JP2002243906A

JP2002243906A - 反射防止積層体及びその製造方法

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Publication number: JP2002243906A
Application number: JP2001044819A
Authority: JP
Inventors: Tetsuya Takahashi; 哲哉高橋; Mitsuo Fujiwara; 光男藤原; Koichi Ohata; 浩一大畑; Haruo Uyama; 晴夫宇山; Yuichi Yasuda; 雄一保田
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2001-02-21
Filing date: 2001-02-21
Publication date: 2002-08-28

Abstract

(57)【要約】【課題】透明基材／ハードコート層／中間屈折率層／高
屈折率層／低屈折率層／防汚層の構成を基本とする反射
防止積層体を低コストとできる構成を提供することを目
的とする。【解決手段】透明基材上の少なくとも片面に、ハードコ
ート層、中間屈折率層、高屈折率層、低屈折率層及び防
汚層を積層してなる反射防止効果を有する積層体であっ
て、ハードコート層及び中間屈折率層がウェットコーテ
ィング膜であり、高屈折率層、低屈折率層及び防汚層が
ドライコーティング膜であることを特徴とする反射防止
積層体を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ（液
晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクショ
ンディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプ
レイ等）の表示画面表面に適用される反射防止積層体及
びその製造方法に関する。さらに反射防止積層体を安価
に、かつ性能を維持しつつ目的を達成する構成の反射防
止積層体及びその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】多くのディスプレイは、室内外を問わず
外光などが入射するような環境下で使用される。この外
光などの入射光は、ディスプレイ表面等において正反射
され、反射像が表示光と混合し、表示品質を低下させ、
表示画像を見にくくしている。特に、最近のオフィスの
ＯＡ化に伴い、コンピューターを使用する頻度が増し、
ディスプレイと相対していることが長時間化した。これ
により反射像等による表示品質の低下は、目の疲労など
健康障害等を引き起こす要因とも考えられている。更に
は、近年ではアウトドアライフの普及に伴い、各種ディ
スプレイを室外で使用する機会が益々増える傾向にあ
り、表示品質をより向上して表示画像を明確に認識でき
るような要求が出てきている。これらの要求を満たす為
の例として、可視光の広範囲にわたり反射防止効果を有
する反射防止積層体をディスプレイ表面に張り合わせる
ことが知られている。このような反射防止積層体として
は、透明基材上にハードコート層を介して、膜厚制御が
比較的容易なドライコーティング法により形成した高屈
折率層と低屈折率層を交互に積層した４層構成が一般的
に知られている。しかし、この上記の４層構成の反射防
止積層体は製造時のコストが高くなってしまうため、近
年のコストダウン化のなかでより安価な構成の反射防止
積層体が求められていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記の場合、高屈折率
層と低屈折率層はいずれも光学膜厚の要求特性が厳し
く、これを単にウエットコートに工程変更しても、膜厚
自体が薄いために容易に反射防止性能が発揮できなかっ
た。本発明は、以上のような従来技術の課題を解決しよ
うとするものであり、一部の層をウエットコートとする
事で低コストとする構成を提供することが、本発明の目
的である。

【０００４】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
請求項１の発明は、透明基材上の少なくとも片面に、中
間屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層してなる反
射防止効果を有する積層体であって、中間屈折率層の光
学膜厚（ｎｄ）が約λ／４、高屈折率層の光学膜厚（ｎ
ｄ）が約λ／８、低屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が約λ
／４（各々λは反射防止効果を所望する波長）であるこ
とを特徴とする反射防止積層体である。この構成とする
事により、ドライ工程を２層のみで行う事が可能にな
り、コストダウンになる。請求項２の発明は、透明基材
上の少なくとも片面に、中間屈折率層、高屈折率層、低
屈折率層を積層してなる反射防止効果を有する積層体で
あって、中間屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が１５０〜１
８０ｎｍ、高屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が５０〜８０
ｎｍ、低屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が１３０〜１６０
ｎｍであることを特徴とする反射防止積層体である。こ
の構成とする事により、ドライ工程を２層のみで行う事
が可能になり、コストダウンになる。請求項３の発明
は、透明基材上の少なくとも片面に、中間屈折率層、高
屈折率層、低屈折率層を積層してなる反射防止効果を有
する積層体であって、中間屈折率層がウェットコーティ
ング膜であり、高屈折率層、低屈折率層がドライコーテ
ィング膜であることを特徴とする請求項１または２記載
の反射防止積層体である。この構成の場合、中間屈折率
層の光学膜厚（ｎｄ）が約λ／４またはもしくは１５０
〜１８０ｎｍという厚い膜であっても、ウェットコーテ
ィング膜であるために厚さによるコストアップがほとん
どなく、安価な膜の構成とする事ができる。請求項３の
発明は、透明基材上と中間屈折率層の間にウェットコー
ティング膜であるハードコート層を設けたことを特徴と
する請求項１または２記載の反射防止積層体である。こ
の構成により、中間屈折率層とハードコート層が連続し
てウェットコーティング膜であるため、効率よく成膜す
る事が可能になる。

【０００５】請求項５の発明は、ハードコート層の膜厚
が５〜２０μｍであることを特徴とする請求項記載の反
射防止積層体である。この構成により、十分な耐傷性能
が維持できる膜厚を安価に実現できる構成とする事が可
能になる。請求項６の発明は、ハードコート層が重合体
樹脂を主成分としていることを特徴とする請求項４また
は５記載の反射防止積層体である。この構成により、製
造が容易で、しかも十分な膜強度特性を実現できる構成
とする事が可能になる。請求項７の発明は、ハードコー
ト層が（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能
性モノマーを主成分とする重合体であることを特徴とす
る請求項６記載の反射防止積層体である。この構成によ
り、製造が容易で、しかも特に十分な膜強度特性を実現
できる構成とする事が可能になる。請求項８の発明は、
上記ハードコート層が光拡散作用を持つことを特徴とす
る請求項４乃至７何れか記載の反射防止積層体である。
この構成により、他に光拡散板を必要とせず、この構成
のみで特性を実現できる構成とするので安価な構成とす
る事が可能になる。請求項９の発明は、上記ハードコー
ト層に酸化珪素系微粒子が含有されていることを特徴と
する請求項４乃至８何れか記載の反射防止積層体であ
る。この構成により、安定性、耐熱性を実現できる構成
とするので安価な構成とする事が可能になる。

【０００６】請求項１０の発明は、低屈折率層の更に外
にドライコーティング膜である防汚層を設けたことを特
徴とする請求項１乃至９何れか記載の反射防止積層体で
ある。この構成により、高屈折率層、低屈折率層と防汚
層が連続してドライコーティング膜であるため、効率よ
く成膜する事が可能になる。請求項１１の発明は、防汚
層の光学膜厚（ｎｄ）が１〜１０ｎｍであることを特徴
とする請求項１０記載の反射防止積層体である。この構
成により、材料費を少なくでき、安価に実現できる構成
とする事が可能になる。請求項１２の発明は、防汚層が
フッ素含有シラン化合物であることを特徴とする請求項
１０または１１記載の反射防止積層体である。この構成
により、薄い膜で十分防汚性能を発揮できる、製造工程
を安価に実現できる構成とする事が可能になる。請求項
１３の発明は、防汚層がパーフルオロポリエーテル基含
有シランカップリング剤であることを特徴とする請求項
１２記載の反射防止積層体である。この構成により、薄
い膜で特に防汚性能を発揮できる、製造工程を安価に実
現できる構成とする事が可能になる。請求項１４の発明
は、中間屈折率層の屈折率が１．７〜１．８であること
を特徴とする請求項１乃至１３何れか記載の反射防止積
層体である。この構成により、反射防止性能を落とす事
なく、安価に実現できる構成とする事が可能になる。

【０００７】請求項１５の発明は、中間屈折率層が無機
系バインダーと該バインダーの屈折率より高い屈折率を
有する無機系微粒子とを含む組成であることを特徴とす
る請求項１乃至１４何れか記載の反射防止積層体であ
る。この構成により、安価にしかも容易に屈折率を調整
する事が可能になり、十分な反射防止特性を実現できる
構成とする事が可能になる。請求項１６の発明は、低屈
折率層が酸化珪素であることを特徴とする請求項１乃至
１５何れか記載の反射防止積層体である。この構成によ
り、安価にしかも十分な反射防止特性を実現できる構成
とする事が可能になる。請求項１７の発明は、高屈折率
層が酸化チタンであることを特徴とする請求項１乃至１
６何れか記載の反射防止積層体である。この構成によ
り、安価にしかも十分な反射防止特性を実現できる構成
とする事が可能になる。請求項１８の発明は、透明基材
が高分子フィルムであることを特徴とする請求項１乃至
１７何れか記載の反射防止積層体である。請求項１９の
発明は、透明基材上の少なくとも片面に、中間屈折率層
をウェットコーティング法により順次形成し、次に高屈
折率層、低屈折率層をドライコーティング法により順次
形成することを特徴とする反射防止積層体の製造方法で
ある。この方法により、４層と同等の性能の反射防止膜
を安価に製造する事が可能になる。

【０００８】請求項２０の発明は、透明基材上の少なく
とも片面に中間屈折率層を設ける前に、ウェットコーテ
ィング法によりハードコート層を形成することを特徴と
する請求項１９記載の反射防止積層体の製造方法であ
る。この方法により、ウェットコーティング処理が連続
し安価に製造する事が可能になる。請求項２１の発明
は、低屈折率層を設けた後に、ドライコーティング法に
より防汚層を形成することを特徴とする請求項１９また
は２０記載の反射防止積層体の製造方法である。この方
法により、ドライコーティング処理が連続し、いちいち
減圧工程を経る事なく安価に製造する事が可能になる。
請求項２２の発明は、中間屈折率層を光学膜厚（ｎｄ）
が単位面積当たり約λ／４の非揮発成分含む液をコーテ
ィングし、高屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が約λ／８、
低屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が約λ／４（各々λは反
射防止効果を所望する波長）である様にドライコーティ
ング法により膜厚制御することを特徴とする請求項１９
乃至２１何れか記載の反射防止積層体の製造方法であ
る。この方法により、安価な製造工程にもかかわらず、
性能的には４層の反射防止膜に劣らない膜を製造する事
が可能になる。請求項２３の発明は、中間屈折率層を光
学膜厚（ｎｄ）が単位面積当たり１５０〜１８０ｎｍの
非揮発成分含む液をコーティングし、高屈折率層の光学
膜厚（ｎｄ）が５０〜８０ｎｍの高屈折率層、低屈折率
層の光学膜厚（ｎｄ）が１３０〜１６０ｎｍである様に
ドライコーティング法により膜厚制御することを特徴と
する請求項１９乃至２１何れか記載の反射防止積層体の
製造方法である。この方法により、安価な製造工程にも
かかわらず、性能的には４層の反射防止膜に劣らない膜
を製造する事が可能になる。請求項２４の発明は、ハー
ドコート層、中間屈折率層をウェットコーティング法に
より順次形成する工程において、各々の塗布工程の後に
乾燥工程または架橋反応工程を付加したことを特徴とす
る請求項２０乃至２３何れか記載の反射防止積層体の製
造方法である。この方法により、ウエットコーティング
法にもかかわらず、十分な強度を持つ膜を製造する事が
可能になる。

【０００９】請求項２５の発明は、ウェットコーティン
グ法が、基材を巻き取りながら行う処理であることを特
徴とする請求項１９乃至２４何れか記載の反射防止積層
体の製造方法である。この方法により、部分的にでも連
続製造が可能になり、安価に製造する事が可能になる。
請求項２６の発明は、ドライコーティング法が、基材を
巻き取りながら行う処理であることを特徴とする請求項
１９乃至２５何れか記載の反射防止積層体の製造方法で
ある。この方法により、部分的にでも連続製造が可能に
なり、安価に製造する事が可能になる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
透明基材上の少なくとも片面に、ハードコート層、中間
屈折率層、高屈折率層、低屈折率層及び防汚層を形成し
た場合を図１に示す。透明基材１としては、種々の有機
高分子からなる基材をあげることができる。通常、光学
部材として使用される基材は、透明性、屈折率、分散な
どの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性など
の諸物性の点から、ポリオレフィン系（ポリエチレン、
ポリプロピレン等）、ポリエステル系（ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリア
ミド系（ナイロン−６、ナイロン−６６等）、ポリスチ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコ
ール、エチレンビニルアルコール、アクリル、セルロー
ス系（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス、セロファン等）等、或いはこれらの有機高分子の共
重合体などからなっている。これらの透明基材１を構成
する有機高分子に、公知の添加剤、例えば、帯電防止
剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止
剤、難燃剤等を含有させたものも使用することができ
る。また、この透明基材１としては、単層、あるいは複
数の有機高分子を積層したものでも良い。また、その厚
みは、特に限定されるものではないが、７０〜２００μ
ｍが好ましい。

【００１１】ハードコート層２は、透明基材表面の硬度
を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を
防止し、また、透明基材の屈曲による反射防止層のクラ
ック発生を抑制することができ、反射防止積層体の機械
的強度が改善できる。ハードコート層は（メタ）アクリ
ロイルオキシ基を含有する多官能性モノマーを主成分と
する重合物からなる。多官能性モノマーとしては、１，
４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−
ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチ
ルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メ
タ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロール
エタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３−ビ
ス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル
［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ
（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロ
イルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メ
タ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイル
オキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素
添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２
−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフ
ェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイ
ルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン
酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メ
タ）アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールＡジ
（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能
モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以
上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマ
ーと併用して共重合させることもできる。ハードコート
層２は透明基材と屈折率が同等もしくは近似しているこ
とがより好ましい。膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度
となるが、透明性、塗工精度、取り扱いから５〜７μｍ
の範囲が好ましい。

【００１２】前記ハードコート層２に平均粒径０．０１
〜３μｍの無機或いは有機物微粒子を混合分散させる。
または表面形状を凹凸させることで一般的にアンチグレ
アと呼ばれる光拡散性処理を施すことが出来る。これら
の微粒子は透明であれば特に限定されるものではない
が、低屈折率材料が好ましく、酸化珪素が安定性、耐熱
性等で好ましい。これらのハードコート層は均一に塗布
されるものであれば、塗布方法はいかなる方法でも構わ
ない。中間屈折率層３は、無機系バインダーと該バイン
ダーの屈折率よりも高い屈折率を有する無機系微粒子と
を含む組成で有ればよい。

【００１３】無機系パインダーとしては、Ｓｉ（ＯＣＨ
₃）₄、Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₄、Ｓｉ
〔ＯＣＨ（ＣＨ₃）₂〕₄、Ｓｉ（ＯＣ₄Ｈ₉）₄等の有機シ
ラン化合物の重合体からなるものが例示される。それら
を単独に、或いは２種類以上併せて用いても良い。上記
有機シラン化合物の重合体を作製する方法は限定されな
いが、加水分解によって作製するにあたっての触媒とし
ては、公知であり、塩酸、蓚酸、硝酸、酢酸、フッ酸、
ギ酸、リン酸、蓚酸、アンモニア、アルミニウムアセト
ナート、ジブチルスズラウレート、オクチル酸スズ化合
物、メタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、
パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が例示で
き、それらを単独に、或いは２種類以上併せて用いても
よい。上記無機系バインダーの屈折率よりも高い屈折率
を有する無機系微粒子としては、金属酸化物〔酸化アル
ミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、
酸化ジルコニウム、酸化トリウム、酸化アンチモン、酸
化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化
セリウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯ
ｘｉｄｅ）等〕等をあげることができる。特に、酸化チ
タンが好ましい。上記の無機系微粒子の粒径は、１〜５
００ｎｍであればよい。特に、５〜１００ｎｍが好まし
い。更に特に、１０〜１００ｎｍが好ましい。上記の無
機系バインダーと無機微粒子の混合比を変化させること
により、所望の屈折率を得ることが可能となる。

【００１４】前記中間屈折率層用コーティング剤は、通
常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として
用いられるものは、特に限定されないが、組成物の安定
性、ハードコート層２に対する濡れ性、揮発性などを考
慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、
ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル
類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキ
シレングリコール等のグリコール類、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカ
ルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化
水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が
挙げられる。また、溶媒は１種類のみならず２種類以上
の混合物として用いることも可能である。前記中間屈折
率層用コーティング剤は、ウェットコーティング法（デ
ィップコーティング法、スピンコーティング法、フロー
コーティング法、スプレーコーティング法、ロールコー
ティング法、グラビアロールコーティング法、エアドク
ターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤ
ードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リ
バースコーティング法、トランスファロールコーティン
グ法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティ
ング法、キャストコーティング法、スロットオリフィス
コーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコー
ティング法等）によりハードコート層２上に塗工され
る。塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、
その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い
塗膜を硬化させる。

【００１５】本発明の高屈折率層４を形成する無機化合
物としては、金属酸化物〔酸化アルミニウム、酸化マグ
ネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム、
酸化トリウム、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化
ビスマス、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化亜
鉛、ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）等〕
等をあげることができる。特に、酸化チタンが好まし
い。本発明の低屈折率層５を形成する無機化合物として
は、金属酸化物〔酸化珪素（二酸化珪素、一酸化珪素
等）等、〕、金属ハロゲン化物〔フッ化マグネシウム、
フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化ランタ
ン、フッ化セリウム、フッ化リチウム、フッ化トリウム
等〕等をあげることができる。特に、酸化珪素が好まし
い。上記の高屈折率層４及び低屈折率層５の形成方法と
しては、ＰＶＤ（ＰｈｙｓｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅ
ｐｏｓｉｔｉｏｎ）法（真空蒸着法、反応性蒸着法、イ
オンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法等）、ＣＶＤ（ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐ
ｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等の公知の方法により
形成される。本発明に用いられる中間屈折率層３、高屈
折率層４及び低屈折率層５の膜厚に関しては、中間屈折
率層の光学膜厚（ｎｄ）がλ／４、高屈折率層の光学膜
厚（ｎｄ）がλ／８、低屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が
λ／４（各々λは反射防止効果を所望する波長）である
場合に反射防止性能が最高となるのでそのように設計す
るのが好ましいが、波長λが可視光で４００ｎｍから７
００ｎｍまでの幅があるために表示装置等の特性により
λを５５０ｎｍを中心として各種の波長を中心として適
宜選択できる。また、このため光学膜厚（ｎｄ）は各々
中間屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）がλ／４、高屈折率層
の光学膜厚（ｎｄ）がλ／８、低屈折率層の光学膜厚
（ｎｄ）がλ／４丁度ではなく、膜厚制御等の工程上の
関係上３０ｎｍ程度の幅の膜厚変動は許容範囲であり、
その他各々光学特性の観点からもそれらの適正膜厚が決
定される。本発明の防汚層６は、フッ素含有シラン化合
物から構成される。特に、防汚性が優れているパーフル
オロポリエーテル基含有シランカップリング剤が好まし
い。防汚層６の膜厚は目的に応じ選択されるが、１０ｎ
ｍ以下が適している。また防汚層６の形成方法として
は、ＰＶＤ（ＰｈｙｓｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏ
ｓｉｔｉｏｎ）法（真空蒸着法、反応性蒸着法、イオン
ビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーテ
ィング法等）、ＣＶＤ（ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒ
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等の公知の方法により形成
される。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について詳
細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものでは
ない。

【００１７】〈実施例１〉〈ハードコート層の形成〉透明基材１としてＴＡＣフィ
ルム（厚さ８０μｍ）を用いた。また、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート、及びペンタエリスリトー
ルテトラアクリレートを用いてハードコート層用コーテ
ィング剤を調整した。このハードコート層用コーティン
グ剤をマイクログラビア法を用いてＴＡＣフィルム上に
膜厚５μｍで塗布し、１２０Ｗのメタルハライドランプ
を２０ｃｍの距離から１０秒照射することにより、ハー
ドコート層２を形成した。

【００１８】〈中間屈折率層の形成〉Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）
₄を３５ｗｔ％、ＴｉＯ₂ゾルを６５ｗｔ％で混合し、
０．１Ｎ−ＨＣｌを触媒に用いて、屈折率１．７７の中
間屈折率層用コーティング剤を作製した。その後、上記
ハードコート層を形成したＴＡＣフィルム上にマイクロ
グラビア法を用いて中間屈折率層用コーティング剤を光
学膜厚ｎｄ＝１６４ｎｍで塗布し、１２０℃で１分間乾
燥を行うことにより、中間屈折率層３を形成した。

【００１９】〈高屈折率層及び低屈折率層の形成〉その
後、中間屈折率層３上にプラズマアシスト蒸着法によ
り、高屈折率層４（ＴｉＯ₂）、低屈折率層５（Ｓｉ
Ｏ₂）の順序に成膜を行った。各層の光学膜厚ｎｄは、
ＴｉＯ₂（ｎｄ＝７０ｎｍ）、ＳｉＯ₂（ｎｄ＝１４５ｎ
ｍ）、屈折率は２．１、１．４５とした。光学膜厚は、
光学式膜厚モニターにより監視し、目的光量値に達した
時に成膜を止め、所定の光学膜厚を得た。

【００２０】〈防汚層の形成〉Ｃ₃Ｆ₇−（ＯＣ₃Ｆ₆）₂₄
−Ｏ−（ＣＦ₂）₂−Ｃ₂Ｈ₄−Ｏ−ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）
₃であるパーフルオロポリエーテル基含有シランカップ
リング剤をモリブデンボートに入れ、真空蒸着法（抵抗
加熱法）により、前記反射防止膜付ＴＡＣフィルム上に
成膜し、防汚層６を作製した。防汚層の光学膜厚ｎｄ
は、６ｎｍとした。得られた反射防止積層体の平均反射
率Ｙは０．１１３であった。また、防汚性も良好であ
り、表面に付着した指紋がテッシュペーパーで容易に拭
き取りが可能であった。

【００２１】

【発明の効果】本発明の中間屈折率層、高屈折率層、低
屈折率層及び防汚層の４層構成での反射防止積層体にお
いても、高屈折率層及び低屈折率層を交互に積層し、最
表面に防汚層を成膜した５層構成の反射防止積層体と同
等の性能を得ることが可能であり、コストダウンを可能
にした。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止積層体を示す断面図である。

【図２】本発明の実施例１の反射防止積層体について可
視光線部における反射スペクトルを示した図である。

【符号の説明】

１：透明基材２：ハードコート層３：中間屈折率層４：高屈折率層５：低屈折率層６：防汚層７：反射防止積層体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＡＧ０９Ｆ 9/00 ３１３Ｚ (72)発明者宇山晴夫東京都台東区台東１丁目５番１号凸版印刷株式会社内 (72)発明者保田雄一東京都台東区台東１丁目５番１号凸版印刷株式会社内Ｆターム(参考） 2K009 AA06 AA12 AA15 CC03 CC09 CC24 CC42 CC47 DD02 DD03 EE05 4D075 AE03 AE27 BB24Y BB85Z BB92Z CA02 CA03 CA34 CB02 CB03 CB06 DA04 DB33 DB36 DB37 DB38 DB40 DB43 DB48 DB53 DC24 EA07 EA12 EB01 EB16 EB22 EB24 EB43 4F100 AA01B AA20D AA20E AA20H AA21C AH06H AK01A AK25E AS00B AT00A BA03 BA05 BA06 BA07 BA10A BA10D BA10E BA26 DE01B DE01E EH46 EH462 EH66 EH662 GB41 JK12E JL06E JN01A JN06 JN18B JN18C JN18D JN18E YY00B 5G435 AA00 FF02 HH03 KK07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基材上の少なくとも片面に、中間屈折
率層、高屈折率層、低屈折率層を積層してなる反射防止
効果を有する積層体であって、中間屈折率層の光学膜厚
（ｎｄ）が約λ／４、高屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が
約λ／８、低屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が約λ／４
（各々λは反射防止効果を所望する波長）であることを
特徴とする反射防止積層体。
【請求項２】透明基材上の少なくとも片面に、中間屈折
率層、高屈折率層、低屈折率層を積層してなる反射防止
効果を有する積層体であって、中間屈折率層の光学膜厚
（ｎｄ）が１５０〜１８０ｎｍ、高屈折率層の光学膜厚
（ｎｄ）が５０〜８０ｎｍ、低屈折率層の光学膜厚（ｎ
ｄ）が１３０〜１６０ｎｍであることを特徴とする反射
防止積層体。
【請求項３】透明基材上の少なくとも片面に、中間屈折
率層、高屈折率層、低屈折率層を積層してなる反射防止
効果を有する積層体であって、中間屈折率層がウェット
コーティング膜であり、高屈折率層、低屈折率層がドラ
イコーティング膜であることを特徴とする請求項１また
は２記載の反射防止積層体。
【請求項４】透明基材上と中間屈折率層の間にウェット
コーティング膜であるハードコート層を設けたことを特
徴とする請求項１または２記載の反射防止積層体。
【請求項５】ハードコート層の膜厚が５〜２０μｍであ
ることを特徴とする請求項４記載の反射防止積層体。
【請求項６】ハードコート層が重合体樹脂を主成分とし
ていることを特徴とする請求項４または５記載の反射防
止積層体。
【請求項７】ハードコート層が（メタ）アクリロイルオ
キシ基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合
体であることを特徴とする請求項６記載の反射防止積層
体。
【請求項８】上記ハードコート層が光拡散作用を持つこ
とを特徴とする請求項４乃至７何れか記載の反射防止積
層体。
【請求項９】上記ハードコート層に酸化珪素系微粒子が
含有されていることを特徴とする請求項４乃至８何れか
記載の反射防止積層体。
【請求項１０】低屈折率層の更に外にドライコーティン
グ膜である防汚層を設けたことを特徴とする請求項１乃
至９何れか記載の反射防止積層体。
【請求項１１】防汚層の光学膜厚（ｎｄ）が１〜１０ｎ
ｍであることを特徴とする請求項１０記載の反射防止積
層体。
【請求項１２】防汚層がフッ素含有シラン化合物である
ことを特徴とする請求項１０または１１記載の反射防止
積層体。
【請求項１３】防汚層がパーフルオロポリエーテル基含
有シランカップリング剤であることを特徴とする請求項
１２記載の反射防止積層体。
【請求項１４】中間屈折率層の屈折率が１．７〜１．８
であることを特徴とする請求項１乃至１３何れか記載の
反射防止積層体。
【請求項１５】中間屈折率層が無機系バインダーと該バ
インダーの屈折率より高い屈折率を有する無機系微粒子
とを含む組成であることを特徴とする請求項１乃至１４
何れか記載の反射防止積層体。
【請求項１６】低屈折率層が酸化珪素であることを特徴
とする請求項１乃至１５何れか記載の反射防止積層体。
【請求項１７】高屈折率層が酸化チタンであることを特
徴とする請求項１乃至１６何れか記載の反射防止積層
体。
【請求項１８】透明基材が高分子フィルムであることを
特徴とする請求項１乃至１７何れか記載の反射防止積層
体。
【請求項１９】透明基材上の少なくとも片面に、中間屈
折率層をウェットコーティング法により順次形成し、次
に高屈折率層、低屈折率層をドライコーティング法によ
り順次形成することを特徴とする反射防止積層体の製造
方法。
【請求項２０】透明基材上の少なくとも片面に中間屈折
率層を設ける前に、ウェットコーティング法によりハー
ドコート層を形成することを特徴とする請求項１９記載
の反射防止積層体の製造方法。
【請求項２１】低屈折率層を設けた後に、ドライコーテ
ィング法により防汚層を形成することを特徴とする請求
項１９または２０記載の反射防止積層体の製造方法。
【請求項２２】中間屈折率層を光学膜厚（ｎｄ）が単位
面積当たり約λ／４の非揮発成分含む液をコーティング
し、高屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が約λ／８、低屈折
率層の光学膜厚（ｎｄ）が約λ／４（各々λは反射防止
効果を所望する波長）である様にドライコーティング法
により膜厚制御することを特徴とする請求項１９乃至２
１何れか記載の反射防止積層体の製造方法。
【請求項２３】中間屈折率層を光学膜厚（ｎｄ）が単位
面積当たり１５０〜１８０ｎｍの非揮発成分含む液をコ
ーティングし、高屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が５０〜
８０ｎｍの高屈折率層、低屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）
が１３０〜１６０ｎｍである様にドライコーティング法
により膜厚制御することを特徴とする請求項１９乃至２
１何れか記載の反射防止積層体の製造方法。
【請求項２４】ハードコート層、中間屈折率層をウェッ
トコーティング法により順次形成する工程において、各
々の塗布工程の後に乾燥工程または架橋反応工程を付加
したことを特徴とする請求項２０乃至２３何れか記載の
反射防止積層体の製造方法。
【請求項２５】ウェットコーティング法が、基材を巻き
取りながら行う処理であることを特徴とする請求項１９
乃至２４何れか記載の反射防止積層体の製造方法。
【請求項２６】ドライコーティング法が、基材を巻き取
りながら行う処理であることを特徴とする請求項１９乃
至２５何れか記載の反射防止積層体の製造方法。