WO2005088587A1 - 透明積層体 - Google Patents

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WO2005088587A1
WO2005088587A1 PCT/JP2005/002676 JP2005002676W WO2005088587A1 WO 2005088587 A1 WO2005088587 A1 WO 2005088587A1 JP 2005002676 W JP2005002676 W JP 2005002676W WO 2005088587 A1 WO2005088587 A1 WO 2005088587A1
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layer
transparent
infrared
laminated portion
shielding layer
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Application number
PCT/JP2005/002676
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English (en)
French (fr)
Inventor
Tomohiko Iijima
Original Assignee
Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.
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Publication date
Application filed by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. filed Critical Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.
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Priority to US10/592,233 priority patent/US20070195404A1/en
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    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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    • G02B5/20Filters
    • G02B5/208Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
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    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
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    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
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    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
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    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C09B67/00Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
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    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
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    • H01J2211/00Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
    • H01J2211/20Constructional details
    • H01J2211/34Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J2211/44Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters or lenses
    • H01J2211/446Electromagnetic shielding means; Antistatic means

Definitions

  • the present invention relates to a transparent laminate, and more specifically, to an optical display on a display surface of a display device such as a plasma display.
  • the present invention relates to a transparent laminate useful as a filter.
  • Plasma display devices consist of a front glass substrate having display electrodes, pass electrodes, dielectric layers and protective layers, and data electrodes, dielectric layers, and strip parallels.
  • a cell is formed by bonding a back glass substrate having a phosphor layer so that electrodes are orthogonal to each other, and a discharge gas such as xenon is sealed in the cell.
  • the light emission of the plasma display device occurs when xenon discharge occurs when a voltage is applied between the data electrode and the display electrode, and the xenon ions in the plasma state return to the base state.
  • Ultraviolet light is generated, and this ultraviolet light excites the phosphor layer to emit red (R), green (G), and blue (B) light.
  • a plasma display device In the process of emitting these visible lights, near-infrared rays and electromagnetic waves are generated in addition to these visible lights. Therefore, a plasma display device is generally provided with an anti-reflection film, a near-infrared absorbing film, and a filter provided with an electromagnetic wave cutting function on the front surface of a glass-based plasma display light-emitting portion.
  • the plasma display device is considered to be useful as a thin display device because it requires a small installation space, and is useful as a wall-mounted display device. Have been.
  • a PDP device including a light-emitting means is provided in the above-described plasma display device. Since the optical filter means, which is formed by laminating a film laminate in which several layers of film are laminated on glass, is installed with a space in between, it cannot be said that sufficient weight reduction has been achieved. In fact, in order to hang it on the wall of a general household, it is necessary that the wall is sufficiently strong, and it may be necessary to reinforce the wall itself in advance.
  • the main electromagnetic shielding finolem used for optical filters is the force of an etched metal (copper) mesh, and the exposed metal (copper) on the etched end face.
  • the reflection color peculiar to metal (copper) gives a defect to the color tone of the displayed image.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-3198059 Disclosure of the Invention
  • the present invention has excellent anti-reflection properties, near-infrared shielding properties, and electromagnetic wave shielding properties, is excellent in durability and visibility, is lightweight, is easy to manufacture and handle, and is, for example, a plasma display device.
  • An object of the present invention is to provide a transparent laminate that can be used as an optical filter on the display surface of a display device such as the one described above.
  • the transparent laminate of the present invention includes a first transparent portion, a first laminated portion including a first transparent substrate, an antireflection layer formed on one surface thereof, and a near-infrared shielding layer formed on another surface, and a second transparent portion.
  • Base material and electromagnetic wave shielding layer formed on one surface And a near-infrared shielding layer of the first laminated portion, and an adhesive layer joining the second laminated portion.
  • the electromagnetic wave shielding layer is preferably a metal mesh layer.
  • the near-infrared shielding layer of the first laminated portion and the electromagnetic wave shielding layer of the second laminated portion are joined.
  • the second laminated portion may further include a back surface adhesive layer formed on another surface of the second transparent base material.
  • the adhesive strength of the back surface adhesive layer of the second laminated portion is 1 to 20 N / 25 mm.
  • the near-infrared shielding layer of the first laminated portion is a first near-infrared absorbing dye composed of at least one kind of near-infrared absorbing dimodium compound,
  • At least 30% by mass of the ethylenically unsaturated monomer constituting the polymer for a transparent resin is represented by the following general formula (2):
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group
  • X represents a cyclic hydrocarbon group having 6 to 25 carbon atoms.
  • the monomer be wheat.
  • the near-infrared-absorbing dimonium compound for the first near-infrared absorbing dye contained in the first laminated portion near-infrared shielding layer comprises a dimonium compound cation and the following chemical formula (1):
  • the near-infrared absorbing dimonium compound for the first near-infrared absorbing dye contained in the near-infrared shielding layer of the first laminated portion is represented by the following chemical formula (3):
  • the transparent resin contained in the near-infrared shielding layer of the first laminated portion has a glass transition temperature of 60 to 120 ° C and a number average of 20,000 to 80,000. It preferably has a molecular weight and a weight average molecular weight of 200,000 to 400,000.
  • the antireflection layer of the first laminated portion may be a hard coat layer, a conductive middle refractive index layer laminated on the hard coat layer, and the conductive middle refractive index layer. It is composed of a high refractive index layer laminated on top and a low refractive index layer laminated on this high refractive index layer It is preferable.
  • the hard coat layer included in the antireflection layer contains oxide fine particles and a binder component, and the content of the oxide fine particles is 30% by mass or more. Is preferred.
  • the metal mesh layer included in the second laminated portion includes a metal mesh having a surface blackened by a black metal electrolytic plating. .
  • the electromagnetic wave shielding layer has a thickness of 1 to 1
  • an impact absorbing layer is further included between the near-infrared shielding layer of the first laminated portion and the adhesive layer.
  • an antireflection layer is formed on one surface of a first transparent base material, and thereafter, a near-infrared shielding layer is formed on another surface of the first transparent base material, Forming a first laminated portion, separately forming a metal mesh layer on one surface of the second transparent substrate to form a second laminated portion, the near-infrared shielding layer of the first laminated portion, and the second laminated portion And a metal mesh layer of the portion is bonded via an adhesive layer to form a laminate.
  • an ink containing a catalyst is provided on one surface of the second transparent base material to form a desired mesh.
  • the transparent laminate of the present invention has an antireflection property, a near-infrared shielding property, an electromagnetic wave shielding property. Excellent in opacity, durability in use, easy visual observation of images, light weight, and therefore easy to manufacture and handle, and as an optical filter for display surfaces of various display devices such as plasma display devices. It is practically useful. Brief Description of Drawings
  • FIG. 1 is a cross-sectional explanatory view of an example of the transparent laminate of the present invention
  • FIG. 2 is a cross-sectional explanatory view of another example of the transparent laminate of the present invention
  • FIG. 3 is a transparent laminate of the present invention
  • FIG. 4 is a cross-sectional explanatory view of an antireflection layer of FIG. 4, and
  • FIG. 4 is a front explanatory view of a transparent laminate of the present invention
  • FIG. 5 is a partial cross-sectional explanatory view when the transparent laminate of the present invention is mounted on a PDP.
  • the transparent laminate 1 of the present invention includes a first transparent substrate 11, an antireflection layer 12 formed on one surface thereof, and a near-infrared ray formed on the other surface.
  • each of the above functional layers is formed on a separate transparent substrate, and the transparent substrate carrying these functional layers is laminated to a glass panel via an adhesive layer. It was formed by this.
  • the antireflection layer is formed on one surface of the first transparent substrate and the near-infrared shielding layer is formed on the other surface, the number of the transparent substrate and the number of adhesive layers is reduced. Reduces and achieves high transmittance and low haze Thus, improved optical properties can be obtained.
  • the transparent laminate of the present invention has the above-described configuration, it does not contribute to each function, and in some cases, reduces the number of base materials and the number of adhesive layers that may have a bad influence while reducing the number of adhesive layers. It constitutes an integrated transparent laminate having various functions in combination. Also, since only one bonding step is required, the number of manufacturing steps is reduced, manufacturing yield is improved, product performance is stabilized, and reliability is improved. Further, since the antireflection layer forms the outermost layer of the transparent laminate, an excellent antireflection effect can be obtained.
  • the transparent laminate of the present invention includes a first transparent base, a first laminated portion having an antireflection layer and a near-infrared shielding layer formed on each surface thereof, a second transparent base, and one surface thereof.
  • a second laminated portion having an electromagnetic wave shielding layer formed on the first laminated portion and a near infrared shielding layer side of the first laminated portion and an electromagnetic wave shielding layer side of the second laminated portion are laminated and bonded via an adhesive layer. It is preferable that In this case, since the near-infrared shielding layer and the electromagnetic wave shielding layer are protected by being sandwiched between the first and second transparent base materials, the performance is excellent in durability, weather resistance, and reliability. It becomes.
  • the adhesive layer fills the gaps of the metal mesh of the metal mesh layer, and a transparent laminate having no gaps is obtained.
  • the type and composition of the first transparent substrate and the second transparent substrate are not limited as long as they are transparent materials.
  • the material constituting the first and second transparent base materials is generally preferably selected from transparent plastic materials.
  • a plate- or sheet-like or film-like polyester-based base material or triacetyl cellulose is preferably used.
  • the thickness is not particularly limited, and is usually 50 ⁇ ! A film or plate having a size of about 10 mm can be used.
  • polyester-based substrates a polyethylene terephthalate (hereinafter also referred to as PET) substrate is particularly preferred because of its excellent durability, solvent resistance, productivity, and the like.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the first transparent substrate and the second transparent substrate may be colored to adjust the color tone and the transmittance.
  • the transparent laminate of the present invention is excellent in the antireflection effect, near-infrared ray shielding effect, and electromagnetic wave shielding effect required for a plasma display. For this reason, an optical filter having excellent characteristics can be applied to the display surface of a plasma display by attaching the transparent laminate to a panel made of glass, plastic, or the like, or by directly attaching the transparent laminate to the display surface of the plasma display. Can be formed. In particular, when a film-shaped transparent plastic substrate is used as the first transparent substrate and the second transparent substrate, a lightweight and flexible transparent laminate can be formed.
  • the transparent laminate of the present invention including a substrate is particularly suitable for directly attaching to a display surface of a plasma display.
  • the transparent laminate of the present invention it is preferable to use a material having an ultraviolet shielding property as the first transparent substrate.
  • a material having an ultraviolet shielding property is used as the first transparent substrate.
  • the near-infrared absorbing dye used in the near-infrared shielding layer usually has low resistance to ultraviolet light, and the material for the near-infrared absorbing dye is used as the first transparent base material.
  • a transparent substrate having ultraviolet shielding properties can be obtained by including an ultraviolet absorbent in the first transparent substrate made of the above-mentioned material.
  • UV absorbers include benzophenone UV-absorbing compounds such as benzotriazoles, benzotriazoles, aminobenzoic acids, and salicylic acids.
  • the ultraviolet absorber In general, a sufficient effect cannot be obtained unless an ultraviolet absorber is used in an amount exceeding a certain amount.
  • an ultraviolet absorber When an ultraviolet absorber is added to a thin coating layer, the amount of the ultraviolet absorber that can be contained in the coating layer is limited, and it is difficult to obtain the required ultraviolet shielding effect.
  • the first transparent substrate since the near-infrared shielding layer is located inside the first transparent substrate, the first transparent substrate itself, which has a larger thickness than the coating layer, has an ultraviolet absorber. By containing, it is possible to contain a sufficient amount of the ultraviolet absorber, thereby suppressing deterioration of the near-infrared absorbing dye and maintaining excellent near-infrared absorbing performance. it can.
  • the ultraviolet transmittance is preferably 2% or less in an ultraviolet region of 380 nm or less.
  • the near-infrared ray shielding layer preferably has a property of shielding near-infrared rays in a wavelength range of 800 to 110 nm, for example, a near-infrared ray absorption in a resin matrix. It is preferable that the pigment contains a dye.
  • the near-infrared absorbing dye is not particularly limited as long as it has a near-infrared ray shielding property in a range of 800 to 110 O nm, and examples thereof include dimonium compounds, amidium compounds, and phthalocyanine.
  • organic metal complex compounds cyanine compounds, azo compounds, polymethine compounds, quinone compounds, diphenylmethane compounds, triphenylmethane compounds, mercaptonnaphthol compounds, etc. These may be used alone or in combination of two or more as appropriate.
  • Zydomium compounds are used in the near-infrared region with a wavelength of 850-1100 nm. It has strong absorption with a molar extinction coefficient of about 100,000, and is therefore excellent in near-infrared shielding. Zydomium compounds have a slight absorption in the visible light region at a wavelength of 400 to 500 nm and exhibit a yellow-brown transmitted color, but have a higher visible light transmittance than other near-infrared absorbing dyes. Therefore, the near-infrared absorbing dye used in the transparent laminate of the present invention preferably contains at least one kind of dimodium compound.
  • the near-infrared absorbing di-mode compound for the near-infrared shielding layer used in the transparent laminate of the present invention includes a di-monium compound cation and the above-mentioned chemical formula (1): (CF 3 S 0 2 ) 2 N
  • a compound composed of a counter anion represented by — is preferably used, and as such a near-infrared absorbing dimonium compound, a compound represented by the chemical formula (3) is preferably used. .
  • the transmittance of near-infrared light having a wavelength of 900 to 1000 nm is preferably 20% or less.
  • the preferred compounding amount of the near-infrared absorbing dye in the near-infrared shielding layer varies depending on the thickness of the near-infrared shielding layer, but a dimmodium compound is used, and the thickness of the near-infrared shielding layer is Is designed to be about 5 to 50 ⁇ , the blending amount of the near-infrared absorbing dye compound is 0.5 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the transparent resin used as the matrix. It is preferable to set the degree.
  • the compounding amount of the near-infrared absorbing dye compound is more than 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the transparent matrix resin, segregation of the dye may occur in the obtained near-infrared shielding layer, or visible light transparency may be reduced. Deterioration may occur.
  • the dimonium compound having a melting point of 190 ° C. or more should be used. It is preferable. Those whose melting point is lower than 190 ° C are deteriorated under high temperature and high humidity for those with a melting point of 190 ° C or higher, a near-infrared shielding layer having practically good durability can be obtained in addition to selecting a suitable matrix resin type described later. be able to.
  • the near-infrared ray shielding layer in order for the near-infrared ray shielding layer to exhibit practically sufficient near-infrared ray shielding properties, it is preferable to use a near-infrared ray transmissivity of a wavelength of 850 to 900 nm or a near-infrared ray absorbing dye of 20% or less.
  • a near-infrared ray transmissivity of a wavelength of 850 to 900 nm or a near-infrared ray absorbing dye of 20% or less For this purpose, for example, when a dimodium compound is used, it further has an absorption maximum at 750 to 900 nm as a second near-infrared absorbing dye, and substantially has a visible light region.
  • One or more colors that have no specific absorption for example, the absorption coefficient at the absorption maximum wavelength, wavelengths 450 nm (center wavelength of blue light), 525 nm (center wavelength of green light), and 620 nm (red light
  • the absorption coefficient at the absorption maximum wavelength wavelengths 450 nm (center wavelength of blue light), 525 nm (center wavelength of green light), and 620 nm (red light
  • the wavelength is 450 nm (the center of the blue light).
  • Wavelength), 525 nm (the center wavelength of green light), and 620 nm (the center wavelength of red light) are less than 60%, and the transmittance in the visible region is practically insufficient. It may be.
  • the absorption maximum at 750 to 900 nm has an absorption maximum at 750 to 900 nm.
  • Examples of the second compound for a near-infrared absorbing dye in which the ratio with respect to each extinction coefficient in (2) is 5.0 or more include, for example, a dithiol nickel complex compound and an indium compound.
  • phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds and the like In particular, phthalocyanine-based compounds and naphthalocyanine-based compounds generally have excellent durability and are therefore preferred. Although it can be used suitably, naphthalocyanine compounds are more expensive, and phthalocyanine compounds are more preferably used practically.
  • the transmittance of visible light at a wavelength of 590 nm is preferably at least 10% lower than the transmittance of visible light at each of wavelengths of 450 nm, 525 nm, and 620 nm.
  • the transparent laminate of the present invention is used as an optical filter, the contrast of a display such as a plasma display is improved, and the color tone correction function is enhanced.
  • the near-infrared shielding layer is required.
  • the coloring material that selectively absorbs visible light having a wavelength of 590 nm is not particularly limited as long as it does not adversely affect the compositional change of the dimonium compound.
  • the coloring material that selectively absorbs visible light having a wavelength of 590 nm is not particularly limited as long as it does not adversely affect the compositional change of the dimonium compound.
  • quinataridone pigments, azomethine compounds It is preferable to use a cyanine compound, a porphyrin compound, or the like.
  • the matrix resin for the near-infrared absorbing dye for example, an acrylic resin and a methacrylic resin can be used, but a transparent resin having a glass transition point of 60 ° C or more can be used. It is preferable to use a resin, and it is desirable that such a transparent resin be either an acryl resin or a methacryl resin.
  • the resin softens when exposed to a high temperature of 60 ° C or more for a long time, and at the same time, the dyes in the near-infrared shielding layer, especially, the dymium-based dye
  • the dye compound is susceptible to alteration, which may result in a decrease in long-term stability, such as a loss of color balance of the transparent laminate and a decrease in near-infrared shielding.
  • the dye especially dimonium Thermal degradation of the dye composed of a rubber compound can be suppressed.
  • the resin satisfying the above requirements include a polyester-based resin, an acryl-based resin, and a methacryl-based resin. It is preferable to use an acrylic resin and / or a methacrylic resin having excellent adhesion.
  • the near-infrared ray absorbing dye and the matrix resin are dissolved or dispersed in a solvent, and the obtained solution or dispersion is used as the first transparent base material.
  • a forming method in which a solvent is applied on one surface and a solvent is dried and evaporated.
  • the coating method may be an ordinary method for forming a coating layer.
  • a coating method using a coating device such as a bar coater, a gravure reverse coater, or a slit die coater may be used.
  • Examples of the solvent for the coating liquid for forming a near-infrared shielding layer include methyl ethyl ketone, methyl isoptyl ketone, cyclohexanone, acetone, acetonitrile, dichloromethane, and dimethyl. Examples thereof include formamide, butyl acetate, and toluene. These can be used alone or as a mixture.
  • the configuration and composition of the antireflection layer formed on the other surface of the first transparent base material are not limited, and may have a single-layer structure, or may have a plurality of structures. May be. Further, a conductive layer such as an antistatic layer and a thin film layer having a function such as Z or an antiglare layer may be further formed on the antireflection layer.
  • Electromagnetic wave shielding layer In the transparent laminate of the present invention, there is no limitation on the configuration and composition of the electromagnetic wave shielding layer formed on one surface of the second transparent base material of the second laminated portion, and the electromagnetic wave shielding layer has image shielding properties and image transparency. Any material may be used as long as it is formed as described above. For example, a metal mesh layer, a transparent conductive film containing a conductive substance, or the like can be used.
  • the metal mesh layer may be one in which a metal mesh is attached to a second transparent base material, a metal foil such as ⁇ ! Foil is laminated on the second transparent base material, or It is possible to use a metal layer formed by plating a metal such as the above and then etching the metal layer to form a mesh pattern.
  • a metal mesh attached to the second transparent base material a metal mesh or a metal mesh attached to a fiber surface is used.
  • a conductive material such as silver formed by vapor deposition, sputtering, or the like is used as the transparent conductive film layer.
  • the thickness of the electromagnetic wave shielding layer is preferably from 1 to 15 ⁇ , more preferably from 1 to 10 ⁇ .
  • the metal mesh layer is thicker than 15 ⁇ m, the viewing angle is narrowed and visibility is reduced. Even when the surface is blackened, when viewed from an oblique direction, the metal mesh is hardly blackened in the depth direction, and the color tone of the metal is exposed, causing a problem with the color tone of the screen.
  • an electromagnetic wave shielding layer 22 is formed on one surface of the second transparent base material 21, and A back adhesive layer 41 may be formed on the surface of the substrate.
  • the transparent laminate of the present invention can be attached to a panel such as glass or plastic, or directly attached to the display surface of a plasma display.
  • An optical filter having excellent characteristics can be fixed to the display surface of the play.
  • the adhesive (adhesive) strength of the back adhesive layer is preferably 1 to 20 N / 25 mm (1 to 20 N / 1 inch) at the initial stage of the adhesion (adhesion). It is preferably from 1 to 15 NZ25 mm, more preferably from 1 to 1 ON / 25 mm, and even more preferably from 4 to 8 NZ25 mm. This is because, when the transparent laminate of the present invention is directly attached to the display surface of a plasma display as an optical filter, it may be necessary to peel it again after attaching. For example, if the attachment position is incorrect, or if the optical filter is damaged after attachment, the optical filter is peeled off and the module is reused.
  • the strength is preferably a certain degree of weak adhesion.
  • the adhesive (adhesive) strength increases with time, and when the adhesive strength reaches an equilibrium, the adhesive strength is 5 to 25 N / 25 mm. It is more preferably, and it is preferably in the range of 10 to 15 1 ⁇ / 25 111 111.
  • the adhesive layer having a relatively low adhesive strength on the back surface of the second laminated portion of the transparent laminate of the present invention, the transparent laminate can be peeled off in case of emergency. And the expensive module body can be reused.
  • the near-infrared shielding layer includes at least one kind of near-infrared shielding layer composed of a didium compound cation and a counter anion represented by the chemical formula (1).
  • Infrared absorbing first near-infrared absorbing dye consisting of dimodium compound, 750-950n a second near-infrared absorbing dye, which has an absorption maximum in the near infrared wavelength region of m and is at least one kind of a dye compound different from the di-bromo-based compound; and
  • a transparent resin containing a polymer of an ethylenically unsaturated monomer, and at least 30% by mass of the at least one ethylenically unsaturated monomer is represented by the general formula (2). It is preferable that the monomer be a monomer.
  • a dimonium compound as the near-infrared absorbing dye.However, when a dimonium compound is left for a long time in a high-temperature, high-humidity atmosphere, its composition deteriorates. There is a problem that is inevitable.
  • the present inventor studied the mechanism of the alteration of the dimonium compound under a high-temperature and high-humidity atmosphere. As a result, the alteration was caused by the presence of water in the resin composition coating film and the heat energy by heating. It was discovered that the counteranion was decomposed. Further, the present inventor has disclosed a dimonium-based cationic compound having a specific counteranion represented by the chemical formula (1), which is different from the first near-infrared absorbing dye, has an absorption maximum in the near-infrared region, and is visible A second near-infrared absorbing dye having substantially no absorption in the optical region, and a transparent resin produced from a monomer containing at least 30% by mass of the specific monomer compound represented by the general formula (2).
  • the near-infrared shielding layer contains little change in chromaticity in high-temperature and high-humidity atmospheres and long-term exposure to external light, has high transmittance in the visible light region, and high near-infrared shielding in the 850-1000 nm region. It does not degrade the properties of the near-infrared shielding layer by being combined, heating, pressurizing, and contacting with the adhesive layer. It has been found that lamination joining is possible.
  • the first near-infrared absorbing dye it is preferable to use a compound composed of the counter-one of the formula (1) and a dimonium compound cation. Since the dimonium-based cationic compound has a specific counter-anion represented by the chemical formula (1), when it is included in the near-infrared shielding layer, the counter-on of the chemical formula (1) becomes It shows strong resistance to decomposition due to the interposition of moisture and heat energy due to heating, thereby suppressing the deterioration of the first pigment in composition.
  • the average transmittance at a wavelength of 850 nm to 90 nm is preferable to control the average transmittance at a wavelength of 850 nm to 90 nm to 20% or less.
  • a sufficient near-infrared shielding property cannot be obtained in the above wavelength region, and the near-infrared shielding property is improved.
  • the near-infrared shielding layer forming paint of the present invention.
  • the obtained near-infrared shielding layer has 850nn! In the near-infrared region of ⁇ 100Onm, it is possible to form a coating film having excellent near-infrared shielding properties and further having excellent transparency even in a visible light portion.
  • the second near-infrared absorbing dye used in the present invention has an absorption coefficient of 450 nm (the center wavelength of blue light), 525 nm (the center wavelength of green light) and 620 nm (the center wavelength of red light) at the absorption maximum wavelength.
  • the ratio of the to the extinction coefficient is preferably 5.0 or more, more preferably 8.0 or more. If the ratio of any of the above wavelengths to the extinction coefficient is less than 5.0, the wavelength 850nn!
  • the visible light transmittance at wavelength 450nm center wavelength of blue light
  • 525nm center wavelength of green light
  • 620nm center wavelength of red light
  • Examples of the second near-infrared absorbing dye used in the present invention include dithiol metal complex-based compounds, phthalocyanine-based compounds, naphthalocyanine-based compounds, and cyanine-based compounds.
  • a phthalocyanine compound is preferably used because of its excellent solubility in organic solvents.
  • Many compounds have been proposed.
  • the phthalocyanine-based compound represented by the following general formula (4) is preferably used in the present invention because the ratio of the extinction coefficients is 5.0 or more. Can be.
  • each ⁇ 's each independently represent one member selected from one SR—OR 2 , one R 3 group and a halogen atom, provided that at least 1 Each represents three NHR groups, and each of the eight j8s is, independently of one another , selected from —SR 1 , —OR 2 and a halogen atom, and represents at least one member; one] 3 represents an SR 1 or _ 0R 2 group, and at least one of said eight flight and 8] 3 represents a halogen atom and single oR 2 group,
  • R 1 , R 2 and R 3 are each independently of the other a substituted or unsubstituted phenyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and? Represents one member selected from an aralkyl group having up to 20 carbon atoms,
  • M represents one member selected from one metal atom, one or more hydrogen atoms, one metal oxide, and metal halide.
  • first near-infrared absorbing dye and the second near-infrared absorbing dye two or more kinds of near-infrared absorbing dye compounds may be used, respectively, and if necessary, other dyes may be added. Good.
  • the compounding mass ratio of the first near-infrared absorbing dye to the second near-infrared absorbing dye is preferably from 3: 2 to 29: 1, and more preferably from 2: 1 to 9: 1.
  • the above-mentioned composition j: dashi is less than 3Z2, the transmittance of light in the visible light region may be insufficient, and when it exceeds 29/1, the amount of change in chromaticity before and after various reliability tests is reduced. May be larger.
  • the transparent resin used in the near-infrared shielding layer forming paint of the present invention contains at least one kind selected from polymers of at least one kind of ethylenically unsaturated monomer. It is preferable that at least 30% by mass, and preferably 50 to 100% by mass, of the ethylenically unsaturated monomer which forms the monomer is a monomer compound represented by the general formula (2).
  • the above configuration The transparent resin having high solubility in various organic solvents (e.g., toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methylethyl ketone, mesoisobutyl ketone, hexahexane, and tetrahydrofuran) And a coating film having high moisture permeability and high UV resistance can be formed.
  • organic solvents e.g., toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methylethyl ketone, mesoisobutyl ketone, hexahexane, and tetrahydrofuran
  • a C6-C25 cyclic hydrocarbon group represented by X for example, a cyclohexyl group, a methinoresic hexinole group, a cyclododecyl group, a pordinole group And an isopolnyl group.
  • the moisture in the environment causes the deterioration of the resin coating, which is accompanied by a significant change in the chromaticity of the coating due to the deterioration of the first near-infrared absorbing dye.
  • the first near-infrared absorption is improved.
  • the durability of the dye under high temperature and high humidity can be improved, and in addition, the durability against ultraviolet irradiation can be improved.
  • the transparent resin for the near-infrared shielding layer is preferably a thermoplastic meta-acrylate resin.
  • the reactive group contained in the resin and the dimonium compound for the first near-infrared absorbing dye easily react with each other, The dye may be denatured in the composition or during the film formation process.
  • the content of the monomer compound represented by the general formula (2) based on the total amount of the monomers is preferably 30% by mass or more based on the total mass of all the monomers used for forming the polymer. .
  • the content of the monomer compound represented by the general formula (2) is preferably 50% by mass or more, and more preferably 80 to 100% by mass or more.
  • thermoplastic meta-acrylate resin containing the monomer compound represented by the general formula (2) as an essential polymerization component is used in a general-purpose organic solvent such as toluene, ethyl acetate, butyl acetate, and methyl ethyl ketone. It can be easily synthesized by solution polymerization. In addition, the solubility of the dimodium compound for the first near-infrared ray absorbing dye and the transparent resin itself in the paint is sufficiently high, and a stable resin composition as a paint can be obtained.
  • the glass transition point may be 60 ° C or more and 120 ° C or less. It is more preferably 80 to 100 ° C. If the glass transition point is lower than 60 ° C, the resin softens when the coating film is exposed to a high temperature of 80 ° C or higher for a long time, and at the same time, the first near-infrared absorbing dye zimmonia in the coating film is softened.
  • the rubber compound is liable to be deteriorated, and the chromaticity of the coating film may change greatly, or the near-infrared shielding property of the coating film may decrease, and the long-term heat resistance may decrease.
  • the glass transition point of the transparent resin is 60 ° C. or higher, the deterioration of the first and second near-infrared absorbing dyes, particularly the dimodium compound, due to heat can be suppressed.
  • the glass transition temperature exceeds 120 ° C, the resulting coating film will be hard and brittle, resulting in practical problems such as reduced bending resistance and easy cracking due to handing and the like. is there.
  • the transparent resin used in the present invention has a glass transition point of 60 ° C or higher. It is preferably a thermoplastic meta-acrylate resin having a temperature of 120 ° C or lower.
  • the molecular weight of the transparent resin used in the near-infrared shielding layer in the present invention has a number average molecular weight of 20,000 to 80,000 and a weight average molecular weight of 200,000 to 400,000. Is preferred.
  • the number and weight average molecular weight are measured values obtained using polystyrene standard GPC.
  • the weight-average molecular weight is less than 200,000, the formed near-infrared shielding coating film may have insufficient flexibility, poor flexibility and poor chemical resistance.
  • the weight average molecular weight exceeds 400,000, it may be difficult to carry out solution polymerization of the polymer itself.
  • the number average molecular weight is less than 20,000 or more than 80,000, the resulting polymer may have insufficient chemical resistance.
  • the transparent resin for a near-infrared shielding layer used in the present invention has an appropriate acid value derived from a monomer containing a hydroxyl group. Is preferred. This can improve the adhesion to the polyester resin film. In addition, this can improve long-term stability and prevent deterioration of characteristics such as peeling resistance during lamination.
  • the appropriate acid value is preferably 1 mgKOH or more and 20 mgK0H or less with respect to the resin solid content. When the acid value is less than 1 mgKOH, sufficient adhesion between the coating film and the substrate may not be obtained. On the other hand, when the acid value exceeds 20 mgK0H, the first near-infrared absorbing dye at high temperature may be used. May adversely affect the stability of pumium compounds.
  • the adhesion of the organic resin component to the near-infrared shielding layer is improved by an organic resin component in order to improve the practical adhesion to the near-infrared shielding layer. It is preferable to form a layer . If the adhesion improving layer is not formed, the near-infrared shielding layer may be easily peeled off at the interface between the polyester resin film and the near-infrared shielding layer.
  • the adhesion improving layer that can be used in the present invention contains an organic resin component as a main component.
  • a reactive curing agent is used. Is preferably not included.
  • the organic resin component in the adhesion improving layer is not particularly limited as long as practically sufficient adhesion can be obtained between the near-infrared shielding layer and the polyester resin.
  • acrylic resin, acrylic resin Monomerin copolymer resin, acrylic monopolyester copolymer, polyester resin or the like can be used alone, or a mixture of two or more thereof can be used.
  • fine particles such as fine particles of talc and talc may be appropriately contained in the adhesion improving layer.
  • the near-infrared shielding layer in the near-infrared shielding layer (1) Near-infrared absorbing dye-based compounds for dyes react easily with these reactive hardeners and are liable to be degraded, the chromaticity of the near-infrared shielding layer is greatly changed, and / or the near-infrared shielding performance is reduced. Etc., which may not adversely affect the long-term heat resistance.
  • the dry solid content ratio of the total mass of the first and second near-infrared absorbing dyes to the transparent resin is 1:99 to 1: 4. It is preferably within the range, more preferably 1:49 to 1:24.
  • the mass ratio is less than 1/99, the near-infrared shielding layer is dried to obtain a high near-infrared shielding rate. It may be necessary to increase the film thickness to 20 ⁇ or more.However, it may be difficult to form such a thick film. In the formation process, the segregation of infrared-absorbing pigments may cause a disadvantage such as a decrease in shielding performance and an increase in haze value.
  • the transparent laminate of the present invention was subjected to a degradation acceleration test for 1,000 hours in a high humidity atmosphere at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90%, and a temperature of 80 ° (in a high temperature dry atmosphere at a relative humidity of 5% or less.
  • the change in the chromaticity X and y of the near-infrared shielding laminate before and after the test is preferably 0.005 or less, more preferably 0 to 0.003.
  • the laminate of the present invention when used for various displays such as a plasma display, the characteristics such as near-infrared shielding property, visible light transmittance, color tone, etc., are maintained over a long period of time. , Temperature changes, humidity, and more Without having to deterioration Ri by the light irradiation of the external or et al., It is possible to display a long-term stable image.
  • the near-infrared shielding layer of the transparent laminate of the present invention wherein the first near-infrared absorbing dye, the second near-infrared absorbing dye and a transparent resin are dissolved or dispersed in the solvent, and the obtained solution or dispersion is It can be formed by coating one surface on the transparent substrate and drying and evaporating the solvent.
  • the coating method may be a commonly used method.
  • the coating may be performed using a coating apparatus such as a bar coater, a gravure parse coater, or a slit die coater.
  • an impact absorbing layer is disposed between the first laminated portion and the second laminated portion.
  • an impact absorbing layer 32 formed by impact absorption is laminated between the near infrared shielding layer 13 and the adhesive layer 31 of the first laminated portion 61.
  • the shock absorbing layer 32 and the near-infrared shielding layer 13 may be bonded via the intermediate bonding layer 3 la.
  • the adhesive layer 31 between the near-infrared shielding layer 13 and the electromagnetic wave shielding layer 22 may contain a shock absorbing material.
  • the shock absorbing material include silicone rubber, urethane rubber, sterylene butadiene rubber, nitrile rubber, chlorobrene rubber, ethylene propylene rubber, petinole rubber, fluorine rubber, and elastomers of these copolymers.
  • One material, a resin film of polyethylene, polyolefin, cellulose, or the like can be used.
  • the thickness of the shock absorbing layer 32 is preferably 0.1 to 1.5 mm in consideration of transmittance and haze.
  • the tensile strength is 6-1 OMPa and the elongation at cutting is 150-400%.
  • the antireflection layer 12 formed on the first laminated portion first transparent base material 11 includes a hard coat layer 51 and a hard coat layer 51.
  • the anti-reflection layer having such a configuration is an anti-reflection layer having conductivity and can prevent adhesion of dust due to static electricity.
  • the conductive medium refractive layer has the function of the medium refractive index layer, an antireflection film composed of three layers of medium refractive, high refractive, and low refractive can be formed. An anti-reflection effect is obtained.
  • the hard coat layer laminated on the first transparent substrate is formed of a resin component, and preferably contains oxide fine particles. By containing the oxide fine particles, the adhesion to the first transparent base material is improved.
  • the adhesion of the antireflection layer in the present invention is particularly important so that the antireflection layer does not peel or be damaged when the first transparent substrate and the second transparent substrate are bonded.
  • the content of the oxide fine particles in the hard coat layer is preferably from 30% by mass to 80% by mass.
  • the content of the oxide fine powder is less than 30% by mass, the adhesion between the first transparent substrate and the middle refractive index layer is reduced, and the desired film hardness such as pencil hardness and steel wool strength is reduced. It will not be obtained.
  • the content of the oxide fine powder is more than 80% by mass, the content of the oxide fine powder becomes excessive, and the film strength of the obtained hard coat layer is reduced.
  • the obtained hard coat layer is whitened. When the phenomenon is observed, the flexibility of the cured film is lowered, and cracks are easily generated.
  • the refractive index of the hard coat layer is preferably designed to be the same as the surface average refractive index of the first transparent substrate. This is achieved by reducing the difference in the amplitude of the reflectance caused by the difference between the surface average refractive index of the first transparent base material and the refractive index of the hard coat layer, so-called “rainbow color unevenness on the surface”. ”Can be made inconspicuous. However, if a PET film with an easily adhesive layer is used as the first transparent substrate, It is preferable that the refractive index of the coat layer is equal to or close to the refractive index calculated by the following equation.
  • N Np-(Ns-Np) / 2
  • Ns Surface average refractive index of PET substrate
  • oxide fine particles used in the hard coat layer examples include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, cerium oxide, and titanium oxide.
  • the oxide fine particles are suitably used for the reason that a hard coat layer having excellent transparency can be formed without coloring the coat layer.
  • the particle diameter of the oxide fine particles is preferably 100 nm or less. This is because, in the case of an oxide fine powder having a particle size exceeding 100 nm, the obtained hard coat layer significantly scatters light due to Rayleigh scattering and appears white, resulting in a decrease in transparency.
  • the resin component examples include an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, and a cationic polymerizable resin.
  • the ultraviolet curable resin is preferably inexpensive and has excellent adhesion to a transparent plastic film.
  • the UV-curable resin may be a photosensitive resin used in a coating method (jet coating method), such as an acrylic resin, an acrylic urethane resin, a silicone-based resin, or the like.
  • An epoxy resin or the like is preferably used because it does not impair the dispersibility of the oxide fine powder.
  • the hard coat layer in the antireflection layer is formed, for example, by coating a hard coat layer forming paint containing an organic resin component, oxide fine particles, and at least an organic solvent on the first transparent substrate.
  • the coating for forming a transparent hard coat layer can be prepared, for example, by using a dispersant to disperse the oxide fine particles and a resin component in an ordinary method using an ultrasonic dispersion, a homogenizer, a sand mill, or the like. It can be obtained as an organic solvent-based paint mixed and dispersed in an organic solvent.
  • the organic solvent can be selected from alcohols, glycols, acetates, ketones and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. .
  • the hard coat layer forming paint is applied to one surface of the first transparent base material, and cross-linked and hardened by ultraviolet irradiation or the like to form a hard coat layer.
  • the thickness of this hard coat layer is 0.5 / X ⁇ ! It is preferably from 20 to 20 nm, more preferably from 0.5 to 2 ⁇ m. If the film thickness is less than 0.5 ⁇ , it may not be possible to achieve sufficient film hardness, and if it is more than 20 Xm, the curling of the first transparent substrate may increase.
  • the coating method various coating methods are possible.For example, it is possible to appropriately select from a per coat method, a gravure coat method, a slit coater method, a roll coater method, a dip coat method, and the like. it can
  • the conductive medium refractive index layer formed on the hard coat layer is preferably
  • the content of the conductive medium refractive index fine particles in the conductive medium refractive index layer is preferably 50% by mass or more, and more preferably in the range of 70 to 95%. If the content of the conductive medium refractive index fine particles is less than 50% by mass, the surface resistance value of the conductive medium refractive index layer 3 may increase, the conductivity may deteriorate, and the filler component may decrease. Because c -Adhesion to the coating layer may be insufficient.
  • the content of the conductive medium-refractive-index fine particles exceeds 95% by mass, the content of one component of the binder decreases relatively, so that a sufficient amount of In some cases, the conductive medium-refractive-index fine particles cannot be retained, and when applying another layer on the conductive medium-refractive-index layer, the film is easily damaged, which may cause poor appearance. .
  • the conductive medium refractive index fine particles include metals such as antimony-containing tin oxide (hereinafter referred to as AT0), tin-containing indium oxide (hereinafter referred to as IT0), aluminum-containing zinc oxide, gold, silver, and palladium. Fine particles and the like are preferably used for the reason that a conductive medium refractive index layer having excellent transparency and conductivity can be formed.
  • the average particle size of the conductive medium refractive index fine particles is preferably 1 to 100 nm. If the average particle size is less than lnm, it may cause agglomeration at the time of coating, making it difficult to uniformly disperse for coating, further increasing the viscosity of the coating, and causing poor dispersion. is there. If the average particle size of the conductive medium refractive index fine particles exceeds 100 nm, the resulting conductive medium refractive index layer remarkably irregularly reflects light due to Rayleigh scattering, so that it appears white. There is the power S to decrease.
  • a binder component a substance produced from a silicon alkoxide and / or a hydrolysis product is preferable.
  • the conductive middle refractive index layer is made of conductive middle refractive index fine particles, silicon alkoxide and Z or a hydrolysis product thereof.
  • It can be formed by applying and drying the hard coat layer 51 using a conductive medium refractive index layer forming paint containing at least an organic solvent.
  • the conductive medium refractive index layer forming coating material, the conductive medium refractive index oxidation may be organically treated with a dispersant using a conventional method using an ultrasonic disperser, a homogenizer, a sand mill, or the like. It can be dispersed in a solvent to obtain an organic solvent-based paint.
  • the silicon alkoxide can be selected from, for example, tetraalkoxysilane-based compounds, alkyltrialkoxysilane-based compounds, and the like.
  • the organic solvent include alcohol-based and glycol-based compounds. System, acetate, ketone, etc., and these may be used alone or as a mixture of two or more.
  • the above-mentioned coating for forming the conductive medium refractive index layer is applied on the transparent hard coat layer, and dried at, for example, 70 to 130 ° C. for 1 minute or more. It is preferable to adjust to a range.
  • the drying temperature exceeds 130 ° C., it is not preferable because it causes thermal deformation depending on the transparent plastic film used.
  • the temperature is lower than 70 ° C., the curing speed becomes slow and the strength is not developed. Further, if the curing time is less than 1 minute, the film strength is insufficient, which is not preferable.
  • the coating method can be appropriately selected from, for example, a per coat method, a gravure coat method, a slit coater method, a roll coater method, a dip coat method, and the like.
  • the high refractive index layer formed on the conductive medium refractive index layer contains, for example, oxide fine particles having a high refractive index and one component of pinda.
  • the content of the high refractive index oxide fine particles in the high refractive index layer is preferably 50% by mass or more, and more preferably 60 to 95% by mass.
  • the content of the high-refractive-index oxide fine particles is less than 50%, the content of the binder component relatively increases, and the refractive index decreases. A high refractive index cannot be obtained, and the reflectance may be excessively increased. If the content of the high refractive index oxide fine particles exceeds 95%, the high refractive index oxide fine particles cannot be sufficiently fixed by the binder component, and the transparent high refractive index When another layer is applied on the layer, the layer is easily scratched and may cause poor appearance.
  • the high refractive index oxide fine particles cerium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and the like are preferable because the high refractive index layer 53 having excellent transparency can be formed. Used for
  • the high refractive index oxide fine powder preferably has an average particle diameter of 1 to 100 nm. If the average particle size is less than lnm, it tends to cause agglomeration during coating, making it difficult to uniformly disperse for coating, further increasing the viscosity of the coating and causing poor dispersion. If the average particle size of the high-refractive-index oxide fine powder exceeds 100 nm, the obtained high-refractive-index layer remarkably reflects light due to Rayleigh scattering, so that it appears white, and the transparency becomes high. May be insufficient.
  • a silicon alkoxide and / or a silicic acid derived from a hydrolysis product thereof is preferable.
  • the high refractive index layer of the present invention is coated on the conductive medium refractive index layer by using a transparent high refractive index forming paint containing at least high refractive index oxide fine particles, a binder component and an organic solvent.
  • the coating material for forming a high-refractive-index layer formed by drying is optionally added to the high-refractive-index oxide fine powder, a silicon alkoxide and / or a hydrolysis product thereof.
  • the particles can be dispersed in an organic solvent by a conventional method using an ultrasonic dispersing machine, a homogenizer, a sand mill or the like using a dispersant, and can be obtained as an organic solvent-based paint.
  • the silicon alkoxide can be selected from, for example, a tetraalkoxysilane-based compound, an alkyltrialkoxysilane-based compound, and the like, and the organic solvent is an alcohol-based, a glycol-based, or the like. It can be selected from acetate esters, ketones, etc., and these may be used alone or as a mixture of two or more.
  • the coating material for forming a high-refractive-index layer is applied on the conductive medium-refractive-index layer, and dried at, for example, 70 to 130 ° C. for 1 minute or more to form a high-refractive-index layer.
  • the thickness is preferably set to 1.2 to 2.5 times the optical thickness of the low refractive index layer.
  • the design of the film thickness for anti-reflection has been to set the film thickness of the high-refractive-index layer and low-refractive-index layer to 1/4 of the target minimum reflectance wavelength (hereinafter referred to as the bottom wavelength).
  • the drying temperature if it exceeds 130 ° C, it may cause thermal deformation depending on the transparent plastic film used. If the temperature is lower than 70 ° C., the curing speed becomes slow, and sufficient strength may not be developed. If the curing time is less than 1 minute, the film strength may be insufficient.
  • the coating method includes, for example, a per coat method, a gravure coat method, a slit coater method, a roll coater method, and a dip coat method. Etc. can be appropriately selected.
  • the low-refractive-index layer laminated on the high-refractive-index layer is, for example, for forming a low-refractive-index layer containing silicon alkoxide and / or a hydrolysis product thereof, silicone oil, and an organic solvent. It is formed by applying a paint on the high refractive index layer and drying.
  • the refractive index of the low refractive index layer is preferably smaller than the refractive index of the high refractive index layer by 0.1 or more. By providing such a transparent low refractive index layer, the obtained antireflection layer exhibits extremely excellent antireflection properties.
  • the silicon alcohol used as the coating material for forming the low refractive index layer can be appropriately selected from tetraalkoxysilane-based compounds, alkyltrialkoxysilane-based compounds, and the like.
  • a dialkylalkoxysilane compound can be used as appropriate.
  • the above-mentioned organic solvent can be appropriately selected from alcohol-based, daricol-based, acetate-based, and ketone-based solvents. These may be used alone or in combination of two or more. May be used.
  • the contact angle of the coating film with water becomes 90 ° or more, which exhibits water repellency and is slippery. This improves the film strength (especially the strength of steel wool) of the transparent film with antistatic and antireflection films, and can also impart antifouling properties.
  • the silicone oil When the content of the silicone oil is less than 0.01% by mass, the silicone oil does not sufficiently permeate the surface of the transparent low-refractive index layer 4 and the contact angle with water becomes less than 90 °. Aqueous solution is not obtained, and anti-static and anti-reflection film cannot be improved in film strength and stain resistance. Sometimes. If the content exceeds 5.0% by mass, the silicone oil becomes excessive on the surface of the transparent low-refractive index layer 5, so that the contact angle with water exceeds 90 °, and sufficient water repellency can be obtained. However, since the polymerization and curing reaction of the silicon alkoxide and / or its hydrolysis product is inhibited, the film strength of the antistatic / antireflective transparent film may be reduced.
  • the low-refractive-index layer is prepared by applying the above-mentioned paint for forming a transparent low-refractive-index layer on the transparent high-refractive-index layer, and drying it at, for example, 70 to 130 ° C for 1 minute or more to adjust the optical film thickness to 14 Onm
  • an antistatic / antireflection film having a bottom wavelength of about 600 nm can be produced.
  • drying temperature exceeds 130 ° C, thermal deformation may occur depending on the transparent plastic film used. If the temperature is lower than 70 ° C., the curing speed becomes slow and the strength may not be developed. If the curing time is less than 1 minute, the film strength may be insufficient.
  • the coating method can be appropriately selected from, for example, a percoat method, a gravure coat method, a slit coater method, a roll coater method, and a dip coat method.
  • the antistatic / antireflection film prepared by the above method has characteristics such as a good antistatic effect, an antireflection property, a high film hardness, and an antifouling property. The reason is considered as follows.
  • the surface energy of the layer is increased and the coating of each paint on the surface of each layer is increased.
  • the wettability can be remarkably improved, and the adhesion between the layers is improved by the effect of improving the wettability, whereby a stronger film strength can be obtained as compared with the conventional case.
  • the outermost transparent low-refractive index layer contains silicone oil, which has a contact angle to water exceeding 90 ° and imparts water repellency. be able to.
  • This water-repellent effect is sufficiently maintained even when rubbed with a cotton cloth or the like, and a higher antifouling property than before can be obtained. It is considered that the reason why the antifouling property is maintained is that the silicone oil is incorporated into the silica matrix and does not easily exude.
  • the electromagnetic wave shielding layer of the second laminated portion is a metal mesh layer
  • the metal mesh layer is blackened, so that the metal mesh surface is reflected.
  • the visibility can be prevented from being reduced by the metallic luster color.
  • Examples of the method of blackening include a method of electrolytically plating a blackening metal, for example, Ni, Sn, Ni-Sn alloy, and a method of blackening the metal surface by oxidation or sulfurization. .
  • the thickness of the metal mesh layer is preferably from 1 to 15 ⁇ , and more preferably from 1 to 10 ⁇ m. If the thickness of the metal mesh layer is too large, the viewing angle becomes narrow and visibility may be reduced.
  • a near-infrared shielding layer is formed on the back surface by the above method.
  • a metal mesh layer is formed on the second transparent substrate by the above method.
  • a first laminated portion on which the first transparent base material thus obtained, the antireflection layer and the near-infrared shielding layer are formed, and a second laminated portion including the second transparent base material and the metal mesh layer And near-infrared shielding layer side and metal mesh layer side are laminated and bonded via an adhesive layer. Panels and films are used as lamination methods.
  • a method commonly used for laminating films for example, a method using a roll laminator, a sheet laminator Can be used. Heating and pressurizing may be appropriately performed between the above steps. Further, it is preferable that after the lamination, a process of defoaming and clearing is performed.
  • the defoaming method can be performed under pressure or reduced pressure, but is preferably performed under pressure.
  • the adhesive layer may contain a coloring material for adjusting color tone and transmittance.
  • the metal mesh layer used in the transparent laminate of the present invention contains a catalyst on the second transparent substrate. It is preferable that the ink is printed on a mesh pattern, and then formed on the ink image by electroless plating and / or electrolytic plating.
  • the metal deposited by plating It is preferable to use copper as the metal deposited by plating. After the metal is deposited by electroless plating, it is preferable to further deposit the metal by electrolytic plating.
  • a method of forming a thin film of silver or tin-containing tin oxide (IT0) on a substrate by sputtering is used as a conventional method, an electromagnetic wave of the obtained metal mesh layer is obtained. Insufficient shielding capability makes it difficult to clear the Class B standard set by the Voluntary Control Council for Interference by Information Technology Equipment (VCCI).
  • the printing method is not particularly limited, such as a screen printing method and a gravure printing method, but a screen printing method is preferable.
  • Conventional methods for forming a metal mesh include a fiber mesh in which a fiber is mainly used as a support and copper or the like is plated, a thin copper film is laminated on a resin film of a base material, or a copper is coated on a surface.
  • the copper foil having a thickness of about 10 to 20 m is etched, the thickness of the metal mesh layer is large, the viewing angle is narrowed, and the visibility is reduced.
  • the copper foil surface was blackened, when viewed from an oblique direction, the color tone peculiar to copper was exposed in the depth direction of the etching, which caused problems with the color tone of the screen. give.
  • the metal mesh layer obtained by the above method of the present invention can have sufficient conductivity even if the thickness is small.
  • the thickness is preferably from 1 to 15 ⁇ m, more preferably from 1 to 10 ⁇ , and at this thickness, the sheet resistance of 0.1 to 0.5 ⁇
  • a metal mesh layer having a transmittance of 0 to 90% can be obtained.
  • the metal mesh layer obtained by the above method of the present invention has a wide viewing angle and improved visibility, and when the surface is blackened, a color tone peculiar to the metal in the depth direction of the metal mesh is obtained. It is not exposed and does not impair the color tone of the screen.
  • the weight of the PDP can be significantly reduced.
  • the mass of glass used for conventional optical filters is about 4.5 kg for a 106.6 cm (42 inch) size, and about 5 kg for a 127 cm (50 inch) size. Removing the glass from the optical filter makes it easier to realize a wall-mounted TV, which is expected of a PDP.
  • the first laminated portion 61 and the second laminated portion 62 are provided with a metal mesh layer electrode for taking out the ground.
  • a metal mesh layer electrode for taking out the ground.
  • FIG. 5 shows the configuration (partial cross section) of the transparent laminate of the present invention mounted on a PDP.
  • the transparent laminate 1 of the present invention is directly attached to the display surface 73 of the PDP module 71.
  • the electromagnetic wave shielding film secured by attaching the first laminated portion 61 to the second laminated portion 62 in a frame shape.
  • the pole take-out part 2 2a is directly connected to the housing 72 of the module 71 and is mounted by conduction through a clip, a clamp or a gasket (not shown) or the like. Is done.
  • the image formed on the transparent laminate is observed by an observer 74 in the direction of the arrow 75.
  • an anti-reflection layer consisting of a hard coat layer, a conductive middle refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer is formed on one surface.
  • a dimodium dye and a phthalocyanine dye which are dimodium compounds having a counteranion represented by the chemical formula (1) (trade name: Nippon Shokubai Co., Ltd.) ETAS Color IR-10A) and a transparent resin obtained by polymerizing a monomer component containing 50 parts by weight of a monomer in which X is an isobonyl group in the general formula (2).
  • a near-infrared shielding layer was formed, and a first laminated portion was formed.
  • the dimethyl and phthalocyanine dyes were blended at a weight ratio of 2: 1.
  • the transparent adhesive layers each having a thickness of 25 ⁇ are formed on the surface of The resulting laminate was subjected to a pressure treatment under a pressure of 0.45 MPa for 30 minutes to produce a transparent laminate.
  • total light transmittance “haze value”, “luminous reflectance”, “pencil hardness”, “steel wool hardness”, “adhesion”,
  • Total light transmittance Measured using a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku).
  • Pencil hardness The minimum pencil hardness at which the antireflection layer faced up and was not damaged under a load of 1 kg was measured.
  • Adhesion The number of squares remaining after the antireflection layer face up and a 1 cm square side of the film surface is cut at 1 nun intervals and the surface is subjected to a peel test three times with adhesive tape. was measured.
  • the transmittance of each sample at wavelengths of 850 nm, 950 nm, and 100 nm was measured.
  • thermo-hygrostat set at 60 ° C and relative humidity of 90%, and the spectral transmittance after 1000 hours was measured.
  • Electromagnetic wave shielding property Measured in accordance with the KEC method (Kansai Electronics Industry Promotion Center One Method).
  • the transparent laminate of the present invention has excellent transmittance, low reflectivity, electromagnetic wave shielding, near-infrared shielding and strength, and also has excellent durability. It was confirmed that. Industrial applicability
  • the transparent laminate of the present invention and the method for producing the same are excellent in antireflection property, near-infrared shielding property, electromagnetic wave shielding property, durability in use, visibility of a visible image, and light weight. It is easy to manufacture and handle, and is used, for example, as an optical filter of a display device such as a plasma display device, and has high practicality.

Abstract

反射防止性、近赤外線及び電磁波遮蔽性、耐久性、視認性、軽量性に優れ、光学フィルターなどとして有用な透明積層体は、第1透明基材、その表裏面にそれぞれ形成された反射防止層及び近赤外線遮蔽層を含む第1積層部と、第2透明基材、その表面に形成された電磁波遮蔽層を含む第2積層部とを、接着剤層を介して前記近赤外線遮蔽層と電磁波遮蔽層、例えば金属メッシュ層とを接合することにより一体化されたものである。

Description

透明積層体
技術分野
本発明は、 透明積層体に関するものであ り、 更に詳しく述べるな らば、 例えばプラズマディスプレイ等の表示装置の表示面の光学フ 明
ィルターと して有用な透明積層体に関するものである。
田 背景技術
プラズマディスプレイ装置 (以下、 PDPと略記することがある。 ) は、 表示電極、 パス電極、 誘電体層および保護層を有する前面ガ ラス基板と、 データ電極、 誘電体層およびス ト ライプパリ ヤリ ブに 蛍光体層を有する背面ガラス基板とを、 電極が直交するよ う に貼り 合せる事によ りセルを形成し、 このセルの中に、 キセノ ン等の放電 ガスを封入して構成されている。 プラズマディスプレイ装置の発光 は、 データ電極と表示電極との間に電圧が印加されるこ とによ り キ セノ ンの放電が起こ り、 プラズマ状態となったキセノ ンイオンが基 底状態に戻る際に紫外線を発生し、 この紫外線が蛍光体層を励起し て、 赤 (R) 、 緑 (G) 、 及び青 (B) 色光を発光させる。 これら可 視光の発光の過程で、 これらの可視光に加え、 近赤外線および電磁 波も発生する。 そのため、 プラズマディスプレイ装置には、 一般に ガラス基材のプラズマディスプレイ発光部の前面に、 反射防止膜、 近赤外線吸収膜、 および電磁波カ ツ ト機能が付与されたフィルター が、 設置されている。
プラズマディスプレイ装置は、 薄型ディスプレイ装置と して、 設 置スペースが小さ く 、 壁掛け表示装置などと して有用である と考え られている。 しかし、 上述したプラズマディスプレイ装置では、 例 えば、 特開平 1 0— 3 1 9 8 5 9号公報 (特許文献 1 ) に記載され ているように発光手段を含む PDP装置上に、 それから、 一定の空間 を隔てて、 ガラス上に何層かのフィルムを積層したフィルム積層体 を貼り合わせて構成された光学フィルター手段を設置しているため 、 十分な軽量化が達成されているとはいえず、 実際、 一般の家庭用 家屋内の壁に掛けるためには、 壁が十分に強固であることが必要で あり、 予め壁自体に補強工事を施すことが必要となる場合もある。 また、 PDPの前面ガラス部、 光学フィルターの表面および裏面の反 射によ り、 外光が表示面に二重映りする等の欠点がある。 一般に光 学フィルターに用いられる電磁波遮蔽フイノレムの'主なものは、 エツ チング処理された金属 (銅) メ ッシュである力 、 そのエッチングさ れた端面に金属 (銅) が露出しているため、 金属 (銅) 特有の反射 色が表示画像の色調に不具合を与えている。
【特許文献 1】 特開平 1 0— 3 1 9 8 5 9号公報 発明の開示
(発明が解決しよ う とする課題)
本発明は、 優れた反射防止性、 近赤外線遮蔽性、 及び電磁波遮蔽 性を併せ具備し、 耐久性及び視認性にも優れ、 軽量であって製造お よび取り扱いが容易であり、 例えばプラズマディスプレイ装置等の 表示装置の表示面に、 光学フィルターと して用いることのできる透 明積層体を提供しよ う とするものである。
(課題を解決するための手段)
本発明の透明積層体は、 第 1透明基材と、 その一面上に形成され た反射防止層と、 他の面上に形成された近赤外線遮蔽層とを含む第 1積層部、 第 2透明基材と、 その一面上に形成された電磁波遮蔽層 とを含む第 2積層部、 並びに前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層と、 前記第 2積層部とを接合する接着剤層とを有することを特徴とする ものである。
本発明の透明積層体において、 前記電磁波遮蔽層が金属メ ッ シュ 層であることが好ましい。
本発明の透明積層体において、 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層 と前記第 2積層部の電磁波遮蔽層とが接合されていることが好まし い。
本発明の透明積層体において、 前記第 2積層部が、 前記第 2透明 '基材の他の面上に形成された裏面接着剤層をさ らに有していてもよ レヽ
本発明の透明積層体において、 前記第 2積層部の裏面接着剤層の 接着強度が 1 〜 2 0 N / 2 5 m mであることが好ましい。
本発明の透明積層体において、 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層 が、 少なく とも 1種の近赤外線吸収性ジィモ二ゥム系化合物からな る第 1近赤外線吸収色素と、
750〜950nmの近赤外波長の領域に吸収極大を有し、 かつ前記ジィ モニゥム系化合物とは異種の、 少なく とも 1種の色素化合物からな る第 2近赤外線吸収色素と、
少なく とも 1種のェチレン性不飽和単量体の重合体を含む透明性 樹脂とを含み、
前記透明性樹脂用重合体を構成するェチレン性不飽和単量体の少 なく とも 3 0質量%が、 下記一般式 (2) :
R
CH2 = C - C0 - 0X ( 2 )
〔但し、 前記式 (2) において、 Rは、 水素原子又はメチル基を表し 、 Xは 6〜25個の炭素原子を有する環状炭化水素基を表す〕 により麦される単量体であることが好ましい。
本発日月の透明積層体において、 前記第 1積層部近赤外線遮蔽層に 含まれる前記第 1近赤外線吸収色素用近赤外線吸収性ジィモニゥム 系化合物が、 ジィモニゥム化合物カチオンと、 下記化学式 (1) :
(CF3S02) 2N_ (1)
により表されるカウンターァニオンとによ り構成されるものである ことが好ましい。
本発日月の透明積層体において、 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層 に含まれる前記第 1近赤外線吸収色素用近赤外線吸収性ジィモニゥ ム系化合物が、 下記化学式 ( 3 ) :
N[CH3 (CH2)2]2
2{(CF3S02)2N- }
N[CH, (CH2)2]2 により表されるものであることが好ましい。
本発日月の透明積層体において、 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層 に含まれる前記透明性樹脂が、 60〜120°Cのガラス転移温度と、 20 , 000〜80, 000の数平均分子量と、 200, 000〜400, 000の重量平均 分子量と を有することが好ましい。
本発明の透明積層体において、 前記第 1積層部の前記反射防止層 が、 ハー ドコート層と、 このハー ドコー ト層上に積層された導電性 中屈折率層と、 前記導電性中屈折率層上に積層された高屈折率層と 、 この高屈折率層上に積層された低屈折率層とから構成されている ことが好ましい。
本発明の透明積層体において、 前記反射防止層に含まれる前記ハ ー ドコー ト層が、 酸化物微粒子とバインダー成分とを含有し、 前記 酸化物微粒子の含有率が 3 0質量%以上であることが好ましい。 本発明の透明積層体において、 前記第 2積層部に含まれる前記金 属メ ッシュ層が、 黒色金属の電解メ ツキによ り黒色化されている表 面を有する金属メ ッシュを含むことが好ましい。
本 明の透明積層体において、 前記電磁波遮蔽層の厚さが 1〜 1
5 μ mであることが好ましい。
本発明の透明積層体において、 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層 と、 前記接着剤層との間に、 衝撃吸収層がさ らに含まれていること が好ましい。
本発明の透明積層体の製造方法は、 第 1透明基材の一面上に反射 防止層を形成し、 その後に、 第 1透明基材の他の面上に近赤外線遮 蔽層を形成し、 第 1積層部を形成し、 別に第 2透明基材の一面上に 金属メ ッシュ層を形成して第 2積層部を形成し、 前記第 1積層部の 近赤外線遮蔽層と、 前記第 2積層部の金属メ ッシュ層とを、 接着剤 層を介して接合して、 積層体を形成することを特徴とするものであ る。
本発明の透明積層体の製造方法において、 前記第 2積層部の金属 メ ッシュ層を形成するために、 前記第 2透明基材の一面上に、 触媒 を含有するイ ンクによ り、 所望メ ッシュパターンを有する画像を印 刷し、 前記印刷された面上に無電解金属メ ツキ及び/又は電解金属 メ ツキを施して、 前記触媒含有ィ ンク画像のパターンに従って金属 を析出させ、 第 2透明基材上に固着させることが好ましい。
(発明の効果)
本発明の透明積層体は、 反射防止性、 近赤外線遮蔽性、 電磁波遮 蔽性、 使用耐久性、 画像の肉眼観察の容易性、 に優れ、 軽量であり 従って、 製造及び取扱いが容易であって、 例えばプラズマディスプ レー装置などの各種表示装置の表示面の光学フィルタ一として実用 的に有用なものである。 図面の簡単な説明
図 1 は、 本発明の透明積層体の一例の断面説明図であり、 図 2は、 本発明の透明積層体の他の一例の断面説明図であり、 図 3は、 本発明の透明積層体の反射防止層の断面説明図であり、 図 4は、 本発明の透明積層体の正面説明図であり、
図 5は、 本発明の透明積層体を PDPに搭載したときの一部断面説 明図である。 発明を実施するための最良の形態
図 1 に示されているよ うに、 本発明の透明積層体 1は、 第 1透明 基材 1 1 と、 その片面に形成された反射防止層 1 2 と、 他の片面に 形成された近赤外線遮蔽層 1 3 とを有する第 1積層部 6 1、 第 2透 明基材 2 1 と、 その片面に形成された電磁波遮蔽層 2 2 とを有する 第 2積層部 6 2、 並びに、 前記第 1積層部 6 1 と、 前記第 2積層部 6 2 とを接合する接着剤層 3 1 を含むものである。
従来の光学フィ ルター用透明積層体においては、 前記の各機能層 をそれぞれ別々の透明基材上に形成し、 これらの機能層を担持する 透明基材を接着層を介してガラスパネルと積層することによ り形成 されていた。
本発明の透明積層体においては、 第 1 の透明基材の片面に反射防 止層を形成し、 他の片面に近赤外線遮蔽層を形成しているため、 透 明基材および接着層の数を減らし、 かつ高透過率及び低ヘーズを実 現し、 それによつて改良された光学特性を得ることができる。
本発明の透明積層体は、 上記のような構成を有しているため、 各 機能に寄与せず、 場合によっては悪影響を与えるこ とのある基材の 数、 及び接着層の数を減らしながら、 各種の機能を複合して具備し ている一体の透明積層体を構成している。 また、 接着工程数が 1 回 で済むため、 製造工程数を減らし、 製造歩留りが向上し、 製品の性 能が安定し、 かつ信頼性も向上する。 また、 反射防止層が、 透明積 層体の最外層を形成するため、 優れた反射防止効果が得られる。
また、 本発明の透明積層体は、 第 1透明基材と、 その各面に形成 された反射防止層と近赤外線遮蔽層とを有する第 1積層部と、 第 2 透明基材と、 その片面に形成された電磁波遮蔽層とを有する第 2積 層部とが、 第 1積層部の近赤外線遮蔽層側と、 第 2積層部の電磁波 遮蔽層側とを接着剤層を介して積層接合されていることが好ましい 。 この場合、 近赤外線遮蔽層および電磁波遮蔽層が、 第 1および第 2透明基材の間に挟まれて保護されているため、 その性能の耐久性 、 耐候性に優れ、 信頼性に優れたものとなる。 また、 電磁波遮蔽層 として金属メ ッシュ層を用いる場合、 接着剤層が金属メ ッシュ層の 金属メ ッシュの空隙部分を充填し、 空隙部のない透明積層体が得ら れる。
(第 1及び第 2透明基材)
第 1 の透明基材および第 2 の透明基材は、 それが透明材料である 限り、 その種類、 組成などに限定はない。 第 1及び第 2透明基材を 構成する材料は、 一般に透明プラスチック材料から選ばれることが 好ましく、 例えば、 プレー ト状又はシー ト状、 又はフィルム状のポ リエステル系基材、 ト リ ァセチルセルロ ース基材、 ポリカーボネー ト基材、 ポリエーテルサルフォ ン基材、 ポリ アク レリー ト基材、 ノ ルボンネン系基材、 及び非晶質ポリオレフイ ン系基材等から適宜選 択するこ とができ、 また、 その厚さにも特段の限定はなく、 通常 50 μ π!〜 10mm程度のフィルム状またはプレー ト状のものを用いること ができる。 ポリ エステル系基材と しては、 なかでもポリエチレンテ レフタ レー ト (以下 PETとも称する) 基材は、 耐久性、 耐溶剤性、 生産性等の点においてすぐれているため好ましく用いられている。 また、 第 1の透明基材および第 2の透明基材は、 色調や透過率を調 整するため、 着色されたものを用いてもよい。
本発明の透明積層体は、 プラズマディスプレイに必要とされる反 射防止効果、 近赤外線遮蔽効果および電磁波遮蔽効果においてすぐ れている。 このため、 本透明積層体を、 ガラス、 プラスチック等の パネルに貼り付ける力 、 あるいはプラズマディスプレイの表示面に 直接貼り付けるこ とによ りプラズマディスプレイの表示面に、 優れ た特性を有する光学フィルターを形成するこ とができる。 特に、 第 1透明基材および第 2透明基材と して、 フィルム状の透明プラスチ ック基材を用いると、 軽量で柔軟性を有する透明積層体を構成する ことができるため、 このような基材を含む本発明の透明積層体は、 プラズマディスプレイの表示面に直接貼り付ける場合に特に好適で ある。
(第 1の透明基材の紫外線遮蔽性について)
また、 本発明の透明積層体においては、 第 1 の透明基材と して、 紫外線遮蔽性を有する材料を用いることが好ましい。 これは、 近赤 外線遮蔽層に用いられる近赤外線吸収色素は、 通常紫外線に対する 耐性が低く、 第 1透明基材と して紫外線遮蔽性を有する材料を用い ることによ り、 近赤外線吸収色素の劣化を抑制することができるか らである。 例えば、 上述の材料からなる第 1透明基材中に紫外線吸 収剤を含有させることにより、 紫外線遮蔽性を有する透明基材を得 るこ とができる。 紫外線吸収剤と しては、 例えば、 ベンゾフエノ ン 系、 ベンゾト リアゾール系、 、°ラァミ ノ安息香酸系、 及びサリチル 酸系等の紫外線吸収性化合物が挙げられる。 通常、 紫外線吸収剤は 、 ある一定量以上の添加量で使用しないと十分な効果は得られない 。 膜厚の薄いコーティ ング層に紫外線吸収剤を添加するときは、 コ 一ティ ング層に含有し得る紫外線吸収剤の量に制限があり、 必要と する紫外線遮蔽効果を得るこ とは難しい。 しかし、 本発明の透明積 層体では、 第 1の透明基材の内側に近赤外線遮蔽層が位置するため 、 コーティ ング層に比べると大きな厚さを有する第 1透明基材自身 に紫外線吸収剤を含有させるこ とによ り、 十分な量の紫外線吸収剤 を含有させるこ とができ、 それによつて、 近赤外線吸収色素の劣化 を抑制し、 優れた近赤外線吸収性能を維持するこ とができる。 第 1 透明基材の紫外線遮蔽性能と しては、 3 8 0 n m以下の紫外領域に おいて、 紫外線透過率が 2 %以下であることが好ましい。
(近赤外線遮蔽層)
本発明の透明積層体において、 近赤外線遮蔽層は 8 0 0〜 1 1 0 0 n m領域の近赤外線に対して、 遮蔽性を有することが好ましく、 例えば、 樹脂マ ト リ ックス中に近赤外線吸収色素が含有されたもの であることが好ましい。
近赤外線吸収色素としては、 8 0 0〜 1 1 0 O n m領域の近赤外 線遮蔽性を有するものであれ f 特に限定されないが、 例えば、 ジィ モニゥム系化合物、 アミ二ゥム系化合物、 フタロシアニン系化合物
、 有機金属錯体系化合物、 シァニン系化合物、 ァゾ系化合物、 ポリ メチン系化合物、 キノン系化合物、 ジフエニルメタン系化合物、 ト リ フエニルメ タン系化合物、 メルカプトナフ トール系化合物等を用 いることができ、 またこれらは、 単一種で用いられてもよく、 或は 、 2種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。
ジィモ二ゥム系化合物は、 波長 850〜1100nmの近赤外線領域に、 モル吸光係数が 10万程度の強い吸収性を有し、 従って近赤外線遮蔽 性に優れている。 ジィモ二ゥム系化合物は、 波長 400〜500nmの可視 光領域に若干の吸収を有し黄褐色の透過色を呈するが、 しかし、 可 視光透過性が他の近赤外線吸収色素よ り も優れているため、 本発明 の透明積層体に用いられる近赤外線吸収色素中に、 少なく とも 1種 ジィモ二ゥム系化合物が含まれていることが好ましい。
本発明の透明積層体に用いられる近赤外線遮蔽層用、 近赤外線吸 収性ジィモ-ゥム系化合物と しては、 ジィモニゥム化合物カチオン と、 前記化学式 ( 1 ) : ( CF3 S02 ) 2 N—によ り表されるカウンター ァニオンとによ り構成されている化合物が好ましく用いられ、 この よ うな近赤外線吸収性ジィモニゥム系化合物と しては、 前記化学式 ( 3 ) の化合物を用いることが好ましい。
近赤外線遮蔽層が、 実用上十分な近赤外線遮蔽性を発現するため には、 波長 900〜 1000 n mの近赤外線の透過率が 20 % 以下である ことが好ましい。 近赤外線遮蔽層中の近赤外線吸収色素の好ましい 配合量は、 近赤外線遮蔽層の厚さに依存して変動するが、 ジィモ二 ゥム系化合物を使用し、 かつ、 近赤外線遮蔽層の厚さを 5〜 50 μ πι 程度に設計する場合、 マ ト リ ックスと して使用される透明樹脂 100 質量部に対し、 近赤外線吸収性色素化合物の配合量は、 0. 5〜5. 0 質量部程度とするのが好ましい。 透明マ ト リ ックス樹脂 100質量部 に対する近赤外線吸収色素化合物の配合量が、 5質量部をこえると 、 得られる近赤外線遮蔽層中において、 色素の偏析を生じたり、 ま た可視光透明性の低下などを生ずることがある。
また、 ジィモ二ゥム系化合物を使用する場合、 得られる近赤外線 遮蔽層に実用的に十分な耐久性を付与するには、 前記ジィモニゥム 系化合物として 190°C以上の融点を有するものを使用することが好 ましい。 融点が 190°Cより低いものは、 高温高湿度下において変質 し易いが、 190°C以上の融点を有するものは、 後述の好適なマ ト リ ッ クス樹脂種を選択することと併せて、 実用上良好な耐久性を有す る近赤外線遮蔽層を得ることができ る。
さ らに、 近赤外線遮蔽層に実用上十分な近赤外線遮蔽性を発現さ せるためには、 波長 850〜900 n mの近赤外線透過率か 20 % 以下の 近赤外線吸収性色素を用いること 好ましい。 このためには、 例え ば、 ジィモ二ゥム系化合物を用いた場合、 さ らに、 第 2 の近赤外線 吸収色素と して、 750〜900 n mに吸収極大を有し、 可視光領域に 実質的に吸収がない 1種以上の色泰、 例えば、 その吸収極大波長に おける吸収係数と、 波長 450 n m (青色光の中心波長) 、 525 n m ( 緑色光の中心波長) 及び 620 n m (赤色光の中心波長) におけるそ れぞれの吸光係数との比が、 いずれも 5. 0以上である 1種又は 2種 以上の近赤外線吸収色素を用いるこ とが好ましく、 前記吸光係数の 比が 8. 0以上であることがよ り好ま しい。 前記吸光係数の比のいず れかが 5. 0未満であるときは、 実用上必要とされる 850〜900 n mの 平均透過率が 20 %以下である場合、 波長 450 n m (青色光の中心波 長) 、 525 n m (緑色光の中心波長) 、 および 620 n m (赤色光の中 心波長) における可視光線透過率のいずれかが 60 %未満となり、 可視光領域の透過率が実用上不十分になることがある。
750〜900 n mに吸収極大を有し、 その吸収極大波長における吸 収係数と、 波長 450 n m (青色光の中心波長) 、 525 n m (緑色光の 中心波長) 及び 620 n m (赤色光の中心波長) におけるそれぞれの 吸光係数との比が、 いずれも 5. 0以上である前記第 2の近赤外線吸 収色素用化合物と しては、 例えば、 ジチオールニッケル錯体系化合 物、 イ ン ドリ ウム系化合物、 フタロ シアニン系化合物、 ナフタロシ ァニン系化合物等が挙げられる。 特に、 フタ ロ シアニン系化合物及 びナフタロ シアニン系化合物は、 一般的に耐久性に優れており、 好 適に用いることができるが、 ナフタロシアニン系化合物はよ り高価 であるため、 フタロ シアニン系化合物が、 実用上よ り好適に用いら れる。
更に、 本発明の透明積層体において、 その波長 590nmの可視光の 透過率が、 波長 450nm、 525nm、 620nmの各々における可視光の透過 率より も 10 %以上低いことが好ましい。 このよ うにすると、 本発明 の透明積層体を光学フィルタ一と して用いた場合、 プラズマデイ ス プレイ等のディスプレイのコントラス ト性を向上させ、 色調補正機 能が高くなる。 本発明の透明積層体の、 波長 590nmの可視光の透過 率を、 波長 450nm、 525nm、 620nmの各々における可視光の透過率よ り も 10 %以上低くするためには、 近赤外線遮蔽層中に選択吸収性色 材を含有させることが好ましレ、。 波長 590nmの可視光を選択的に吸 収する色材には、 前記ジィモニゥム化合物の組成上の変質に悪影響 を与えるものでない限り、 特に制限はないが、 例えばキナタ リ ドン 顔料、 ァゾメ チン系化合物、 シァニン系化合物、 及びポルフィ リ ン 化合物等を用いることが好ましい。
近赤外線吸収色素用マ ト リ ッ クス樹脂と しては、 例えば、 ァク リ ル系樹脂、 及びメタク リル系樹脂等を用いることができるが、 ガラ ス転移点が 60 °C以上である透明樹脂を用いることが好ましく、 こ のよ うな透明樹脂と しては、 アク リ ル系樹脂、 メ タ ク リ ル系樹脂の いずれかであることが望ましレ、。 透明樹脂のガラス転移点が 60 °C 未満であると、 60 °C以上の高温に長時間曝された場合、 樹脂が軟 化し、 それと同時に近赤外線遮蔽層中の色素、 特にジィモ二ゥム系 色素化合物が変質を受け易く、 このため、 透明積層体のカラーパラ ンスが損なわれたり、 近赤外線の遮蔽性が低下することなど、 長期 の安定性が低下することがある。 一方、 ガラス転移点が 60 °C以上 であると、 得られる近赤外線遮蔽層において色素、 特にジィモニゥ ム系化合物からなる色素の、 熱変質を抑制するこ とができる。 また 、 上記の樹脂を用いると、 近赤外線遮蔽層を、 電磁波遮蔽層に、 接 着剤層を介して積層接合する際の、 近赤外線遮蔽層中の色素の劣化 、 近赤外線遮蔽層の歪み、 剥がれ等を防止することができる。 上記 のよ うな要件を満たす樹脂と しては、 ポリ エステル系樹脂、 アタ リ ル系樹脂、 メタク リル系樹脂等が挙げられるが、 塩基性染料である ジィモ二ゥム系化合物の染着性 (固着性) に優れているアク リル系 樹脂、 及び/又はメタク リル系樹脂を用いるこ とが好適である。
近赤外線遮蔽層の形成方法と しては、 前記の近赤外線吸収色素と マ ト リ ックス樹脂とを溶媒中に溶解または分散し、 得られた溶液又 は分散液を、 第 1透明基材の 1面上に塗布し、 溶剤を乾燥蒸発させ る形成方法が知られている。 塗布方法と しては、 通常の塗工層形成 方法でよく、 例えば、 バーコ一ター、 グラビアリバースコーター、 スリ ッ トダイコ ーター等の塗工装置を用いる塗布方法を用いること ができる。
近赤外線遮蔽層形成用塗工液の溶媒と しては、 例えば、 メチルェ チルケ トン、 メチルイ ソプチルケ ト ン、 シクロへキサノ ン、 ァセ ト ン、 ァセ トニ ト リル、 ジク ロ ロ メ タン、 ジメチルホルムアミ ド、 酢 酸プチル、 トルエン等を例示するこ とができ、 これらを単独で、 ま たは混合して用いることができる。
(反射防止層)
本発明の透明積層体において、 第 1透明基材の他面上に形成され る反射防止層の構成、 組成などに限定はなく、 単層構造を有してい てもよく、 あるいは複数構造を有してもよい。 また、 反射防止層上 に、 帯電防止層等の導電層及び Z又は、 防眩層等の、 機能を有する 薄膜層をさ らに形成してもよい。
(電磁波遮蔽層) 本発明の透明積層体において、 第 2積層部の第 2透明基材の 1面 上に形成される電磁波遮蔽層の構成 ·組成などに制限はなく、 電磁 波遮蔽性と画像の透過性を有するように形成されたものであればよ く、 例えば、 金属メ ッシュ層、 導電性物質を含む透明導電膜などを 用いるこ とができる。
例えば、 金属メ ッシュ層は、 金属メ ッシュを第 2透明基材に貼り 付けたものであってもよく、 第 2透明基材に^!箔等の金属箔をラミ ネー ト し、 或は銅等の金属をメツキして形成された金属層にエッチ ングを施してメ ッシュパターンの形状に形成 したもの等を用いるこ とができる。 ここで、 金属メ ッシュを第 2透明基材に貼り付けたも のとしては、 金属製メ ッシュ、 又は繊維の表面に金属をメ ツキした メ ッシュを貼り付けたものが用いられる。 また、 例えば、 透明導電 膜層と しては、 銀等の導電性物質を蒸着、 スパッタ等によ り形成し たものが用いられる。
さらに、 電磁波遮蔽層の厚みは、 1〜 1 5 μ πιであることが好ま しく 1〜 1 0 μ πιであることがさらに好ましい。 電磁波遮蔽層と し て金属メ ッシュ層を用いる場合、 金属メ ッシュ層の厚さが 1 5 μ m よ り厚いと視野角が狭くなり視認性が低下する。 さ らに表面を黒色 化しても、 斜め方向から視認した場合、 金属メ ッシュの深さ方向は 黒色化され難く、 金属の色調がむき出しになっており、 画面の色調 に不具合を与える。
また、 図 1 に示されているように本発明の透明積層体 1の第 2積 層部 6 2において、 前記第 2透明基材 2 1 の一面上に電磁波遮蔽層 2 2が形成され、 他の面上に裏面接着剤層 4 1が形成されていても よい。 この裏面接着剤層によ り本発明の透明積層体を、 ガラス、 プ ラスチック等のパネルに貼り付け、 あるいはプラズマディスプレイ の表示面に直接貼り付けることができ、 それによ り プラズマデイス プレイの表示面に優れた特性を有する光学フィルターを固定するこ とができる。 また、 第 2透明基材 2 1が接着剤層 3 1 と接し、 電磁 波遮蔽層 2 2が接着剤層 3 1 と反対側に形成されている場合は、 電 磁波遮蔽層 2 2上に裏面接着剤層 4 1 を形成してもよい。
この裏面接着剤層の接着 (粘着) 強度は、 接 (粘) 着初期におい て、 l〜 2 0 N/ 2 5 mm ( 1 〜 2 0N/ 1インチ) であることが好 ましく、 よ り好ましくは l〜 1 5 NZ 2 5 mmであり、 さらに好ま しく は 1 〜 1 O N/ 2 5 mmであり、 さ らに好ましく は 4〜 8 NZ 2 5 mmである。 これは本発明の透明積層体を光学フィルターと して 直接プラズマディスプレイの表示面に貼り付ける場合、 貼り付けた 後、 再度剥離しなくてはならない場合があるためである。 例えば、 貼り付け位置が適正でなかった場合、 または貼り付け後、 当該光学 フィルターを損傷した場合等、 光学フィルターを剥離してモジユ ー ルを再利用するため、 裏面接着剤層の接着 (粘着) 強度は、 ある程 度の弱粘着であることが好ましい。 さらに好適には当該接着 (粘着 ) 強度は経時的に上昇し、 接 (粘) 着強度が平衡に達した時点にお ける接 (粘) 着強度は 5〜 2 5 N/ 2 5 m mであることが好ましく 、 さらに好ましくは 1 0〜 1 51^/ 2 5 111 111でぁる。 このよ うに本 発明の透明積層体の前記第 2積層部の裏面に接 (粘) 着強度の比較 的低い接着剤層を形成することによ り、 万一の場合の透明積層体の 剥離作業を容易にし、 高価なモジュール本体は再利用するこ とを可 能にできる。
(近赤外線遮蔽層の具体例)
本発明の透明積層体においては、 前記近赤外線遮蔽層が、 ジィモ 二ゥム化合物カチオンと、 前記化学式 (1) によ り表されるカウン ターァニオンとによ り構成される少なく とも 1種の近赤外線吸収性 ジィモ二ゥム系化合物からなる第 1近赤外線吸収色素と、 750〜950n mの近赤外波長の領域に吸収極大を有し、 かつ前記ジィ モ -ゥム系 化合物とは異種の少なく とも 1種の色素化合物からなる第 2近赤外線 吸収色素と、 少なく とも 1種のェチレン性不飽和単量体の重合体を 含む透明性樹脂とを含み、 前記少なく とも 1種のエヂレン性不飽和 単量体の 3 0質量%以上が、 前記一般式 (2) によ り 表される単量 体であることが好ましい。
上記したように、 近赤外線吸収色素と しては、 ジィモニゥム化合 物を使用することが好適であるが、 ジィモニゥム化合物には、 それ を高温高湿雰囲気下に長時間放置した場合、 組成上の変質が避けら れないという問題点がある。
本発明者がジィモニゥム化合物の高温高湿雰囲気下における変質 のメカニズムを研究し、 その結果、 上記変質は、 樹脂組成物塗膜中 の水分の介在と、 加熱による熱エネルギーとにより 、 ジィモニゥム 化合物中のカウンターァニオンが分解することによ るこ とを見出し た。 さらに、 本発明者は、 化学式 (1 ) の特定カウンターァニオン を有するジィモニゥム系カチオン性化合物であって、 第 1近赤外線 吸収色素とは異種の、 かつ近赤外域に吸収極大を有 し、 可視光域に 実質上吸収を示さない第 2近赤外線吸収色素と、 一般式 (2) で示さ れる特定の単量体化合物を 3 0質量%以上含む単量体から製造され た透明性樹脂とを含有する近赤外線遮蔽層は、 高温高湿雰囲気下、 および外光の長時間曝露において、 色度変化が少な く、 可視光領域 に高い透過率と、 850〜1000nm領域に高い近赤外線遮蔽性を兼備す ること、 および加熱、 加圧、 及び、 接着剤層との接触等によ り近赤 外線遮蔽層の特性を低下させるこ とがなく、 さらに接着剤層を介し て金属メ ッシュ層に積層接合できることを見出した。
(第 1近赤外線吸収色素)
本発明の透明積層体において第 1の近赤外線吸収色素と して、 ィ匕 学式 (1 ) のカウンタ一ァ-オンと、 ジィモニゥム化合物カチオン によ り構成される化合物が用いられることが好ましい。 前記ジィモ ニゥム系カチオン性化合物は、 化学式 ( 1 ) で示される特定のカウ ンターァニオンを有しているため、 それが近赤外線遮蔽層中に含ま れたとき、 化学式 (1 ) のカウンターァ-オンは、 水分の介在と、 加熱による熱エネルギーとによる分解に対して強い抵抗性を示し、 それによつて第 1の色素の、 組成上の変質を抑制する ことができる 近赤外線遮蔽用塗料を用いて形成された近赤外線遮蔽膜において
、 実用上十分な近赤外線遮蔽性を発現させるために、 波長 850nm〜9 OOnmの平均透過率を 20 %以下にコン ト ロールするこ と が好ましい。 前記ジィモ二ゥム系化合物のみを近赤外線遮蔽膜中に含有させた場 合には、 前記波長領域で十分な近赤外線遮蔽性を得る こ とができな い、 また、 近赤外線遮蔽性を向上させるために第 1近赤外線吸収色 素を、 過度の含有量で含有させると、 各試験前後の色度 Xおよび y の変化量が大きくなるため好ましくない。
そこで、 本発明の近赤外線遮蔽層形成用塗料には、 波長 750〜950 nmに吸収極大を有し、 しかし可視光領域に実質的に吸収のない第 2 近赤外線吸収色素を添加することが好ましい。 第 1近赤外線吸収色 素と第 2近赤外線吸収色素とを含有することによ り、 得られる近赤 外線遮蔽層は、 850nn!〜 lOOOnmの近赤外線領域において、 優れた近 赤外線遮蔽性を有し、 さ らに可視光部分においても優れた透過性を 有する塗膜を形成することができる。
(第 2近赤外線吸収色素)
本発明に用いられる第 2近赤外線吸収色素は、 吸収極大波長にお ける吸光係数の、 波長 450nm (青色光の中心波長) 、 525nm (緑色光 の中心波長) および 620nm (赤色光の中心波長) におけるそれぞれ の吸光係数に対する比が、 いずれも 5 . 0以上であるものが好ま しく 、 8. 0以上であることがより好ましい。 前記いずれかの波長の吸光 係数に対する比が 5. 0未満であるときは、 波長 850nn!〜 900nraの平均 透過率が 20 %以下である場合、 波長 450nm (青色光の中心波長) 、 5 25nm (緑色光の中心波長) および 620nm (赤色光の中心波長) 〖こお ける可視光透過率のいずれかが 60 %未満となり、 可視光領域での透 過率が不十分になることがある。
本発明に用いられる第 2近赤外線吸収色素としては、 例えば、 ジ チオール金属錯体系化合物、 フタロシアニン系化合物、 ナフタ ロシ ァニン系化合物、 シァニン系化合物等が挙げられる。 特に、 フ タ口 シァニン系化合物が有機溶剤への可溶性が優れるため好適に用いら れる。
近年、 フタロ シアニン骨格にフエニル基等の共役 π電子系置換基 を導入したり、 アルコキシ基等の電子供与性置換基を多数導入する ことにより、 近赤外線領域に吸収極大を有するフタ口シァニン系化 合物が多数提案されており、 これらの中でも、 下記一般式 (4) で 表されるフタロシアニン系化合物は、 上記吸光係数の比が各々 5. 0 以上となるため、 本発明に好適に用いることができる。
Figure imgf000020_0001
〔一般式 ( 4 ) において、 8個の αは、 それぞれ互に独立に、 一 SR —OR2及び、 一龍 R3基並びにハロゲン原子から選ばれた 1員を袠 し、 但し、 少なく とも 1個のひは、 一 NHR3基を表し、 8個の j8は、 それぞれ互に独立に、 — SR1 , — OR2及びハロゲン原子から選ばれ fこ 少なく とも 1員を表し、 但し、 少なく とも 1個の ]3は、 一 SR1又は _ 0R2基を表し、 かつ前記 8個のひ及び 8個の ]3の少なく とも 1個 は、 ハロゲン原子及び一 OR2基を表し、
R 1 , R 2及び R 3は、 それぞれ互に独立に、 置換基を有する、 又 は有していないフヱニル基、 1〜 2 0個の炭素原子を有するアルキ ル基、 及び?〜 2 0個の炭素原子を有するァラルキル基から選ばれ た 1員を表し、
Mは 1個の金属原子、 1個以上の水素原子、 1個の金属酸化物及 び金属ハ口ゲン化物から選ばれた 1員を表す〕
また、 第 1近赤外線吸収色素、 及び第 2近赤外線吸収色素と して、 それぞれ 2種以上の近赤外線吸収色素化合物を用いてもよく、 さ ら に必要に応じ他の色素を添加してもよい。 また、 第 1近赤外線吸収 色素と第 2近赤外線吸収色素との配合質量比は、 3: 2〜29: 1である ことが好ましく、 より好ましく は、 2: 1〜9: 1である。 上記配合 j:匕 が 3Z 2未満であると、 可視光領域光線の透過率が不十分になること があり、 またそれが 29/ 1を超えると、 各種信頼性試験前後の色度 変化量が大きくなることがある。
(近赤外線遮蔽層用透明性樹脂)
本発明の近赤外線遮蔽層形成用塗料に用いられる透明性樹脂は、 少なく とも 1種のエチレン性不飽和単量体の重合体から選ばれた少 なく とも 1種を含むもので、 前記重合体を形成するエチレン性不飽 和単量体の少なく とも 30質量%、 好ましく は 50〜: 100質量%が、 前 記一般式 (2) の単量体化合物であることが好ましい。 上記の構成 を有する透明性樹脂は、 各種有機溶剤 (例えば、 トルエン、 キシレ ン、 酢酸ェチル、 酢酸プチル、 アセ トン、 メチルェチルケ ト ン、 メ ソイ ソプチルケ トン、 シク 口へキサン、 及びテ トラヒ ドロフラン) などに高い溶解度を示し、 かつ高い耐透湿性及び耐紫外線性を有す る塗膜を形成することができる。 一般式 (2) で表される単量体に おいて、 Xで表される C6— C25環状炭化水素基、 例えば、 シク ロへ キシル基、 メチノレシク 口 へキシノレ基、 シクロ ドデシル基、 ポル二ノレ 基、 イソポルニル基等であることが好ましい。
一般式 (2) で表わされる単量体化合物を 30質量%以上含有する 単量体成分を重合してなる透明性樹脂としては、 X = C6— C25環状 炭化水素基を有するメタァク リ レー ト系榭脂であることが好ましい 。 他の一般的なメタアタ リ レート系樹脂、 例えばメチルメタアタ リ レート樹脂に前記第 1及び第 2近赤外線吸収色素を分散した塗料から 形成される熱可塑性の塗膜は、 それが高温高湿度下に長時間曝され た場合、 環境中の水分の影響によ り、 樹脂塗膜の劣化が起こ り、 そ れに付随して、 第 1近赤外線吸収色素の変質により、 塗膜の色度が 大きく変化するという問題を生ずる。 これに反して、 上記一般式 ( 2) で表される単量体を必須単量体成分と して含む重合体を透明性' 樹脂と して用いることによ り、 前記第 1近赤外線吸収色素の高温高 湿度下における耐久性が向上し、 それに加えて、 紫外線照射に対す る耐久性も向上させることができる。
また、 本発明において、 近赤外線遮蔽層用透明性樹脂は、 熱可塑 性のメタアタ リ レー ト系樹脂であることが好ましい。 他の熱硬化性 樹脂、 紫外線硬化性樹脂、 又は電子線硬化性樹脂を用いると、 樹脂 中に含まれる反応活性基と前記第 1近赤外線吸収色素用ジィモニゥ ム系化合物が容易に反応し、 樹脂組成物中において、 あるいは塗膜 形成過程において色素の変性を生ずることがある。 上記一般式 (2) で表される単量体化合物の単量体全量に対する 含有量は、 重合体形成に用いられた全単量体の合計質量に対し、 30 質量%以上であることが好ましい。 それが 30%未満の場合は、 第 1 近赤外線吸収色素用ジィモ二ゥム系化合物の変質による塗膜の色度 変化を十分には抑制できないことがある。 一般式 (2) の単量体化 合物の含有量は、 好ましく は 50質量%以上であり、 よ り好ましくは 80〜: 100質量%以上である。
上記一般式 (2) で表される単量体化合物を必須重合成分と して 含む熱可塑性のメタアタ リ レー ト系樹脂は、 トルエン、 酢酸ェチル 、 酢酸プチル、 メチルェチルケ トン等の汎用有機溶剤中における溶 液重合で容易に合成するこ とができる。 また、 塗料中の第 1近赤外 線吸収色素用ジィモ二ゥム系化合物及び透明性樹脂自体の溶解性が 十分高く、 塗料と して安定な樹脂組成物を得るこ とができる。
一般式 (2) で表わされる単量体化合物を 30質量%以上含有する 単量体を重合して得られる透明性樹脂において、 そのガラス転移点 は 60°C以上 120°C以下であることが好ましく、 80〜100°Cであること がさ らに好ましい。 ガラス転移点が 60°C未満であると、 塗膜が 80°C 以上の高温に長時間曝された場合、 樹脂が軟化し、 それと同時に、 塗膜中の第 1近赤外線吸収色素用ジィモ二ゥム系化合物が変質し易 く、 塗膜の色度が大きく変化したり、 塗膜の近赤外線遮蔽性が低下 して、 長期の耐熱性が低下することがある。 しかし、 透明樹脂のガ ラス転移点が 60°C以上であると、 熱による第 1及び第 2近赤外線吸収 色素、 特にジィモユウム系化合物の変質を抑制することができる。 一方、 ガラス転移温度が 120°Cを超えると、 得られる塗膜が硬くて 脆いものとなり、 耐屈曲性の低下ゃハン ドリ ング等で容易に割れを 生じる等、 実用上の問題を生ずることがある。
本発明に用いられる透明性樹脂は、 そのガラス転移点が 60°C以上 120°C以下の熱可塑性のメタアタ リ レー ト系樹脂であることが好ま しい。
更に、 本発明において近赤外線遮蔽層に用いられる透明性樹脂の 分子量は、 数平均分子量が 20, 000以上 80, 000以下であり、 且つ重 量平均分子量が 200, 000以上 400, 000以下であることが好ましい。 尚、 数および重量平均分子量は、 ポリ スチレン標準 GPCを用いて得 られた測定値である。 重量平均分子量が 200, 000未満の場合、 形成 される近赤外線遮蔽塗膜の柔軟性が不十分となり、 耐屈曲性が劣り 、 また耐薬品性に劣るものとなることがある。 また、 重量平均分子 量が 400, 000を超える場合は、 重合体そのものを溶液重合させるこ とが難しくなることがある。 一方、 数平均分子量が 20, 000未満あ るいは 80, 000を超える場合には、 得られる重合体の耐薬品性が不 十分になるこ とがある。
また、 本発明に用いられる近赤外線遮蔽層用透明性樹脂は、 第 1 透明基材がポリ エステル系樹脂の場合には、 力ルポキシル基を含有 する単量体に由来する適度の酸価を有することが好ましい。 これに よ りポリエステル系樹脂フィルムとの密着性を向上させることがで きる。 またこれによ り、 長期間の安定性が向上すると共に、 積層時 の耐剥がれ等の特性の劣化を防ぐことができる。 上記適度の酸価と は、 樹脂固形分に対して、 lmgKOH以上、 20mgK0H以下であることが 好ましい。 酸価が lmgKOH未満の場合、 塗膜と基材との十分な密着性 が得られないことがあり、 一方、 それが 20mgK0Hを超える場合には 、 高温下における第 1近赤外線吸収色素用ジィモ二ゥム系化合物の 安定性に悪影響を及ぼすことがある。
さ らに、 前記ポリ エステル系樹脂を第 1基材と して用いる場合、 近赤外線遮蔽層との実用上の密着性を向上させるために、 基材上に 有機樹脂成分よ りなる密着性改良層を形成しておく ことが好ましい 。 密着改良層を形成しない場合は、 ポリ エステル系樹脂フィルムと 近赤外線遮蔽層との界面で、 近赤外線遮蔽層が剥離しやすくなって しまうことがある。
本発明に用いることができる密着性改良層は、 有機樹脂成分を主 成分として含有しているが、 近赤外線遮蔽積層体の使用中の色度変 化を抑制するためには、 反応性硬化剤を含まないものであることが 好ましい。
前記密着改良層中の有機樹脂成分については、 前記近赤外線遮蔽 層とポリエステル系樹脂との間に、 実用上十分な密着性が得られる 限り特に制限はなく、 例えば、 アク リル系樹脂、 アク リル一メラ二 ン共重合樹脂、 アク リル一ポリ エステル共重合、 ポリ エステル系樹 脂等を単体で、 或はそれらの 2種以上の混合物を用いることができ る。 また、 塗工工程におけるフィルムの卷取り性の向上、 及びブロ ッキングおよびスクラッチの発生防止のために、 密着改良層中にシ リ力微粒子、 タルク等の微粒子を適宜含有させてもよい。
前記密着性改良層中に、 イソシァネー ト化合物、 ブロ ックイ ソシ ァネート化合物等の反応性硬化剤が含まれる場合、 これが 80°C以上 の高温に長時間曝されると、 近赤外線遮蔽層中の第 1近赤外線吸収 色素用ジィモ二ゥム系化合物が、 これらの反応性硬化剤と反応して 変質し易く、 近赤外線遮蔽層の色度が大きく変化し、 及び/又は近 赤外線遮蔽性が低下するなどを生じ、 その長期耐熱性に悪影響を与 免ることカゝある。
本発明に用いられる近赤外線遮蔽層形成用塗料において、'第 1及 び第 2近赤外線吸収色素の合計質量の、 前記透明性樹脂に対する乾 燥固形分質量比が 1 : 99〜1 : 4の範囲内にあることが好ましく、 よ り好ましく は、 1 : 49〜1: 24である。 この質量比が 1/ 99未満であ ると、 高度な近赤外線遮蔽率を得るために、 近赤外線遮蔽層の乾燥 膜厚を 20 μ ιη以上に厚くすることが必要になることがあり、 しかし このような厚い膜の形成は困難であることがあり、 またそれが 1ノ 4 を超えると、 近赤外線遮蔽塗膜の形成過程において、 赤外線吸収色 素の偏析による遮蔽性能の低下及びヘイズ値の上昇という不都合を 生ずることがある。
また、 本発明の透明積層体は温度 60°C、 相対湿度 90 %の高湿度雰 囲気中における 1 , 000時間の劣化促進試験、 温度 80° (:、 相対湿度 5 %以下の高温乾燥雰囲気中における 1, 000時間の劣化促進試験、 温 度 80 °C、 相対湿度 95 %の高温高湿雰囲気中における 48時間の劣化促 進試験、 及び放射照度 δδΟΙΐΖι^のキセノ ンランプ照射による 48時間 の劣化促進耐候性試験の各々において、 試験前後における近赤外線 遮蔽積層体の色度 X及び yの変化量が、 0. 005以下であることが好 ましく、 0〜0. 003であることがよ り好ましい。 このような特性を 有していると、 本発明の積層体をプラズマディスプレイ等の各種デ イスプレイに用いる場合、 その近赤外線遮蔽性、 可視光透過性、 色 調等の特性が、 長期間にわたり、 温度変化、 湿気、 さ らには外部か らの光照射によ り劣化することがなく、 長期間安定した画像を表示 することができる。
(近赤外線遮蔽層の形成方法)
本発明の透明積層体の近赤外線遮蔽層は、 前記第 1近赤外線吸収 色素と第 2近赤外線吸収色素と透明性樹脂を前記溶媒に溶解または 分散し、 得られた溶液又は分散液を、 第 1 の透明基材上の一面に塗 布し、 溶剤を乾燥蒸発させて形成することができる。 塗布方法と し ては、 通常用いられる方法でよく、 例えば、 バーコ一ター、 グラビ ァリパースコーター、 スリ ッ トダイコーター等の塗工装置を用いて 塗布することができる。
(衝撃吸収層) さ らに、 本発明の透明積層体においては、 第 1積層部と、 第 2積 層部との間に衝撃吸収層が配置されていることが好ましい。 例えば 、 図 2に示されているように、 第 1積層部 6 1 の近赤外線遮蔽層 1 3 と接着剤層 3 1 との間に、 衝撃吸収から形成された衝擊吸収層 3 2を積層し、 さ らに必要によ り衝撃吸収層 3 2 と、 近赤外線遮蔽層 1 3 とを、 中間接着層 3 l aを介して接着してもよい。 あるいは近 赤外線遮蔽層 1 3 と電磁波遮蔽層 2 2 との間の接着剤層 3 1 に衝撃 吸収材を含有させてもよい。 これは、 本発明の透明積層体を、 ブラ ズマディスプレイの表示面に直に貼り付ける場合、 従来のガラスパ ネルを伴う光学フィルターに比べ、 ガラスを除いた分、 衝撃強度が 低下することを防止するためである。 衝撃吸収材と しては、 シリ コ ーンゴム、 ウ レタ ンゴム、 ステレンブタジエンゴム、 二 ト リ ノレゴム 、 ク ロ ロブレンゴム、 エチレン · プロ ピレンゴム、 プチノレゴム、 フ ッ素ゴム等およびこれら共重合体のエラス トマ一材料、 ポリエチレ ン、 ポリ オレフイ ン、 セルロース等の樹脂フィルム等を用いるこ と ができる。
光学フィルター用として用いるため、 透過率、 ヘーズを勘案した 場合、 当該衝撃吸収層 3 2 の厚さは 0. 1〜: I . 5mmであることが好ま しい。 また、 当該衝撃吸収材の特性と しては、 引っ張り強度が 6〜 1 OMPaであり、 切断時の伸びが 150〜 400%であることが好ましい。
(反射防止層の説明)
本発明の透明積層体において、 図 3示されているよ うに、 第 1積 層部第 1透明基材 1 1上に形成された、 反射防止層 1 2は、 ハー ド コート層 5 1 と、 このハー ドコー ト層 5 1上に積層された導電性中 屈折率層 5 2 と、 この導電性中屈折率層 5 2上に積層された高屈折 率層 5 3 と、 この高屈折率層 5 3上に積層された低屈折率層 5 4 と からなるものであることが好ましい。 このよ うな構成の反射防止層は導電性を有する反射防止層であつ て、 静電気によるほこ りの付着等を防止できる。 また、 この導電性 中屈折層が、 中屈折率層の機能を併有することにより、 中屈折、 高 屈折、 低屈折の 3層による反射防止膜を形成することができ、 それ によつて優れた反射防止効果が得られる。
(反射防止層のハー ドコー ト層)
第 1透明基材上に積層されるハー ドコー ト層は、 樹脂成分によ り 形成されるが、 酸化物微粒子を含有することが好ましい。 酸化物微 粒子を含有するこ とによ り、 第 1透明基材との密着性が向上する。 本発明における反射防止層は、 第 1の透明基材と第 2の透明基材の 貼り合わせ時に、 剥離したり、 傷ついたり しないように密着性が特 に重要である。
ハードコート層における酸化物微粒子の含有量は 3 0質量%〜 8 0質量%であることが好ましい。 酸化物微粉末の含有量が 3 0質量 %未満の場合、 第 1 の透明基材ゃ中屈折率層との密着性が低下し、 目的とする鉛筆硬度や、 スチールウール強度等の膜硬度が得られな くなる。 また、 酸化物微粉末の含有量が 8 0質量%より多い場合、 酸化物微粉末の含有量が過度となり、 得られるハー ドコー ト層の膜 強度が低下する、 得られるハー ドコー ト層に白化現象が認められる 、 硬化後の膜の屈曲性が低下しクラックが発生しやすくなる、 等の 問題が発生する。
また、 ハー ドコー ト層の屈折率は、 第 1透明基材の表面平均屈折 率と同値になるように設計するこ とが好ましい。 これは、 第 1透明 基材の表面平均屈折率とハー ドコー ト層の屈折率差によ り発生する 反射率の振幅の差を小さくすることによ り、 いわゆる 「表面の虹色 の色むら」 を目立たなくすることができるためである。 ただし、 第 1透明基材と して易接着層付き PETフィルム用いた場合は、 ハー ド コート層の屈折率を、 下記式にて算出される屈折率と同じか、 また はこれに近づけることが好ましい。
N = Np - ( Ns - Np) / 2
N: 透明ハードコー ト層の屈折率
Np : PET易接着層の屈折率
Ns : PET基材の表面平均屈折率
また、 ハー ドコート層中に用いられる酸化物微粒子と しては、 酸 化珪素、 酸化アルミニウム、 酸化アンチモン、 酸化錫、 酸化ジルコ 二ゥム、 酸化タンタル、 酸化セリ ウム、 酸化チタン等が、 該ハー ド コート層を着色することなく、 透明性に優れたハードコート層を形 成し得る等の理由により適宜用いられる、 この酸化物微粒子の粒子 径としては、 lOOnm以下のものが好ましい。 lOOnmを超える粒子系の 酸化物微粉末では、 得られるハー ドコート層がレイ リー散乱により 、 光を著しく散乱させ、 白く見えるようになって透明度が低下する ためである。
前記樹脂成分については、 たとえば紫外線硬化樹脂、 電子線硬化 樹脂、 カチオン重合系樹脂等が挙げられるが、 中でも紫外線硬化樹 脂のものは安価で、 透明プラスチックフィルムとの密着性に優れる ことから好適に用いられる。 紫外線硬化型樹脂には、 塗工法 (ゥェ ッ トコーティ ング法) に用いられる感光性の樹脂であればよく、 た とえば、 アク リル系榭脂、 アク リルウレタン系樹脂、 シリ コーン系 筋、 エポキシ系樹脂等が前記酸化物微粉末の分散性を損なう ことが ない等の理由から好適に用いられる。 本発明において、 反射防止層中のハー ドコー ト層は、 たとえば、 有機樹脂成分と、 酸化物微粒子と、 有機溶剤を少なく とも含有する ハー ドコー ト層形成用塗料を、 第 1の透明基材上に塗布、 乾燥、 紫 外線照射することにより形成される。 前記透明ハー ドコー ト層形成用塗料は、 たとえば、 前記酸化物微 粒子と、 榭脂成分とを分散剤を使用して、 超音波分散、 ホモジナイ ザ一、 サンドミル等を用いた通常の方法で、 有機溶剤中に混合分散 させた、 有機溶剤系塗料と して得ることができる。 前記の有機溶剤 は、 アルコール系、 グリ コール系、 酢酸エステル系、 ケ トン系など から選ぶことができ、 これらは、 単一種で用いてもよく、 2種類以 上混合して使用してもよい。
そして、 第 1透明基材の片面に、 前記ハー ドコート層形成塗料を 、 塗布し、 紫外線照射等によ り架橋硬化させ、 ハー ドコー ト層を形 成する。 このハー ドコート層の膜厚は、 0. 5 /X π!〜 20nmであることが 好ましく、 より好ましくは 0. 5〜2 μ mである。 膜厚が 0. 5 μ ηι以下で は充分な膜硬度の発現を図ることはできないことがあり、 またそれ が 20 X m以上では、 第 1透明基材のカーリ ングが大きくなることが ある。
なお、 塗工法と しては、 各種の塗工方法が可能であり、 たとえば 、 パーコー ト法、 グラビアコー ト法、 スリ ッ トコーター法、 ロール コーター法、 ディ ップコー ト法などから適宜選択することができる
(導電性中屈折率層)
ハードコー ト層上に形成される導電性中屈折率層は、 好ましくは
、 導電性を有し、 かつ中屈折率の微粒子とバインダー成分とを含む
導電性中屈折率層における前記導電性中屈折率微粒子の含有量は 50質量%以上であることが好ましく、 特に 70〜95%の範囲にあること がよ り好ましい。 前記導電性中屈折率微粒子の含有量が 50質量%未 満では、 導電性中屈折率層 3の表面抵抗値が増大し、 導電性が悪化 するとともに、 フィラー成分が減少することがあり、 このため、 ハ ー ドコー ト層との密着性が不十分になることがある。 一方、 前記導 電性中屈折率微粒子の含有量が 95質量%を超えると、 相対的にパイ ンダ一成分の含有量が低下するため、 パインダーマ ト リ ック ス中に 十分な量の前記導電性中屈折率微粒子を保持することができず、 ま た、 導電性中屈折率層上に他層を塗布する際に、 膜に傷が付きやす く なり外観不良を引き起こすこ.とがある。
前記導電性中屈折率微粒子と しては、 アンチモン含有酸化錫 (以 下 AT0と称す) 、 錫含有酸化インジウム (以下 I T0と称す) 、 アルミ ニゥム含有酸化亜鉛、 金、 銀、 パラジウム等の金属微粒子などが、 透明性および導電性に優れた導電性中屈折率層を形成し得る等の理 由によ り好適に使用される。
また、 前記導電性中屈折率微粒子の粒子径は、 平均粒径が、 1〜1 OOnmであることが好ましい。 平均粒径が lnm未満では、 塗料化時に 凝集を起こしゃすく、 塗科化するための均一な分散が困難になり、 さ らに塗科の粘度が増大し、 分散不良が生じたりすることがある。 また、 導電性中屈折率微粒子の平均粒径が lOOnmを超えると、 得ら れる導電性中屈折率層が、 レイ リー散乱によって著しく光を乱反射 させるため、 白く見えるようになってしまい、 透明性が低下するこ と力 Sある。
パインダ一成分と しては、 シリ コンアルコキシド及び/又は加水 分解生成物から生成される物質が好ましい。
本発明の透明積層体において導電性中屈折率層は、 導電性中屈折 率微粒子とシリ コンアルコキシド及び Z又はその加水分解生成物と
、 有機溶剤とを少なく とも含む導電性中屈折率層形成用塗料を用い て、 ハー ドコート層 51上に塗布、 乾燥させることによ り形成するこ とができる。
前記導電性中屈折率層形成用塗料は、 前記の導電性中屈折率酸化 物微粒子と、 シリ コンアルコキシド及び/またはその加水分解生成 物と場合により添加される他の粒子とを分散剤を用いて、 超音波分 散機、 ホモジナイザー、 サンドミル等を用いた通常の方法で有機溶 剤中に分散させ、 有機溶剤系塗料として得ることができる。
前記シリ コンアルコキシ ドと しては、 たとえばテ ト ラアルコキシ シラン系化合物、 アルキルト リ アルコキシシラン系化合物等から選 ぶことができ、 また、 前記の有機溶剤と しては、 アルコール系、 グ リ コール系、 酢酸エステル系、 ケトン系などから選ぶことができ、 これらは単一種でもよく、 2種類以上の混合物と して使用してもよ レ、。
そして、 透明ハー ドコー ト層上に前記透電性中屈折率層形成用塗 料を塗布し、 たとえば 70〜: 130°Cで 1分以上乾燥して、 光学膜厚を、 140土 3 Onmの範囲に調整することが好ましい。
乾燥温度については 130°Cを超えると使用する透明プラスチック フィルムによっては熱変形を引き起こすために好ましくない。 また 、 7 0°C未満では硬化速度が遅くなり強度が発現しない。 また、 硬 化時間が 1分未満では膜強度が不足するために好ましく ない。
なお、 塗工方法と しては、 たとえばパーコー ト法、 グラビアコー ト法、 ス リ ッ トコーター法、 ロールコーター法、 ディ ップコー ト法 等などから適宜選択することができる。
(高屈折率層)
導電性中屈折率層上に形成される、 高屈折率層は、 例えば高屈折 率の酸化物微粒子とパインダ一成分とを含むものである。
高屈折率層における高屈折率酸化物微粒子の含有量は、 50質量% 以上であることが好ましく、 特に 60〜95質量%であることがよ り好 ましい。 前記高屈折率酸化物微粒子の含有量が 50%未満では、 相対 的にバインダー成分の含有量が増加し屈折率の低下を起こし、 充分 な高屈折率化が得られず、 反射率が過度に増大することがある。 ま た、 前記高屈折率酸化物微粒子の含有量が 95%を超えると、 パイン ダー成分によ り高屈折率酸化物微粒子を十分に固定化することがで きず、 また、 この透明高屈折率層上に他層を塗布する際に傷が入り やすくなり、 さ らに外観不良を起こすことがある。
前記高屈折率酸化物微粒子と しては、 酸化セリ ウム、 酸化亜鉛、 酸化ジルコニウム、 酸化チタン、 酸化タ ンタル等が、 透明性に優れ た高屈折率層 53を形成しうる理由によ り好適に使用される。
また、 高屈折率酸化物微粉末の粒子径は、 平均粒径が、 1〜: lOOmn であることが好ましい。 平均粒径が lnm未満では、 塗料化時に凝集 を起こしやすく、 塗料化するための均一な分散が困難になり、 さ ら に塗料の粘度が増大し、 分散不良が生じたりすることがある。 また 、 高屈折率酸化物微粉末の平均粒径が l OOnmを超えると、 得られる 高屈折率層が、 レイ リー散乱によって著しく光を乱反射させるため 、 白く見えるようになってしまい、 透明性が不十分になることがあ る。
バインダー成分と しては、 シリ コンアルコキシド及び/またはそ の加水分解生成物由来のシリ力が好ましい。
本発明の高屈折率層は、 高屈折率酸化物微粒子と、 バインダー成 分と有機溶剤とを少なく とも含有する、 透明高屈折率形成塗料を用 いて、 導電性中屈折率層上に塗布、 乾燥することによ り形成される 前記高屈折率層形成用塗料は、 前記の高屈折率酸化物微粉末と、 シリ コンアルコキシ ド及び/またはその加水分解生成物と場合によ り添加される粒子とを分散剤を用いて、 超音波分散機、 ホモジナイ ザ一、 サンドミル等を用いた通常の方法で有機溶剤中に分散させ、 有機溶剤系塗料と して得ることができる。 前記シリ コンアルコキシドと しては、 たとえばテ トラアルコキシ シラン系化合物、 アルキルト リアルコキシシラン系化合物等から選 ぶことができ、 また、 前記の有機溶剤と しては、 アルコール系、 グ リ コール系、 酢酸エステル系、 ケ トン系などから選ぶことができ、 これらは単一種でもよく、 2種類以上の混合物と して使用してもよ レ、。
そして、 導電性中屈折率層上に前記高屈折率層形成用塗料を塗布 し、 たとえば 70〜130°Cで 1分以上乾燥して高屈折率層を形成する。 その膜厚は低屈折率層の光学膜厚の 1 . 2〜2 . 5倍に設定するこ とが好ましい。 これまで反射防止に係わる膜厚設計は、 高屈折率層 、 低屈折率層の膜厚を、 目標とする最低反射率を示す波長 (以下ボ トム波長と呼ぶ) の 1/4に設定することが一般的に知られているが 、 この手法で反射防止膜を作製した場合、 ボトム波長における反射 率は最も低くなるけれども、 それよ り も長波長側、 及び低波長側で の反射率が増大し、 その部分の反射色が強くなり、 きつい青紫から 赤紫の反射色を呈する。 更には、 目視での目視での反射率の指標で ある視感度反射率の増大にもつながる。 これら長波長側、 及び低波 長側の反射率の増大を抑えるべく検討を行った結果、 前記のとおり 、 低屈折率層の光学膜厚を 1. 2〜2. 5倍と、 これまでの設計方法よ り 厚めに設計することで解決することを見出した。
乾燥温度については、 それが 130°Cを超えると使用する透明ブラ スチックフィルムによっては熱変形を引き起こすことがある。 また 、 それが 7 0°C未満では硬化速度が遅く なり十分な強度が発現しな いこ とがある。 また、 硬化時間が 1分未満では膜強度が不足するこ とがある。
なお、 塗工方法と しては、 たとえばパーコー ト法、 グラビアコー ト法、 ス リ ッ トコ一ター法、 ロールコーター法、 ディ ップコー ト法 等などから適宜選択することができる。
(低屈折率層)
高屈折率層上に積層される低屈折率層は、 例えば、 シリ コ ンアル コキシ ド及び/又は、 その加水分解生成物と、 シリ コーンオイルと 、 有機溶剤と、 を含む低屈折率層形成用塗料を高屈折率層上に塗布 し乾燥することによつて形成される。
この低屈折率層の屈折率は、 高屈折率層の屈折率よ り も 0. 1以上 小さいことが好ましい。 このような透明低屈折率層を設けることに よ り、 得られる反射防止層は極めて優れた反射防止性を示すものと なる。 この低屈折率層形成用塗料として用いられるシリ コンアルコ キシ ドと しては、 テ ト ラアルコキシシラ ン系化合物、 アルキル ト リ アルコキシシラン系化合物等から適宜選択し使用することができる
また、 前記シリ コーンオイルと しては、 ジアルキルアルコキシシ ラン化合物から適宜使用することができる。 さらに前記の有機溶剤 と しては、 アルコール系、 ダリ コール系、 酢酸エステル系、 ケ ト ン 系から適宜選択することができ、 これらは単一種で使用しても、 2 種類以上を混合して使用してもよい。
透明屈折率層形成用塗料中にシリ コーンオイル 0. 01〜5. 0質量%を 含有させると、 塗膜の水に対する接触角が、 90° 以上となって、 撥 水性を発現し、 滑りやすく なり、 帯電防止 ·反射防止膜付き透明フ イルムの膜強度 (特にスチールウール強度) が向上し、 防汚性も付 与することができる。
前記シリ コーンオイルの含有量が 0. 01質量%未満では、 シリ コー ンオイルが透明低屈折率層 4の表面に十分にじみでずに、 水に対す る接触角が 90° 未満となり、 十分な撥水性が得られず、 帯電防止 · 反射防止膜付き透明フィルムの膜強度向上及び防汚性が得られない ことがある。 また、 含有量が 5. 0質量%を超えると、 シリ コーンオイ ルが透明低屈折率層 5の表面で過度となるために、 水に対する接触 角が 90° を超え、 十分な撥水性が得られるけれども、 シリ コ ンアル コキシド及び/又は、 その加水分解生成物の重合硬化反応を阻害す るために、 帯電防止 · 反射防止膜付き透明フィルムの膜強度低下を 引き起こすことがある。
低屈折率層は、 透明高屈折率層上に、 前記透明低屈折率層形成用 塗料を塗布し、 例えば 70〜: 130°Cで 1分以上乾燥して、 光学膜厚を 14 Onmに調整することによ り形成され、 それによつて、 ボトム波長 600 nm付近の、 帯電防止 · 反射防止膜を作製することができる。
乾燥温度については 130°Cを超えると使用する透明プラスチック フィルムによっては熱変形を引き起こすことがある。 また、 7 0°C 未満では硬化速度が遅くなり強度が発現しないことがある。 また、 硬化時間が 1分未満では膜強度が不足することがある。
なお、 塗工方法と しては、 たとえばパーコート法、 グラビアコー ト法、 ス リ ッ トコーター法、 ロールコーター法、 ディ ップコート法 等などから適宜選択することができる。
上記方法によ り作成された、 帯電防止 · 反射防止膜は、 良好な帯 電防止効果、 反射防止性を有し、 膜硬度が強く、 防汚性を有する等 の特徴を有する。 その理由は、 以下のよ うに考えられる。
透明ハー ドコー ト層、 透明導電性中屈折率層及び、 透明高屈折率 層に多量の無機化合物フィラーを存在させることによ り、 層の表面 エネルギーを増大させて各層表面上への各塗料の濡れ性を著しく 向 上させることができ、 この濡れ性改善効果によ り層間の密着性が向 上し、 これにより従来よ り も強い膜強度を得ることができる。
さ らに、 最外層ある透明低屈折率層には、 シリ コーンオイルが含 有されており、 水に対する接触角が 90° を超え、 撥水性を付与する ことができる。 そしてこの撥水効果は、 綿布等で擦っても効果は十 分に維持され、 従来より も高い防汚性を得ることができる。 防汚性 が持続する理由については、 シリ コーンオイルが、 シリカマ ト リ ツ タス中に取り込まれており、 簡単に滲み出すことがないためと考え られる。
(金属メ ッシュ層の説明)
本発明の透明積層体においては、 第 2積層部の電磁波遮蔽層が金 属メ ッシュ層の場合、 この金属メ ッシュ層は、 黒色化されているこ とによ り、 金属メ ッシュ表面の反射が抑えられ、 金属光沢色によつ て視認性が低下することを防止することができる。
黒色化の方法としては、 黒色化金属、 例えば、 N i, S n, N i 一 S n合金等を電解メ ツキする方法、 酸化または硫化によ り金属表 面を黒色化する方法等がある。
また、 本発明の透明積層体においては、 金属メ ッシュ層の厚さが 1〜 1 5 μ πιであることが好ましく、 さ らに好ましく は 1〜 1 0 μ mである。 金属メ ッシュ層の厚さが厚くなり過ぎると視野角が狭く なり、 視認性が低下することがある。
(一般的製造方法)
本発明の透明積層体は、 第 1透明基材上に上記の方法で反射防止 層を形成した後、 その裏面に上記の方法で近赤外線遮蔽層を形成す る。 一方、 第 2透明基材上に上記の方法で金属メ ッシュ層を形成す る。 このようにして得られた第 1透明基材、 反射防止層および近赤 外線遮蔽層が形成された第 1積層部と、 第 2透明基材と金属メ ッシ ュ層を含む第 2積層部とを、 近赤外線遮蔽層側と金属メ ッシュ層側 とを接着剤層を介して積層接合する。 積層方法と しては、 パネルと フィルム。 フィルムとフィルムの貼り合わせに通常用いられる方法 、 例えば、 ロールラミネーターを用いる方法、 シー トラミネーター を用いる方法等を用いることができる。 また、 上記工程間に適宜、 加熱、 加圧を施してもよい。 さ らに、 貼合後、 脱泡し透明化するェ 程を経ることが好ましい。 脱泡法としては、 加圧または減圧により 行う ことができるが、 加圧によ り行なう ことが好ましい。 この接着 剤層には、 色調や透過率の調整のために着色材を含有させてもよい また、 本発明の透明積層体に用いる金属メ ッシュ層は、 第 2透明 基材上に触媒を含むイ ンクを、 メ ッシュパターンに、 印刷した後、 ィンク画像上に金属を無電解メ ツキおよび/または電解メ ツキする ことにより形成することが好ましい。 メ ツキによ り析出させる金属 と しては、 銅を用いることが好ましい。 また、 無電解メ ツキにより 金属を析出させた後、 さ らに電解メ ツキによ り金属を析出させるこ とが好ましい。 従来から用いられている方法と して、 銀またはイン ジゥム含有酸化スズ (IT0) の薄膜を、 スパッタ法によ り基材上に 形成する方法を用いる と、 得られた金属メ ッシュ層の電磁波遮蔽能 力が不十分であり、 情報処理装置等電波障害自主規制協議会 (VCC I ) が定めるクラス Bの基準をク リ アすることが難しい。 印刷方法は 、 スク リ ーン印刷法、 グラビア印刷法等特に限定されないが、 スク リーン印刷法が好ましい。
また、.従来の金属メ ッシュの形成方法としては、 主に繊維を支持 体に銅などをメ ツキした繊維メ ッシュ、 基材の樹脂フィルムに銅薄 をラミネートする方法、 または銅を表面にメ ツキしたシー トをエツ チングによ り メ ッシュパターン化したエッチングメ ッシュ形成法が あるが、 前者はメ ッシュの線径が約 20〜50 μ ιηと太いため、 透過率 を低下させ、 かつ干渉縞が発生しやすいという問題がある。 また、 後者は約 10〜20 mの厚みを有する銅箔をェツチングしているため 、 金属メ ッシュ層の厚みが厚く、 視野角が狭くなり視認性が低下す る。 さらに、 銅箔表面を黒色化処理していたと しても、 斜め方向か ら視認した場合、 エッチングの深さ方向には銅特有の色調がむき出 しになつており、 画面の色調に不具合を与える。
本発明の上記方法によって得られる金属メ ッシュ層は厚みが薄く とも十分な導電性を有することができる。 特に、 厚さ、 1〜 1 5 μ mであることが好ましく、 より好ましく は 1〜 1 0 μ πιであり、 こ の厚さにおいて、 ◦ . 0 1〜 0. 5 Ωノロの面抵抗及び 7 0〜 9 0 %の透過率を示す金属メ ッシュ層を得ることができる。 このため、 本発明の上記方法によって得られる金属メ ッシュ層は、 視野角が広 くなり視認性が向上し、 また表面を黒色化した場合、 金属メ ッシュ の深さ方向で金属特有の色調がむき出しにならず、 画面の色調に不 具合を与えない。
本発明の透明積層体を用いれば、 これを直接 PDPモジユール前面 ガラスに貼り付けるこ とによ り、 PDPの大幅な軽量化を実施するこ とが可能となる。 従来の光学フィルターに用いられるガラスの質量 は、 106.6cm (42イ ンチ) 寸法の場合約 4.5kgであり、 127cm (50ィ ンチ) 寸法の場合約 5 kgにも達するため、 このよ うな従来の光学フ ィルターよ りガラスを除く ことによ り PDPに期待された壁掛けテレ ビと しての実現が容易となる。
図 4に示す如く、 本発明の透明積層体を光学フィルタ一として用 いる場合、 第 1積層部 6 1 と、 第 2積層部 6 2 とは、 アースを取り 出すための金属メ ッシュ層電極取り出し部 2 2 aを確保するために 、 額縁様に貼合することが好ましい。
本発明の透明積層体を PDPに搭載するときの構成 (一部断面) を 図 5に示す。 本発明の透明積層体 1 は、 PDPモジュール 7 1 の表示 面 7 3に直接貼り付けられる。 第 2積層部 6 2上に第 1積層部 6 1 を額縁様に貼り合せることによ り確保された電磁波遮蔽フィルム電 極取り出し部 2 2 aは、 モジュール 7 1 の筐体 7 2に直接接合され 、 もしく はク リ ップ、 クランプまたはガスケッ ト (図示されていな い) 等を介して、 導通をとつて装着される。 透明積層体上に形成さ れた画像は観察者 7 4によ り矢印の方向 7 5に沿って観察される。 実施例
本発明の透明積層体を下記実施例により更に説明する。
実施例 1
第 1の透明基材と して厚み 100 μ πιの PETフィルムを用い、 その片 面にハー ドコート層、 導電性中屈折率層、 高屈折率層、 低屈折率層 からなる反射防止層を形成し、 その反対面に化学式 ( 1 ) で表され るカウンターァニオンを有するジィモ二ゥム系化合物であるジィモ 二ゥム系色素とフタ ロ シアニン系色素 ( (株) 日本触媒製、 商標 : ィ一エタスカラー I R-10A) と、 一般式 ( 2 ) において Xがイ ソボニ ル基である単量体 5 0重量部を含有する単量体成分を重合して得ら れた透明性榭脂を含む近赤外線遮蔽層を形成し、 第 1積層部を形成 した。 ジィモ二ゥム系色素とフタロシアニン系色素は、 2 : 1の重 量比で配合した。
次に、 第 2 の透明基材と して厚み 125 mの PETフィルム上にパラ ジゥムコロイ ド含有ペース トを L / S = 30/ 270 ( μ m ) の格子状 (メ ッシュ状) のパターンを有するスク リーンを用いて印刷し、 こ れを無電解銅メ ツキ液中に浸漬して、 無電解銅メ ツキを施し、 続い て電解銅メ ツキを施し、 さらに N i — S n合金の電解メ ツキを施し て、 第 2積層部を形成した。
続いて、 第 1の透明基材の、 第 1積層部の近赤外線遮蔽層面に対 し反対側の面、 及び第 2の透明基材の、 第 2積層部の電磁波遮蔽層 に対して反対側の面に、 それぞれ厚さ 25 μ πιの透明粘着層を形成し 、 第 1積層部の近赤外線遮蔽層面と第 2積層部の電磁波遮蔽層と貼 り合せ、 0.45MP aの加圧下に 3 0分、 加圧処理して透明積層体を 作製した。
得られた透明積層体の 「全光線透過率」 、 「ヘイズ値」 、 「視感 反射率」 、 「鉛筆硬度」 、 「スチールウール硬度」 、 「密着性」 、
「分光透過率 (近赤外部) 」 、 「信頼性試験 (高温 · 高湿での 1000 時間後の近赤外部の透過率変化) 」 、 「電磁波遮蔽性」 を下記方法 により評価した。 評価結果を表 1 に示す。
(評価方法)
( 1 ) 全光線透過率 : ヘイズメータ (日本電色社製) を用いて測定 した。
( 2 ) 視感反射率 : 分光光度計 (日本分光社製 V- 570) を用いて測 定した。
( 3 ) 鉛筆硬度 : 反射防止層面を上にし、 1 kg荷重下で傷がつかな い最小鉛筆硬度を測定した。
( 4 ) スチールウール強度 : 反射防止層面を上にし、 # 0000スチー ルウールに 250 g Z c m2 の荷重を負 荷しながら 10回往復させたあとに発生 した傷の本数を測定した。
( 5 ) 密着性 : 反射防止層面を上にし、 膜表面の 1 cm角の各辺を 1 nun間隔で切り込みをいれ、 その表面を粘着テープで 3回剥離試験をした後の残存する升目の数を測定し た。
( 6 ) 分光透過率 : 分光光度計 (日本分光 (株) 製 V- 570) を用い
、 各試料の波長 850nm、 950nm、 lOOOnmにおける 透過率を測定した。
( 7 ) 信頼性 :
( i ) 80°Cに設定した恒温器に、 各試料を入れ 1000時間後の分光 透過率を測定した。
i ) 60°C—相対湿度 90 %に設定した恒温恒湿試験器に、 各試料 を入れ 1000時間後の分光透過率を測定した。
電磁波遮蔽性 : K E C法 (社団法人関西電子工業振興センタ 一法) に準拠して測定した。
Figure imgf000042_0001
(試験結果)
実施例の試験結果により、 本発明の透明積層体は、 優れた透過率 、 低反射性、 電磁波遮蔽、 近赤外線遮蔽性と強度を有し、 さ らに耐 久性にも優れたものであることが確認された。 産業上の利用可能性
本発明の透明積層体及びその製造方法は反射防止性、 近赤外線遮 蔽性、 電磁波遮蔽性に優れており、 使用耐久性、 可視画像の視認性 、 にも優れていて、 軽量であって、 製造及び取り扱いが容易であり 、 例えばプラズマディスプレイ装置などの表示装置の光学フィルタ 一と して用いられるものであって、 高い実用性を有している。

Claims

1 . 第 1透明基材と、 その一面上に形成された反射防止層と、 他 の面上に形成された近赤外線遮蔽層とを含む第 1積層部、 第 2透明 基材と、 その一面上に形成された電磁波遮蔽層とからなる第 2積層 部、 並びに、 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層と、 前記第 2積層部
とを接合する接着剤層とを有することを特徴とする透明積層体。
2 . 前記電磁波遮蔽層が金属メ ッシュ層であることを特徴とする 、 請求の範囲第 1項に記載の透明の積層体。
3 . 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層と前記第 2積層部の電磁波 遮蔽層とが接合されていることを特徴とす囲る請求の範囲第 1項に記 載の透明積層体。
4 . 前記第 2積層部が、 前記第 2透明基材の他の面上に形成され た裏面接着剤層をさ らに有する、 請求の範囲第 1項に記載の透明積 層体。
5 . 前記第 2積層部の裏面接着剤層の接着強度が 1 〜 2 0 Ν Ζ 2 5 m mである、 請求の範囲第 4項に記載の透明積層体。
6 . 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層が、
少なく とも 1種の近赤外線吸収性ジィモニゥム系化合物からなる 第 1近赤外線吸収色素と、
750〜 950nmの近赤外波長の領域に吸収極大を有し、 かつ前記ジィ モニゥム系化合物とは異種の少なく とも 1種の色素化合物からなる 第 2近赤外線吸収色素と、
少なく とも 1種のェチレン性不飽和単量体の重合体を含む透明性 樹脂とを含み、
前記透明性樹脂用重合体を構成するェチレン性不飽和単量体の少 なく とも 3 0質量%が、 下記一般式 (2) : R
I
CH2=C— CO— OX ( 2 )
〔但し、 前記式 (2) において、 Rは、 水素原子又はメチル基を表し 、 Xは 6〜25個の炭素原子を有する環状炭化水素基を表す〕 によ り表される単量体である、 請求の範囲第 1項に記載の透明積層 体。
7. 前記第 1積層部近赤外線遮蔽層に含まれる前記第 1近赤外線 吸収色素用近赤外線吸収性ジィモ二ゥム系化合物が、 ジィモ二クム 化合物カチオンと、 下記化学式 (1) :
(CF3SO2) 2 (l)
によ り表されるカウンターァニオンとによ り構成される、 請求の範 囲第 6項に記載の透明積層体。
8. 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層に含まれる前記第 1近赤外 線吸収色素用近赤外線吸収性ジィモニゥム系化合物が、 下記化学式
( 3 ) :
[CH3(CH2)2]2N
[CH3(CH2)2]2N
Figure imgf000044_0001
によ り表される化合物である、 請求の範囲第 6又は 7項に記載の透 明積層体。
9. 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層に含まれる前記透明性樹脂 が、 60〜; 120°Cのガラス転移温度と、 20, 000〜80, 000の数平均分 子量と、 200, 000〜400, 000の重量平均分子量とを有する、 請求の 範囲第 6項に記載の透明積層体。
1 0 . 前記第 1積層部の前記反射防止層が、 ハー ドコー ト 層と、 このハー ドコ ート層上に積層された導電性中屈折率層と、 前記導電 性中屈折率層上に積層された高屈折率層と、 この高屈折率層上に積 層された低屈折率層とから構成されている、 請求の範囲第 1 項に記 載の透明積層体。
1 1 . 前記反射防止層に含まれる前記ハー ドコー ト層は、 酸化物 微粒子とバインダ一成分とを含有し、 前記酸化物微粒子の含有率が
3 0質量%以上である、 請求の範囲第 1 0項に記載の透明積層体。
1 2 . 前記第 2積層部に含まれる前記金属メ ッシュ層が、 黒色金 属の電解メ ツキによ り黒色化されている表面を有する金属メ ッシュ を含む請求の範囲第 2項に記載の透明積層体。
1 3 . 前記電磁波遮蔽層の厚さが 1 〜 1 5 μ mである、 請求の範 囲第 1項に記載の透明積層体。
1 4 . 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層と、 前記接着剤層 との間 に、 衝撃吸収層がさらに含まれている、 請求の範囲第 1項に記載の 透明積層体。
1 5 . 第 1透明基材の一面上に反射防止層を形成し、 その後に、 第 1透明基材の他の面上に近赤外線遮蔽層を形成して第 1積層部を 形成し、 別に第 2透明基材の一面上に金属メ ッシュ層を形成 して第 2積層部を形成し、 前記第 1積層部の近赤外線遮蔽層と、 前記第 2 積層部の金属メ ッシュ層とを接着剤層を介して接合して積層体を形 成することを特徴とする透明積層体の製造方法。
1 6 . 前記第 2積層部の金属メ ッシュ層を形成するために、 第 2 透明基材の一面上に、 触媒を含有するインクによ り、 所望メ ッシュ パターンを有する画像を印刷し、 前記印刷された面上に無電解金属 メ ツキ及び/又は電解金属メ ツキを施して、 前記独媒含有イ ンク画 像のパターンに従って金属を析出させ、 前記第 2透明基材上に固定 する、 請求の範囲第 1 5項に記載の透明積層体の製造方法。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007096049A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 光学フィルター及びその製造方法
JP2007094090A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 光学フィルター及びその製造方法
JP2007233134A (ja) * 2006-03-02 2007-09-13 Bridgestone Corp ディスプレイ用光学フィルタ、その製造方法及びこれを備えたディスプレイ及びプラズマディスプレイパネル
JP2007242922A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Bridgestone Corp 光透過性電磁波シールド材の製造方法、光透過性電磁波シールド材、およびディスプレイ用フィルタ
JP2008012834A (ja) * 2006-07-07 2008-01-24 Toray Ind Inc 光学フィルム
KR100858049B1 (ko) * 2006-04-10 2008-09-10 주식회사 엘지화학 무색의 반사색상을 갖고 내스크래치성이 우수한 저반사필름
JP2009051009A (ja) * 2007-08-23 2009-03-12 Nof Corp プラズマディスプレイパネル用前面フィルター、及びその製造方法
EP2048929A1 (en) * 2006-02-08 2009-04-15 Bridgestone Corporation Method for manufacturing optical filter for display, optical filter for display, and display and plasma display panel provided with such optical filter
JP2014026247A (ja) * 2012-07-30 2014-02-06 Dainippon Printing Co Ltd 飛散防止フィルム、展示用板材、及びショーウインドウ

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7826113B2 (en) * 2007-03-28 2010-11-02 Konica Minolta Holdings, Inc. Joined optical member, image display apparatus, and head-mounted display
WO2008129727A1 (ja) * 2007-04-13 2008-10-30 Sharp Kabushiki Kaisha バックライト装置、及び表示装置
US10690823B2 (en) 2007-08-12 2020-06-23 Toyota Motor Corporation Omnidirectional structural color made from metal and dielectric layers
JP5227570B2 (ja) * 2007-11-13 2013-07-03 セーレン株式会社 透明導電性部材の製造方法
CN101552170B (zh) * 2008-04-02 2010-12-01 甘国工 等离子显示器滤光片及使用该滤光片的等离子显示器
US8314986B2 (en) * 2009-03-25 2012-11-20 Fujifilm Corporation Transparent electromagnetic wave-shielding filter and method of producing thereof, and conductive film
CN102341837B (zh) * 2009-03-25 2014-04-02 夏普株式会社 显示装置
DE102009019761B4 (de) * 2009-05-05 2017-08-24 SECCO-Spezial-Elektronik und Computer-Cooperations-Gesellschaft mbH Verfahren zur Aufbringung optischer Filterstrukturen auf ein Trägersubstrat
WO2011096320A1 (ja) 2010-02-05 2011-08-11 コニカミノルタオプト株式会社 フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽光発電用反射装置
TWI463450B (zh) * 2010-07-28 2014-12-01 E Ink Holdings Inc 顯示器及其製造方法
PL2688852T3 (pl) * 2011-03-24 2018-06-29 Saint-Gobain Glass France Przezroczyste podłoże wyposażone w wielowarstwową strukturę cienkowarstwową
JP5901451B2 (ja) * 2012-07-03 2016-04-13 富士フイルム株式会社 透明積層体、静電容量型入力装置および画像表示装置
JP2014021675A (ja) * 2012-07-17 2014-02-03 Fujimori Kogyo Co Ltd ハードコートフィルム及びそれを用いたタッチパネル
DE112015001639B4 (de) 2014-04-01 2023-12-14 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Nicht-farbverschiebende mehrschichtige strukturen
CN111239880B (zh) * 2014-04-03 2022-06-14 詹姆斯·M·加拉斯 评估和选择最小化眩光和色觉丧失的滤光器的装置
US10901125B2 (en) * 2014-05-23 2021-01-26 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
US10642087B2 (en) 2014-05-23 2020-05-05 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
DE102016110192A1 (de) * 2015-07-07 2017-01-12 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Omnidirektionale rote strukturelle Farbe hoher Chroma mit Halbleiterabsorberschicht
US10741523B2 (en) * 2018-10-11 2020-08-11 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor package device and method of manufacturing the same
US11347099B2 (en) 2018-11-28 2022-05-31 Eyesafe Inc. Light management filter and related software
US11126033B2 (en) 2018-11-28 2021-09-21 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US11810532B2 (en) 2018-11-28 2023-11-07 Eyesafe Inc. Systems for monitoring and regulating harmful blue light exposure from digital devices
US11592701B2 (en) 2018-11-28 2023-02-28 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US10971660B2 (en) 2019-08-09 2021-04-06 Eyesafe Inc. White LED light source and method of making same
CN111155321A (zh) * 2019-12-30 2020-05-15 湖州新利商标制带有限公司 一种新型商标带的制作方法
JP2023512682A (ja) 2020-02-10 2023-03-28 フラットフロッグ ラボラトリーズ アーベー 改良型タッチ検知装置
CN113835142A (zh) * 2020-06-23 2021-12-24 宸美(厦门)光电有限公司 光学膜层与显示设备
CN113347864B (zh) * 2021-08-06 2021-11-12 成都立鑫新技术科技有限公司 一种防止红外激光信息泄露及电磁信息泄露的防护膜

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10157023A (ja) * 1996-11-28 1998-06-16 Asahi Chem Ind Co Ltd 積層シート
JPH10319859A (ja) 1997-05-20 1998-12-04 Fujitsu General Ltd Pdp用光学フィルタ構造
JPH1165464A (ja) * 1997-08-22 1999-03-05 Nitto Denko Corp 光学フイルムおよびプラズマデイスプレイ表示装置
JPH1166933A (ja) * 1997-08-12 1999-03-09 Nitto Denko Corp プラズマデイスプレイパネル用フイルタとこれを用いたプラズマデイスプレイ表示装置
JPH1173115A (ja) * 1997-07-03 1999-03-16 Kanebo Ltd プラズマディスプレイ用前面多層パネル
JP2001133624A (ja) * 1999-11-05 2001-05-18 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 近赤外線遮蔽フィルム
JP2002138203A (ja) * 2000-11-01 2002-05-14 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 近赤外線遮蔽用樹脂組成物および近赤外線遮蔽用積層体
JP2002156521A (ja) * 2000-11-22 2002-05-31 Sumitomo Chem Co Ltd 近赤外線吸収性フィルム
JP2003195774A (ja) * 2001-12-27 2003-07-09 Sumitomo Chem Co Ltd 表示装置用光学フィルター
WO2003058669A1 (en) 2002-01-11 2003-07-17 Skc Limited Plasma display panel filter
JP2003227922A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Sumitomo Metal Mining Co Ltd プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターとこのフィルターの製造に用いられる近赤外線吸収剤の分散液
JP2003316276A (ja) * 2002-02-25 2003-11-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平面型ディスプレイパネル用耐衝撃フィルム及び平面型ディスプレイパネル

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1234107C (zh) * 2000-02-01 2005-12-28 三井化学株式会社 显示器用滤光片、显示装置及其制造方法
JP2002123182A (ja) * 2000-08-10 2002-04-26 Nisshinbo Ind Inc プラズマディスプレイパネル用前面板及びその製造方法
US6950236B2 (en) * 2001-04-10 2005-09-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Antireflection film, polarizing plate, and apparatus for displaying an image
EP1452556B1 (en) * 2001-06-21 2009-06-10 Teijin Limited Near infrared ray shielding film
EP1339082A1 (en) * 2002-02-25 2003-08-27 Asahi Glass Company Ltd. Impact-resistant film for flat display panel, and flat display panel
US7332257B2 (en) * 2003-07-11 2008-02-19 Asahi Glass Company, Limited Composition for optical film, and optical film
US7132465B2 (en) * 2003-08-12 2006-11-07 Nippon Shokubai Co., Ltd. Near-infrared absorbing coat film and near-infrared absorbing resin composition

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10157023A (ja) * 1996-11-28 1998-06-16 Asahi Chem Ind Co Ltd 積層シート
JPH10319859A (ja) 1997-05-20 1998-12-04 Fujitsu General Ltd Pdp用光学フィルタ構造
JPH1173115A (ja) * 1997-07-03 1999-03-16 Kanebo Ltd プラズマディスプレイ用前面多層パネル
JPH1166933A (ja) * 1997-08-12 1999-03-09 Nitto Denko Corp プラズマデイスプレイパネル用フイルタとこれを用いたプラズマデイスプレイ表示装置
JPH1165464A (ja) * 1997-08-22 1999-03-05 Nitto Denko Corp 光学フイルムおよびプラズマデイスプレイ表示装置
JP2001133624A (ja) * 1999-11-05 2001-05-18 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 近赤外線遮蔽フィルム
JP2002138203A (ja) * 2000-11-01 2002-05-14 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 近赤外線遮蔽用樹脂組成物および近赤外線遮蔽用積層体
JP2002156521A (ja) * 2000-11-22 2002-05-31 Sumitomo Chem Co Ltd 近赤外線吸収性フィルム
JP2003195774A (ja) * 2001-12-27 2003-07-09 Sumitomo Chem Co Ltd 表示装置用光学フィルター
WO2003058669A1 (en) 2002-01-11 2003-07-17 Skc Limited Plasma display panel filter
JP2003227922A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Sumitomo Metal Mining Co Ltd プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターとこのフィルターの製造に用いられる近赤外線吸収剤の分散液
JP2003316276A (ja) * 2002-02-25 2003-11-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平面型ディスプレイパネル用耐衝撃フィルム及び平面型ディスプレイパネル

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1724741A4

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007096049A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 光学フィルター及びその製造方法
JP2007094090A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 光学フィルター及びその製造方法
EP2048929A1 (en) * 2006-02-08 2009-04-15 Bridgestone Corporation Method for manufacturing optical filter for display, optical filter for display, and display and plasma display panel provided with such optical filter
EP2048929A4 (en) * 2006-02-08 2010-08-25 Bridgestone Corp METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FILTER FOR DISPLAY, OPTICAL FILTER FOR DISPLAY, AND DISPLAY AND PLASMA DISPLAY PANEL PROVIDED WITH SAID OPTICAL FILTER
JP2007233134A (ja) * 2006-03-02 2007-09-13 Bridgestone Corp ディスプレイ用光学フィルタ、その製造方法及びこれを備えたディスプレイ及びプラズマディスプレイパネル
JP2007242922A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Bridgestone Corp 光透過性電磁波シールド材の製造方法、光透過性電磁波シールド材、およびディスプレイ用フィルタ
KR100858049B1 (ko) * 2006-04-10 2008-09-10 주식회사 엘지화학 무색의 반사색상을 갖고 내스크래치성이 우수한 저반사필름
JP2008012834A (ja) * 2006-07-07 2008-01-24 Toray Ind Inc 光学フィルム
JP2009051009A (ja) * 2007-08-23 2009-03-12 Nof Corp プラズマディスプレイパネル用前面フィルター、及びその製造方法
JP2014026247A (ja) * 2012-07-30 2014-02-06 Dainippon Printing Co Ltd 飛散防止フィルム、展示用板材、及びショーウインドウ

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Publication number Publication date
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