JPS61198201A - 多層干渉膜 - Google Patents
多層干渉膜Info
- Publication number
- JPS61198201A JPS61198201A JP3940085A JP3940085A JPS61198201A JP S61198201 A JPS61198201 A JP S61198201A JP 3940085 A JP3940085 A JP 3940085A JP 3940085 A JP3940085 A JP 3940085A JP S61198201 A JPS61198201 A JP S61198201A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- refractive index
- layer
- hard carbon
- high refractive
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
方
本発明は、反射防止膜、反射膜、磁気寿−効果増強膜、
ビームスプリッタ、偏光ビームスプリッタ、ダイクロイ
ックフィルタ、干渉フィルタ、狭及び広帯域バンドパス
フィルタなどに使用される多層干渉膜に関するものであ
る。
ビームスプリッタ、偏光ビームスプリッタ、ダイクロイ
ックフィルタ、干渉フィルタ、狭及び広帯域バンドパス
フィルタなどに使用される多層干渉膜に関するものであ
る。
（発明の背景）
多層干渉膜は、その用途によって膜構成が異なるものの
、高屈折率物質の層、低屈折率物質の層及び必要に応じ
て中屈折率物質の層を積層したものである。
、高屈折率物質の層、低屈折率物質の層及び必要に応じ
て中屈折率物質の層を積層したものである。
ここで高、中、低屈折率とは相対的なものであるが、従
来高及び中屈折率の物質としては例えばＺｎＳ、 Ｔｉ
ｅ□、ｚｒＯ□、５ｂ２０３、Ｃａｂｓ 等ｏ無機酸化
物及び硫化物が使用されてきた。しかし、これらの物質
は些含物であるため、（イ）薄膜の生成条件の不本意な
バラツキによシ光学特性がばらついたシ、（ロ）経時変
化があ？たシして、その結果干渉膜としては十分満足さ
れるものではなかつ念。
来高及び中屈折率の物質としては例えばＺｎＳ、 Ｔｉ
ｅ□、ｚｒＯ□、５ｂ２０３、Ｃａｂｓ 等ｏ無機酸化
物及び硫化物が使用されてきた。しかし、これらの物質
は些含物であるため、（イ）薄膜の生成条件の不本意な
バラツキによシ光学特性がばらついたシ、（ロ）経時変
化があ？たシして、その結果干渉膜としては十分満足さ
れるものではなかつ念。
また、物質によって／ｌｉＨの耐薬品性及び機械的強度
が劣り、干渉膜を保護するため保護膜を設けなくてはな
らないこともあった。
が劣り、干渉膜を保護するため保護膜を設けなくてはな
らないこともあった。
（発明の目的）
本発明の目的は、これらの欠点を解決し、光学特性がば
らつくことがなく、経時変化がなく、耐薬品性及び機械
的強度の優れた干渉膜を提供することＫある。
らつくことがなく、経時変化がなく、耐薬品性及び機械
的強度の優れた干渉膜を提供することＫある。
（発明の概要）
そのため、本発明は、高屈折率物質の層、低屈折率物質
の層及び必要に応じて中屈折率物質の層からなる多層干
渉膜に於いて、前記高屈折率物質の層又は中屈折率物質
の層として、アモルファス硬質カーボン薄膜を使用した
ことを特徴とするものである。
の層及び必要に応じて中屈折率物質の層からなる多層干
渉膜に於いて、前記高屈折率物質の層又は中屈折率物質
の層として、アモルファス硬質カーボン薄膜を使用した
ことを特徴とするものである。
アモルファス硬質カーボン薄膜それ自体は、既に公知の
ものであり、例えば揮発性炭化水素ガスを用いプラズマ
ＣＶＤ法によって形成することができる。
ものであり、例えば揮発性炭化水素ガスを用いプラズマ
ＣＶＤ法によって形成することができる。
それ以外の低、中、高屈折率物質としては、（相対的に
選ばれるものであるが）例えば ＣａＦ２：屈折率１．２５〜１．３５ ＭｇＦ２ ： 同 １．３８ ＳｉＯ３：同１．４７ ＳｉＯ： 同 １．８〜１．９ Ａ１２０３： 同 １．６２ ＬａＦ３ ： 同 １．６１ Ｔｉｅ２：同２．５ ＺｒＯ□ ： 同 １．９９５ などが適宜使用される。
選ばれるものであるが）例えば ＣａＦ２：屈折率１．２５〜１．３５ ＭｇＦ２ ： 同 １．３８ ＳｉＯ３：同１．４７ ＳｉＯ： 同 １．８〜１．９ Ａ１２０３： 同 １．６２ ＬａＦ３ ： 同 １．６１ Ｔｉｅ２：同２．５ ＺｒＯ□ ： 同 １．９９５ などが適宜使用される。
以下、実施例によシ本発明をよシ具体的に説明する。
（実施例１）
プラスチック（ＣＲ−３９ポリマー）基材（１）の上に
、真空蒸着により５ｉ０２膜（２）を３〜５μｍ の厚
さに形成し、その上に更に真空蒸着によすＳｉＯ膜（３
）を光学的膜厚λ／４ Ｋ形成した。
、真空蒸着により５ｉ０２膜（２）を３〜５μｍ の厚
さに形成し、その上に更に真空蒸着によすＳｉＯ膜（３
）を光学的膜厚λ／４ Ｋ形成した。
次にＳ ｉｏ １Ｋ （３）の上に下記条件でプラズマ
ＣＶＤ法により光学的膜厚λ／４の透明なアモルファス
硬質カーボン薄膜（４）を形成させた。得られた膜は電
子線回折及びＸ線回折によりアモルファス状であること
を確認した。
ＣＶＤ法により光学的膜厚λ／４の透明なアモルファス
硬質カーボン薄膜（４）を形成させた。得られた膜は電
子線回折及びＸ線回折によりアモルファス状であること
を確認した。
最後に真空蒸着によシ膜厚λ／４の５ｉ０２膜（５）を
形成させた（第１図参照）。
形成させた（第１図参照）。
こうして、本実施例にかかる中屈折率（ｎ＝１．８）物
質の層（ＳｉＯ膜（３））／高屈折率（ｎ＝２．２）物
質の層〔アモルファス硬質カーボン薄膜（４） ） ／
低屈折率（ｎ＝１．４７）物質の層〔ＳｉＯ２膜（５）
〕の各λ／４膜からなる３層干渉膜を得た。
質の層（ＳｉＯ膜（３））／高屈折率（ｎ＝２．２）物
質の層〔アモルファス硬質カーボン薄膜（４） ） ／
低屈折率（ｎ＝１．４７）物質の層〔ＳｉＯ２膜（５）
〕の各λ／４膜からなる３層干渉膜を得た。
第２図にこの干渉膜の分光反射率特性を示す。
この干渉膜は、ひつかき試験において石英と同程度の硬
さを示し、また、気温８０°ｄ、湿度９５憾の雰囲気中
に２４時間放置しても全く異常が認められなかった。
さを示し、また、気温８０°ｄ、湿度９５憾の雰囲気中
に２４時間放置しても全く異常が認められなかった。
（発明の効果）
以上の通り、本発明によれば、多層干渉膜において中又
は高屈折率物質の層としてアモルファス硬質カーボン薄
膜を用いたことによシ、化合物の薄膜に比べ、膜内及び
膜間の光学特性のバラツキが少なくな９、また経時変化
も少なくなシ、耐薬品性及び機械的強度も向上する。
は高屈折率物質の層としてアモルファス硬質カーボン薄
膜を用いたことによシ、化合物の薄膜に比べ、膜内及び
膜間の光学特性のバラツキが少なくな９、また経時変化
も少なくなシ、耐薬品性及び機械的強度も向上する。
なお、アモルファス硬質カーボン薄膜は、ダイヤモンド
状カーボン薄膜に比べ、（イ）比較的厚い膜を作ること
ができる、（ロ）均一性が高い、（ハ）ピンホールが少
なく、膜がち密で硬い、（へ）大面積の膜ができる、（
ホ）成膜速度が速いなどの利点があり、それとけ明確に
区別される。
状カーボン薄膜に比べ、（イ）比較的厚い膜を作ること
ができる、（ロ）均一性が高い、（ハ）ピンホールが少
なく、膜がち密で硬い、（へ）大面積の膜ができる、（
ホ）成膜速度が速いなどの利点があり、それとけ明確に
区別される。
第１図は、実施例の多層干渉膜の垂直断面を示す模式図
である。 第２図は、実施例の多層干渉膜の分光反射率特性を示す
グラフである。 〔主要部分の符号の説明〕
である。 第２図は、実施例の多層干渉膜の分光反射率特性を示す
グラフである。 〔主要部分の符号の説明〕
Claims (1)
- 高屈折率物質の層、低屈折率物質の層及び必要に応じて
中屈折率物質の層からなる多層干渉膜に於いて、前記高
屈折率物質の層又は中屈折率物質の層として、アモルフ
ァス硬質カーボン薄膜を使用したことを特徴とする多層
干渉膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3940085A JPS61198201A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 多層干渉膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3940085A JPS61198201A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 多層干渉膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61198201A true JPS61198201A (ja) | 1986-09-02 |
Family
ID=12551938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3940085A Pending JPS61198201A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 多層干渉膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61198201A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001029137A1 (en) * | 1999-10-20 | 2001-04-26 | Flex Products, Inc. | Color shifting carbon-containing interference pigments |
-
1985
- 1985-02-28 JP JP3940085A patent/JPS61198201A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001029137A1 (en) * | 1999-10-20 | 2001-04-26 | Flex Products, Inc. | Color shifting carbon-containing interference pigments |
| JP2003512497A (ja) * | 1999-10-20 | 2003-04-02 | フレックス プロダクツ インコーポレイテッド | 色シフト性炭素含有干渉顔料 |
| US6545809B1 (en) | 1999-10-20 | 2003-04-08 | Flex Products, Inc. | Color shifting carbon-containing interference pigments |
| US6744559B2 (en) | 1999-10-20 | 2004-06-01 | Flex Products, Inc. | Color shifting carbon-containing interference pigments and foils |
| US6751022B2 (en) | 1999-10-20 | 2004-06-15 | Flex Products, Inc. | Color shifting carbon-containing interference pigments and foils |
| US6831785B2 (en) | 1999-10-20 | 2004-12-14 | Flex Products, Inc. | Color shifting carbon-containing interference pigments |
| US6833959B2 (en) | 1999-10-20 | 2004-12-21 | Flex Products, Inc. | Color shifting carbon-containing interference pigments |
| CN100441639C (zh) * | 1999-10-20 | 2008-12-10 | 福来克斯产品公司 | 色移的含碳干涉颜料 |
| EP1418208A3 (en) * | 1999-10-20 | 2009-04-22 | JDS Uniphase Corporation | Color shifting carbon-containing interference pigments |
| JP4925154B2 (ja) * | 1999-10-20 | 2012-04-25 | ジェイディーエス ユニフェイズ コーポレイション | 色シフト性炭素含有干渉顔料 |
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