TWI395667B

TWI395667B - 抗反射薄膜

Info

Publication number: TWI395667B
Application number: TW95101990A
Authority: TW
Inventors: Satoru Shoshi; Shin Koizumi
Original assignee: Lintec Corp
Priority date: 2005-01-20
Filing date: 2006-01-19
Publication date: 2013-05-11
Also published as: KR20070095418A; CN101107543B; TW200631776A; WO2006078053A1; CN101107543A; JP2006201463A; KR101275408B1; JP5242883B2

Description

抗反射薄膜

本發明關於抗反射薄膜，更詳細地係關於一種具有近紅外線吸收性能力和抗反射性能力、且耐擦傷性優良、層構造簡單、成本低的、特別適用於電漿顯示器的抗反射薄膜。

就電漿顯示器(PDP)、布朗恩管(CRT)、液晶顯示器(LCD)等的影像顯示裝置而言，當來外部的光線入射到畫面時，會將該光線反射，而使得難以觀看顯示影像，特別地在近年來，伴隨著顯示器的大型化，解決上述問題係為愈來愈重要的課題。

為了解決該問題，迄今已經對於各種的顯示器，採用各式各樣的抗反射裝置或防眩裝置。其之一個方式為使用抗反射薄膜於各種的顯示器。

該抗反射薄膜在以往係藉由蒸鍍或濺鍍等的乾加工法，在基材薄膜上，將低折射率的物質(MgF₂ )作薄膜化之方法，或是藉由交互積層折射率高的物質[ITO(經錫摻雜的氧化銦)、TiO₂ 等]與折射率低的物質(MgF₂ 、SiO₂ 等)之方法等來製作。然而，該乾加工法所製作的抗反射薄膜有無法避免製造成本增高之問題。

近年來，嘗試濕加工法，即藉由濕式塗覆以製作抗反射薄膜。然而，該濕加工法所製作的抗反射薄膜當與上述乾加工法所得的抗反射薄膜比較時，係會發生表面耐擦傷性變差的問題。

為了解決濕加工法的上述問題，有進行使用電離放射線硬化型樹脂組成物以形成硬化層(硬塗層)者。例如有揭示在基材薄膜上，依順序積層(1)(A)含有藉由電離放射線硬化的硬化樹脂之厚度2~20μm的硬塗層、(B)含有藉由電離放射線硬化的硬化樹脂及含經銻摻雜的氧化錫之至少2種金屬氧化物的折射率在1.65~1.80之範圍內的厚度60~160nm之高折射率層、及(C)含有矽氧烷系聚合物且折射率在1.37~1.47之範圍內的厚度80~180nm之低折射率層而成的光學用薄膜(例如參照發明專利文獻1)，或依順序積層(2)(A)含有金屬氧化物與熱或電離放射線硬化物之2~20μm之硬塗層、及(B)含有多孔性矽石與聚矽氧烷系聚合物且折射率在1.30~1.45範圍之厚度40~200nm之低折射率層所成的光學用薄膜(例如參照發明專利文獻2)等。

此等光學用薄膜係為能有效果地防止影像顯示元件表面的光反射以及是耐擦傷性優良的抗反射薄膜。

PDP係為藉由電極間的電漿放電而激勵所封入的氙氣分子，產生紫外線以激勵螢光物質，使可見光區域的光發，而顯示映像的裝置。於該PDP中，由於發光係利用電漿放電，頻率區域在30~130MHz左右的不要之電磁波會洩漏到外部，故對於其它機器(例如資訊處理裝置等)有不利影響，而要求極力抑制電磁波。

又，已知PDP中會產生近紅外線。該近紅外線會作用於無線麥克風、使用近紅外線遙控裝置的視頻裝置等周邊的電子機器，而有妨礙正常動作之虞，故要求極力遮蔽該近紅外線。

再者，就PDP而言，由於顯示面係平面，故外光射入時，廣範圍的反射光同時進入眼睛，而有難以觀看畫面的情況，故對必須對外光作抗反射。又，使PDP的發光以指定的透射率透過、顯示良好的畫面、或修正發光色的色調係皆重要的。

於PDP方面，針對該些要求，通常有提到在顯示畫面上配置具有(1)電磁波遮蔽薄膜、(2)近紅外線吸收薄膜及(3)抗反射薄膜等至少3片機能性薄膜的正面板，使該抗反射薄膜配置在最表面(觀察者側)的方式(例如參照發明專利文獻3)。於該情況中，必須分別製作至少3片機能性薄膜，將它們貼合，故無法避免製造成本之增高。

相對地，近年來從降低成本的方面看，對於最表面的抗反射薄膜，藉由在其與基材之抗反射層相反側的面上設置近紅外線吸收層，而開發出以1片薄膜兼具抗反射性能和近紅外線吸收性能的機能性薄膜。於製造該機能性薄膜的情況中，有以下兩個方法，即(1)對於抗反射薄膜的裏面形成近紅外線吸收層，及(2)對於近紅外線吸收薄膜的裏面形成抗反射層，惟由於在任一種情況中薄膜皆會發生損失，故成本降低效果小。

[發明專利文獻1]特開2002－341103號公報[發明專利文獻2]特開2003－139908號公報[發明專利文獻3]特開平11－126024號公報

本發明鑑於上述情事，而目的是在於提供一種藉由濕加工法的抗反射薄膜，其具有近紅外線吸收性能和抗反射性能，而且耐擦傷性優良，層構造簡單故成本低，特別適用於PDP。

本案發明人為了開發具有上述良好性質的抗反射薄膜，而專心致力地重複研究，結果發現在藉由濕加工法的抗反射薄膜中，必須藉由在硬塗層內含有近紅外線吸收劑，而使得所得到的抗反射薄膜在至少波長850~1000nm的全區域中之透射率為某一值以下，可達成該目的。以該知識為基礎，而完成本發明。

即，本發明提供：(1)一種抗反射薄膜，其特徵為由在基材薄膜的一面上依順序積層(A)含有藉由活性能量線照射硬化的硬化樹脂和近紅外線吸收劑的厚度2~20μm之硬塗層、及(B)含有藉由活性能量線照射硬化的硬化樹脂且折射率1.43以下、厚度50~200nm的低折射率層而成，且為至少在波長850~1000nm的全區域中之透射率為30%以下的抗反射薄膜。

(2)如上述(1)項記載之抗反射薄膜，其中(A)層中的近紅外線吸收劑係氧化鎢系化合物，(3)如上述(2)項記載之抗反射薄膜，其中氧化鎢系化合物係含銫的氧化鎢，(4)如上述(1)~(3)項中任一項記載之抗反射薄膜，其中(A)層中更含有選自由有機填料及無機填料所組成族群的至少1種填料，(5)如上述(1)~(4)項中任一項記載之抗反射薄膜，其中(B)層包含30~80重量%的多孔性矽石，(6)如上述(1)~(5)項中任一項記載之抗反射薄膜，其中在基材薄膜的另一面上具有厚度5~50μm的黏著劑層，及(7)如上述(1)~(6)項中任一項記載之抗反射薄膜，其係用於電漿顯示器。

依本發明，提供一種藉由濕加工法的抗反射薄膜，其具有近紅外線吸收性能和抗反射性能，而且耐擦傷性優良，層構造簡單故成本低，特別適用於PDP。

實施發明的最佳形態

本發明的抗反射薄膜具有藉由濕加工法在基材薄膜的一面上依順序積層(A)含有近紅外線吸收劑的硬塗層及(B)低折射率層而成的構造。

對於本發明之抗反射薄膜中的基材薄膜係無特別之限制，可從以往作為抗反射薄膜基材之習知的塑膠薄膜中適宜選擇來使用。該等塑膠薄膜例如為聚對酞酸乙二酯、聚對酞酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、賽珞玢、二乙醯基纖維素薄膜、三乙醯基纖維素薄膜、乙醯基纖維素丁酸酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏二氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯－醋酸乙烯酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚碸薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚碸薄膜、聚醚醯亞胺薄膜、聚醯亞胺薄膜、氟樹脂薄膜、聚醯胺薄膜、丙烯酸樹脂薄膜、原冰片烯系樹脂薄膜、環烯烴樹脂薄膜等。

該等之基材薄膜係透明、半透明者均可，又，已著色或無著色者均可，可針對用途來適宜地選擇。

該等基材薄膜之厚度係無特別之限制，可適宜地選定，通常為15~250μm，較佳30~200μm之範圍。又，該基材薄膜當目的是為了提高與其表面上所設置的層之密合性時，則可依所希望在單面或雙面上，藉由氧化法或凹凸化法等來實施表面處理。作為上述氧化法，例如有電暈放電處理、鉻酸處理(濕式)、火焰處理、熱空氣處理、臭氧－紫外線照射處理等。又，作為凹凸化法，例如有噴砂法、溶劑處理法等。該等之表面處理法雖針對基材薄膜的種類來適宜地選擇，但一般從效果及操作性方面來看係以使用電暈放電處理法為佳。又，亦可使用於單面或雙面實施底漆處理者。

於本發明的抗反射薄膜中，係在上述基材薄膜的至少一面上首先設置(A)含有藉由活性能量線照射硬化的硬化樹脂和近紅外線吸收劑的硬塗層。

該含有藉由活性能量線照射硬化的硬化樹脂和近紅外線吸收劑的硬塗層，係可藉由例如將含有活性能量線硬化性化合物與上述近紅外線吸收劑和依所希望的光聚合引發劑等之硬塗層形成用塗布液，塗覆在基材薄膜一面上以形成塗膜，照射活性能量線，使該塗液硬化而形成。

此處，活性能量線硬化性化合物係指具有電磁波或荷電粒子線中的能量量子者，即係指藉由照射紫外線或電子線等而可交聯、硬化的化合物。

作為該活性能量線硬化性化合物，例如為活性能量線聚合性預聚物及/或活性能量線聚合性單體。上述活性能量線聚合性預聚物係有自由基聚合型與陽離子聚合型，自由基聚合型之活性能量線聚合性預聚物方面，例如有聚酯丙烯酸酯系、環氧丙烯酸酯系、胺甲酸酯丙烯酸酯系、多元醇丙烯酸酯系等。作為該聚酯丙烯酸酯系預聚物，例如可藉由以(甲基)丙烯酸酯化由多價羧酸與多價醇之縮合而得之於兩末端具有羥基之聚酯寡聚物之羥基，或可藉由以(甲基)丙烯酸酯化加成環氧烷於多價羧酸而得之寡聚物末端之羥基而得之。

環氧丙烯酸系預聚物，係例如可藉由使(甲基)丙烯酸反應於較低分子量之雙酚型環氧樹脂或酚醛清漆型環氧樹脂之環氧乙烷環上並酯化而得。胺甲酸酯丙烯酸酯系預聚物，係例如可藉由以(甲基)丙烯酸酯化由聚醚多元醇或聚酯多元醇與聚異氰酸酯之反應而得之聚胺甲酸酯寡聚物而得。再者，多元醇丙烯酸酯系預聚物係可藉由以(甲基)丙烯酸酯化聚醚多元醇之羥基而得。該等活性能量線聚合性預聚物係可以1種使用，或亦可組合2種以上使用。

另一方面，作為陽離子聚合型的活性能量線聚合性預聚物，通常使用環氧系樹脂。作為該環氧系樹脂，例如例有於雙酚樹脂或酚醛清漆樹脂等之多價酚類以環氧氯丙烷等環氧化之化合物、以過氧化物等氧化直鏈狀烯烴化合物或環狀烯烴化合物而得之化合物等。

作為活性能量線聚合性單體，例如可為1,4－丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6－己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環戊基二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二環戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化環己酯二(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、參(丙烯醯氧基乙基)異氰尿酸酯、丙酸改性二異戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等的多官能丙烯酸酯。此等活性能量線聚合性單體係可1種來使用，或亦可組合2種以上來使用，又，亦可併用上述活性能量線聚合性預聚物。

作為依所希望使用的光聚合引發劑，對於自由基聚合型之活性能量線聚合性預聚物或活性能量線聚合性單體而言，例如有苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻－正丁基醚、苯偶姻異丁基醚、苯乙酮、二甲基胺基苯乙酮、2,2－二甲氧基－2－苯基苯乙酮、2,2－二乙氧基－2－苯基苯乙酮、2－羥基－2－甲基－1－苯基丙－1－酮、1－羥基二環己基苯基酮、2－甲基－1－[4－(甲硫基)苯基]－2－嗎啉基丙－1－酮、4－(2－羥基羥乙氧基)苯基－2－(羥基－2－丙基)酮、二苯甲酮、對苯基二苯甲酮、4,4’－二乙基胺基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽醌、2-胺基蒽醌、2一甲基噻噸酮、2-乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、苄基二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、對二甲基胺基苯甲酸酯等。又，作為對於陽離子聚合型活性能量線聚合性預聚物的光聚合引發劑，例如有由芳香族鋶離子、芳香族氧鋶離子、芳香族碘鎓離子等的鎓類、四氟硼酸根、六氟磷酸根、六氟銻酸根、六氟砷酸根等之陰離子所構成之化合物。該等化合物可使用1種，或亦可組合2種以上來使用，又，其該配合量就相對於100重量份上述活性能量線聚合性預聚物及/或活性能量線聚合性單體而言，通常選擇在0.2~10重量份之範圍。

另一方面，就硬塗層中所含有的近紅外線吸收劑而言，只要能給予至少在波長850~1000nm的全區域中之透射率為30%以下的抗反射薄膜者即可，並沒限制，可適當地選擇各式各樣的種類者。

該近紅外線吸收劑係可大致區分為有機系近紅外線吸收劑和無機系近紅外線吸收劑。此處，作為有機系近紅外線吸收劑，例如可為花青系化合物、方形鎓系化合物、硫醇鎳錯鹽系化合物、萘花青系化合物、酞花青系化合物、三烯丙基甲烷系化合物、萘醌系化合物、蒽醌系化合物，以及N,N,N’,N’-肆(對二正丁基胺基苯基)-對苯二胺鎓的過氯酸鹽、苯二胺鎓的氯鹽、苯二胺鎓的六氟銻酸塩、苯二胺鎓的氟化硼酸鹽、苯二胺鎓的氟鹽、苯二胺鎓的過氯酸鹽等的胺基化合物、銅化合物與雙硫脲化合物、磷化合物和銅化合物、磷酸酯化合物與銅化合物之反應所得到的磷酸酯銅化合物等。

於此等之中，較佳為硫醇鎳錯鹽系化合物(特開平9－230134號公報等)及酞花青系化合物，特別地，在有機系近紅外線吸收劑之中，特開2000－26748號公報等中所揭示的含氟酞花青化合物由於可見光線透射率高而且耐熱性、耐光性、耐候性等特性優良，故係較宜的。

又，作為無機系近紅外線吸收劑，例如可為氧化鎢系化合物、氧化鈦、氧化鋯、氧化鉭、氧化鈮、氧化鋅、氧化銦、經錫摻雜的氧化銦(ITO)、氧化錫、經銻摻雜的氧化錫(ATO)、氧化銫、硫化鋅等。於此等之中，從近紅外線的吸收率高而且可見光線的透射率高來看，較佳為氧化鎢系化合物，特佳為含銫的氧化鎢。

通常，當有機系近紅外線吸收劑與無機系近紅外線吸收劑比較時，近紅外線的吸收能力係有機系者較優良，但耐光性或耐候性係無機系者特別優良。又，有機系者係有容易著色的缺點，從實用性方面看，無機系近紅外線吸收劑較佳，特佳為使用含銫的氧化鎢。該無機系紅外線吸收劑若為了在可見光區域的吸收少而且形成透明塗層，則有利上係0.5μm以下，更佳0.1μm以下的粒徑。

於本發明中，可以使用1種或組合2種以上來使用有機系近紅外線吸收劑，而且可以使用1種或組合2種以上來使用無機系近紅外線吸收劑。或者，可適當地組合1種以上的有機系近紅外線吸收劑及1種以上的無機系近紅外線吸收劑來使用。

再者，若單獨使用近紅外線吸收劑時，例如有在波長850~1000nm之區域的透射率超過30%的部分，也可藉由併用2種以上，使在波長850~1000nm的全區域中之透射率成為30%以下該近紅外線吸收劑的使用量雖然係取決於硬塗層的膜厚，但是於使用有機系近紅外線吸收劑的情況時，硬塗層中的含量通常係1~10重量%，較佳3~7重量%。另一方面，於使用無機系近紅外線吸收劑的情況時，硬塗層中的含量通常係10~60重量%，較佳20~40重量%。

於本發明在(A)層的硬塗層中，可含有選自於由有機填料及無機填料所組成族群的至少一種填料當作防眩性賦予劑。作為有機填料，例如可為蜜胺系樹脂粒子、丙烯酸系橫脂粒子、丙烯酸－苯乙烯系共聚物粒子、聚碳酸酯系粒子、聚乙烯系粒子、聚苯乙烯系粒子、苯并胍胺系樹脂粒子等。此等有機填料的平均粒徑通常係2~10μm左右。

又，作為無機填料，例如可為平均粒徑0.5~10μm左右的矽石粒子或膠體狀矽石粒子的胺基化合物之聚集物，平均粒徑為0.5~10μm左右者等。

此等防眩性賦予劑可被單獨1種使用，亦可以2種以上組合使用，其在硬塗層中的含量通常係2~15重量%，較佳3~8重量%。藉由硬塗層含有防眩性賦予劑，本發明的抗反射薄膜之60。光澤度值通常係30~120。

本發明中所使用的硬塗層形成用塗布液係可按照需要在適當的溶劑中以指定的比例添加上述活性能量線硬化性化合物、近紅外線吸收劑、依所希望而使用的上述光聚合引發劑、防眩性賦予劑、以及各種添加劑，例如抗氧化劑、紫外線吸收劑、光安定劑、均平劑、消泡劑等，藉由溶解或分散而調製得。

該情況所使用的溶劑例如可為己烷、庚烷、環己烷等的脂肪族烴、甲苯、二甲苯等的芳香族烴、二氯甲烷、二氯乙烷等的鹵化烴、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、1－甲氧基－2－丙醇等的醇類、丙醇、甲基乙基酮、2－戊酮、甲基異丁基酮、異佛爾酮等的酮、醋酸乙酯、醋酸丁酯等之酯類、乙基溶纖劑等之溶纖劑等。

作為如此所調製的塗布液之濃度、黏度，只要為可塗覆之濃度、黏度即可，並無特別之限制，可針對狀況來適宜地選定。

其次，於基材薄膜的至少一面上，使用習知的方法，例如桿塗法、刀塗法、輥塗法、刮板塗覆法、口模式塗覆法、凹槽輥塗覆法等來塗覆上述塗布液，以形成塗膜，乾燥後藉由在其上照射活性能量線而使該塗膜硬化，以形成近紅外線吸收性硬塗層。

作為活性能量線，例如為紫外線或電子線等。上述紫外線係由高壓水銀燈、熔融H燈、氙燈等而得。另一方面，電子射線係由電子射線加速器等而得。於該活性能量線之中，特別適合者係紫外線。再者，於使用電子射線之情況，可在不添加聚合引發劑下得到硬化膜。

於本發明中，(A)硬塗層之厚度係在2~20μm之範圍內。若該厚度低於2μm，則所得到的抗反射薄膜之耐擦傷性不能充分地發揮，又若超過20μm，則於硬塗層會發生龜裂。該硬塗層之厚度較佳係在3~15μm的範圍內，特佳在5~10μm的範圍內。

於本發明之光學用薄膜中，該(A)硬塗層之折射率通常為1.47~1.60，較佳在1.49~1.55的範圍內。

於本發明的抗反射薄膜中，在上述硬塗層上設置(B)含有藉由活性能量線照射硬化的硬化樹脂及多孔性矽石粒子的低折射率層。

該含有藉由活性能量線照射硬化的硬化樹脂及多孔性矽石粒子的低折射率層，例如係可將含有活性能量線硬化性化合物、多孔性矽石粒子、依所希望的光聚合引發劑等之低折射率層形成用塗布液，塗覆在(A)硬塗層上以形成塗膜，照射活性能量線，使該塗膜硬化而形成者。

上述活性能量線硬化性化合物及依所希望使用光聚合引發劑，係如(A)硬塗層之説明中所示。

含於該(B)層之多孔性矽石方面，係以使用比重為1.7~1.9、折射率為1.25~1.36及平均粒徑在20~100nm範圍之多孔性矽石微粒子為佳。藉由使用具有該性質形狀的多孔性矽石粒子，可得到抗反射性能優良的抗反射層為1層型的抗反射薄膜。

於本發明中，該(B)層中的多孔性矽石粒子之含量較佳係選自於30~80重量%的範圍。該多孔性矽石粒子的含量若在上述範圍內，則該(B)層係成為具有所希望之低折射率的層，而所得到的抗反射薄膜係抗反射性優良者。該多孔性矽石粒子的含量較佳係50~80重量%，特佳在60~75重量%的範圍內。

該(B)層之厚度係50~200nm，折射率係1.43以下，較佳在1.30~1.42的範圍內。該(B)層的厚度或折射率若在上述範圍內，則可得到抗反射性能及耐擦傷性優良的抗反射薄膜。該(B)層的厚度較佳係70~130nm，折射率較佳係在1.35~1.40的範圍內。

本發明中所使用的低折射率層形成用塗布液，係視需要可在適當的溶劑中以指定的比例加入上述的活性能量線硬化性化合物、多孔性矽石粒子、依所希望使用的上述光聚合引發劑、以及各種添加劑，例如抗氧化劑、紫外線吸收劑、光安定劑、均值劑、消泡劑等，藉由溶解或分散而調製得。

該情況所使用的溶劑係如上述硬塗層形成用塗布液之説明中所示者。

於(A)硬塗層上，使用習知的方法，例如桿塗法、刀塗法、輥塗法、刮板塗覆法、口模式塗覆法、凹槽輥塗覆法等來塗覆上述塗布液，以形成塗膜，乾燥後藉由在其上照射活性能量線而使該塗膜硬化，以形成(B)低折射率層。

活性能量線係如上述硬塗層之説明中所示者。

於本發明中，有利地為藉由以下所示的方法來進行上述(A)硬塗層及(B)低折射率層之形成。

首先，於基材薄膜的一面上塗覆硬塗層形成用塗布液以形成塗膜，照射活性能量線以使硬化成半硬化狀態。此時，於照射紫外線的情況，光量通常係50~150mJ/cm² 左右。其次，於如此所形成的半硬化狀態之硬化層上，塗覆低折射率層形成用塗布液以形成塗膜，充分照射活性能量線，與上述半硬化狀態的硬化層一起完全硬化。此時，於照射紫外線的情況，光量通常係400~1000mJ/cm² 左右。再者，於使(A)硬塗層及/或低折射率層完全硬化時，為了防止氧所致的硬化障礙，可在氮氣等的環境下，照射活性能量線。於該情況下，氧濃度愈低愈佳，較佳為2容量%以下。

如此作，在基材薄膜上依順序形成(A)層與(B)層間密接性優良的(A)近紅外線吸收性硬塗層及(B)低折射率層。

於如此所製作的本發明之抗反射薄膜中，要求至少在波長850~1000nm的全區域中之透射率為30%以下。該透射率若在30%以下，則在使用本發明的抗反射薄膜於PDP的正面板時，可抑制由該PDP所產生的近紅外線所導致的周邊電子機器(例如無線麥克風、使用近紅外線遙控裝置的視頻裝置等)之誤動作。上述透射率較佳為20%以下。

又，在波長500~700nm的反射率通常係3%以下，全光線透射率通常係40%以上，較佳50%以上。又，霧值通常係低於3%，於硬塗層含有防眩性賦予劑時，係3~30%左右。

於本發明的抗反射薄膜中，可在上述(B)低折射率層上設置防污塗層。該防污塗層一般可藉由使用習知的方法，例如桿塗法、刀塗法、輥塗法、刮板塗覆法、口模式塗覆法、凹槽輥塗覆法等來塗覆在(B)低折射率層上，以形成塗膜，藉由乾燥處理而形成。

該防污塗層之厚度通常係1~10nm，較佳在3~8nm的範圍內。為1~10奈米、而以3~8奈米之範圍為佳。藉由設置該防污塗層，則所得之抗反射薄膜的表面光滑性變佳，而且不容易受到污染。

如此作可得到一種抗反射薄膜，其具有近紅外線吸收性能和抗反射性能，而且耐擦傷性優良，層構造簡單故成本低，特別適用於PDP。如此作，可得到兼具近紅外線吸收性能和抗反射性能、而且耐擦傷性、層構造簡單故成本低的抗反射薄膜。該抗反射薄膜特別適用於PDP的正面板。

於本發明的抗反射薄膜中，可在與基材薄膜的硬塗層相反側之面，形成黏著劑層，以用於貼附於正面板的被附體。作為構成該黏著劑層的黏著劑，係光學用途者，例如以丙烯酸系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、有機聚矽氧系黏著劑為佳。該黏著劑層之厚度通常係在5~50μm的範圍內。於該黏著劑層中，為了修正顯示裝置的發光色之色調，亦可含有染料或顏料。

再者，於該黏著劑層之上，可設置剝離薄膜。作為該剝離薄膜，例如可為在玻璃紙、塗料紙、積層紙等的紙及各種塑膠薄膜上塗有聚矽氧樹脂等的剝離劑者等。該剝離薄膜之厚度並沒有特別的限制，但通常為20~150μm左右。

本發明的抗反射薄膜可使用於顯示器，特別是當作PDP用的抗反射薄膜。

實施例

以下藉由實施例來更詳細説明本發明，惟本發明不受此等例子所限定。

而且，各例子所得到的抗反射薄膜之物性係依照以下所示的方法來測定。

(1)波長500nm、600nm及700nm的反射率藉由分光光度計[(股)島津製作所製「UV－3101PC」]來測定波長500nm、600nm及700nm的反射率。

(2)波長850~1000nm的分光透射率藉由分光光度計[(股)島津製作所製「UV－3101PC」]來測定波長850nm至1000nm的分光透射率(以下稱為透射率)。表1中顯示波長850nm、900nm及1000nm的測定值。

(3)全光線透射率及霧值使用日本電色工業社製霧度計「NDH 2000」，依照JIS K 6714來測定。

(4)60°光澤值使用日本電色工業社製光澤度計「VG 2000」，依照JIS K 7105來測定。

(5)耐擦傷性使用鋼絲棉#0000，在荷重9.8×10^－ ³ N/mm² 下來回五次擦拭後目視觀察，以下述之判定基準來評估。

○：無造成傷痕。

×：造成傷痕。

實施例1

(1)A液(硬塗層形成用塗布液)的調製於100重量份當作活性能量線硬化性化合物的多官能丙烯酸酯混合物[荒川化學(股)製,商品名「Beamset 577CB」,固體成分濃度100%]中，加入2重量份的光聚合引發劑[汽巴特殊化學品公司製,商品名「Irgacure 907」]，接著混合300重量份的近紅外線吸收劑[住友金屬鑛山(股)製,商品名「YMF－01」,含銫的氧化鎢(相對於鎢，含有33莫耳%銫)含量10重量%之懸浮液,全固體成分濃度14重量%]，然後以使全體固體成分濃度成為30重量%的方式，用甲基異丁基酮(MIBK)稀釋，以調製A液(硬塗層形成用塗布液)。

(2)B液(低折射率層形成用塗布液)的調製於100重量多官能丙烯酸酯混合物[荒川化學(股)製,商品名「Beamset577CB」,固體成分濃度100%]中，加入5重量份的光聚合引發劑[汽巴特殊化學品公司製,商品名「Irgacure 907」]，接著混合1200重量份多孔性矽石粒子的甲基異丁基酮(MIBK)分散體[觸媒化成工業(股)製,商品名「ELCOM RT－1002SIV」,固體成分濃度21重量%,多孔性矽石粒子：比重1.8,折射率1.30,平均粒徑60nm]，然後以全體固體成分濃度成為2重量%的方式，用MIBK稀釋，以調製(B)液(低折射率層形成用塗布液)。

(3)抗反射薄膜的作製於當作基材薄膜的厚度100μm之兩面易黏著處理聚對酞酸乙二酯(PET)薄膜[東洋紡績(股)製,商品名「A4300」]的表面上，以美亞桿No.16來塗佈上述(1)所得到的A液，以使硬化後的厚度成為6μm。接著，在90℃乾燥1分鐘後，以光量100mJ/cm² 照射紫外線，使硬化成半硬化狀態。

接著，在該半硬化面上，以美亞桿No.4來塗佈上述(2)所得到的B液，使硬化後的厚度成為100nm。然後，在80℃乾燥1分鐘後，於氮氣環境下(氧濃度0.5容量%)，以光量500mJ/cm² 照射紫外線，使完全硬化，藉由在PET薄膜上依順序形成折射率1.54的近紅外線吸收性硬塗層及折射率1.38的低折射率層，以製作抗反射薄膜。

表1中顯示如此所製作的抗反射薄膜之物性。該抗反射薄膜在波長850~1000nm的全區域中之透射率係30%以下。

再者，各塗層的厚度係藉由松下Intertechno公司製的「Filmetrics F－20」來測定，折射率係藉由Atago(股)製阿貝折射計(Na光渡,波長：約590nm)來測定。(以下同樣)

實施例2

除了將實施例1中的A液(硬塗層形成用塗布液)之調製改變成下述者以外，係與實施例1同樣地實施。

<A液的調製>於100重量份多官能丙烯酸酯混合物[荒川化學(股)製,商品名「Beamset 577CB」,固體成分濃度100%]中，加入2重量份的光聚合引發劑[汽巴特殊化學品公司製,商品名「Irgacure 907」]，接著混合1.3重量份的近紅外線吸收劑[(股)日本觸媒製,商品名「Excolor IR－12」,酞花青系,固體成分濃度100%(粉體)]、0.75重量份的近紅外線吸收劑[(股)日本觸媒製,商品名「Excolor IR－14」,酞花青系,固體成分濃度100%(粉體)]、0.65重量份的近紅外線吸收劑[(股)日本觸媒製,商品名「Excolor IR－906B」,酞花青系,固體成分濃度100%(粉體)]、3.3重量份的近紅外線吸收劑[(股)日本觸媒製,商品名「Excolor IR－910B」,酞花青系,固體成分濃度100%(粉體)]，然後使全體固體成分濃度成為30重量%的方式，用MIBK稀釋，以調製A液(硬塗層形成用塗布液)。

如此製作的抗反射薄膜之物性。該抗反射薄膜在波長850~1000nm的全區域中之透射率係30%以下。而且，硬塗層的折射率係1.53。

實施例3

除了將實施例1中A液(硬塗層形成用塗布液)的調製改變為下述者以外，係與實施例1同樣地實施。

<A液的調製>於100重量份的多官能丙烯酸酯混合物[荒川化學(股)製,商品名「Beamset577CB」,固體成分濃度100%]中，加入2重量份的光聚合引發劑[汽巴特殊化學品公司製,商品名「Irgacure 907」]，接著混合300重量份的近紅外線吸收劑[住友金屬鑛山(股)製,商品名「YMF－01」,含銫的氧化鎢(相對於鎢，含有33莫耳%銫)含量10重量%之懸浮液,全固體成分濃度14重量%]，再添加5重量份當作防眩性賦予劑的矽石粒子[東曹．矽石(股)製,商品名「Nipseal E－200」,平均粒徑3μm]，然後以使全體固體成分濃度成為30重量%的方式，用MIBK稀釋，以調製A液(硬塗層形成用塗布液)。

表1中顯示如此製作的抗反射薄膜之物性。該抗反射薄膜在波長850~1000nm的全區域中之透射率係30%以下。而且，硬塗層的折射率係1.53。

比較例1

除了於實施例1(1)之A液的調製中不使用近紅外線吸收劑以外，與實施例1同樣地實施，以製作抗反射薄膜。硬塗層的折射率：1.53。

表1中顯示如此所製作的抗反射薄膜之物性。

比較例2

除了於實施例1(1)之A液的調製中將光聚合引發劑「Irgacure 907」的使用量改變為5重量份以外，係與實施例1(1)同樣地作，以調製硬塗層形成用塗布液。

其次，於作為基材薄膜的厚度100μm的PET薄膜「A4300」(如前述)之面，用美亞桿No.16來塗布上述硬塗層形成用塗布液，以使硬化後的厚度成為6μm。接著，在90℃乾燥1分鐘後，以光量250mJ/cm² 照射紫外線，而使完全硬化，以製作硬塗膜。

表1中顯示如此所製作的硬塗膜之物性。

由表1中可知，本發明的抗反射薄膜(實施例1~3)係皆抗反射性優良，而且近紅外線吸收性優良、耐擦傷性亦優良。又，就實施例3而言，由於在硬塗層含有防眩性賦予劑，故60°光澤值成為58。

相對地，就比較例1而言，由於在硬塗層中不含有近紅外線吸收劑，故不能賦予近紅外線吸收性能力。又，就比較例2而言，由於沒有設置低折射率層，故抗反射性差。

產業上的利用可能性

本發明的抗反射薄膜具有近紅外線吸收性能力和抗反射性能力，而耐擦傷性優良，層構造簡單故成本低，特別適用作為PDP。

Claims

一種抗反射薄膜，其特徵為由在基材薄膜的一面上依順序積層(A)含有藉由活性能量線照射硬化的硬化樹脂、和選自由有機系近紅外線吸收劑及氧化鎢系化合物所組成族群的至少1種近紅外線吸收劑的厚度2~20μm之硬塗層，及(B)含有藉由活性能量線照射硬化的硬化樹脂且折射率1.43以下、厚度50~200nm的低折射率層而成，且為至少在波長850~1000nm的全區域中之透射率為30%以下的抗反射薄膜。
如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該有機系近紅外線吸收劑係選自由花青系化合物、方形鎓系化合物、硫醇鎳錯鹽系化合物、萘花青系化合物、酞花青系化合物、三烯丙基甲烷系化合物、萘醌系化合物、蒽醌系化合物、N,N,N’,N’-肆(對二正丁基胺基苯基)-對苯二胺鎓的過氯酸鹽、苯二胺鎓的氯鹽、苯二胺鎓的六氟銻酸塩、苯二胺鎓的氟化硼酸鹽、苯二胺鎓的氟鹽、及苯二胺鎓的過氯酸鹽等的胺基化合物、銅化合物與雙硫脲化合物、磷化合物與銅化合物、及磷酸酯化合物與銅化合物之反應所得到的磷酸酯銅化合物所組成族群的至少1種化合物。
如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該有機系近紅外線吸收劑係選自由硫醇鎳錯鹽系化合物及酞花青系化合物所組成族群的至少1種化合物。
如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該氧化鎢系化合物係含銫的氧化鎢。
如申請專利範圍第4項之抗反射薄膜，其中該含銫的氧化鎢之粒徑為0.5μm以下。
如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中(A)層的折射率為1.49~1.55。
如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中(B)層的折射率為1.30~1.40。
如申請專利範圍第1至7項中任一項之抗反射薄膜，其中該有機系近紅外線吸收劑在(A)層中的含量為1~10重量%。
如申請專利範圍第1至7項中任一項之抗反射薄膜，其中該氧化鎢系化合物在(A)層中的含量為10~60重量%。
如申請專利範圍第1至7項中任一項之抗反射薄膜，其中(A)層中更含有選自由有機填料及無機填料所組成族群的至少1種填料。
如申請專利範圍第10項之抗反射薄膜，其中該有機填料係選自由蜜胺系樹脂粒子、丙烯酸系樹脂粒子、丙烯酸-苯乙烯系共聚物粒子、聚碳酸酯系粒子、聚乙烯系粒子、聚苯乙烯系粒子、及苯并胍胺系樹脂粒子所組成族群的至少1種填料。
如申請專利範圍第10項之抗反射薄膜，其中該有機填料的平均粒徑為2~10μm。
如申請專利範圍第10項之抗反射薄膜，其中該無機填料為平均粒徑0.5~10μm的矽石粒子、或平均粒徑0.5~10μm的膠體狀矽石粒子的胺基化合物之聚集物。
如申請專利範圍第10項之抗反射薄膜，其中(A)層中的該填料之含量為3~8重量%。
如申請專利範圍第1至7項中任一項之抗反射薄膜，其中(B)層包含30~80重量%的多孔性矽石。
如申請專利範圍第10項之抗反射薄膜，其中(B)層包含30~80重量%的多孔性矽石。
如申請專利範圍第15項之抗反射薄膜，其中該多孔性矽石為比重1.7~1.9、折射率1.25~1.36、平均粒徑20~100nm之多孔性矽石。
如申請專利範圍第1至7項中任一項之抗反射薄膜，其中在基材薄膜的另一面上具有厚度5~50μm的黏著劑層。
如申請專利範圍第10項之抗反射薄膜，其中在基材薄膜的另一面上具有厚度5~50μm的黏著劑層。
如申請專利範圍第15項之抗反射薄膜，其中在基材薄膜的另一面上具有厚度5~50μm的黏著劑層。
如申請專利範圍第16項之抗反射薄膜，其中在基材薄膜的另一面上具有厚度5~50μm的黏著劑層。
如申請專利範圍第1至7項中任一項之抗反射薄膜，其係用於電漿顯示器。
如申請專利範圍第10項之抗反射薄膜，其係用於電漿顯示器。
如申請專利範圍第15項之抗反射薄膜，其係用於電漿顯示器。
如申請專利範圍第16項之抗反射薄膜，其係用於電漿顯示器。
如申請專利範圍第18項之抗反射薄膜，其係用於電漿顯示器。