TW200534198A - Transparent laminate - Google Patents

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200534198 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 技術領域 本發明係有關於-種透明積層體，更詳而言之，係有 5關於可當作如電漿顯示器等顯示裝置的顯示面之光學渡光 片使用之透明積層體。 背景技術 電漿嘁不為裝置（以下可簡寫為pDp)係將具有顯示電 10極、匯流排電極、介電體層及保護層之前面玻璃基板，與 於資料電極、介電體層及長條狀障壁肋上具有螢光體層之 背面玻璃基板貼合，並與電極直交並且藉此形成晶胞。又， 在該晶胞中封入有氙等放電氣體。電漿顯示器裝置之發 光，係藉由在賁料電極與顯示電極之間外加電壓來使氙氣 15產生放電，並於成為電漿狀態之氙離子回到基態時產生紫 外線’且該紫外線激發螢光體層發出紅(R)、綠(G)及藍(B) 色光。在些可見光之發光過程中，除了這些可見光外， 亦會產生近紅外線及電磁波。因此，一般電漿顯示器裝置 係於玻璃基材之電漿顯示器發光部的前面，設置附有防止 2〇反射膜、近紅外線吸收膜及電磁波隔斷機能之濾光片。 電聚顯不器裝置為薄型顯示器裝置，且設置空間小， 可用以當作掛在牆上之顯示裝置。但是，於上述之電漿顯 不器裝置，如專利公開公報特開平第1〇-319859號(專利文獻 1)所揭示之含發先單元的PDP裝置上，設置有與其間隔一定 200534198 空間’且於玻璃上貼合積層有數層膜的膜積層體之光學濾 光片單元，因此，尚未達成充分輕量化，且實際上用來掛 在一般家用室内的牆上，牆壁必須十分堅固，且亦有可能 需要事先施行牆壁自身的補強工程。又，亦有因PDP之前 5面玻璃部、光學濾光片之表面及裏面的反射，使外部光線 雙重映照於顯示面等之缺點。一般用於光學濾光片的電磁 波遮蔽膜之主要成分，為業經腐蝕處理之金屬（銅）網，但由 於其業經去邊之端面會露出金屬（銅），因此，金屬（銅）特有 的反射色會對顯示畫面之色調造成不良影響。 10 【專利文獻1】專利公開公報特開平第10-319859號 【發明内容】 發明欲解決之問題 本發明兼具優良防止反射性、近紅外線遮蔽性及電磁 波遮蔽性，且耐久性及辨識性亦佳，輕量且易於製造與操 15作’可提供一種可當作光學濾光片使用於如電漿顯示器裝 置等顯示裝置的顯示面之透明積層體。 解決問題之手段 本發明之透明積層體，包含有第1積層部、第2積層部 及黏著劑層。其中，該第1積層部具有第1透明基材、形成 20 於其一面上的防止反射層及形成於其另一面上的近紅外線 遮蔽層’且該第2積層部具有第2透明基材及形成於其一面 上的笔磁波遮敝層’並且該黏著劑層可將前述第1積層部之 近紅外線遮蔽層與前述第2積層部接合。 於本發明之透明積層體中，前述電磁波遮蔽層宜為金 200534198 屬網層者。 於本發明之透明積層體中，前述第1積層部之近紅外線 遮蔽層與前述第2積層部之電磁波遮蔽層宜接合在一起。 於本發明之透明積層體中，前述第2積層部亦可更具有 5 形成於前述第2透明基材之另一面上的裏面黏著劑層。 於本發明之透明積層體中，前述第2積層部之裏面黏著 劑層之黏著強度宜為1〜20N/25mm。 於本發明之透明積層體中，前述第1積層部之近紅外線 遮蔽層包含有第1近紅外線吸收色素、第2近紅外線吸收色 ίο 素及透明性樹脂。其中，該第1近紅外線吸收色素係由至少 1種近紅外線吸收性二胺鏘系化合物所構成，且該第2近紅 外線吸收色素係於750〜950nm之近紅外線波長領域具有極 大吸收，並由至少1種色素化合物所構成，而該透明性樹脂 係包含至少1種乙烯性不飽和單體之聚合物。又，構成前述 15 透明性樹脂用聚合物之乙烯性不飽和單體之至少30質量％

宜為以下述一般式（2)所表示之單體 R

I CH2=C-CO—OX (2) 20 〔但是，於前述式(2)中，R係表示氫原子或甲基，X係 表示具有6〜25個碳原子的環狀烴基〕。 於本發明之透明積層體中，前述第1積層部的近紅外線 遮蔽層所包含之前述第1近紅外線吸收色素用近紅外線吸 收性二胺鑕系化合物宜由二胺鍇化合物陽離子及以下述化 25 學式（1)表示的相對陰離子所構成。 (CF3S02)2N- (1) 200534198 於本發明之透明積層體中，前述第1積層部的近紅外線 遮蔽層所包含之前述第1近紅外線吸收色素用近紅外線吸 收性二胺鑕系化合物宜為以下述化學式（3)所表示的化合 物。 10 ί〇Η3 (Gil>) ·>) ?β

[CH3 Cch2) ?]

H |CH3 i；CH£) J , (3) U Cqh3 (CH2) 2f, 15 於本發明之透明積層體中，前述第1積層部的近紅外線 遮蔽層所包含之前述透明性樹脂宜具有60〜120°C的玻璃轉 化溫度、20,000〜80,000之數量平均分子量及 200,000〜400,000之重量平均分子量。 於本發明之透明積層體中，前述第1積層部之前述防止 20 反射層宜由硬膜層、積層於該硬膜層上的導電性中折射率 層、積層於前述導電性中折射率層上的高折射率層及積層 於該高折射率層上的低折射率層所構成。 於本發明之透明積層體中，前述防止反射層所包含的 前述硬膜層係含有氧化物微粒子與黏著劑成分，且前述氧 25 化物微粒子之含有率宜為30質量％以上。 於本發明之透明積層體中，前述第2積層部所包含的前 述金屬網層，宜包含具有因黑色金屬的電解電鍍而變黑的 表面之金屬網。 於本發明之透明積層體中，前述電磁波遮蔽層之厚度 200534198 宜為1〜15 // m。 於本發明之透明積層體中，前述第1積層部之近紅外線 遮蔽層與前述黏著劑層之間宜更包含有衝擊吸收層。 於本發明之透明積層體之製造方法中，包含有下列步 5 驟：於第1透明基材其中一面上形成防止反射層；之後，於 第1透明基材另一面上形成近紅外線遮蔽層且形成第1積層 部；另外，於第2透明基材其中一面上形成金屬網層且形成 第2積層部；及藉由黏著劑層接合前述第1積層部之近紅外 線遮蔽層與前述第2積層部之金屬網層以形成積層體。 10 於本發明之透明積層體之製造方法中，宜利用含有催 化劑之油墨將具有所期望的網圖案之圖像印刷在前述第2 透明基材其中一面上，以形成前述第2積層部之金屬網層， 且於前述業經印刷之面上施行無電解金屬電鍍及/或電解 金屬電鍍後，依前述含催化劑油墨圖像之圖案析出金屬， 15 並固定於前述第2透明基材上。 發明之效果 本發明之透明積層體，具優良防止反射性、近紅外線 遮蔽性、電磁波遮蔽性及使用耐久性，且晝面可輕易地以 肉眼觀察，並由於輕量而易於製造與操作，且可當作如電 20 漿顯示器裝置等各種顯示裝置之顯示面的光學濾光片來實 際運用。 圖式之簡單說明 第1圖係本發明之一例的透明積層體之截面說明圖。 第2圖係本發明之另一例的透明積層體之截面說明圖。 200534198 第3圖係本發明之透明積層體之防止反射層的截面說 明圖。 第4圖係本發明之透明積層體之正面說明圖。 第5圖係PDP上搭载本發明之透明積層體時之一部份 5 截面說明圖。 L實施方式3 實施發明之最佳型態 如第1圖所示，本發明之透明積層體1，包含有第丨積層 部61、第2積層部62及黏著劑層31。其中，該第丨積層部61 10具有第1透明基材Η、形成於其一面上的防止反射層12及形 成於其另一面上的近紅外線遮蔽層13,且該第2積層部62係 由第2透明基材21及形成於其一面上的電磁波遮蔽層22所 構成，並且該黏著劑層31可將前述第i積層部61與前述第2 積層部62接合。 15 以往的光學濾光片用之透明積層體中係於個別的透明 基材上分別形成前述各機能層，並藉由將支撐這些機能層 之透明基材透過黏著層與玻璃面板積層而形成。 本發明之透明積層體，係於第1透明基材其中一面上形 成防止反射層，並於另_面上形成近紅外線遮蔽層，因此， 20可減少透明基材與黏著層之數量，且實現高透射率及低混 濁度，並藉此得到改良之光學特性。 由於本發明之透明積層體具有上述構造，因此，可減 少無=於各機能且有時會產生不良影響之基材數量及黏著 層數量，並且構成為複合且具備各種機能之一體透明積層 200534198 體。又，由於黏著步驟可1次完成，因此可減少製造步驟， 並提高製造產能，且製品性能穩定並且亦可提高信賴度。 又，由於防止反射層形成於透明積層體之最外層，因此可 得到優良的防止反射效果。 5 又，本發明之透明積層體包含有具有第1透明基材與形 成於其各面的防止反射層與近紅外線遮蔽層之第1積層 部，及具有第2透明基材與形成於其一面上的電磁波遮蔽層 之第2積層部。且宜透過黏著劑層將第1積層部之近紅外線 遮蔽層側與第2積層部之電磁波遮蔽層側積層並接合。此 10 時，近紅外線遮蔽層與電磁波遮蔽層被夾在第1及第2透明 基材之間且被保護，因此構成為其性能之耐久性、耐候性 優良，並具優良信賴度者。又，使用作為電磁波遮蔽層之 金屬網層時，黏著劑層係填充於金屬網層之金屬網的空隙 部分而可得到無空隙之透明積層體。 15 (第1及第2透明基材） 第1透明基材及第2透明基材係只要為透明材料即可， 其種類、組成等不限。構成第1及第2透明基材之材料’一 般係宜選自於透明塑膠材料，例如可適當地選自於板狀、 片狀或膜狀之聚酯系基材、三乙酸纖維素基材、聚碳酸酯 20 基材、聚醚砜基材、聚丙烯酸酯基材、降箱烯系基材及非 晶質聚烯烴系基材等，又，其厚度亦無特別限制，一般可 使用50// m〜10mm左右的膜狀或板狀者。聚酯系基材之中 的聚乙烯對苯二甲酸酯（以下亦稱為PET)基材，由於具有優 良而ί久性、而才溶劑性、生產性等因此使用上較理想。又， 200534198 亦可使用業已者色者，以調整第i透明基材及第2透明基材 之色調或透射率。 & 本發明之透明積層體具有優異之電聚顯示器所需之防 止反射效果、近紅外_蔽效果*電磁波«縣。因此， 5藉由將本透明積層體貼附於破璃、_等面板，或 附於電漿顯示器之顯示面，可形成具優良特性之光學渡光 片。特別是使用難的透明轉基材之幻透明基材及第2 透明基㈣，可構絲量且«軟性之透明制體，因此， 包含該種基材之本發明透明積層體特別適於直接貼附於電 10 漿顯示器的顯示面之情形。 (關於第1透明基材之紫外線遮蔽性） 又，於本發明之透明積層體中，第1透明基材宜使用具 有紫外線遮蔽性之材料。這是由於使用於近紅外線遮蔽層 之近紅外線吸收色素通常抗紫外線性較低，因此，第丄透明 υ基材可藉由使用具紫外線遮蔽性之材料來抑制近紅外線吸 收色素劣化。例如，使由上述材料構成之第丄透明基材含有 紫外線吸收劑，藉此，可得到具紫外線遮蔽性之透明基材。 紫外線吸收劑有如二苯甲酮系、苯并三唾系、對气其苯甲 酸系及水楊酸系等之紫外線吸收性化合物。通常^卜線吸 20收劑沒有使用-^量以上的添加量時便得不到充分之效 果。且於膜厚薄的錄層上添加紫外線吸收劑時，有二制鍵 層上可含有的紫外線吸收劑量，因而難以得到必要的紫外 線遮蔽效果。但是，於本發明之透明積層體中，近紅外線 遮蔽層係位於第1透明基材之内側，因此，藉由使厚度比鍵 12 200534198 層大的第1透明基材自身含有紫外線吸收劑’可含有充足量 的紫外線吸收劑，因此，可抑制近紅外線吸收色素劣化， 並維持優良的近紅外線吸收性能。且第1透明基材之I外線 遮蔽性能以於380nm以下的紫外線領域中，务、外線透射率為 5 2%以下為佳。 (近紅外線遮蔽層） 於本發明之透明積層體中，近紅外線遮蔽層宜對於 800〜llOOnm領域之近紅外線具有遮蔽性，如宜於樹脂基底 中含有近紅外線吸收色素。 10 近紅外線吸收色素並不特別限定要具有8〇〇〜llOOnm 領域之近紅外線遮蔽性，可使用如二胺鑕系化合物、胺鏘 系化合物、S太氰系化合物、有機金屬錯含體系化合物、氰 系化合物、偶氮系化合物、聚次甲基系化合物、苯酮系化 合物、二苯甲烷系化合物、三苯甲烧系化合物、氫硫萘酚 15系化合物等，且以上可使用單一種，亦<適當地搭配2種以 上來使用。 二胺鏘系化合物係於波長85〇〜1100nm之近紅外線領 域中，具有摩爾吸光係數10萬左右的強烈吸收性，因此近 紅外線遮蔽性優良。二胺鏘系化合物雖然於波長 20 400〜500nm之可見光領域中具若干吸收性且呈黃褐色之透 射色，但由於其可見光透視性比其他近紅外線吸收色素優 良’因此’於本％明之透明積層體所使用的近紅外線吸收 色素中，以至少包含1種二胺鏞系化合物為佳。 用於本發明透明積層體的近紅外線遮蔽層用之近紅外 13 200534198 線吸收性二胺鐵系化合物宜使用由二胺鑕化合物陽離子及 以前述化學式（1) : (cf3so2)2n·表示的相對陰離子所構成 之化合物，且該近紅外線吸收性二胺鑕系化合物宜使用前 述化學式（3)之化合物。 5 為了發現具有充分實用性之近紅外線遮蔽性，近紅外 線遮蔽層的波長9⑻〜lOOOnm之近紅外線透射率宜為20% 以下。近紅外線遮蔽層中的近紅外線吸收色素之較佳配合 量係依近紅外線遮蔽層之厚度而變動，使用二胺鏘系化合 物並且近紅外線遮蔽層之厚度設計為5〜50μιη左右時，相對 10 於基底使用的透明樹脂100質量份，近紅外線吸收色素化合 物之配合量宜為0.5〜5.0質量份左右。當相對於透明基底樹 月旨100質量份之近紅外線吸收色素化合物的配合量超過5質 量份時，於所得之近紅外線遮蔽層中會產生色素偏析或可 見光透明性降低。 15 又，使用二胺鍇系化合物時，為了給予所得之近紅外 線遮蔽層實用且充分的耐久性，前述二胺鑌系化合物宜使 用具有190°C以上之熔點者。熔點低於190°C者容易於高溫 高溼度下變質，而熔點為190°C以上者與後述之選擇合適的 基底樹脂種類併用，可得到實用上具良好耐久性之近紅外 20 線遮蔽層。 再者，為了於近紅外線遮蔽層發現具有充分實用性之 近紅外線遮蔽性，宜使用波長850〜900nm之近紅外線透射 率為20%以下之近紅外線吸收色素。因此，如使用二胺鑕 系化合物時，第2近紅外線吸收色素更於750〜900nm具有極 14 200534198 大吸收，且為於可見光領域實質上沒有吸收之1種以上的色 素，如其在極大吸收波長中的吸收係數，與分別在波長 450nm(藍色光中心波長）、525nm(綠色光中心波長）及 620nm(紅色光中心波長）中的吸光係數比，皆以使用5 〇以上 5之1種或2種以上的近紅外線吸收色素較佳，且前述吸光係 數比以8.0以上更佳。於實用上所必須的85〇〜900nm之平均 透射率為20%以下的情形，當任一前述吸光係數比不到5.0 時，波長450nm(藍色光中心波長）、525nm(綠色光中心波長) 及620nm(紅色光中心波長）中的某一可見光線透射率將不 10到60%，而產生可見光領域之透射率於實用上不充分的情 形。 前述第2近紅外線吸收色素用化合物於75〇〜9〇〇nm具 有極大吸收，且在其極大吸收波長中的吸收係數，與分別 在波長450nm(藍色光中心波長）、525nm(綠色光中心波長) 15及620nm(紅色光中心波長）中的吸光係數比皆為5.0以上，有 如甲苯鎳錯合體系化合物、吲哚滿系化合物（Ind〇lium compounds)、酞氰系化合物、萘氰系化合物等。特別是酞 氰系化合物及萘氰系化合物_般皆耐久性優良因而合適使 用，但萘氰系化合物價袼較貴，因此，於實用上較適合使 2〇用駄氣系化合物。 在者’於本發明之透明積層體中，其波長59〇nrn之可見 光透射率，且比於各個波長、525nm、650nm中的可 見光透射率低10%以上。如此，將本發明透明積層體當作 光予;慮光片使用時’可提高電漿顯示器等之顯示器的對比 15 200534198 性及色調修正機能。宜使近紅外線遮蔽層之中含有選擇吸 收性色材以使本發明之透明積層體的波長590ηιη之可見光 k射率’比於各個波長45〇nrn、525nm、650nm中的可見光 透射率低ίο%以上。只要選擇性吸收波長59〇11111的可見光之 5色材不會造成前述二胺鏘系化合物組成上變質之不良影響 就沒有特別限制，宜使用如喳吖酮顏料、次曱基偶氮系化 合物、氰系化合物及卟啉化合物。 近紅外線吸收色素用之基底樹脂可使用如丙烯酸系樹 脂及甲丙烯系樹脂等，且宜使用玻璃轉化點為6(rc以上之 1〇透明樹脂’並該透明樹脂最好為丙烯酸系樹脂、曱丙烯系 树脂之任一種。當透明樹脂不到玻璃轉化點㈧^時，長時 間曝露於60°C以上之高溫下樹脂會軟化，且與其同時近紅 外線遮蔽層中的色素特別是二胺鍇系色素化合物容易變 貝，因此，會產生透明積層體之色彩平衡損壞、近紅外線 15遮蔽性降低等情形，且長期穩定性降低。另外，玻璃轉化 點為60QC以上時，可抑制所得之近紅外線遮蔽層中的色素 且4寸別疋由二胺鏘系化合物構成之色素熱變質。又，使用 上述樹脂時，可防止於近紅外線遮蔽層透過黏著劑層與電 磁波蔽層積層接合時，產生近紅外線遮蔽層中的色素劣 20化及近紅外線遮蔽層之歪斜、剝落等。滿足上述要件之樹 脂有聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、甲丙烯系樹脂等，且特 別適合使用鹼性染料的二胺鑕系化合物的染色性（固定性) 優良之丙烯酸系樹脂、及/或甲丙烯系樹脂。 近、’工外線遮敝層之形成方法’已知有使前述近紅外線 16 200534198 吸收色素及基底樹脂溶解或分散於溶劑中，且將所得之溶 液或分散液塗佈於第1透明基材的1面上，並使溶劑乾燥蒸 發。塗佈方法係一般為塗料層形成法，可採用如使用棒式 塗佈機、凹版反向塗佈機、縫模塗佈機等塗料裝置之塗佈 5 方法。 近紅外線遮蔽層形成用塗料液之溶劑，可舉例如甲乙 酮、甲基異丁酮、環己酮、丙酮、乙腈、二氣甲烷、二甲 基甲醯胺、醋酸丁酯、甲苯等，且可將其單獨或混合使用。 ·(防止反射層） ίο 於本發明之透明積層體中並沒有限定第1透明基材另 一面上所形成之防止反射層的構造、組成等，可為單層構 造或複數層構造。又，亦可於防止反射層上進一步形成具 有帶電防止層等的導電層及/或防眩層等機能之薄膜層。 (電磁波遮蔽層） 15 於本發明之透明積層體中並沒有限定第2積層部的第2 透明基材其中一面上所形成之電磁波遮蔽層的構造、組成 ^ 等，只要形成為具有電磁波遮蔽性及影像透射性者即可， 可使用如包含金屬網層、導電性物質之透明導電膜等。 例如，金屬網層亦可為於第2透明基材貼附有金屬網 20 者，可於第2透明基材層壓銅箔等金屬箔，或使用於業已形 成鑛銅等金屬的金屬層進行腐姓後所形成之網圖案形狀 者。在此，貼附於第2透明基材之金屬網，有使用金屬製網 或於纖維表面貼附鍍金之網者。又，透明導電膜層有使用 藉由蒸鍍、濺鍍銀等導電性物質而形成者。 17 200534198 再者，電磁波遮蔽層之厚度宜為1〜15//m且更以1〜10 //m為佳。電磁波遮蔽層使用金屬網層時，於金屬網層厚度 大於15// m時視野角度變窄且辨識性降低。即使進一步使表 面變黑，從傾斜角度辨識時，金屬網的深度方向難以變黑 5而露出金屬色，會使影像色調不良。 又，於第1圖所示的本發明透明積層體1之第2積層部62 中，於前述第2透明基材21其中一面上形成電磁波遮蔽層 22，且亦可於另一面上形成裏面黏著劑層41。藉由該裏面 黏著劑層可使本發明之透明積層體貼附於玻璃、塑膠等面 10 板上，或直接貼附於電漿顯示器之顯示面上，藉此，可使 具有優良特性之光學濾光片固定於電漿顯示器的顯示面。 又，當第2透明基材21與黏著劑層31連接且電磁波遮蔽層22 形成於黏著劑層31之相反側時，亦可於電磁波遮蔽層22上 形成裏面黏著劑層41。 15 忒晨面黏著劑層之接著（黏著）強度於接（黏）著初期 時，宜為1〜20N/25mn(l〜20N/1英吋），較佳為puN/Mnm， 更佳為1〜10N/25nm，又更以4〜8N/25nm為佳。這是由於本 發明之透明積層體作為光學濾光片直接貼附於電漿顯示器 之顯示面時，於貼附後必須再度剝離之故。像貼附位置不 2〇 ^或貼附後彳貝知4光學慮光片的情形等，為了使光學淚光 片剝離以再利用膜件，裏面黏著劑層之接著(黏著）強度宜為 某種程度之輕彳政黏著。且更適宜使該接著(黏著）強度適時地 k幵，於接（黏）者強度到達平衡點時的接（黏）著強度宜為 5〜25N/25nm，且更以1〇〜i5N/25nrn為佳。如此，於本發明 18 200534198 透明積層體之前述第2積層部裏面形成接(黏）著強度較低的 黏著劑層，藉此，可於狀況發生時容易地進行透明積層體 之剝離作業，並再利用價格昂貴的膜件本體。 (近紅外線遮蔽層之具體例） 5 於本發明之透明積層體中，前述近紅外線遮蔽層包含 有第1近紅外線吸收色素、第2近紅外線吸收色素及透明性 樹脂。其中，該第1近紅外線吸收色素係由二胺鏘化合物陽 I 離子及以前述化學式（1)表示的相對陰離子所構成並由至少 1種近紅外線吸收性二胺鍇系化合物形成，且該第2近紅外 10線吸收色素係於750〜950nm之近紅外線波長領域具有極大 吸收，且由至少1種與前述二胺鏘系化合物不同種類的色素 化合物構成，並且該透明性樹脂包含至少丨種乙烯性不飽和 單體之聚合物，又，前述至少丨種之乙烯性不飽和單體之3〇 質量％以上宜為以前述一般式（2)所表示之單體。 15 如同上述，近紅外線吸收色素係適合使用二胺鏘系化 • 合物，但二胺鏘系化合物在長時間放置於高溫高濕環境氣 體下時，有無法避免組成上變質之問題點。 本發明者研究二胺鑽系化合物於高溫高濕環境氣體下 的變質結才冓，結果發現上述變質係由於樹脂組成物之塗膜 2〇中炎雜水分及來自加熱的熱能，而造成二胺鑕系化合物中 的相對陰肖隹子分解。再者，本發明者發現近紅外線遮蔽層 中所包含的第2近紅外線吸收色素與透明性樹脂，其中，該 第2近、’工外線及收色素為具有化學式（丨）的特定相對陰離子 之-胺鐫系陽離子性化合物，1與第i近紅外線吸收色素不 19 200534198 同種4亚於近紅外線領域具有極大吸收，並且於可見光領 域中實賀卜V? + ^ 1、〉又有吸收，而該透明性樹脂係由包含一般式（2) 所表不的特定單體化合物的30質量％以上之單體所製造而 成2，該近紅外線遮蔽層於高溫高濕環境氣體下及長時 5間暴路於外部光線中時色度變化少，且兼具於見光領域 透射率及於850〜i〇〇〇nm領域之高近紅外線遮蔽性，且 不曰口加熱、加壓及與黏著劑層接觸等而降低近紅外線遮 特丨生更可藉由黏著劑層與金屬網層積層接合。 (第1近紅外線吸收色素） 10 本發明透明積層體中的第1近紅外線吸收色素，宜使用 由化學式（1)的相對陰離子及二胺鏘化合物陽離子所構成之 化合物。前述二胺鐺系陽離子性化合物具有化學式（1)所顯 不之特定相對陰離子，因此，當其包含於近紅外線遮蔽層 中時，化學式（1)的相對陰離子會對於因夾雜水分與加熱的 15熱能所產生之分解顯示強烈的抵抗性，因此可抑制第1色素 組成上的變質。 為了於使用近紅外線遮蔽用塗料所形成的近紅外線遮 蔽膜中發現具充分實用性之近紅外線遮蔽性，宜控制波長 850〜900nm之平均透射率為20%以下。當近紅外線遮蔽膜中 20 僅含有前述二胺鑌系化合物時便無法在前述波長領域中得 到充分的近紅外線遮蔽性，又，為了提昇近紅外線遮蔽性 而含有過量之第1近紅外線吸收色素時，各實驗前後的色度 X及Y之變化量會變大因此不宜。 因此，本發明之近紅外線遮蔽層形成用塗料，宜添加 20 200534198 於波長750〜950nm具有極大吸收佳是於可見光領域實質上 沒有吸收之第2近紅外線吸收色素。藉由含有第丨近紅外線 吸收色素及第2近紅外線吸收色素所得到之近紅外線遮蔽 層，於850〜lOOOnm之近紅外線領域中具有優良的近紅外線 5遮蔽性，且進一步亦可於可見光部分形成具有優良透射性 之塗膜。 (第2近紅外線吸收色素） 本發明所使用的第2近紅外線吸收色素於極大吸收波 ^ 長中的吸光係數’與分別在波長450nm(藍色光中心波長）、 10 525nm(綠色光中心波長）及620nm(紅色光中心波長）中的吸 光係數比，皆宜為5.0以上且更以8·〇以上為佳。於波長 850〜900nm之平均透射率為20%以下的情形，當與任一前述 波長之吸光係數比不到5·0日卞’波長45〇nm(藍色光中心波 長）、525nm(綠色光中心波長)及620nm(紅色光中心波長）中 15的某一可見光線透射率將不到60%，而使可見光領域產生 ^ 透射率不充分的情形。 本發明所使用的第2近紅外線吸收色素有如二硫環戊 稀金屬錯合體系化合物、酞氰系化合物、萘氰系化合物、 氮系化合物等。特別是故氰系化合物於有機溶劑中的可溶 2〇 性優良因此適合使用。 近年來，有提出藉由於6太氰骨架中導入苯基等之共輪 π電子系取代基，或大量導人錄㈣之電子供給性^ 基，來使近紅外線領域具有極大吸收之缺氰系化合物 中’下述-般式(4)所表示的酜氰系化合物之上述吸光係數 21 200534198 比各個皆為5.0以上，因此可適用於本發明。

20 〔於一般式(4)中，8個α係表示分別互相獨立地選自於 —SR1、一 OR2、一 NHR3基及鹵素原子中的1個，但是，至 少有1個α表示一NHR3基，而8個冷係表示分別互相獨立地 選自於一SR1、一OR2及鹵素原子中的至少1個，但是，至少 有1個冷表示一SR1或一OR2基，且前述8個α與8個冷中至少 有1個表示鹵素原子及一OR2基， 而R1、R2及R3係表示分別互相獨立地選自於具有或不 具有取代基之苯基、具有1〜20個碳原子之烷基及具有7〜20 個碳原子之芳烷基中的1個， 25 而Μ係表示選自於1個金屬原子、1個以上的氫原子、1 個金屬氧化物及金屬化物中的1個〕 又，第1近紅外線吸收色素及第2近紅外線吸收色素亦 可分別使用2種以上的近紅外線吸收色素化合物，更可配合 需要添加其他色素。又，第1近紅外線吸收色素與第2近紅 30 外線吸收色素之配合質量比宜為3 : 2〜29 : 1，且以2 : 1〜9 : 1更佳。當上述配合質量比不到3/2時，可見光領域之 22 200534198 光線透射率會不充分，又超過29/1時，各種信賴性實驗前 後之色度變化量會增大。 (近紅外線遮蔽層用透明性樹脂） 本發明之近紅外線遮蔽層形成用塗料所使用的透明性 5 樹脂，係包含至少1種選自於至少1種乙烯系不飽和單體之 聚合物者，且形成前述聚合物之乙稀系不飽和單體之至少 30質量％且較佳為50〜1〇〇質量％，宜為前述一般式(2)之單 體化合物。具有上述構造之透明性樹脂可於各種有機溶劑 ® (如甲苯、二甲苯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、丙酮、甲乙酮、 10 中異丁酮、環己烧及四氫^夫喃）％顯示高溶解度，且可形成 具有高耐透濕性及对紫外線性之塗膜。於一般式(2)所表示 的單體中，X係表示C^C：25的環狀烴基，且宜為如環己基、 曱基環己基、環十二烷基、冰片基、異冰片基等。 含有一般式（2)所表示的單體化合物3〇質量％以上的單 15體成分所聚合而成之透明性樹脂，宜為具有X=C6-C25的環 • 狀烴基之丙烯酸甲酯系樹脂。其他一般的丙烯酸甲酯系樹 脂，如由在甲基丙烯酸甲酯樹脂分散有前述第丨及第2近紅 外線吸收色素的塗料所形成之熱可塑性塗膜，其長時間曝 露於高溫高濕下時，會因環境中的水分影響而引起樹脂塗 20膜劣化，且隨之因第1近紅外線吸收色素變質而產生塗膜色 度嚴重變化的問題。相反的，可藉由將包含上述一般式（2) 所表示單體的必須單體成分之聚合物當作透明性樹脂使 用’來提高前述第1近紅外線吸收色素於高溫高濕下之耐久 性，且此外亦可提高相對於紫外線照射之耐久性。 23 200534198 又，於本發明中，近紅外線遮蔽層用透明性樹脂宜為 熱可塑性之丙烯酸甲酯系樹脂。使用其他的熱硬化性樹 脂、紫外線硬化性樹脂或電子束硬化性樹脂時，樹脂中包 含的反應活性基容易與前述第1近紅外線吸收色素用二胺 5 鑕系化合物反應，且會於樹脂組成物中或塗膜形成過程中 產生色素變質。 對於上述一般式（2)所表示單體化合物之單體全量的含 有量，相對於聚合物形成所使用的全單體之合計質量宜為 30質量％以上。當不到30%時，會無法充分抑制因第1近紅 10 外線吸收色素用二胺鏘系化合物變質而產生之塗膜色度變 化。一般式（2)之單體化合物含有量宜為50質量％以上，且 以80〜100質量％更佳。 包含上述一般式（2)所表示單體化合物的必須聚合成分 之熱可塑性丙烯酸曱酯系樹脂，可於曱苯、醋酸乙酯、醋 15 酸丁酯、甲乙酮等通用有機溶劑中以溶液聚合來輕易地合 成。又，塗料中的第1近紅外線吸收色素用二胺鑌系化合物 及透明性樹脂本身的溶解性非常高，作為塗料可得到穩定 的樹脂組成物。 於聚合含有一般式（2)所表示的單體化合物30質量％以 20 上的單體所得到之透明性樹脂中，其玻璃轉化點宜為60°C 以上、120°C以下，且以80〜100°C更佳。當玻璃轉化點不到 60°C，且塗膜長時間曝露於80°C以上之高溫時，樹脂會軟 化且與其同時塗膜中的第1近紅外線吸收色素用二胺鍇系 化合物容易變質，並會有塗膜色度變化大、塗膜的近紅外 24 200534198 線遮蔽性降低，且長期耐熱性降低的情形。但是，當透明 树月曰之玻璃轉化點為60 C以上時，可抑制因熱使第1及第2 近紅外線吸收色素且特別是二胺鑽系化合物之變質。另 外，§玻璃轉化點超過120°C時，所得之塗膜既硬且脆弱， 5且谷易因處理或耐彎曲性降低等產生裂痕之類，並產生實 用上的問題。 本發明所使用的透明性樹脂，宜為玻璃轉化點6〇〇c以 上、120(3以下之熱可塑性的丙稀酸甲酯系樹脂。 再者，於本發明中近紅外線遮蔽層所使用的透明性樹 10脂之分子量宜數量平均分子量為2〇,〇〇〇以上、80,000以下， 且重塁平均分子量為2〇〇,〇〇〇以上、4〇〇,〇〇〇以下。又，數量 及重量平均分子量係使用聚苯乙烯標準GPC而得到的測定 值。當重量平均分子量不到200,000時，所形成的近紅外線 遮蔽塗膜之柔軟度不足、耐彎曲性不良，且耐化學腐蝕性 15不良。又，當重量平均分子量超過400,000時，會難以溶液 聚合聚合物本身。另外，當數量平均分子量不到20,000或 超過80,〇〇〇時，會使所得之聚合物的耐化學腐蝕性不足。 又’本發明所使用的近紅外線遮蔽層用之透明性樹 脂’當第1透明基材為聚酯系樹脂時，宜具有來自於含有羧 20 基的單體之適度酸值。藉此可提高與聚酯系樹脂膜之密接 性。又，藉此可提高長期穩定性，並且防止積層時之耐剝 落等特性劣化。上述之適度酸值宜相對於樹脂固體成分為 imgKOH以上、2〇mgKOH以下。當酸值不到lmgKOH時， 塗膜與基材會得不到充分的密接性，另外，當酸值超過 25 200534198 20mgKOH時，對於高溫下的第}近紅外線吸收色素用二胺 鐫糸化合物之穩定性會帶來不良影塑。 再者，將前述聚I系樹脂當作第m明基材使用時，為 了提高與近紅外線遮蔽層實用上之密接性，宜事先於基材 5上形成由有機樹脂成分構成之密接性改良層。未形成密接 性改良層，近紅外線遮蔽層容易於聚酷系樹脂膜與近紅 外線遮敝層之界面制離。 、可使用於本發明之密接性改良層係以包含有機樹脂成 分為主成分’且不宜含有反應性硬化劑以抑制近紅外線遮 10蔽積層體在使用中產生色度變化。 前述密接性改良層中的有機樹脂成分，只要於前述近 紅外線遮蔽層與聚I系樹脂之間可得到具充分實用性之密 接性便沒2特別限制，可使用如丙烯酸系_旨、 聚氰酸共聚合樹脂、丙稀酸_聚§旨共聚物、聚s旨系樹脂等單 15體或其中2種以上的混合物。又，為了在塗佈製程中提昇膜 的捲取性，以及防止黏著及刮痕發生，亦可在密接改良層 中適當地含有二氧切微粒子、滑石等微粒子。 於前述密接性改良層中含有異氰酸顆化合物、欲段里 氰酸醋1匕t物等反應性硬化劑時，當其長時間暴露於贼 20以上之*溫下時’近紅外線遮蔽層中的第1近紅外線吸收色 素用二胺鑽系化合物會與其中的反應性硬化劑反應而容易 變質’且近紅外線遮蔽層的色度會明顯地改變，及/或產生 近紅外線遮蔽性降低等缺點，而對該密接改良層的長期财 熱性造成不良影響。 26 200534198 於本發明所使用的近紅外線遮蔽層形成用塗料中，第i 及第2近紅外線吸收色素之合計質量，相對於前述透明性樹 脂之乾燥固體成7刀貝$比宜在j : 994 : 4的範圍内，且以 1:49〜1:24更佳。該質量比不助99時，為了得到高度的 近紅外線絲率，有必要增加近紅外線遮蔽層之乾燥膜的 厚度至2G//m以上’但是，該厚膜形成困難，且當該質量比

10 15

20 超過1/4時’㈣蔽層之形成過程中會因近紅外線 吸收色素偏析而產生遮蔽性能降低及關值上升之缺點。 又’本發明之^明性樹脂在溫度6〇〇c、相對座度9〇% 之问屋度％ &氣體巾l，GG〇小時的劣化促進實驗；溫度8〇 °C、相對渥度5%以下之高溫乾燥環境氣 體中1，000小時的劣 化促進貝驗，480(3、相對座度95%之高溫高溼環境氣 體中48小日寸的劣化促進實驗；及以放射亮度55〇w/m2的氣 氣燈知、射4 8小時的劣化促進耐候性實驗之各個 實驗中，實 驗m後的近紅外線遮蔽積層體之色度又及丫的變化量宜為 0.005以下，且以〇〜〇〇〇3更佳。當具有此種特性之本發明積 層體使用於電漿顯示器等各種顯示器時，即使經過長時 間，其近紅外線遮蔽性、可見光透射性、色調等特性也不 ^ 口 /皿度艾化/絲氣，甚至是來自外部的光照射而劣化， 可長時間穩定地顯示影像。 (近紅外線遮蔽層之形成方法） 本發明之透明積層體之近紅外線遮蔽層，係使前 近紅外線吸收色夸、楚9、“ 巴京弟2近紅外線吸收色素及透明性 解或分散於前述溶則φ 曰心 J中，再將所得之溶液或分散液塗佈於 27 200534198 第1透明基材其中一面上，並使溶劑乾燥蒸發後形成。塗料 方法用一般使用的方法即可，可使用如棒式塗佈機、凹版 反向塗佈機、縫模塗佈機等塗料裝置來塗佈。 (衝擊吸收層） 5 再者，於本發明之透明積層體中，宜於第1積層部與第 2積層部之間配置衝擊吸收層。例如，如第2圖所示，於第工 積層部61之近紅外線遮蔽層13與黏著劑層31之間積層有吸 收衝擊後所形成之衝擊吸收層32，且亦可進一步依據需要 於衝擊吸收層32與近紅外線遮蔽層13之間隔有中間黏著層 10 31a。或亦可使近紅外線遮蔽層13與電磁波遮蔽層22之間的 黏著劑層31含有衝擊吸收材。這是由於與以往帶有玻璃面 板之光學濾光片相比，本發明之透明積層體直接貼附於電 漿顯示器之顯示面時可防止玻璃部分外的衝擊強度降低之 故。衝擊吸收材可使用矽氧橡膠、聚氨酯橡膠、苯乙烯-丁 15 二烯橡膠、丁腈橡膠、氯丁二烯橡膠、乙烯丙烯橡膠、丁 基橡膠、含氟橡膠等及其共聚物之橡膠材料、聚乙烯、聚 烯烴、纖維素等之樹脂膜等。 用以當作光學濾光片使用，於考慮透射率、混濁度時， 該衝擊吸收層32之厚度宜為〇·ι〜i.5mm。又，該衝擊吸收材 20 之特性宜拉伸強度為6〜l〇MPa、切斷時延伸率為150〜4〇〇 %。 (防止反射層之說明） 如第3圖所示，於本發明之透明積層體中，形成於第1 積層部的第1透明基材11上之防止反射層12，宜由硬膜層 28 200534198 51、積層於該硬膜層51上的導電性中折射率層52、積層於 該導電性中折射率層52上的高折射率層53及積層於該高折 射率層53上的低折射率層54所構成。 此種構造之防止反射層為具有導電性之防止反射層， 5且可防止靜電導致的灰塵之附著等。又，由於該導電性中 折射率層兼具中折射率層之機能，因此可形成具有中折 射、鬲折射、低折射3層之防止反射膜，並可藉此得到優良 的防止反射效果。 (防止反射層之硬膜層） 1〇 積層於第1透明基材上之硬膜層係由樹脂成分所形 成，且宜含有氧化物微粒子。藉由含有氧化物微粒子可提 回第1透明基材之密接性。本發明中的防止反射層係特別重 要在不會於第1透明基材與第2透明基材貼合時產生剝離或 損傷等之密接性。 15 硬膜層中的氧化物微粒子之含有量宜為30質量％〜8〇 貝量％。氧化物微粉末之含有量不到3〇質量％時，與第1透 明基材或中折射率層的密接性會降低，且得不倒想要的錯 筆硬度或鋼絲棉等之膜硬度。又，氧化物微粉末之含有量 超過80質量％時，會有因過度氧化物微粉末之含有量而降 20低所得的硬膜層之膜強度，且於所得的硬膜層產生泛白現 象，並降低硬化後的膜之彎曲性且容易發生裂縫等之問題。 又，硬膜層之折射率宜設計成與第1透明基材的表面平 均折射率同值。這是由於藉由縮小來自於第1透明基材的表 面平均折射率與硬膜層的折射率差之反射率振幅差，可使 29 200534198 所謂的「表面紅色不均 著層之。_#作第1透明基材使黏 相同或接近於下記式子所算出的折射率。、層折射率宜 N=Np-(Ns~Np)/2 5 10 N:透明硬膜層之折射率 NP : PET易黏著層之折射率 Ns: PET基材之表面平均折射率 鋁 又，硬概層中所使用的氧化物微粒子如氧化石夕、氧化 氧化録、氧化錫、氧化錯、氧化组、氧化飾、氧化鈦 寺非用來著色該硬膜層，而是因可形成具有優良透明性之 硬膜層等理由而適宜使用，且該氧化物微粒子之粒子徑宜 為lOOnm以下。這是由於超過励咖的粒子系之氧化物微粉 末，會使所得之硬膜層因瑞利散射導致光顯著散射且看來 變白而降低透明度之故。 15 前述樹脂成分有如紫外線硬化樹脂、電子束硬化樹 脂、陽離子催化聚合系樹脂等，其中以紫外線硬化樹脂較 廉價，且與透明塑膠膜之密接性優良因此合適使用。紫外 線硬化樹脂只要為使用於塗料法（濕塗法）之感光性樹脂即 可，如丙烯酸系樹脂、丙烯胺甲酸酯系樹脂、矽氧系樹脂、 20環氧系樹脂等，係由於其不會損壞前述氧化物微粉末之分 散性等理由因此合適使用。 本發明之防止反射層中的硬膜層，係藉由使有機樹脂 成分、氧化物微粒子、至少含有有機溶劑之硬膜層形成用 塗料，於第1透明基材上塗佈、乾燥、照射紫外線而形成。 30 200534198 前述透明硬膜層形成用塗料，係將如前述气化 子及樹脂成分與分散劑-起使用，並使用超音=」微粒 化器:混砂機等-般的方法，可混合、分散於有:二: 而獲付有機溶劑系塗料。前述有機溶劑可選自於醇系、乙 二醇系、錯酸I系、甲酮系等，且可使用其中單—種^ 類以上混合使用。 3 然，，於第！透明基材其中一面塗佈前述硬膜層形成塗 料’亚猎紫外線照射使架橋硬化以形成硬膜層。該硬膜層 之膜厚宜為〇.5//111〜2〇11111，且以0.5〜2//111更佳。當膜厚小 10於0.5/zm時無法充分顯現膜之硬度，又，膜厚大於① 時會使第1透明基材之捲曲變大。 、 又，塗料法可為各種塗料方法。可適當地選自於如棒 式塗佈法、凹版塗佈法、狹縫塗佈法、輥塗法、浸塗法等。 (導電性中折射率層） 15 形成於硬膜層上之導電性中折射率層宜具有導電性， 且包含中折射率之微粒子與黏結劑成分。 導電性中折射率層中的前述導電性中折射率微粒子之 含有里宜為50質量％以上，且特別於70〜95%之範圍更佳。 月;J述^ i性中折射率微粒子之含有量不到50質量％時，導 ^^中折射率層3之表面抵抗值會增大，且導電性會惡化， :咸夕填充物成分，因此與硬膜層之密接性會不充分。 七述^r電性中折射率微粒子之含有量超過95質量％ ^广站、、"劑成分之含有量會相對降低，因此無法使黏結劑 基底中保持充分量的前述導電性中折射率微粒子，又，於 31 200534198 導電性中折射率層上塗佈其他 觀不良。 層時，容易損傷膜而引起外 、率微粒子有含有銻氧化錫（ 作ΑΤΟ)、含有錫氧化銦（ 下％ 5 10 下％作ΙΤΟ)、含有鋁氧化鋅、 銀、鈀等之金屬微粒子辇 隻 及導電性=導電性中折射率層等理由因此適合使用陵 又月'j逃¥书性中折射率微粒子之粒子徑的平均粗 宜為剛nm。平均粒⑼到lnm時容易於塗料化時引起= 聚，而難以達到塗料化之 +化之均一分散，甚至會增大塗料黏卢 且產生分散不良。X’導電性中折射率微粒子之平均粒二 超過·m時’會使所得之導電性中折射率層因瑞利散料 致顯著地光散射，因此看來變白而降低透明性。 黏結劑成分宜為由矽烷氧化物及/或加水分解生成物 所生成之物質。 本發明的透明積層體之導電性中折射率層，可藉由使 用至少包含導電性中折射率微粒子、矽烷氧化物及/或其加 水刀解生成物及有機溶劑之導電性中折射率層形成用塗 料’並於硬膜層51上塗佈、乾燥而形成。 前述導電性中折射率層形成用塗料，係將前述導電性 20中折射率氧化物微粒子、矽烷氧化物及/或其加水分解生成 物、依情形添加之其他粒子與分散劑一起使用，並使用超 音波分散機、均化器、混砂機等一般的方法來分散於有機 溶劑中而獲得有機溶劑系、塗料。 前述矽烷氧化物可選自於如四烷氧基矽燒系化合物、 32 200534198 烧基三烧氧基石夕烧系化合物等，又，前述有機溶劑可選自 於醇系、乙二醇系、醋酸酯系、甲酮系等，且可使用其中 單一種或2種類以上的混合物。 然後，於透明硬膜層上塗佈前述導電性中折射率層形 5成用塗料，且且於如70〜13〇°C之下乾燥1分鐘以上，並將光 學膜厚調整至140±30nm的範圍。 乾爍溫度超過130 C時會因使用的透明塑膠膜引起熱 變形因此不宜。又，不到7(rc時硬化速度會變慢而無從發 現強度。又，硬化時間不到i分鐘時膜強度會不足因此不宜。 ° 再者，塗料方法可適當地選自於如棒式塗佈法、凹版 塗佈法、狹縫塗佈法、輥塗法、浸塗法等。 (高折射率層） 導電性中折射率層上所形成的高折射率層包含有如高 折射率之氧化物微粒子與黏結劑成分。 15 高折射率層中的高折射率氧化物微粒子之含有量宜為 50貝里％以上，且特別以6〇〜95質量％更佳。前述高折射率 氧化物微粒子之含有量不到5〇%時，黏結劑成分之含有量 會相對增加而引起折射率降低，且無法得到充分的高折射 率，並過度增大反射率。又，前述高折射率氧化物微粒子 ⑼之含有量超過95%時，會因黏結劑成分使高折射率氧化物 微粒子無法完全固定，又，於該透明高折射率層上塗佈其 他層時容易損傷，甚至引起外觀不良。 前述高折射率氧化物微粒子有氧化鈽、氧化辞、氧化 锆、氧化鈦、氧化起等，係基於可形成透明性優良之高折 33 200534198 射率層53之理由因此適合使用。 又，高折射率氧化物微粉末之粒子徑的平均粒徑宜為 1〜lOOnm。平均粒徑不到lnm時容易於塗料化時引起凝聚， 而難以達到塗料化之均一分散，甚至會增大塗料黏度且產 5生分散不良。X，高折射率氧化物微粉末之平均粒徑超過 lOOnm時，會使所得之高折射率層因瑞利散射導致顯著地光 散射，因此看來變白而使透明性不充分。 黏結劑成分宜為來自矽烷氧化物及/或其加水分解生 成物之二氧化矽。 10 树明之高折射率層係至少含有高折射率氧化物微粒 子、黏結劑成分及有機溶劑，且藉由使用透明高折射率形 成塗料於導電性中折射率層上塗佈、乾燥而形成。 前述高折射率層形成用塗料，係將前述高折射率氧化 物微粉末、矽烷氧化物及/或其加水分解生成物、依情形添 15 加之粒子與分散劑一起使用，並使用超音波分散機、均化 器、混砂機等一般的方法來分散於有機溶劑中而獲得有機 溶劑系塗料。 前述矽烷氧化物可選自於如四烷氧基矽烷系化合物、 烧基三烧氧基矽炫系化合物等，又，前述有機溶劑可選自 20 於醇系、乙二醇系、醋酸酯系、曱酮系等，且可使用其中 單一種或2種類以上的混合物。 然後，於導電性中折射層上塗佈前述高折射率層形成 用塗料，且於如70〜130°c之下乾燥1分鐘以上以形成高折射 率層。其膜厚宜設定成低折射率層的光學膜厚之12〜25 34 200534198 倍。至今為止有關防止反射之膜厚設計，一般已知者係將 高折射率層、低折射率層之膜厚設定成顯示作為標的之最 低反射率的波長（以下稱為底波長）之1/4。以該方法製作防 止反射膜時，底波長中的反射率為最低，但是相對地在長 5 波長側及低波長側之反射率會增大，且其部分之反射色變 強，而呈現從極度藍紫到極度紅紫之反射色。甚至於目視 時的目視反射率指標之視覺反射率亦會增大。進行檢討抑 制這些長波長側及低波長側之反射率增大的結果，發現可 藉由將前述之低折射率層的光學膜厚設計成比之前的設計 10 方法厚1.2〜2.5倍來解決。 乾燥溫度超過130°C時會因所使用的透明塑膠膜而引 起熱變形。又，乾燥溫度不到70°C時硬化速度會變慢而無 從發現充分強度。又，硬化時間不到1分鐘時膜強度會不足。 再者，塗料方法可適當地選自於如棒式塗佈法、凹版 15 塗佈法、狹縫塗佈法、親塗法、浸塗法等。 (低折射率層） 高折射率層上所積層的低折射率層係藉由於高折射率 層上塗佈含有矽烷氧化物及/或其加水分解生成物、聚矽氧 油與有機溶劑之低折射率層形成用塗料並且乾燥後形成。 20 該低折射率層之折射率宜比高折射率層之折射率低 0.1以上。藉由設置這種透明低折射率層，可使所得之防止 反射層顯示非常優良之防止反射性。該低折射率層形成用 塗料所使用的矽烷氧化物，可從如四烷氧基矽烷系化合 物、烷基三烷氧基矽烷系化合物等當中適當選取使用。 35 200534198 又

則述聚石夕氧油可從二烷基烷氧基矽烷化合物當中 適當使用0 V >田 ，前述有機溶劑可適當地選自於醇系、乙二 醇系、醋酸酷备 ^ ^ ^ 、 系、甲酮糸寺，且可使用其中單一種或2種類 以上混合使用。 旦，月折射率層形成用塗料中含有聚石夕氧油0.01~5.0質 里％日守—相對於塗膜之水的接觸角度會大於90。，可發現防 “=易π動’並提高附有防止帶電、防止反射膜之透 月膜=膜強度(特別是鋼絲棉強度），且亦給予防污性。 别述聚錢油之含有量不到請質量％時，聚石夕氧油會 1〇無法完全渗透到透明低折射率層4之表面，且相對於水的接 觸角度會小於90。砂相充分的防秘且餘提高附有 防止帶電、防止反射膜之透明膜的膜強度，亦得不到防污 性。又有量超過5.〇質量％時，於透明低折射率射之表 面的聚魏油會過量而使相對於水的接觸角度超過9〇。，雖 15然可得到充分的防水性，但為了阻礙魏氧化物及/或其加 水分解生成物之聚合硬化反應，會引起附有防止帶電、防 止反射膜之透明膜的膜強度降低。 低折射率層係藉由在透明高折射率層上塗佈前述低折 射率層形成用塗料’且於如7G〜13Gt之下乾燥丨分鐘以上， 20並調整光學膜厚至l40nm而形成，藉此，可製作底波長 600nm左右的防止帶電、防止反射膜。 乾爍溫度超過13〇。〇時會因所使用的透明塑膠膜而引 起熱變形。又，不到70°C時硬化速度會變慢而無從發現強 度。又，硬化時間不到1分鐘時膜強度會不足。 36 200534198 再者，塗料方法可適當地選自於如棒式塗佈法、凹版 塗佈去、狹縫塗佈法、輕塗法、浸塗法等。 根據上述方法作成之防止帶電、防止反射膜具有良好 的防止帶電效果及防止反射性，且具有膜硬度強與防污性 5等特徵。其理由如同下述。 使透明硬膜層、透明導電性中折射率層及透明高折射 率層存有大量的無機化合物填充物，藉此，可增大層的表 Φ 面爿b里且明顯地提南各染料於各層表面上的浸潤性，而該 浸潤性改善效果可提高層之間的密接性，並藉此得到比以 10往強的膜強度。 再者，最外層之透明低折射率層含有聚矽氧油可使相 對於水之接觸角度超過赃且給予防水性。而且該防水效 果即使以綿布等擦拭亦可維持相當效果，可得到比以往高 的防污性。而防污性可持續的理由為二氧化石夕基底中有放 15進聚石夕氧油而不會輕易地滲出之故。 赢 （金屬網層之說明） 第2積層部之電磁波遮蔽層

於本發明之透明積層體中， 為金屬網層時，藉由使該金屬系 37 200534198 (一般製造方法） 本發明之透明積層體係以上述方法於第丨透明基材上 形成防止反射層後，再以上述方法於其裏面形成近紅外線 遮蔽層。同時，以上述方法於第2透明基材上形成金屬網 5層。如此可藉由黏著劑層將所得到的形成有第1透明基材、 防止反射層及近紅外線遮蔽層之第1積層部的近紅外線遮 蔽層側，與含有第2透明基材及金屬網層之第2積層部的金 屬網層側積層接合。積層方法有一般使用於貼合面板與 膜、膜與膜之方法，可採用如使用輥來層壓的方法、使用 10片來層壓的方法等。又，亦可於上述步驟之間進行適當的 加熱、加壓。再者，宜於貼合後經過脫泡及透明化之步驟。 脫泡法可藉由加壓或減壓來進行，但以加壓進行為佳。該 黏著劑層亦可含有著色材以調整色調或透射率。 又，本發明之透明積層體所使用的金屬網層，宜藉由 5將吕有催化劑之油墨於第2透明基材上印刷網圖案後，再於 油墨圖像上施行無電解金屬電錢及/或電解金屬電錢而形 f °且藉由電鍍所析出之金屬以使用銅較佳。又，以無電 =鍍析出金屬後，宜再以電解電鍍析出金屬。以往所使 ' 在採用利用錢鑛法使含有銀或銦的氧化錫(ITO) 2〇之薄膜形成於基材上之方法時，所得到的金屬網層之電磁 波遮蔽性能會不充分，而難以通過資訊處理裝置等電波障 礙自=規定協議會(VCCI)所訂定之等級B。印刷方法並不特 j 定於、、’印刷法、凹板印刷法等，但以網版印刷法較 佳0 38 200534198 ^金屬_形成方法有主要以纖 物之纖維網’並於基材 或藉由腐蝕表面業已条钔冶之方法， 網形片來進行網的圖案化之_ 5低透㈣日* 線徑大約2〇~5〇_太粗會有降 ，透射率’且容易發生干涉條紋之問題。 ： 視野角度變窄且辨U=，而金屬網層之厚度過厚會使 … 降低。再者，即使於銅箱表面進行 :、士 從傾斜角度辨識時，腐㈣深度方向會露出 〇銅特有之色調而造成晝面色調不良。 曰 明之上述方法所得到的金屬網層不但厚度薄 且八有充刀的導電性。且厚度特別宜為卜15難又以㈣ 15 _更佳’為該厚度時可得到顯示讀仙/□的表面抵抗 及70〜90%的透射率之金屬網層。因此，根據本發明之上述 方法所得到的金屬網層係視野角度廣且辨識性提高，且表 面义黑N·不會於金屬網的深度方向露出金屬特有之色調， 亦不會造成晝面色調不良。 使用本發明之透明積層體時，可藉由直接將其貼附在 PDP模組的前面玻耻來實現咖之大難量化。以往的光 學據光片所使用的玻璃之f量，尺寸舰6em(42英时）時大 2〇致4.5kg ’尺寸127cm(5〇英时）時亦可達大致5kg，因此，可 藉由省略雜光學濾光#之玻璃來㈣地實現所期待的 PDP之牆掛式電視機。 如第4圖所示，將本發明之透明積層體當作光學濾光片 使用牯為了確保用以取出地線之金屬網層電極取出部 39 200534198 22a，宜將第1積層部61與第2積層部62貼合成框架樣式。 第5圖係顯示本發明之透明積層體搭載於PDp時之構 造（一部份截面）。本發明之透明積層體1係直接貼附於PDP 模組71之顯示面73上。且藉由第1積層部61貼合於第2積層 5部6 2上以形成框架樣式而確保之電磁波遮蔽膜電極取出部 22a，係直接接合於PDP模組71之框體72上，或透過夾子、 夾板或墊圈（未圖示）來傳導安裝。觀察者74可沿著箭頭方向 75來觀察形成於透明積層體上的影像。 貫施例 10 根據下述實施例進一步說明本發明之透明積層體。 f施例1 使用作為第1透明基材的厚度100//m之PET膜，且於其 中一面形成由硬膜層、導電性中折射率層、高折射率層及 低折射率層所構成之防止反射層，並於其相反面形成包含 15 透明性樹脂之近紅外線遮蔽層以形成第1積層部。而前述透 明性樹脂係聚合化學式⑴所表示的具有相對陰離子的二胺 鏘系化合物之二胺鏘系色素與酞氰系色素（(株）日本觸媒 製、商標：EPOCOLOR-IR-10A)，及一般式(2)中的異冰片基 x所含有的單體50質量份之單體成分而獲得。且胺鏘系色素 20與酞氰系色素係以2 : 1之重量比配合。 接下來，用網板於第2透明基材的厚度125//111之PET膜 上印刷具有含鈀膠質的黏著劑為l/S=30/27〇( // m)之格子 狀（網狀）的圖案，並將其浸潰於無電解銅電鍍液中，施行無 電解銅電鍍後再繼續施行電解銅電鍍，且更進一步施行 40 200534198

Ni-Sn合金之電解電鍍以形成第2積層部。 接下來，分別於相對於第1透明基材的第1積層部的近 紅外線遮蔽層面之相反側面，及相對於第2透明基材的第2 積層部的電麵遮蔽層面之相反側面上形成厚度25_之 5边明黏著層，且貼合第1積層部之近紅外線遮蔽層面與第2 積層部之電磁波遮蔽層，並於〇.45MPa之加壓下進行加壓處 理30分鐘以製作成透明積層體。 处 所得到的透明積層體之「全光線透射率」、「混濁值」、 「視覺反射率」、「鉛筆硬度」、「鋼絲綿硬度」、「密接性、 10 「光搢透射率（近紅外部）」、「信賴性實驗(於高溫、高濕下 1000小時後的近紅外部之透射率變化）」「電磁波遮蔽性 係根據下述方法做評價。且評價結果顯示於表1。 (1)全光線透射率··使用混濁值測量器（曰本電色社夢） 測定。 15 (2)視覺反射率：使用光譜光度計（日本分光社製V—57〇) 測定。 (3) 船筆硬度：使防止反射層面位於上方，測定於負载 1kg之下不會損傷的最小鉛筆硬度。 (4) 鋼絲綿強度：使防止反射層面位於上方，測定和〇⑽ 20鋼絲綿於來回1〇次承受250g/cm2負載後發生損傷的條數。 (5) 密接性：使防止反射層面位於上方，且於膜表面之 各邊lcm角間隔imm縫隙，並用黏著膠布於其表面進行3 & 剝離實驗後測定所殘存的餘數。 (6) 光譜透射率：使用光譜光度計（曰本分光（株）制 41 200534198 V-570)測定各試料於波長85〇nm、95〇nm、1⑻〇ηιη中的透社 率。 (7)信賴性： ⑴測定將各試料放入設定80°C之恆溫器中1000小時後 5 的光譜透射率。 (11)測定將各試料放入設定60°C -相對溼度90%之恆溫 恆濕實驗器中1000小時後的光譜透射率。 (8)電磁波遮蔽性：以KEC(財團法人關西電子工業振 興中心法)法為標準來測定。 實施例1 全光線透射率 42% — 視覺反射率 1.0% 金D筆硬度 3H以上 綿硬度 __損傷無__ 密接性 100/100 光碏透射率/信賴性 0小時 80°C/1000 小 時 60〇C-90〇C/1000 小時 ___/850nm_ 5.4% 6.7% 6.4% __/950nm_ 1.7% 2.6% 2.9% __ /lOOOnm 1.6% 2.4% 1 2.8% 1 磁波遮蔽性 50dBi； (上 10 (實驗結果) 根據貫施例之貫驗結果，可確認本發明之透明積層體 具有優良的透射率、低反射性、電磁波遮蔽性、近紅外線 遮蔽性及強度，甚至亦具有優良的耐久性。 發明之產業利用性 本發明之透明積層體及其製造方法具有優良的防止反 射性、近紅外線遮蔽性及電磁波遮蔽性，且亦具有優良的 使用而才久性及可見影像之辨識性，輕量且容易製造、處理， 42 200534198 可當作如電漿顯示器裝置等顯示裝置之光學濾光片使用， 具有高度實用性。 L圖式簡單說明3 第1圖係本發明之一例的透明積層體之截面說明圖。 5 第2圖係本發明之另一例的透明積層體之截面說明圖。 第3圖係本發明之透明積層體之防止反射層的截面說 明圖。 第4圖係本發明之透明積層體之正面說明圖。 第5圖係PDP上搭載本發明之透明積層體時之一部份 10 截面說明圖。 【主要元件符號說明】 1...透明積層體 51...硬膜層 4...透明低折射率層 52...導電性中折射率層 11...第1透明基材 53...高折射率層 12...防止反射層 54...低折射率層 13...近紅外線遮蔽層 61...第1積層部 21...第2透明基材 62...第2積層部 22...電磁波遮蔽層 71...PDP 模組 22a...金屬網層電極取出部 72...框體 31...黏著劑層 73...顯示面 31a...中間黏著層 74...觀察者 32.. .衝擊吸收層 41.. .裏面黏著劑層 75…箭頭方向 43

Claims (1)

1. 200534198 十、申請專利範圍： 1. 一種透明積層體，包含有： 第1積層部，係具有第1透明基材、形成於其一面上 的防止反射層及形成於其另一面上的近紅外線遮蔽層 5 者； 第2積層部，係由第2透明基材及形成於其一面上的 電磁波遮蔽層所構成者；及 黏著劑層，係用以將前述第1積層部之近紅外線遮 蔽層與前述第2積層部接合者。 10 2.如申請專利範圍第1項之透明積層體，其中前述電磁波 遮蔽層係金屬網層者。 3.如申請專利範圍第1項之透明積層體，其中前述第1積層 部之近紅外線遮蔽層與前述第2積層部之電磁波遮蔽層 接合在一起。 15 4.如申請專利範圍第1項之透明積層體，其中前述第2積層 部更具有形成於前述第2透明基材之另一面上的裏面黏 著劑層。 5.如申請專利範圍第4項之透明積層體，其中前述第2積層 部之裏面黏著劑層之黏著強度為1〜20N/25mm。 20 6·如申請專利範圍第1項之透明積層體，其中前述第1積層 部之近紅外線遮蔽層包含有： 第1近紅外線吸收色素，係由至少1種近紅外線吸收 性二胺鏘系化合物構成者； 第2近紅外線吸收色素，係於750〜950nm之近紅外 44 200534198 線波長領域具有極大吸收，且由至少1種與前述二胺鑕 系化合物不同種類的色素化合物構成者；及 透明性樹脂，係包含至少1種乙烯性不飽和單體之 聚合物者， 5 又，構成前述透明性樹脂用聚合物之乙烯性不飽和 單體之至少30質量％為以下述一般式（2)所表示之單體 R I CH2=C-C〇-〇X (2) # 10 〔但是，於前述式（2)中，R係表示氫原子或曱基， X係表示具有6〜25個碳原子的環狀烴基〕。 7.如申請專利範圍第6項之透明積層體，其中包含於前述 第1積層部的近紅外線遮蔽層之前述第1近紅外線吸收 色素用近紅外線吸收性二胺鍇系化合物係由二胺鍇化 15 合物陽離子及以下述化學式（1)表示的相對陰離子所構 成者 (CF3S02)2N- (1)。 ® 8.如申請專利範圍第6或7項之透明積層體，其中包含於前 述第1積層部的近紅外線遮蔽層之前述第1近紅外線吸 20 收色素用近紅外線吸收性二胺鍇系化合物係以下述化 學式（3)所表示的化合物

   45 (3) 200534198 9.如申請專利範圍第6項之透明積層體，其中包含於前述 第1積層部的近紅外線遮蔽層之前述透明性樹脂，具有 60〜120°C之玻璃轉化溫度、20,⑻0〜80,0⑻之數量平均分 子量及200,000〜400,000之重量平均分子量。 5 10.如申請專利範圍第1項之透明積層體，其中前述第1積層 部之前述防止反射層係由硬膜層、積層於該硬膜層上的 導電性中折射率層、積層於前述導電性中折射率層上的 高折射率層及積層於該高折射率層上的低折射率層所 構成者。 10 11·如申請專利範圍第10項之透明積層體，其中前述防止反 射層所包含的前述硬膜層含有氧化物微粒子與黏結劑 成分，且前述氧化物微粒子之含有率為質量30%以上。 12. 如申請專利範圍第2項之透明積層體，其中前述第2積層 部所包含的前述金屬網層具有金屬網，且該金屬網具有 15 因黑色金屬的電解電鍍而變黑之表面。 13. 如申請專利範圍第1項之透明積層體，其中前述電磁波 遮蔽層之厚度為1〜15//m。 14. 如申請專利範圍第1項之透明積層體，其中於前述第1 積層部之近紅外線遮蔽層與前述黏著劑層之間更包含 20 有衝擊吸收層。 15. —種透明積層體之製造方法，包含有下列步驟： 於第1透明基材其中一面上形成防止反射層； 之後，於第1透明基材另一面上形成近紅外線遮蔽 層且形成第1積層部； 46 200534198 另外，於第2透明基材其中一面上形成金屬網層且 形成第2積層部；及 藉由黏著劑層接合前述第1積層部之近紅外線遮蔽 層與前述第2積層部之金屬網層以形成積層體。 5 16.如申請專利範圍第15項之透明積層體之製造方法，係利 用含有催化劑之油墨將具有所期望的網圖案之圖像印 刷在前述第2透明基材其中一面上，以形成前述第2積層 部之金屬網層，且於前述業經印刷之面上施行無電解金 屬電鑛及/或電解金屬電鍍後，依前述含催化劑油墨圖 10 像之圖案析出金屬，並固定於前述第2透明基材上。

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