JP2020076883A - 反射防止フィルム - Google Patents
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Abstract
【課題】広い光入射角度の範囲で反射低減効果が得られる反射防止フィルムの提供。【解決手段】本発明の反射防止フィルムは、フィルム状の基材２と、基材２上に形成される光調整層３とを備える。光調整層３が形成される側の表面１ａの法線を基準とする入射角度が８°である光の反射スペクトルにおいて、波長４３０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の範囲に反射ピークがあると共に、反射ピークのピークトップにおける波長の反射率が、０．５％以上１．４％以下であり、かつ波長８００ｎｍにおける反射率が３．５％以上４．７％以下である。【選択図】図１
Description
本発明は、反射防止フィルムに関する。
ディスプレイ等の表示装置に反射防止フィルムを貼り付けることで、外光反射を低減し、表示装置の視認性を改善することが行われている。この種の反射防止フィルムとしては、例えば、誘電体多層膜を利用したものが知られている（特許文献１参照）。また、他の反射防止フィルムとしては、表面にモスアイ構造と呼ばれる微小突起列が設けられたものが知られている。
誘電体多層膜を利用した反射防止フィルムは、光入射角度（法線基準）が比較的小さい場合に、反射低減機能が発揮されるものの、光入射角度が大きくなると、反射低減機能が低下するという問題があった。光入射角度が大きいと、反射光によって表示装置を視認する利用者や背景が表示装置に写り込む形となり、表示装置の本来の表示内容が見え難くなる。
特に、車載コンソール等の大型の表示装置の場合、視認角度が利用者によって大きく異なることがあるため、広い光入射角度の範囲で、反射低減効果が要求される。しかしながら、誘電体多層膜を利用した反射防止フィルムでは、反射を低減できる光入射角度の範囲が狭いため、問題となっていた。
また、モスアイ構造を利用した反射防止フィルムは、反射を低減できる光入射角度の範囲が、誘電体多層膜を利用した反射防止フィルムと比べて広いものの、物理的な接触等の影響により、モスアイ構造が壊れ易いという問題があった。
本発明の目的は、広い光入射角度の範囲で反射低減効果が得られる反射防止フィルムを提供することである。
本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、光調整層が形成される側の表面の法線を基準とする入射角度が８°である光の反射スペクトルにおいて、波長４３０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の範囲に反射ピークがあると共に、前記反射ピークのピークトップにおける波長の反射率が、０．５％以上１．４％以下であり、かつ波長８００ｎｍにおける反射率が３．５％以上４．７％以下であると、広い光入射角度の範囲で反射低減効果が得られることを見出し、本願発明の完成に至った。
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。即ち、
＜１＞ フィルム状の基材と、前記基材上に形成される光調整層とを備え、前記光調整層が形成される側の表面の法線を基準とする入射角度が８°である光の反射スペクトルにおいて、波長４３０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の範囲に反射ピークがあると共に、前記反射ピークのピークトップにおける波長の反射率が、０．５％以上１．４％以下であり、かつ波長８００ｎｍにおける反射率が３．５％以上４．７％以下である反射防止フィルム。
＜１＞ フィルム状の基材と、前記基材上に形成される光調整層とを備え、前記光調整層が形成される側の表面の法線を基準とする入射角度が８°である光の反射スペクトルにおいて、波長４３０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の範囲に反射ピークがあると共に、前記反射ピークのピークトップにおける波長の反射率が、０．５％以上１．４％以下であり、かつ波長８００ｎｍにおける反射率が３．５％以上４．７％以下である反射防止フィルム。
＜２＞ 前記光調整層は、前記基材上に形成される第１高屈折率層と、前記第１高屈折率層上に形成される第１低屈折率層と、前記第１低屈折率層上に形成される第２高屈折率層と、前記第２高屈折率層上に形成される第２低屈折率層とを有する前記＜１＞に記載の反射防止フィルム。
＜３＞ 前記基材の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍに対する、前記基材の十点平均粗さＲｚｊｉｓの割合（Ｒｚｊｉｓ／ＲＳｍ）が、０．００８以上０．０１９以下である前記＜１＞又は＜２＞に記載の反射防止フィルム。
本願発明によれば、広い光入射角度の範囲で反射低減効果が得られる反射防止フィルムを提供することができる。
〔反射防止フィルム〕
図１は、本発明の一実施形態に係る反射防止フィルム１の構成を模式的に表した説明図である。反射防止フィルム１は、広い光入射角度の範囲で反射低減機能を示すものであり、反射光を低減できる光の入射角度の依存性が低い。このような反射防止フィルム１は、フィルム状の基材２と、基材２上に形成される光調整層３とを備えている。
図１は、本発明の一実施形態に係る反射防止フィルム１の構成を模式的に表した説明図である。反射防止フィルム１は、広い光入射角度の範囲で反射低減機能を示すものであり、反射光を低減できる光の入射角度の依存性が低い。このような反射防止フィルム１は、フィルム状の基材２と、基材２上に形成される光調整層３とを備えている。
基材２は、光透過性を有し、光調整層３等を支持する樹脂製のフィルム状の部材からなる。基材２は、光透過性に優れ、光調整層３等の他の層を支持可能であり、適度な可撓性を備えたものであれば特に制限はない。基材２に使用される具体的な樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のアクリル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂（ＴＡＣ）、シクロオレフィン樹脂（ＣＯＰ）、ポリカーボネート樹脂とポリメタクリル酸メチルの積層品（ＰＣ／ＰＭＭＡ）等が挙げられる。これらのうち、基材２を構成する樹脂としては、ポリエステル樹脂が好ましく、特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。
なお、前記樹脂中には、必要に応じて、各種の添加剤（紫外線吸収剤、難燃剤、酸化防止剤、着色剤、老化防止剤、フィラー等）が添加されてもよい。
基材２の厚みは、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、２５μｍ〜５ｍｍが好ましい。
基材２の表面のうち、少なくとも光調整層３等の他の層が形成される側の表面は、所定の微小な凹凸構造を備えていることが好ましい。基材２の表面が所定の微小な凹凸構造を備えていると、広い光入射角度の範囲で反射低減効果がより得られ易くなる。
基材２の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、４０μｍ以上１５０μｍ以下が好ましい。
また、基材２の十点平均粗さＲｚｊｉｓは、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、０．５μｍ以上１．５μｍ以下が好ましい。
また、基材２の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍに対する、基材２の十点平均粗さＲｚｊｉｓの割合（Ｒｚｊｉｓ／ＲＳｍ）は、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、０．００８以上０．０１９以下が好ましい。なお、本明細書において、ＲＳｍ及びＲｚｊｉｓは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２０１３に準拠した方法で測定された値を意味する。
基材２の表面における微細な凹凸構造は、基材２の表面に対して、プラズマ処理、コロナ放電処理、火炎処理等の表面処理を行うことで形成してもよいし、基材２を構成する樹脂中に、フィラーを添加し、そのフィラーの形状を利用して形成してもよい。フィラーの形状、配合量、大きさ等の諸条件は、目的に応じて適宜、設定されればよい。
基材２としては、単層状であってもよいし、多層状であってもよい。多層状の基材としては、例えば、樹脂製の芯層と、この芯層の少なくとも片面に積層されるハードコート層とを備えるものが挙げられる。この場合、芯層には、上述した樹脂が利用される。また、ハードコート層としては、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、紫外線硬化型アクリル樹脂等の公知の透明な樹脂が利用される。ハードコート層は、芯層の片面のみに形成されてもよいし、芯層の両面に形成されてもよい。ハードコート層の厚みは、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、１μｍ以上５μｍ以下がより好ましい。
基材２の表面に、後述する光調整層３を直接、形成してもよいし、密着層を介して光調整層３を形成してもよい。密着層に使用される材料、厚み等の諸条件は、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はない。
なお、光調整層３等が形成されない側の基材２の表面には、粘着剤層等の他の層が形成されてもよい。
光調整層３は、反射防止フィルム１に所定の角度で入射した光に対して、反射を低減する機能を備えている。光調整層３は、光調整層３が形成される側の反射防止フィルム１の表面の法線を基準とする入射角度が８°である光の反射スペクトルにおいて、波長４３０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の範囲に反射ピークがあると共に、前記反射ピークのピークトップにおける波長の反射率が、０．５％以上１．４％以下であり、かつ波長８００ｎｍにおける反射率が３．５％以上４．７％以下となるように、層構成、組成、屈折率、厚み等の諸条件が、適宜、設定される。なお、波長４３０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の範囲に反射ピークは、通常、１つである。反射ピークが複数の場合は、もっとも大きな（反射率の高い）反射ピークが選択される。
前記法線を基準とする光の入射角度が８°の場合に、反射スペクトルが上述した各条件を満たすと、前記法線を基準とする光の入射角度が大きくなっても、可視光領域の光（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）の反射が低く抑えられ、特に、視感反射率が低く抑えられる。例えば、前記法線を基準とする光の入射角度θが５０°以下の場合（好ましくは４５°以下の場合）、可視光領域の光の反射が低く抑えられる。図２には、光調整層３が形成される側の反射防止フィルム１の表面１ａの法線Ｘを基準とする入射角度θで入射する光Ｌ１と、反射防止フィルム１の光調整層３によって反射された反射光Ｌ２との関係が模式的に示されている。
光調整層３の一例としては、例えば、図１に示されるように、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されたものからなる。その場合、最も基材２側に配される層が、第１高屈折率層４であり、その第１高屈折率層４上に形成される層が、第１低屈折率層５であり、その第１低屈折率層５上に形成される層が、第２高屈折率層６であり、その第２高屈折率層６上に形成される層が、第２低屈折率層７である。第２低屈折率層７は、これらの中では、最も外側に配される層である。高屈折率層及び低屈折率層は、反射防止機能を確保し易い等の観点より、４層以上に積層されることが好ましく、特に４層が好ましい。
なお、本明細書において、高屈折率層（第１高屈折率層４、第２高屈折率層６等）は、波長５００ｎｍ〜５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．９以上の層であり、低屈折率層（第１低屈折率層５、第２低屈折率層７等）は、波長５００ｎｍ〜５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．５以下の層である。
高屈折率層を構成する材料としては、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５等の金属酸化物が挙げられる。また、これらの例示された材料（金属酸化物）に対して、異なる元素をドーピングしたものも、高屈折率層の材料として用いることができる。高屈折率層の厚みは、特に制限はないが、例えば、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましい。
光調整層３が４層構造の場合、第１高屈折率層の厚みは、第２高屈折率層の厚みよりも小さいことが好ましい。第１高屈折率層の厚みは、例えば、１０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。第２高屈折率層の厚みは、例えば、８０ｎｍ以上が好ましく、９０ｎｍ以上がより好ましく、１００ｎｍ以上が更に好ましく、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１２０ｎｍ以下が更に好ましい。
低屈折率層を構成する材料としては、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、ＳｉＯｘ（１＜ｘ≦２）、ＭｇＦ２、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４（チオライト）、Ｎａ３ＡｌＦ６（クリオライト）等が挙げられる。低屈折率層の厚みは、特に制限はないが、例えば、３０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下が好ましい。
光調整層３が４層構造の場合、第１低屈折率層の厚みは、第２低屈折率層の厚みよりも小さいことが好ましい。第１低屈折率層の厚みは、例えば、３０ｎｍ以上が好ましく、３５ｎｍ以上がより好ましく、６０ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、４０ｎｍ以下が更に好ましい。第２低屈折率層の厚みは、例えば、７０ｎｍ以上が好ましく、７５ｎｍ以上がより好ましく、８０ｎｍ以上が更に好ましく、１３０ｎｍ以下が好ましく、１１０ｎｍ以下がより好ましく、９５ｎｍ以下が更に好ましい。
光調整層３（高屈折率層、低屈折率層）を、基材２上に成膜する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択される。成膜方法としては、基材２に対して確実に積層し易い等の理由により、スパッタリング法が特に好ましい。
また、スパッタリング法としては、成膜速度の観点より、金属を成膜する場合は、ＤＣ電源を用いたマグネトロンスパッタリング法が好ましく、導電性の金属酸化物を成膜する場合は、ＤＣｐｕｌｓｅ電源を用いた反応性スパッタリング法が好ましく、絶縁性の高いＳｉＯｘを成膜する場合は、ＭＦ電源を用いたデュアルマグネトロンカソードによる反応性スパッタリング法が好ましい。なお、スパッタリング法により多層成膜する場合、１つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する１チャンバ法であってもよいし、複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法であってもよいが、生産性及び材料コンタミネーションを防止する等の観点より、マルチチャンバ法が好ましい。
反射防止フィルム１では、本発明の目的を損なわない限り、光調整層３上に、更に他の層が形成されてもよい。他の層としては、フッ素コーティング剤からなる保護層等が挙げられる。保護層の厚みは、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましい。
反射防止フィルム１は、本発明の目的を損なわない限り、更に、バリア層、中間層等の他の層を備えてもよい。
反射防止フィルム１は、広い光入射角度の範囲で反射低減機能を示すものであり、例えば、自動車等の乗り物のディスプレイ、インストルメントパネル、車載コンソール、センターインフォメーションディスプレイ、メーターパネル、カーナビゲーションシステム等の表示面や、スマートフォン、タブレット端末等の携帯型機器の表示面等に貼り付けて、反射防止・低減等の目的で用いることができる。特に、反射防止フィルムは、広い光入射角度の範囲で反射低減効果が得られるため、大型の表示装置に対して好適に用いることができる。また、反射防止フィルム１は、光透過性を有する部材（例えば、窓ガラス等のガラス製品）等の表示装置以外の物に対して用いてもよい。
以下、実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
〔反射スペクトルの検証〕
（実施例１〜５及び比較例１〜６）
光学薄膜設計ソフトウェアを利用したシミュレーションにより、表１及び表２に示される層構成を備えた実施例１〜５及び比較例１〜６の反射防止フィルムについて、反射スペクトルを求めた。反射スペクトルとしては、光入射角度が８°の場合、３０°の場合、及び４０°の場合の３つ場合のものを得た。結果は、図３〜図１３に示した。
（実施例１〜５及び比較例１〜６）
光学薄膜設計ソフトウェアを利用したシミュレーションにより、表１及び表２に示される層構成を備えた実施例１〜５及び比較例１〜６の反射防止フィルムについて、反射スペクトルを求めた。反射スペクトルとしては、光入射角度が８°の場合、３０°の場合、及び４０°の場合の３つ場合のものを得た。結果は、図３〜図１３に示した。
また、各実施例及び各比較例の反射防止フィルムについて、同様のソフトウェアを利用したシミュレーションにより、視感反射率（％）を求めた。視感反射率（％）は、光入射角度が８°の場合、３０°の場合、及び４０°の場合の３つの場合のものを求めた。結果は、表１及び表２に示した。
また、各実施例及び各比較例について、光入射角度が８°の場合の反射スペクトルより、波長４３０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の範囲にある光の反射ピーク（ピークトップ）における波長の反射率（％）、及び波長８００ｎｍにおける光の反射率（％）を求めた。結果は、表１及び表２に示した。
実施例１〜５では、表１に示されるように、光入射角度が８°の場合における視感反射率が、０．３％以下となり、光入射角度が３０°の場合における視感反射率が、０．２５％以下となり、光入射角度が４０°の場合における視感反射率が、０．５０％以下となった。このように、実施例１〜５の反射防止フィルムは、光入射角度が大きくなっても、十分な反射低減効果が得られることが確かめられた。
なお、比較例１は波長４３０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の範囲にある反射ピークのピークトップにおける波長の反射率が、所定の条件を満たさない場合である。比較例２、比較例３、比較例５、及び比較例６は、光入射角度が８°の場合における反射スペクトルにおいて、波長４３０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の範囲にある反射ピークのピークトップにおける波長の反射率と、波長８００ｎｍにおける反射率が、所定の条件を満たさない場合である。また、比較例４は、波長８００ｎｍにおける反射率が、所定の条件を満たさない場合である。
〔基材表面の凹凸構造による光学的効果の検証〕
（実施例６〜１０及び比較例７〜１０）
表３に示されるような、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ、及び十点平均粗さＲｚｊｉｓを有するＰＥＴ製の基材を用意した。そして、各基材の表面に、スパッタリングにより、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）の膜からなる第１高屈折率層（厚み：１５ｎｍ）、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ、１＜ｘ≦２）の膜からなる第１低屈折率層（厚み：３０ｎｍ）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）の膜からなる第２高屈折率層（厚み：１１７ｎｍ）、及び酸化ケイ素（ＳｉＯｘ、１＜ｘ≦２）の膜からなる第２低屈折率層（厚み：８９ｎｍ）を、この順で積層し、各実施例及び各比較例の反射防止フィルムを得た。スパッタリングの成膜条件は、以下の通りである。なお、表３には、基材の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍに対する、基材の十点平均粗さＲｚｊｉｓの割合（Ｒｚｊｉｓ／ＲＳｍ）も示した。
（実施例６〜１０及び比較例７〜１０）
表３に示されるような、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ、及び十点平均粗さＲｚｊｉｓを有するＰＥＴ製の基材を用意した。そして、各基材の表面に、スパッタリングにより、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）の膜からなる第１高屈折率層（厚み：１５ｎｍ）、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ、１＜ｘ≦２）の膜からなる第１低屈折率層（厚み：３０ｎｍ）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）の膜からなる第２高屈折率層（厚み：１１７ｎｍ）、及び酸化ケイ素（ＳｉＯｘ、１＜ｘ≦２）の膜からなる第２低屈折率層（厚み：８９ｎｍ）を、この順で積層し、各実施例及び各比較例の反射防止フィルムを得た。スパッタリングの成膜条件は、以下の通りである。なお、表３には、基材の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍに対する、基材の十点平均粗さＲｚｊｉｓの割合（Ｒｚｊｉｓ／ＲＳｍ）も示した。
＜成膜条件：第１高屈折率層及び第２高屈折率層＞
ターゲット：導電性Ｎｂ２Ｏ５ターゲット（三菱マテリアル社製）、成膜圧力：０．３Ｐａ、ＤＣパワー：２．５Ｗ／ｃｍ２
＜成膜条件：第１低屈折率層及び第２低屈折率層＞
ターゲット：Ｓｉターゲット（アルバック社製）、成膜圧力：０．３Ｐａ、ＤＣパワー：１．９Ｗ／ｃｍ２
ターゲット：導電性Ｎｂ２Ｏ５ターゲット（三菱マテリアル社製）、成膜圧力：０．３Ｐａ、ＤＣパワー：２．５Ｗ／ｃｍ２
＜成膜条件：第１低屈折率層及び第２低屈折率層＞
ターゲット：Ｓｉターゲット（アルバック社製）、成膜圧力：０．３Ｐａ、ＤＣパワー：１．９Ｗ／ｃｍ２
なお、上記スパッタリングにおける成膜では、ロール・トゥ・ロール方式のマグネトロンスパッタリング装置を用いた。また、スパッタリング装置の各チャンバ内に供給されるガス（例えば、アルゴンガス）の流量は、所定のマスフローコントローラを用いて、適宜、調節した。
得られた各実施例及び各比較例の反射防止フィルムについて、光の入射角度が８°の場合、及び４０°の場合における反射率（％）を、分光光度計（製品名「ＵＨ４１５０」、株式会社日立ハイテクサイエンス製）を使用して測定した。具体的には、光源として、タングステンハロゲンランプ（可視・近赤外域）、及び重水素ランプ（紫外域）を使用し、分光光度計と、角度調整冶具を用いて各反射防止フィルムの透過率（％）を測定し、その透過率（％）の値と、吸収率（％）の値（計算値）とを利用して、下記に示される計算式（１）より、反射率（％）を求めた。
反射率（％）＝１００−透過率（％）−吸収率（％）（計算値） ・・・・・（１）
なお、吸収率（％）（計算値）は、光入射角度が８°の場合における反射率（％）及び透過率（％）の各測定値と、上記計算式（１）とを利用して求めた値である。
なお、吸収率（％）（計算値）は、光入射角度が８°の場合における反射率（％）及び透過率（％）の各測定値と、上記計算式（１）とを利用して求めた値である。
光入射角度が８°の場合の反射率（％）、及び光入射角度が４０°の場合の反射率（％）をそれぞれ求めた後、更に、それら反射率比（光入射角度が４０°の場合の反射率（％）に対する、光入射角度が８°の場合の反射率（％）の割合）を求めた。結果は、表３に示した。
実施例６〜１０は、表３に示されるように、Ｒｚｊｉｓ／ＲＳｍが所定の範囲を満たす場合である。このような実施例６〜１０では、反射率比が、比較例７〜１０と比べて、低い値となった。このことより、実施例６〜１０は、光の入射角度が８°から４０°へ大きくなっても、反射光が低減されることが確かめられた。
なお、比較例１０は、表面粗さＲｚｊｉｓの値が小さく、基材表面が平坦な場合である。このように、基材表面が平坦であると、反射率比が最も大きな値となった。比較例７は、基材表面に、ある程度の大きさの凹凸構造が存在するものの、Ｒｚｊｉｓ／ＲＳｍの値が小さ過ぎる場合である。また、比較例８，９も、基材表面に、ある程度の大きさの凹凸構造が存在するものの、Ｒｚｊｉｓ／ＲＳｍの値が大き過ぎる場合である。このような比較例７〜９では、光の入射角度が８°から４０°へ大きくなると、反射光の割合が増加し、反射率比が大きくなる結果となった。
１…反射防止フィルム、１ａ…表面、２…基材、３…光調整層、４…第１高屈折率層、５…第１低屈折率層、６…第２高屈折率層、７…第２低屈折率層
Claims (3)
- フィルム状の基材と、
前記基材上に形成される光調整層とを備え、
前記光調整層が形成される側の表面の法線を基準とする入射角度が８°である光の反射スペクトルにおいて、波長４３０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の範囲に反射ピークがあると共に、前記反射ピークのピークトップにおける波長の反射率が、０．５％以上１．４％以下であり、かつ波長８００ｎｍにおける反射率が３．５％以上４．７％以下である反射防止フィルム。 - 前記光調整層は、前記基材上に形成される第１高屈折率層と、前記第１高屈折率層上に形成される第１低屈折率層と、前記第１低屈折率層上に形成される第２高屈折率層と、前記第２高屈折率層上に形成される第２低屈折率層とを有する請求項１に記載の反射防止フィルム。
- 前記基材の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍに対する、前記基材の十点平均粗さＲｚｊｉｓの割合（Ｒｚｊｉｓ／ＲＳｍ）が、０．００８以上０．０１９以下である請求項１又は請求項２に記載の反射防止フィルム。
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2018
- 2018-11-08 JP JP2018210605A patent/JP2020076883A/ja active Pending
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