CN101107543A - 防反射薄膜 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种防反射薄膜，其在基材薄膜的至少一面上，依次层叠(A)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂和含有近红外线吸收剂、厚度为2～20μm的涂层、和(B)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂、折射率为1.43以下、厚度为50～200nm的低折射率层，且至少在波长850～1000nm的全部区域中透过率为30％以下。上述薄膜具有近红外线吸收性能和防反射性能，且耐擦伤性优异，尤其是可以适合用作PDP用，且层结构简单，可以通过湿式处理法低成本地制造。

Description

防反射薄膜
技术领域
本发明涉及防反射薄膜，更具体地说，涉及具有近红外线吸收性能和防反射性能，且耐擦伤性优异，层结构简单，成本低，尤其是适用作等离子体显示器的防反射薄膜。
背景技术
在等离子体显示器(PDP)、阴极射线管(CRT)、液晶显示器(LCD)等图像显示装置中，从外部向画面照射光，该光产生反射而难以观看显示图像，尤其是近年来，伴随着显示器的大型化，解决上述问题变成越来越重要的课题。
为了解决这样的问题，迄今为止，对各种显示器进行各种防反射处理和防眩光处理。作为其中一种方法，是在各种显示器上使用防反射薄膜。
该防反射薄膜目前使用通过蒸镀或溅射等干式处理方法，从而在基材薄膜上将低折射率的物质(MgF2)薄膜化的方法和将折射率高的物质[ITO(掺杂锡的氧化铟)、TiO2等]与折射率低的物质(MgF2、SiO2等)交互叠层的方法等制备。然而，通过这样的干式处理方法制备的防反射薄膜存在无法避免制造成本提高的问题。
因此，近年来，尝试了通过湿式处理法，即湿式涂布法制备防反射薄膜。然而，在该通过湿式处理法制备的防反射薄膜中，与上述通过干式处理制备的防反射薄膜相比，产生表面的耐擦伤性恶化这样的问题。
因此，为了解决湿式处理法中的上述问题，使用电离放射线固化型树脂组合物形成固化层(硬涂层)。公开了例如在基材薄膜上，(1)依次层叠包含(A)含有通过电离放射线形成的固化树脂、厚度为2～20μm的硬涂层、(B)含有通过电离放射线形成的固化树脂和包括掺杂锑的氧化锡的至少2种金属氧化物、折射率在1.65～1.80的范围内、厚度为60～160nm的高折射率层、和(C)含有硅氧烷类聚合物、折射率在1.37～1.47的范围内、厚度为80～180nm的低折射率层的光学用薄膜(参见例如专利文献1)、(2)依次层叠(A)含有金属氧化物和通过热或电离放射线形成的固化物、厚度为2～20μm的硬涂层和(B)含有多孔性二氧化硅和聚硅氧烷类聚合物、折射率在1.30～1.45的范围内、厚度为40～200nm的低折射率层的光学用薄膜(参见例如专利文献2)等。
这些光学用薄膜是能有效防止图像显示元件表面的光反射，且耐擦伤性优异的防反射薄膜。
可是，PDP为对通过电极间的等离子体放电封入的氙气分子进行激励，通过产生的紫外线激励荧光物质，产生可见光区域的光而显示图像的装置。在该PDP中，由于发光利用了等离子体放电，因此频率数波段为30～130MHz左右的不必要的电磁波会向外部泄漏，因此，为了不对其他机器(例如信息处理装置等)产生坏的影响，要求极力抑制电磁波。
此外，在PDP中，已知会产生近红外线。该近红外线恐怕会对无绳电话、使用近红外线遥控装置的录像机等周边的电子机器产生影响，妨害正常的工作，要求极力遮断该近红外线。
此外，在PDP中，显示面是平面的，因此在有外光进入时，在宽范围内反射的光会同时进入眼中，有时会难以看见画面，必须防止外光反射。此外，以规定的透过率透过PDP的发光，进行良好的图像显示和发光颜色的色调补正也是重要的。
在PDP中，针对这些要求，通常在显示画面中设置具有(1)电磁波遮断薄膜、(2)近红外线吸收薄膜和(3)防反射薄膜的至少3张功能性薄膜的前面板，使得该防反射薄膜位于最表面(观察者侧)(参见例如专利文献3)。在该情况下，必须分别制备至少3张功能性薄膜，将它们贴合，因而无法避免成本提高。
对此，近年来，从成本降低的方面出发，开发了通过在最表面的防反射薄膜中，在其基材与防反射层相反侧的面上设置近红外线吸收层，从而在1张薄膜兼有防反射性能和近红外线吸收性能的功能性薄膜。在制造这样功能性薄膜的情况下，包括(1)在防反射薄膜的内面上形成近红外线吸收层和(2)在近红外线吸收薄膜的内面形成防反射层的2种方法，但在任一情况下均会产生薄膜的损失，因此成本降低的效果减小。
专利文献1：日本特开2002-341103号公报
专利文献2：日本特开2003-139908号公报
专利文献3：日本特开平11-126024号公报
发明内容
本发明基于这样的事情，目的是提供一种具有近红外线吸收性能和防反射性能，且耐擦伤性优异，层结构简单，成本低，尤其是适用作PDP的通过湿式处理法制备的防反射薄膜。
本发明人们对开发具有上述优异性质的防反射薄膜进行了精心的研究，结果发现通过在根据湿式处理法获得的防反射薄膜中必需的硬涂层中含有近红外线吸收剂，使得所得防反射薄膜在至少波长850～1000nm的全部区域中的透过率为某个值以下，从而能实现该目的，基于该认识而完成本发明。
即，本发明提供：
(1)一种防反射薄膜，其特征在于在基材薄膜的一面上，依次层叠(A)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂和近红外线吸收剂的厚度为2～20μm的涂层、和(B)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂、折射率为1.43以下、厚度为50～200nm的低折射率层，且至少在波长850～1000nm的全部区域中透过率为30％以下；
(2)如上述(1)所述的防反射薄膜，其中，(A)层中的近红外线吸收剂是氧化钨类化合物；
(3)如上述(2)所述的防反射薄膜，其中，氧化钨类化合物是含铯氧化钨；
(4)如上述(1)～(3)任一项所述的防反射薄膜，其中，在(A)层中还含有从有机填料和无机填料构成的群组中选出的至少一种的填料；
(5)如上述(1)～(4)任一项所述的防反射薄膜，其中，(B)层包含30～80重量％多孔性二氧化硅；
(6)如上述(1)～(5)任一项所述的防反射薄膜，其中，在基材薄膜的另一面具有厚度5～50μm的粘合剂层；和
(7)用于等离子体显示器的上述(1)～(6)任一项所述的防反射薄膜。
根据本发明，可以提供具有近红外线吸收性能和防反射性能，且耐擦伤性优异、层结构简单、成本低，尤其是适用作PDP的通过湿式处理法制备的防反射薄膜。
具体实施方式
本发明的防反射薄膜通过湿式处理法，在基材薄膜的一面上具有依次层叠(A)含有近红外线吸收剂的硬涂层、和(B)低折射率层的结构。
对本发明防反射薄膜中的基材薄膜没有特别的限制，可以从作为现有防反射薄膜的基材公知的塑料薄膜中适当选择使用。作为这样的塑料薄膜，可以列举例如聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚对萘二甲酸乙二酯等聚酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、赛璐玢、二乙酰基纤维素薄膜、三乙酰基纤维素薄膜、乙酰基纤维素丁酸酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚砜薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚砜薄膜、聚醚酰亚胺薄膜、聚酰亚胺薄膜、氟树脂薄膜、聚酰胺薄膜、丙烯酸树脂薄膜、降冰片烯类树脂薄膜、环烯烃树脂薄膜等。
这些基材薄膜可以是透明、半透明的任一种，或者可以是着色的，也可以是无着色的，可以根据用途适当选择。
对这些基材薄膜的厚度没有特别的限制，可以适当选定，通常在15～250μm，优选在30～200μm的范围内。此外，该基材薄膜为了提高与在该表面上设置层的粘合性，根据期望，在一面或两面上通过氧化法或凹凸化法进行表面处理。作为上述氧化法，可以列举电晕放电处理、铬酸处理(湿式)、火焰处理、热风处理、臭氧·紫外线照射处理等。此外，作为凹凸化法，可以列举例如喷砂法、溶剂处理法等。这些表面处理法可以根据基材薄膜的种类适当选择，通常，从效果和操作性等方面出发，优选使用电晕放电处理法。此外，可以使用在一面或两面上进行底漆处理。
在本发明的防反射薄膜中，在上述基材薄膜的至少一面上，首先设置(A)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂和近红外线吸收剂的硬涂层。
该包含通过活性能量线照射形成的固化树脂和近红外线吸收剂的硬涂层例如可以将含有活性能量线固化性化合物、上述防近红外线吸收剂和根据期望的光聚合引发剂等的硬涂层形成用涂布液涂布在基材薄膜的一面上而形成涂膜，照射活性能量线以固化该涂膜，从而形成。
其中，所谓的活性能量线固化性化合物是指通过照射在电磁波或带电粒子线中具有能量量子的射线，即照射紫外线或电子线等，从而交联固化的化合物。
作为这样的活性能量线固化性化合物，可以列举例如活性能量线聚合性预聚物和/或活性能量线聚合性单体。在上述活性能量线聚合性预聚物中包括自由基聚合型和阳离子聚合型，作为自由基聚合型的活性能量线聚合性预聚物，可以列举例如聚酯丙烯酸酯类、环氧丙烯酸酯类、聚氨酯丙烯酸酯类、多元醇丙烯酸酯类等。其中，作为聚酯丙烯酸酯类预聚物，例如可以通过在通过多元羧酸和多元醇缩合获得的在两末端具有羟基的聚酯低聚物的羟基通过(甲基)丙烯酸酯化，或将在多元羧酸中加成环氧烷基获得的低聚物的末端羟基通过(甲基)丙烯酸酯化获得。
环氧丙烯酸类预聚物例如可以在较低分子量的双酚型环氧树脂或酚醛型环氧树脂的环氧乙烷环内，通过反应(甲基)丙烯酸酯化而获得。聚氨酯丙烯酸酯类预聚物例如可以将聚醚多元醇或聚酯多元醇与聚异氰酸酯反应而获得的聚氨酯通过(甲基)丙烯酸酯化而获得。此外，多元醇丙烯酸酯类预聚物可以将聚醚多元醇的羟基通过(甲基)丙烯酸酯化而获得。这些活性能量线聚合性预聚物可以使用1种，也可以将2种以上组合使用。
另一方面，作为阳离子聚合型活性能量线聚合型预聚物，通常使用环氧类树脂。作为该环氧类树脂，可以列举例如在双酚树脂或酚醛树脂等多元酚类通过表氯醇等而环氧化的化合物、将直链状烯烃化合物或环状烯烃化合物通过过氧化物氧化获得的化合物等。
作为活性能量线聚合性聚合物，可以列举例如1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二(甲基)丙烯酸酯、羟基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二环戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性的磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化环己基二(甲基)丙烯酸酯、异氰尿酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯氧基乙基)异氰尿酸酯、丙酸改性的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等多官能团丙烯酸酯。这些活性能量线聚合性单体可以使用1种，也可以将2种以上组合使用，此外，还可以联用上述活性能量线聚合性预聚物。
作为根据期望使用的光聚合引发剂，对于自由基聚合型的活性能量线聚合性预聚物或活性能量线聚合性单体，可以列举例如苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻正丁基醚、苯偶姻异丁基醚、苯乙酮、二甲基氨基苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲基硫基)苯基]-2-吗啉基丙-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-2-(羟基-2-丙基)酮、二苯酮、对苯基二苯酮、4，4’-二乙基氨基二苯酮、二氯二苯酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、苄基二甲基缩酮、苯乙酮二甲基缩酮、对二甲基胺苯甲酸酯等。此外，作为阳离子聚合型活性能量线聚合性预聚物的光聚合引发剂，可以列举例如由芳香族锍离子、芳香族氧代锍离子、芳香族碘离子等与四氟硼酸盐、六氟磷酸盐、六氟锑酸盐、六氟砷酸盐等阴离子构成的化合物。这些物质可以使用1种，也可以将2种以上组合使用，此外，其混合量相对于100重量份上述活性能量线聚合性预聚物和/或活性能量线聚合性单体，通常在0.2～10重量份的范围内选择。
另一方面，对于在硬涂层中所含的近红外线吸收剂，只要是能获得至少在波长850～1000nm的全部区域中透过率为30％以下的防反射薄膜即可，没有特别的限制，可以适当选择使用各种物质。
该近红外线吸收剂分为有机类近红外线吸收剂和无机类近红外线吸收剂。其中，作为有机类近红外线吸收剂，可以列举例如花青苷类化合物、角鲨烯类化合物、硫醇镍络盐类化合物、萘花青类化合物、酞菁类化合物、三烯丙基甲烷类化合物、萘醌类化合物、蒽醌类化合物、以及N，N，N’，N’-四(对二正丁基氨基苯基)-对亚苯基二铵的过氯酸盐、亚苯基二铵的氯酸盐、亚苯基二铵的六氟锑酸盐、亚苯基二氟化铵硼酸盐、亚苯基二氟化铵盐、亚苯基二铵的过氯酸盐等氨基化合物、通过铜化合物与双硫脲化合物、磷化合物与铜化合物、磷酸酯化合物与铜化合物反应获得的磷酸酯铜化合物等。
在这些物质中，优选硫醇镍络盐类化合物(日本特开平9-230134号公报等)和酞菁类化合物，尤其是日本特开2000-26748号公报等中公开的含氟酞菁化合物在有机类近红外线吸收剂中，可见光线透过率高，且耐热性、耐光性、耐气候性等特性优异，因此是优选的。
此外，作为无机类近红外线吸收剂，可以列举例如氧化钨类化合物、氧化钛、氧化锆、氧化钽、氧化铌、氧化锌、氧化铟、掺杂锡的氧化铟(ITO)、氧化锡、掺杂锑的氧化锡(ATO)、氧化铯、硫化锌等。在这些物质中，由于近红外线吸收率高，且可见光线的透过率高，因此优选氧化钨类化合物，特别优选含铯氧化钨。
通常，在对有机类近红外线吸收剂和无机类近红外线吸收剂进行比较的情况下，近红外线的吸收能力有机类的优异，对于耐光性和耐气候性，无机类的非常优异。此外，有机类的吸收剂还具有容易着色的缺点，从实用性的观点来看，优选无机类近红外线吸收剂，特别优选使用含铯氧化钨。为了在可见光区域中的吸收较少，且形成透明的涂层，该无机类红外线吸收剂有利的是具有优选为0.5μm以下，更优选为0.1μm以下的粒径。
在本发明中，有机类近红外线吸收剂可以使用1种，也可以将2种以上组合使用，此外，无机类近红外线吸收剂可以使用1种，也可以将2种以上组合使用。此外，还可以适当组合1种以上有机类近红外线吸收剂和1种以上无机类近红外线吸收剂。
另外，即使在单独使用近红外线吸收剂的情况下，存在例如在波长850～1000nm的区域中透过率超过30％的部分，只要能通过将2种以上联用，从而使波长850～1000nm的全部区域中的透过率为30％以下即可。
该近红外线吸收剂的使用量取决于硬涂层的膜厚，在使用有机类近红外线吸收剂的情况下，硬涂层中的含量通常为1～10重量％，优选为3～7重量％。另一方面，在使用无机类近红外线吸收剂的情况下，硬涂层中的含量通常为10～60重量％，优选为20～40重量％。
在本发明中，在(A)层的硬涂层中，作为防眩光性赋予剂，含有选自有机填料和无机填料至少1种的填料。作为有机填料，可以列举例如蜜胺类树脂颗粒、丙烯酸酯类树脂颗粒、丙烯酸酯-苯乙烯类共聚物颗粒、聚碳酸酯颗粒、聚乙烯类颗粒、聚苯乙烯类颗粒、苯并胍胺类树脂颗粒等。这些有机填料的平均粒径通常为2～10μm左右。
此外，作为无机填料，是由平均粒径为0.5～10μm左右的二氧化硅颗粒或凝胶状二氧化硅颗粒通过胺化合物形成的凝集物，可以列举平均粒径为0.5～10μm左右的填料。
这些防眩光性赋予剂可以单独使用1种，也可以将2种以上组合使用，其在硬涂层中的含量通常为2～15重量％，优选为3～8重量％。通过在硬涂层中含有防眩光性赋予剂，能使本发明防反射薄膜的60°光泽度值通常为30～120。
本发明中使用的该硬涂层形成用涂布液根据需要，可以通过在适当的溶剂中，分别按照规定的比例加入上述活性能量线固化性化合物、近红外线吸收剂、根据期望使用的上述光聚合引发剂、防眩光性赋予剂、以及各种添加剂，例如防氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、均化剂、消泡剂等，溶解或分散而制备。
作为此时使用的溶剂，可以列举例如己烷、庚烷、环己烷等脂肪族烃、甲苯、二甲苯等芳香族烃、二氯甲烷、二氯乙烷等卤化烃、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、1-甲氧基-2-丙醇等醇、丙酮、甲乙酮、2-庚酮、甲基异丁基酮、异佛尔酮等酮、  乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯、乙基溶纤剂等溶纤剂类溶剂等。
作为由此制备的涂布液的浓度、粘度，只要是可以涂布的浓度、粘度即可，没有特别的限制，可以根据状况适当选择。
然后，在基材薄膜的至少一面上，使用目前公知的方法，例如棒涂法、刀涂法、辊涂法、刮片涂布法、模涂布法、照相凹版涂布法等，涂布上述涂布液而形成涂膜，干燥后，在其中照射活性能量线以固化该涂膜，从而形成近红外线吸收性硬涂层。
作为活性能量线，可以列举例如紫外线或电子线。上述紫外线用高压水银灯、熔合H灯、氙灯等获得。另一方面，电子线通过电子线加速器等获得。在该活性能量线中，特别优选紫外线。另外，在使用电子线的情况下，可以无需添加聚合引发剂而获得固化膜。
在本发明中，(A)硬涂层厚度在2～20μm的范围内。该厚度不足2μm的话，恐怕无法充分发挥所得防反射薄膜的耐擦伤性，此外，如果超过20μm，则会产生裂缝。该硬涂层的优选厚度在3～15μm的范围内，特别优选在5～10μm的范围内。
在本发明的光学用薄膜中，该(A)硬涂层的折射率通常在1.47～1.60，优选在1.49～1.55的范围内。
在本发明的防反射薄膜中，在上述硬涂层中设置(B)包含通过活性能量线形成的固化树脂和多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层。
该包含通过照射活性能量线形成的固化树脂和多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层例如可以将包含活性能量线固化性化合物、多孔性二氧化硅颗粒和根据期望的光聚合引发剂的低折射率层形成用涂布液在(A)硬涂层上涂布而形成涂膜，照射活性能量线使该涂膜固化，从而形成。
对于上述活性能量线固化性化合物和根据期望使用的光聚合引发剂，如在上述(A)硬涂层的说明中所示。
作为该(B)层包含的多孔性二氧化硅颗粒，优选使用比重为1.7～1.9，折射率为1.25～1.36和平均粒径在20～100nm的范围内的物质。通过使用具有该性状的多孔性二氧化硅颗粒，能获得防反射性能优异的单层型防反射薄膜。
在本发明中，该(B)层中的多孔性二氧化硅颗粒的含量优选在30～80重量％的范围内选择。只要该多孔性二氧化硅颗粒的含量在上述范围内，则该(B)层为具有期望低折射率的层，所得防反射薄膜防反射性优异。该多孔性二氧化硅颗粒的优选含量为50～80重量％，特别优选在60～75重量％的范围内。
该(B)层的厚度为50～200μm，折射率为1.43以下，优选在1.30～1.42的范围内。只要该(B)层的厚度和折射率在上述范围内，则能获得防反射性能、耐擦伤性优异的防反射薄膜。该(B)层的厚度优选70～130nm，折射率优选在1.35～1.40的范围内。
本发明中使用的该低折射率层形成用涂布液根据需要，可以通过在适当的溶剂中，分别按照规定的比例加入上述活性能量线固化性化合物、多孔性二氧化硅颗粒、根据期望使用的上述光聚合引发剂、以及各种添加剂，例如防氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、均化剂、消泡剂等，溶解或分散而制备。
对于此时使用的溶剂，如在上述硬涂层形成用涂布液的说明中所示。
作为由此制备的涂布液的浓度、粘度，只要是可以涂布的浓度、粘度即可，没有特别的限制，可以根据状况适当选择。
在(A)硬涂层上，使用目前公知的方法，例如棒涂法、刀涂法、辊涂法、刮片涂布法、模涂布法、照相凹版涂布法等，涂布该涂布液而形成涂膜，干燥后，在其中照射活性能量线以固化该涂膜，从而形成(B)低折射率层。
对于活性能量线，如在上述硬涂层的说明中所示。
在本发明中，上述(A)硬涂层和(B)低折射率层的形成有利的是按照以下所示的方法进行。
首先，在基材薄膜的一面上涂布硬涂层形成用涂布液而形成涂膜，照射活性能量线以固化至半固化状态。此时，在照射紫外线的情况下，光量通常为50～150mJ/cm2左右。然后，在由此形成的半固化状态的固化层上，涂布低折射率层形成用涂布液而形成涂膜，充分照射活性能量线，与上述半固化状态的固化层一起完全固化。此时，在照射紫外线的情况下，光量通常为400～1000mJ/cm2左右。另外，在将(A)硬涂层和/或低折射率层完全固化时，为了不会由于氧化妨害固化，可以在氮气等的氛围下，照射活性能量线。在该情况下，氧气浓度可以较低，优选为2容量％以下。
由此，在基材薄膜上，依次形成(A)层与(B)层间粘合性优异的(A)近红外线吸收性硬涂层和(B)低折射率层。
在由此制备的本发明的防反射薄膜中，至少在波长850～1000nm的全部区域中的透过率必须为30％以下。只要该透过率为30％以下，则在PDP的前面板上使用本发明防反射薄膜的情况下，能抑制由于由该PDP产生的近红外线对周边电子机器(无绳电话、使用近红外线遥控装置的录像机等)的误操作。上述透过率优选为20％以下。
此外，波长500～700nm中的反射率通常为3％以下，全部光线透过率通常为40％以上，优选为50％以上。此外，雾度值通常不足3％，在硬涂层中含有防眩光性赋予剂的情况下，为3～30％左右。
在本发明的防反射薄膜中，可以在上述(B)低折射率层上设置防污层。该防污层通常是将含氟类树脂的涂布液使用目前公知的方法，例如棒涂法、刀涂法、辊涂法、刮片涂布法、模涂布法、照相凹版涂布法等，涂布在(B)低折射率层上，形成涂膜，进行干燥处理，从而形成。
该防污层的厚度通常在1～10nm，优选在3～8nm的范围内。通过设置该防污层，所得防反射薄膜的表面光滑性良好，且难以污染。
由此，可以提供兼备近红外线吸收性能和防反射性能，且耐擦伤性优异、层结构简单、成本低廉的防反射薄膜。该防反射薄膜特别适合用于PDP的前面板中。
在本发明的防反射薄膜中，可以在基材薄膜与硬涂层相反侧的面上，形成用于在前面板的粘附体上贴附的粘合剂层。作为构成该粘合剂层的粘合剂，优选使用光学用途用的物质，例如丙烯酸酯类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、有机硅类粘合剂。该粘合剂层的厚度通常在5～50μm的范围内。在该粘合剂层中，为了对显示装置的发光颜色进行补正，可以含有染料或颜料。
此外，可以在该粘合剂层上设置剥离薄膜。作为该剥离薄膜，可以列举例如在玻璃纸、铜板纸、层压纸等纸和各种塑料薄膜上涂覆聚硅氧烷树脂等剥离剂的薄膜。对该剥离薄膜的厚度没有特别的限制，通常为20～150μm左右。
本发明的防反射薄膜可以适合用作显示器用，尤其是PDP用的防反射薄膜。
实施例
以下，通过实施例对本发明进行更详细说明，但本发明并不通过这些例子进行限定。
另外，各例中所得防反射薄膜的物性根据以下所示方法测定。
(1)波长500nm、600nm和700nm中的反射率
通过分光光度计[(株)岛津制作所制“UV-3101PC”]，测定波长500nm、600nm和700nm中的反射率。
(2)波长850～1000nm中的分光透过率
通过分光光度计[(株)岛津制作所制“UV-3101PC”]，测定波长850nm～1000nm中的分光透过率(以下称为透过率)。在表1中示出波长850nm、900nm和1000nm的测定值。
(3)全光线透过率和雾度值
使用日本电色工业社制雾度计“NDH 2000”，根据JIS K 6714标准测定。
(4)60°光泽度值
使用日本电色工业社制光泽度计“VG 2000”，根据JIS K 7105标准测定。
(5)耐擦伤性
使用钢丝绒#0000，在负荷9.8×10-3N/mm2下来回擦拭5次后，目视观察，按下述的判定标准进行评价。
○：没有擦伤
×：产生擦伤
实施例1
(1)A液(硬涂层形成用涂布液)的制备
在100重量份作为活性能量线固化性化合物的多官能丙烯酸酯混合物[荒川化学(株)制造，商品名“ビ一ムセット577CB”，固体成分浓度100％]中，添加2重量份光聚合引发剂[チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ社制，商品名“イルガキュア907”]，接着，在混合300重量份近红外线吸收剂[住友金属矿山(株)制造，商品名“YMF-01”、含铯氧化钨(相对于钨，含有33mol％铯)含量10重量％悬浊液，全部固体成分浓度14重量％]后，用甲基异丁基酮(MIBK)稀释，使得全部固体成分浓度为30重量％，制备A液(硬涂层形成用涂布液)。
(2)B液(低折射率形成用涂布液)的制备
在100重量份多官能丙烯酸酯混合物[荒川化学(株)制造，商品名“ビ一ムセット577CB”，固体成分浓度100％]中，添加5重量份光聚合引发剂[チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ社制，商品名“イルガキュア907”]，接着，在混合1200重量份多孔性二氧化硅颗粒的甲基异丁基酮(MIBK)分散体[触媒化成工业(株)制造，商品名“ELCOM RT-1002 SIV”，固体成分浓度21重量％，多孔性二氧化硅颗粒：比重1.8，折射率1.30，平均粒径60nm]后，用MIBK稀释，使得全部固体成分浓度为2重量％，从而制备(B)液(低折射率形成用涂布液)。
(3)防反射薄膜的制作
在作为基材的厚度100μm的两面易粘合处理聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜[东洋纺绩(株)]制造，商品名“A4300”]表面，用マイヤ一バ一No.16涂布上述(1)中获得的A液，使得固化后的厚度为6μm。然后，在90℃下干燥1分钟后，以光量100mJ/cm2照射紫外线，固化至半固化状态。
然后，在该半固化面上，用マイヤ一バ一No.4涂布上述(2)中获得的B液，使得固化后的厚度为100nm。接着，在80℃下干燥1分钟后，在氮气氛围下(氧气浓度0.5容量％)，以光量500mJ/cm2照射紫外线，完全固化，在PET薄膜上，依次形成折射率1.54的近红外线吸收性硬涂层和折射率1.38的低折射率层，从而制备防反射薄膜。
由此制备的防反射薄膜的物性在表1中示出。该防反射薄膜在波长850～1000nm的全部区域中的透过率为30％以下。
另外，各涂层的厚度通过松下インタ一テクノ社制造“フイルメトリクスF-20”测定。折射率通过(株)アタゴ制的アッベ折射计(Na光源、波长：约590nm)测定。(以下相同)
实施例2
除了实施例1中的A液(硬涂层形成用涂布液)的制备按如下改变以外，与实施例1同样实施。
<A液的制备>
在100重量份多官能丙烯酸酯混合物[荒川化学(株)制造，商品名“ビ一ムセット577CB”，固体成分浓度100％]中，添加2重量份光聚合引发剂[チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ社制，商品名“イルガキュア 907”]，接着，在混合1.3重量份近红外线吸收剂[(株)日本触媒制造，商品名“イ一エックスカラ一IR-12”、酞菁类、固体成分浓度100％(粉末)]、0.75重量份近红外线吸收剂[(株)日本触媒制造，商品名“イ一エックスカラ一IR-14”、酞菁类、固体成分浓度100％(粉末)]、0.65重量份近红外线吸收剂[(株)日本触媒制造，商品名“イ一エックスカラ一IR-906B”、酞菁类、固体成分浓度100％(粉末)]、3.3重量份近红外线吸收剂[(株)日本触媒制造，商品名“イ一エックスカラ一IR-910B”、酞菁类、固体成分浓度100％(粉末)]后，用MIBK稀释，使得全部固体成分浓度为30重量％，制备A液(硬涂层形成用涂布液)。
由此制备的防反射薄膜的物性在表1中示出。该防反射薄膜在波长850～1000nm的全部区域中的透过率为30％以下。另外，硬涂层的折射率为1.53。
实施例3
除了实施例1中的A液(硬涂层形成用涂布液)的制备按如下改变以外，与实施例1同样实施。
<A液的制备>
在100重量份多官能丙烯酸酯混合物[荒川化学(株)制造，商品名“ビ一ムセット577CB”，固体成分浓度100％]中，添加2重量份光聚合引发剂[チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ社制，商品名“イルガキュア907”]，接着，在混合300重量份近红外线吸收剂[住友金属矿山(株)制造，商品名“YMF-01”、含铯氧化钨(相对于钨，含有33mol％铯)含量10重量％悬浊液，全部固体成分浓度14重量％]，并添加5重量份作为防眩光性赋予剂的二氧化硅颗粒[東ソ一·シリカ(株)制造，商品名“ニップシ一ルE-200”，平均粒径3μm]后，用MIBK稀释，使得全部固体成分浓度为30重量％，制备A液(硬涂层形成用涂布液)。
由此制备的防反射薄膜的物性在表1中示出。该防反射薄膜在波长850～1000nm的全部区域中的透过率为30％以下。另外，硬涂层的折射率为1.53。
比较例1
除了在实施例1(1)中A液的制造中，不使用近红外线吸收剂以外，与实施例1同样进行，制备防反射薄膜。硬涂层的折射率为1.53。
由此制备的防反射薄膜的物性在表1中示出。
比较例2
除了在实施例1(1)中A液的制造中，将光聚合物引发剂“イルガキュア907”的使用量改变为5重量份以外，与实施例1(1)同样，制备硬涂层形成用涂布液。
然后，作为基材薄膜，在厚度100μm的PET薄膜“A4300”(前述)的表面上，用マイヤ一バ一No.16涂布上述硬涂层形成用涂布液，使得固化后的厚度为6μm。然后，在90℃下干燥1分钟后，以光量250mJ/cm2照射紫外线以完全固化，制备硬涂层薄膜。
由此制备的硬涂层薄膜的物性在表1中示出。
    实施例     比较例
    1     2     3     1     2
  雾度值(％)     1.8     1.7     13.5     0.8     0.8
  全光线透过率(％)     77.4     50.5     75.1     95.2     91.2
  60°光泽度值     -     -     58     -     -
分光透过率(％)  850nm     14     10     14     90     14
 900nm     11     9     11     90     10
 1000nm     9     14     10     90     9
反射率(％)  500nm     2.0     1.9     2.0     1.9     4.9
 600nm     1.7     1.6     1.7     1.7     4.9
 700nm     1.8     1.8     1.8     1.8     5.0
  耐擦伤性     ○     ○     ○     ○     ○
由表1看出，本发明的防反射薄膜(实施例1～3)均防反射性优异，且近红外线吸收性优异，耐擦伤性也优异。此外，实施例3由于在硬涂层中含有防眩光性赋予剂，因此60°光泽度值为58。
与此相对，比较例1由于在硬涂层中不含有近红外线吸收剂，因此没有赋予近红外线吸收性能。此外，比较例2由于没有设置低折射率层，因此防反射性劣化。
工业上的可利用性
本发明的防反射薄膜具有近红外线吸收性能和防反射性能，且耐擦伤性优异，层结构简单且成本低廉，特别适合作为PDP用。

Claims (7)

1.一种防反射薄膜，其特征在于在基材薄膜的一面上，依次层叠(A)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂和近红外线吸收剂的厚度为2～20μm的硬涂层、和(B)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂、折射率为1.43以下、厚度为50～200nm的低折射率层，且至少在波长850～1000nm的全部区域中透过率为30％以下。
2.如权利要求1所述的防反射薄膜，其特征在于，(A)层中的近红外线吸收剂是氧化钨类化合物。
3.如权利要求2所述的防反射薄膜，其特征在于，氧化钨类化合物是含铯氧化钨。
4.如权利要求1～3任一项所述的防反射薄膜，其特征在于，在(A)层中还含有从有机填料和无机填料构成的群组中选出的至少一种的填料。
5.如权利要求1～4任一项所述的防反射薄膜，其特征在于，(B)层包含30～80重量％多孔性二氧化硅。
6.如权利要求1～5任一项所述的防反射薄膜，其特征在于，在基材薄膜的另一面具有厚度5～50μm的粘合剂层。
7.用于等离子体显示器的上述权利要求1～6任一项所述的防反射薄膜。
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