JP5162813B2 - 反射防止材およびその製造方法 - Google Patents
反射防止材およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5162813B2 JP5162813B2 JP2005206628A JP2005206628A JP5162813B2 JP 5162813 B2 JP5162813 B2 JP 5162813B2 JP 2005206628 A JP2005206628 A JP 2005206628A JP 2005206628 A JP2005206628 A JP 2005206628A JP 5162813 B2 JP5162813 B2 JP 5162813B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- index layer
- layer
- meth
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
機能性の材料は、これらの紫外線や熱により劣化することがあり、それによる機能の低下が問題であった。特に機能層に色素、導電性高分子などの有機系の材料を含む場合に問題であった。
本発明における層構成は、基材上の少なくとも一方の面に低屈折率の層、もう一方に高屈折率の層を形成することにより製造される反射防止材である。
低屈折率層の屈折率を基材よりも0.01〜0.3低く、高屈折率の屈折率を基材よりも0.1〜1.0高くすることで、反射率をより低減できるものである。
また、その他、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、ポリスルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、アクリル、ナイロン、フッ素樹脂、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフォン等のフィルムもしくはシートを用いることもできる。
また、前記無機系マトリックスに用いられる有機珪素化合物と組み合わせて用いても良い。
前記光重合性プレポリマーとしては、例えば、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは1種用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
また、光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。特に本発明では、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等を用いることが好ましい。
活性エネルギー線としては、紫外線、電子線などが挙げられるが、特にこれらに制限されるものではない。
また、活性エネルギー線を照射する際、その雰囲気に限定されるものではなく、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガスなど様々な雰囲気下で照射することができる。
低屈折微粒子としては、屈折率の低い金属化合物粒子などが挙げられる。例えばシリカ粒子やフッ化マグネシウム粒子などがある。またこれらの複合粒子でも良い。
また、これらの粒子は多孔質であっても良い。
これらの粒子の平均粒径は、0.5〜200nmの範囲内であれは良い。この平均粒径が200nmよりも大きくなると、低屈折率層の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その透明性が低下する。また、この平均粒径が0.5nm未満であると、中空シリカ微粒子が凝集しやすくなってしまう。
塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。
アクリル系モノマーとしては、1、4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−(メタ)アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(2−ヒドロキシエチル)イソシアネートジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、2、3−ビス(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル[2.2.1]ヘプタン、ポリ1、2−ブタジエンジ(メタ)アクリレート、1、2−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、10−デカンジオール(メタ)アクリレート、3、8−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルトリシクロ[5.2.10]デカン、水素添加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、2、2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、1、4−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
これらの機能を有することで
このような近赤外線吸収剤は、必要な近赤外線吸収機能を有していればよいが、高屈折率層との相性、複数の近赤外線吸収剤を用いる場合はそれら同士での相性、溶剤との相性等と考慮して適宜選択するとよい。
また、可視光領域における光吸収率が極めて小さいこと近赤外線領域を出来得る限り吸収すること、塗膜形成、光、熱、湿度に耐え、塗料の経時安定性が高いことが好ましい。
色補正剤としては、シアニン(ポリメチン)系、キノン系、アゾ系、インジゴ系、ポリエン系、スピロ系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、シアニン系等の色素が挙げられるがこれに限られたものではない。また、プラズマディスプレイにおける、ネオン等からでる波長580〜610nmのオレンジ光をカットする目的であれば、シアニン系、ポルフィリン系、ピロメテン系などを用いることができる。
また、ハードコート層を設ける場合は、最初に基材の一方の面上に設け、その上に低屈折率層を設けた後に基材のもう一方の面上に低屈折率層を設ける。
各実験例で作成したフィルムの性能は、下記の方法に従って評価した
(反射率)
日立製作所製U−4000を用い5°反射にて測定した。
(鉛筆硬度)
JIS K5400に準拠し、試験機法により500g荷重で評価した。
(碁盤目剥離試験)
密着性はJIS K5400に準拠し、1mm幅クロスカットテープ剥離試験で残存するピールの割合を%で示した
(全光線透過率およびヘーズ)
全光線透過率およびヘーズは日本電色製 Haze Meter NDH 2000で測定を行った。
(粘着力)
JIS Z−0237に準じてインストロン型引張試験機によって300mm/分の引張速度で180°の角度で剥離した際の荷重を測定した。
(表面抵抗値)
ダイアインスツルメンツ製ハイレスタを用い500Vにて測定した。結果を表1に示す。
東洋紡製PETフィルムA4300(屈折率=1.65)の片面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分50%に希釈し、開始剤としてIrgacure184(チバスペシャルティケミカルズ)を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。70℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により4μm塗布し硬化させた。屈折率は1.52であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート12.7重量部、Irgacure184(チバスペシャルティケミカルズ)を2.2部、トルエンを6.0部、メタノール40.1部及びIPAを40.1部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物50部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル(固形分12.3重量%;日産化学工業製)50部に加えて良く攪拌し、紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により0.1μm塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は1.41であった。このフィルムの最小反射率は2.5%であり、鉛筆硬度2H、密着性はクロスカット試験残存ピール数100/100(両面)、全光線透過率91.5%だった。結果を表1に示す。
東洋紡製PETフィルムA4300の片面(屈折率=1.65)にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分50%に希釈し、開始剤としてIrgacure184(チバスペシャルティケミカルズ)を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。70℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により4μm塗布し硬化させた。屈折率は1.52であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート12.7重量部、Irgacure184(チバスペシャルティケミカルズ)を2.2部、トルエンを6.0部、メタノール40.1部及びIPAを40.1部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物50部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル(固形分12.3重量%;日産化学工業製)50部に加えて良く攪拌し、紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により0.1μm塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は1.41であった。さらにPETフィルムの他方の面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分50%に希釈し、開始剤としてIrgacure184(チバスペシャルティケミカルズ)を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。70℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により4μm塗布し硬化させた膜を形成させた。屈折率は1.52であった。このフィルムの最小反射率は2.8%、鉛筆硬度3H、密着性はクロスカット試験残存ピール数100/100(両面)、全光線透過率92%だった。結果を表1に示す。
Claims (8)
- 基材上の少なくとも一方の面に基材よりも屈折率が低い低屈折率層が形成されており、もう一方の面に基材よりも屈折率が高い高屈折率層を形成する反射防止材であって、前記基材の屈折率が1.65であり、前記低屈折率層の屈折率が1.41であり、前記高屈折率層の屈折率が1.70であり、前記高屈折率層が有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に高屈折率微粒子を含むものからなることを特徴とする反射防止材。
- 前記低屈折率層が、ハードコート性を有することを特徴とする請求項1に記載の反射防止材。
- 前記低屈折率層が、ハードコート層の上に形成され、前記ハードコート層の屈折率が1.52であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止材。
- 前記高屈折率層が、導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性のうちいずれか一つ以上の機能を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止材。
- 基材の一方の面に、基材よりも屈折率が低い低屈折率層を形成する工程、その後基材のもう一方の面に基材よりも屈折率が高い高屈折率層を形成する工程、を有する反射防止材であって、前記基材の屈折率が1.65であり、前記低屈折率層の屈折率が1.41であり、前記高屈折率層の屈折率が1.70であり、前記高屈折率層が有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に高屈折率微粒子を含むコーティング剤をコーティングして得られたものであることを特徴とする反射防止材の製造方法。
- 前記低屈折率層がハードコート性を有することを特徴とする請求項5に記載の反射防止材の製造方法。
- 基材の一方の面に、ハードコート層を形成する工程、さらにその上に基材よりも屈折率が低い低屈折率層を形成する工程、その後基材のもう一方の面に基材よりも屈折率が高い高屈折率層を形成する工程、を有する反射防止材であって、前記基材の屈折率が1.65であり、前記低屈折率層の屈折率が1.41であり、前記高屈折率層の屈折率が1.70であり、前記ハードコート層の屈折率が1.52であり、前記高屈折率層が有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に高屈折率微粒子を含むコーティング剤をコーティングして得られたものであることを特徴とする反射防止材の製造方法。
- 前記高屈折率層が、導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性のうちいずれか一つ以上の機能を有することを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の反射防止材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005206628A JP5162813B2 (ja) | 2005-07-15 | 2005-07-15 | 反射防止材およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005206628A JP5162813B2 (ja) | 2005-07-15 | 2005-07-15 | 反射防止材およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007025201A JP2007025201A (ja) | 2007-02-01 |
JP5162813B2 true JP5162813B2 (ja) | 2013-03-13 |
Family
ID=37786060
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005206628A Expired - Fee Related JP5162813B2 (ja) | 2005-07-15 | 2005-07-15 | 反射防止材およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5162813B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007045168A1 (de) * | 2007-09-20 | 2009-04-02 | Tesa Ag | Transparentes Klebeband |
JPWO2011027827A1 (ja) * | 2009-09-07 | 2013-02-04 | 旭硝子株式会社 | 基材の表面に低反射膜を有する物品 |
JP5881096B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2016-03-09 | 株式会社タムロン | 反射防止膜及び光学素子 |
JP6191219B2 (ja) * | 2013-04-25 | 2017-09-06 | 株式会社リコー | 積層基板、圧電素子、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置 |
CN110799330B (zh) * | 2017-07-03 | 2022-12-27 | 迪睿合电子材料有限公司 | 微细凹凸层积体及其制造方法、以及照相机模块搭载装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63172201A (ja) * | 1987-01-12 | 1988-07-15 | Nikon Corp | 2層反射防止膜 |
JP2576581B2 (ja) * | 1988-04-14 | 1997-01-29 | 三井石油化学工業株式会社 | 高光透過性防塵膜およびその製造方法 |
JPH07287102A (ja) * | 1994-04-14 | 1995-10-31 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置 |
JPH11274792A (ja) * | 1998-03-23 | 1999-10-08 | Nof Corp | 電磁波シールド性減反射材およびその製造方法 |
JPH11282365A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-15 | Mitsui Chem Inc | プラズマディスプレイ用電磁波シールド |
JP2000275431A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 帯電防止性反射防止膜 |
JP4314803B2 (ja) * | 2001-09-28 | 2009-08-19 | 日油株式会社 | 減反射フィルム |
JP2004361525A (ja) * | 2003-06-03 | 2004-12-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学フィルタおよびこれを用いたディスプレイ |
-
2005
- 2005-07-15 JP JP2005206628A patent/JP5162813B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007025201A (ja) | 2007-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4853813B2 (ja) | 反射防止積層体 | |
TWI395667B (zh) | 抗反射薄膜 | |
JP6607510B2 (ja) | 光硬化性コーティング組成物、低屈折層および反射防止フィルム | |
KR100867338B1 (ko) | 코팅 조성물, 그 도막, 반사 방지막, 반사 방지 필름, 화상 표시 장치 및 중간 제품 | |
JP4362509B2 (ja) | 反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
KR101074948B1 (ko) | 반사 방지 필름, 전자파 실드성 광 투과창재, 가스 방전형발광 패널, 플랫 디스플레이 패널, 진열창재 및 태양 전지모듈 | |
TWI387790B (zh) | 紅外線吸收薄膜 | |
JP4187454B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
JP4923345B2 (ja) | コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、及び、反射防止フィルム | |
WO2005088587A1 (ja) | 透明積層体 | |
JP2006047504A (ja) | 反射防止積層体 | |
JP4712236B2 (ja) | 反射防止膜、反射防止フィルム、画像表示装置、及び、それらの製造方法 | |
JP2003004904A (ja) | 高屈折率化した防眩層を有する反射防止フィルム及び低反射表示装置 | |
JP5162813B2 (ja) | 反射防止材およびその製造方法 | |
JP4899263B2 (ja) | コーティング組成物、及び、その塗膜 | |
JPWO2015198762A1 (ja) | 光学反射フィルム、光学反射フィルムの製造方法、およびそれを用いる光学反射体 | |
JP4633503B2 (ja) | 光学積層体 | |
JP4857496B2 (ja) | 複合体、コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、反射防止フィルム、及び、画像表示装置 | |
JP2009222801A (ja) | 光学フィルム | |
JP2004300210A (ja) | コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、反射防止フィルム、及び画像表示装置 | |
WO2012098923A1 (ja) | 透過率向上フィルム | |
JP2009015289A (ja) | 反射防止フィルム及びそれを用いたディスプレイ用前面板 | |
JP2006258897A (ja) | 反射防止膜付き透明基材 | |
JP2007245622A (ja) | ハードコート層用組成物及び積層体 | |
JP6199841B2 (ja) | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、ディスプレイパネル及びディスプレイ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080625 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110308 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120228 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120420 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121120 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121203 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151228 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |