JPH05215906A - 多層偏光分離膜 - Google Patents
多層偏光分離膜Info
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- JPH05215906A JPH05215906A JP4610992A JP4610992A JPH05215906A JP H05215906 A JPH05215906 A JP H05215906A JP 4610992 A JP4610992 A JP 4610992A JP 4610992 A JP4610992 A JP 4610992A JP H05215906 A JPH05215906 A JP H05215906A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 本発明の多層偏光分離膜１５は、屈折率が
１．７５〜１．８１である光学部品２０の表面に、第１
層１から第９層９までの９層をこの順に積層してなるも
のである。第１層１および第３層３は、それぞれＴｉＯ
2 を主成分とする材料で構成され、第２層２および第６
層６は、それぞれＳｉＯ2 を主成分とする材料で構成さ
れ、第４層４および第８層８は、それぞれＭｇＦ2 を主
成分とする材料で構成され、第５層５、第７層７および
第９層９は、それぞれＡｌ2 Ｏ3を主成分とする材料で
構成されている。また、多層偏光分離膜１５は、第１層
１側から入射光５０が入射角３０〜６０°で入射するよ
うに用いられる。 【効果】 Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との分離能が高く、
かつ、広い波長域にわたって、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分
との無位相差状態が得られる。
１．７５〜１．８１である光学部品２０の表面に、第１
層１から第９層９までの９層をこの順に積層してなるも
のである。第１層１および第３層３は、それぞれＴｉＯ
2 を主成分とする材料で構成され、第２層２および第６
層６は、それぞれＳｉＯ2 を主成分とする材料で構成さ
れ、第４層４および第８層８は、それぞれＭｇＦ2 を主
成分とする材料で構成され、第５層５、第７層７および
第９層９は、それぞれＡｌ2 Ｏ3を主成分とする材料で
構成されている。また、多層偏光分離膜１５は、第１層
１側から入射光５０が入射角３０〜６０°で入射するよ
うに用いられる。 【効果】 Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との分離能が高く、
かつ、広い波長域にわたって、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分
との無位相差状態が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、カメラ、望遠
鏡、各種光学測定機器、各種ＯＡ機器、レーザー応用機
器、各種電子映像機器、光通信装置、光情報処理装置、
光学応用製造装置等の光学機器を構成する光学部品に対
して施される多層偏光分離膜に関する。
鏡、各種光学測定機器、各種ＯＡ機器、レーザー応用機
器、各種電子映像機器、光通信装置、光情報処理装置、
光学応用製造装置等の光学機器を構成する光学部品に対
して施される多層偏光分離膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、レーザープリンター、光ディス
ク装置、レーザー加工装置および測定装置のようなレー
ザー応用機器には、レンズやプリズム等の多くの光学部
品が用いられているが、このような光学部品に対して
は、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分のうち、一方だけを取り出
したい場合があり、そのために、偏光分離膜を形成する
ことが行われている。この偏光分離膜は、光学部品の表
面に、真空蒸着法等により、例えばＴｉＯ2 、ＳｉＯ
2 、ＭｇＦ2 のような無機物質よりなる薄膜を複数積層
して形成したものである。
ク装置、レーザー加工装置および測定装置のようなレー
ザー応用機器には、レンズやプリズム等の多くの光学部
品が用いられているが、このような光学部品に対して
は、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分のうち、一方だけを取り出
したい場合があり、そのために、偏光分離膜を形成する
ことが行われている。この偏光分離膜は、光学部品の表
面に、真空蒸着法等により、例えばＴｉＯ2 、ＳｉＯ
2 、ＭｇＦ2 のような無機物質よりなる薄膜を複数積層
して形成したものである。
【０００３】この多層偏光分離膜としては、Ｓ偏光成分
およびＰ偏光成分の高い分離能を得ることが重要な課題
である。
およびＰ偏光成分の高い分離能を得ることが重要な課題
である。
【０００４】また、レーザー用の光学系では、多層偏光
分離膜に要求される性能として、高い分離能が得られる
ことのみならず、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との位相差が
実質的にないこと（以下、無位相差という）、換言すれ
ば直線偏光となることが重要である。すなわち、Ｓ偏光
成分とＰ偏光成分とに位相差があると、レーザービーム
のスポット径を小さくすることができず、Ｓ／Ｎ比等の
精度が低下するからである。
分離膜に要求される性能として、高い分離能が得られる
ことのみならず、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との位相差が
実質的にないこと（以下、無位相差という）、換言すれ
ば直線偏光となることが重要である。すなわち、Ｓ偏光
成分とＰ偏光成分とに位相差があると、レーザービーム
のスポット径を小さくすることができず、Ｓ／Ｎ比等の
精度が低下するからである。
【０００５】さらに、一般に、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分
との位相差には、波長依存性があるが、上記無位相差の
状態は、広い波長域にわたって得られなければならな
い。すなわち、レーザー光源自身が持っている仕様幅や
環境の変化等によって使用する波長が変動することがあ
るが、このような変動に対しても無位相差を維持し、高
いレベルの精度を安定的に得ることが好ましいからであ
る。
との位相差には、波長依存性があるが、上記無位相差の
状態は、広い波長域にわたって得られなければならな
い。すなわち、レーザー光源自身が持っている仕様幅や
環境の変化等によって使用する波長が変動することがあ
るが、このような変動に対しても無位相差を維持し、高
いレベルの精度を安定的に得ることが好ましいからであ
る。
【０００６】このような無位相差およびその波長依存性
がないことに関し、従来の多層偏光分離膜では、満足す
る性能が得られるものは未だなく、特に、設計波長では
無位相差であるが、設計波長から±３０nm以上離れる
と、反射光のＳ偏光成分とＰ偏光成分との位相差が５°
を超えてしまうような状態であった。
がないことに関し、従来の多層偏光分離膜では、満足す
る性能が得られるものは未だなく、特に、設計波長では
無位相差であるが、設計波長から±３０nm以上離れる
と、反射光のＳ偏光成分とＰ偏光成分との位相差が５°
を超えてしまうような状態であった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、Ｓ偏
光成分とＰ偏光成分と分離能（以下、単に分離能ともい
う）が高く、広い波長域にわたって、Ｓ偏光成分とＰ偏
光成分との無位相差状態が得られる多層偏光分離膜を提
供することにある。
光成分とＰ偏光成分と分離能（以下、単に分離能ともい
う）が高く、広い波長域にわたって、Ｓ偏光成分とＰ偏
光成分との無位相差状態が得られる多層偏光分離膜を提
供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）の本発明により達成される。
（１）の本発明により達成される。
【０００９】（１） 屈折率が１．７５〜１．８１であ
る光学部品の表面に、第１層から第９層までの層を前記
表面側からこの順に積層してなる多層偏光分離膜であっ
て、第１層および第３層は、それぞれ、ＴｉＯ2 を主成
分とする材料で構成され、第２層および第６層は、それ
ぞれ、ＳｉＯ2 を主成分とする材料で構成され、第４層
および第８層は、それぞれ、ＭｇＦ2 を主成分とする材
料で構成され、第５層、第７層および第９層は、それぞ
れ、Ａｌ2 Ｏ3 を主成分とする材料で構成され、入射光
が前記第１層側から入射角３０〜６０°で入射するよう
に用いられることを特徴とする多層偏光分離膜。
る光学部品の表面に、第１層から第９層までの層を前記
表面側からこの順に積層してなる多層偏光分離膜であっ
て、第１層および第３層は、それぞれ、ＴｉＯ2 を主成
分とする材料で構成され、第２層および第６層は、それ
ぞれ、ＳｉＯ2 を主成分とする材料で構成され、第４層
および第８層は、それぞれ、ＭｇＦ2 を主成分とする材
料で構成され、第５層、第７層および第９層は、それぞ
れ、Ａｌ2 Ｏ3 を主成分とする材料で構成され、入射光
が前記第１層側から入射角３０〜６０°で入射するよう
に用いられることを特徴とする多層偏光分離膜。
【００１０】
【発明の構成】以下、本発明の多層偏光分離膜を添付図
面に示す好適実施例に基づいて詳細に説明する。
面に示す好適実施例に基づいて詳細に説明する。
【００１１】図１は、本発明の多層偏光分離膜の構成例
を拡大して示す断面側面図である。同図に示すように、
多層偏光分離膜１５は、比較的高い屈折率を有する光学
部品（入射媒質）２０の表面に形成されている。
を拡大して示す断面側面図である。同図に示すように、
多層偏光分離膜１５は、比較的高い屈折率を有する光学
部品（入射媒質）２０の表面に形成されている。
【００１２】光学部品２０としては、例えば、透明な各
種硝材またはプラスチック（例えばアクリル系樹脂、ポ
リカーボネート、ポリスチレン）で構成されたレンズ、
プリズム、光学フィルター等が挙げれら、特に、ビーム
スプリッターを構成するプリズムが好適に用いられる。
また、光学部品２０の多層偏光分離膜１５を形成する表
面は、図示のごとく平面であっても、また曲面（球面ま
たは非球面）であってもよい。
種硝材またはプラスチック（例えばアクリル系樹脂、ポ
リカーボネート、ポリスチレン）で構成されたレンズ、
プリズム、光学フィルター等が挙げれら、特に、ビーム
スプリッターを構成するプリズムが好適に用いられる。
また、光学部品２０の多層偏光分離膜１５を形成する表
面は、図示のごとく平面であっても、また曲面（球面ま
たは非球面）であってもよい。
【００１３】光学部品２０の屈折率（測定波長５５０n
m）は、１．７５〜１．８１であり、好ましくは、１．
７７〜１．７９程度である。屈折率がこのような範囲の
ものにおいて、後述する効果が有効に発揮される。
m）は、１．７５〜１．８１であり、好ましくは、１．
７７〜１．７９程度である。屈折率がこのような範囲の
ものにおいて、後述する効果が有効に発揮される。
【００１４】多層偏光分離膜１５は、光学部品２０の表
面側から順に積層された、第１層１、第２層２、第３層
３、第４層４、第５層５、第６層６、第７層７、第８層
８および第９層９の合計９層で構成されている。これら
の層のうち、隣接する２つの層の構成材料を、それらの
屈折率がある程度乖離したものとすることが分離能の向
上および無位相差にとって有効である。
面側から順に積層された、第１層１、第２層２、第３層
３、第４層４、第５層５、第６層６、第７層７、第８層
８および第９層９の合計９層で構成されている。これら
の層のうち、隣接する２つの層の構成材料を、それらの
屈折率がある程度乖離したものとすることが分離能の向
上および無位相差にとって有効である。
【００１５】すなわち、第１層１および第３層３は、そ
れぞれ、ＴｉＯ2 を主成分とする材料で構成され、第２
層２および第６層６は、それぞれ、ＳｉＯ2 を主成分と
する材料で構成され、第４層４および第８層８は、それ
ぞれ、ＭｇＦ2 を主成分とする材料で構成され、第５層
５、第７層７および第９層９は、それぞれ、Ａｌ2 Ｏ3
を主成分とする材料で構成されている。
れぞれ、ＴｉＯ2 を主成分とする材料で構成され、第２
層２および第６層６は、それぞれ、ＳｉＯ2 を主成分と
する材料で構成され、第４層４および第８層８は、それ
ぞれ、ＭｇＦ2 を主成分とする材料で構成され、第５層
５、第７層７および第９層９は、それぞれ、Ａｌ2 Ｏ3
を主成分とする材料で構成されている。
【００１６】ここで、ＴｉＯ2 を主成分とする材料と
は、ＴｉＯ2 か、またはＴｉＯ2 を主成分（好ましくは
６０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上）と
し、他の物質（添加物または不可避的不純物等を含む）
を含む混合物を言うが、特に、実質的に不純物を含まな
いＴｉＯ2 が好ましい。
は、ＴｉＯ2 か、またはＴｉＯ2 を主成分（好ましくは
６０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上）と
し、他の物質（添加物または不可避的不純物等を含む）
を含む混合物を言うが、特に、実質的に不純物を含まな
いＴｉＯ2 が好ましい。
【００１７】ＳｉＯ2 を主成分とする材料とは、ＳｉＯ
2 か、またはＳｉＯ2 を主成分（好ましくは６０重量％
以上、より好ましくは８０重量％以上）とし、他の物質
（添加物または不可避的不純物等を含む）を含む混合物
を言うが、特に、実質的に不純物を含まないＳｉＯ2 が
好ましい。
2 か、またはＳｉＯ2 を主成分（好ましくは６０重量％
以上、より好ましくは８０重量％以上）とし、他の物質
（添加物または不可避的不純物等を含む）を含む混合物
を言うが、特に、実質的に不純物を含まないＳｉＯ2 が
好ましい。
【００１８】ＭｇＦ2 を主成分とする材料とは、ＭｇＦ
2 か、またはＭｇＦ2 を主成分（好ましくは６０重量％
以上、より好ましくは８０重量％以上）とし、他の物質
（添加物または不可避的不純物等を含む）を含む混合物
を言うが、特に、実質的に不純物を含まないＭｇＦ2 が
好ましい。
2 か、またはＭｇＦ2 を主成分（好ましくは６０重量％
以上、より好ましくは８０重量％以上）とし、他の物質
（添加物または不可避的不純物等を含む）を含む混合物
を言うが、特に、実質的に不純物を含まないＭｇＦ2 が
好ましい。
【００１９】Ａｌ2 Ｏ3 を主成分とする材料とは、Ａｌ
2 Ｏ3 か、またはＡｌ2 Ｏ3 を主成分（好ましくは６０
重量％以上、より好ましくは８０重量％以上）とし、他
の物質（添加物または不可避的不純物等を含む）を含む
混合物を言うが、特に、実質的に不純物を含まないＡｌ
2 Ｏ3 が好ましい。
2 Ｏ3 か、またはＡｌ2 Ｏ3 を主成分（好ましくは６０
重量％以上、より好ましくは８０重量％以上）とし、他
の物質（添加物または不可避的不純物等を含む）を含む
混合物を言うが、特に、実質的に不純物を含まないＡｌ
2 Ｏ3 が好ましい。
【００２０】なお、第１層１および第３層３は、同一の
組成でもそれぞれ異なる組成でもよく、第２層２および
第６層６、第４層４および第８層８、第５層５、第７層
７および第９層９についても、それぞれ同様である。
組成でもそれぞれ異なる組成でもよく、第２層２および
第６層６、第４層４および第８層８、第５層５、第７層
７および第９層９についても、それぞれ同様である。
【００２１】本発明においては、第１層１および第３層
３の屈折率（測定波長５５０nm、以下同様）をそれぞれ
２．２９〜２．３８、特に２．２９〜２．３５の範囲の
ものとし、第５層５、第７層７および第９層９の屈折率
をそれぞれ１．６４〜１．６５の範囲のものとし、第２
層２および第６層６の屈折率をそれぞれ１．４７〜１．
４９の範囲のものとし、第４層４および第８層８の屈折
率をそれぞれ１．３７〜１．３９の範囲のもとするのが
好ましい。
３の屈折率（測定波長５５０nm、以下同様）をそれぞれ
２．２９〜２．３８、特に２．２９〜２．３５の範囲の
ものとし、第５層５、第７層７および第９層９の屈折率
をそれぞれ１．６４〜１．６５の範囲のものとし、第２
層２および第６層６の屈折率をそれぞれ１．４７〜１．
４９の範囲のものとし、第４層４および第８層８の屈折
率をそれぞれ１．３７〜１．３９の範囲のもとするのが
好ましい。
【００２２】多層偏光分離膜１５の各層１〜９の構成材
料や屈折率を上記のようにすることにより、極めて高い
分離能が得られ、反射光のＳ偏光成分とＰ偏光成分との
位相差が実質的にないかまたは極めて小さく、しかもそ
の効果は広い波長域において得られる。さらに、このよ
うな多層偏光分離膜１５は、劣化が少なく、優れた耐久
性が得られる。また、各層１〜９間の境界面および光学
部品２０の表面における膜の密着性も良好であり、層間
の応力によるクラックの発生も大幅に減少する。
料や屈折率を上記のようにすることにより、極めて高い
分離能が得られ、反射光のＳ偏光成分とＰ偏光成分との
位相差が実質的にないかまたは極めて小さく、しかもそ
の効果は広い波長域において得られる。さらに、このよ
うな多層偏光分離膜１５は、劣化が少なく、優れた耐久
性が得られる。また、各層１〜９間の境界面および光学
部品２０の表面における膜の密着性も良好であり、層間
の応力によるクラックの発生も大幅に減少する。
【００２３】多層偏光分離膜１５において、各層１〜９
の光学的膜厚には特に制限はないが、通常は次のような
ものとするのが好ましい。すなわち、各層１〜９の光学
的膜厚は、それぞれ、使用波長域（反射増加したい波長
域）の中心波長の０．１５〜０．３５倍程度とするのが
好ましく、より好ましくは０．２０〜０．３０倍程度、
さらに好ましくは０．２２５〜０．２７５倍程度とされ
る。
の光学的膜厚には特に制限はないが、通常は次のような
ものとするのが好ましい。すなわち、各層１〜９の光学
的膜厚は、それぞれ、使用波長域（反射増加したい波長
域）の中心波長の０．１５〜０．３５倍程度とするのが
好ましく、より好ましくは０．２０〜０．３０倍程度、
さらに好ましくは０．２２５〜０．２７５倍程度とされ
る。
【００２４】各層１〜９の形成は、通常、真空蒸着、ス
パッタリング、イオンプレーティング等の気相成膜法に
より行われ、成膜条件の設定により、上記膜組成および
膜厚を得ることができる。
パッタリング、イオンプレーティング等の気相成膜法に
より行われ、成膜条件の設定により、上記膜組成および
膜厚を得ることができる。
【００２５】このような多層偏光分離膜１５は、図１に
示すように、入射光５０が第１層１側から入射するよう
に用いられ、かつ、通常の使用状態において、入射角θ
が３０〜６０°、好ましくは３５〜５０°程度、より好
ましくは４０〜４７°程度となるように用いられるもの
である。入射角θが３０°未満であるとＳ偏光成分とＰ
偏光成分との分離能が低下する傾向を示し、また入射角
θが６０°を超えると、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との位
相差が大きくなる傾向を示す。
示すように、入射光５０が第１層１側から入射するよう
に用いられ、かつ、通常の使用状態において、入射角θ
が３０〜６０°、好ましくは３５〜５０°程度、より好
ましくは４０〜４７°程度となるように用いられるもの
である。入射角θが３０°未満であるとＳ偏光成分とＰ
偏光成分との分離能が低下する傾向を示し、また入射角
θが６０°を超えると、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との位
相差が大きくなる傾向を示す。
【００２６】以上のような多層偏光分離膜１５は、特
に、波長７５０〜９１０nm、さらには波長７８０〜８８
０nmの入射光に対し、極めて高い分離能と無位相差を実
現する。
に、波長７５０〜９１０nm、さらには波長７８０〜８８
０nmの入射光に対し、極めて高い分離能と無位相差を実
現する。
【００２７】図示の例では、多層偏光分離膜１５の第９
層９側に、接着剤層３０を介して、光学部品（出射媒
質）４０が接着されている。光学部品４０としては、前
記光学部品２０と同様のものが挙げらる。光学部品４０
の屈折率は特に限定されないが、例えば、光学部品２０
および４０をプリズムとするビームスプリッターを構成
する場合、光学部品４０の屈折率は、光学部品２０の屈
折率とほぼ等しいかまたはそれ以下のもの（例えば、Ｌ
ａＳＦ０１：１．７９、ＬａＦ０１２：１．７７、Ｂａ
ＳＦ６：１．６６、ＢＫ７：１．５１、ＦＫ３：１．４
７）、あるいは光学部品２０の屈折率より大きいもの
（例えば、ＳＦＳ１：１．９０、ＬａＦ０２１：１．８
５）を用いることができる。
層９側に、接着剤層３０を介して、光学部品（出射媒
質）４０が接着されている。光学部品４０としては、前
記光学部品２０と同様のものが挙げらる。光学部品４０
の屈折率は特に限定されないが、例えば、光学部品２０
および４０をプリズムとするビームスプリッターを構成
する場合、光学部品４０の屈折率は、光学部品２０の屈
折率とほぼ等しいかまたはそれ以下のもの（例えば、Ｌ
ａＳＦ０１：１．７９、ＬａＦ０１２：１．７７、Ｂａ
ＳＦ６：１．６６、ＢＫ７：１．５１、ＦＫ３：１．４
７）、あるいは光学部品２０の屈折率より大きいもの
（例えば、ＳＦＳ１：１．９０、ＬａＦ０２１：１．８
５）を用いることができる。
【００２８】接着剤層３０の厚さは特に限定されない
が、例えば、光学部品２０および４０をプリズムとする
ビームスプリッターを構成する場合、接着剤層３０の厚
さは、５〜１０μm 程度、特に７〜８μm 程度とするの
が好ましい。
が、例えば、光学部品２０および４０をプリズムとする
ビームスプリッターを構成する場合、接着剤層３０の厚
さは、５〜１０μm 程度、特に７〜８μm 程度とするの
が好ましい。
【００２９】なお、本発明では、接着剤層３０や光学部
品４０は、必要に応じて設けられるものであり、これら
が存在しないものであってもよい。
品４０は、必要に応じて設けられるものであり、これら
が存在しないものであってもよい。
【００３０】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例について説明す
る。
る。
【００３１】（実施例１） ［１］多層偏光分離膜の製造 光学ガラス部品（ＬａＳＦ０１、屈折率：１．７９のプ
リズム）を精密洗浄した後、真空蒸着法により、この光
学ガラス部品の表面側から下記表１に示す材料で構成さ
れる第１層〜第９層を順次形成し、本発明の多層偏光分
離膜を得た。なお、表１中には、各層の屈折率（測定波
長５５０nm）および膜厚を併せて示す。
リズム）を精密洗浄した後、真空蒸着法により、この光
学ガラス部品の表面側から下記表１に示す材料で構成さ
れる第１層〜第９層を順次形成し、本発明の多層偏光分
離膜を得た。なお、表１中には、各層の屈折率（測定波
長５５０nm）および膜厚を併せて示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】［２］偏光ビームスプリッターの製造 上記多層偏光分離膜の第９層側に、透明な接着剤（電気
化学工業社製の品名：ハードロップ、塗布膜圧７μm ）
を介して光学ガラス部品（ＬａＳＦ０１、屈折率：１．
７９のプリズム）を接着し、偏光ビームスプリッターを
組み立てた。
化学工業社製の品名：ハードロップ、塗布膜圧７μm ）
を介して光学ガラス部品（ＬａＳＦ０１、屈折率：１．
７９のプリズム）を接着し、偏光ビームスプリッターを
組み立てた。
【００３４】［３］分光特性の測定 上記多層偏光分離膜に対し、波長７８０〜８８０nm（設
計波長８３０nm）の光を第１層側から入射角４５°で入
射させ、Ｓ偏光成分およびＰ偏光成分の分離能を測定し
た。その結果を図２のグラフに示す。このグラフに示す
ように、設計波長からの乖離が±５０nm以内で、Ｓ偏光
成分（図中点線）の反射率がほぼ１００％で、かつＰ偏
光成分（図中実線）の反射率が３０％以下を達成してお
り、優れた分離能が得られている。
計波長８３０nm）の光を第１層側から入射角４５°で入
射させ、Ｓ偏光成分およびＰ偏光成分の分離能を測定し
た。その結果を図２のグラフに示す。このグラフに示す
ように、設計波長からの乖離が±５０nm以内で、Ｓ偏光
成分（図中点線）の反射率がほぼ１００％で、かつＰ偏
光成分（図中実線）の反射率が３０％以下を達成してお
り、優れた分離能が得られている。
【００３５】［４］位相差の測定 上記多層偏光分離膜に対し、波長７５０〜９１０nm（設
計波長８３０nm）の光を第１層側から入射角４５°で入
射させ、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との位相差を測定し
た。その結果を図３のグラフに示す。このグラフに示す
ように、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との位相差は、設計波
長からの乖離が±８０nmの範囲内で±５．０°以内、±
５０nmの範囲内で±３．０°以内、±３０nmの範囲内で
±２．０°以内を達成している。
計波長８３０nm）の光を第１層側から入射角４５°で入
射させ、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との位相差を測定し
た。その結果を図３のグラフに示す。このグラフに示す
ように、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との位相差は、設計波
長からの乖離が±８０nmの範囲内で±５．０°以内、±
５０nmの範囲内で±３．０°以内、±３０nmの範囲内で
±２．０°以内を達成している。
【００３６】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の多層偏光分
離膜によれば、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との分離能が高
く、しかも、広い波長域にわたって、Ｓ偏光成分とＰ偏
光成分との無位相差状態が得られる。また、本発明の多
層偏光分離膜は、比較的層数が少ないため、製造が容易
であり、また安定性、耐久性にも優れている。
離膜によれば、Ｓ偏光成分とＰ偏光成分との分離能が高
く、しかも、広い波長域にわたって、Ｓ偏光成分とＰ偏
光成分との無位相差状態が得られる。また、本発明の多
層偏光分離膜は、比較的層数が少ないため、製造が容易
であり、また安定性、耐久性にも優れている。
【図１】本発明の多層偏光分離膜の構成例を拡大して示
す断面側面図である。
す断面側面図である。
【図２】本発明の実施例における分光特性を示すグラフ
である。
である。
【図３】本発明の実施例におけるＳ偏光成分とＰ偏光成
分との位相差を示すグラフである。
分との位相差を示すグラフである。
１ 第１層 ２ 第２層 ３ 第３層 ４ 第４層 ５ 第５層 ６ 第６層 ７ 第７層 ８ 第８層 ９ 第９層 １５ 多層偏光分離膜 ２０ 光学部品 ３０ 接着剤層 ４０ 光学部品 ５０ 入射光
Claims (1)
- 【請求項１】 屈折率が１．７５〜１．８１である光学
部品の表面に、第１層から第９層までの層を前記表面側
からこの順に積層してなる多層偏光分離膜であって、 第１層および第３層は、それぞれ、ＴｉＯ2 を主成分と
する材料で構成され、 第２層および第６層は、それぞれ、ＳｉＯ2 を主成分と
する材料で構成され、 第４層および第８層は、それぞれ、ＭｇＦ2 を主成分と
する材料で構成され、 第５層、第７層および第９層は、それぞれ、Ａｌ2 Ｏ3
を主成分とする材料で構成され、 入射光が前記第１層側から入射角３０〜６０°で入射す
るように用いられることを特徴とする多層偏光分離膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4610992A JPH05215906A (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | 多層偏光分離膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4610992A JPH05215906A (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | 多層偏光分離膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05215906A true JPH05215906A (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=12737829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4610992A Pending JPH05215906A (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | 多層偏光分離膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05215906A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5661602A (en) * | 1995-03-16 | 1997-08-26 | Fujitsu Limited | Beam splitter |
| KR100972569B1 (ko) * | 2007-03-22 | 2010-07-28 | 후지논 가부시키가이샤 | 반사 방지막, 광학소자 및 광학계 |
-
1992
- 1992-01-31 JP JP4610992A patent/JPH05215906A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5661602A (en) * | 1995-03-16 | 1997-08-26 | Fujitsu Limited | Beam splitter |
| US5745290A (en) * | 1995-03-16 | 1998-04-28 | Fujitsu Limited | Beam splitter |
| US5771118A (en) * | 1995-03-16 | 1998-06-23 | Fujitsu Limited | Beam splitter |
| US5798865A (en) * | 1995-03-16 | 1998-08-25 | Fujitsu Limited | Beam splitter |
| US5822124A (en) * | 1995-03-16 | 1998-10-13 | Fujitsu Limited | Beam splitter |
| KR100972569B1 (ko) * | 2007-03-22 | 2010-07-28 | 후지논 가부시키가이샤 | 반사 방지막, 광학소자 및 광학계 |
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