CN1451029A - 色移的含碳干涉颜料 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种色移的多层干涉薄膜，可以使用该干涉薄膜制造用于具有色移性能的颜料组合物和着色剂的箔片或薄片。可以将薄片分散在颜料介质中形成接下来用于物体、纸张或人的油漆、油墨或化妆品制剂。干涉薄膜的三层和五层设计包括绝缘材料和各种构型的碳的交互层。所形成的绝缘层在指定的波长处具有随着入射光的角度或视角的改变产生色移的光学厚度。

Description

色移的含碳干涉颜料
发明背景
1.发明领域
本发明总体上涉及用于产生颜色的薄膜光学涂层。更具体地说，本发明涉及随着入射光的角度或视角的改变而表现出色移性能的多层薄膜干涉涂层或干涉薄片。
2. 相关技术
色移的颜料和着色剂已经在从汽车漆到用于证券文件和货币的防伪油墨的多种用途中使用。此种颜料和着色剂表现出随着入射光角度的不同或观察者视角的变化而改变颜色的性能。用于获得此种色移的着色剂的最初的方法是将小薄片分散在诸如油漆或油墨的介质中，然后将油漆或油墨施用于物体的表面，其中的薄片通常由具有特定光学特性的多层薄膜组成。
可以通过适当地设计用于形成薄片的光学涂层或薄膜来控制着色剂的色移性能。通过改变参数，如形成薄片的层的厚度和每层的折射率获得需要的效果。因不同的观察角度和入射光角度而引起的感知颜色的变化是形成层的材料的选定的吸光性和取决于波长的干涉效应的共同作用的结果。材料的吸光性以及干涉现象是观察到的基本颜色的成因。由在多层薄膜结构内经过多次反射和传播的光波的叠加而引起的干涉效应是感知的颜色随不同的角度而变化的成因。
Beming等人的美国专利No.4,705,356公开了色移薄膜的例子。其中的一个实施方案公开了一种三层的金属(1)-绝缘材料-金属(2)叠层，其中金属(1)是一种相对薄、高吸光性的材料，金属(2)是一种高反射、基本不透明的金属，绝缘材料是一种低折射率材料。其中的另一个实施方案，公开了一种全绝缘材料叠层。但是，这些设计要求使用所谓的携带减色剂的覆盖层，覆盖层利用颜料获得所需要的颜色。
Phillips等人的美国专利No.5,135,812公开了对可以在油漆和诸如防伪用途的油墨中使用的薄膜片的光学特性的进一步改进。根据该专利，一种均匀的光学多层膜由透明的全绝缘材料叠层组成或者由透明绝缘材料和半透明金属的层状叠层组成，并且在光学叠层的中心具有不透明的反射层。在全绝缘材料叠层的情况，光学涂层由高和低折射率材料的交互层制成。所公开的适合的材料是用作高折射率层的硫化锌或二氧化钛，以及作为低折射率层的氟化镁或二氧化硅。
Phillips等人的美国专利No.5,278,590公开了一种均匀的三层光干涉涂层，该涂层包含具有基本相同的组分和厚度的第一和第二部分透光的吸收层，以及位于第一和第二吸收层之间的绝缘材料隔离层。绝缘材料层由低折射率材料，如氟化镁组成。
Phillips等人的美国专利No.5,571,624公开了在油漆中使用的高色度的干涉薄片，包括色移和不色移的单色薄片。这些薄片由均匀的多层薄膜结构形成，在该结构中，在底材上形成第一半透明层，如铬层，在第一半透明层上形成第一绝缘层。在第一绝缘层上形成不透明的反射金属层，如铝层，接下来是与第一绝缘层的材料和厚度相同的第二绝缘层。在第二绝缘层上形成与第一半透明层的材料和厚度相同的第二半透明层。对于色移设计，所使用的绝缘材料具有低于2.0的折射率。对于不色移设计，所选择的绝缘材料具有高于2.0的折射率。
可以用于如上文所讨论的颜料组合物的已有的色移的干涉薄膜和薄板通常包括金属反射层和吸收层。为了在最广泛的用途中使用此类颜料组合物，需要除去在环境中可能不稳定，或者与油漆、油墨或其他有机载体反应的金属。虽然可以使用多种金属或金属化合物形成色移的颜料，但需要提供基本上不含金属或金属化合物的颜料产品，这些金属或金属化合物特别是指在接触食品的应用或其他可能暴露于人体组织的应用中被怀疑具有毒性的金属或金属化合物。
概述
按照在此所表达和概括性描述的本发明，提供了一种色移的含碳多层干涉薄膜，可以使用该薄膜制造用于颜料组合物的薄片或者制造具有色移性能的箔片。可以将薄片分散在多种颜料介质，如油漆、油墨或化妆品制剂中，接下来用于物体、纸张或人，在入射光的角度或视角变化时实现颜色变化。箔片可以直接粘贴在物体上以提供色移性能。
干涉薄膜的三层或五层设计包括绝缘材料和不同构型的碳的交互层。所形成的绝缘层在指定的波长处具有随入射光的角度或视角的变化产生色移的光学厚度。
在根据本发明制造色移的干涉薄膜的一个方法中，通过常规的沉积方法在网状材料上形成碳和绝缘层，以形成特定膜的设计。然后以薄片或箔片的形式将膜从网状材料上除下。然后可以将薄片分散在颜料介质中以制备色移的颜料组合物，如色移的油漆、油墨或化妆品制剂。
或者，可以在一种网状材料的上表面上形成碳或绝缘材料的第一层，为了制备多层薄片，将第一层从网状材料上除下来。然后用基本包裹薄片的碳或绝缘材料的一个或多个附加层涂布薄片，其中相邻的附加层由与第一层不同的材料形成。
从下文的描述和所附权利要求书，可以更加明白本发明的上述和其他特征和方面，或者可以通过下文对本发明的实施的阐述领会本发明的特征。
附图的简单描述
为了更充分地理解获得本发明的上述和其他优点的方式，通过参考在附图中示出的本发明的具体实施方案，提供了对本发明的更详细的描述。认识到这些附图仅是本发明的典型实施方案，因此不应被视为限制本发明的范围，通过使用附图，将结合其他特性和细节描述和解释本发明，其中：
图1是根据本发明的一个实施方案的一种三层色移的干涉薄膜的示意图；
图2是根据本发明的另一个实施方案的一种五层色移的干涉薄膜的示意图；
图3是根据本发明的一种可选择的实施方案的一种三层色移的干涉薄膜的示意图；
图4是根据本发明的又一个实施方案的一种五层色移的干涉薄膜的示意性描绘；
图5绘出了根据本发明的各种三层色移的干涉薄片的全反射率的曲线图；
图6绘出了根据本发明的各种五层色移的干涉薄片的全反射率的曲线图；
图7绘出了根据本发明的各种五层色移的干涉薄片的全反射率的曲线图；和
图8绘出了根据本发明的各种三层色移的干涉薄片的全反射率的曲线图；
本发明的详细描述
本发明专注于可以用于制造具有色移性能的薄片或箔片的多层干涉薄膜。所述的薄片可以分散在各种颜料介质，如油漆、油墨或化妆品制剂中，并接着用于物体、纸张或人，在入射光的角度或观察者的视角变化时实现色移。
通常通过本领域已知的形成薄涂层结构的方法，如物理蒸气沉积(PVD)方法或化学蒸气沉积(CVD)方法形成在此所描述的薄膜层。如下文更详细的讨论，涂层结构在一种基材，如一种柔软的网状材料上形成并作为薄膜薄片从基材上除下，将薄片加入液体介质，如各种颜料载体中，作为具有色移性能的着色剂使用。此种加入液体介质中的薄膜薄片的集合对入射到固化的介质表面的可见光辐射能产生预定的光响应。或者，可以以箔片的形式从网状材料上除去涂层结构。
由于箔片构型通常作为火印箔片使用，其中通过热活化的粘合剂从光学叠层上除去基材，箔片通常是一种不均匀的光学叠层。粘合剂可以涂布在光学叠层的背侧或者以UV活化的粘合剂的形式涂布在光学叠层或箔片将要粘贴的表面上。可以在美国专利No.5,648,165中找到制造和使用光学叠层作为火印箔片的进一步的细节，在此通过引用并入该专利的公开内容。或者，可以与光学叠层所附着的底材一起使用箔片构型。于1999年7月8日提交的、名称为“带有色移背景的衍射表面”的待审美国专利申请No.09/351,102描述了附着在底材上的光学叠层的一个特别有用的实施方案，在此通过引用并入该专利申请，其中在至少一个基材表面上形成全息光学元件。
相反，颜料薄片必须具有均匀的涂层结构，使得不论薄片相对于观察者的取向如何，颜色均相同。在这种情况下，涂层结构由均匀的光学叠层构成，使得当光学叠层以薄板或薄片(即，颜料)的形式从基材上除下时，颜料薄片的两个面具有相同的颜色。
在本发明中可以使用各种形式的碳，包括但不限于石墨的、碳质的和无定形的碳；玻璃状碳；类金刚石碳；无定形氢化的碳，如无定形氢化的类金刚石碳；碳化合物；上述碳的各种组合等。也可以利用通过沉积方法获得的具有不同光学性能的其他形式的碳，例如电弧蒸发碳、离子辅助碳I、离子辅助碳II等。
本发明的薄片和箔片上的碳薄膜层具有从大约1至大约2.6的折射率(n)。优选至少一个碳层具有高于大约1.5的折射率，更优选高于大约1.75，最优选高于大约2。碳薄膜层具有高于大约0.02的吸光系数(α)，优选高于大约0.1，更优选高于大约1，最优选高于大约2。理想地，折光率和吸光系数的值基本相等，使折光率与吸光系数的比(n/α)大约是1。优选薄片或箔片中的至少一个碳层所具有的吸光系数使折射率与吸光系数的比是大约0.1至大约10，更优选从大约0.5至大约5，最优选从大约0.75至大约1.25。各种形式的碳的光学常数范围归纳在下表3-9中并在实施例6中进行了对比。
本发明以可以使用碳和绝缘材料的多层光学叠层制造有色干涉颜料的发现为基础，其中的干涉颜料具有明显的色移或色差性能。本发明的膜结构与已有的干涉膜的区别在于缺少高和低折射率绝缘层的组合，以及金属反射层和金属吸收层。尽管不希望受到任何理论的约束，但仍相信光学叠层的碳层作为高折射率材料和吸收材料发挥作用，并与绝缘层共同工作产生色移效果。
参照附图，其中用类似的引用符号指代类似的结构，图1描绘了具有色移性能的干涉薄膜10形式的三层涂层设计的一个实施方案。薄膜10在一种柔性材料，例如一种聚酯材料(例如聚对苯二甲酸乙二醇酯或PET)的网状材料12上形成。薄膜10具有一个第一碳层14，一个在碳层14上的第一绝缘层16以及一个在绝缘层16上的第二碳层18。下文将进一步详细讨论薄膜10的上述各层。
网状材料12可用于常规的辊涂机设备并且在沉积干涉薄膜涂层以前，通常在网状材料12的上表面形成适当类型的释放层(未示出)。释放层允许以薄片或箔片的形式从网状材料12上除下薄膜10。释放层可以是一种可溶于有机溶剂或水的涂层，例如丙烯酸树脂、纤维素丙酸酯、(聚乙烯吡咯烷)聚乙烯醇或聚乙酸乙烯酯等。
通过常规的沉积方法，例如电子束蒸发、溅射或者通过烃CVD反应形成碳层的方法在网状材料12上沉积干涉薄膜10的第一碳层14。所形成的碳层14具有从大约25至大约1000埃()的适当的物理厚度，优选大约200-500，更优选大约200-300。当使用PVD方法时，可以由不同的碳源，如石墨、poco或玻璃状碳形成碳层14。
或者，可以通过各种CVD方法沉积各种形式的碳，例如那些在美国专利No.5,190,807中更详细描述的方法，在此通过引用并入该专利的公开内容。此外，可以使用碳和碳化合物的可用的形式，如碳氧化硅、含有碳黑的SiOx、其组合等。可以通过在美国专利No.5,356,471中所描述的方法沉积这些碳化合物，在此通过引用并入该专利的公开内容。
在其他可选择的方法中，可以通过固态聚合薄膜，如那些具有高芳香族含量的含有聚芳酯、聚丙烯腈、聚对亚苯基二甲基等的固态聚合薄膜的改性形成碳薄膜层。此种碳薄膜通过固态聚合物薄膜的沉积，然后通过高能方法，如热解作用、离子轰击等将聚合物薄膜转变为碳薄膜而形成。
然后通过常规沉积方法，如PVD或者通过美国专利No.5,858,078更详细公开的SiO2溶胶凝胶方法在碳层14上形成第一绝缘层16，在此通过引用并入该专利的公开内容。
所形成的绝缘层16具有能赋予干涉薄膜10以色移性能的有效光学厚度。该光学厚度是由产品的nd所定义的公知光学参数，其中n是层的折射率，d是层的物理厚度。通常层的光学厚度以四分之一波长光学厚度(QWOT)表示，QWOT等于4nd/λ，其中的λ为定义QWOT条件时的波长。所形成的绝缘层16具有在特别指定波长的多个四分之一波长光学厚度。在大约400-700nm的指定波长，该光学厚度范围可以从大约2QWOT至大约9QWOT，优选在大约400-600nm的指定波长，该光学厚度为大约2QWOT至大约6QWOT。因此，绝缘层16的物理厚度在大约138nm至大约1086nm的范围内，优选从大约140nm至大约725nm。
用于形成绝缘层16的绝缘材料可以具有“低”折射率，在此将低折射率定义为约1.65或更低的折射率，或者可以具有“高”折射率，在此将高折射率定义为大于约1.65的折射率。优选所使用的绝缘材料具有大约1.38至大约2.3的折射率。可以使用的不同的绝缘材料包括无机材料，如金属氧化物、金属氟化物、金属硫化物、金属氮化物、金属碳化物及其组合等，以及有机绝缘材料。这些材料易于获得并且易于通过物理或化学蒸气沉积方法使用。
可以使用的合适的低折射率的绝缘材料的非限定性例子包括二氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、金属氟化物，例如氟化镁(MgF2)、氟化铝(AlF3)、氟化铈(CeF3)、氟化镧(LaF3)、钠铝氟化物(例如Na3AlF6或Na5Al3F14)、氟化钕(NdF3)、氟化钐(SmF3)、氟化钡(BaF2)、氟化钙(CaF2)、氟化锂(LiF)，及其组合或折射率约为1.65或更低的任何其他低折射率的材料。例如，可以采用有机单体和聚合物作为低折射率材料，包括二烯烃或烯烃例如丙烯酸酯(例如甲基丙烯酸酯)、全氟代烯烃的聚合物、聚四氟乙烯(TEFLON)、氟代乙丙烯(FEP)聚合物、聚对亚苯基二甲基、对二甲苯及其组合等。此外，上述材料包括可以通过美国专利No.5,877,895描述的方法沉积的蒸发、缩合和交联的透明丙烯酸酯层，在此通过引用并入该专利的公开内容。
适合的高折射率绝缘材料包括硫化锌(ZnS)、氧化锌(ZnO)、氧化锆(ZrO)、二氧化钛(TiO2)、氧化铟(In2O3)、氧化铟锡(ITO)、五氧化二钽(Ta2O5)、二氧化铈(CeO2)、氧化钇(Y2O3)、氧化铕(Eu2O3)、氧化铁例如四氧化三铁(Fe3O4)和三氧化二铁(Fe2O3)、氮化铪(HfN)、碳化铪(HfC)、氧化铪(HfO2)、氧化镧(La2O3)、氧化镁(MgO)、氧化钕(Nd2O3)、氧化镨(Pr6O11)、氧化钐(Sm2O3)、氧化锑(Sb2O3)、碳化硅(SiC)、一氧化硅(SiO)、氮化硅(Si3N4)、三氧化硒(Se2O3)、氧化锡(SnO2)、三氧化钨(WO3)及其组合等。
优选用于本发明的绝缘材料包括SiOx材料，如二氧化硅、一氧化硅以及组合，其中的x在1和2之间。可以通过在O2气存在的条件下沉积SiO形成SiO2。其他优选的绝缘材料包括MgF2、Al2O3及其组合。
通过常规沉积方法如PVD在绝缘层16上形成干涉薄膜10的第二碳层18，以获得三层干涉薄膜10。可以从与上文所讨论的用于碳层16的相同的来源和以相同的厚度形成碳层18。然后以多个色移的干涉薄片的形式将薄膜10从网状材料12上除下来，可以将除下来的薄片加入颜料介质中用作具有色移性能的着色剂。颜料介质可以包括各种聚合的组合物或有机粘合剂，如丙烯酸蜜胺、聚氨酯、聚酯、乙烯基树脂、丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯、ABS树脂、环氧树脂类、苯乙烯及其混合物，以及其他诸如油墨和油漆制剂领域的普通技术人员已知的物质，特别包括那些聚酯树脂基的物质。或者，可以以火印箔片的形式从网状材料12上将薄膜10除下来。作为举例，另外一种选择是使底材与在防伪标签中所使用的光学叠层接触。
图2描绘了根据本发明的另一个实施方案的一个具有色移性能的干涉薄膜20形式的五层涂层设计。薄膜20具有一个与薄膜10对应的三层内部涂层结构，包括碳层14，第一绝缘层16和另一个碳层18。该内部涂层结构介于第二绝缘层22和第三绝缘层24之间。可以使用与上文讨论的用于薄膜10的相同的材料和以相同的厚度范围形成薄膜20的碳层和绝缘层。
通过以常规的方法，如PVD在网状材料12上形成绝缘层22，然后通过沉积碳层14、绝缘层16和碳层18制造薄膜20。然后通过沉积方法在碳层18上形成绝缘层24以完成薄膜20。为制造多个干涉薄片或箔片，然后将薄膜20从网状材料12上除下来，干涉薄片或箔片可以加入颜料介质中用作具有色移性能的着色剂。
图3描绘了根据本发明的另一个实施方案的一个具有色移性能的干涉薄膜30形式的三层涂层设计。薄膜30包括一个第一绝缘层32、在第一绝缘层上面的碳层34和在碳层34上面的第二绝缘层36。可以使用与上文讨论的用于薄膜10的相同的材料和以相同的厚度范围形成薄膜30的碳层和绝缘层。
通过以常规的沉积方法在网状材料12上形成绝缘层32，然后沉积碳层34和绝缘层36制造薄膜30。为制造多个干涉薄片或箔片，然后将薄膜30从网状材料12上除下来。
应当注意的是，当使用SiO2或其他具有类似折射率的绝缘材料形成薄膜30上的绝缘层时，该薄膜在油漆或油墨中作为色移颜料通常会表现出降低的功能。这是因为如果将薄膜磨成颜料并加入颜料介质中以形成油漆或油墨，SiO2层将具有与介质十分近似的几乎相同的折射率，使油墨或油漆具有碳的暗灰色。但是，如果选择更高折射率的材料作为绝缘层，仍将因为外面的绝缘层与周围颜料介质的折射率不同而产生颜色。而且，如果使用折射率更高的介质，那么为了获得薄片外层与介质之间最大的折射率差，优选SiO2或其他折射率低于介质的绝缘材料。
相反，虽然图2所示薄膜20的实施方案的折光率匹配方式与薄膜30相同，但如果使用SiO2绝缘层，薄膜20的核心光学结构C/SiO2/C仍是产生颜色的干涉功能部件。在这种情况下，外面的SiO2层将起到核心光学结构C/SiO2/C的保护层的作用。对于在输送系统中可能受到腐蚀的油漆或油墨组合物，SiO2外层将防止对产生颜色的核心光学结构的腐蚀。因此，油漆或油墨组合物的颜色将更耐久。
图4描绘了根据本发明的另一个实施方案的一个具有色移性能的干涉薄膜40形式的五层涂层设计。薄膜40具有一个与薄膜30对应的三层内部涂层结构，包括绝缘层32，第一碳层34和另一个绝缘层36。该内部涂层结构介于第二碳层42和第三碳层44之间。可以使用与上文讨论的用于薄膜10的相同的材料和以相同的厚度范围形成薄膜40的碳层和绝缘层。
通过以常规的方法在网状材料12上形成碳层42，然后沉积绝缘层32、碳层34和绝缘层36制造薄膜40。然后通过沉积方法在绝缘层36上形成碳层44以完成薄膜40。为制造多个干涉薄片或箔片，然后将薄膜40从网状材料12上除下来，干涉薄片或箔片可以加入颜料介质中用作着色剂。
在网状材料12上形成图1-4所示类型的多层干涉薄膜后，通过使用一种溶剂可以将干涉薄膜从网状材料12上除下，形成任何表面尺寸在大约2至大约200微米的薄片或片晶。也可以根据需要进一步减小薄片的尺寸。例如，可以对薄片进行气流研磨，在不损害它们理想的颜色特性的情况下将它们的尺寸减小到大约2-5微米。然后可以以常规的方法将色移薄片分散到如油漆、油墨或化妆品制剂等颜料介质中应用。
作为选择，可以根据本发明通过在网状材料的上表面上形成至少一个第一碳层或绝缘材料层，并从网状材料上除下第一层以获得多个薄片来制造色移干涉颜料。然后用基本包裹薄片的一种或多种其他的碳或绝缘材料层涂布薄片，其中相邻的其他层由与第一层不同的材料形成。例如，通过这种方法形成的图1所示的薄片结构将包括一个绝缘层16，形成包裹绝缘层16的基本连续的碳涂层的碳层14和18。通过这种方法形成的图2所示的薄片结构将包括形成包裹碳涂层的基本连续涂层的绝缘层22和24。或者，可以在网状材料上形成如图1所示的薄膜10并以薄片的形式除去薄膜，用形成基本连续涂层的绝缘层22和24包裹薄片。类似地，通过这种方法所形成的图3所示的薄片结构将包括一个碳层34，形成包裹碳层34的基本连续绝缘涂层的绝缘层32和36。通过这种方法形成的图4所示的薄片结构将包括形成包裹绝缘涂层的基本连续涂层的碳层42和44。或者，可以在网状材料上形成如图3所示的薄膜30并以薄片的形式除去薄膜，用形成基本连续涂层的碳层42和44包裹薄片。
在图4所示实施方案的另一种可选择的实施方案中，可以用基本包裹绝缘层32和36的其他绝缘层涂布由图3的薄膜30所形成的干涉薄片，其中其他的绝缘层的折射率与绝缘层32和32的折射率不同。
1999年9月3日提交的待审的美国专利申请No.09/389,962公开了用一种或多种层涂布薄片的适当的方法，该专利申请的名称为“制备改进的干涉颜料的方法和设备”，在此通过引用并入该专利申请。
可以选择性地将色移薄片与其他具有不同的色彩、色度和亮度的颜料薄片、微粒或染料混合以获得需要的彩色特性。例如，本发明的薄片可以与其他干涉型或非干涉型的常规颜料混合，产生其他颜色。可以将本发明的薄片与不色移的高色度或高反射片晶结合以获得独特的颜色效果，如MgF2/Al/MgF2片晶或SiO2/Al/SiO2片晶。其他可以与本发明的颜料组合物混合的合适的添加剂包括薄层状颜料，如铝薄片、石墨薄片、玻璃薄片、氧化铁薄片、氮化硼薄片、云母薄片、基于TiO2涂层的干涉云母薄片、基于多层片状的硅化基材的干涉颜料、金属-绝缘材料或全绝缘材料的干涉颜料等，以及非薄层状颜料，如铝粉、碳黑、群青、钴基颜料、有机颜料或染料、金红石或尖晶石基无机颜料、天然颜料、无机颜料，如二氧化钛、滑石粉、瓷土等及其各种混合物。例如，可以加入如铝粉或碳黑颜料以控制亮度和其他颜色特性。
通过使用图1-4所示的本发明的涂层设计，能够制造高色度的着色剂，其中人类的眼睛能够看到变化的色彩效果。因此，使用含有本发明的色移薄片的油漆着色的物品将随着视角或物体相对观察眼睛的角度的变化而改变颜色。虽然本发明的所有涂层设计均具有随视角改变而色移的性能，但使用低折射率绝缘材料的设计倾向于具有最大的色差或颜色变化。
通过利用根据本发明的高色度薄膜薄片的集合获得着色剂的彩色特性，其中的薄片对入射到薄片表面的光线产生预定的光学响应。本发明的色移薄片具有宽范围的色移性能，包括随视角的改变在色度(颜色纯度的程度)上的较大变化和色泽(相对颜色)上的较大变化。例如，使用本发明的干涉薄片的颜料组合物可以具有如品红-绿色、金色-绿色、金色-青色等色移。
本发明的色移薄片可以很容易且经济地用于如油漆和油墨等着色剂中，用于针对物体和纸张的各种用途。此类物体和纸张的例子包括机动运输工具、货币和证券文件、家用电器、建筑结构、地板、体育用品、电子组件/外壳、玩具等。
此外，本发明的碳基干涉颜料和箔片特别适合用于金属或金属化合物在环境中不稳定，或者由于因金属或金属化合物固有的毒性而受到规章的限制以及因应用的性质而使金属或金属化合物不符和需要的应用中。
下面的实施例是为了说明本发明而给出，而不是为了限制本发明的范围。实施例 1
通过在2密尔的聚酯网状材料上沉积含有SiOx的第一绝缘层(在615nm处4QWOT)制造根据本发明的具有五层设计的色移干涉薄膜，其中的网状材料上涂布了有机释放层硬膜。在第一绝缘层上沉积厚度为250的碳层，然后是SiOx第二绝缘层(在615nm处4QWOT)。此后，在第二绝缘层上沉积厚度为250的第二碳层，然后沉积SiOx第三绝缘层(在615nm处4QWOT)。因此，薄膜的涂层设计为SiOx/C/SiOx/C/SiOx。
在2×10-4乇的氧气气氛下，通过电子束沉积形成SiOx(SiO2)层。在1×10-5乇或更低的压力下通过电子束沉积形成碳层，其中在7kv电压下使用0.3-0.4A的电子枪电流和铜制坩埚。在SiOx和碳沉积中，物料源与底材之间的距离均为76cm。
通过使用丙酮喷涂溶解硬膜从聚酯网状材料上释放薄膜材料。由于硬膜从聚酯网状材料上溶解，这样就制备了多个具有上述涂层设计的薄片。通过将Branston超声波角的尖端放入液体中将这些仍然处于丙酮液体中的薄片研磨至适当的尺寸。几分钟以后，停止研磨程序。从溶剂中过滤薄片，然后以大约25重量％的浓度再次分散在丙烯酸蜜胺粘合剂中形成油漆。然后将油漆喷涂在金属板上用于颜色表征。
使用配备多角度几何结构的Zeiss彩色测量仪测量喷漆的金属板的彩色参数，彩色参数是处于光泽角度内的视角的函数。随着角度的改变，色度值在36至67范围内。在正常的入射视角，涂漆的金属板为品红色，随着视角的改变，变为红色，然后是黄色，在很高的反射角度时最终为绿色。
因为碳基的干涉设计是稍微透明的，发现了由于一种颜料覆盖另一种颜料的相加作用使得加入了这些碳基颜料的油漆样品的彩色性能很好。换句话说，一种加入了此种颜料的锚漆的彩色性能优于制造颜料的单一的薄箔片的彩色性能。实施例2
按照实施例1中所描述的程序制造一种具有五层设计的色移干涉薄膜，不同之处是在涂层设计中，全部三个SiO2层是在515nm处为4QWOT。碳层的厚度为250。将由此种薄膜制造的薄片分散在丙烯酸蜜胺粘合剂中形成油漆，将该油漆喷涂在金属板上用于色彩表征。然后将一种透明的喷涂外涂层涂敷到部分涂漆的金属板上。
在正常的入射视角，涂漆的金属板的颜色为金色，在大约45度视角转变为青色。
在Zeiss仪上的彩色表征表明涂漆的金属板具有大约50-55的色度值，用透明的喷涂外涂层涂敷的部分具有55-60的更高的色度。实施例3
开发了具有根据本发明的三层涂层结构的理论色移薄片，该色移薄片具有下列基本涂层设计：PET/C/SiO2/C/空气，其中的SiO2层在550nm具有4QWOT，碳层的厚度在25至1,000范围。通过绘制全反射率相对入射光波长的曲线评价碳层厚度分别为25、250、500和1,000的四种不同的薄片结构。图5是表示在不同的入射光波长下四种薄片结构的反射率特性曲线。如图5中的曲线所示，虽然所有薄片结构具有至少部分色移特性，但当使用硅绝缘层时，理想的碳层厚度似乎是250。虽然该全反射率适用于在PET底材上的设计，但如果用于聚合介质上，当介质置于光学叠层的两面时，这些设计将具有类似的反射率。实施例4
开发了具有根据本发明的五层涂层结构的理论色移薄片，该色移薄片具有下列基本涂层设计：PET/SiO2/C/SiO2/C/SiO2空气，其中的SiO2层在550nm具有4QWOT，碳层的厚度在25至1,000范围。通过绘制全反射率相对入射光波长的曲线评价碳层厚度分别为25、250、500和1,000的四种不同的薄片结构。图6是表示在不同的入射光波长下四种薄片结构的反射率特性的曲线。如图6中的曲线所示，虽然所有薄片结构具有至少部分色移特性，但当使用硅绝缘层时，理想的碳层厚度似乎是250。实施例5
开发了具有根据本发明的五层涂层结构的理论色移薄片，该色移薄片具有下列基本涂层设计：PET/C/SiO2/C/SiO2/C/空气，其中的SiO2层在550nm具有4QWOT，碳层的厚度在25至1,000范围。通过绘制全反射率相对入射光波长的曲线评价碳层厚度分别为25、250、500和1,000的四种不同的薄片结构。图7是表示在不同的入射光波长下四种薄片结构的反射率特性的曲线。如图7中的曲线所示，虽然所有薄片结构具有至少部分色移特性，但当使用硅绝缘层时，理想的碳层厚度似乎是250。
下表1和2给出了用于从理论上计算上述图5、图6和图7中的反射率曲线的折射率数据，其中的n是折射率的实部，k是消光系数(即，折射率的虚部)。消光系数通过下列关系与吸光系数(α)相关：k＝αλ/4π，其中λ是真空波长。
                    表1
    碳波长(nm)     n     k
    350     1.75     1.20
    400     2.00     1.15
    450     2.15     1.10
    500     2.40     1.00
    600     2.55     0.95
    800     2.65     1.00
采用的SiO2的折射率如下：
               表2
  SiO2波长(nm)     n     k
    380     1.47     0.00
    436     1.47     0.00
    480     1.46     0.00
    656     1.46     0.00
    805     1.45     0.00
基于在此所公开的内容，当沉积的碳具有与实施例5中所公开的内容不同的折射率和吸光系数时，以实施例1-5所公开的方式适当地改变碳层的厚度对于光学薄膜设计和沉积领域的普通技术人员而言将是显而易见的。实施例6
通过制造最简单的涂层设计结构，碳/绝缘层/碳说明具有不同的折射率和色散值的碳化合物的重要性。图8是表示不同形式碳的该设计结构在不同的入射光波长的反射特性的曲线。下表3-9归纳了不同形式的碳的光学常数范围。特别地，图8表示C/SiO2/C型的涂层设计的理论性能，其中碳具有30nm的物理厚度，SiO2具有大约350nm的物理厚度(即，波长为508nm的四分之一波长光学厚度)。
图8中标号为C1的曲线，其相应于具有列于表3中光学常数的石墨，具有最大的全反射动态范围，并将表现出最大的可观察的反射色移。在正常的入射角，该指定反射560nm的绿色光，并随入射光角度的增加消除对短波(蓝色反射色)的变换。
图8中的曲线C2和C3表明其他形式的碳，如类金刚石碳具有低动态颜色范围以及在约450nm附近的全反射率最低值与508nm附近的全反射率最高值之间平缓的峰斜率，其相应的光学常数列于表4和5中，其中的吸光系数低于大约0.1。这导致在入射角增大时表现出较少的颜色与颜色的变换。
由图8中的曲线C4-C7所表示的其他形式的碳的全反射率的中间动态范围分布在曲线C1和C2、C3之间，其相应的光学常数列于表6-9。
               表3石墨(C1)
    波长(nm)     折射率     吸光系数
    413     2.62     1.28
    516.6     2.66     1.33
    729.3     3.01     1.84
              表4类金刚石碳1(C2)
    波长(nm)     折射率     吸光系数
    550     1.76     0.04
假定在折射率和吸光系数中没有色散。
            表5类金刚石碳(C3)
    波长(nm)     折射率     吸光系数
     413.3     1.76     0.061
     708.6     1.74     0.0057
        表6无定型加氢的类金刚石碳(C4)
    波长(nm)     折射率     吸光系数
    400     2.408     0.853
    550     2.672     0.717
    700     2.815     0.579
           表7离子辅助碳I(C5)
    波长(nm)     折射率     吸光系数
    400     2.007     0.242
    550     2.029     0.121
    700     2.019     0.062
              表8离子辅助碳II(C6)
    波长(nm)     折射率     吸光系数
    400     1.831     0.121
    550     1.83     0.045
    700     1.822     0.021
          表9电弧蒸发的碳(C7)
    波长(nm)     折射率     吸光系数
    413.3     2.11     0.90
    563.6     2.38     0.82
    774.9     2.33     0.71
本发明可以包括其他特定的形式，而不偏离其精神或必要特征。无论从哪一点来看，所公开的实施方案应被视为示例性的而非限制性的。因此，本发明的范围由所附的权利要求限定而非上文的描述。处于权利要求的含义和等同范围内的所有修改均包括在权利要求范围内。

Claims (92)

1.一种色移多层干涉薄膜，包括：
第一碳层；
处于第一碳层上的第一绝缘层；和
处于第一绝缘层上的第二碳层；
其中第一绝缘层在指定的波长处具有随着入射光的角度或视角的变化产生色移的光学厚度。
2.权利要求1所述的干涉薄膜，其中的第一和第二碳层均具有从大约25埃至大约1000埃的物理厚度。
3.权利要求1所述的干涉薄膜，其中第一和第二碳层具有相同的物理厚度。
4.权利要求1所述的干涉薄膜，其中第一绝缘层在从大约400nm至大约700nm的指定波长，具有从大约2QWOT至大约9QWOT的光学厚度。
5.权利要求1所述的干涉薄膜，其中第一绝缘层具有大约1.65或更低的折射率。
6.权利要求5所述的干涉薄膜，其中第一绝缘层包含选自由二氧化硅、氧化铝、氟化镁、氟化铝、氟化铈、氟化镧、钠铝氟化物、氟化钕、氟化钐、氟化钡、氟化钙、氟化锂及其组合所组成的组中的材料。
7.权利要求5所述的干涉薄膜，其中的第一绝缘层包含选自由丙烯酸酯、全氟烯烃聚合物、聚四氟乙烯、聚对亚苯基二甲基、聚合的氟化乙烯丙烯及其组合所组成的组中的材料。
8.权利要求1所述的干涉薄膜，其中的第一绝缘层具有高于大约1.65的折射率。
9.权利要求8所述的干涉薄膜，其中的第一绝缘层包含选自由硫化锌、氧化锌、氧化锆、二氧化钛、氧化铟、氧化铟锡、五氧化二钽、二氧化铈、氧化钇、氧化铕、氧化铁、氮化铪、碳化铪、氧化铪、氧化镧、氧化镁、氧化钕、氧化镨、氧化钐、三氧化锑、碳化硅、氮化硅、一氧化硅、三氧化硒、氧化锡、三氧化钨及其组合所组成的组中的材料。
10.权利要求1所述的干涉薄膜，其中的第一绝缘层具有从大约1.38至大约2.3的折射率。
11.权利要求1所述的干涉薄膜，其中的薄膜形成多个多层干涉薄片。
12.权利要求1所述的干涉薄膜，其中的薄膜形成火印箔片。
13.权利要求1所述的干涉薄膜，还包括处于第一碳层上的第二绝缘层以及处于第二碳层上的第三绝缘层。
14.权利要求13所述的干涉薄膜，其中的第二和第三绝缘层在从大约400nm至大约700nm的指定波长，均具有从大约2QWOT至9QWOT的光学厚度。
15.权利要求13所述的干涉薄膜，其中的第一、第二和第三绝缘层具有相同的光学厚度。
16.权利要求13所述的干涉薄膜，其中的第一、第二和第三绝缘层均具有从大约1.38至大约2.3的折射率。
17.权利要求16所述的干涉薄膜，其中的第一、第二和第三绝缘层由选自由一氧化硅、二氧化硅及其组合所组成的组中的材料组成。
18.权利要求13所述的干涉薄膜，其中的第一、第二和第三绝缘层由相同的材料组成。
19.权利要求13所述的干涉薄膜，其中的薄膜形成多个多层干涉薄片或火印箔片。
20.权利要求1所述的干涉薄膜，其中至少一个碳层具有高于大约1.5的折射率。
21.权利要求1所述的干涉薄膜，其中至少一个碳层具有从大约0.1至大约10的折射率与吸光系数的比。
22.权利要求1所述的干涉薄膜，其中第一和第二碳层形成包裹第一绝缘层的基本连续的涂层。
23.权利要求13所述的干涉薄膜，其中的第二和第三绝缘层形成包裹第一和第二碳层的基本连续的涂层。
24.一种色移多层干涉薄膜，包括
第一绝缘层；
处于第一绝缘层上的第一碳层；和
处于第一碳层上的第二绝缘层；
其中第一和第二绝缘层在指定的波长处均具有随着入射光的角度或视角的变化产生色移的光学厚度。
25.权利要求24所述的干涉薄膜，其中的第一碳层均具有从大约25埃至大约1000埃的物理厚度。
26.权利要求24所述的干涉薄膜，其中的第一和第二绝缘层在从大约400nm至大约700nm的指定波长，均具有从大约2QWOT至大约9QWOT的光学厚度。
27.权利要求24所述的干涉薄膜，其中第一和第二绝缘层均具有大约1.65或更低的折射率。
28.权利要求27所述的干涉薄膜，其中的第一和第二绝缘层包含选自由二氧化硅、氧化铝、氟化镁、氟化铝、氟化铈、氟化镧、钠铝氟化物、氟化钕、氟化钐、氟化钡、氟化钙、氟化锂及其组合所组成的组中的材料。
29.权利要求27所述的干涉薄膜，其中的第一和第二绝缘层包含选自由丙烯酸酯、全氟烯烃、聚四氟乙烯、氟化乙烯丙烯及其组合所组成的组中的材料。
30.权利要求24所述的干涉薄膜，其中的第一和第二绝缘层具有高于大约1.65的折射率。
31.权利要求30所述的干涉薄膜，其中的第一和第二绝缘层包含选自由硫化锌、氧化锌、氧化锆、二氧化钛、氧化铟、氧化铟锡、五氧化二钽、二氧化铈、氧化钇、氧化铕、氧化铁、氮化铪、碳化铪、氧化铪、氧化镧、氧化镁、氧化钕、氧化镨、氧化钐、三氧化锑、碳化硅、氮化硅、一氧化硅、三氧化硒、氧化锡、三氧化钨及其组合所组成的组中的材料。
32.权利要求24所述的干涉薄膜，其中的第一和第二绝缘层均具有从大约1.38至大约2.3的折射率。
33.权利要求32所述的干涉薄膜，其中的第一和第二绝缘层由选自由一氧化硅、二氧化硅及其组合所组成的组中的材料组成。
34.权利要求24所述的干涉薄膜，其中的薄膜形成多个多层干涉薄片或火印箔片。
35.权利要求24所述的干涉薄膜，还包括处于第一绝缘层上的第二碳层以及处于第二绝缘层上的第三碳层。
36.权利要求35所述的干涉薄膜，其中的第二和第三碳层具有从大约25埃至大约1000埃的物理厚度。
37.权利要求35所述的干涉薄膜，其中的第一、第二和第三碳层具有相同的物理厚度。
38.权利要求35所述的干涉薄膜，其中的薄膜形成多个多层干涉薄片或火印箔片。
39.权利要求35所述的干涉薄膜，其中的至少一个碳层具有高于大约1.5的折射率。
40.权利要求35所述的干涉薄膜，其中至少一个碳层具有从大约0.1至大约10的折射率与吸光系数的比。
41.权利要求24所述的干涉薄膜，其中的第一和第二绝缘层形成包裹第一碳层的基本连续的涂层。
42.权利要求35所述的干涉薄膜，其中的第二和第三碳层形成包裹第一和第二绝缘层的基本连续的涂层。
43.权利要求24所述的干涉薄膜，还包括基本上包裹第一和第二绝缘层的第三绝缘层，其中第三绝缘层的折射率不同于第一和第二绝缘层的折射率。
44.一种色移颜料组合物，包括：
一种颜料介质；和
分散在颜料介质中的多个色移多层干涉薄片，每个干涉薄片包括：
第一碳层；
处于第一碳层上的第一绝缘层；和
处于第一绝缘层上的碳层；
其中第一绝缘层在指定的波长处具有能够随着入射光的角度或视角的变化产生色移的光学厚度。
45.权利要求44所述的颜料组合物，其中的颜料介质包含选自由丙烯酸蜜胺、聚氨酯、聚酯、乙烯基树脂、丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯、ABS树脂、环氧树脂类、苯乙烯、聚酯树脂基的墨水和油墨制剂及其混合物所组成的组中的材料。
46.权利要求44所述的颜料组合物，其中的第一和第二碳层均具有从大约200埃至大约500埃的物理厚度。
47.权利要求44所述的颜料组合物，其中第一绝缘层在从大约400nm至大约600nm的指定波长，具有从大约2QWOT至大约6QWOT的光学厚度。
48.权利要求44所述的颜料组合物，其中的第一绝缘层包含选自由二氧化硅、氧化铝、氟化镁、氟化铝、氟化铈、氟化镧、钠铝氟化物、氟化钕、氟化钐、氟化钡、氟化钙、氟化锂及其组合所组成的组中的材料。
49.权利要求44所述的颜料组合物，其中的第一绝缘层包含选自由丙烯酸酯、全氟烯烃聚合物、聚四氟乙烯、氟化的乙烯丙烯聚合物、聚对亚苯基二甲基及其组合所组成的组中的材料。
50.权利要求44所述的颜料组合物，其中的第一绝缘层包含选自由硫化锌、氧化锌、氧化锆、二氧化钛、氧化铟、氧化铟锡、五氧化二钽、二氧化铈、氧化钇、氧化铕、氧化铁、氮化铪、碳化铪、氧化铪、氧化镧、氧化镁、氧化钕、氧化镨、氧化钐、三氧化锑、碳化硅、氮化硅、一氧化硅、三氧化硒、氧化锡、三氧化钨及其组合所组成的组中的材料。
51.权利要求44所述的颜料组合物，其中的第一绝缘层具有从大约1.38至大约2.3的折射率。
52.权利要求44所述的颜料组合物，其中的干涉薄片还包括处于第一碳层上的第二绝缘层以及处于第二碳层上的第三绝缘层。
53.权利要求52所述的颜料组合物，其中的第一、第二和第三绝缘层具有相同的光学厚度。
54.权利要求52所述的颜料组合物，其中的第一、第二和第三绝缘层由相同的材料组成。
55.权利要求44所述的颜料组合物，还包含选自由薄层状颜料、非薄层状颜料、高色度片晶、高反射片晶及其混合物所组成的组的添加材料。
56.权利要求55所述的颜料组合物，其中的薄层状颜料选自由铝薄片、石墨薄片、云母薄片、玻璃薄片、氧化铁薄片、氮化硼薄片、基于TiO2涂层的干涉云母薄片、基于多层片状的硅化基材的干涉颜料、金属-绝缘材料或全绝缘材料的干涉颜料及其混合物所组成的组。
57.权利要求55所述的颜料组合物，其中的非薄层状颜料选自由无机颜料、铝粉、碳黑、群青、钴基颜料、金红石或尖晶石基无机颜料、天然颜料、有机颜料或染料及其混合物所组成的组。
58.权利要求55所述的颜料组合物，其中的高反射片晶是MgF2/Al/MgF2片晶或SiO2/Al/SiO2片晶。
59.权利要求44所述的颜料组合物，其中至少一个碳层具有高于大约1.5的折射率。
60.权利要求44所述的颜料组合物，其中至少一个碳层具有从大约0.1至大约1.0的折射率与吸光系数的比。
61.权利要求44所述的颜料组合物，其中的第一和第二碳层形成包裹第一绝缘层的基本连续的涂层。
62.权利要求52所述的颜料组合物，其中的第二和第三绝缘层形成包裹第一和第二碳层的基本连续的涂层。
63.一种色移颜料组合物，包括：
一种颜料介质；和
分散在颜料介质中的多个色移多层干涉薄片，每个干涉薄片包括：
第一绝缘层；
处于第一绝缘层上的第一碳层；和
处于第一碳层上的第二绝缘层；
其中第一和第二绝缘层在指定的波长处具有能够随着入射光的角度或视角的变化产生色移的光学厚度。
64.权利要求63所述的颜料组合物，其中的颜料介质包含选自由丙烯酸蜜胺、聚氨酯、聚酯、乙烯基树脂、丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯、ABS树脂、环氧树脂类、苯乙烯、聚酯树脂基的墨水和油墨制剂及其混合物所组成的组中的材料。
65.权利要求63所述的颜料组合物，其中的第一碳层具有从大约200埃至大约500埃的物理厚度。
66.权利要求63所述的颜料组合物，其中的第一和第二绝缘层在从大约400nm至大约600nm的指定波长，均具有从大约2QWOT至大约6QWOT的光学厚度。
67.权利要求63所述的颜料组合物，其中的第一和第二绝缘层包含选自由二氧化硅、氧化铝、氟化镁、氟化铝、氟化铈、氟化镧、钠铝氟化物、氟化钕、氟化钐、氟化钡、氟化钙、氟化锂及其组合所组成的组中的材料。
68.权利要求63所述的颜料组合物，其中的第一和第二绝缘层包含选自由丙烯酸酯、全氟烯烃聚合物、聚四氟乙烯、氟化的乙烯丙烯聚合物、聚对亚苯基二甲基及其组合所组成的组中的材料。
69.权利要求63所述的颜料组合物，其中的第一和第二绝缘层包含选自由硫化锌、氧化锌、氧化锆、二氧化钛、氧化铟、氧化铟锡、五氧化二钽、二氧化铈、氧化钇、氧化铕、氧化铁、氮化铪、碳化铪、氧化铪、氧化镧、氧化镁、氧化钕、氧化镨、氧化钐、三氧化锑、碳化硅、氮化硅、一氧化硅、三氧化硒、氧化锡、三氧化钨及其组合所组成的组中的材料。
70.权利要求63所述的颜料组合物，其中的第一和第二绝缘层均具有从大约1.38至大约2.3的折射率。
71.权利要求63所述的颜料组合物，其中的干涉薄片还包括处于第一绝缘层上的第二碳层以及处于第二绝缘层上的第三碳层。
72.权利要求71所述的干涉薄膜，其中的第一、第二和第三碳层具有相同的物理厚度。
73.权利要求63所述的颜料组合物，还包含选自由薄层状颜料、非薄层状颜料、高色度片晶、高反射片晶及其混合物所组成的组中的添加材料。
74.权利要求73所述的颜料组合物，其中的薄层状颜料选自由铝薄片、石墨薄片、云母薄片、玻璃薄片、氧化铁薄片、氮化硼薄片、基于TiO2涂层的干涉云母薄片、基于多层片状硅化基材的干涉颜料、金属-绝缘材料或全绝缘材料的干涉颜料及其混合物所组成的组。
75.权利要求73所述的颜料组合物，其中的非薄层状颜料选自由无机颜料、铝粉、碳黑、群青、钴基颜料、金红石或尖晶石基无机颜料、天然颜料、有机颜料或染料及其混合物所组成的组。
76.权利要求73所述的颜料组合物，其中的高反射片晶是MgF2/Al/MgF2片晶或SiO2/Al/SiO2片晶。
77.权利要求71所述的颜料组合物，其中至少一个碳层具有高于大约1.5的折射率。
78.权利要求71所述的颜料组合物，其中至少一个碳层具有从大约0.1至大约1.0的折射率与吸光系数的比。
79.权利要求63所述的颜料组合物，其中的第一和第二绝缘层形成包裹第一绝缘层的基本连续的涂层。
80.权利要求71所述的颜料组合物，其中的第二和第三碳层形成包裹第一和第二绝缘层的基本连续的涂层。
81.一种制造色移干涉颜料的方法，包括下列步骤：
在网状材料的上表面上形成第一碳层；
在第一碳层上形成第一绝缘层；
在第一绝缘层上形成第二碳层以形成干涉薄膜；和
将干涉薄膜从网状材料上除下以制造多个多层干涉薄片或箔片。
82.权利要求81所述的方法，还包括在从网状材料上除去干涉薄膜前，在第二碳层上形成第二绝缘层以及在第二绝缘层上形成第三碳层的步骤。
83.权利要求81所述的方法，还包括将干涉薄片与颜料介质混合的步骤。
84.权利要求81所述的方法，还包括用基本包裹第一和第二碳层的第二绝缘层涂布干涉薄片的步骤。
85.一种制造色移干涉颜料的方法，包括下列步骤：
在网状材料的上表面上形成第一绝缘层；
在第一绝缘层上形成第一碳层；
在第一碳层上形成第二绝缘层以形成干涉薄膜；和
将干涉薄膜从网状材料上除下以制造多个多层干涉薄片或箔片。
86.权利要求85所述的方法，还包括在从网状材料上除去干涉薄膜前，在第二绝缘层上形成第二碳层以及在第二碳层上形成第三绝缘层的步骤。
87.权利要求85所述的方法，还包括将干涉薄片与颜料介质混合的步骤。
88.权利要求85所述的方法，还包括用基本包裹第一和第二绝缘层的第二碳层涂布干涉薄片的步骤。
89.权利要求85所述的方法，还包括用基本包裹第一和第二绝缘层的第三绝缘层涂布干涉薄片的步骤，其中第三绝缘层的折射率与第一和第二绝缘层的折射率不同。
90.一种制造色移干涉颜料的方法，包括下列步骤：
在网状材料的上表面上形成第一碳层或绝缘层；
将第一层从网状材料上除下以制造多个薄片；
用基本包裹薄片的第二层碳或绝缘材料涂布薄片，第二层由与第一层不同的材料形成。
91.权利要求90所述的方法，还包括将包裹的薄片与颜料介质混合的步骤。
92.权利要求90所述的方法，还包括用基本包裹第二层的一层或多层另外的碳层或绝缘层涂布干涉薄片的步骤。
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