JP2929779B2 - 炭素被膜付撥水ガラス - Google Patents
炭素被膜付撥水ガラスInfo
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば撥水ガラス、反
応管等として利用可能な炭素被膜付撥水ガラスに関す
る。
応管等として利用可能な炭素被膜付撥水ガラスに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば、反応管として利用される
炭素被膜付ガラスとして、石英ガラスと、この石英ガラ
スの表面に形成された炭素被膜とからなるものが知られ
ている。この炭素被膜付ガラスは、水素ガスで還元処理
した石英ガラスの表面に炭素被膜形成原料を含むキャリ
アガスを供給する方法により製造される（特開平２−１
８８４４７号公報）。
炭素被膜付ガラスとして、石英ガラスと、この石英ガラ
スの表面に形成された炭素被膜とからなるものが知られ
ている。この炭素被膜付ガラスは、水素ガスで還元処理
した石英ガラスの表面に炭素被膜形成原料を含むキャリ
アガスを供給する方法により製造される（特開平２−１
８８４４７号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の炭素被
膜付ガラスは、炭素被膜とガラスとの密着性が充分でな
く、炭素被膜の剥離を生じやすくて耐久性に欠けるとい
う欠点があった。また、従来の炭素被膜付ガラスでは、
撥水性が不十分な場合があった。本発明は、上記従来の
不具合に鑑みてなされたものであって、充分な撥水性を
確保しつつ、炭素被膜の剥離を生じにくい炭素被膜付ガ
ラスを提供すること目的とする。
膜付ガラスは、炭素被膜とガラスとの密着性が充分でな
く、炭素被膜の剥離を生じやすくて耐久性に欠けるとい
う欠点があった。また、従来の炭素被膜付ガラスでは、
撥水性が不十分な場合があった。本発明は、上記従来の
不具合に鑑みてなされたものであって、充分な撥水性を
確保しつつ、炭素被膜の剥離を生じにくい炭素被膜付ガ
ラスを提供すること目的とする。
【０００４】
【０００５】
【課題を解決するための手段】本第１発明の炭素被膜付
撥水ガラスは、ガラス基材と、該ガラス基材の表面に厚
さが６０Å以上形成され、絶縁性の金属酸化物をモル分
率１０％以上含有する中間層と、該中間層の表面に厚さ
が１０Å以上形成された炭素被膜と、からなることを特
徴とするものである。
撥水ガラスは、ガラス基材と、該ガラス基材の表面に厚
さが６０Å以上形成され、絶縁性の金属酸化物をモル分
率１０％以上含有する中間層と、該中間層の表面に厚さ
が１０Å以上形成された炭素被膜と、からなることを特
徴とするものである。
【０００６】本第２発明の炭素被膜付撥水ガラスは、ガ
ラス基材と、該ガラス基材の表面に厚さが５０Å以上形
成され、絶縁性の金属酸化物をモル分率５％以上含有す
る中間層と、該中間層の表面に厚さが１０Å以上形成さ
れ少なくとも表面にフッ素が化合されたフッ素含有炭素
被膜と、からなることを特徴とするものである。
ラス基材と、該ガラス基材の表面に厚さが５０Å以上形
成され、絶縁性の金属酸化物をモル分率５％以上含有す
る中間層と、該中間層の表面に厚さが１０Å以上形成さ
れ少なくとも表面にフッ素が化合されたフッ素含有炭素
被膜と、からなることを特徴とするものである。
【０００７】ガラス基材としては、ケイ酸塩ガラス、ホ
ウケイ酸塩ガラス、ソーダライムガラス等からなるもの
を採用することができる。このガラス基材としては、板
状、管状等種々の形状のものを採用することができる。
中間層における絶縁性の金属酸化物としては、Ｓｉ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2、Ｙ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｐ
ｂＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｂ2 Ｏ3 、Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｎａ2
Ｏ、Ｋ2 Ｏ、Ｌｉ2 Ｏ等の一種又は二種以上を採用する
ことができる。第１発明の炭素被膜付撥水ガラスでは、
この中間層は絶縁性の金属酸化物をモル分率１０％以上
含有する。第２発明の炭素被膜付撥水ガラスでは、この
中間層は絶縁性の金属酸化物をモル分率５％以上含有す
る。絶縁性の金属酸化物がモル分率１０又は５％未満で
あれば、ガラス基材と中間層との密着性、中間層と炭素
被膜又はフッ素（Ｆ）含有炭素被膜との密着性が充分で
ない。なお、モル分率は物質系の組成を表わす量で、１
成分のモル数と全成分のモル数との比をその１成分のモ
ル分率という。各成分のモル分率の総和は１（１００
％）に等しい。このモル分率は、全成分たる炭素被膜若
しくはＦ含有炭素被膜又は中間層中において、１成分が
炭素（Ｃ）又は絶縁性の金属酸化物であれば、Ｃ又は絶
縁性の金属酸化物の原子濃度（ａｔ％）より求められ
る。
ウケイ酸塩ガラス、ソーダライムガラス等からなるもの
を採用することができる。このガラス基材としては、板
状、管状等種々の形状のものを採用することができる。
中間層における絶縁性の金属酸化物としては、Ｓｉ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2、Ｙ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｐ
ｂＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｂ2 Ｏ3 、Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｎａ2
Ｏ、Ｋ2 Ｏ、Ｌｉ2 Ｏ等の一種又は二種以上を採用する
ことができる。第１発明の炭素被膜付撥水ガラスでは、
この中間層は絶縁性の金属酸化物をモル分率１０％以上
含有する。第２発明の炭素被膜付撥水ガラスでは、この
中間層は絶縁性の金属酸化物をモル分率５％以上含有す
る。絶縁性の金属酸化物がモル分率１０又は５％未満で
あれば、ガラス基材と中間層との密着性、中間層と炭素
被膜又はフッ素（Ｆ）含有炭素被膜との密着性が充分で
ない。なお、モル分率は物質系の組成を表わす量で、１
成分のモル数と全成分のモル数との比をその１成分のモ
ル分率という。各成分のモル分率の総和は１（１００
％）に等しい。このモル分率は、全成分たる炭素被膜若
しくはＦ含有炭素被膜又は中間層中において、１成分が
炭素（Ｃ）又は絶縁性の金属酸化物であれば、Ｃ又は絶
縁性の金属酸化物の原子濃度（ａｔ％）より求められ
る。
【０００８】中間層としては、１成分たる絶縁性の金属
酸化物と、残部Ｃとからなるものを採用することができ
る。中間層として、１成分たる絶縁性の金属酸化物と、
他の１成分たるＦと、残部Ｃとからなるものを採用すれ
ば、炭素被膜又はＦ含有炭素被膜の摩耗後にＦによる撥
水性を得られる点で好ましい。中間層として、表面に近
づくに従い絶縁性の金属酸化物に対してＣの濃度を濃く
つまりＣのモル分率を高くしたものを採用すれば、炭素
被膜又はＦ含有炭素被膜の密着性向上の点で好ましい。
酸化物と、残部Ｃとからなるものを採用することができ
る。中間層として、１成分たる絶縁性の金属酸化物と、
他の１成分たるＦと、残部Ｃとからなるものを採用すれ
ば、炭素被膜又はＦ含有炭素被膜の摩耗後にＦによる撥
水性を得られる点で好ましい。中間層として、表面に近
づくに従い絶縁性の金属酸化物に対してＣの濃度を濃く
つまりＣのモル分率を高くしたものを採用すれば、炭素
被膜又はＦ含有炭素被膜の密着性向上の点で好ましい。
【０００９】第１発明の炭素被膜付撥水ガラスでは、こ
の中間層はガラス基材の表面に厚さが６０Å以上形成さ
れる。第２発明の炭素被膜付撥水ガラスでは、この中間
層はガラス基材の表面に厚さが５０Å以上形成される。
中間層の厚さが６０又は５０Å未満であれば、ガラス基
材と中間層との密着性、中間層と炭素被膜又はＦ含有炭
素被膜との密着性が充分でなく、撥水性に悪影響を及ぼ
す。この中間層は、真空蒸着（ＰＶＤ）法、化学蒸着
（ＣＶＤ）法等により形成することができる。ＰＶＤ法
により中間層を形成することが密着性向上のために好ま
しい。
の中間層はガラス基材の表面に厚さが６０Å以上形成さ
れる。第２発明の炭素被膜付撥水ガラスでは、この中間
層はガラス基材の表面に厚さが５０Å以上形成される。
中間層の厚さが６０又は５０Å未満であれば、ガラス基
材と中間層との密着性、中間層と炭素被膜又はＦ含有炭
素被膜との密着性が充分でなく、撥水性に悪影響を及ぼ
す。この中間層は、真空蒸着（ＰＶＤ）法、化学蒸着
（ＣＶＤ）法等により形成することができる。ＰＶＤ法
により中間層を形成することが密着性向上のために好ま
しい。
【００１０】本第１発明の炭素被膜付撥水ガラスにおけ
る炭素被膜はＣのみからなる。本第２発明の炭素被膜付
撥水ガラスにおけるＦ含有炭素被膜は、第１発明に係る
炭素被膜の少なくとも表面にＦが化合される。第１、２
発明に係る炭素被膜及びＦ含有炭素被膜は、中間層の表
面に厚さが１０Å以上形成される。炭素被膜又はＦ含有
炭素被膜の厚さが１０Å未満であれば、炭素被膜又はＦ
含有炭素被膜のＣによる機能を発揮しにくい。
る炭素被膜はＣのみからなる。本第２発明の炭素被膜付
撥水ガラスにおけるＦ含有炭素被膜は、第１発明に係る
炭素被膜の少なくとも表面にＦが化合される。第１、２
発明に係る炭素被膜及びＦ含有炭素被膜は、中間層の表
面に厚さが１０Å以上形成される。炭素被膜又はＦ含有
炭素被膜の厚さが１０Å未満であれば、炭素被膜又はＦ
含有炭素被膜のＣによる機能を発揮しにくい。
【００１１】この炭素被膜及びＦ含有炭素被膜は、ＰＶ
Ｄ法、ＣＶＤ法等により形成することができる。ＰＶＤ
法により炭素被膜及びＦ含有炭素被膜を形成することが
密着性向上のために好ましい。Ｆ含有炭素被膜は、炭素
被膜を形成した後、ＣＦ4 ガス等のフッ素を含有したガ
スを混合させたＰＶＤ法で表面フッ素化処理を行なうこ
とにより形成することができる。ＰＶＤ法において、絶
縁性の金属酸化物とＣとをターゲット又は蒸発源とし、
スパッタ電力等を経時的変化させることにより、中間層
と炭素被膜又はＦ含有炭素被膜とを連続的に形成するこ
ともできる。なお、ＲＦスパッタリングの場合はＲＦ電
力で良いが、真空蒸着では、ＥＢ電流値か抵抗加熱電流
値となる。又、ＤＣスパッタリングではＤＣ電力とな
る。
Ｄ法、ＣＶＤ法等により形成することができる。ＰＶＤ
法により炭素被膜及びＦ含有炭素被膜を形成することが
密着性向上のために好ましい。Ｆ含有炭素被膜は、炭素
被膜を形成した後、ＣＦ4 ガス等のフッ素を含有したガ
スを混合させたＰＶＤ法で表面フッ素化処理を行なうこ
とにより形成することができる。ＰＶＤ法において、絶
縁性の金属酸化物とＣとをターゲット又は蒸発源とし、
スパッタ電力等を経時的変化させることにより、中間層
と炭素被膜又はＦ含有炭素被膜とを連続的に形成するこ
ともできる。なお、ＲＦスパッタリングの場合はＲＦ電
力で良いが、真空蒸着では、ＥＢ電流値か抵抗加熱電流
値となる。又、ＤＣスパッタリングではＤＣ電力とな
る。
【００１２】なお、この炭素被膜付撥水ガラスでは、表
面に付着した炭素粒子の微細な凹凸により表面に存在す
る水をはじき、その水を表面張力で水滴にして撥水する
ため、自動車用窓ガラス等に利用されうる撥水ガラスと
される。この場合、炭素被膜付撥水ガラスは、ガラス基
材として透明なものを採用し、絶縁性の金属酸化物の種
類及びモル分率、Ｃのモル分率、中間層及び炭素被膜又
はＦ含有炭素被膜の厚さ如何によって透光性が維持され
るため、透明撥水ガラスともされうる。また、この炭素
被膜付撥水ガラスでは、ガス等の導入によりＣとガス等
との反応を行わせる反応管等としても利用されうる。
面に付着した炭素粒子の微細な凹凸により表面に存在す
る水をはじき、その水を表面張力で水滴にして撥水する
ため、自動車用窓ガラス等に利用されうる撥水ガラスと
される。この場合、炭素被膜付撥水ガラスは、ガラス基
材として透明なものを採用し、絶縁性の金属酸化物の種
類及びモル分率、Ｃのモル分率、中間層及び炭素被膜又
はＦ含有炭素被膜の厚さ如何によって透光性が維持され
るため、透明撥水ガラスともされうる。また、この炭素
被膜付撥水ガラスでは、ガス等の導入によりＣとガス等
との反応を行わせる反応管等としても利用されうる。
【００１３】
【作用】本第１発明の炭素被膜付撥水ガラスでは、ガラ
ス基材と炭素被膜との間にガラス基材及び炭素被膜と密
着する中間層をもつため、中間層がガラス基材と炭素被
膜とのバインダとして作用し、炭素被膜の剥離を防止す
ると考えられる。また、本第２発明の炭素被膜付撥水ガ
ラスでは、少なくとも表面にＦが化合されたＦ含有炭素
被膜を採用しているため、撥水性が向上する。そして、
この炭素被膜付撥水ガラスでは、かかる好適な撥水性を
維持しつつ、ガラス基材とＦ含有炭素被膜との間にガラ
ス基材及びＦ含有炭素被膜と密着する中間層をもつた
め、第１発明と同様に、Ｆ含有炭素被膜の剥離が防止さ
れる。
ス基材と炭素被膜との間にガラス基材及び炭素被膜と密
着する中間層をもつため、中間層がガラス基材と炭素被
膜とのバインダとして作用し、炭素被膜の剥離を防止す
ると考えられる。また、本第２発明の炭素被膜付撥水ガ
ラスでは、少なくとも表面にＦが化合されたＦ含有炭素
被膜を採用しているため、撥水性が向上する。そして、
この炭素被膜付撥水ガラスでは、かかる好適な撥水性を
維持しつつ、ガラス基材とＦ含有炭素被膜との間にガラ
ス基材及びＦ含有炭素被膜と密着する中間層をもつた
め、第１発明と同様に、Ｆ含有炭素被膜の剥離が防止さ
れる。
【００１４】特にＰＶＤ法やＣＶＤ法を用いて中間層を
形成した場合、その蒸着過程において金属原子及び炭素
原子が活性化され金属（−Ｃ）結合が形成され易くな
り、より強固な中間層が形成される。
形成した場合、その蒸着過程において金属原子及び炭素
原子が活性化され金属（−Ｃ）結合が形成され易くな
り、より強固な中間層が形成される。
【００１５】
【実施例】以下、本第１発明を具体化した実施例１〜７
を図面を参照しつつ説明する。 （実施例１） この炭素被膜付撥水ガラスは、図１に示すように、ガラ
ス基材１と、このガラス基材１の表面に形成された中間
層２と、この中間層２の表面に形成された炭素被膜３と
からなる。
を図面を参照しつつ説明する。 （実施例１） この炭素被膜付撥水ガラスは、図１に示すように、ガラ
ス基材１と、このガラス基材１の表面に形成された中間
層２と、この中間層２の表面に形成された炭素被膜３と
からなる。
【００１６】この炭素被膜付撥水ガラスは、およそ次の
ようにして製造したものである。すなわち、まず、二元
ＲＦマグネトロンスパッタリング装置の真空槽にＣとＳ
ｉＯ2 との二つのターゲットを備えた。また、ガラス基
材１をそのスパッタリング装置の真空槽に装備した。そ
して、その真空槽を２×１０-3Ｐａ以下まで真空引き
し、ガラス基材１を３００℃に加熱した。次いで、Ａｒ
ガスを真空槽内の圧力が１×１０-1Ｐａになるまで導入
し、各Ｃターゲット及びＳｉＯ2 ターゲットに印加する
ＲＦ電力（Ｗ）を図２に示すように経時的に変化させ、
スパッタリング成膜を行った。こうして、ガラス基材１
上に中間層２をもち、中間層２上に炭素被膜３をもつ炭
素被膜付ガラスを得た。
ようにして製造したものである。すなわち、まず、二元
ＲＦマグネトロンスパッタリング装置の真空槽にＣとＳ
ｉＯ2 との二つのターゲットを備えた。また、ガラス基
材１をそのスパッタリング装置の真空槽に装備した。そ
して、その真空槽を２×１０-3Ｐａ以下まで真空引き
し、ガラス基材１を３００℃に加熱した。次いで、Ａｒ
ガスを真空槽内の圧力が１×１０-1Ｐａになるまで導入
し、各Ｃターゲット及びＳｉＯ2 ターゲットに印加する
ＲＦ電力（Ｗ）を図２に示すように経時的に変化させ、
スパッタリング成膜を行った。こうして、ガラス基材１
上に中間層２をもち、中間層２上に炭素被膜３をもつ炭
素被膜付ガラスを得た。
【００１７】この炭素被膜付撥水ガラスの表面から深さ
方向のＣ、Ｓｉ、ＯをＡＥＳ（オージェ電子分光分析装
置）により定量分析したところ、図３に示す結果を得
た。図３では、厚さ（Å）の換算として炭素被膜付ガラ
スの表面からＣ、Ｓｉ、Ｏをエッチングするに際して要
した時間（分）と、各原子の原子濃度（ａｔ％）との関
係を示す。図３から、ガラス基材１上に約４００Åの中
間層２が形成され、この中間層２上に約１００Åの炭素
被膜３が形成されていることがわかる。ここで、中間層
２は、ガラス基材１上にＳｉＯ2 のみからなるＳｉＯ2
層が約１００Åの厚さで形成され、ＳｉＯ2 層上にＳｉ
Ｏ2 とＣとからなり表面へ近づくほどＣの濃度が濃くつ
まりＣのモル分率が高くなる混合層が約３００Åの厚さ
で形成されていた。
方向のＣ、Ｓｉ、ＯをＡＥＳ（オージェ電子分光分析装
置）により定量分析したところ、図３に示す結果を得
た。図３では、厚さ（Å）の換算として炭素被膜付ガラ
スの表面からＣ、Ｓｉ、Ｏをエッチングするに際して要
した時間（分）と、各原子の原子濃度（ａｔ％）との関
係を示す。図３から、ガラス基材１上に約４００Åの中
間層２が形成され、この中間層２上に約１００Åの炭素
被膜３が形成されていることがわかる。ここで、中間層
２は、ガラス基材１上にＳｉＯ2 のみからなるＳｉＯ2
層が約１００Åの厚さで形成され、ＳｉＯ2 層上にＳｉ
Ｏ2 とＣとからなり表面へ近づくほどＣの濃度が濃くつ
まりＣのモル分率が高くなる混合層が約３００Åの厚さ
で形成されていた。
【００１８】この炭素被膜付撥水ガラスに水滴を落と
し、炭素被膜付撥水ガラスと水滴との接触角を調べたと
ころ、約９０°の接触角であった。したがって、この炭
素被膜付撥水ガラスは、撥水ガラスとして利用可能なこ
とがわかる。また、この炭素被膜付撥水ガラスの表面を
荷重；３００ｇ／ｃｍ2 、３０００往復の摩擦条件で乾
燥したネル布により擦ったところ、なんら炭素被膜３に
変化はみられなかった。したがって、この炭素被膜付ガ
ラスは、炭素被膜３の密着性に優れ、耐久性に優れてい
ることがわかる。 （実施例２） この炭素被膜付撥水ガラスは、実施例１のものとＲＦ電
力の経時的変化を異ならせて製造したものである。他の
構成は実施例１のものと同様である。
し、炭素被膜付撥水ガラスと水滴との接触角を調べたと
ころ、約９０°の接触角であった。したがって、この炭
素被膜付撥水ガラスは、撥水ガラスとして利用可能なこ
とがわかる。また、この炭素被膜付撥水ガラスの表面を
荷重；３００ｇ／ｃｍ2 、３０００往復の摩擦条件で乾
燥したネル布により擦ったところ、なんら炭素被膜３に
変化はみられなかった。したがって、この炭素被膜付ガ
ラスは、炭素被膜３の密着性に優れ、耐久性に優れてい
ることがわかる。 （実施例２） この炭素被膜付撥水ガラスは、実施例１のものとＲＦ電
力の経時的変化を異ならせて製造したものである。他の
構成は実施例１のものと同様である。
【００１９】すなわち、この炭素被膜付撥水ガラスで
は、図４に示すようにＲＦ電力（Ｗ）を経時的に変化さ
せ、スパッタリング成膜を行った。こうして得られた炭
素被膜付撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、Ｓｉ、Ｏ
をＡＥＳにより定量分析したところ、図５に示すよう
に、ガラス基材上に約２００Åの中間層が形成され、こ
の中間層上に約１００Åの炭素被膜が形成されていた。
ここで、中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 のみからな
るＳｉＯ2 層が約１００Åの厚さで形成され、ＳｉＯ2
層上にＳｉＯ2 とＣとからなる混合層が約１００Åの厚
さで形成されていた。
は、図４に示すようにＲＦ電力（Ｗ）を経時的に変化さ
せ、スパッタリング成膜を行った。こうして得られた炭
素被膜付撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、Ｓｉ、Ｏ
をＡＥＳにより定量分析したところ、図５に示すよう
に、ガラス基材上に約２００Åの中間層が形成され、こ
の中間層上に約１００Åの炭素被膜が形成されていた。
ここで、中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 のみからな
るＳｉＯ2 層が約１００Åの厚さで形成され、ＳｉＯ2
層上にＳｉＯ2 とＣとからなる混合層が約１００Åの厚
さで形成されていた。
【００２０】この炭素被膜付撥水ガラスにおいても約９
０°の接触角であった。また、この炭素被膜付撥水ガラ
スの表面を実施例１と同一摩擦条件で擦ったところ、や
はりなんら炭素被膜に変化はみられなかった。 （比較例） 比較のため、Ｃターゲットのみを用い、ＲＦ電力４００
Ｗにて１０分間スパッタリング成膜を行った炭素被膜付
撥水ガラスを用意した。他の構成は実施例１のものと同
様である。こうして得られた炭素被膜付撥水ガラスの表
面から深さ方向のＣ、Ｓｉ、ＯをＡＥＳにより定量分析
したところ、図６に示すように、ガラス基材上にほとん
ど直接的に約２００Åの炭素被膜が形成されていた。
０°の接触角であった。また、この炭素被膜付撥水ガラ
スの表面を実施例１と同一摩擦条件で擦ったところ、や
はりなんら炭素被膜に変化はみられなかった。 （比較例） 比較のため、Ｃターゲットのみを用い、ＲＦ電力４００
Ｗにて１０分間スパッタリング成膜を行った炭素被膜付
撥水ガラスを用意した。他の構成は実施例１のものと同
様である。こうして得られた炭素被膜付撥水ガラスの表
面から深さ方向のＣ、Ｓｉ、ＯをＡＥＳにより定量分析
したところ、図６に示すように、ガラス基材上にほとん
ど直接的に約２００Åの炭素被膜が形成されていた。
【００２１】この炭素被膜付撥水ガラスにおいては約９
０°の接触角であり、撥水性は良好であった。しかし、
この炭素被膜付撥水ガラスの表面を実施例１と同一摩擦
条件で擦ったところ、５０往復目に全ての炭素被膜が剥
離してしまい、接触角は５０°となってしまった。 （実施例３） この炭素被膜付撥水ガラスは、ＣとＳｉＯ2 との二つの
蒸発源をもつイオンプレーティング装置を用いて製造し
たものである。
０°の接触角であり、撥水性は良好であった。しかし、
この炭素被膜付撥水ガラスの表面を実施例１と同一摩擦
条件で擦ったところ、５０往復目に全ての炭素被膜が剥
離してしまい、接触角は５０°となってしまった。 （実施例３） この炭素被膜付撥水ガラスは、ＣとＳｉＯ2 との二つの
蒸発源をもつイオンプレーティング装置を用いて製造し
たものである。
【００２２】すなわち、まず、イオンプレーティング装
置の真空槽にＣとＳｉＯ2 との二つの蒸発源を備えた。
また、ガラス基材をそのスパッタリング装置の真空槽に
装備した。そして、その真空槽を２×１０-3Ｐａ以下ま
で真空引きし、ガラス基材を３００℃に加熱した。次い
で、Ａｒガスを真空槽内の圧力が２×１０-2Ｐａになる
まで導入し、各Ｃ蒸発源及びＳｉＯ2 電子ビーム蒸発源
に−５ＫＶの加速電圧を印加した。また、ガラス基材上
方に位置するＤＣバイアス印加用電極に−５００Ｖを印
加し、時間とともにエミッション電流を変化させてＣ及
びＳｉＯ2 の成膜速度（Å／ｓ）を図７に示すように変
化させ、プラズマ放電を発生させ、イオンプレーティン
グ成膜を行った。こうして、炭素被膜付撥水ガラスを得
た。
置の真空槽にＣとＳｉＯ2 との二つの蒸発源を備えた。
また、ガラス基材をそのスパッタリング装置の真空槽に
装備した。そして、その真空槽を２×１０-3Ｐａ以下ま
で真空引きし、ガラス基材を３００℃に加熱した。次い
で、Ａｒガスを真空槽内の圧力が２×１０-2Ｐａになる
まで導入し、各Ｃ蒸発源及びＳｉＯ2 電子ビーム蒸発源
に−５ＫＶの加速電圧を印加した。また、ガラス基材上
方に位置するＤＣバイアス印加用電極に−５００Ｖを印
加し、時間とともにエミッション電流を変化させてＣ及
びＳｉＯ2 の成膜速度（Å／ｓ）を図７に示すように変
化させ、プラズマ放電を発生させ、イオンプレーティン
グ成膜を行った。こうして、炭素被膜付撥水ガラスを得
た。
【００２３】この炭素被膜付撥水ガラスにおいても約９
０°の接触角であった。また、この炭素被膜付撥水ガラ
スの表面を実施例１と同一摩擦条件で擦ったところ、や
はりなんら炭素被膜に変化はみられなかった。 （試験） 実施例２のものと同様にＲＦ電力（Ｗ）の経時的変化を
異ならせることにより、中間層の厚さ（Å）を変えた種
々の試料を製造した。他の構成は実施例２のものと同様
である。これらの試料の実施例１と同一の摩擦試験後の
接触角（°）を測定した結果を図８に示す。図８より、
中間層は厚さが６０Å以上あることにより、水との接触
角が約８０°を超え、耐久性に優れることがわかる。
０°の接触角であった。また、この炭素被膜付撥水ガラ
スの表面を実施例１と同一摩擦条件で擦ったところ、や
はりなんら炭素被膜に変化はみられなかった。 （試験） 実施例２のものと同様にＲＦ電力（Ｗ）の経時的変化を
異ならせることにより、中間層の厚さ（Å）を変えた種
々の試料を製造した。他の構成は実施例２のものと同様
である。これらの試料の実施例１と同一の摩擦試験後の
接触角（°）を測定した結果を図８に示す。図８より、
中間層は厚さが６０Å以上あることにより、水との接触
角が約８０°を超え、耐久性に優れることがわかる。
【００２４】また、実施例２のものと同様にＲＦ電力
（Ｗ）の経時的変化を異ならせることにより、ＣとＳｉ
との存在比を変化させ、中間層中のＳｉＯ2 の濃度つま
りモル分率（％）を変化させた種々の試料を製造した。
他の構成は実施例２のものと同様である。これらの試料
の実施例１と同一の摩擦試験後の接触角（°）を測定し
た結果を図９に示す。図９より、中間層はＳｉＯ2 がモ
ル分率１０％以上であることにより、水との接触角が約
８０°を超え、耐久性に優れることがわかる。また、こ
れより、中間層はＳｉＯ2 のみからなるものであっても
耐久性に優れることがわかる。 （実施例４） この炭素被膜付撥水ガラスは、Ｃターゲット及びＴｉＯ
2 ターゲットを用いて製造したものである。他の構成は
実施例１のものと同様である。
（Ｗ）の経時的変化を異ならせることにより、ＣとＳｉ
との存在比を変化させ、中間層中のＳｉＯ2 の濃度つま
りモル分率（％）を変化させた種々の試料を製造した。
他の構成は実施例２のものと同様である。これらの試料
の実施例１と同一の摩擦試験後の接触角（°）を測定し
た結果を図９に示す。図９より、中間層はＳｉＯ2 がモ
ル分率１０％以上であることにより、水との接触角が約
８０°を超え、耐久性に優れることがわかる。また、こ
れより、中間層はＳｉＯ2 のみからなるものであっても
耐久性に優れることがわかる。 （実施例４） この炭素被膜付撥水ガラスは、Ｃターゲット及びＴｉＯ
2 ターゲットを用いて製造したものである。他の構成は
実施例１のものと同様である。
【００２５】すなわち、この炭素被膜付撥水ガラスで
は、図１０に示すようにＲＦ電力（Ｗ）を経時的に変化
させ、スパッタリング成膜を行った。こうして得られた
炭素被膜付撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、Ｔｉ、
Ｓｉ、ＯをＡＥＳにより定量分析したところ、図１１に
示すように、ガラス基材上に約３００Åの中間層が形成
され、この中間層上に約１００Åの炭素被膜が形成され
ていた。ここで、中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 と
ＴｉＯ2 とＣとからなる第１混合層が約６０Å形成さ
れ、この第１混合層の上にＴｉＯ2 とＣとからなる第２
混合層が約２４０Å形成され、各層において表面へ近づ
くほどＣのモル分率が高くなっていた。なお、第１混合
層においてＳｉＯ2 も含まれるのは、スパッタリング成
膜の際にガラス基材中のＳｉＯ2 が中間層に移行したた
めと考えられる。
は、図１０に示すようにＲＦ電力（Ｗ）を経時的に変化
させ、スパッタリング成膜を行った。こうして得られた
炭素被膜付撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、Ｔｉ、
Ｓｉ、ＯをＡＥＳにより定量分析したところ、図１１に
示すように、ガラス基材上に約３００Åの中間層が形成
され、この中間層上に約１００Åの炭素被膜が形成され
ていた。ここで、中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 と
ＴｉＯ2 とＣとからなる第１混合層が約６０Å形成さ
れ、この第１混合層の上にＴｉＯ2 とＣとからなる第２
混合層が約２４０Å形成され、各層において表面へ近づ
くほどＣのモル分率が高くなっていた。なお、第１混合
層においてＳｉＯ2 も含まれるのは、スパッタリング成
膜の際にガラス基材中のＳｉＯ2 が中間層に移行したた
めと考えられる。
【００２６】この炭素被膜付撥水ガラスにおいては、Ｔ
ｉＯ2 がガラス基材中のＳｉＯ2 となじみやすく、実施
例１と同一の摩擦試験後でも、約９０°の接触角であ
り、炭素被膜に変化はみられなかった。 （実施例５） この炭素被膜付撥水ガラスは、Ｃターゲット及びＺｒＯ
2 ターゲットを用いて製造したものである。他の構成は
実施例１のものと同様である。
ｉＯ2 がガラス基材中のＳｉＯ2 となじみやすく、実施
例１と同一の摩擦試験後でも、約９０°の接触角であ
り、炭素被膜に変化はみられなかった。 （実施例５） この炭素被膜付撥水ガラスは、Ｃターゲット及びＺｒＯ
2 ターゲットを用いて製造したものである。他の構成は
実施例１のものと同様である。
【００２７】すなわち、この炭素被膜付撥水ガラスで
は、図１２に示すようにＲＦ電力（Ｗ）を経時的に変化
させ、スパッタリング成膜を行った。こうして得られた
炭素被膜付撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、Ｚｒ、
Ｓｉ、ＯをＡＥＳにより定量分析したところ、図１３に
示すように、ガラス基材上に約３００Åの中間層が形成
され、この中間層上に約１００Åの炭素被膜が形成され
ていた。ここで、中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 と
ＺｒＯ2 とＣとからなる第１混合層が約６０Å形成さ
れ、この第１混合層の上にＴｉＯ2 とＣとからなる第２
混合層が約２４０Å形成され、各層において表面へ近づ
くほどＣのモル分率が高くなっていた。
は、図１２に示すようにＲＦ電力（Ｗ）を経時的に変化
させ、スパッタリング成膜を行った。こうして得られた
炭素被膜付撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、Ｚｒ、
Ｓｉ、ＯをＡＥＳにより定量分析したところ、図１３に
示すように、ガラス基材上に約３００Åの中間層が形成
され、この中間層上に約１００Åの炭素被膜が形成され
ていた。ここで、中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 と
ＺｒＯ2 とＣとからなる第１混合層が約６０Å形成さ
れ、この第１混合層の上にＴｉＯ2 とＣとからなる第２
混合層が約２４０Å形成され、各層において表面へ近づ
くほどＣのモル分率が高くなっていた。
【００２８】この炭素被膜付撥水ガラスにおいても、Ｚ
ｒＯ2 がガラス基材中のＳｉＯ2 となじみやすく、実施
例１と同一の摩擦試験後でも、約９０°の接触角であ
り、炭素被膜に変化はみられなかった。 （実施例６） この炭素被膜付撥水ガラスは、Ｃターゲット及びＹ2 Ｏ
3 ターゲットを用いて製造したものである。他の構成は
実施例１のものと同様である。
ｒＯ2 がガラス基材中のＳｉＯ2 となじみやすく、実施
例１と同一の摩擦試験後でも、約９０°の接触角であ
り、炭素被膜に変化はみられなかった。 （実施例６） この炭素被膜付撥水ガラスは、Ｃターゲット及びＹ2 Ｏ
3 ターゲットを用いて製造したものである。他の構成は
実施例１のものと同様である。
【００２９】すなわち、この炭素被膜付撥水ガラスで
は、図１４に示すようにＲＦ電力（Ｗ）を経時的に変化
させ、スパッタリング成膜を行った。こうして得られた
炭素被膜付撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、Ｙ、Ｓ
ｉ、ＯをＡＥＳにより定量分析したところ、図１５に示
すように、ガラス基材上に約３００Åの中間層が形成さ
れ、この中間層上に約１００Åの炭素被膜が形成されて
いた。ここで、中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 とＹ
2 Ｏ3 とＣとからなる第１混合層が約６０Å形成され、
第１混合層の上にＹ2 Ｏ3 とＣとからなる第２混合層が
約２４０Å形成され、各層において表面へ近づくほどＣ
のモル分率が高くなっていた。
は、図１４に示すようにＲＦ電力（Ｗ）を経時的に変化
させ、スパッタリング成膜を行った。こうして得られた
炭素被膜付撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、Ｙ、Ｓ
ｉ、ＯをＡＥＳにより定量分析したところ、図１５に示
すように、ガラス基材上に約３００Åの中間層が形成さ
れ、この中間層上に約１００Åの炭素被膜が形成されて
いた。ここで、中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 とＹ
2 Ｏ3 とＣとからなる第１混合層が約６０Å形成され、
第１混合層の上にＹ2 Ｏ3 とＣとからなる第２混合層が
約２４０Å形成され、各層において表面へ近づくほどＣ
のモル分率が高くなっていた。
【００３０】この炭素被膜付撥水ガラスにおいても、Ｙ
2 Ｏ3 がガラス基材中のＳｉＯ2 となじみやすく、実施
例１と同一の摩擦試験後でも、約９０°の接触角であ
り、炭素被膜に変化はみられなかった。 （実施例７） この炭素被膜付撥水ガラスは、Ｃターゲット及びＡｌ2
Ｏ3 ターゲットを用いて製造したものである。他の構成
は実施例１のものと同様である。
2 Ｏ3 がガラス基材中のＳｉＯ2 となじみやすく、実施
例１と同一の摩擦試験後でも、約９０°の接触角であ
り、炭素被膜に変化はみられなかった。 （実施例７） この炭素被膜付撥水ガラスは、Ｃターゲット及びＡｌ2
Ｏ3 ターゲットを用いて製造したものである。他の構成
は実施例１のものと同様である。
【００３１】すなわち、この炭素被膜付撥水ガラスで
は、図１６に示すようにＲＦ電力（Ｗ）を経時的に変化
させ、スパッタリング成膜を行った。こうして得られた
炭素被膜付撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、Ａｌ、
Ｓｉ、ＯをＡＥＳにより定量分析したところ、図１７に
示すように、ガラス基材上に約３００Åの中間層が形成
され、この中間層上に約１００Åの炭素被膜が形成され
ていた。ここで、中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 と
Ａｌ2 Ｏ3 とＣとからなる第１混合層が約３０Å形成さ
れ、この第１混合層の上にＡｌ2 Ｏ3 とＣとからなる第
２混合層が約２７０Å形成され、各層において表面へ近
づくほどＣのモル分率が高くなっていた。
は、図１６に示すようにＲＦ電力（Ｗ）を経時的に変化
させ、スパッタリング成膜を行った。こうして得られた
炭素被膜付撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、Ａｌ、
Ｓｉ、ＯをＡＥＳにより定量分析したところ、図１７に
示すように、ガラス基材上に約３００Åの中間層が形成
され、この中間層上に約１００Åの炭素被膜が形成され
ていた。ここで、中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 と
Ａｌ2 Ｏ3 とＣとからなる第１混合層が約３０Å形成さ
れ、この第１混合層の上にＡｌ2 Ｏ3 とＣとからなる第
２混合層が約２７０Å形成され、各層において表面へ近
づくほどＣのモル分率が高くなっていた。
【００３２】この炭素被膜付撥水ガラスにおいても、Ａ
ｌ2 Ｏ3 がガラス基材中のＳｉＯ2となじみやすく、実
施例１と同一の摩擦試験後でも、約９０°の接触角であ
り、炭素被膜に変化はみられなかった。なお、上記実施
例１〜７及び試験では、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｚｒ
Ｏ2 、Ｙ2Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 のターゲット又は蒸発源を
用いて中間層を形成したが、Ｎａ2Ｏ−ＣａＯ−ＳｉＯ
2 系ガラスをターゲットとした場合も同様の効果が得ら
れた。
ｌ2 Ｏ3 がガラス基材中のＳｉＯ2となじみやすく、実
施例１と同一の摩擦試験後でも、約９０°の接触角であ
り、炭素被膜に変化はみられなかった。なお、上記実施
例１〜７及び試験では、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｚｒ
Ｏ2 、Ｙ2Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 のターゲット又は蒸発源を
用いて中間層を形成したが、Ｎａ2Ｏ−ＣａＯ−ＳｉＯ
2 系ガラスをターゲットとした場合も同様の効果が得ら
れた。
【００３３】次に、本第２発明を具体化した実施例８〜
１０を図面を参照しつつ説明する。 （実施例８） この実施例８は、炭素被膜付撥水ガラスとして、撥水ガ
ラスに具体化したものである。この撥水ガラスは、炭素
被膜の表面にＦが化合されたＦ含有炭素被膜をもつもの
である。他の構成は実施例１のものと同様である。
１０を図面を参照しつつ説明する。 （実施例８） この実施例８は、炭素被膜付撥水ガラスとして、撥水ガ
ラスに具体化したものである。この撥水ガラスは、炭素
被膜の表面にＦが化合されたＦ含有炭素被膜をもつもの
である。他の構成は実施例１のものと同様である。
【００３４】この撥水ガラスは、およそ次のようにして
製造したものである。すなわち、まず、二元ＲＦマグネ
トロンスパッタリング装置の真空槽にＣとＳｉＯ2 との
二つのターゲットを備えた。また、ガラス基材をそのス
パッタリング装置の真空槽に装備した。そして、その真
空槽を２×１０-3Ｐａ以下まで真空引きし、ガラス基材
を３００℃に加熱した。次いで、Ａｒガスを真空槽内の
圧力が０．１Ｐａになるまで導入し、各Ｃターゲット及
びＳｉＯ2 ターゲットに印加するＲＦ電力（Ｗ）を図１
８に示すように経時的に変化させ、スパッタリング成膜
を行った。こうして、ガラス基材上に中間層をもち、中
間層上に密着性の良い炭素被膜をもつ炭素被膜付撥水ガ
ラスを得た。
製造したものである。すなわち、まず、二元ＲＦマグネ
トロンスパッタリング装置の真空槽にＣとＳｉＯ2 との
二つのターゲットを備えた。また、ガラス基材をそのス
パッタリング装置の真空槽に装備した。そして、その真
空槽を２×１０-3Ｐａ以下まで真空引きし、ガラス基材
を３００℃に加熱した。次いで、Ａｒガスを真空槽内の
圧力が０．１Ｐａになるまで導入し、各Ｃターゲット及
びＳｉＯ2 ターゲットに印加するＲＦ電力（Ｗ）を図１
８に示すように経時的に変化させ、スパッタリング成膜
を行った。こうして、ガラス基材上に中間層をもち、中
間層上に密着性の良い炭素被膜をもつ炭素被膜付撥水ガ
ラスを得た。
【００３５】ここで、Ａｒガス中に１０ｖｏｌ％のＣＦ
4 ガスを混合させ、真空槽内の圧力が０．１Ｐａになる
ように流量を調整し、金属製基板ホルダに２００ＷのＲ
Ｆ電力を印加させ、炭素被膜付撥水ガラス近傍にプラズ
マを発生させて１０分間の表面フッ素化処理を行なうこ
とにより、撥水ガラスを得た。この撥水ガラスの表面か
ら深さ方向のＣ、Ｓｉ、Ｏ、ＦをＡＥＳにより定量分析
したところ、図１９に示す結果を得た。図１９では、厚
さ（Å）の換算として撥水ガラス表面からのエッチング
時間（分）と、各原子の原子濃度（ａｔ％）との関係を
示す。図１９から、ガラス基材上に約４００Åの中間層
が形成され、この中間層上に約１００ÅのＦ含有炭素被
膜が形成されていることがわかる。ここで、中間層は、
ガラス基材上にＳｉＯ2 のみからなるＳｉＯ2 層が約１
００Åの厚さで形成され、ＳｉＯ2 層上にＳｉＯ2 とＣ
とからなり表面へ近づくほどＣのモル分率が高くなる混
合層が約３００Åの厚さで形成されていた。Ｆ含有炭素
被膜は、Ｃのみからなる炭素被膜の表面にＦが化合され
たものであり、表面のＦのモル分率が高いものである。
4 ガスを混合させ、真空槽内の圧力が０．１Ｐａになる
ように流量を調整し、金属製基板ホルダに２００ＷのＲ
Ｆ電力を印加させ、炭素被膜付撥水ガラス近傍にプラズ
マを発生させて１０分間の表面フッ素化処理を行なうこ
とにより、撥水ガラスを得た。この撥水ガラスの表面か
ら深さ方向のＣ、Ｓｉ、Ｏ、ＦをＡＥＳにより定量分析
したところ、図１９に示す結果を得た。図１９では、厚
さ（Å）の換算として撥水ガラス表面からのエッチング
時間（分）と、各原子の原子濃度（ａｔ％）との関係を
示す。図１９から、ガラス基材上に約４００Åの中間層
が形成され、この中間層上に約１００ÅのＦ含有炭素被
膜が形成されていることがわかる。ここで、中間層は、
ガラス基材上にＳｉＯ2 のみからなるＳｉＯ2 層が約１
００Åの厚さで形成され、ＳｉＯ2 層上にＳｉＯ2 とＣ
とからなり表面へ近づくほどＣのモル分率が高くなる混
合層が約３００Åの厚さで形成されていた。Ｆ含有炭素
被膜は、Ｃのみからなる炭素被膜の表面にＦが化合され
たものであり、表面のＦのモル分率が高いものである。
【００３６】この撥水ガラスと水滴との接触角は約１２
０°であった。このため、この撥水ガラスは、実施例１
〜７の炭素被膜付撥水ガラスと比較して、より優れた撥
水性を示すことがわかる。また、この撥水ガラスの耐候
性をサンシャインウェザメータ（６３℃水有り）にて観
測したところ、２０００時間後においても約１００°の
接触角を有し、非常に良好な耐候性を有することがわか
った。なお、上記表面フッ素化処理のみを行わない撥水
ガラスは、１０００時間で接触角が約６０°に低下して
しまった。
０°であった。このため、この撥水ガラスは、実施例１
〜７の炭素被膜付撥水ガラスと比較して、より優れた撥
水性を示すことがわかる。また、この撥水ガラスの耐候
性をサンシャインウェザメータ（６３℃水有り）にて観
測したところ、２０００時間後においても約１００°の
接触角を有し、非常に良好な耐候性を有することがわか
った。なお、上記表面フッ素化処理のみを行わない撥水
ガラスは、１０００時間で接触角が約６０°に低下して
しまった。
【００３７】さらに、この撥水ガラスの表面を実施例１
と同一摩擦条件で擦ったところ、Ｆ含有炭素被膜の密着
性は実施例１〜７のものと同様に良好であった。加え
て、この撥水ガラスでは、Ｆ含有炭素被膜においてＣが
Ｆと化合することにより、実施例１〜７に係るＣのみか
らなる炭素被膜と比較して、可視域における光の吸収量
が減少すると考えられ、可視光線の透過率を上昇させる
ことができる。
と同一摩擦条件で擦ったところ、Ｆ含有炭素被膜の密着
性は実施例１〜７のものと同様に良好であった。加え
て、この撥水ガラスでは、Ｆ含有炭素被膜においてＣが
Ｆと化合することにより、実施例１〜７に係るＣのみか
らなる炭素被膜と比較して、可視域における光の吸収量
が減少すると考えられ、可視光線の透過率を上昇させる
ことができる。
【００３８】したがって、この撥水ガラスは、優れた撥
水性の下、良好な耐候性、密着性が得られるとともに、
好適な透明性をも得ることができる。 （実施例９）この撥水ガラスは、１成分たるＳｉＯ
2 と、他の１成分たるＦと、残部ＣとからなるＦ含有中
間層を採用し、かつＦ含有炭素被膜を採用したものであ
る。他の構成は実施例８のものと同様である。
水性の下、良好な耐候性、密着性が得られるとともに、
好適な透明性をも得ることができる。 （実施例９）この撥水ガラスは、１成分たるＳｉＯ
2 と、他の１成分たるＦと、残部ＣとからなるＦ含有中
間層を採用し、かつＦ含有炭素被膜を採用したものであ
る。他の構成は実施例８のものと同様である。
【００３９】すなわち、この撥水ガラスでは、まず実施
例８と同様に、二元ＲＦマグネトロンスパッタリング装
置の真空槽にＣとＳｉＯ2 との二つのターゲットを備
え、ガラス基材をそのスパッタリング装置の真空槽に装
備した。そして、その真空槽を２×１０-3Ｐａ以下まで
真空引きし、ガラス基材を３００℃に加熱した。次い
で、Ａｒガス中にＣＦ4 ガスを２０ｖｏｌ％含む混合ガ
スを真空槽内の圧力が０．１Ｐａになるように導入し、
各Ｃターゲット及びＳｉＯ2 ターゲットに印加するＲＦ
電力（Ｗ）を図２０に示すように経時的に変化させ、ス
パッタリング成膜を行った。こうして、ガラス基材上に
Ｆ含有中間層をもち、Ｆ含有中間層上に密着性の良いＦ
含有炭素被膜をもつ撥水ガラスを得た。
例８と同様に、二元ＲＦマグネトロンスパッタリング装
置の真空槽にＣとＳｉＯ2 との二つのターゲットを備
え、ガラス基材をそのスパッタリング装置の真空槽に装
備した。そして、その真空槽を２×１０-3Ｐａ以下まで
真空引きし、ガラス基材を３００℃に加熱した。次い
で、Ａｒガス中にＣＦ4 ガスを２０ｖｏｌ％含む混合ガ
スを真空槽内の圧力が０．１Ｐａになるように導入し、
各Ｃターゲット及びＳｉＯ2 ターゲットに印加するＲＦ
電力（Ｗ）を図２０に示すように経時的に変化させ、ス
パッタリング成膜を行った。こうして、ガラス基材上に
Ｆ含有中間層をもち、Ｆ含有中間層上に密着性の良いＦ
含有炭素被膜をもつ撥水ガラスを得た。
【００４０】この撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、
Ｓｉ、Ｏ、ＦをＡＥＳにより定量分析したところ、図２
１に示すように、ガラス基材上に約４００ÅのＦ含有中
間層が形成され、このＦ含有中間層上に約１００ÅのＦ
含有炭素被膜が形成されていることがわかる。ここで、
Ｆ含有中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 及びＦからな
るＦ含有ＳｉＯ2 層が約１００Åの厚さで形成され、Ｆ
含有ＳｉＯ2 層上にＳｉＯ2 とＦとＣとからなり表面へ
近づくほどＣの濃度が濃くつまりＣのモル分率が高くな
る混合層が約３００Åの厚さで形成されていた。Ｆ含有
炭素被膜は、ＣとＦとからなり、表面のＦのモル分率が
高いものである。
Ｓｉ、Ｏ、ＦをＡＥＳにより定量分析したところ、図２
１に示すように、ガラス基材上に約４００ÅのＦ含有中
間層が形成され、このＦ含有中間層上に約１００ÅのＦ
含有炭素被膜が形成されていることがわかる。ここで、
Ｆ含有中間層は、ガラス基材上にＳｉＯ2 及びＦからな
るＦ含有ＳｉＯ2 層が約１００Åの厚さで形成され、Ｆ
含有ＳｉＯ2 層上にＳｉＯ2 とＦとＣとからなり表面へ
近づくほどＣの濃度が濃くつまりＣのモル分率が高くな
る混合層が約３００Åの厚さで形成されていた。Ｆ含有
炭素被膜は、ＣとＦとからなり、表面のＦのモル分率が
高いものである。
【００４１】この撥水ガラスと水滴との接触角も約１２
０°であった。このため、この撥水ガラスもより優れた
撥水性を示すことがわかる。また、この撥水ガラスの耐
候性を実施例８と同一条件で観測したところ、２０００
時間後において約１００°の接触角を有し、非常に良好
な耐候性を有した。さらに、この撥水ガラスにおけるＦ
含有炭素被膜の密着性も実施例８と同様に良好であっ
た。
０°であった。このため、この撥水ガラスもより優れた
撥水性を示すことがわかる。また、この撥水ガラスの耐
候性を実施例８と同一条件で観測したところ、２０００
時間後において約１００°の接触角を有し、非常に良好
な耐候性を有した。さらに、この撥水ガラスにおけるＦ
含有炭素被膜の密着性も実施例８と同様に良好であっ
た。
【００４２】加えて、この撥水ガラスは、Ｆ含有中間層
を有しているため、表面のＦ含有炭素被膜が極度の摩耗
等により存在しなくなった場合でも、Ｆ含有中間層によ
り撥水性を示していた。また、この撥水ガラスでは、Ｆ
含有炭素被膜及びＦ含有中間層においてＣがＦと化合す
ることにより、実施例８に係るＦ含有炭素被膜と比較し
て、さらに可視光線の透過率を上昇させることができ
る。
を有しているため、表面のＦ含有炭素被膜が極度の摩耗
等により存在しなくなった場合でも、Ｆ含有中間層によ
り撥水性を示していた。また、この撥水ガラスでは、Ｆ
含有炭素被膜及びＦ含有中間層においてＣがＦと化合す
ることにより、実施例８に係るＦ含有炭素被膜と比較し
て、さらに可視光線の透過率を上昇させることができ
る。
【００４３】したがって、この撥水ガラスでは、実施例
８のものとほぼ同様の効果を得られるとともに、充分な
撥水性を長期間維持することができ、かつより好適な透
明性を得ることができる。 （実施例１０）この撥水ガラスは、Ｃターゲット及びＡ
ｌ2 Ｏ3ターゲットを用いて製造したものである。他の
構成は実施例９のものと同様である。
８のものとほぼ同様の効果を得られるとともに、充分な
撥水性を長期間維持することができ、かつより好適な透
明性を得ることができる。 （実施例１０）この撥水ガラスは、Ｃターゲット及びＡ
ｌ2 Ｏ3ターゲットを用いて製造したものである。他の
構成は実施例９のものと同様である。
【００４４】すなわち、この撥水ガラスでは、まず実施
例９と同様に、二元ＲＦマグネトロンスパッタリング装
置の真空槽にＣとＡｌ2 Ｏ3 との二つのターゲットを備
え、ガラス基材をそのスパッタリング装置の真空槽に装
備した。そして、その真空槽を２×１０-3Ｐａ以下まで
真空引きし、ガラス基材を３００℃に加熱した。次い
で、Ａｒガス中にＣＦ4 ガスを２０ｖｏｌ％含む混合ガ
スを真空槽内の圧力が０．１Ｐａになるように導入し、
各Ｃターゲット及びＡｌ2 Ｏ3 ターゲットに印加するＲ
Ｆ電力（Ｗ）を図２２に示すように経時的に変化させ、
スパッタリング成膜を行った。こうして、ガラス基材上
にＦ含有中間層をもち、Ｆ含有中間層上に密着性の良い
Ｆ含有炭素被膜をもつ撥水ガラスを得た。
例９と同様に、二元ＲＦマグネトロンスパッタリング装
置の真空槽にＣとＡｌ2 Ｏ3 との二つのターゲットを備
え、ガラス基材をそのスパッタリング装置の真空槽に装
備した。そして、その真空槽を２×１０-3Ｐａ以下まで
真空引きし、ガラス基材を３００℃に加熱した。次い
で、Ａｒガス中にＣＦ4 ガスを２０ｖｏｌ％含む混合ガ
スを真空槽内の圧力が０．１Ｐａになるように導入し、
各Ｃターゲット及びＡｌ2 Ｏ3 ターゲットに印加するＲ
Ｆ電力（Ｗ）を図２２に示すように経時的に変化させ、
スパッタリング成膜を行った。こうして、ガラス基材上
にＦ含有中間層をもち、Ｆ含有中間層上に密着性の良い
Ｆ含有炭素被膜をもつ撥水ガラスを得た。
【００４５】この撥水ガラスの表面から深さ方向のＣ、
Ａｌ、Ｏ、ＦをＡＥＳにより定量分析したところ、図２
３に示すように、ガラス基材上に約４００ÅのＦ含有中
間層が形成され、このＦ含有中間層上に約１００ÅのＦ
含有炭素被膜が形成されていることがわかる。ここで、
Ｆ含有中間層は、ガラス基材上にＡｌ2 Ｏ3 及びＦから
なるＦ含有Ａｌ2 Ｏ3 層が約１００Åの厚さで形成さ
れ、Ｆ含有Ａｌ2 Ｏ3 層上にＡｌ2 Ｏ3 とＦとＣとから
なり表面へ近づくほどＣのモル分率が高くなる混合層が
約３００Åの厚さで形成されていた。Ｆ含有炭素被膜
は、ＣとＦとからなり、表面のＦのモル分率が高いもの
である。
Ａｌ、Ｏ、ＦをＡＥＳにより定量分析したところ、図２
３に示すように、ガラス基材上に約４００ÅのＦ含有中
間層が形成され、このＦ含有中間層上に約１００ÅのＦ
含有炭素被膜が形成されていることがわかる。ここで、
Ｆ含有中間層は、ガラス基材上にＡｌ2 Ｏ3 及びＦから
なるＦ含有Ａｌ2 Ｏ3 層が約１００Åの厚さで形成さ
れ、Ｆ含有Ａｌ2 Ｏ3 層上にＡｌ2 Ｏ3 とＦとＣとから
なり表面へ近づくほどＣのモル分率が高くなる混合層が
約３００Åの厚さで形成されていた。Ｆ含有炭素被膜
は、ＣとＦとからなり、表面のＦのモル分率が高いもの
である。
【００４６】この撥水ガラスも実施例９と同様の効果が
えられた。
えられた。
【００４７】
【発明の効果】以上詳述したように、本第１、２発明の
炭素被膜付撥水ガラスでは、ガラス基材と炭素被膜又は
Ｆ含有炭素被膜との間に中間層をもつため、充分な撥水
性を確保しつつ、炭素被膜又はＦ含有炭素被膜の剥離が
生じにくい。特に、本第２発明の炭素被膜付撥水ガラス
では、少なくとも表面にＦが化合されたＦ含有炭素被膜
を採用しているため、撥水性を向上させることができ
る。
炭素被膜付撥水ガラスでは、ガラス基材と炭素被膜又は
Ｆ含有炭素被膜との間に中間層をもつため、充分な撥水
性を確保しつつ、炭素被膜又はＦ含有炭素被膜の剥離が
生じにくい。特に、本第２発明の炭素被膜付撥水ガラス
では、少なくとも表面にＦが化合されたＦ含有炭素被膜
を採用しているため、撥水性を向上させることができ
る。
【００４８】したがって、この炭素被膜付撥水ガラスを
撥水ガラス、反応管等として利用した場合には、優れた
耐久性により、長期間の利用が可能になる。
撥水ガラス、反応管等として利用した場合には、優れた
耐久性により、長期間の利用が可能になる。
【図１】実施例１の炭素被膜付撥水ガラスの断面図であ
る。
る。
【図２】実施例１に係る成膜時間とＲＦ電力との関係を
示すグラフである。
示すグラフである。
【図３】実施例１に係るエッチング時間と原子濃度との
関係を示すグラフである。
関係を示すグラフである。
【図４】実施例２に係る成膜時間とＲＦ電力との関係を
示すグラフである。
示すグラフである。
【図５】実施例２に係るエッチング時間と原子濃度との
関係を示すグラフである。
関係を示すグラフである。
【図６】比較例に係るエッチング時間と原子濃度との関
係を示すグラフである。
係を示すグラフである。
【図７】実施例３に係る成膜時間と成膜速度との関係を
示すグラフである。
示すグラフである。
【図８】試験に係り、中間層の厚さと接触角との関係を
示すグラフである。
示すグラフである。
【図９】試験に係り、中間層中におけるＳｉＯ2 のモル
分率と摩擦試験後の接触角との関係を示すグラフであ
る。
分率と摩擦試験後の接触角との関係を示すグラフであ
る。
【図１０】実施例４に係る成膜時間とＲＦ電力との関係
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図１１】実施例４に係るエッチング時間と原子濃度と
の関係を示すグラフである。
の関係を示すグラフである。
【図１２】実施例５に係る成膜時間とＲＦ電力との関係
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図１３】実施例５に係るエッチング時間と原子濃度と
の関係を示すグラフである。
の関係を示すグラフである。
【図１４】実施例６に係る成膜時間とＲＦ電力との関係
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図１５】実施例６に係るエッチング時間と原子濃度と
の関係を示すグラフである。
の関係を示すグラフである。
【図１６】実施例７に係る成膜時間とＲＦ電力との関係
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図１７】実施例７に係るエッチング時間と原子濃度と
の関係を示すグラフである。
の関係を示すグラフである。
【図１８】実施例８に係る成膜時間とＲＦ電力との関係
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図１９】実施例８に係るエッチング時間と原子濃度と
の関係を示すグラフである。
の関係を示すグラフである。
【図２０】実施例９に係る成膜時間とＲＦ電力との関係
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図２１】実施例９に係るエッチング時間と原子濃度と
の関係を示すグラフである。
の関係を示すグラフである。
【図２２】実施例１０に係る成膜時間とＲＦ電力との関
係を示すグラフである。
係を示すグラフである。
【図２３】実施例１０に係るエッチング時間と原子濃度
との関係を示すグラフである。
との関係を示すグラフである。
１…ガラス基材 ２…中間層 ３…
炭素被膜
炭素被膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特表 平６−501745（ＪＰ，Ａ) 米国特許4655811（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C03C 17/34
Claims (2)
- 【請求項１】ガラス基材と、 該ガラス基材の表面に厚さが６０Å以上形成され、絶縁
性の金属酸化物をモル分率１０％以上含有する中間層
と、 該中間層の表面に厚さが１０Å以上形成された炭素被膜
と、からなることを特徴とする炭素被膜付撥水ガラス。 - 【請求項２】ガラス基材と、 該ガラス基材の表面に厚さが５０Å以上形成され、絶縁
性の金属酸化物をモル分率５％以上含有する中間層と、 該中間層の表面に厚さが１０Å以上形成され少なくとも
表面にフッ素が化合されたフッ素含有炭素被膜と、から
なることを特徴とする炭素被膜付撥水ガラス。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3172212A JP2929779B2 (ja) | 1991-02-15 | 1991-07-12 | 炭素被膜付撥水ガラス |
| US07/836,022 US5378527A (en) | 1991-02-15 | 1992-02-14 | Carbon film coated glass |
| EP92102541A EP0499287B1 (en) | 1991-02-15 | 1992-02-14 | Carbon film coated glass |
| DE69202997T DE69202997T2 (de) | 1991-02-15 | 1992-02-14 | Mit einer Kohlenstoffschicht überzogenes Glas. |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-22387 | 1991-02-15 | ||
| JP2238791 | 1991-02-15 | ||
| JP3172212A JP2929779B2 (ja) | 1991-02-15 | 1991-07-12 | 炭素被膜付撥水ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04305037A JPH04305037A (ja) | 1992-10-28 |
| JP2929779B2 true JP2929779B2 (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=26359595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3172212A Expired - Lifetime JP2929779B2 (ja) | 1991-02-15 | 1991-07-12 | 炭素被膜付撥水ガラス |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5378527A (ja) |
| EP (1) | EP0499287B1 (ja) |
| JP (1) | JP2929779B2 (ja) |
| DE (1) | DE69202997T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020190441A1 (en) * | 2019-03-19 | 2020-09-24 | Applied Materials, Inc. | Hydrophobic and icephobic coating |
Families Citing this family (70)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2707084B1 (fr) * | 1993-06-28 | 1995-09-08 | Vesuvius France Sa | Revêtement anti-corrosion pour éléments réfractaires en silice vitreuse. |
| WO1995026549A1 (fr) * | 1994-03-25 | 1995-10-05 | Toray Industries, Inc. | Support d'enregistrement optique et son procede de fabrication |
| EP0723944A1 (en) * | 1995-01-26 | 1996-07-31 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Wear resistant windows |
| EP0763504B1 (en) * | 1995-09-14 | 1999-06-02 | Heraeus Quarzglas GmbH | Silica glass member and method for producing the same |
| US6468642B1 (en) * | 1995-10-03 | 2002-10-22 | N.V. Bekaert S.A. | Fluorine-doped diamond-like coatings |
| FR2745284B1 (fr) * | 1996-02-22 | 1998-04-30 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent muni d'un revetement de couches minces |
| US6157489A (en) * | 1998-11-24 | 2000-12-05 | Flex Products, Inc. | Color shifting thin film pigments |
| US6150022A (en) * | 1998-12-07 | 2000-11-21 | Flex Products, Inc. | Bright metal flake based pigments |
| US6660365B1 (en) | 1998-12-21 | 2003-12-09 | Cardinal Cg Company | Soil-resistant coating for glass surfaces |
| US6974629B1 (en) * | 1999-08-06 | 2005-12-13 | Cardinal Cg Company | Low-emissivity, soil-resistant coating for glass surfaces |
| US6964731B1 (en) * | 1998-12-21 | 2005-11-15 | Cardinal Cg Company | Soil-resistant coating for glass surfaces |
| US6284377B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-09-04 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
| US6280834B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-08-28 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC and/or FAS on substrate |
| US6273488B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-08-14 | Guardian Industries Corporation | System and method for removing liquid from rear window of a vehicle |
| US6338901B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-01-15 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
| US6335086B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-01-01 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
| US6475573B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-11-05 | Guardian Industries Corp. | Method of depositing DLC inclusive coating on substrate |
| US6303225B1 (en) | 2000-05-24 | 2001-10-16 | Guardian Industries Corporation | Hydrophilic coating including DLC on substrate |
| US6261693B1 (en) * | 1999-05-03 | 2001-07-17 | Guardian Industries Corporation | Highly tetrahedral amorphous carbon coating on glass |
| US6447891B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-09-10 | Guardian Industries Corp. | Low-E coating system including protective DLC |
| US6368664B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-04-09 | Guardian Industries Corp. | Method of ion beam milling substrate prior to depositing diamond like carbon layer thereon |
| US6740211B2 (en) | 2001-12-18 | 2004-05-25 | Guardian Industries Corp. | Method of manufacturing windshield using ion beam milling of glass substrate(s) |
| US6491987B2 (en) | 1999-05-03 | 2002-12-10 | Guardian Indusries Corp. | Process for depositing DLC inclusive coating with surface roughness on substrate |
| US6808606B2 (en) | 1999-05-03 | 2004-10-26 | Guardian Industries Corp. | Method of manufacturing window using ion beam milling of glass substrate(s) |
| US6312808B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-11-06 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating with DLC & FAS on substrate |
| US6277480B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-08-21 | Guardian Industries Corporation | Coated article including a DLC inclusive layer(s) and a layer(s) deposited using siloxane gas, and corresponding method |
| US6461731B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-10-08 | Guardian Industries Corp. | Solar management coating system including protective DLC |
| US6524381B1 (en) | 2000-03-31 | 2003-02-25 | Flex Products, Inc. | Methods for producing enhanced interference pigments |
| US6241858B1 (en) | 1999-09-03 | 2001-06-05 | Flex Products, Inc. | Methods and apparatus for producing enhanced interference pigments |
| JP2003509321A (ja) | 1999-09-13 | 2003-03-11 | 日本板硝子株式会社 | 撥水性ガラス板の部分処理方法および該部分処理が施された撥水性ガラス板 |
| US6545809B1 (en) | 1999-10-20 | 2003-04-08 | Flex Products, Inc. | Color shifting carbon-containing interference pigments |
| US6713179B2 (en) * | 2000-05-24 | 2004-03-30 | Guardian Industries Corp. | Hydrophilic DLC on substrate with UV exposure |
| US6586098B1 (en) | 2000-07-27 | 2003-07-01 | Flex Products, Inc. | Composite reflective flake based pigments comprising reflector layers on bothside of a support layer |
| US6686042B1 (en) | 2000-09-22 | 2004-02-03 | Flex Products, Inc. | Optically variable pigments and foils with enhanced color shifting properties |
| US6569529B1 (en) | 2000-10-10 | 2003-05-27 | Flex Product, Inc. | Titanium-containing interference pigments and foils with color shifting properties |
| US6602371B2 (en) | 2001-02-27 | 2003-08-05 | Guardian Industries Corp. | Method of making a curved vehicle windshield |
| US6689476B2 (en) | 2001-06-27 | 2004-02-10 | Guardian Industries Corp. | Hydrophobic coating including oxide of Ni and/or Cr |
| US6610360B2 (en) | 2001-11-28 | 2003-08-26 | Guardian Industries Corp. | Buffing diamond-like carbon (DLC) to improve scratch resistance |
| US6783253B2 (en) | 2002-03-21 | 2004-08-31 | Guardian Industries Corp. | First surface mirror with DLC coating |
| US6627814B1 (en) * | 2002-03-22 | 2003-09-30 | David H. Stark | Hermetically sealed micro-device package with window |
| US7832177B2 (en) | 2002-03-22 | 2010-11-16 | Electronics Packaging Solutions, Inc. | Insulated glazing units |
| US6962834B2 (en) * | 2002-03-22 | 2005-11-08 | Stark David H | Wafer-level hermetic micro-device packages |
| US7294404B2 (en) * | 2003-12-22 | 2007-11-13 | Cardinal Cg Company | Graded photocatalytic coatings |
| JP2008505841A (ja) | 2004-07-12 | 2008-02-28 | 日本板硝子株式会社 | 低保守コーティング |
| JP2006139932A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Pentax Corp | 有機エレクトロルミネセンス素子、および有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法 |
| US8092660B2 (en) * | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
| US7923114B2 (en) * | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
| CA2570965A1 (en) * | 2005-12-15 | 2007-06-15 | Jds Uniphase Corporation | Security device with metameric features using diffractive pigment flakes |
| WO2007124291A2 (en) | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Cardinal Cg Company | Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances |
| US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
| WO2009036359A1 (en) * | 2007-09-14 | 2009-03-19 | Electronics Packaging Solutions, Inc. | Insulating glass unit having multi-height internal standoffs and visible decoration |
| JP5474796B2 (ja) * | 2007-09-14 | 2014-04-16 | 日本板硝子株式会社 | 低保守コーティングおよび低保守コーティングの製造方法 |
| US8283023B2 (en) * | 2008-08-09 | 2012-10-09 | Eversealed Windows, Inc. | Asymmetrical flexible edge seal for vacuum insulating glass |
| US8512830B2 (en) * | 2009-01-15 | 2013-08-20 | Eversealed Windows, Inc. | Filament-strung stand-off elements for maintaining pane separation in vacuum insulating glazing units |
| US8329267B2 (en) * | 2009-01-15 | 2012-12-11 | Eversealed Windows, Inc. | Flexible edge seal for vacuum insulating glazing units |
| WO2011153381A2 (en) | 2010-06-02 | 2011-12-08 | Eversealed Windows, Inc. | Multi-pane glass unit having seal with adhesive and hermetic coating layer |
| US9328512B2 (en) | 2011-05-05 | 2016-05-03 | Eversealed Windows, Inc. | Method and apparatus for an insulating glazing unit and compliant seal for an insulating glazing unit |
| US9873180B2 (en) | 2014-10-17 | 2018-01-23 | Applied Materials, Inc. | CMP pad construction with composite material properties using additive manufacturing processes |
| US10875153B2 (en) | 2014-10-17 | 2020-12-29 | Applied Materials, Inc. | Advanced polishing pad materials and formulations |
| CN107078048B (zh) | 2014-10-17 | 2021-08-13 | 应用材料公司 | 使用加成制造工艺的具复合材料特性的cmp衬垫建构 |
| US11745302B2 (en) | 2014-10-17 | 2023-09-05 | Applied Materials, Inc. | Methods and precursor formulations for forming advanced polishing pads by use of an additive manufacturing process |
| CN113103145B (zh) | 2015-10-30 | 2023-04-11 | 应用材料公司 | 形成具有期望ζ电位的抛光制品的设备与方法 |
| US10391605B2 (en) | 2016-01-19 | 2019-08-27 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for forming porous advanced polishing pads using an additive manufacturing process |
| EP3541762B1 (en) | 2016-11-17 | 2022-03-02 | Cardinal CG Company | Static-dissipative coating technology |
| US11471999B2 (en) | 2017-07-26 | 2022-10-18 | Applied Materials, Inc. | Integrated abrasive polishing pads and manufacturing methods |
| WO2019032286A1 (en) | 2017-08-07 | 2019-02-14 | Applied Materials, Inc. | ABRASIVE DISTRIBUTION POLISHING PADS AND METHODS OF MAKING SAME |
| CN112654655A (zh) | 2018-09-04 | 2021-04-13 | 应用材料公司 | 先进抛光垫配方 |
| JP7020458B2 (ja) * | 2019-07-12 | 2022-02-16 | Ａｇｃ株式会社 | 膜付きガラス基板及びその製造方法 |
| US11878389B2 (en) | 2021-02-10 | 2024-01-23 | Applied Materials, Inc. | Structures formed using an additive manufacturing process for regenerating surface texture in situ |
| CN115504685B (zh) * | 2022-10-19 | 2024-01-16 | 江西省生力源玻璃有限公司 | 一种瓶罐玻璃防析碱装置 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4072782A (en) * | 1976-01-07 | 1978-02-07 | Westinghouse Electric Corporation | Composite erosion resistant optical window |
| DE3175345D1 (en) * | 1980-08-21 | 1986-10-23 | Nat Res Dev | Coating insulating materials by glow discharge |
| JPS5826052A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-16 | Asahi Glass Co Ltd | アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体 |
| US4504519A (en) * | 1981-10-21 | 1985-03-12 | Rca Corporation | Diamond-like film and process for producing same |
| DE3316693A1 (de) * | 1983-05-06 | 1984-11-08 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren zum herstellen von amorphen kohlenstoffschichten auf substraten und durch das verfahren beschichtete substrate |
| SU1175906A1 (ru) * | 1983-07-13 | 1985-08-30 | Институт Химии Нефти И Природных Солей Ан Казсср | Способ получени углеродного покрыти |
| CA1232228A (en) * | 1984-03-13 | 1988-02-02 | Tatsuro Miyasato | Coating film and method and apparatus for producing the same |
| US4783361A (en) * | 1984-09-10 | 1988-11-08 | Ovonic Synthetic Materials Company, Inc. | Coated lenses |
| DE3482168D1 (de) * | 1984-09-28 | 1990-06-13 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Duenner kunststoffilm und ein solchen film enthaltender gegenstand. |
| JPS61106494A (ja) * | 1984-10-29 | 1986-05-24 | Kyocera Corp | ダイヤモンド被膜部材及びその製法 |
| JPH06951B2 (ja) * | 1986-02-20 | 1994-01-05 | 東芝タンガロイ株式会社 | 高密着性ダイヤモンド被覆部材 |
| GB2192733B (en) * | 1986-06-18 | 1991-02-06 | Raytheon Co | Impact resistant and tempered optical elements |
| US4777090A (en) * | 1986-11-03 | 1988-10-11 | Ovonic Synthetic Materials Company | Coated article and method of manufacturing the article |
| JPS63221840A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-14 | Minolta Camera Co Ltd | 非晶質水素化炭素膜の製造方法 |
| JPS63221841A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-14 | Minolta Camera Co Ltd | 非晶質水素化炭素膜の製造方法 |
| JPS642001A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-06 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | Optical refractive member coated with diamond-like carbon |
| US4907846A (en) * | 1987-11-20 | 1990-03-13 | Raytheon Company | Thick, impact resistant antireflection coatings for IR transparent optical elements |
| JPH02188446A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-24 | Nec Corp | 石英ガラス球へのカーボン被膜形成方法 |
| JPH02188448A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-24 | Nec Corp | 小物体へのカーボン被膜形成方法 |
| JPH02188447A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-24 | Nec Corp | 石英ガラス表面へのカーボン被膜形成方法 |
-
1991
- 1991-07-12 JP JP3172212A patent/JP2929779B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-02-14 EP EP92102541A patent/EP0499287B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-02-14 US US07/836,022 patent/US5378527A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-02-14 DE DE69202997T patent/DE69202997T2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020190441A1 (en) * | 2019-03-19 | 2020-09-24 | Applied Materials, Inc. | Hydrophobic and icephobic coating |
| US11530478B2 (en) | 2019-03-19 | 2022-12-20 | Applied Materials, Inc. | Method for forming a hydrophobic and icephobic coating |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| EP0499287B1 (en) | 1995-06-21 |
| US5378527A (en) | 1995-01-03 |
| DE69202997T2 (de) | 1995-12-07 |
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