JP2021077509A - 透明導電性フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】タッチパネル等に適用される場合に、透明導電層の形状が視認されにくく、かつ、干渉ムラの生じにくい透明導電性フィルムを提供する。【解決手段】基材と、光学調整層と、透明導電層とをこの順に有し、光学調整層は、第１光学調整層と、第２光学調整層とが積層されており、第２光学調整層は、基材側に位置し、第１光学調整層の波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、１．３５〜１．５であり、第２光学調整層の波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、２．０〜２．５であり、５０ｍｍ四方の領域を９等分した各領域における、ΔＥaveは、０．０７４以下である、透明導電性フィルム。【選択図】図１

Description

本発明は、透明導電性フィルムに関する。より詳細には、本発明は、タッチパネル等に適用される場合に、透明導電層の形状が視認されにくく、かつ、干渉ムラの生じにくい透明導電性フィルムに関する。

従来、カーナビゲーションシステムに採用されているタッチパネル等において、高透過、低反射、視認性向上を目的としたハイエンドモデルが開発されている。図２は、タッチパネルの構成を説明するための模式的な断面図である。ハイエンドモデルのタッチパネルＰは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）８、光学粘着シート（ＯＣＡ）９、タッチセンサー１０、カバーガラス１１、反射防止（ＡＲ）フィルム１２を主に備える。このようなハイエンドモデルのタッチパネルＰは、タッチセンサー１０の裏面にＯＣＡ９がダイレクトボンディングによって設けられており、かつ、再表面にＡＲフィルム１２が設けられることにより、優れた低反射性を実現し、高級感が付与されている。

図３は、従来のタッチセンサー１０の構成を説明するための模式的な断面図である。タッチセンサー１０は、基材１３と、基材１３の両面にそれぞれ設けられた第１ハードコート層１４および第２ハードコート層１５と、光学調整層１６と、透明導電層１７とを備える。しかしながら、従来のタッチセンサーは、上記低反射性を実現したところ、新たな課題として、透明導電層におけるＩＴＯ等のパターン形状が外部より視認されたり（いわゆる「骨見え」）、干渉ムラを生じるなどの問題があった。

これに対し、特許文献１には、光学調整層を、屈折率の異なる２層から構成することにより、視認性を向上させた透明導電性フィルムが提案されている。

特開２０１７−７４７９２号公報

しかしながら、特許文献１に記載の透明導電性フィルムは、得られるタッチパネルにおいて、骨見えを充分に改善できていない。また、この透明導電性フィルムは、依然として得られるタッチパネルにおいて干渉ムラを生じていた。

本発明は、このような従来の発明に鑑みてなされたものであり、タッチパネル等に適用される場合に、透明導電層の形状が視認されにくく、かつ、干渉ムラの生じにくい透明導電性フィルムを提供することを目的とする。

本発明者は、鋭意検討した結果、光学調整層として、屈折率の差が大きい２つの光学調整層（第１光学調整層および第２光学調整層）を採用することにより透明導電層側の平均色目差（ΔＥ_ave）を小さくすることにより、骨見えの課題を充分に改善しつつ、干渉ムラの発生も防止し得ることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、上記課題を解決する本発明の透明導電性フィルムには、以下の構成が主に含まれる。

（１）基材と、光学調整層と、透明導電層とをこの順に有し、前記光学調整層は、第１光学調整層と、第２光学調整層とが積層されており、前記第２光学調整層は、前記基材側に位置し、前記第１光学調整層の波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、１．３５〜１．５であり、前記第２光学調整層の波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、２．０〜２．５であり、５０ｍｍ四方の領域を９等分した各領域における、下記式（１）で算出されるΔＥ_aveは、０．０７４以下である、透明導電性フィルム。
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、
ΔＥ_ave＝（ΔＥ_i,jの平均値）
ΔＥ_i,j＝（（ΔＬ^* _i,j）²＋（Δａ^* _i,j）²＋（Δｂ^* _i,j）²）^1/2・・・（１）
ただし、ΔＬ^* _i,j＝Ｌ^* _i−Ｌ^* _j、Δａ^* _i,j＝ａ^* _i−ａ^* _j、Δｂ^* _i,j＝ｂ^* _i−ｂ^* _jであり、かつ、ｉ，ｊは、いずれも１〜９の整数（ｉ≠ｊ、ｉ＜ｊ）である。

このような構成によれば、第１光学調整層および第２光学調整層を含む光学調整層によって、骨見えが充分に改善される。また、透明導電性フィルムは、透明導電層側の平均色目差（ΔＥ_ave）が小さくなるよう調整されており、かつ、第１光学調整層および第２光学調整層のそれぞれの屈折率が上記範囲に調整されていることにより、骨見えを抑えつつ、干渉ムラを生じにくい。

（２）前記第１光学調整層の厚みは、１５〜３５ｎｍであり、前記第２光学調整層の厚みは、４〜１５ｎｍである、（１）記載の透明導電性フィルム。

このような構成によれば、透明導電性フィルムは、より骨見えを抑制しやすい。

（３）前記基材と前記光学調整層との間に、第１ハードコート層が設けられている、（１）または（２）記載の透明導電性フィルム。

このような構成によれば、透明導電性フィルムは、透明導電層が保護されるとともに、基材に適度な剛性が付与され得る。

（４）前記第２光学調整層と前記第１ハードコート層との間に、密着層が設けられており、前記密着層は、ケイ素を含む、（３）記載の透明導電性フィルム。

このような構成によれば、第２光学調整層と、第１ハードコート層との密着性が向上し、耐薬品性が向上する。

（５）前記密着層の厚みは、０．３〜２．０ｎｍである、（４）記載の透明導電性フィルム。

このような構成によれば、透明導電性フィルムは、優れた透過性を維持しつつ、第２光学調整層と第１ハードコート層との密着性がより向上する。

（６）前記基材は、前記第１ハードコート層が設けられた面と反対側の面に、第２ハードコート層が設けられている、（３）〜（５）のいずれかに記載の透明導電性フィルム。

このような構成によれば、透明導電性フィルムは、基材が保護される。これにより、たとえば透明導電性フィルムに熱が加わった際に、透明導電性フィルムは、基材に含まれるオリゴマー等の析出が防止されやすい。また、透明導電性フィルムは、適度な剛性が付与され得る。

（７）前記透明導電層の厚みは、２０〜６０ｎｍである、（１）〜（６）のいずれかに記載の透明導電性フィルム。

このような構成によれば、透明導電性フィルムは、タッチパネルに使用された場合において、操作時の抵抗値が安定しやすく、操作しやすい。また、透明導電性フィルムは、骨見えが防がれやすい。

（８）前記透明導電層のシート抵抗値は、９０Ω／□以下である、（１）〜（７）のいずれかに記載の透明導電性フィルム。

このような構成によれば、透明導電性フィルムは、大型のタッチパネルに使用された場合において、操作性が低下しにくい。

（９）前記第１光学調整層は、ＳｉＯｘ（１≦ｘ≦２）を含み、前記第２光学調整層は、ＮｂＯｙ（１≦ｙ≦２．５）を含む、（１）〜（８）のいずれかに記載の透明導電性フィルム。

このような構成によれば、透明導電性フィルムは、骨見えがより防がれやすい。

本発明によれば、タッチパネル等に適用される場合に、透明導電層の形状が視認されにくく、かつ、干渉ムラの生じにくい透明導電性フィルムを提供することができる。

図１は、本発明の一実施形態の透明導電性フィルムの模式的な断面図である。 図２は、従来のタッチパネルの構成を説明するための模式的な断面図である。 図３は、従来のタッチセンサーの構成を説明するための模式的な断面図である。

＜透明導電性フィルム＞
図１は、本発明の一実施形態の透明導電性フィルムの模式的な断面図である。本実施形態の透明導電性フィルム（以下、フィルム１ともいう）は、基材２と、光学調整層３と、透明導電層４とをこの順に有する。光学調整層３は、第１光学調整層３１と、第２光学調整層３２とが積層されている。第２光学調整層３２は、基材２側に位置する。第１光学調整層３１の波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、１．３５〜１．５であり、第２光学調整層３２の波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、２．０〜２．５である。また、フィルム１は、５０ｍｍ四方の領域を９等分した各領域における、下記式（１）で算出されるΔＥ_aveが、０．０７４以下である。以下、それぞれについて説明する。
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、
ΔＥ_ave＝（ΔＥ_i,jの平均値）
ΔＥ_i,j＝（（ΔＬ^* _i,j）²＋（Δａ^* _i,j）²＋（Δｂ^* _i,j）²）^1/2・・・（１）
ただし、ΔＬ^* _i,j＝Ｌ^* _i−Ｌ^* _j、Δａ^* _i,j＝ａ^* _i−ａ^* _j、Δｂ^* _i,j＝ｂ^* _i−ｂ^* _jであり、かつ、ｉ，ｊは、いずれも１〜９の整数（ｉ≠ｊ、ｉ＜ｊ）である。

（基材２）
基材２は特に限定されない。一例を挙げると、基材２は、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等からなる。これらの中でも、基材２は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．４〜１．７である基材が好ましく、ＰＥＴであることがより好ましい。なお、本実施形態において、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、アッベ屈折計（型番：ＫＰＲ−３０Ａ、（株）島津製作所製）を用いて、温度は、２０℃、光線はナトリウムスペクトルのＤ線を用いることにより測定することができる。

基材２は、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を施して、所望により基材２上に形成されるハードコート層との密着性を向上させてもよい。また、基材２は、溶剤洗浄や超音波洗浄などにより、除塵、清浄化されることが好ましい。

基材２の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、基材２の厚みは、２５〜２００μｍであることが好ましく、５０〜１５０μｍであることがより好ましい。基材２の厚みが上記範囲内であることにより、フィルム１は、耐擦傷性、耐摩耗性が優れる。

（第１ハードコート層５）
第１ハードコート層５は、基材２と後述する光学調整層３との間に、好適に設けられる。

第１ハードコート層５は特に限定されない。第１ハードコート層５は、適度な透明性、機械的強度があればよく、特に限定されない。一例を挙げると、第１ハードコート層５は、電離放射線や紫外線の照射によって硬化する硬化樹脂や、熱硬化性樹脂であり、アクリル系樹脂、有機ケイ素系樹脂、ポリシロキサン樹脂であることが好ましい。

また、第１ハードコート層５は、屈折率を調整することを目的として、ジルコニウム、アンチモン、チタン、アルミニウム、亜鉛、スズ等の金属微粒子又は金属酸化物微粒子が配合されてもよい。金属微粒子又は金属酸化物微粒子の含有量は特に限定されない。一例を挙げると、金属微粒子又は金属酸化物微粒子の含有量は、第１ハードコート層５を構成する樹脂固形分中、２０〜４０質量％である。これにより、得られる第１ハードコート層５は、基材２との屈折率差が小さくなるよう調整でき、可視光の干渉を低減出来る。

第１ハードコート層５は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．４〜１．７であることが好ましい。

第１ハードコート層５の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、第１ハードコート層５の厚みは、０．４〜２．０μｍであることが好ましく、０．５〜１．５μｍであることがより好ましい。第１ハードコート層５の厚みが上記範囲内であることにより、フィルム１は、基材２が保護されるとともに、適度な剛性が付与され得る。

（第２ハードコート層６）
第２ハードコート層６は、基材２において、第１ハードコート層５が設けられた面と反対側の面に、好適に設けられる。

第２ハードコート層６は特に限定されない。第２ハードコート層６は、適度な透明性、機械的強度があればよく、特に限定されない。一例を挙げると、第２ハードコート層６は、電離放射線や紫外線の照射によって硬化する硬化樹脂や、熱硬化性樹脂であり、アクリル系樹脂、有機ケイ素系樹脂、ポリシロキサン樹脂であることが好ましい。

第２ハードコート層６は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．４〜１．７であることが好ましい。

第２ハードコート層６の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、第２ハードコート層６の厚みは、０．５〜３．０μｍであることが好ましく、１．０〜２．０μｍであることがより好ましい。第２ハードコート層６の厚みが上記範囲内であることにより、フィルム１は、基材２が保護される。これにより、たとえばフィルム１に熱が加わった際に、フィルム１は、基材２に含まれるオリゴマー等の析出が防止されやすい。また、フィルム１は、適度な剛性が付与され得る。

（密着層７）
密着層７は、後述する第２光学調整層３２と第１ハードコート層５との間に、好適に設けられる。密着層７は特に限定されない。一例を挙げると、密着層７は、ケイ素を含む。

密着層７の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、密着層７の厚みは、０．３ｎｍ以上であることが好ましく、０．５ｎｍ以上であることがより好ましい。また、密着層７の厚みは、２．０ｎｍ以下であることが好ましく、１．０ｎｍ以下であることがより好ましい。密着層７の厚みが上記範囲内であることにより、フィルム１は、優れた透過性を維持しつつ、第２光学調整層３２と第１ハードコート層５との密着性がより向上する。

（光学調整層３）
本実施形態のフィルム１は、第１光学調整層３１（低屈折率層）および第２光学調整層３２（高屈折率層）が積層された光学調整層３を備える。

・第２光学調整層３２
第２光学調整層３２は、光学調整層３のうち、基材２側に位置する層である。本実施形態では、第２光学調整層３２は、密着層７上に形成されている。第２光学調整層は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が２．０〜２．５であり、後述する第１光学調整層３１の屈折率よりも大きい。

第２光学調整層３２は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が、２．０以上であればよい。また、第２光学調整層３２は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が、２．５以下であればよい。第２光学調整層３２の屈折率が２．０未満である場合、後述する第１光学調整層３１との屈折率差が小さくなり、骨見えに対する改善効果が得られにくくなる。一方、第２光学調整層３２の屈折率が２．５を超える場合、フィルム１は、第1光学調整層３１との屈折率差が大きくなりすぎ、設計の許容範囲が狭くなりやすい。

第２光学調整層３２は、特に限定されない。一例を挙げると、第２光学調整層３２は、上記屈折率の範囲に含まれる金属酸化物等である。具体的には、第２光学調整層３２は、酸化チタン（ＴｉＯ₂、屈折率：２．５）、酸化ニオブ（ＮｂＯｙ（１≦ｙ≦２．５））、酸化セレン（Ｃｅ₂Ｏ₂、屈折率：２．４）、酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅、屈折率：２．３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂、屈折率：２．１）等である。これらの中でも、第２光学調整層３２は、得られるフィルム１において、骨見えがより防がれやすい点から、酸化ニオブ（ＮｂＯｙ（１≦ｙ≦２．５））であることが好ましく、五酸化二ニオブ（Ｎｂ₂Ｏ₅、屈折率：２．３）であることがより好ましい。

第２光学調整層３２の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、第２光学調整層３２の厚みは、４ｎｍ以上であることが好ましく、６ｎｍ以上であることがより好ましい。また、第２光学調整層３２の厚みは、１５ｎｍ以下であることが好ましく、１２ｎｍ以下であることがより好ましい。第２光学調整層３２の厚みが上記範囲内であることにより、フィルム１は、骨見えに対する改善効果が得られやすい。

・第１光学調整層３１
第１光学調整層３１は、第２光学調整層３２上に形成されている。第１光学調整層は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．３５〜１．５であり、上記した第２光学調整層３２の屈折率よりも小さい。

第１光学調整層３１は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が、１．３５以上であればよく、１．４以上であることが好ましい。また、第１光学調整層３１は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が、１．５以下であればよい。第１光学調整層３１の屈折率が１．３５未満である場合、フィルム１は、第２光学調整層３２との屈折率差が大きくなりすぎ、設計の許容範囲が狭くなりやすい。一方、第１光学調整層３１の屈折率が１．５を超える場合、第２光学調整層３２との屈折率差が小さくなり、骨見えに対する改善効果が得られにくくなる。

第１光学調整層３１は、特に限定されない。一例を挙げると、第１光学調整層３１は、上記屈折率の範囲に含まれる金属酸化物等である。具体的には、第１光学調整層３１は、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ（１≦ｘ≦２）、屈折率：１．４６）、フッ化マグネシウム(ＭｇＦ₂、屈折率：１．３８)等である。これらの中でも、第１光学調整層３１は、得られるフィルム１において、骨見えがより防がれやすい点から、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ（１≦ｘ≦２））であることが好ましく、二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂、屈折率：１．４６）であことがより好ましい。

第１光学調整層３１の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、第１光学調整層３１の厚みは、１５ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましい。また、第１光学調整層３１の厚みは、３５ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましい。第１光学調整層３１の厚みが上記範囲内であることにより、フィルム１は、骨見えに対する改善効果が得られやすい。

（透明導電層４）
透明導電層４は、第１光学調整層３１上に設けられる。

透明導電層４は特に限定されない。一例を挙げると、透明導電層４は、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、ケイ素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンなどの金属の金属酸化物である。これらの中でも、透明導電層４は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化アルミニウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、アルミニウム添加酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）等のような酸化亜鉛系材料が好ましく、結晶化タイプのＩＴＯがより好ましい。

透明導電層４の、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は特に限定されない。一例を挙げると、透明導電層４の屈折率は、１．８〜２．２であることがより好ましい。これにより、透明導電層４がパターン化された場合において、パターン部とパターン開口部との反射率差を抑制することができ、かつ、両者の色相の差を抑制することができる。

透明導電層４のシート抵抗値は、９０Ω／□以下であることが好ましく、７０Ω／□以下であることがより好ましい。また、透明導電層４のシート抵抗値は、４０Ω／□以上であることが好ましく、５０Ω／□以上であることがより好ましい。シート抵抗値が上記範囲内であることにより、フィルム１は、大型のタッチパネルに使用される場合であっても、操作性が低下しにくい。なお、本実施形態において、シート抵抗値は、低抵抗率計（ロレスタＡＸ ＭＣＰ−Ｔ３７０、（株）三菱ケミカルアナリテック製）を用いて、４端子４探針法で定電流印加方式により測定することができる。

透明導電層４の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、透明導電層４の厚みは、２０ｎｍ以上であることが好ましく、３０ｎｍ以上であることがより好ましい。また、透明導電層４の厚みは、６０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。透明導電層４の厚みが上記範囲内であることにより、フィルム１は、タッチパネルに使用された場合において、操作時の抵抗値が安定しやすく、操作しやすい。また、フィルム１は、透明性を維持しつつ、骨見えが防がれやすい。

フィルム１全体の説明に戻り、本実施形態のフィルム１は、５０ｍｍ四方の領域を９等分した各領域における、下記式（１）で算出されるΔＥ_aveは、０．０７４以下であればよく、０．０３６以下であることが好ましく、０．０２０以下であることがより好ましい。本実施形態のフィルム１は、ΔＥ_aveが上記範囲内であることにより、得られるタッチパネルにおいて、骨見えの改善効果が維持されつつ、干渉ムラが抑制される。
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、
ΔＥ_ave＝（ΔＥ_i,jの平均値）
ΔＥ_i,j＝（（ΔＬ^* _i,j）²＋（Δａ^* _i,j）²＋（Δｂ^* _i,j）²）^1/2・・・（１）
ただし、ΔＬ^* _i,j＝Ｌ^* _i−Ｌ^* _j、Δａ^* _i,j＝ａ^* _i−ａ^* _j、Δｂ^* _i,j＝ｂ^* _i−ｂ^* _jであり、かつ、ｉ，ｊは、いずれも１〜９の整数（ｉ≠ｊ、ｉ＜ｊ）である。

具体的には、平均色目差（ΔＥ_ave）は、黒テープ等で裏面反射を無くした透明導電性フィルム１のサンプル（寸法：５ｃｍ四方）を準備し、縦横３×３の９点の正方形の領域における反射波形を測定する。それぞれの反射波形から、各測定点間の色目差を計算し（合計３６か所）、上記式に従ってΔＥ_aveを算出する。Ｌ^*、ａ^*、ｂ^*は、たとえば、大塚電子（株）製の反射分光厚み計（ＦＥ−３０００）を用いて、波長４００〜７００ｎｍにおける可視光線に関して、１ｎｍ間隔で絶対反射率を測定することにより算出し得る。

以上、本実施形態のフィルム１は、第１光学調整層３１および第２光学調整層３２を含む光学調整層３によって、得られるタッチパネルにおける骨見えが充分に改善される。また、フィルム１は、透明導電層４側の平均色目差（ΔＥ_ave）が小さくなるよう調整されており、かつ、第１光学調整層３１および第２光学調整層３２のそれぞれの屈折率が上記範囲に調整されていることにより、骨見えを抑えつつ、干渉ムラを生じにくい。

＜透明導電性フィルムおよびタッチパネルの製造方法＞
上記した透明導電性フィルムの製造方法は特に限定されない。一例を挙げると、フィルムは、基材の一方の面に第１ハードコート層を形成する第１ハードコート層形成工程と、基材の他方の面に第２ハードコート層を形成する第２ハードコート層形成工程と、第１ハードコート層上に密着層を形成する密着層形成工程と、密着層上に第２光学調整層を形成する第２光学調整層形成工程と、第２光学調整層上に第１光学調整層を形成する第１光学調整層形成工程と、第１光学調整層上に透明導電層を形成する透明導電層形成工程とを主に含む。なお、上記各層のうち、好適に設けられる層（たとえば第１ハードコート層、第２ハードコート層、密着層）は、適宜省略されてもよい。その場合、これらの層を設ける工程は適宜省略され得る。以下、それぞれの工程について説明する。

（第１ハードコート層形成工程）
第１ハードコート層形成工程は、基材の一方の面に第１ハードコート層を形成する工程である。

第１ハードコート層を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、第１ハードコート層は、基材に対して、第１ハードコート層を構成する組成物を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライコーティング法、または、ウェットコーティング法（塗工法）等により形成され得る。これらの中でも、第１ハードコート層は、厚膜の成膜が容易である点から、ウェットコーティング法により形成されることが好ましい。その後、第１ハードコート層を構成する樹脂組成物は、適宜、加熱乾燥され、紫外線照射により硬化される。

（第２ハードコート層形成工程）
第２ハードコート層形成工程は、基材の他方の面に第２ハードコート層を形成する工程である。

第２ハードコート層を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、第２ハードコート層は、基材に対して、第２ハードコート層を構成する組成物を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライコーティング法、または、ウェットコーティング法（塗工法）等により形成され得る。これらの中でも、第２ハードコート層は、厚膜の成膜が容易である点から、ウェットコーティング法により形成されることが好ましい。その後、第２ハードコート層を構成する樹脂組成物は、適宜、加熱乾燥され、紫外線照射により硬化される。

（密着層形成工程）
密着層形成工程は、第１ハードコート層上に密着層を形成する工程である。

密着層を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、密着層は、第１ハードコート層に対して、密着層を構成する組成物を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライコーティング法、または、ウェットコーティング法（塗工法）等により形成され得る。これらの中でも、密着層は、薄膜の成膜が容易である点から、ドライコーティング法により形成されることが好ましく、マグネトロンスパッタリング法によって、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリングにて形成されることが好ましい。この際、たとえば、酸素、窒素、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用してもよい。

（第２光学調整層形成工程）
第２光学調整層形成工程は、密着層上に第２光学調整層を形成する工程である。

第２光学調整層を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、第２光学調整層は、密着層に対して、第２光学調整層を構成する組成物を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライコーティング法、または、ウェットコーティング法（塗工法）等により形成され得る。これらの中でも、第２光学調整層は、薄膜の膜厚均一性が高いという理由から、ドライコーティング法により形成されることが好ましく、マグネトロンスパッタリング法によって、金属ターゲット（たとえばＮｂＯｙ）を用いた反応性スパッタリングにて形成されることが好ましい。この際、たとえば、酸素、窒素、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用してもよい。

（第１光学調整層形成工程）
第１光学調整層形成工程は、第２光学調整層上に第１光学調整層を形成する工程である。

第１光学調整層を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、第１光学調整層は、第２光学調整層に対して、第１光学調整層を構成する組成物を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライコーティング法、または、ウェットコーティング法（塗工法）等により形成され得る。これらの中でも、第１光学調整層は、薄膜の膜厚均一性が高いという理由から、ドライコーティング法により形成されることが好ましく、マグネトロンスパッタリング法によって、金属ターゲット（たとえばＳｉＯｘ）を用いた反応性スパッタリングにて形成されることが好ましい。この際、たとえば、酸素、窒素、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用してもよい。第１光学調整層、および、第２光学調整層は、ウェットコーティング法ではなく、ドライコーティング法により形成されることにより、膜厚の均一性を高めることができる。その結果、後述するように、干渉ムラが改善されやすい。

（透明導電層形成工程）
透明導電層形成工程は、第１光学調整層上に透明導電層を形成する工程である。

透明導電層を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、透明導電層は、第１光学調整層に対して、透明導電層を構成する組成物を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライコーティング法、または、ウェットコーティング法（塗工法）等により形成され得る。これらの中でも、透明導電層は、薄膜の成膜が容易であるという理由から、ドライコーティング法により形成されることが好ましく、マグネトロンスパッタリング法によって、金属ターゲット（たとえばＩＴＯ）を用いた反応性スパッタリングにて形成されることが好ましい。この際、たとえば、酸素、窒素、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用してもよい。

以上の工程により、本実施形態のフィルムが作製される。得られたフィルムは、タッチパネルに設けられるタッチセンサー等として好適である。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。本発明は、これら実施例に何ら限定されない。なお、特に制限のない限り、「％」は「質量％」を意味し、「部」は「質量部」を意味する。

＜干渉ムラの改善効果の確認＞
以下の実施例１〜６、比較例１〜２、試験例１〜４を作成し、干渉ムラに影響を及ぼすΔＥ_aveの範囲を確認した。なお、屈折率は、いずれも波長５８９ｎｍの光に対する屈折率である。

（実施例１）
ＰＥＴ基材（厚み１００μｍ、屈折率１．６５）を準備した。基材の一方の面に、グラビア印刷により、乾燥後０．７μｍとなるようにジルコニア（濃度２８質量％）を含むアクリル樹脂溶液を塗工し、次いで８０℃で１分間乾燥させ、高圧水銀ランプで積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるよう紫外線を照射し、第１ハードコート層（屈折率１．６５）を形成した。基材の他方の面に、グラビア印刷により、乾燥後１．５μｍとなるようにアクリル樹脂溶液を塗工し、次いで８０℃で１分間乾燥させ、高圧水銀ランプで積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるよう紫外線を照射し、第２ハードコート層（屈折率１．５）を形成した。次いで、第１ハードコート層上に、マグネトロンスパッタリング法による反応性スパッタリングにて、ケイ素を含む密着層の厚みが０．５ｎｍとなるように密着層（屈折率３．４）を形成した。次いで、密着層上に、マグネトロンスパッタリング法による反応性スパッタリングにて、ＮｂＯｙによる第２光学調整層の厚みが１０ｎｍとなるように第２光学調整層（屈折率２．３）を形成した。次いで、第２光学調整層上に、マグネトロンスパッタリング法による反応性スパッタリングにて、ＳｉＯｘによる第１光学調整層の厚みが２５ｎｍとなるように第１光学調整層（屈折率１．４６）を形成した。次いで、第１光学調整層上に、マグネトロンスパッタリング法による反応性スパッタリングにて、ＩＴＯによる透明導電層の厚みが３５ｎｍとなるように透明導電層（屈折率２．０）を形成した。以上の工程により、実施例１の透明導電性フィルムを作製した。

（実施例２〜６）
表１に示される処方にしたがって各層の有無、各層を構成する原材料、厚み等を調整した以外は、実施例１と同様の方法により、実施例２〜６の透明導電性フィルムを作製した。

（比較例１）
ＰＥＴ基材（厚み１００μｍ、屈折率１．６５）を準備した。基材の一方の面に、グラビア印刷を用いて、乾燥後１．２μｍとなるようにジルコニア（濃度２８質量％）を含むアクリル樹脂溶液を塗工し、次いで８０℃で１分間乾燥させ、高圧水銀ランプで積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるよう紫外線を照射し、第１ハードコート層（屈折率１．６５）を形成した。基材の他方の面に、グラビア印刷を用いて、乾燥後１．５μｍとなるようにアクリル樹脂溶液を塗工し、次いで８０℃で１分間乾燥させ、高圧水銀ランプで積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるよう紫外線を照射し、第２ハードコート層（屈折率１．５）を形成した。次いで、第１ハードコート層上に、グラビア印刷を用いて、乾燥後８０ｎｍとなるようにジルコニア（濃度３２質量％）を含むアクリル樹脂溶液を塗工し、次いで８０℃で１分間乾燥させ、高圧水銀ランプで積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるよう紫外線を照射し、第２光学調整層（屈折率１．６８）を形成した。次いで、第２光学調整層上に、マグネトロンスパッタリング法による反応性スパッタリングにて、ＳｉＯｘによる第１光学調整層の厚みが５ｎｍとなるように第１光学調整層（屈折率１．４６）を形成した。次いで、第１光学調整層上に、マグネトロンスパッタリング法による反応性スパッタリングにて、ＩＴＯによる透明導電層の厚みが３５ｎｍとなるように透明導電層（屈折率２．０）を形成した。以上の工程により、比較例１の透明導電性フィルムを作製した。

（比較例２）
ＰＥＴ基材（厚み１００μｍ、屈折率１．６５）を準備した。基材の一方の面に、グラビア印刷を用いて、乾燥後１．２μｍとなるようアクリル樹脂溶液を塗工し、次いで８０℃で１分間乾燥させ、高圧水銀ランプで積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるよう紫外線を照射し、第１ハードコート層（屈折率１．５）を形成した。基材の他方の面に、グラビア印刷を用いて、乾燥後１．５μｍとなるようにアクリル樹脂溶液を塗工し、次いで８０℃で１分間乾燥させ、高圧水銀ランプで積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるよう紫外線を照射し、第２ハードコート層（屈折率１．５）を形成した。次いで、第１ハードコート層上に、グラビア印刷を用いて、乾燥後９０ｎｍとなるようにジルコニア（濃度２０質量％）を含むアクリル樹脂溶液を塗工し、次いで８０℃で１分間乾燥させ、高圧水銀ランプで積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるよう紫外線を照射し、第２光学調整層（屈折率１．５９）を形成した。次いで、第２光学調整層上に、マグネトロンスパッタリング法による反応性スパッタリングにて、ＳｉＯｘによる第１光学調整層の厚みが５ｎｍとなるように第１光学調整層（屈折率１．４６）を形成した。次いで、第１光学調整層上に、マグネトロンスパッタリング法による反応性スパッタリングにて、ＩＴＯによる透明導電層の厚みが３５ｎｍとなるように透明導電層（屈折率２．０）を形成した。以上の工程により、比較例２の透明導電性フィルムを作製した。

（試験例１〜４）
ＣＯＰ基材（厚み５０μｍ、屈折率１．５１）を準備した。基材の一方の面に、グラビア印刷を用いて、乾燥後１００ｎｍとなるようにジルコニア（濃度３６質量％）を含むアクリル樹脂溶液を塗工し、次いで８０℃で１分間乾燥させ、高圧水銀ランプで積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるよう紫外線を照射し、第１ハードコート層（屈折率１．７６）を形成した。次いで、第１ハードコート層上に、マグネトロンスパッタリング法による反応性スパッタリングにて、ＩＴＯによる透明導電層の厚みが３５ｎｍとなるように透明導電層（屈折率２．０）を形成した。以上の工程により、試験例１〜４の透明導電性フィルムを作製した。

得られた実施例１〜６、比較例１〜２、試験例１〜４の透明導電性フィルムに関して、５０ｍｍ四方の領域を９等分した各領域における、下記式（１）で算出されるΔＥ_aveを算出した。結果を表１に示す。
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、
ΔＥ_ave＝（ΔＥ_i,jの平均値）
ΔＥ_i,j＝（（ΔＬ^* _i,j）²＋（Δａ^* _i,j）²＋（Δｂ^* _i,j）²）^1/2・・・（１）
ただし、ΔＬ^* _i,j＝Ｌ^* _i−Ｌ^* _j、Δａ^* _i,j＝ａ^* _i−ａ^* _j、Δｂ^* _i,j＝ｂ^* _i−ｂ^* _jであり、かつ、ｉ，ｊは、いずれも１〜９の整数（ｉ≠ｊ、ｉ＜ｊ）である。

具体的には、平均色目差（ΔＥ_ave）は、黒テープ等で裏面反射を無くした透明導電性フィルムのサンプル（寸法：５ｃｍ四方）を準備し、縦横３×３の９点の正方形の領域における反射波形を測定した。それぞれの反射波形から、各測定点間の色目差を計算し（合計３６か所）、上記式に従ってΔＥ_aveを算出した。Ｌ^*、ａ^*、ｂ^*は、大塚電子（株）製の反射分光厚み計（ＦＥ−３０００）を用いて、波長４００〜７００ｎｍにおける可視光線に関して、１ｎｍ間隔で絶対反射率を測定することにより算出した。

また、実施例１〜６、比較例１〜２、試験例１〜４の透明導電性フィルムに関して、１０人の試験者１〜１０によって、干渉ムラの有無を、以下の評価基準にしたがって評価した。
（評価基準）
５点：タッチパネルは、干渉ムラが無かった。
３点：タッチパネルは、少し干渉ムラが見られた。
１点：タッチパネルは、多くの干渉ムラが見られた。

表１に示されるように、種々のΔＥ_aveを調整した透明導電性フィルムを作製したところ、ΔＥ_aveの値が０．０７４以下である透明導電性フィルムを用いた場合に、得られるタッチパネルに干渉ムラが生じにくいことがわかった。一方、ΔＥ_aveの値が０．０７４を超える透明導電性フィルムを用いた場合に、得られるタッチパネルに干渉ムラが生じやすいことがわかった。

＜骨見えの改善効果の確認＞
実施例２および比較例１〜２について、骨見えの有無を確認した。なお、屈折率は、いずれも波長５８９ｎｍの光に対する屈折率である。

実施例２および比較例１〜２の透明導電性フィルムに関して、ＩＴＯを部分的にエッチングした。そして、（株）島津製作所製の紫外可視分光光度計ＵＶ−３６００を用い、各サンプルのＩＴＯ部分とＩＴＯエッチング部分における、３００〜８００ｎｍの波長範囲での反射分光スペクトルを測定した。なお、反射Ｙを視感度反射率とし、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ^*、ａ^*、ｂ^*をそれぞれ明度、色度、色度とした場合における、ΔＲ（視感度反射率差）およびΔＥ（Ｒ）（色目差）を、以下の計算式にしたがって算出した。ΔＲおよびΔＥ（Ｒ）が小さい場合に、骨見えが改善されていることが示される。
ΔＲ＝絶対値（反射Ｙ（ＩＴＯ部分）−反射Ｙ（ＩＴＯエッチング部分））
ΔＥ（Ｒ）＝（（ΔＬ^*）²）＋（Δａ^*）²）＋（Δｂ^*）²））^1/2
ただし、
ΔＬ^*＝Ｌ^*（ＩＴＯ部分）−Ｌ^*（ＩＴＯエッチング部分）
Δａ^*＝ａ^*（ＩＴＯ部分）−ａ^*（ＩＴＯエッチング部分）
Δｂ^*＝ｂ^*（ＩＴＯ部分）−ｂ^*（ＩＴＯエッチング部分）

表２に示されるように、実施例１の透明導電性フィルムは、骨見えが改善されていた。一方、第２光学調整層に代えて、屈折率が１．６８である層を採用した比較例１の透明導電性フィルムと、屈折率が１．５９である層を採用した比較例２の透明導電性フィルムとは、いずれも、骨見えが改善されなかった。

１ 透明導電性フィルム
２ 基材
３ 光学調整層
３１ 第１光学調整層
３２ 第２光学調整層
４ 透明導電層
５ 第１ハードコート層
６ 第２ハードコート層
７ 密着層
８ 液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）
９ 光学粘着シート（ＯＣＡ）
１０ タッチセンサー
１１ カバーガラス
１２ 反射防止（ＡＲ）フィルム
Ｐ タッチパネル

Claims (9)

1. 基材と、光学調整層と、透明導電層とをこの順に有し、
   前記光学調整層は、第１光学調整層と、第２光学調整層とが積層されており、
   前記第２光学調整層は、前記基材側に位置し、
   前記第１光学調整層の波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、１．３５〜１．５であり、
   前記第２光学調整層の波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、２．０〜２．５であり、
   ５０ｍｍ四方の領域を９等分した各領域における、下記式（１）で算出されるΔＥ_aveは、０．０７４以下である、透明導電性フィルム。
   Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、
   ΔＥ_ave＝（ΔＥ_i,jの平均値）
   ΔＥ_i,j＝（（ΔＬ^* _i,j）²＋（Δａ^* _i,j）²＋（Δｂ^* _i,j）²）^1/2・・・（１）
   ただし、ΔＬ^* _i,j＝Ｌ^* _i−Ｌ^* _j、Δａ^* _i,j＝ａ^* _i−ａ^* _j、Δｂ^* _i,j＝ｂ^* _i−ｂ^* _jであり、かつ、ｉ，ｊは、いずれも１〜９の整数（ｉ≠ｊ、ｉ＜ｊ）である。
2. 前記第１光学調整層の厚みは、１５〜３５ｎｍであり、
   前記第２光学調整層の厚みは、４〜１５ｎｍである、請求項１記載の透明導電性フィルム。
3. 前記基材と前記光学調整層との間に、第１ハードコート層が設けられている、請求項１または２記載の透明導電性フィルム。
4. 前記第２光学調整層と前記第１ハードコート層との間に、密着層が設けられており、
   前記密着層は、ケイ素を含む、請求項３記載の透明導電性フィルム。
5. 前記密着層の厚みは、０．３〜２．０ｎｍである、請求項４記載の透明導電性フィルム。
6. 前記基材は、前記第１ハードコート層が設けられた面と反対側の面に、第２ハードコート層が設けられている、請求項３〜５のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
7. 前記透明導電層の厚みは、２０〜６０ｎｍである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
8. 前記透明導電層のシート抵抗値は、９０Ω／□以下である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
9. 前記第１光学調整層は、ＳｉＯｘ（１≦ｘ≦２）を含み、
   前記第２光学調整層は、ＮｂＯｙ（１≦ｙ≦２．５）を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。

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