000331919 A JP 2000331919A JP 2000331919 A JP2000331919 A JP 2000331919A JP 2002139602 A JP2002139602 A JP 2002139602A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- refractive index
- coating solution
- index layer
- hard coat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】擦過による低屈折率層の表面への傷が付きにく
く、低屈折率層の剥離のない反射防止フィルムを提供す
ること。 【解決手段】透明プラスチックフィルム基材上に、（メ
タ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマー
を主成分とする重合体を用いてハードコート層を形成
し、表面処理を行い、化学式（１）で表される有機珪素
化合物、若しくはその重合体と、化学式（２）で表され
る有機珪素化合物、若しくはその重合体との共重合体を
主成分とするコーティング溶液を用いて低屈折率層を形
成すること。
く、低屈折率層の剥離のない反射防止フィルムを提供す
ること。 【解決手段】透明プラスチックフィルム基材上に、（メ
タ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマー
を主成分とする重合体を用いてハードコート層を形成
し、表面処理を行い、化学式（１）で表される有機珪素
化合物、若しくはその重合体と、化学式（２）で表され
る有機珪素化合物、若しくはその重合体との共重合体を
主成分とするコーティング溶液を用いて低屈折率層を形
成すること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止フィルム
に関するものであり、特に、各種ディスプレイの表示画
面の表面に使用される反射防止フィルムに関する。
に関するものであり、特に、各種ディスプレイの表示画
面の表面に使用される反射防止フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】多くのディスプレイは、室内外を問わず
外光などが入射するような環境下で使用される。この外
光などの入射光は、ディスプレイの表示画面の表面等に
おいて正反射され、反射光が表示光と混合し表示品質を
低下させ表示画像を見にくくしている。特に、最近のオ
フィスのＯＡ化に伴い、コンピュータを使用する頻度が
増し、ディスプレイと相対していることが長時間化し
た。これにより反射光による表示品質の低下が、目の疲
労など健康障害等を引き起こす要因とも考えられてい
る。
外光などが入射するような環境下で使用される。この外
光などの入射光は、ディスプレイの表示画面の表面等に
おいて正反射され、反射光が表示光と混合し表示品質を
低下させ表示画像を見にくくしている。特に、最近のオ
フィスのＯＡ化に伴い、コンピュータを使用する頻度が
増し、ディスプレイと相対していることが長時間化し
た。これにより反射光による表示品質の低下が、目の疲
労など健康障害等を引き起こす要因とも考えられてい
る。
【０００３】更には、近年ではアウトドアライフの普及
に伴い、各種ディスプレイを室外で使用する機会が益々
増える傾向にあり、表示品質をより向上させて表示画像
を明確に認識できるような要求が出てきている。これら
の要求を満たす対応の例として、透明基材の表面に、金
属酸化物などから成る高屈折率層と低屈折率層を積層し
た、或いは無機や有機フッ素化合物などの低屈折率層を
単層で形成した、可視光の広範囲にわたり反射防止効果
を有する反射防止フィルムをディスプレイの表示画面の
表面に張り合わせることが知られている。また、これと
は別に、透明プラスチックフィルム基材の表面に透明な
微粒子を含むコーティング層を形成し、表面の微小な凹
凸により外光を乱反射させるなどして、類似の効果が得
られることも知られている。
に伴い、各種ディスプレイを室外で使用する機会が益々
増える傾向にあり、表示品質をより向上させて表示画像
を明確に認識できるような要求が出てきている。これら
の要求を満たす対応の例として、透明基材の表面に、金
属酸化物などから成る高屈折率層と低屈折率層を積層し
た、或いは無機や有機フッ素化合物などの低屈折率層を
単層で形成した、可視光の広範囲にわたり反射防止効果
を有する反射防止フィルムをディスプレイの表示画面の
表面に張り合わせることが知られている。また、これと
は別に、透明プラスチックフィルム基材の表面に透明な
微粒子を含むコーティング層を形成し、表面の微小な凹
凸により外光を乱反射させるなどして、類似の効果が得
られることも知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記低
屈折率層を単層で形成した反射防止フィルムは、人が使
用することによって、擦過などにより低屈折率層の表面
に傷が付きやすい。そのため、ディスプレイの表示画面
の表面に反射防止フィルムを貼り合わせた場合、擦過等
による傷のため表示画像が見にくくなるほか、外観を著
しく損なうものであり、また、傷をきっかけとして低屈
折率層の剥離を招くなどの問題が生じる。本発明は、上
記の問題点を解決するためになされたものであり、擦過
による低屈折率層の表面への傷が付きにくく、また、低
屈折率層の剥離のない反射防止フィルムを提供すること
を課題とするものである。
屈折率層を単層で形成した反射防止フィルムは、人が使
用することによって、擦過などにより低屈折率層の表面
に傷が付きやすい。そのため、ディスプレイの表示画面
の表面に反射防止フィルムを貼り合わせた場合、擦過等
による傷のため表示画像が見にくくなるほか、外観を著
しく損なうものであり、また、傷をきっかけとして低屈
折率層の剥離を招くなどの問題が生じる。本発明は、上
記の問題点を解決するためになされたものであり、擦過
による低屈折率層の表面への傷が付きにくく、また、低
屈折率層の剥離のない反射防止フィルムを提供すること
を課題とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明プラスチ
ックフィルム基材の少なくとも片面上に、 １）１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ
基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合体を
用いてハードコート層を形成し、 ２）該ハードコート層に表面処理を行い、 ３）表面処理を行ったハードコート層上に、化学式
（１）で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体
と、化学式（２）で表される有機珪素化合物、若しくは
その重合体との共重合体を主成分とするコーティング溶
液を用いて低屈折率層を形成し、 作製することを特徴とする反射防止フィルムである。
ックフィルム基材の少なくとも片面上に、 １）１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ
基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合体を
用いてハードコート層を形成し、 ２）該ハードコート層に表面処理を行い、 ３）表面処理を行ったハードコート層上に、化学式
（１）で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体
と、化学式（２）で表される有機珪素化合物、若しくは
その重合体との共重合体を主成分とするコーティング溶
液を用いて低屈折率層を形成し、 作製することを特徴とする反射防止フィルムである。
【０００６】
【化３】
【０００７】
【化４】
【０００８】また、本発明は、上記発明による反射防止
フィルムにおいて、前記共重合体の、化学式（１）で表
される有機珪素化合物、若しくはその重合体と、化学式
（２）で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体
の混合モル比が、５０：５０〜９９：１であることを特
徴とする反射防止フィルムである。
フィルムにおいて、前記共重合体の、化学式（１）で表
される有機珪素化合物、若しくはその重合体と、化学式
（２）で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体
の混合モル比が、５０：５０〜９９：１であることを特
徴とする反射防止フィルムである。
【０００９】また、本発明は、上記発明による反射防止
フィルムにおいて、前記表面処理が、アルカリ処理であ
ることを特徴とする反射防止フィルムである。
フィルムにおいて、前記表面処理が、アルカリ処理であ
ることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１０】また、本発明は、上記発明による反射防止
フィルムにおいて、前記コーティング溶液が、反応基含
有ジメチルシリコーンオイルを添加したコーティング溶
液であることを特徴とする反射防止フィルムである。
フィルムにおいて、前記コーティング溶液が、反応基含
有ジメチルシリコーンオイルを添加したコーティング溶
液であることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下に本発明による反射防止フィ
ルムを、その実施形態に基づいて詳細に説明する。図１
は、本発明による反射防止フィルムの一実施例を示す断
面図である。図１に示すように、本発明による反射防止
フィルム（１０）は、透明プラスチックフィルム基材
（１）の片面上にハードコート層（２）及び低屈折率層
（３）が形成されたものである。低屈折率層（３）の屈
折率は、透明プラスチックフィルム基材（１）の屈折率
より低い屈折率であり、透明プラスチックフィルム基材
の屈折率より低い屈折率の低屈折率層を透明プラスチッ
クフィルム基材上に形成することにより、反射防止効果
を奏するものとなる。
ルムを、その実施形態に基づいて詳細に説明する。図１
は、本発明による反射防止フィルムの一実施例を示す断
面図である。図１に示すように、本発明による反射防止
フィルム（１０）は、透明プラスチックフィルム基材
（１）の片面上にハードコート層（２）及び低屈折率層
（３）が形成されたものである。低屈折率層（３）の屈
折率は、透明プラスチックフィルム基材（１）の屈折率
より低い屈折率であり、透明プラスチックフィルム基材
の屈折率より低い屈折率の低屈折率層を透明プラスチッ
クフィルム基材上に形成することにより、反射防止効果
を奏するものとなる。
【００１２】透明プラスチックフィルム基材としては、
種々の有機高分子からなる基材を挙げることができる。
通常、光学部材として使用される基材は、透明性、屈折
率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、
耐久性などの諸物性の点から、ポリオレフィン系（ポリ
エチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル系（ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
等）、ポリアミド系（ナイロン６、ナイロン６６等）、
ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニ
ルアルコール、エチレンビニルアルコール、アクリル、
セルロース系（トリアセチルセルロース、ジアセチルセ
ルロース等）、或いはこれらの有機高分子の共重合体な
どが挙げられる。
種々の有機高分子からなる基材を挙げることができる。
通常、光学部材として使用される基材は、透明性、屈折
率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、
耐久性などの諸物性の点から、ポリオレフィン系（ポリ
エチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル系（ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
等）、ポリアミド系（ナイロン６、ナイロン６６等）、
ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニ
ルアルコール、エチレンビニルアルコール、アクリル、
セルロース系（トリアセチルセルロース、ジアセチルセ
ルロース等）、或いはこれらの有機高分子の共重合体な
どが挙げられる。
【００１３】これらの透明プラスチックフィルム基材を
構成する有機高分子に、公知の添加剤、例えば、帯電防
止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止
剤、難燃剤等を含有させたものも使用することができ
る。また、透明プラスチックフィルム基材としては、単
層、あるいは複数の有機高分子を積層したものでも良
い。また、その厚みは、特に限定されるものではない
が、７０〜２００μｍ程度が好ましい。
構成する有機高分子に、公知の添加剤、例えば、帯電防
止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止
剤、難燃剤等を含有させたものも使用することができ
る。また、透明プラスチックフィルム基材としては、単
層、あるいは複数の有機高分子を積層したものでも良
い。また、その厚みは、特に限定されるものではない
が、７０〜２００μｍ程度が好ましい。
【００１４】ハードコート層は、透明プラスチックフィ
ルム基材の表面硬度を補強するものであり、鉛筆等の荷
重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、反射防止
フィルムの屈曲によって低屈折率層にクラックが発生す
ることを抑制することができ、反射防止フィルムの機械
的強度が改善できる。ハードコート層は、１分子中に２
個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官
能性モノマーを主成分とする重合体を用いて形成したも
のである。
ルム基材の表面硬度を補強するものであり、鉛筆等の荷
重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、反射防止
フィルムの屈曲によって低屈折率層にクラックが発生す
ることを抑制することができ、反射防止フィルムの機械
的強度が改善できる。ハードコート層は、１分子中に２
個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官
能性モノマーを主成分とする重合体を用いて形成したも
のである。
【００１５】多官能性モノマーとしては、１，４−ブタ
ンジオール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジ
オールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコー
ル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、３−メチルペンタジオールジ（メタ）アクリレ
ート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロ
イルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソ
シアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリレート、２，３−ビス（メ
タ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．
１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アク
リレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメ
チルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレ
ート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチル
トリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェ
ノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−
（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロ
パン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチ
ル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフ
ェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレー
ト、エボキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレ
ート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種
類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良
い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重
合させることもできる。
ンジオール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジ
オールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコー
ル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、３−メチルペンタジオールジ（メタ）アクリレ
ート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロ
イルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソ
シアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリレート、２，３−ビス（メ
タ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．
１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アク
リレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメ
チルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレ
ート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチル
トリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェ
ノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−
（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロ
パン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチ
ル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフ
ェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレー
ト、エボキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレ
ート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種
類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良
い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重
合させることもできる。
【００１６】ハードコート層は、透明プラスチックフィ
ルム基材と屈折率が同等もしくは近似していることがよ
り好ましい。膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度となる
が、透明性、塗工精度、取り扱いから５μｍ〜７μｍの
範囲が好ましい。ハードコート層に平均粒子径０．０１
μｍ〜３μｍの無機或いは有機物微粒子を混合分散させ
るか、又はハードコート層の表面形状を凹凸にさせて、
一般にアンチグレアと呼ばれる光拡散性を具備させるこ
とが出来る。これらの微粒子は透明であれば特に限定さ
れるものではないが、低屈折率材料が好ましく、酸化珪
素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等で好まし
い。これらのハードコート層は均一に塗布されるもので
あれば、塗布方法はいかなる方法でも構わない。
ルム基材と屈折率が同等もしくは近似していることがよ
り好ましい。膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度となる
が、透明性、塗工精度、取り扱いから５μｍ〜７μｍの
範囲が好ましい。ハードコート層に平均粒子径０．０１
μｍ〜３μｍの無機或いは有機物微粒子を混合分散させ
るか、又はハードコート層の表面形状を凹凸にさせて、
一般にアンチグレアと呼ばれる光拡散性を具備させるこ
とが出来る。これらの微粒子は透明であれば特に限定さ
れるものではないが、低屈折率材料が好ましく、酸化珪
素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等で好まし
い。これらのハードコート層は均一に塗布されるもので
あれば、塗布方法はいかなる方法でも構わない。
【００１７】ハードコート層上に本発明のコーティング
溶液を塗工する前に、表面処理を行うことが必要であ
る。表面処理を行うことにより、ハードコート層と低屈
折率層との密着性を向上させることができる。ハードコ
ート層の表面処理としては、高周波放電プラズマ法、電
子ビーム法、イオンビーム法、蒸着法、スパッタリング
法、アルカリ処理法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グ
ロー放電プラズマ法等を挙げることができる。
溶液を塗工する前に、表面処理を行うことが必要であ
る。表面処理を行うことにより、ハードコート層と低屈
折率層との密着性を向上させることができる。ハードコ
ート層の表面処理としては、高周波放電プラズマ法、電
子ビーム法、イオンビーム法、蒸着法、スパッタリング
法、アルカリ処理法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グ
ロー放電プラズマ法等を挙げることができる。
【００１８】特に、アルカリ処理法が有効である。アル
カリ処理に使用するアルカリ水溶液としては、例えば、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液、それら
に更にアルコール等の各種有機溶媒を加えたアルカリ水
溶液等を挙げることができる。アルカリ処理の条件は、
例えば、水酸化ナトリウム水溶液を用いた場合、０．１
〜１０Ｎの濃度の水溶液として使用することが望まし
く、更には、１〜２Ｎの濃度が望ましい。また、アルカ
リ水溶液の温度は、０〜１００℃、好ましくは、２０〜
８０℃である。アルカリ処理の時間は、０．０１〜１０
時間、好ましくは、０．１〜１時間である。
カリ処理に使用するアルカリ水溶液としては、例えば、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液、それら
に更にアルコール等の各種有機溶媒を加えたアルカリ水
溶液等を挙げることができる。アルカリ処理の条件は、
例えば、水酸化ナトリウム水溶液を用いた場合、０．１
〜１０Ｎの濃度の水溶液として使用することが望まし
く、更には、１〜２Ｎの濃度が望ましい。また、アルカ
リ水溶液の温度は、０〜１００℃、好ましくは、２０〜
８０℃である。アルカリ処理の時間は、０．０１〜１０
時間、好ましくは、０．１〜１時間である。
【００１９】化学式（１）で表される有機珪素化合物と
しては、Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）４ 、Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５
）４ 、Ｓｉ（ＯＣ３ Ｈ７ ）４ 、Ｓｉ［ＯＣＨ
（ＣＨ３ ）２ ］４ 、Ｓｉ（ＯＣ４ Ｈ９ ）４
が挙げられ、これらを単独に、あるいは２種類以上併せ
て用いてもよい。
しては、Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）４ 、Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５
）４ 、Ｓｉ（ＯＣ３ Ｈ７ ）４ 、Ｓｉ［ＯＣＨ
（ＣＨ３ ）２ ］４ 、Ｓｉ（ＯＣ４ Ｈ９ ）４
が挙げられ、これらを単独に、あるいは２種類以上併せ
て用いてもよい。
【００２０】化学式（２）で表される有機珪素化合物と
しては、ＣＨ３ （ＣＨ２ ）２Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３
、ＣＦ３ ＣＦ２ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣＨ
３）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）２ （ＣＨ２ ）２
Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）３
（ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２ ）４ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３
、ＣＦ３ （ＣＦ２）５ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）６（ＣＨ２ ）
２ Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７
（ＣＨ２）２ Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３
（ＣＦ２ ）８ （ＣＨ２ ）２Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３
、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）９ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ
（ＯＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ
（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３ ＣＦ２ （ＣＨ２
）２ Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ
２）２ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３
、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）３ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ
（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）４（Ｃ
Ｈ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３
（ＣＦ２ ）５ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５
）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）６ （ＣＨ２）２ Ｓ
ｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７
（ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３
（ＣＦ２ ）８ （ＣＨ２ ）２Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５
）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）９ （ＣＨ２ ）２
Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 等が挙げられ、これらを単
独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。
しては、ＣＨ３ （ＣＨ２ ）２Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３
、ＣＦ３ ＣＦ２ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣＨ
３）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）２ （ＣＨ２ ）２
Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）３
（ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２ ）４ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３
、ＣＦ３ （ＣＦ２）５ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）６（ＣＨ２ ）
２ Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７
（ＣＨ２）２ Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３
（ＣＦ２ ）８ （ＣＨ２ ）２Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３
、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）９ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ
（ＯＣＨ３ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ
（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３ ＣＦ２ （ＣＨ２
）２ Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ
２）２ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３
、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）３ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ
（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）４（Ｃ
Ｈ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３
（ＣＦ２ ）５ （ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５
）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）６ （ＣＨ２）２ Ｓ
ｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７
（ＣＨ２ ）２ Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 、ＣＦ３
（ＣＦ２ ）８ （ＣＨ２ ）２Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５
）３ 、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）９ （ＣＨ２ ）２
Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）３ 等が挙げられ、これらを単
独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。
【００２１】上記化学式（１）、または化学式（２）で
表される有機珪素化合物を用いて重合体を、或いは、化
学式（１）で表される有機珪素化合物、若しくはその重
合体と、化学式（２）で表される有機珪素化合物、若し
くはその重合体を用いて共重合体を作製する方法は限定
されないが、加水分解によって作製するにあたっての触
媒としては、公知であり、例えば、塩酸、蓚酸、硝酸、
酢酸、フッ酸、ギ酸、燐酸、蓚酸、アンモニア、アルミ
ニウムアセトナート、ジブチルスズラウレート、オクチ
ル酸スズ化合物、メタンスルホン酸、トリクロロメタン
スルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸
等が挙げられ、これらを単独に、或いは２種類以上併せ
て用いてもよい。
表される有機珪素化合物を用いて重合体を、或いは、化
学式（１）で表される有機珪素化合物、若しくはその重
合体と、化学式（２）で表される有機珪素化合物、若し
くはその重合体を用いて共重合体を作製する方法は限定
されないが、加水分解によって作製するにあたっての触
媒としては、公知であり、例えば、塩酸、蓚酸、硝酸、
酢酸、フッ酸、ギ酸、燐酸、蓚酸、アンモニア、アルミ
ニウムアセトナート、ジブチルスズラウレート、オクチ
ル酸スズ化合物、メタンスルホン酸、トリクロロメタン
スルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸
等が挙げられ、これらを単独に、或いは２種類以上併せ
て用いてもよい。
【００２２】上記共重合体を主成分とするコーティング
溶液は、通常、揮発性溶媒で希釈して塗布される。希釈
溶媒として用いられるものは、特に限定されないが、組
成物の安定性、ハードコート層に対する濡れ性、揮発性
などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアル
コール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル、ジイソプロピルエーテル等のエーテ
ル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘ
キシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール等のグリコ
ールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂
肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。また、溶
媒は１種類のみならず２種類以上の混合物として用いる
ことも可能である。このウエットコーティング法は、複
雑な形状の透明基材や、面積の広い透明基材への成膜に
使用することが好ましい。
溶液は、通常、揮発性溶媒で希釈して塗布される。希釈
溶媒として用いられるものは、特に限定されないが、組
成物の安定性、ハードコート層に対する濡れ性、揮発性
などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアル
コール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル、ジイソプロピルエーテル等のエーテ
ル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘ
キシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール等のグリコ
ールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂
肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。また、溶
媒は１種類のみならず２種類以上の混合物として用いる
ことも可能である。このウエットコーティング法は、複
雑な形状の透明基材や、面積の広い透明基材への成膜に
使用することが好ましい。
【００２３】コーティング溶液は、ウエットコーティン
グ法（ディップコーティング法、スピンコーティング
法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、
ロールコーティング法、グラビアコーティング法等）に
よりハードコート層上に塗工される。必要ならば、塗工
後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行って低
屈折率層を形成する。この低屈折率層は、耐擦過性、密
着性に優れたものであり、擦過による低屈折率層の表面
の傷付きや低屈折率層の剥離がなくなる。
グ法（ディップコーティング法、スピンコーティング
法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、
ロールコーティング法、グラビアコーティング法等）に
よりハードコート層上に塗工される。必要ならば、塗工
後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行って低
屈折率層を形成する。この低屈折率層は、耐擦過性、密
着性に優れたものであり、擦過による低屈折率層の表面
の傷付きや低屈折率層の剥離がなくなる。
【００２４】本発明における、上記共重合体を主成分と
するコーティング溶液を用いて形成された低屈折率層の
屈折率は、前記透明プラスチックフィルム基材のいずれ
の屈折率よりも低い値であり、また、この低屈折率層の
厚さ（ｄ）は、低屈折率層の屈折率をｎとすると、略ｎ
・ｄ＝λ／４であることが好ましい。
するコーティング溶液を用いて形成された低屈折率層の
屈折率は、前記透明プラスチックフィルム基材のいずれ
の屈折率よりも低い値であり、また、この低屈折率層の
厚さ（ｄ）は、低屈折率層の屈折率をｎとすると、略ｎ
・ｄ＝λ／４であることが好ましい。
【００２５】また、上記コーティング溶液中に、反応基
含有ジメチルシリコーンオイルを添加することにより、
低屈折率層の表面の滑り性が向上し、擦過などにより低
屈折率層の表面への傷が更に付きにくく、低屈折率層の
剥離が更になくなる。反応基は、ジメチルシリコーンの
両末端、片末端、側鎖中に含有するものであり、反応基
としては、例えば、水酸基、アミノ基、エポキシ基、ビ
ニル基、アクリル基、メタクリロキシ基、シラノール
基、ハロゲン基、メルカブト基等が挙げられ、これらを
単独に、或いは２種類以上併せて含有していてもかまわ
ない。
含有ジメチルシリコーンオイルを添加することにより、
低屈折率層の表面の滑り性が向上し、擦過などにより低
屈折率層の表面への傷が更に付きにくく、低屈折率層の
剥離が更になくなる。反応基は、ジメチルシリコーンの
両末端、片末端、側鎖中に含有するものであり、反応基
としては、例えば、水酸基、アミノ基、エポキシ基、ビ
ニル基、アクリル基、メタクリロキシ基、シラノール
基、ハロゲン基、メルカブト基等が挙げられ、これらを
単独に、或いは２種類以上併せて含有していてもかまわ
ない。
【００２６】
【実施例】以下、実施例により本発明による反射防止フ
ィルムを詳細に説明する。 ＜実施例１＞ （ハードコート層の形成）透明プラスチックフィルム基
材としてＴＡＣフィルムを用いた。厚さ８０μｍのＴＡ
Ｃフィルム上に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、及びペンタエリスリトールテトラアクリレート
を用いてハードコート層用の塗布液を調整した。このハ
ードコート層用の塗布液ををマイクログラビア法を用い
て膜厚５μｍで塗布し、１２０Ｗのメタルハライドラン
プを２０ｃｍの距離から１０秒間照射することにより、
ハードコート層を形成した。 （表面処理）上記ハードコート層を形成したＴＡＣフィ
ルムを、５０℃に加熱した１．５Ｎ−ＮａＯＨ水溶液に
２分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、０．５Ｎ−
Ｈ２ＳＯ４ 水溶液に室温で３０秒間浸漬し中和させ、
水洗、乾燥を行った。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ を９
５ｍｏｌ、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７ （ＣＨ２ ）２
Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ を５ｍｏｌの混合比で、０．１
Ｎ−ＨＣｌを触媒に用い共重合体を得、この共重合体か
らコーティング溶液を調製した。上記表面処理を行った
ハードコート層を形成したＴＡＣフィルム上にマイクロ
グラビア法を用いてコーティング溶液を膜厚１００ｎｍ
で塗布し、１２０℃で１分間乾燥を行うことにより、低
屈折率層を形成した。
ィルムを詳細に説明する。 ＜実施例１＞ （ハードコート層の形成）透明プラスチックフィルム基
材としてＴＡＣフィルムを用いた。厚さ８０μｍのＴＡ
Ｃフィルム上に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、及びペンタエリスリトールテトラアクリレート
を用いてハードコート層用の塗布液を調整した。このハ
ードコート層用の塗布液ををマイクログラビア法を用い
て膜厚５μｍで塗布し、１２０Ｗのメタルハライドラン
プを２０ｃｍの距離から１０秒間照射することにより、
ハードコート層を形成した。 （表面処理）上記ハードコート層を形成したＴＡＣフィ
ルムを、５０℃に加熱した１．５Ｎ−ＮａＯＨ水溶液に
２分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、０．５Ｎ−
Ｈ２ＳＯ４ 水溶液に室温で３０秒間浸漬し中和させ、
水洗、乾燥を行った。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ を９
５ｍｏｌ、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７ （ＣＨ２ ）２
Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ を５ｍｏｌの混合比で、０．１
Ｎ−ＨＣｌを触媒に用い共重合体を得、この共重合体か
らコーティング溶液を調製した。上記表面処理を行った
ハードコート層を形成したＴＡＣフィルム上にマイクロ
グラビア法を用いてコーティング溶液を膜厚１００ｎｍ
で塗布し、１２０℃で１分間乾燥を行うことにより、低
屈折率層を形成した。
【００２７】＜実施例２＞（ハードコート層の形成）、
及び（表面処理）は実施例１と同一である。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ を９
５ｍｏｌ、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７ （ＣＨ２ ）２
Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ を５ｍｏｌの混合比で、０．１
Ｎ−ＨＣｌを触媒に用い共重合体を得、この共重合体か
ら両末端シラノール基含有ジメチルシリコーンオイルを
添加したコーティング溶液を調製した。実施例１と同一
の表面処理を行ったハードコート層を形成したＴＡＣフ
ィルム上にマイクログラビア法を用いてコーティング溶
液を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０℃で１分間乾燥を
行うことにより、低屈折率層を形成した。
及び（表面処理）は実施例１と同一である。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ を９
５ｍｏｌ、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７ （ＣＨ２ ）２
Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ を５ｍｏｌの混合比で、０．１
Ｎ−ＨＣｌを触媒に用い共重合体を得、この共重合体か
ら両末端シラノール基含有ジメチルシリコーンオイルを
添加したコーティング溶液を調製した。実施例１と同一
の表面処理を行ったハードコート層を形成したＴＡＣフ
ィルム上にマイクログラビア法を用いてコーティング溶
液を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０℃で１分間乾燥を
行うことにより、低屈折率層を形成した。
【００２８】＜実施例３＞（ハードコート層の形成）、
及び（表面処理）は実施例１と同一である。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ と、
ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７ （ＣＨ２ ）２Ｓｉ（ＯＣＨ
３ ）３ の混合モル比を、５０：５０、８０：２０、
９５：５、１００：０とした４種類を０．１Ｎ−ＨＣｌ
を触媒に用い共重合体を得、この共重合体から４種類の
コーティング溶液を調製した。実施例１と同一の表面処
理を行ったハードコート層を形成したＴＡＣフィルム上
にマイクログラビア法を用いて４種類のコーティング溶
液を各々膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０℃で１分間乾
燥を行うことにより、４種類の低屈折率層を形成した。
及び（表面処理）は実施例１と同一である。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ と、
ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７ （ＣＨ２ ）２Ｓｉ（ＯＣＨ
３ ）３ の混合モル比を、５０：５０、８０：２０、
９５：５、１００：０とした４種類を０．１Ｎ−ＨＣｌ
を触媒に用い共重合体を得、この共重合体から４種類の
コーティング溶液を調製した。実施例１と同一の表面処
理を行ったハードコート層を形成したＴＡＣフィルム上
にマイクログラビア法を用いて４種類のコーティング溶
液を各々膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０℃で１分間乾
燥を行うことにより、４種類の低屈折率層を形成した。
【００２９】＜比較例１＞（ハードコート層の形成）、
及び（表面処理）は実施例１と同一である。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ の混
合モル比を１００とし、０．１Ｎ−ＨＣｌを触媒に用い
重合体を得、この重合体からコーティング溶液を調製し
た。実施例１と同一の表面処理を行ったハードコート層
を形成したＴＡＣフィルム上にマイクログラビア法を用
いてコーティング溶液を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２
０℃で１分間乾燥を行うことにより低屈折率層を形成し
た。
及び（表面処理）は実施例１と同一である。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ の混
合モル比を１００とし、０．１Ｎ−ＨＣｌを触媒に用い
重合体を得、この重合体からコーティング溶液を調製し
た。実施例１と同一の表面処理を行ったハードコート層
を形成したＴＡＣフィルム上にマイクログラビア法を用
いてコーティング溶液を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２
０℃で１分間乾燥を行うことにより低屈折率層を形成し
た。
【００３０】＜比較例２＞（ハードコート層の形成）は
実施例１と同一であり、表面処理は行わず。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ を９
５ｍｏｌ、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７ （ＣＨ２ ）２
Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ を５ｍｏｌの混合比で、０．１
Ｎ−ＨＣｌを触媒に用い共重合体を得、この共重合体か
らコーティング溶液を調製した。ハードコート層を形成
したＴＡＣフィルム上に、表面処理は行わずマイクログ
ラビア法を用いてコーティング溶液を膜厚１００ｎｍで
塗布し、１２０℃で１分間乾燥を行うことにより、低屈
折率層を形成した。
実施例１と同一であり、表面処理は行わず。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ を９
５ｍｏｌ、ＣＦ３ （ＣＦ２ ）７ （ＣＨ２ ）２
Ｓｉ（ＯＣＨ３ ）３ を５ｍｏｌの混合比で、０．１
Ｎ−ＨＣｌを触媒に用い共重合体を得、この共重合体か
らコーティング溶液を調製した。ハードコート層を形成
したＴＡＣフィルム上に、表面処理は行わずマイクログ
ラビア法を用いてコーティング溶液を膜厚１００ｎｍで
塗布し、１２０℃で１分間乾燥を行うことにより、低屈
折率層を形成した。
【００３１】＜比較例３＞（ハードコート層の形成）は
実施例１と同一であり、表面処理は行わず。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ の混
合モル比を１００とし、０．１Ｎ−ＨＣｌを触媒に用い
重合体を得、この重合体からコーティング溶液を調製し
た。ハードコート層を形成したＴＡＣフィルム上に、表
面処理は行わずマイクログラビア法を用いてコーティン
グ溶液を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０℃で１分間乾
燥を行うことにより低屈折率層を形成した。
実施例１と同一であり、表面処理は行わず。 （低屈折率層の形成）Ｓｉ（ＯＣ２ Ｈ５ ）４ の混
合モル比を１００とし、０．１Ｎ−ＨＣｌを触媒に用い
重合体を得、この重合体からコーティング溶液を調製し
た。ハードコート層を形成したＴＡＣフィルム上に、表
面処理は行わずマイクログラビア法を用いてコーティン
グ溶液を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０℃で１分間乾
燥を行うことにより低屈折率層を形成した。
【００３２】（各種物性評価方法） （ａ）反射率測定 反射防止フィルム面をサンドペーパーでこすり、艶消し
の黒色塗料を塗布した後、波長５５０ｎｍの光を入射角
５°で片面の反射率を測定した。 （ｂ）接触角測定 接触角計〔協和界面科学（株）製：ＣＡ−Ｘ型〕を用い
て、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）で直径１．０ｍｍ
の液滴を針先に作り、これを反射防止フィルム（固体）
の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と
液体が接する点における液体表面に対する接線と固体表
面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。液体に
は、蒸留水を使用した。尚、接触角測定は、以下の摩耗
処理を行った後にも行った。評価結果を表１、表２に括
弧で示す。 摩耗処理：反射防止フィルム表面をセルロース製不織布
〔旭化成工業（株）製：ベンコットＭ−３〕により荷重
５００ｇ／ｃｍ２ で１００回擦る。 （ｃ）油性ペンの拭き取り性 反射防止フィルムの表面に付着した油性ペンのインキを
セルロース製不織布〔旭化成工業（株）製：ベンコット
Ｍ−３〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定で行っ
た。判定基準を以下に示す。 ○：油性ペンのインキを完全に拭き取ることが出来る。 △：油性ペンのインキの拭き取り跡が残る。 ×：油性ペンのインキを拭き取ることが出来ない。 （ｄ）指紋の拭き取り性 反射防止フィルムの表面に付着した指紋をセルロース製
不織布〔旭化成工業（株）製：ベンコットＭ−３〕で拭
き取り、その取れ易さを目視判定で行った。判定基準を
以下に示す。 ○：指紋を完全に拭き取ることが出来る。 △：指紋の拭き取り跡が残る。 ×：指紋を拭き取ることが出来ない。 （ｅ）耐擦傷性 反射防止フィルムの表面をスチールウール〔日本スチー
ルウール（株）製：ボンスター＃００００〕により２５
０ｇ／ｃｍ２ で２０回擦り、傷の有無を目視判定で行
った（スチールウール試験）。判定基準を以下に示す。 ○：傷を確認することが出来ない。 △：数本傷を確認できる。 ×：傷が多数確認できる。 （ｆ）密着性 反射防止フィルムの表面を１ｍｍ角で１００点カット
後、粘着セロハンテープ〔ニチバン（株）製：工業用２
４ｍｍ巾セロテープ〕による剥離の有無を目視判定で行
った（クロスカットテープピール試験）。
の黒色塗料を塗布した後、波長５５０ｎｍの光を入射角
５°で片面の反射率を測定した。 （ｂ）接触角測定 接触角計〔協和界面科学（株）製：ＣＡ−Ｘ型〕を用い
て、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）で直径１．０ｍｍ
の液滴を針先に作り、これを反射防止フィルム（固体）
の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と
液体が接する点における液体表面に対する接線と固体表
面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。液体に
は、蒸留水を使用した。尚、接触角測定は、以下の摩耗
処理を行った後にも行った。評価結果を表１、表２に括
弧で示す。 摩耗処理：反射防止フィルム表面をセルロース製不織布
〔旭化成工業（株）製：ベンコットＭ−３〕により荷重
５００ｇ／ｃｍ２ で１００回擦る。 （ｃ）油性ペンの拭き取り性 反射防止フィルムの表面に付着した油性ペンのインキを
セルロース製不織布〔旭化成工業（株）製：ベンコット
Ｍ−３〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定で行っ
た。判定基準を以下に示す。 ○：油性ペンのインキを完全に拭き取ることが出来る。 △：油性ペンのインキの拭き取り跡が残る。 ×：油性ペンのインキを拭き取ることが出来ない。 （ｄ）指紋の拭き取り性 反射防止フィルムの表面に付着した指紋をセルロース製
不織布〔旭化成工業（株）製：ベンコットＭ−３〕で拭
き取り、その取れ易さを目視判定で行った。判定基準を
以下に示す。 ○：指紋を完全に拭き取ることが出来る。 △：指紋の拭き取り跡が残る。 ×：指紋を拭き取ることが出来ない。 （ｅ）耐擦傷性 反射防止フィルムの表面をスチールウール〔日本スチー
ルウール（株）製：ボンスター＃００００〕により２５
０ｇ／ｃｍ２ で２０回擦り、傷の有無を目視判定で行
った（スチールウール試験）。判定基準を以下に示す。 ○：傷を確認することが出来ない。 △：数本傷を確認できる。 ×：傷が多数確認できる。 （ｆ）密着性 反射防止フィルムの表面を１ｍｍ角で１００点カット
後、粘着セロハンテープ〔ニチバン（株）製：工業用２
４ｍｍ巾セロテープ〕による剥離の有無を目視判定で行
った（クロスカットテープピール試験）。
【００３３】（各種物性評価結果）表１に、実施例１〜
２、比較例１〜３の評価結果を、また、表２に、実施例
３の評価結果を示す。
２、比較例１〜３の評価結果を、また、表２に、実施例
３の評価結果を示す。
【００３４】
【表１】
【００３５】
【表２】
【００３６】
【発明の効果】本発明は、透明プラスチックフィルム基
材上に、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオ
キシ基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合
体を用いてハードコート層を形成し、ハードコート層に
表面処理を行い、前記化学式（１）で表される有機珪素
化合物、若しくはその重合体と、前記化学式（２）で表
される有機珪素化合物、若しくはその重合体との共重合
体を主成分とするコーティング溶液を用いて低屈折率層
を形成した反射防止フィルムであるので、擦過による低
屈折率層の表面への傷が付きにくく、低屈折率層の剥離
のない反射防止フィルムとなる。
材上に、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオ
キシ基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合
体を用いてハードコート層を形成し、ハードコート層に
表面処理を行い、前記化学式（１）で表される有機珪素
化合物、若しくはその重合体と、前記化学式（２）で表
される有機珪素化合物、若しくはその重合体との共重合
体を主成分とするコーティング溶液を用いて低屈折率層
を形成した反射防止フィルムであるので、擦過による低
屈折率層の表面への傷が付きにくく、低屈折率層の剥離
のない反射防止フィルムとなる。
【００３７】また、本発明は、上記反射防止フィルムに
おいて、共重合体の、前記化学式（１）で表される有機
珪素化合物、若しくはその重合体と、前記化学式（２）
で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体の混合
モル比が、５０：５０〜９９：１であるので、擦過によ
る低屈折率層の表面への傷付きや、低屈折率層の剥離が
更に少ない反射防止フィルムとなる。
おいて、共重合体の、前記化学式（１）で表される有機
珪素化合物、若しくはその重合体と、前記化学式（２）
で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体の混合
モル比が、５０：５０〜９９：１であるので、擦過によ
る低屈折率層の表面への傷付きや、低屈折率層の剥離が
更に少ない反射防止フィルムとなる。
【００３８】また、本発明は、上記反射防止フィルムに
おいて、表面処理がアルカリ処理であるので、ハードコ
ート層と低屈折率層との密着性を有効に向上させること
ができる反射防止フィルムとなる。
おいて、表面処理がアルカリ処理であるので、ハードコ
ート層と低屈折率層との密着性を有効に向上させること
ができる反射防止フィルムとなる。
【００３９】また、本発明は、上記反射防止フィルムに
おいて、コーティング溶液が、反応基含有ジメチルシリ
コーンオイルを添加したコーティング溶液であるので、
低屈折率層の表面の滑り性が向上し、擦過などにより低
屈折率層の表面への傷が更に付きにくく、低屈折率層の
剥離が更になくなる反射防止フィルムとなる。
おいて、コーティング溶液が、反応基含有ジメチルシリ
コーンオイルを添加したコーティング溶液であるので、
低屈折率層の表面の滑り性が向上し、擦過などにより低
屈折率層の表面への傷が更に付きにくく、低屈折率層の
剥離が更になくなる反射防止フィルムとなる。
【図１】本発明による反射防止フィルムの一実施例を示
す断面図である。
す断面図である。
１０…本発明による反射防止フィルム １…透明プラスチックフィルム基材 ２…ハードコート層 ３…低屈折率層
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｊ 7/04 ＣＥＲ Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ // Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｚ Ｆターム(参考） 2K009 AA02 AA15 CC24 CC42 DD02 DD12 4F006 AA02 AB24 BA02 CA05 EA01 4F073 AA01 BA03 BB01 EA01 EA11 EA42 EA55 4F100 AK01A AK25B AK52C AL01C BA03 BA10A BA10C CC00 EH462 EJ082 EJ542 EJ64B EJ68B GB41 GB48 JK01B JN01A JN06 JN18C
Claims (4)
- 【請求項１】透明プラスチックフィルム基材の少なくと
も片面上に、 １）１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ
基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合体を
用いてハードコート層を形成し、 ２）該ハードコート層に表面処理を行い、 ３）表面処理を行ったハードコート層上に、化学式
（１）で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体
と、化学式（２）で表される有機珪素化合物、若しくは
その重合体との共重合体を主成分とするコーティング溶
液を用いて低屈折率層を形成し、 作製することを特徴とする反射防止フィルム。 【化１】 【化２】 - 【請求項２】前記共重合体の、化学式（１）で表される
有機珪素化合物、若しくはその重合体と、化学式（２）
で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体の混合
モル比が、５０：５０〜９９：１であることを特徴とす
る請求項１記載の反射防止フィルム。 - 【請求項３】前記表面処理が、アルカリ処理であること
を特徴とする請求項１、又は請求項２記載の反射防止フ
ィルム。 - 【請求項４】前記コーティング溶液が、反応基含有ジメ
チルシリコーンオイルを添加したコーティング溶液であ
ることを特徴とする請求項１、請求項２、又は請求項３
記載の反射防止フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000331919A JP2002139602A (ja) | 2000-10-31 | 2000-10-31 | 反射防止フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000331919A JP2002139602A (ja) | 2000-10-31 | 2000-10-31 | 反射防止フィルム |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007235206A Division JP4893545B2 (ja) | 2007-09-11 | 2007-09-11 | 反射防止フィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002139602A true JP2002139602A (ja) | 2002-05-17 |
Family
ID=18808197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000331919A Pending JP2002139602A (ja) | 2000-10-31 | 2000-10-31 | 反射防止フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002139602A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002235036A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-08-23 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
| KR20040076423A (ko) * | 2003-02-25 | 2004-09-01 | 주식회사 코오롱 | 불소계 저굴절 단량체를 이용한 반사 방지 필름 |
| JP2004326100A (ja) * | 2003-04-07 | 2004-11-18 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止材 |
| JP2005338549A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 |
| JP2007169563A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Daicel Chem Ind Ltd | 反射防止膜および反射防止膜形成用組成物 |
| JP2008055911A (ja) * | 2007-09-11 | 2008-03-13 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止積層体の製造方法 |
| JP2008073692A (ja) * | 2007-11-29 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | 防眩性積層体の製造方法 |
| US7848021B2 (en) | 2006-02-17 | 2010-12-07 | Fujifilm Corporation | Optical film, antireflection film, polarizing plate and image display device |
| JP2016138938A (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 株式会社Kri | 低屈折率膜及び反射防止膜 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10104403A (ja) * | 1996-10-02 | 1998-04-24 | Nippon Kayaku Co Ltd | 防汚性及びハードコート性を有するシート |
| JPH11310755A (ja) * | 1998-04-27 | 1999-11-09 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物及び積層体 |
| JP2000089001A (ja) * | 1998-09-07 | 2000-03-31 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学機能性膜及びその製造方法 |
| JP2000266908A (ja) * | 1999-03-18 | 2000-09-29 | Konica Corp | 反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルム |
-
2000
- 2000-10-31 JP JP2000331919A patent/JP2002139602A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10104403A (ja) * | 1996-10-02 | 1998-04-24 | Nippon Kayaku Co Ltd | 防汚性及びハードコート性を有するシート |
| JPH11310755A (ja) * | 1998-04-27 | 1999-11-09 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物及び積層体 |
| JP2000089001A (ja) * | 1998-09-07 | 2000-03-31 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学機能性膜及びその製造方法 |
| JP2000266908A (ja) * | 1999-03-18 | 2000-09-29 | Konica Corp | 反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルム |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002235036A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-08-23 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
| KR20040076423A (ko) * | 2003-02-25 | 2004-09-01 | 주식회사 코오롱 | 불소계 저굴절 단량체를 이용한 반사 방지 필름 |
| JP2004326100A (ja) * | 2003-04-07 | 2004-11-18 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止材 |
| JP2005338549A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 |
| JP2007169563A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Daicel Chem Ind Ltd | 反射防止膜および反射防止膜形成用組成物 |
| US7848021B2 (en) | 2006-02-17 | 2010-12-07 | Fujifilm Corporation | Optical film, antireflection film, polarizing plate and image display device |
| JP2008055911A (ja) * | 2007-09-11 | 2008-03-13 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止積層体の製造方法 |
| JP2008073692A (ja) * | 2007-11-29 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | 防眩性積層体の製造方法 |
| JP4683038B2 (ja) * | 2007-11-29 | 2011-05-11 | 凸版印刷株式会社 | 防眩性積層体の製造方法 |
| JP2016138938A (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 株式会社Kri | 低屈折率膜及び反射防止膜 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4918743B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
| KR100510561B1 (ko) | 반사방지재료 | |
| JP2003292831A (ja) | 低屈折率コーティング剤及び反射防止フィルム | |
| KR101870473B1 (ko) | 반사 방지 필름, 반사 방지 필름의 제조 방법, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
| JP2002277604A (ja) | 反射防止フイルム | |
| JP4801263B2 (ja) | プラスチック積層体および画像表示保護フイルム | |
| JP2002265866A (ja) | 低屈折率コーティング剤及び反射防止フィルム | |
| JP2000144097A (ja) | 防汚剤、防汚層の形成方法、光学部材、反射防止光学部材、光学機能性部材及び表示装置 | |
| JP2007156391A (ja) | 反射防止膜付き透明基材 | |
| TWI373632B (en) | Optical laminate | |
| JP2001188102A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JP4860952B2 (ja) | 表面保護層用塗布組成物及びそれを用いてなる反射防止膜 | |
| JP2007168429A (ja) | 反射防止フィルム、その製造方法、並びにそれを用いた偏光板、及びディスプレイ装置 | |
| JP4325399B2 (ja) | 防汚性ハードコートおよびその製造方法、防汚性基材、防汚導電性基材、タッチパネル、ならびに表示装置 | |
| JP2002139602A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JP2002331615A (ja) | 反射防止積層体 | |
| JP5210748B2 (ja) | 防眩性反射防止フィルムの製造方法 | |
| JP3514065B2 (ja) | 積層体およびその製造方法 | |
| JP2006348171A (ja) | 低屈折率コーティング用硬化性樹脂組成物、反射防止フィルム | |
| JP2002243906A (ja) | 反射防止積層体及びその製造方法 | |
| JP2013107995A (ja) | コーティング用組成物とそれを用いた反射防止フィルム | |
| JPH10120444A (ja) | 表面改質膜用組成物、表面改質膜、表示装置用フィルター及び表示装置 | |
| JP2004326100A (ja) | 反射防止材 | |
| JP4204170B2 (ja) | 防眩性反射防止フィルム、偏光板および液晶表示装置 | |
| JP5369644B2 (ja) | 低屈折率コーティング剤及び反射防止フィルム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070920 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100406 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100517 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101026 |