JP2020076883A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020076883A JP2020076883A JP2018210605A JP2018210605A JP2020076883A JP 2020076883 A JP2020076883 A JP 2020076883A JP 2018210605 A JP2018210605 A JP 2018210605A JP 2018210605 A JP2018210605 A JP 2018210605A JP 2020076883 A JP2020076883 A JP 2020076883A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- light
- index layer
- less
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 46
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 abstract description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 104
- 239000010408 film Substances 0.000 description 62
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 24
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 6
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012792 core layer Substances 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 229910001610 cryolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
Description
<1> フィルム状の基材と、前記基材上に形成される光調整層とを備え、前記光調整層が形成される側の表面の法線を基準とする入射角度が8°である光の反射スペクトルにおいて、波長430nm以上490nm以下の範囲に反射ピークがあると共に、前記反射ピークのピークトップにおける波長の反射率が、0.5%以上1.4%以下であり、かつ波長800nmにおける反射率が3.5%以上4.7%以下である反射防止フィルム。
図1は、本発明の一実施形態に係る反射防止フィルム1の構成を模式的に表した説明図である。反射防止フィルム1は、広い光入射角度の範囲で反射低減機能を示すものであり、反射光を低減できる光の入射角度の依存性が低い。このような反射防止フィルム1は、フィルム状の基材2と、基材2上に形成される光調整層3とを備えている。
(実施例1〜5及び比較例1〜6)
光学薄膜設計ソフトウェアを利用したシミュレーションにより、表1及び表2に示される層構成を備えた実施例1〜5及び比較例1〜6の反射防止フィルムについて、反射スペクトルを求めた。反射スペクトルとしては、光入射角度が8°の場合、30°の場合、及び40°の場合の3つ場合のものを得た。結果は、図3〜図13に示した。
(実施例6〜10及び比較例7〜10)
表3に示されるような、粗さ曲線要素の平均長さRSm、及び十点平均粗さRzjisを有するPET製の基材を用意した。そして、各基材の表面に、スパッタリングにより、酸化ニオブ(Nb2O5)の膜からなる第1高屈折率層(厚み:15nm)、酸化ケイ素(SiOx、1<x≦2)の膜からなる第1低屈折率層(厚み:30nm)、酸化ニオブ(Nb2O5)の膜からなる第2高屈折率層(厚み:117nm)、及び酸化ケイ素(SiOx、1<x≦2)の膜からなる第2低屈折率層(厚み:89nm)を、この順で積層し、各実施例及び各比較例の反射防止フィルムを得た。スパッタリングの成膜条件は、以下の通りである。なお、表3には、基材の粗さ曲線要素の平均長さRSmに対する、基材の十点平均粗さRzjisの割合(Rzjis/RSm)も示した。
ターゲット:導電性Nb2O5ターゲット(三菱マテリアル社製)、成膜圧力:0.3Pa、DCパワー:2.5W/cm2
<成膜条件:第1低屈折率層及び第2低屈折率層>
ターゲット:Siターゲット(アルバック社製)、成膜圧力:0.3Pa、DCパワー:1.9W/cm2
なお、吸収率(%)(計算値)は、光入射角度が8°の場合における反射率(%)及び透過率(%)の各測定値と、上記計算式(1)とを利用して求めた値である。
Claims (3)
- フィルム状の基材と、
前記基材上に形成される光調整層とを備え、
前記光調整層が形成される側の表面の法線を基準とする入射角度が8°である光の反射スペクトルにおいて、波長430nm以上490nm以下の範囲に反射ピークがあると共に、前記反射ピークのピークトップにおける波長の反射率が、0.5%以上1.4%以下であり、かつ波長800nmにおける反射率が3.5%以上4.7%以下である反射防止フィルム。 - 前記光調整層は、前記基材上に形成される第1高屈折率層と、前記第1高屈折率層上に形成される第1低屈折率層と、前記第1低屈折率層上に形成される第2高屈折率層と、前記第2高屈折率層上に形成される第2低屈折率層とを有する請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記基材の粗さ曲線要素の平均長さRSmに対する、前記基材の十点平均粗さRzjisの割合(Rzjis/RSm)が、0.008以上0.019以下である請求項1又は請求項2に記載の反射防止フィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018210605A JP2020076883A (ja) | 2018-11-08 | 2018-11-08 | 反射防止フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018210605A JP2020076883A (ja) | 2018-11-08 | 2018-11-08 | 反射防止フィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020076883A true JP2020076883A (ja) | 2020-05-21 |
Family
ID=70724491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018210605A Pending JP2020076883A (ja) | 2018-11-08 | 2018-11-08 | 反射防止フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2020076883A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021184032A (ja) * | 2020-05-21 | 2021-12-02 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止フィルム |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11204065A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-07-30 | Sony Corp | 低反射膜、および、低反射膜を用いた表示パネル |
JP2009211061A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-09-17 | Nippon Zeon Co Ltd | 反射防止フィルム |
WO2009133833A1 (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | Hoya株式会社 | 光学素子及び反射防止膜 |
WO2013183457A1 (ja) * | 2012-06-08 | 2013-12-12 | 旭硝子株式会社 | 光学素子 |
JP2017125876A (ja) * | 2016-01-12 | 2017-07-20 | 旭硝子株式会社 | 防汚層付きガラス基体およびディスプレイ用前面板 |
JP2017151430A (ja) * | 2016-02-23 | 2017-08-31 | 東海光学株式会社 | プラスチック基材ndフィルタ及び眼鏡用プラスチック基材ndフィルタ |
-
2018
- 2018-11-08 JP JP2018210605A patent/JP2020076883A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11204065A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-07-30 | Sony Corp | 低反射膜、および、低反射膜を用いた表示パネル |
JP2009211061A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-09-17 | Nippon Zeon Co Ltd | 反射防止フィルム |
WO2009133833A1 (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | Hoya株式会社 | 光学素子及び反射防止膜 |
WO2013183457A1 (ja) * | 2012-06-08 | 2013-12-12 | 旭硝子株式会社 | 光学素子 |
JP2017125876A (ja) * | 2016-01-12 | 2017-07-20 | 旭硝子株式会社 | 防汚層付きガラス基体およびディスプレイ用前面板 |
JP2017151430A (ja) * | 2016-02-23 | 2017-08-31 | 東海光学株式会社 | プラスチック基材ndフィルタ及び眼鏡用プラスチック基材ndフィルタ |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021184032A (ja) * | 2020-05-21 | 2021-12-02 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止フィルム |
JP7121070B2 (ja) | 2020-05-21 | 2022-08-17 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止フィルム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4802568B2 (ja) | 反射防止積層体、光学機能性フィルタ、光学表示装置および光学物品 | |
KR102482628B1 (ko) | 디스플레이 영역을 포함하는 투명 층상 요소 | |
KR102439066B1 (ko) | 광학 적층체 및 물품 | |
JP2008053231A (ja) | 反射防止層を備える発光デバイス。 | |
US20140300979A1 (en) | Half mirror front plate | |
JP2011194679A (ja) | 透明導電性積層体およびその製造方法ならびにタッチパネル | |
JP2009116220A (ja) | 反射防止膜、反射防止膜の形成方法、及び透光部材 | |
JP5160329B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル | |
US20160170514A1 (en) | Touch screen structure and manufacturing method thereof | |
JP2008116611A (ja) | 反射防止フィルム | |
WO2022019243A1 (ja) | 反射防止膜付透明基体および画像表示装置 | |
WO2022114037A1 (ja) | 光学積層体および物品 | |
JP2020076883A (ja) | 反射防止フィルム | |
JP2023105806A (ja) | 反射防止膜付透明基体および画像表示装置 | |
KR20190049277A (ko) | 광학용 반사방지 필름 및 이의 제조방법 | |
JP2005266665A (ja) | 反射防止体およびこれを用いたディスプレイ装置 | |
WO2023195499A1 (ja) | タイリングディスプレイ、単位パネル群、タイリングディスプレイの製造方法及びタイリングディスプレイのメンテナンス方法 | |
WO2024142641A1 (ja) | 光学積層体及び物品 | |
WO2021125091A1 (ja) | 光学フィルム | |
US20230229037A1 (en) | Anti-reflective film-attached transparent substrate and image display device | |
WO2023218894A1 (ja) | 光学積層体及び物品 | |
WO2024014442A1 (ja) | 反射防止膜付透明基体および画像表示装置 | |
WO2023195497A1 (ja) | 反射防止膜付透明基体および画像表示装置 | |
JP4285033B2 (ja) | 反射防止材およびその製造方法 | |
TW202422512A (zh) | 拼接顯示裝置、單元面板群、拼接顯示裝置之製造方法及拼接顯示裝置之維護方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211026 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221028 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221108 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20221226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20230306 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230704 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20231221 |