JPH11231127A - 反射防止フイルム - Google Patents
反射防止フイルムInfo
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- JPH11231127A JPH11231127A JP10085145A JP8514598A JPH11231127A JP H11231127 A JPH11231127 A JP H11231127A JP 10085145 A JP10085145 A JP 10085145A JP 8514598 A JP8514598 A JP 8514598A JP H11231127 A JPH11231127 A JP H11231127A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 密着力と表面硬度に優れた各種表示体に使用
される反射防止フイルムを提供する。 【解決手段】 透明プラスチックフイルム基材上に、
ハードコート層を介して、複数の無機光学薄膜を積層し
た反射防止フイルムであって，該複数の無機光学薄膜の
うち、透明プラスチックフイルム基材に最近接した無機
光学薄膜が、ＳｉＯXＮYである反射防止フイルム。
される反射防止フイルムを提供する。 【解決手段】 透明プラスチックフイルム基材上に、
ハードコート層を介して、複数の無機光学薄膜を積層し
た反射防止フイルムであって，該複数の無機光学薄膜の
うち、透明プラスチックフイルム基材に最近接した無機
光学薄膜が、ＳｉＯXＮYである反射防止フイルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、密着力や表面硬度
に優れた、ＬＣＤやＣＲＴ、プラズマデイスプレイ等の
表示体の表面反射を低減させる反射防止フイルムに関す
る。
に優れた、ＬＣＤやＣＲＴ、プラズマデイスプレイ等の
表示体の表面反射を低減させる反射防止フイルムに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】透明プラスチックフイルムに直接または
ハードコート層を介して、複数の無機光学薄膜を積層し
た反射防止フイルムはＬＣＤやＣＲＴ、プラズマデイス
プレイ等の表示体の表面反射を低減させる反射防止フイ
ルムとして多用され、これらの層構成も多数提案されて
いる。これらの従来提案されている反射防止フイルム
は、実用上、基材としての透明プラスチックフイルム
と、または透明プラスチックフイルム上に設けられたハ
ードコート層と、無機光学薄膜積層との密着性が不十分
である場合が多く、また前記の密着力が十分な場合でも
該反射防止フイルムの表面硬度が不十分なため、傷、割
れ等の不良が発生する場合が多かった。
ハードコート層を介して、複数の無機光学薄膜を積層し
た反射防止フイルムはＬＣＤやＣＲＴ、プラズマデイス
プレイ等の表示体の表面反射を低減させる反射防止フイ
ルムとして多用され、これらの層構成も多数提案されて
いる。これらの従来提案されている反射防止フイルム
は、実用上、基材としての透明プラスチックフイルム
と、または透明プラスチックフイルム上に設けられたハ
ードコート層と、無機光学薄膜積層との密着性が不十分
である場合が多く、また前記の密着力が十分な場合でも
該反射防止フイルムの表面硬度が不十分なため、傷、割
れ等の不良が発生する場合が多かった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】密着力を向上させるた
め無機光学薄膜積層体の下地として基材としての透明プ
ラスチックフイルムに、有機系や無機系のプライマー層
を設けることも提案されているが、それらのうち、代表
的なアルコキシシラン加水分解縮合樹脂、メラミン樹
脂、チタネート系化合物からのものがあるが、密着力は
或程度向上するが表面硬度が不十分である。
め無機光学薄膜積層体の下地として基材としての透明プ
ラスチックフイルムに、有機系や無機系のプライマー層
を設けることも提案されているが、それらのうち、代表
的なアルコキシシラン加水分解縮合樹脂、メラミン樹
脂、チタネート系化合物からのものがあるが、密着力は
或程度向上するが表面硬度が不十分である。
【０００４】また、硬度の高い無機薄膜層としてよく知
られている窒化チタン、窒化珪素、ジルコニア、アルミ
ナ、等を無機光学薄膜積層体の下地として基材としての
透明プラスチックフイルムに施した場合には、表面硬度
において満足し得るものが得られても、無機光学薄膜積
層体と下地との密着力において満足し得るものがなかっ
た。さらに、透明プラスチックフイルムや下地の表面を
グロー放電等でプラズマ処理して後無機光学薄膜積層体
を設けることも提案されているが、密着力の向上は見ら
れても、表面硬度において不満足な場合が多かった。本
発明は、前記の密着力と表面硬度とを同時に満足する無
機光学薄膜積層を利用した反射防止フイルムを提供せん
とするものである。
られている窒化チタン、窒化珪素、ジルコニア、アルミ
ナ、等を無機光学薄膜積層体の下地として基材としての
透明プラスチックフイルムに施した場合には、表面硬度
において満足し得るものが得られても、無機光学薄膜積
層体と下地との密着力において満足し得るものがなかっ
た。さらに、透明プラスチックフイルムや下地の表面を
グロー放電等でプラズマ処理して後無機光学薄膜積層体
を設けることも提案されているが、密着力の向上は見ら
れても、表面硬度において不満足な場合が多かった。本
発明は、前記の密着力と表面硬度とを同時に満足する無
機光学薄膜積層を利用した反射防止フイルムを提供せん
とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、透
明プラスチックフイルム上に複数の無機光学薄膜が設け
られた反射防止フイルムであって、複数の無機光学薄膜
のうち透明プラスチックフイルムに最も近接して設けら
れている無機光学薄膜がＳｉＯXＮYであることを特徴と
する反射防止フイルムであり、５５０ｎｍにおける反射
率が１．０％以下である前記の反射防止フイルムであ
り、薄膜ＳｉＯXＮYがＸ／Ｙ＝１０．０からＸ／Ｙ＝
０．１であるＳｉＯXＮYである前記の反射防止フイルム
である。
明プラスチックフイルム上に複数の無機光学薄膜が設け
られた反射防止フイルムであって、複数の無機光学薄膜
のうち透明プラスチックフイルムに最も近接して設けら
れている無機光学薄膜がＳｉＯXＮYであることを特徴と
する反射防止フイルムであり、５５０ｎｍにおける反射
率が１．０％以下である前記の反射防止フイルムであ
り、薄膜ＳｉＯXＮYがＸ／Ｙ＝１０．０からＸ／Ｙ＝
０．１であるＳｉＯXＮYである前記の反射防止フイルム
である。
【０００６】また、複数の無機光学薄膜のうちの一が、
酸化インジウム錫系薄膜であって、その膜厚が５０．１
ｎｍ以上である前記の反射防止フイルムであり、透明プ
ラスチックフイルムにあらかじめハードコート膜が形成
され、その上に複数の無機光学薄膜が設けられた前記の
反射防止フイルムであり、複数の無機光学薄膜の上にさ
らに、珪素とフッ素とを含有するシリコン・フッ素系コ
ート剤のコート膜が形成されている前記の反射防止フイ
ルムである。本発明は、透明プラスチックフイルムまた
は下地を設けた透明プラスチックフイルム上に無機光学
薄膜積層を設けてなる反射防止フイルムにおいて、無機
光学薄膜積層のうち透明プラスチックフイルム側に最も
近接する無機光学薄膜をＳｉＯXＮYとする、密着力と表
面硬度とを同時に満足する反射防止フイルムである。本
発明の反射防止フイルムは５５０ｎｍにおける反射率が
１．０％以下であり、好ましくは０．７％以下であり、
更に好ましくは０．５％以下のものである。
酸化インジウム錫系薄膜であって、その膜厚が５０．１
ｎｍ以上である前記の反射防止フイルムであり、透明プ
ラスチックフイルムにあらかじめハードコート膜が形成
され、その上に複数の無機光学薄膜が設けられた前記の
反射防止フイルムであり、複数の無機光学薄膜の上にさ
らに、珪素とフッ素とを含有するシリコン・フッ素系コ
ート剤のコート膜が形成されている前記の反射防止フイ
ルムである。本発明は、透明プラスチックフイルムまた
は下地を設けた透明プラスチックフイルム上に無機光学
薄膜積層を設けてなる反射防止フイルムにおいて、無機
光学薄膜積層のうち透明プラスチックフイルム側に最も
近接する無機光学薄膜をＳｉＯXＮYとする、密着力と表
面硬度とを同時に満足する反射防止フイルムである。本
発明の反射防止フイルムは５５０ｎｍにおける反射率が
１．０％以下であり、好ましくは０．７％以下であり、
更に好ましくは０．５％以下のものである。
【０００７】
【発明の実施態様】本発明における透明プラスチックフ
イルムとしては、透明性のある無機光学薄膜積層時に、
寸法的にも、化学的にも耐え得るものであれば特に限定
されるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタ
レートフイルム、ポリエチレンナフタレートフイルム、
ポリカーボネートフイルム、トリアセチルセルロースフ
イルム、（メタ）アクリロニトリルフイルム、ポリエー
テルサルフォンフルム、ポリフェニレンスルフィッドフ
ルム、等が挙げられる。これらのフイルムは、透明性に
おいて優れた値を有するものたとえば全光透過率で８５
％以上のもの、また耐熱性においても１５０℃での収縮
率が全方向で２％以下のもの、また光学的に異方性のな
いもの、が好適に使用される。
イルムとしては、透明性のある無機光学薄膜積層時に、
寸法的にも、化学的にも耐え得るものであれば特に限定
されるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタ
レートフイルム、ポリエチレンナフタレートフイルム、
ポリカーボネートフイルム、トリアセチルセルロースフ
イルム、（メタ）アクリロニトリルフイルム、ポリエー
テルサルフォンフルム、ポリフェニレンスルフィッドフ
ルム、等が挙げられる。これらのフイルムは、透明性に
おいて優れた値を有するものたとえば全光透過率で８５
％以上のもの、また耐熱性においても１５０℃での収縮
率が全方向で２％以下のもの、また光学的に異方性のな
いもの、が好適に使用される。
【０００８】本発明おいては、上記の透明プラスチック
フイルムに直接無機光学薄膜積層体を設けてもよいが、
紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、アルコキシシラン加
水分解縮合系樹脂、メラミン系樹脂、チタネート系化合
物からのもの等のハードコート層を予め設けその上に、
無機光学薄膜積層体を設ける方が好ましい場合が多い。
これらハードコート層の形成は、従来公知の樹脂を公知
の方法で施せばよいが、こららのハードコート層の硬度
は鉛筆硬度で２Ｈ以上であることが好ましい。これらの
ハードコート層形成のための材としては、（メタ）アク
リレート系アルコール変性多官能化合物、トリメチロー
ルプロパン（メタ）アクリレート、トリプロピレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、１，６ヘキサンジオール（メタ）アクリレー
ト等、があげられるがこれらに限定されるものではな
い。
フイルムに直接無機光学薄膜積層体を設けてもよいが、
紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、アルコキシシラン加
水分解縮合系樹脂、メラミン系樹脂、チタネート系化合
物からのもの等のハードコート層を予め設けその上に、
無機光学薄膜積層体を設ける方が好ましい場合が多い。
これらハードコート層の形成は、従来公知の樹脂を公知
の方法で施せばよいが、こららのハードコート層の硬度
は鉛筆硬度で２Ｈ以上であることが好ましい。これらの
ハードコート層形成のための材としては、（メタ）アク
リレート系アルコール変性多官能化合物、トリメチロー
ルプロパン（メタ）アクリレート、トリプロピレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、１，６ヘキサンジオール（メタ）アクリレー
ト等、があげられるがこれらに限定されるものではな
い。
【０００９】透明プラスチックフイルムまたは下地を設
けた透明プラスチックフイルム上に無機光学薄膜積層を
設けるが、これらの表面を無機光学薄膜を設けるに先立
って予めプラズマ処理、イオンボンバード処理、コロナ
放電処理などを施し、密着性を更に高めてもよいことは
勿論である。ついで、透明プラスチックフイルムまたは
下地を設けた透明プラスチックフイルム上に無機光学薄
膜積層を設けるが、透明プラスチックフイルムまたは下
地を設けた透明プラスチックフイルム上に、最初にＳｉ
ＯXＮY設けることが必須である。該ＳｉＯXＮY薄膜を設
ける方法は、ＣＶＤ，ＥＢ蒸着、イオンプレーテイン
グ、スパッタリング、等があるが、例えばスパッタリン
グによりＳｉＯ、またはＳｉＯとＳｉＯ2混合物などの
Ｓｉ酸化物をターゲットとして用い、窒素雰囲気下でＳ
ｉＯXＮY薄膜を設ける方法である。該薄膜において、Ｘ
／Ｙ＝１０．０からＸ／Ｙ＝０．１であるＳｉＯXＮYで
あることが好ましく、より好ましくはＸ／Ｙ＝５．０か
らＸ／Ｙ＝０．５であるＳｉＯXＮYであり、さらに好ま
しくはＸ／Ｙ＝４．０からＸ／Ｙ＝１．０であるＳｉＯ
XＮYである。
けた透明プラスチックフイルム上に無機光学薄膜積層を
設けるが、これらの表面を無機光学薄膜を設けるに先立
って予めプラズマ処理、イオンボンバード処理、コロナ
放電処理などを施し、密着性を更に高めてもよいことは
勿論である。ついで、透明プラスチックフイルムまたは
下地を設けた透明プラスチックフイルム上に無機光学薄
膜積層を設けるが、透明プラスチックフイルムまたは下
地を設けた透明プラスチックフイルム上に、最初にＳｉ
ＯXＮY設けることが必須である。該ＳｉＯXＮY薄膜を設
ける方法は、ＣＶＤ，ＥＢ蒸着、イオンプレーテイン
グ、スパッタリング、等があるが、例えばスパッタリン
グによりＳｉＯ、またはＳｉＯとＳｉＯ2混合物などの
Ｓｉ酸化物をターゲットとして用い、窒素雰囲気下でＳ
ｉＯXＮY薄膜を設ける方法である。該薄膜において、Ｘ
／Ｙ＝１０．０からＸ／Ｙ＝０．１であるＳｉＯXＮYで
あることが好ましく、より好ましくはＸ／Ｙ＝５．０か
らＸ／Ｙ＝０．５であるＳｉＯXＮYであり、さらに好ま
しくはＸ／Ｙ＝４．０からＸ／Ｙ＝１．０であるＳｉＯ
XＮYである。
【００１０】Ｘ／Ｙが１０．０を超える場合は、密着力
は満足し得るが表面硬度において不満足に成る場合があ
る。またからＸ／Ｙが０．１に満たないときには、表面
硬度において満足であるが密着力において不満足な場合
がある。該ＳｉＯXＮY薄膜の厚さは、０．５ｎｍから２
００ｎｍであり、好ましくは２．０ｎｍから１００ｎｍ
であり、これらの厚さは他の無機光学薄膜との組み合わ
せによって最適な反射防止フイルムとなるように適宜選
択使用される。ＳｉＯXＮY薄膜上に、他の無機光学薄膜
を順次スパッタリング等の手段によって形成するが、こ
れらの無機光学薄膜は、透明プラスチックフイルムまた
は下地を設けた透明プラスチックフイルムの屈折率をｎ
Ｂとし、ＳｉＯXＮY薄膜の屈折率をｎ１、順次該ＳｉＯ
XＮY薄膜うえに設けられる無機光学薄膜の屈折率をｎ
２、ｎ３、ｎ４、そして最外層の無機光学薄膜（後に記
載する防汚染コート層がある場合はこの防汚染コート層
を含んだ最外層の無機光学薄膜）の屈折率をｎ９とした
時、ｎ９＜ｎＢ≦ｎ１＜ｎ２＜ｎ３＜ｎ４の関係（すな
わち、前記の順に屈折率が大きくなる関係で、ｎＢとｎ
１とは同値でもよい関係である）となる無機光学薄膜で
あって本発明の主旨を損なわないものであれば特に限定
されるものではない。それらの無機光学薄膜としては、
ＴｉＯZ、ＴｉＮY、ＳｉＯX、ＡｌXＯY，ＭｇＦX，Ｚｒ
ＯY，等が挙げられ（Ｘ，Ｙ，Ｚは、０．１から４の数
字である）これらの厚さは０．５ｎｍから２００ｎｍか
ら選定され、本発明の主旨を損なわないものであれば特
に限定されるものではない。
は満足し得るが表面硬度において不満足に成る場合があ
る。またからＸ／Ｙが０．１に満たないときには、表面
硬度において満足であるが密着力において不満足な場合
がある。該ＳｉＯXＮY薄膜の厚さは、０．５ｎｍから２
００ｎｍであり、好ましくは２．０ｎｍから１００ｎｍ
であり、これらの厚さは他の無機光学薄膜との組み合わ
せによって最適な反射防止フイルムとなるように適宜選
択使用される。ＳｉＯXＮY薄膜上に、他の無機光学薄膜
を順次スパッタリング等の手段によって形成するが、こ
れらの無機光学薄膜は、透明プラスチックフイルムまた
は下地を設けた透明プラスチックフイルムの屈折率をｎ
Ｂとし、ＳｉＯXＮY薄膜の屈折率をｎ１、順次該ＳｉＯ
XＮY薄膜うえに設けられる無機光学薄膜の屈折率をｎ
２、ｎ３、ｎ４、そして最外層の無機光学薄膜（後に記
載する防汚染コート層がある場合はこの防汚染コート層
を含んだ最外層の無機光学薄膜）の屈折率をｎ９とした
時、ｎ９＜ｎＢ≦ｎ１＜ｎ２＜ｎ３＜ｎ４の関係（すな
わち、前記の順に屈折率が大きくなる関係で、ｎＢとｎ
１とは同値でもよい関係である）となる無機光学薄膜で
あって本発明の主旨を損なわないものであれば特に限定
されるものではない。それらの無機光学薄膜としては、
ＴｉＯZ、ＴｉＮY、ＳｉＯX、ＡｌXＯY，ＭｇＦX，Ｚｒ
ＯY，等が挙げられ（Ｘ，Ｙ，Ｚは、０．１から４の数
字である）これらの厚さは０．５ｎｍから２００ｎｍか
ら選定され、本発明の主旨を損なわないものであれば特
に限定されるものではない。
【００１１】これらのＳｉＯXＮY薄膜上に設けられる他
の無機光学薄膜のうち、透明導電性薄膜を設けることが
好ましく、この透明導電性薄膜としては好ましくは酸化
インジウム・錫系化合物からの薄膜であるが、前記の関
係と主旨を損なわないものであればよく、たとえば酸化
亜鉛・アルミ系、酸化インジウム・亜鉛系、酸化錫等の
化合物からのものである。該透明導電性薄膜を設けるこ
とによって、反射防止フイルムの帯電性が改良され、電
磁波シールド性も付与され、実用上好ましい反射防止フ
イルムが得られる。該透明導電性薄膜の厚さは特に限定
されるものではないが、好ましくは５０．１ｎｍ以上で
あり、その表面抵抗値として１キロΩ／□以下好ましく
は５００Ω／□以下である。
の無機光学薄膜のうち、透明導電性薄膜を設けることが
好ましく、この透明導電性薄膜としては好ましくは酸化
インジウム・錫系化合物からの薄膜であるが、前記の関
係と主旨を損なわないものであればよく、たとえば酸化
亜鉛・アルミ系、酸化インジウム・亜鉛系、酸化錫等の
化合物からのものである。該透明導電性薄膜を設けるこ
とによって、反射防止フイルムの帯電性が改良され、電
磁波シールド性も付与され、実用上好ましい反射防止フ
イルムが得られる。該透明導電性薄膜の厚さは特に限定
されるものではないが、好ましくは５０．１ｎｍ以上で
あり、その表面抵抗値として１キロΩ／□以下好ましく
は５００Ω／□以下である。
【００１２】本発明においては、最外層の無機光学薄膜
を設けることによって、無機光学薄膜積層の形成が終了
し、反射防止フイルムとしての反射防止機能を満足し得
る、かつ密着性、表面硬度の両方を満足し得る反射防止
フイルムが得られるが、実用上表示体に使用された時の
ために、最外層の無機光学薄膜の上にさらに公知のフッ
素系コート剤、シリコン系コート剤、シリコン・フッ素
系コート剤等の防汚染コート層を設けることが好まし
く、なかでもシリコン・フッ素系コート剤が好ましく適
用される。これらの防汚染コート層の厚さは、好ましく
は１００ｎｍ以下で、より好ましくは１０ｎｍ以下であ
り、さらに好ましくは５ｎｍ以下である。これらの防汚
染コート層の厚さが１００ｎｍを超えるときは、防汚染
性の初期値は優れているが、耐久性において劣るものと
なる。防汚染性とその耐久性のバランスから５ｎｍ以下
が最も好ましい。
を設けることによって、無機光学薄膜積層の形成が終了
し、反射防止フイルムとしての反射防止機能を満足し得
る、かつ密着性、表面硬度の両方を満足し得る反射防止
フイルムが得られるが、実用上表示体に使用された時の
ために、最外層の無機光学薄膜の上にさらに公知のフッ
素系コート剤、シリコン系コート剤、シリコン・フッ素
系コート剤等の防汚染コート層を設けることが好まし
く、なかでもシリコン・フッ素系コート剤が好ましく適
用される。これらの防汚染コート層の厚さは、好ましく
は１００ｎｍ以下で、より好ましくは１０ｎｍ以下であ
り、さらに好ましくは５ｎｍ以下である。これらの防汚
染コート層の厚さが１００ｎｍを超えるときは、防汚染
性の初期値は優れているが、耐久性において劣るものと
なる。防汚染性とその耐久性のバランスから５ｎｍ以下
が最も好ましい。
【００１３】
【実施例】 ＊＊実施例１ 厚さ１７５ミクロンのポリエチレンテレフタレートフイ
ルムに、アクリレート系アルコール変性多官能化合物を
主材とする塗布液を塗布・予備乾燥・紫外線硬化して厚
さ５ミクロンのハードコート層を形成し、該層をアルゴ
ンガス下、圧力２Ｐａから６Ｐａで、対向する電極に直
流１ｋＶを加えてグロー放電処理し、該処理を施したハ
ードコート層上に、最初の無機光学薄膜として、ＳｉＯ
1Ｎ1の膜を、ついで酸化インジウム・錫系化合物（ＩＴ
Ｏ）からの薄膜を、最外層の膜としてＳｉＯ2膜を、ス
パッタリングで、それぞれの膜厚が、ＳｉＯ1Ｎ1の膜で
５７ｎｍ、ＩＴＯからの薄膜で１００ｎｍ、ＳｉＯ2膜
で８５ｎｍとなるように製膜した。
ルムに、アクリレート系アルコール変性多官能化合物を
主材とする塗布液を塗布・予備乾燥・紫外線硬化して厚
さ５ミクロンのハードコート層を形成し、該層をアルゴ
ンガス下、圧力２Ｐａから６Ｐａで、対向する電極に直
流１ｋＶを加えてグロー放電処理し、該処理を施したハ
ードコート層上に、最初の無機光学薄膜として、ＳｉＯ
1Ｎ1の膜を、ついで酸化インジウム・錫系化合物（ＩＴ
Ｏ）からの薄膜を、最外層の膜としてＳｉＯ2膜を、ス
パッタリングで、それぞれの膜厚が、ＳｉＯ1Ｎ1の膜で
５７ｎｍ、ＩＴＯからの薄膜で１００ｎｍ、ＳｉＯ2膜
で８５ｎｍとなるように製膜した。
【００１４】＊＊実施例２ 厚さ８０ミクロンのハードコート層付（厚さ５ミクロ
ン）トリアセチルセルロースフイルムに、最初の無機光
学薄膜として、ＳｉＯ1Ｎ1の膜を、ついで酸化インジウ
ム・錫系化合物（ＩＴＯ）からの薄膜を、ついでＴｉＯ
2の膜を、最外層の膜としてＳｉＯ2膜を、ＥＢ蒸着で、
それぞれの膜厚が、ＳｉＯ1Ｎ1の膜で２３ｎｍ、ＩＴＯ
からの薄膜で６０ｎｍ、ＴｉＯ2の膜で４８ｎｍ、Ｍｇ
Ｆ膜で１００ｎｍとなるように製膜した。
ン）トリアセチルセルロースフイルムに、最初の無機光
学薄膜として、ＳｉＯ1Ｎ1の膜を、ついで酸化インジウ
ム・錫系化合物（ＩＴＯ）からの薄膜を、ついでＴｉＯ
2の膜を、最外層の膜としてＳｉＯ2膜を、ＥＢ蒸着で、
それぞれの膜厚が、ＳｉＯ1Ｎ1の膜で２３ｎｍ、ＩＴＯ
からの薄膜で６０ｎｍ、ＴｉＯ2の膜で４８ｎｍ、Ｍｇ
Ｆ膜で１００ｎｍとなるように製膜した。
【００１５】＊＊実施例３ 厚さ１８８ミクロンのポリエチレンテレフタレートフイ
ルムに、アクリレート系アルコール変性多官能化合物を
主材とする塗布液を塗布・予備乾燥・紫外線硬化して厚
さ５ミクロンのハードコート層を形成し、該ハードコー
ト層上に、最初の無機光学薄膜として、ＳｉＯ1Ｎ1の膜
を、ついで酸化インジウム・錫系化合物（ＩＴＯ）から
の薄膜を、ついでＴａ2Ｏ5の膜を、最外層の膜としてＳ
ｉＯ2膜を、スパッタリングで、それぞれの膜厚が、Ｓ
ｉＯ1Ｎ1の膜で２３ｎｍ、ＩＴＯの薄膜で６０ｎｍ、Ｔ
ａ2Ｏ5の膜で５３ｎｍ、ＳｉＯ2膜で９０ｎｍとなるよ
うに製膜した。得られた前記の反射防止フイルムの、最
外層の膜としてＳｉＯ2膜上に、シリコン・フッ素系防
汚染剤である、パーフルオロアルキル基含有シリコン系
化合物を、厚さ３．０ｎｍとなるように塗布乾燥硬化せ
しめて防汚染層を形成した。
ルムに、アクリレート系アルコール変性多官能化合物を
主材とする塗布液を塗布・予備乾燥・紫外線硬化して厚
さ５ミクロンのハードコート層を形成し、該ハードコー
ト層上に、最初の無機光学薄膜として、ＳｉＯ1Ｎ1の膜
を、ついで酸化インジウム・錫系化合物（ＩＴＯ）から
の薄膜を、ついでＴａ2Ｏ5の膜を、最外層の膜としてＳ
ｉＯ2膜を、スパッタリングで、それぞれの膜厚が、Ｓ
ｉＯ1Ｎ1の膜で２３ｎｍ、ＩＴＯの薄膜で６０ｎｍ、Ｔ
ａ2Ｏ5の膜で５３ｎｍ、ＳｉＯ2膜で９０ｎｍとなるよ
うに製膜した。得られた前記の反射防止フイルムの、最
外層の膜としてＳｉＯ2膜上に、シリコン・フッ素系防
汚染剤である、パーフルオロアルキル基含有シリコン系
化合物を、厚さ３．０ｎｍとなるように塗布乾燥硬化せ
しめて防汚染層を形成した。
【００１６】＊＊比較例１ 実施例３のＳｉＯ1Ｎ0.5の膜をＳｉＯ2膜に変更した以
外は実施例３と同様にして反射防止フイルムを得た。
外は実施例３と同様にして反射防止フイルムを得た。
【００１７】＊＊比較例２ 実施例３のＳｉＯ1Ｎ0.5の膜をＺｒＯ2膜に変更した以
外は実施例３と同様にして反射防止フイルムを得た。
外は実施例３と同様にして反射防止フイルムを得た。
【００１８】＊＊比較例３ 実施例３のＳｉＯ1Ｎ0.5の膜をＳｉ3Ｎ4膜に変更した以
外は実施例３と同様にして反射防止フイルムを得た。
外は実施例３と同様にして反射防止フイルムを得た。
【００１９】前記の実施例、比較例の評価結果、反射
率、密着性、表面硬度の順に下記する。尚、反射率は５
５０ｎｍ波長での入射角５度の反射率を、密着性はＪＩ
Ｓによるセロテープ剥離碁盤目テストの測定値を、表面
硬度はＪＩＳによる鉛筆硬度の測定値を、それぞれ示
す。 ＊実施例１ ０．４％、１００／１００、３Ｈ ＊実施例２ ０．３％、１００／１００、２Ｈ ＊実施例３ ０．３％、１００／１００、３Ｈ ＊比較例１ ０．７％、１００／１００、 Ｈ ＊比較例２ ０．９％、 ０／１００、３Ｈ ＊比較例３ ０．６％、 ０／１００、３Ｈ
率、密着性、表面硬度の順に下記する。尚、反射率は５
５０ｎｍ波長での入射角５度の反射率を、密着性はＪＩ
Ｓによるセロテープ剥離碁盤目テストの測定値を、表面
硬度はＪＩＳによる鉛筆硬度の測定値を、それぞれ示
す。 ＊実施例１ ０．４％、１００／１００、３Ｈ ＊実施例２ ０．３％、１００／１００、２Ｈ ＊実施例３ ０．３％、１００／１００、３Ｈ ＊比較例１ ０．７％、１００／１００、 Ｈ ＊比較例２ ０．９％、 ０／１００、３Ｈ ＊比較例３ ０．６％、 ０／１００、３Ｈ
【００２０】
【発明の効果】本発明の、透明プラスチックフイルム
（または下地を設けた透明プラスチックフイルム）上に
無機光学薄膜積層を設ける反射防止フイルムにおいて、
無機光学薄膜積層のうち透明プラスチックフイルム（ま
たは下地を設けた透明プラスチックフイルム）に最近接
する無機光学薄膜としてＳｉＯXＮYを採用することで、
反射防止性能は勿論のこと、無機光学薄膜積層と透明プ
ラスチックフイルム（または下地を設けた透明プラスチ
ックフイルム）との密着性、反射防止性無機光学薄膜積
層の表面硬度においても優れた反射防止フイルムが得ら
れた。
（または下地を設けた透明プラスチックフイルム）上に
無機光学薄膜積層を設ける反射防止フイルムにおいて、
無機光学薄膜積層のうち透明プラスチックフイルム（ま
たは下地を設けた透明プラスチックフイルム）に最近接
する無機光学薄膜としてＳｉＯXＮYを採用することで、
反射防止性能は勿論のこと、無機光学薄膜積層と透明プ
ラスチックフイルム（または下地を設けた透明プラスチ
ックフイルム）との密着性、反射防止性無機光学薄膜積
層の表面硬度においても優れた反射防止フイルムが得ら
れた。
Claims (6)
- 【請求項１】 透明プラスチックフイルム上に複数の
無機光学薄膜（……）が設けられた反射防止フ
イルムであって、複数の無機光学薄膜のうち、透明プラ
スチックフイルムに最も近接して設けられている無機
光学薄膜がＳｉＯXＮYであることを特徴とする反射防
止フイルム。 - 【請求項２】 ５５０ｎｍにおける反射率が１．０％以
下である請求項１記載の反射防止フイルム。 - 【請求項３】 薄膜のＳｉＯXＮYがＸ／Ｙ＝１０．０
からＸ／Ｙ＝０．１であるＳｉＯXＮYである請求項１記
載の反射防止フイルム。 - 【請求項４】 複数の無機光学薄膜のうちの一が、酸化
インジウム錫系薄膜であって、その膜厚が５０．１ｎｍ
（５０１オングストローム）以上である請求項１記載の
反射防止フイルム。 - 【請求項５】 透明プラスチックフイルムにあらかじ
めハードコート膜が形成され、その上に複数の無機光学
薄膜が設けられた請求項１記載の反射防止フイルム。 - 【請求項６】 複数の無機光学薄膜の上にさらに、珪素
とフッ素とを含有するシリコン・フッ素系コート剤のコ
ート膜が形成されている請求項１記載の反射防止フイル
ム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10085145A JPH11231127A (ja) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | 反射防止フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10085145A JPH11231127A (ja) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | 反射防止フイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11231127A true JPH11231127A (ja) | 1999-08-27 |
Family
ID=13850502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10085145A Pending JPH11231127A (ja) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | 反射防止フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11231127A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001018773A1 (fr) * | 1999-09-06 | 2001-03-15 | Seiko Epson Corporation | Verre de recouvrement |
| US7651775B2 (en) * | 2005-09-09 | 2010-01-26 | Fujifilm Corporation | Plastic optical components, optical unit using the same and method of forming inorganic moisture-proof coating on plastic optical components |
| JP2014506338A (ja) * | 2010-12-23 | 2014-03-13 | アップル インコーポレイテッド | 電子装置ディスプレイのための光学的コーティング |
| WO2021235379A1 (ja) * | 2020-05-21 | 2021-11-25 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止フィルム |
-
1998
- 1998-02-18 JP JP10085145A patent/JPH11231127A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001018773A1 (fr) * | 1999-09-06 | 2001-03-15 | Seiko Epson Corporation | Verre de recouvrement |
| US7651775B2 (en) * | 2005-09-09 | 2010-01-26 | Fujifilm Corporation | Plastic optical components, optical unit using the same and method of forming inorganic moisture-proof coating on plastic optical components |
| JP2014506338A (ja) * | 2010-12-23 | 2014-03-13 | アップル インコーポレイテッド | 電子装置ディスプレイのための光学的コーティング |
| WO2021235379A1 (ja) * | 2020-05-21 | 2021-11-25 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止フィルム |
| JP2021184032A (ja) * | 2020-05-21 | 2021-12-02 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止フィルム |
| JP2022159380A (ja) * | 2020-05-21 | 2022-10-17 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止フィルム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050712 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050802 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051206 |