JP2022159380A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022159380A JP2022159380A JP2022124584A JP2022124584A JP2022159380A JP 2022159380 A JP2022159380 A JP 2022159380A JP 2022124584 A JP2022124584 A JP 2022124584A JP 2022124584 A JP2022124584 A JP 2022124584A JP 2022159380 A JP2022159380 A JP 2022159380A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- layer
- index layer
- antireflection
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 393
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 78
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 50
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 108
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 27
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 26
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 26
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 22
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 14
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 13
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 12
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 11
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 Polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- CJQFUKZLNADPJB-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[[4-(3-chlorophenyl)-6-cyclopropyl-1,3,5-triazin-2-yl]amino]phenyl]acetic acid Chemical compound C1=CC(CC(=O)O)=CC=C1NC1=NC(C2CC2)=NC(C=2C=C(Cl)C=CC=2)=N1 CJQFUKZLNADPJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017090 AlO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017107 AlOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003320 CeOx Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229910017947 MgOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910016978 MnOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910018316 SbOx Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006854 SnOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003070 TaOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007667 ZnOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003134 ZrOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Inorganic materials O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002848 norbornenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000012994 photoredox catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical class F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N tetraantimony hexaoxide Chemical compound O1[Sb](O2)O[Sb]3O[Sb]1O[Sb]2O3 YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/023—Optical properties
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1828—Diffraction gratings having means for producing variable diffraction
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【課題】高い赤外線透過率を有するとともに、優れた屈曲性を有する反射防止フィルムを提供する。【解決手段】基材１０と、ハードコート層２０と、密着層３０と、反射防止層４０とをこの順に有し、反射防止層は、密着層３０側から光学厚みが４１ｎｍ～５２ｎｍである第１の高屈折率層４１１と、光学厚みが４１ｎｍ～５３ｎｍである第１の低屈折率層４１２と、光学厚みが３０２ｎｍ～３１３ｎｍである第２の高屈折率層４１３と、光学厚みが１３５ｎｍ～１９６ｎｍである第２の低屈折率層４１４とからなる。【選択図】図１
Description
本技術は、例えば表示装置の前面に設けられる反射防止フィルムに関する。
表示装置の前面には、赤外線に応答する赤外センサ（ＩＲ）センサが設置されることがある。このため、表示装置の前面に設けられる反射防止フィルムは、赤外線の透過率が高いものが望まれている（例えば、特許文献１参照。）。また、近年、折りたためる有機ＥＬディスプレイ、いわゆるフォルダブルディスプレイに対応する優れた屈曲性を有する反射防止フィルムが望まれている。
しかしながら、反射防止フィルムの赤外線の透過率を高くすることと、反射防止フィルムの厚みを極力薄く抑えることを両立することは困難であった。
本技術は、このような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、高い赤外線透過率を有するとともに、優れた屈曲性を有する反射防止フィルムを提供する。
本技術は、基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層とをこの順に有する反射防止フィルムにおいて、前記反射防止層が、前記密着層側から光学厚みが４１ｎｍ～５２ｎｍである第１の高屈折率層と、光学厚みが４１ｎｍ～５３ｎｍである第１の低屈折率層と、光学厚みが３０２ｎｍ～３１３ｎｍである第２の高屈折率層と、光学厚みが１３５ｎｍ～１９６ｎｍである第２の低屈折率層とからなる。
本技術は、基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層とをこの順に有する反射防止フィルムにおいて、前記反射防止層が、前記密着層側から光学厚みが２３ｎｍ～３５ｎｍである第１の高屈折率層と、光学厚みが６６ｎｍ～８１ｎｍである第１の低屈折率層と、光学厚みが９３ｎｍ～１１７ｎｍである第２の高屈折率層と、光学厚みが３７ｎｍ～５２ｎｍである第２の低屈折率層と、光学厚みが７９ｎｍ～８４ｎｍである第３の高屈折率層と、光学厚みが１４６ｎｍ～１５５ｎｍである第３の低屈折率層とからなる。
本技術は、基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層とをこの順に成膜する反射防止フィルムの製造方法において、前記反射防止層が、前記密着層側から光学厚みが４１ｎｍ～５２ｎｍである第１の高屈折率層と、光学厚みが４１ｎｍ～５３ｎｍである第１の低屈折率層と、光学厚みが３０２ｎｍ～３１３ｎｍである第２の高屈折率層と、光学厚みが１３５ｎｍ～１９６ｎｍである第２の低屈折率層とからなる。
本技術は、基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層とをこの順に成膜する反射防止フィルムの製造方法において、前記反射防止層が、前記密着層側から光学厚みが２３ｎｍ～３５ｎｍである第１の高屈折率層と、光学厚みが６６ｎｍ～８１ｎｍである第１の低屈折率層と、光学厚みが９３ｎｍ～１１７ｎｍである第２の高屈折率層と、光学厚みが３７ｎｍ～５２ｎｍである第２の低屈折率層と、光学厚みが７９ｎｍ～８４ｎｍである第３の高屈折率層と、光学厚みが１４６ｎｍ～１５５ｎｍである第３の低屈折率層とからなる。
本技術によれば、反射防止層の層数を４層又は６層とすることにより、高い赤外線透過率を有するとともに、優れた屈曲性を有する反射防止フィルムを得ることができる。
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照しながら下記順序にて詳細に説明する。
１．反射防止フィルム
２．反射防止フィルムの製造方法
３．実施例
１．反射防止フィルム
２．反射防止フィルムの製造方法
３．実施例
＜１．反射防止フィルム＞
図１は、本技術を適用させた反射防止フィルムを模式的に示す断面図である。図１に示すように、反射防止フィルムは、基材１０と、ハードコート層２０と、密着層３０と、反射防止層４０とを有し、また、必要に応じて、防汚層５０を有する。
図１は、本技術を適用させた反射防止フィルムを模式的に示す断面図である。図１に示すように、反射防止フィルムは、基材１０と、ハードコート層２０と、密着層３０と、反射防止層４０とを有し、また、必要に応じて、防汚層５０を有する。
基材１０は、特に限定されないが、具体例としては、ＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）、シクロオレフィンをモノマーとする主鎖に脂環構造をもつ樹脂（ＣＯＰ）、環状オレフィン（例えば、ノルボルネン類）とα－オレフィン（例えばエチレン）との付加重合により得られる樹脂（ＣＯＣ）、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、また、ＰＣとＰＭＭＡ等の２種類のポリマーアロイフィルム、ガラスフィルム（フィルム状ガラス）、透明ポリイミド、ポリアミドなどが挙げられる。基材１０の厚みは、それが適用される光学装置の種類や性能により異なるが、通常、２５～２００μｍ、好ましくは４０～１５０μｍである。
ハードコート層２０は、ＪＩＳＫ５６００－５－４に準拠して測定される引っかき硬度（鉛筆法）試験において「Ｈ」以上の硬度を示すものである。ハードコート層２０の樹脂材料としては、例えば、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、二液混合型樹脂、有機無機ハイブリット系樹脂などが挙げられる。これらの中でも、紫外線照射により効率良くハードコート層２０を形成することができる紫外線硬化型樹脂を用いることが好ましい。
紫外線硬化型樹脂としては、例えば、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、ポリエステル系、アミド系、シリコーン系などが挙げられる。これらの中でも、高い透明性が得られるアクリル系を用いることが好ましい。
アクリル系の紫外線硬化型樹脂は、特に限定されることはなく、２官能、３官能以上の多官能のアクリル系のモノマー、オリゴマー、ポリマー成分などから、硬度、密着性、加工性等を鑑みて適宣選択して配合することができる。ハードコート層２０は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーと、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーと、２官能の（メタ）アクリレートモノマーと、光重合開始剤とを含有する紫外線硬化型樹脂を光重合させてなることが好ましい。このような光硬化性樹脂組成物を用いることにより、優れた硬度を有するハードコート層２０を得ることができる。ハードコート層１０の膜厚は、通常、０．５～２０μｍ、好ましくは１～１５μｍであり、より好ましくは１～１０μｍである。
また、ハードコート層２０は、樹脂材料中に金属酸化物粒子が分散されていることが好ましく、密着層３０側に金属酸化物粒子が突出していることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒径に対する突出割合の平均値は、６０％以下であることが好ましく、より好ましくは１０％以上３０％以下である。金属酸化物粒子の突出割合が大きすぎると金属酸化物粒子がハードコート層２０から剥がれ易くなり、ハードコート層２０と密着層３０との密着性が低下してしまい、突出割合が小さすぎると密着性向上の効果が得られない。金属酸化物粒子を突出させる方法としては、例えば、グロー放電処理、プラズマ処理、イオンエッチング、アルカリ処理などを用いることができる。
金属酸化物粒子は、金属酸化物が粒子状になったものであり、その平均粒径は、８００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒径が大きすぎると光学特性が低下してしまい、平均粒径が小さすぎるとハードコート層２０と密着層３０との密着性が低下してしまう。なお、本明細書において、平均粒径とは、ＢＥＴ法により測定した値をいう。
また、金属酸化物粒子の含有量は、ハードコート層２０の樹脂組成物の固形分全体に対し、２０質量％以上５０質量％以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の含有量が少なすぎるとハードコート層２０と密着層３０との密着性が低下してしまい、多すぎるとハードコート層２０の屈曲性などが低下してしまう。なお、樹脂組成物の固形分とは、溶剤以外の全成分であり、液状のモノマー成分も固形分に含まれる。
金属酸化物粒子の具体例としては、ＳｉＯ２（シリカ）、Ａｌ２Ｏ３（アルミナ）、ＴｉＯ２（チタニア）、ＺｒＯ２（ジルコニア）、ＣｅＯ２（セリア）、ＭｇＯ（マグネシア）、ＺｎＯ、Ｔａ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｎＯ２などが挙げられる。これらの中でも、高い透明性が得られるシリカを用いることが好ましい。
密着層３０は、酸素欠損状態の金属酸化物から形成されることが好ましい。酸素欠損状態の金属酸化物としては、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＺｒＯｘ、ＣｅＯｘ、ＭｇＯｘ、ＺｎＯｘ、ＴａＯｘ、ＳｂＯｘ、ＳｎＯｘ、ＭｎＯｘなどが挙げられる。ここで、酸素欠損状態の金属酸化物とは、化学量論組成よりも酸素数が不足した状態の金属酸化物をいう。また、金属としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｍｎなどが挙げられる。
ハードコート層２０中に金属酸化物粒子が分散されている場合、金属酸化物粒子と同種の金属を有する酸素欠損状態の金属酸化物もしくは金属酸化物粒子と同種の金属からなることが好ましい。例えば、金属酸化物粒子としてＳｉＯ２を用いた場合、密着層３０のＳｉＯｘにおけるｘは、０以上１．９以下であることが好ましい。また、密着層３０の膜厚は、ハードコート層２０表面に露出された金属酸化物粒子の平均粒径の５０％よりも小さいことが好ましく、具体的には、１ｎｍ～５０ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ～３０ｎｍであることがより好ましく、１ｎｍ～１５ｎｍであることがさらに好ましい。
また、ハードコートに防眩性を持たせるために、透光性の有機粒子や透光性の無機粒子を添加してもよい。これらの粒子は、ハードコート層における光拡散機能、表面凹凸形成による防眩機能等を発現するためのものである。透光性樹脂微粒子は、スチレン－アクリル単量体共重合樹脂（スチレン－アクリル共重合樹脂）、（メタ）アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂等を含む樹脂により形成することができる。
反射防止層４０は、スパッタリングにより誘電体からなる高屈折率層４１と高屈折率層４１よりも屈折率が低い誘電体からなる低屈折率層４２とが交互に成膜されている。後述するように、反射防止層４０の層数は、４層又は６層であることが好ましい。反射防止層４０の層数が８層以上になると、反射防止層４０の物理厚みが大きくなり、屈曲性が低下してしまう。反射防止層４０の膜厚は、５００ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以下であることがより好ましく、３００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
防汚層５０は、反射防止フィルムの表面に撥水性、撥油性、耐汗性、防汚性などを付与する被覆層である。防汚層を構成する材料としては、例えば、フッ素含有有機化合物が用いられる。フッ素含有有機化合物としては、フルオロカーボン、パーフルオロシラン、又はこれらの高分子化合物などが挙げられる。例えば、フッ素含有有機化合物としてパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を用いることにより、水接触角が１１０度以上の撥水性を示し、防汚性を向上させることができる。防汚層５０の膜厚は、１ｎｍ～１０ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ～７ｎｍであることがより好ましく、２ｎｍ～５ｎｍであることがさらに好ましい。
このような構成からなる反射防止フィルムは、高い赤外線透過率を得ることができる。具体的には、波長９４０ｎｍにおける光の透過率は、好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９２％以上である。波長９４０ｎｍにおける光の反射率は、好ましくは５％以下であり、より好ましくは４％以下である。
また、前述した構成からなる反射防止フィルムは、優れた屈曲性を得ることができ、フォルダブルディスプレイに対応することができる。具体的には、円筒形マンドレル法による屈曲試験（ＪＩＳ Ｋ５６００-５-１に準拠）におけるマンドレル直径が７ｍｍ以下、より好ましくは６ｍｍ以下である。
さらに、前述した構成からなる反射防止フィルムは、従来困難であった、赤外線の透過率を高くすることと、反射光の色味をニュートラルにするということを両立することができる。具体的には、視感反射率Ｙは、好ましくは１．０％以下であり、より好ましくは０．５％以下である。また、ＣＩＥＬＡＢにおけるａ＊値は、好ましくは０～１５であり、より好ましくは０～１０であり、さらに好ましくは０～５である。ＣＩＥＬＡＢにおけるｂ＊値は、好ましくは－１８～０であり、より好ましくは－１５～０であり、さらに好ましくは－１０～０である。ディスプレイの最表面に反射防止フィルムを配置する場合、反射光の色味をニュートラルにすることが好まれる。
本技術を適用させた反射防止フィルムは、高い赤外線透過率を有するとともに優れた屈曲性を有し、また、反射光の色味をニュートラルにすることができるため、赤外線に応答する赤外センサ（ＩＲ）センサが前面に設置されたスマートフォン、パーソナルコンピュータ、車載用などの表示装置に好ましく適用することができる。
［第１の実施の形態］
第１の実施の形態に係る反射防止フィルムは、基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層と、防汚層とをこの順に積層してなる。基材、ハードコート層、密着層、及び防汚層は、前述した基材１０、ハードコート層２０、密着層３０、及び防汚層５０と同様であるため、ここでは説明を省略する。
第１の実施の形態に係る反射防止フィルムは、基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層と、防汚層とをこの順に積層してなる。基材、ハードコート層、密着層、及び防汚層は、前述した基材１０、ハードコート層２０、密着層３０、及び防汚層５０と同様であるため、ここでは説明を省略する。
図２は、第１の実施の形態に係る反射防止フィルムにおける反射防止層を模式的に示す断面図である。図２に示すように、第１の実施の形態に係る反射防止層は、密着層３０側から光学厚みが４１ｎｍ～５２ｎｍである第１の高屈折率層４１１と、光学厚みが４１ｎｍ～５３ｎｍである第１の低屈折率層４１２と、光学厚みが３０２ｎｍ～３１３ｎｍである第２の高屈折率層４１３と、光学厚みが１３５ｎｍ～１９６ｎｍである第２の低屈折率層４１４とからなる。
本明細書において、「光学厚み」は、物理厚みと屈折率との積である。「屈折率」は、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠し、温度２５℃、波長５５０ｎｍにて測定したものをいう。「物理厚み」は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値とすることができる。
反射防止フィルムの反射波長及び反射率は、例えば、高屈折率層及び低屈折率層の光学厚さ、高屈折率層及び低屈折率層の総数と高屈折率層と低屈折率層と間の屈折率差などによって設計することができる。
高屈折率層の屈折率は、好ましくは２．００～２．６０であり、より好ましくは２．１０～２．４５である。このような高屈折率層の主成分としては、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率２．３３）、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率２．３３～２．５５）、酸化タングステン（ＷＯ３、屈折率２．２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率２．２）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５、屈折率２．１６）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率２．１）、酸化インジウム（ＩｎＯ２）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化アルミニウム（ＡｌＯ２）及び、これらの複合酸化物が挙げられる。複合酸化物としては、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（酸化インジウム・酸化亜鉛）などが挙げられる。なお、本明細書において「主成分」とは、含有量が最も多い成分を指し、例えば含有率が８０％以上ものとする。
低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．２０～１．６０であり、より好ましくは１．３０～１．５０である。このような低屈折率層の主成分としては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２、屈折率１．４６）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２、屈折率１．４２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２、屈折率１．３８）などが挙げられる。また、低屈折率層の屈折率が上記の範囲に入る場合において、他の元素を含有してもよい。具体的には、ジルコニウムを元素比で１０％程度入れることにより、耐薬品性を向上させることができる。他の例としては、硬さを向上させるために成膜時にＮ２ガスを導入して成膜してもよい。また、その光学特性を向上するために、さらにＡｌ等の金属元素を入れてもよい。
高屈折率層の屈折率と低屈折率層の屈折率との差は、好ましくは０．４０～１．４０であり、より好ましくは０．７０～１．１０である。このような高屈折率層と低屈折率層との組み合わせとしては、Ｎｂ２Ｏ５及びＳｉＯ２、ＴｉＯ２及びＳｉＯ２などが挙げられる。
図２に示す第１の実施の形態に係る反射防止層において、第１の高屈折率層４１１がＮｂ２Ｏ５を主成分とする場合、物理厚みが１８ｎｍ～２２ｎｍであることが好ましく、第１の低屈折率層４１２がＳｉＯ２を主成分とする場合、物理厚みが２８ｎｍ～３６ｎｍであることが好ましく、第２の高屈折率層４１３がＮｂ２Ｏ５を主成分とする場合、物理厚みが１３０ｎｍ～１３４ｎｍであることが好ましく、第２の低屈折率層４１４がＳｉＯ２を主成分とする場合、物理厚みが９２ｎｍ～９５ｎｍであることが好ましい。
このような反射防止層によれば、高い赤外線透過率を得ることができる。具体的には、波長９４０ｎｍにおける光の透過率は、好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９２％以上である。波長９４０ｎｍにおける光の反射率は、好ましくは５％以下であり、より好ましくは４％以下である。
また、Ｎｂ２Ｏ５を高屈折率層の主成分とし、ＳｉＯ２を低屈折率層の主成分とすることにより、各層の物理厚みの合計が３００ｎｍ以下となることから、優れた屈曲性を得ることができ、フォルダブルディスプレイに対応することができる。具体的には、円筒形マンドレル法による屈曲試験（ＪＩＳ Ｋ５６００-５-１に準拠）におけるマンドレル直径が７ｍｍ以下、より好ましくは６ｍｍ以下である。
さらに、Ｎｂ２Ｏ５を高屈折率層の主成分とし、ＳｉＯ２を低屈折率層の主成分とすることにより、赤外線の透過率を高くすることと、反射光の色味をニュートラルにするということを両立することができる。具体的には、視感反射率Ｙは、好ましくは０．５％以下であり、より好ましくは０．４％以下である。また、ＣＩＥＬＡＢにおけるａ＊値は、好ましくは０～１５であり、より好ましくは０～１０であり、さらに好ましくは０～５である。ＣＩＥＬＡＢにおけるｂ＊値は、好ましくは－１５～０であり、より好ましくは－１２～０であり、さらに好ましくは－１０～０である。
第１の実施の形態に係る反射防止フィルムによれば、４層構造の反射防止層にて、高い赤外線透過率を得ることができるとともに、優れた屈曲性を得ることができる。また、４層構造の反射防止層にて、赤外線の透過率を高くすることと、反射光の色味をニュートラルにするということを両立することができ、高い生産性を得ることができる。
［第２の実施の形態］
第２の実施の形態に係る反射防止フィルムは、第１の実施の形態と同様に、基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層と、防汚層とをこの順に積層してなる。基材、ハードコート層、密着層、及び防汚層は、前述した基材１０、ハードコート層２０、密着層３０、及び防汚層５０と同様であるため、ここでは説明を省略する。
第２の実施の形態に係る反射防止フィルムは、第１の実施の形態と同様に、基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層と、防汚層とをこの順に積層してなる。基材、ハードコート層、密着層、及び防汚層は、前述した基材１０、ハードコート層２０、密着層３０、及び防汚層５０と同様であるため、ここでは説明を省略する。
図３は、第２の実施の形態に係る反射防止フィルムにおける反射防止層を模式的に示す断面図である。図３に示すように、第２の実施の形態に係る反射防止層は、密着層側から光学厚みが２３ｎｍ～３５ｎｍである第１の高屈折率層４３１と、光学厚みが６６ｎｍ～８１ｎｍである第１の低屈折率層４３２と、光学厚みが９３ｎｍ～１１７ｎｍである第２の高屈折率層４３３と、光学厚みが３７ｎｍ～５２ｎｍである第２の低屈折率層４３４と、光学厚みが７９ｎｍ～８４ｎｍである第３の高屈折率層４３５と、光学厚みが１４６ｎｍ～１５５ｎｍである第３の低屈折率層４３６とからなる。
高屈折率層の屈折率、高屈折率の誘電体、低屈折率層の屈折率、低屈折率の誘電体、及び、高屈折率層の屈折率と低屈折率層の屈折率との差は、第１の実施の形態と同様である。
第２の実施の形態に係る反射防止層において、第１の高屈折率層４３１がＮｂ２Ｏ５を主成分とする場合、物理厚みが１０ｎｍ～１５ｎｍであることが好ましく、第１の低屈折率層４３２がＳｉＯ２を主成分とする場合、物理厚みが４５ｎｍ～５５ｎｍであることが好ましく、第２の高屈折率層４３３がＮｂ２Ｏ５を主成分とする場合、物理厚みが４０ｎｍ～５０ｎｍであることが好ましく、第２の低屈折率層４３４がＳｉＯ２を主成分とする場合、物理厚みが２５ｎｍ～３５ｎｍであることが好ましく、第３の高屈折率層４３５がＮｂ２Ｏ５を主成分とする場合、物理厚みが３０ｎｍ～３６ｎｍであることが好ましく、第３の低屈折率層４３６がＳｉＯ２を主成分とする場合、物理厚みが１００ｎｍ～１０６ｎｍであることが好ましい。
このような反射防止層によれば、高い赤外線透過率を得ることができる。具体的には、波長９４０ｎｍにおける光の透過率は、好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９２％以上である。波長９４０ｎｍにおける光の反射率は、好ましくは５％以下であり、より好ましくは４％以下である。
また、Ｎｂ２Ｏ５を高屈折率層の主成分とし、ＳｉＯ２を低屈折率層の主成分とすることにより、各層の物理厚みの合計が３００ｎｍ以下となることから、優れた屈曲性を得ることができ、フォルダブルディスプレイに対応することができる。具体的には、円筒形マンドレル法による屈曲試験（ＪＩＳ Ｋ５６００-５-１に準拠）におけるマンドレル直径が７ｍｍ以下、より好ましくは６ｍｍ以下である。
さらに、Ｎｂ２Ｏ５を高屈折率層の主成分とし、ＳｉＯ２を低屈折率層の主成分とすることにより、赤外線の透過率を高くすることと、反射光の色味をニュートラルにするということを両立することができる。具体的には、視感反射率Ｙは、好ましくは１．０％以下であり、より好ましくは０．８％以下である。また、ＣＩＥＬＡＢにおけるａ＊値は、好ましくは０～１５であり、より好ましくは０～１０であり、さらに好ましくは０～５である。ＣＩＥＬＡＢにおけるｂ＊値は、好ましくは－１８～０であり、より好ましくは－１０～０である。
第２の実施の形態に係る反射防止フィルムによれば、６層構造の反射防止層にて、高い赤外線透過率を得ることができるとともに、優れた屈曲性を得ることができる。また、６層構造の反射防止層にて、赤外線の透過率を高くすることと、反射光の色味をニュートラルにするということを両立することができ、高い生産性を得ることができる。
＜２．反射防止フィルムの製造方法＞
本実施の形態に係る反射防止フィルムの製造方法は、基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層とをこの順に成膜する。また、必要に応じて、反射防止層上に防汚層５０を成膜する。基材、ハードコート層、密着層、及び防汚層は、前述した基材１０、ハードコート層２０、密着層３０、及び防汚層５０と同様であるため、ここでは説明を省略する。以下、各層の成膜について説明する。
本実施の形態に係る反射防止フィルムの製造方法は、基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層とをこの順に成膜する。また、必要に応じて、反射防止層上に防汚層５０を成膜する。基材、ハードコート層、密着層、及び防汚層は、前述した基材１０、ハードコート層２０、密着層３０、及び防汚層５０と同様であるため、ここでは説明を省略する。以下、各層の成膜について説明する。
［ハードコート層の成膜］
先ず、例えば、金属酸化物粒子と、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーと、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーと、２官能の（メタ）アクリレートモノマーと、光重合開始剤とを含有する紫外線硬化型樹脂組成物をディスパーなどの攪拌機を用いて常法に従って均一に混合して調整する。
先ず、例えば、金属酸化物粒子と、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーと、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーと、２官能の（メタ）アクリレートモノマーと、光重合開始剤とを含有する紫外線硬化型樹脂組成物をディスパーなどの攪拌機を用いて常法に従って均一に混合して調整する。
次に、紫外線硬化型樹脂組成物を基材上に塗布する。塗布方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法を用いることができる。公知の塗布方法としては、例えば、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、ディップ法、スプレーコート法、リバースロールコート法、カーテンコート法、コンマコート法、ナイフコート法、スピンコート法などが挙げられる。
次に、基材上の紫外線硬化型樹脂組成物を乾燥、光硬化させることによりハードコート層を形成する。乾燥条件は特に限定されるものではなく、自然乾燥であっても、乾燥湿度や乾燥時間などを調整する人工乾燥であってもよい。但し、乾燥時に塗料表面に風を当てる場合、塗膜表面に風紋が生じないようにすることが好ましい。風紋が生じると塗布外観の悪化、表面性の厚みムラが生じるからである。なお、紫外線硬化型樹脂組成物を硬化させる光としては紫外線の他、ガンマー線、アルファー線、電子線等のエネルギー線を適用することができる。
ここで、ハードコート層表面をエッチングし、金属酸化物粒子を突出させることが好ましい。金属酸化物粒子の突出方法としては、ハードコート層の樹脂を選択的にエッチング可能であれば、特に限定されず、例えば、グロー放電処理、プラズマ処理、イオンエッチング、アルカリ処理などを用いることができる。これらの中でも、大面積処理が可能なグロー放電処理を用いることが好ましい。
［密着層の成膜］
ハードコート層表面に、酸素欠損状態の金属酸化物からなる密着層を成膜する。密着層の成膜方法としては、ターゲットを用いたスパッタリングを用いることが好ましい。例えば、ＳｉＯｘ膜を成膜する場合、シリコンターゲットを用い、酸素ガスとアルゴンガスの混合ガス雰囲気による反応性スパッタリングを用いることが好ましい。また、密着層上に成膜される反射防止層も、スパッタリングにより成膜することができるため、生産性の向上を図ることができる。
ハードコート層表面に、酸素欠損状態の金属酸化物からなる密着層を成膜する。密着層の成膜方法としては、ターゲットを用いたスパッタリングを用いることが好ましい。例えば、ＳｉＯｘ膜を成膜する場合、シリコンターゲットを用い、酸素ガスとアルゴンガスの混合ガス雰囲気による反応性スパッタリングを用いることが好ましい。また、密着層上に成膜される反射防止層も、スパッタリングにより成膜することができるため、生産性の向上を図ることができる。
［反射防止層の成膜］
反射防止層の成膜は、スパッタリングにより誘電体からなる高屈折率層と高屈折率層よりも屈折率が低い誘電体からなる低屈折率層とを交互に形成する。反射防止層の成膜は、例えば特開２０１４－０３４７０１号公報に記載の薄膜形成装置を用いることができる。
反射防止層の成膜は、スパッタリングにより誘電体からなる高屈折率層と高屈折率層よりも屈折率が低い誘電体からなる低屈折率層とを交互に形成する。反射防止層の成膜は、例えば特開２０１４－０３４７０１号公報に記載の薄膜形成装置を用いることができる。
図４は、薄膜形成装置の概略を示す斜視図である。この薄膜形成装置は、巻出部である巻出ロール６１からベースフィルム６０を供給し、反射防止層が形成された反射防止フィルムを巻取部である巻取ロール６２によって巻き取る。ここで、ベースフィルム６０は、ハードコート層成膜後のフィルム、又は密着層成膜後のフィルムとすることができる。
また、真空チャンバー内に成膜ユニットである第１の成膜室ユニット及び第２の成膜室ユニットを備える。真空チャンバーは、空気の排出を行う真空ポンプと接続され、所定の真空度に調整可能である。
第１の成膜室ユニット及び第２の成膜室ユニットは、それぞれ第１のキャンロール７１及び第２のキャンロール７２を備え、キャンロール７１、７２の外周面に対向するように成膜部であるスパッタ室ＳＰ１～ＳＰ１０を複数固定する。各スパッタ室ＳＰ１～ＳＰ１０には、電極上に所定のターゲットが取り付けられるとともに、ベースフィルム６０の幅方向に複数のガスノズルを有する供給部が設けられる。
また、薄膜形成装置は、第１の成膜室ユニットと第２の成膜室ユニットとの間、すなわちスパッタ室ＳＰ５による成膜後に、光学特性を測定する測定部である第１の光学モニター８１を備える。これにより、第１の成膜室ユニット後の中間品の薄膜の品質を確認することができる。また、第２の成膜室ユニットの後、すなわちスパッタ室ＳＰ１０による成膜後に光学特性を測定する測定部である第２の光学モニター８２を備える。これにより、第２の成膜室ユニット後の薄膜の品質を確認することができる。
第１の光学モニター８１及び第２の光学モニター８２は、幅方向にスキャン可能な光学ヘッドにより、ベースフィルム６０上に形成された薄膜の幅方向の光学特性を測定する。この光学モニター８１、８２により、例えば、光学特性として反射率のピーク波長を測定し、光学厚みに換算することにより、幅方向の光学厚み分布を得ることができる。
このような構成からなる薄膜形成装置は、巻出ロール６１からベースフィルム６０を繰出し、第１のキャンロール７１及び第２のキャンロール７２の搬送時にベースフィルム６０上に薄膜を形成し、巻取ロール６２によって巻取ることにより、多層の反射防止層を得ることができる。ここで、光学モニター８１、８２によって、ベースフィルム６０上に形成された薄膜の幅方向の光学特性を測定し、光学特性に基づいて、幅方向に設けられた各ガスノズルからの反応性ガスの流量を制御することにより、長手方向及び幅方向に均一な厚みの薄膜を形成することができる。なお、上記例に限られることなく、生産性を上げるために、成膜室ユニットの追加や、カソードの追加、カソード方式についてはプレーナーやロータリー等を用いても良い。
［防汚層の成膜］
防汚層の成膜は、形成する材料に応じて、物理的気相成長法、化学的気相成長法、湿式コーティング法などを用いることができる。例えば、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を塗布、乾燥させることにより、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を縮合させ、防汚層を形成することができる。
防汚層の成膜は、形成する材料に応じて、物理的気相成長法、化学的気相成長法、湿式コーティング法などを用いることができる。例えば、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を塗布、乾燥させることにより、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を縮合させ、防汚層を形成することができる。
＜３．第１の実施例＞
第１の実施例では、反射防止フィルムを作製し、視感反射率Ｙ、反射色相、赤外線透過率、赤外線反射率、及び屈曲性について評価した。なお、本技術はこれらの実施例に限定されるものではない。
第１の実施例では、反射防止フィルムを作製し、視感反射率Ｙ、反射色相、赤外線透過率、赤外線反射率、及び屈曲性について評価した。なお、本技術はこれらの実施例に限定されるものではない。
［視感反射率Ｙ］
反射防止フィルムを５０ｍｍ角サイズに切り出し、評価サンプルとした。評価サンプルを、粘着剤を介して黒アクリル板に貼り付け、分光光度計（（株）日立ハイテク、Ｕ４１５０）を用いて分光反射率（測定波長：３８０ｎｍ～１０００ｎｍ、入射角：５°）を測定した。サンプルの裏面を黒処理し、裏面からの反射をキャンセルし、表面反射のみを測定した。測定した分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の視感反射率Ｙ（三刺激値Ｙ）を算出した。
反射防止フィルムを５０ｍｍ角サイズに切り出し、評価サンプルとした。評価サンプルを、粘着剤を介して黒アクリル板に貼り付け、分光光度計（（株）日立ハイテク、Ｕ４１５０）を用いて分光反射率（測定波長：３８０ｎｍ～１０００ｎｍ、入射角：５°）を測定した。サンプルの裏面を黒処理し、裏面からの反射をキャンセルし、表面反射のみを測定した。測定した分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の視感反射率Ｙ（三刺激値Ｙ）を算出した。
［反射色相］
視感反射率Ｙの算出過程で得られるＸＹＺ表色系に基づき、下記式による変換にて、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊およびｂ＊を求めた。
視感反射率Ｙの算出過程で得られるＸＹＺ表色系に基づき、下記式による変換にて、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊およびｂ＊を求めた。
ａ＊が０以上１５以下、且つ、ｂ＊が－２０以上０以下であるものの色味を「ＯＫ」と評価し、それ以外を「ＮＧ」と評価した。
［赤外線透過率及び赤外線反射率］
分光光度計（（株）日立ハイテク、Ｕ４１５０）を用いて、反射防止フィルムの透過スペクトル及び反射スペクトルを測定し、波長９４０ｎｍにおける透過率及び反射率を測定した。
分光光度計（（株）日立ハイテク、Ｕ４１５０）を用いて、反射防止フィルムの透過スペクトル及び反射スペクトルを測定し、波長９４０ｎｍにおける透過率及び反射率を測定した。
［屈曲性］
反射防止フィルムの試験片で反射防止層側を外側にして屈曲が行われる円筒形マンドレル法による屈曲試験（ＪＩＳＫ５６００-５-１に準拠）を行った。屈曲性の評価は、マンドレル直径が６ｍｍ以下のものでクラックが発生しなかったものを「ＯＫ」とし、マンドレル直径が６ｍｍより大きいものでクラックが発生したものを「ＮＧ」とした。マンドレル直径が７ｍｍ以下のものでクラックが発生しなければ、いわゆるフォルダブルディスプレイに対応可能である。
反射防止フィルムの試験片で反射防止層側を外側にして屈曲が行われる円筒形マンドレル法による屈曲試験（ＪＩＳＫ５６００-５-１に準拠）を行った。屈曲性の評価は、マンドレル直径が６ｍｍ以下のものでクラックが発生しなかったものを「ＯＫ」とし、マンドレル直径が６ｍｍより大きいものでクラックが発生したものを「ＮＧ」とした。マンドレル直径が７ｍｍ以下のものでクラックが発生しなければ、いわゆるフォルダブルディスプレイに対応可能である。
［実施例１］
基材として厚み８０μｍのＴＡＣを用い、ＴＡＣ上に厚み５μｍのアクリル系樹脂層からなるハードコート層を形成した。ハードコート層は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーと、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーと、２官能の（メタ）アクリレートモノマーと、光重合開始剤とを含有する紫外線硬化型樹脂を光重合させた。ハードコート層上にスパッタリングにより厚み３ｎｍのＳｉＯｘからなる密着層を成膜し、薄膜形成装置を用いて、密着層上に高屈折率層及び低屈折率層を交互に積層させた反射防止層を成膜した。さらに、反射防止層上にパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物からなる厚み３ｎｍの防汚層を形成し、実施例１の反射防止フィルムを作製した。
基材として厚み８０μｍのＴＡＣを用い、ＴＡＣ上に厚み５μｍのアクリル系樹脂層からなるハードコート層を形成した。ハードコート層は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーと、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーと、２官能の（メタ）アクリレートモノマーと、光重合開始剤とを含有する紫外線硬化型樹脂を光重合させた。ハードコート層上にスパッタリングにより厚み３ｎｍのＳｉＯｘからなる密着層を成膜し、薄膜形成装置を用いて、密着層上に高屈折率層及び低屈折率層を交互に積層させた反射防止層を成膜した。さらに、反射防止層上にパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物からなる厚み３ｎｍの防汚層を形成し、実施例１の反射防止フィルムを作製した。
反射防止層は、密着層側から、物理厚みが２０ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３１ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９４ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２７７ｎｍの４層構造とした。
表１に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．３９、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は１．４、ｂ＊は－９．１であり、色味の評価はＯＫであり、赤外線の透過率は９２．９％、赤外線の反射率は３．１％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が５ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＯＫであった。
図５は、実施例１の反射防止フィルムの透過スペクトルを示すグラフであり、図６は、実施例１の反射防止フィルムの反射スペクトルを示すグラフである。実施例１の反射防止フィルムは、波長４５０ｎｍ～９５０ｎｍに亘って９０％以上の透過率を有するとともに５％以下の反射率を有することが分かる。
［実施例２］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１９ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３２ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２７６ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１９ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３２ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２７６ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表１に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．２６、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は４．１、ｂ＊は－７．６、赤外線の透過率は９１．９％、赤外線の反射率は４．３％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が５ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＯＫであった。
［実施例３］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが２２ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９４ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２８２ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが２２ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９４ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２８２ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表１に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．３４、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は４．６、ｂ＊は－８．３、赤外線の透過率は９３．３％、赤外線の反射率は３．５％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が５ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＯＫであった。
［実施例４］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが２０ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３０ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２７５ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが２０ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３０ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２７５ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表１に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．２９、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は２．１、ｂ＊は－６．８、赤外線の透過率は９１．８％、赤外線の反射率は４．１％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が５ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＯＫであった。
［実施例５］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１８ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９４ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２７８ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１８ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９４ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２７８ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表１に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．３４、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は１３．０、ｂ＊は－１３．９、赤外線の透過率は９１．８％、赤外線の反射率は４．１％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が５ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＯＫであった。
［実施例６］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１９ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３３ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９４ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２７８ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１９ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３３ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９４ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２７８ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表１に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．２８、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は８．９、ｂ＊は－１３．９、赤外線の透過率は９３．３％、赤外線の反射率は３．０％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が５ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＯＫであった。
［実施例７］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１９ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３１ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９４ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２７６ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１９ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３１ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９４ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚２７６ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表１に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．３２、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は７．７、ｂ＊は－８．８であり、色味の評価はＯＫであり、赤外線の透過率は９５．０％、赤外線の反射率は４．６％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が５ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＯＫであった。
［実施例８］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１３．７ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが４９ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが４４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが３０．３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが３４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが１０３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層とからなる総厚２７４ｎｍの６層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１３．７ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが４９ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが４４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが３０．３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが３４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが１０３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層とからなる総厚２７４ｎｍの６層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表２に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．６６、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は６．６、ｂ＊は－１５．８、赤外線の透過率は９２．７％、赤外線の反射率は２．１％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が５ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＯＫであった。
［実施例９］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１２ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが４９ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが４４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが３０．３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが３４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが１０３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層とからなる総厚２７２．３ｎｍの６層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１２ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが４９ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが４４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが３０．３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが３４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが１０３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層とからなる総厚２７２．３ｎｍの６層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表２に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．９６、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は１２．６、ｂ＊は－１５．３、赤外線の透過率は９３．１％、赤外線の反射率は３．３％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が５ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＯＫであった。
［実施例１０］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１３．７ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが４９ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが４４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが３０．３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが１０１ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層とからなる総厚２７０ｎｍの６層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１３．７ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが４９ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが４４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが３０．３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが１０１ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層とからなる総厚２７０ｎｍの６層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表２に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．７４、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は４．１、ｂ＊は－９．５、赤外線の透過率は９２．１％、赤外線の反射率は４．９％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が５ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＯＫであった。
［比較例１］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３０ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが３５ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが１８ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが２３０ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層と、物理厚みが２５ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第４の高屈折率層と、物理厚みが３３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第４の低屈折率層と、物理厚みが３７ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第５の高屈折率層と、物理厚みが１００ｎｍであるＳｉＯ２からなる第５の低屈折率層とからなる総厚６５４ｎｍの１０層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１３０ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが３５ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが１８ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが２３０ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層と、物理厚みが２５ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第４の高屈折率層と、物理厚みが３３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第４の低屈折率層と、物理厚みが３７ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第５の高屈折率層と、物理厚みが１００ｎｍであるＳｉＯ２からなる第５の低屈折率層とからなる総厚６５４ｎｍの１０層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表２に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．３４、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は－２．６、ｂ＊は－２．８であり、色味の評価はＮＧであり、赤外線の透過率は９６．６％、赤外線の反射率は２．９％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が１０ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が８ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＮＧであった。
［比較例２］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが７ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３５ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１２ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが２５ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが３４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが２３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層と、物理厚みが１２９ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第４の高屈折率層と、物理厚みが９１ｎｍであるＳｉＯ２からなる第４の低屈折率層とからなる総厚３５６ｎｍの８層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが７ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３５ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが１２ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが２５ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが３４ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが２３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層と、物理厚みが１２９ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第４の高屈折率層と、物理厚みが９１ｎｍであるＳｉＯ２からなる第４の低屈折率層とからなる総厚３５６ｎｍの８層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表２に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．５４、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は－３．０、ｂ＊は－３．８であり、色味の評価はＮＧであり、赤外線の透過率は９４．５％、赤外線の反射率は５．２％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が８ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＮＧであった。
［比較例３］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１３ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが４１ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが３７ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが２２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが１３１ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが９３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層とからなる総厚３３７ｎｍの６層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１３ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが４１ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが３７ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが２２ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層と、物理厚みが１３１ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第３の高屈折率層と、物理厚みが９３ｎｍであるＳｉＯ２からなる第３の低屈折率層とからなる総厚３３７ｎｍの６層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表２に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．５８、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は－０．５、ｂ＊は－６．６であり、色味の評価はＮＧであり、赤外線の透過率は８９．７％、赤外線の反射率は４．１％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が８ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＮＧであった。
図７は、実施例７及び比較例１～３の反射防止フィルムの透過スペクトルを示すグラフであり、図中、線Ａ～線Ｄは、それぞれ実施例７及び比較例１～３の透過スペクトルを表す。図８は、反射防止フィルムの反射スペクトルを示すグラフであり、図中、線Ａ～線Ｄは、それぞれ実施例７及び比較例１～３の反射スペクトルを表す。
実施例７の透過スペクトル及び反射スペクトルは、実施例１の透過スペクトル及び反射スペクトルと同様に、波長４５０ｎｍ～９５０ｎｍに亘って９０％以上の透過率を有するとともに５％以下の反射率を有することが分かる。一方、比較例１の透過スペクトル及び反射スペクトルは、実施例７に比して、波長８５０ｎｍ付近において透過率が大きく低下し、反射率も大きく増加した。比較例２の透過スペクトル及び反射スペクトルは、実施例７に比して、波長８５０ｎｍ付近において透過率が低下し、反射率も増加した。比較例３の透過スペクトル及び反射スペクトルは、実施例７に比して、波長８５０ｎｍ付近において透過率が低下し、反射率も増加した。
［比較例４］
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１５ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３８ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが２９ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９９ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚１８１ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
反射防止層を、密着層側から、物理厚みが１５ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第１の高屈折率層と、物理厚みが３８ｎｍであるＳｉＯ２からなる第１の低屈折率層と、物理厚みが２９ｎｍであるＮｂ２Ｏ５からなる第２の高屈折率層と、物理厚みが９９ｎｍであるＳｉＯ２からなる第２の低屈折率層とからなる総厚１８１ｎｍの４層構造とした以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
表２に示すように、この反射防止フィルムの視感反射率Ｙは０．３０、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊は１．７、ｂ＊は－９．５であり、色味の評価はＯＫであり、赤外線の透過率は８９．５％、赤外線の反射率は７．２％であった。マンドレル試験は、マンドレル直径が６ｍｍのときにクラックが発生せず、マンドレル直径が５ｍｍのときにクラックが発生し、屈曲性の評価はＯＫであった。
実施例１～７のように反射防止層を４層構造とすることにより、高い赤外線透過率を得ることができるとともに、優れた屈曲性を得ることができた。また、４層構造の反射防止層にて、赤外線の透過率を高くすることと、反射光の色味をニュートラルにするということを両立することができた。
また、実施例８～１０のように反射防止層を６層構造とすることにより、高い赤外線透過率を得ることができるとともに、優れた屈曲性を得ることができた。また、６層構造の反射防止層にて、赤外線の透過率を高くすることと、反射光の色味をニュートラルにするということを両立することができた。
一方、比較例１のように、総厚６００ｎｍ以上の１０層構造では、高い赤外線透過率は得られたが、反射光の色味をニュートラルにすることができず、優れた屈曲性が得られなかった。また、比較例２のように、総厚３００ｎｍを超える８層構造では、高い赤外線透過率は得られたが、反射光の色味をニュートラルにすることができず、優れた屈曲性が得られなかった。また、比較例３のように、総厚３００ｎｍを超える６層構造では、高い赤外線透過率が得られず、また、反射光の色味をニュートラルにすることができず、優れた屈曲性も得られなかった。また、比較例４のように、反射防止層の層膜厚を２００ｎｍ未満とした４層構造では、高い赤外線透過率が得られなかった。
１０ 基材、２０ ハードコート層、３０ 密着層、４０ 反射防止層、５０ 防汚層、６０ ベースフィルム、６１ 巻出ロール、６２ 巻取ロール、７１ 第１のキャンロール、７２ 第２のキャンロール、８１ 第１の光学モニター、８２ 第２の光学モニター
Claims (13)
- 基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層とをこの順に有する反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層が、前記密着層側から
光学厚みが４１ｎｍ～５２ｎｍである第１の高屈折率層と、
光学厚みが４１ｎｍ～５３ｎｍである第１の低屈折率層と、
光学厚みが３０２ｎｍ～３１３ｎｍである第２の高屈折率層と、
光学厚みが１３５ｎｍ～１９６ｎｍである第２の低屈折率層と
からなる反射防止フィルム。 - 基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層とをこの順に有する反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層が、前記密着層側から
光学厚みが２３ｎｍ～３５ｎｍである第１の高屈折率層と、
光学厚みが６６ｎｍ～８１ｎｍである第１の低屈折率層と、
光学厚みが９３ｎｍ～１１７ｎｍである第２の高屈折率層と、
光学厚みが３７ｎｍ～５２ｎｍである第２の低屈折率層と、
光学厚みが７９ｎｍ～８４ｎｍである第３の高屈折率層と、
光学厚みが１４６ｎｍ～１５５ｎｍである第３の低屈折率層と
からなる反射防止フィルム。 - 前記反射防止層の上に防汚層を積層した、請求項１又は２記載の反射防止フィルム。
- 前記高屈折率層の屈折率が、２．００～２．６０であり、
前記低屈折率層の屈折率が、１．２０～１．６０である、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。 - 前記第１の高屈折率層がＮｂ２Ｏ５を主成分として含み、物理厚みが１８ｎｍ～２２ｎｍであり、
前記第１の低屈折率層がＳｉＯ２を主成分として含み、物理厚みが２８ｎｍ～３６ｎｍであり、
前記第２の高屈折率層がＮｂ２Ｏ５を主成分として含み、物理厚みが１３０ｎｍ～１３４ｎｍであり、
前記第２の低屈折率層がＳｉＯ２を主成分として含み、物理厚みが９２ｎｍ～９５ｎｍである、請求項１記載の反射防止フィルム。 - 前記第１の高屈折率層がＮｂ２Ｏ５を主成分として含み、物理厚みが１０ｎｍ～１５ｎｍであり、
前記第１の低屈折率層がＳｉＯ２を主成分として含み、物理厚みが４５ｎｍ～５５ｎｍであり、
前記第２の高屈折率層がＮｂ２Ｏ５を主成分として含み、物理厚みが４０ｎｍ～５０ｎｍであり、
前記第２の低屈折率層がＳｉＯ２を主成分として含み、物理厚みが２５ｎｍ～３５ｎｍであり、
前記第３の高屈折率層がＮｂ２Ｏ５を主成分として含み、物理厚みが３０ｎｍ～３６ｎｍであり、
前記第３の低屈折率層がＳｉＯ２を主成分として含み、物理厚みが１００ｎｍ～１０６ｎｍである、請求項２記載の反射防止フィルム。 - 波長９４０ｎｍにおける光の透過率が、９０％以上であり、
波長９４０ｎｍにおける光の反射率が、５％以下である請求項１乃至６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。 - 視感反射率Ｙが、１．０％以下である請求項１乃至７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
- ＣＩＥＬＡＢにおけるａ＊値が０～１５であり、ｂ＊値が－１８～０である請求項１乃至８のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
- 基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層とをこの順に成膜する反射防止フィルムの製造方法において、
前記反射防止層が、前記密着層側から
光学厚みが４１ｎｍ～５２ｎｍである第１の高屈折率層と、
光学厚みが４１ｎｍ～５３ｎｍである第１の低屈折率層と、
光学厚みが３０２ｎｍ～３１３ｎｍである第２の高屈折率層と、
光学厚みが１３５ｎｍ～１９６ｎｍである第２の低屈折率層と
からなる反射防止フィルムの製造方法。 - 基材上に、ハードコート層と、密着層と、反射防止層とをこの順に成膜する反射防止フィルムの製造方法において、
前記反射防止層が、前記密着層側から
光学厚みが２３ｎｍ～３５ｎｍである第１の高屈折率層と、
光学厚みが６６ｎｍ～８１ｎｍである第１の低屈折率層と、
光学厚みが９３ｎｍ～１１７ｎｍである第２の高屈折率層と、
光学厚みが３７ｎｍ～５２ｎｍである第２の低屈折率層と、
光学厚みが７９ｎｍ～８４ｎｍである第３の高屈折率層と、
光学厚みが１４６ｎｍ～１５５ｎｍである第３の低屈折率層と
からなる反射防止フィルムの製造方法。 - 前記反射防止層の上に防汚層を積層する、請求項１０又は１１記載の反射防止フィルムの製造方法。
- 前記高屈折率層の屈折率が、２．００～２．６０であり、
前記低屈折率層の屈折率が、１．２０～１．６０である、請求項１０乃至１２のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022124584A JP7441280B2 (ja) | 2020-05-21 | 2022-08-04 | 反射防止フィルム |
| JP2024007487A JP2024032822A (ja) | 2020-05-21 | 2024-01-22 | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020089189A JP7121070B2 (ja) | 2020-05-21 | 2020-05-21 | 反射防止フィルム |
| JP2022124584A JP7441280B2 (ja) | 2020-05-21 | 2022-08-04 | 反射防止フィルム |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020089189A Division JP7121070B2 (ja) | 2020-05-21 | 2020-05-21 | 反射防止フィルム |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024007487A Division JP2024032822A (ja) | 2020-05-21 | 2024-01-22 | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022159380A true JP2022159380A (ja) | 2022-10-17 |
| JP2022159380A5 JP2022159380A5 (ja) | 2023-05-26 |
| JP7441280B2 JP7441280B2 (ja) | 2024-02-29 |
Family
ID=78708935
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020089189A Active JP7121070B2 (ja) | 2020-05-21 | 2020-05-21 | 反射防止フィルム |
| JP2022124584A Active JP7441280B2 (ja) | 2020-05-21 | 2022-08-04 | 反射防止フィルム |
| JP2024007487A Pending JP2024032822A (ja) | 2020-05-21 | 2024-01-22 | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020089189A Active JP7121070B2 (ja) | 2020-05-21 | 2020-05-21 | 反射防止フィルム |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024007487A Pending JP2024032822A (ja) | 2020-05-21 | 2024-01-22 | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220357485A1 (ja) |
| EP (1) | EP3974876A4 (ja) |
| JP (3) | JP7121070B2 (ja) |
| KR (2) | KR20240046614A (ja) |
| CN (1) | CN113973501A (ja) |
| TW (2) | TW202304699A (ja) |
| WO (1) | WO2021235379A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023054468A1 (ja) * | 2021-09-30 | 2023-04-06 | 大日本印刷株式会社 | 表示装置用積層体および表示装置 |
| CN114740553A (zh) * | 2022-05-25 | 2022-07-12 | 江苏日久光电股份有限公司 | 大视角抗反射复合膜、显示组件以及显示装置 |
Family Cites Families (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11171596A (ja) * | 1997-12-05 | 1999-06-29 | Sony Corp | 反射防止膜 |
| JPH11231127A (ja) * | 1998-02-18 | 1999-08-27 | Oike Ind Co Ltd | 反射防止フイルム |
| JP3779174B2 (ja) * | 2000-11-13 | 2006-05-24 | Ｈｏｙａ株式会社 | 蒸着組成物、それを利用した反射防止膜の形成方法及び光学部材 |
| JP2002243902A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-08-28 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| KR20030013428A (ko) * | 2001-03-22 | 2003-02-14 | 소니 가부시끼 가이샤 | 반사형 표시 장치 및 도광판 및 도광판의 제조 방법 |
| JP2003114302A (ja) * | 2001-10-04 | 2003-04-18 | Sony Corp | 反射防止フィルム及び反射防止偏光板の製造方法 |
| JP2004258394A (ja) * | 2003-02-26 | 2004-09-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学機能性膜、反射防止フィルム、偏光板および表示装置 |
| TW200420979A (en) * | 2003-03-31 | 2004-10-16 | Zeon Corp | Protective film for polarizing plate and method for preparation thereof |
| CN1657976A (zh) * | 2004-02-16 | 2005-08-24 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 光学元件和光接收装置 |
| JP2006257306A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Hitachi Maxell Ltd | コーティング組成物、薄膜および光学フィルム |
| JP2008158145A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Epson Toyocom Corp | 反射防止膜及びその反射防止膜を備えた光学物品 |
| JP4958594B2 (ja) * | 2007-03-22 | 2012-06-20 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止膜、光学素子および光学系 |
| JP2014034701A (ja) | 2012-08-08 | 2014-02-24 | Dexerials Corp | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
| JP6686449B2 (ja) * | 2016-01-12 | 2020-04-22 | Ａｇｃ株式会社 | 防汚層付きガラス基体およびディスプレイ用前面板 |
| WO2017217526A1 (ja) * | 2016-06-17 | 2017-12-21 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびに反射防止層付き偏光板 |
| JP6774383B2 (ja) * | 2016-06-17 | 2020-10-21 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびに反射防止層付き偏光板 |
| JP6251899B1 (ja) * | 2017-03-31 | 2017-12-27 | グンゼ株式会社 | 反射防止フィルム |
| JP2019032524A (ja) * | 2017-08-08 | 2019-02-28 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルム |
| JP6881172B2 (ja) | 2017-09-13 | 2021-06-02 | Ａｇｃ株式会社 | 反射防止膜付透明基体、およびそれを用いた表示装置 |
| CN111183374B (zh) * | 2017-11-29 | 2022-05-03 | 日东电工株式会社 | 硬涂薄膜、光学层叠体及图像显示装置 |
| KR20200103803A (ko) * | 2018-01-12 | 2020-09-02 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 광학 적층체, 편광판, 디스플레이 패널 및 화상 표시 장치 |
| KR102566689B1 (ko) * | 2018-02-26 | 2023-08-14 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 반사 방지층 부착 편광판 및 그 제조 방법 |
| DE102018110193A1 (de) * | 2018-04-27 | 2019-10-31 | Schott Ag | Beschichtetes optisches Element, Bauelement mit einem beschichteten optischen Element und Verfahren zu dessen Herstellung |
| JP6863343B2 (ja) * | 2018-07-12 | 2021-04-21 | Ａｇｃ株式会社 | ガラス積層体、ディスプレイ用前面板、表示装置およびガラス積層体の製造方法 |
| JP7217118B2 (ja) * | 2018-09-26 | 2023-02-02 | 日東電工株式会社 | 保護フィルム付き光学フィルム |
| JP6911828B2 (ja) * | 2018-10-01 | 2021-07-28 | Ａｇｃ株式会社 | ガラス積層体、ディスプレイ用前面板および表示装置 |
| JP2020060657A (ja) * | 2018-10-09 | 2020-04-16 | 日東電工株式会社 | 反射防止ガラス |
| JP2020067582A (ja) * | 2018-10-25 | 2020-04-30 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルム |
| JP2020076883A (ja) * | 2018-11-08 | 2020-05-21 | 北川工業株式会社 | 反射防止フィルム |
| JP7001046B2 (ja) | 2018-11-29 | 2022-02-03 | トヨタ自動車株式会社 | 電力変換器の搭載構造 |
-
2020
- 2020-05-21 JP JP2020089189A patent/JP7121070B2/ja active Active
-
2021
- 2021-05-17 KR KR1020247010153A patent/KR20240046614A/ko not_active Application Discontinuation
- 2021-05-17 EP EP21807916.8A patent/EP3974876A4/en active Pending
- 2021-05-17 US US17/624,452 patent/US20220357485A1/en active Pending
- 2021-05-17 CN CN202180003487.7A patent/CN113973501A/zh active Pending
- 2021-05-17 KR KR1020217037599A patent/KR102654438B1/ko active IP Right Grant
- 2021-05-17 WO PCT/JP2021/018554 patent/WO2021235379A1/ja unknown
- 2021-05-21 TW TW111136089A patent/TW202304699A/zh unknown
- 2021-05-21 TW TW110118493A patent/TWI781633B/zh active
-
2022
- 2022-08-04 JP JP2022124584A patent/JP7441280B2/ja active Active
-
2024
- 2024-01-22 JP JP2024007487A patent/JP2024032822A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI781633B (zh) | 2022-10-21 |
| KR102654438B1 (ko) | 2024-04-03 |
| EP3974876A1 (en) | 2022-03-30 |
| EP3974876A4 (en) | 2022-11-16 |
| KR20210153115A (ko) | 2021-12-16 |
| TW202202334A (zh) | 2022-01-16 |
| KR20240046614A (ko) | 2024-04-09 |
| JP7441280B2 (ja) | 2024-02-29 |
| TW202304699A (zh) | 2023-02-01 |
| JP7121070B2 (ja) | 2022-08-17 |
| CN113973501A (zh) | 2022-01-25 |
| JP2021184032A (ja) | 2021-12-02 |
| JP2024032822A (ja) | 2024-03-12 |
| US20220357485A1 (en) | 2022-11-10 |
| WO2021235379A1 (ja) | 2021-11-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7091279B2 (ja) | 反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
| JP7441280B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
| KR102197745B1 (ko) | 반사 방지 필름 및 그 제조 방법 | |
| CN1451029A (zh) | 色移的含碳干涉颜料 | |
| WO2019107036A1 (ja) | ハードコートフィルム、光学積層体および画像表示装置 | |
| WO2014119505A1 (ja) | 反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
| JP6465855B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル | |
| JP2014106779A (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル | |
| JP2002243906A (ja) | 反射防止積層体及びその製造方法 | |
| TW202229929A (zh) | 光學積層體及物品 | |
| JP2010025996A (ja) | 反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
| JP2021077509A (ja) | 透明導電性フィルム | |
| JP2004279515A (ja) | 反射防止材およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230518 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230518 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20231128 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231205 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240122 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240206 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240216 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7441280 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |